JPH09258004A - 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 - Google Patents
反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置Info
- Publication number
- JPH09258004A JPH09258004A JP8068608A JP6860896A JPH09258004A JP H09258004 A JPH09258004 A JP H09258004A JP 8068608 A JP8068608 A JP 8068608A JP 6860896 A JP6860896 A JP 6860896A JP H09258004 A JPH09258004 A JP H09258004A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- antireflection
- repellent layer
- forming
- optical thin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 6
- 239000010408 film Substances 0.000 claims abstract description 108
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 62
- 239000005871 repellent Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 48
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- 230000002940 repellent Effects 0.000 claims abstract description 35
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims abstract description 26
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 15
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 12
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 12
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 9
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 claims description 8
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 5
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 4
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 4
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims 2
- 239000002120 nanofilm Substances 0.000 claims 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 72
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 11
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 5
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000742 Cotton Polymers 0.000 description 4
- LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N bakuchiol Chemical compound CC(C)=CCC[C@@](C)(C=C)\C=C\C1=CC=C(O)C=C1 LFYJSSARVMHQJB-QIXNEVBVSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 241001122767 Theaceae Species 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003077 Ti−O Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000013361 beverage Nutrition 0.000 description 1
- 210000001124 body fluid Anatomy 0.000 description 1
- 239000010839 body fluid Substances 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001659 ion-beam spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 210000003296 saliva Anatomy 0.000 description 1
- 238000009991 scouring Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】容易に剥離しない耐久性及び撥水性の良い撥水
層を備えた反射防止膜を提供すること、およびこの反射
防止膜を成膜する方法、並びにこの反射防止膜を安価に
作製できる装置を提供する 【解決手段】基板１上に屈折率の異なった２種以上の材
料で２層以上の反射防止用の光学薄膜３を成膜し、光学
薄膜上にＣ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等から構成され
る高分子材料の撥水層を成膜した反射防止多層膜２に於
いて、光学薄膜と撥水層の間に１０Å以下の膜厚でＡ
ｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒ
のいずれかから構成される中間層５を設けた。１つの真
空槽内に、光学薄膜成膜用の複数の蒸発源又はスパッタ
装置、撥水層用の高分子材料の蒸発源又はスパッタ装
置、光学薄膜の最上層の薄膜及び撥水層の材料と反応結
合する材料から成る中間層用の蒸発源又はスパッタ装置
を用意して成膜する。
層を備えた反射防止膜を提供すること、およびこの反射
防止膜を成膜する方法、並びにこの反射防止膜を安価に
作製できる装置を提供する 【解決手段】基板１上に屈折率の異なった２種以上の材
料で２層以上の反射防止用の光学薄膜３を成膜し、光学
薄膜上にＣ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等から構成され
る高分子材料の撥水層を成膜した反射防止多層膜２に於
いて、光学薄膜と撥水層の間に１０Å以下の膜厚でＡ
ｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒ
のいずれかから構成される中間層５を設けた。１つの真
空槽内に、光学薄膜成膜用の複数の蒸発源又はスパッタ
装置、撥水層用の高分子材料の蒸発源又はスパッタ装
置、光学薄膜の最上層の薄膜及び撥水層の材料と反応結
合する材料から成る中間層用の蒸発源又はスパッタ装置
を用意して成膜する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、眼鏡レンズ等の光
学機器や各種部品に適用される反射防止多層膜、および
その成膜方法並びにその成膜装置に関する。
学機器や各種部品に適用される反射防止多層膜、および
その成膜方法並びにその成膜装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、眼鏡レンズの両面或いは片面に低
屈折率と高屈折率の誘電体材料を交互に成膜し、レンズ
の内側では反射による視認性の低下を防止すると共にそ
の外側では光の反射を防止することが行われている。ま
た、最近では、ＶＤＴ作業における外光の映り込み防止
のために、表面に直接反射防止膜を成膜したディスプレ
ーや、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やＰＭＭ
Ａ（ポリメチルメタアクリレート）等のフィルム状の高
分子基板上に反射防止膜を成膜してこれをディスプレー
上に貼着け或いは前面に設置したものが市販されてい
る。
屈折率と高屈折率の誘電体材料を交互に成膜し、レンズ
の内側では反射による視認性の低下を防止すると共にそ
の外側では光の反射を防止することが行われている。ま
た、最近では、ＶＤＴ作業における外光の映り込み防止
のために、表面に直接反射防止膜を成膜したディスプレ
ーや、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）やＰＭＭ
Ａ（ポリメチルメタアクリレート）等のフィルム状の高
分子基板上に反射防止膜を成膜してこれをディスプレー
上に貼着け或いは前面に設置したものが市販されてい
る。
【０００３】これらの反射防止膜は、その機能的性格
上、常に外界の生活環境、例えば眼鏡レンズでは雨水、
汗、唾、ディスプレーではコーヒー、紅茶、酒等のしぶ
き、幼児の指紋やよだれ、等に晒されるため、光学膜と
しての反射防止性能が劣化する。通常の汚染の場合、水
や洗剤等を含んだ布巾や雑巾などで比較的手荒く洗浄さ
れるのが一般である。
上、常に外界の生活環境、例えば眼鏡レンズでは雨水、
汗、唾、ディスプレーではコーヒー、紅茶、酒等のしぶ
き、幼児の指紋やよだれ、等に晒されるため、光学膜と
しての反射防止性能が劣化する。通常の汚染の場合、水
や洗剤等を含んだ布巾や雑巾などで比較的手荒く洗浄さ
れるのが一般である。
【０００４】しかし、光学膜を構成する誘電体膜は、表
面エネルギーが大きいため、体液に含まれる油分や飲料
等に含まれるＣａ、Ｍｇ、Ｎａ等のいわゆるミネラル成
分が一旦付着すると、洗剤等で拭いても１００Å以上の
残査が残る。そればかりでなく、拭きムラが発生し、著
しく光学特性が劣化し、反射防止性能が失われる場合も
あり、反射防止膜には水分をはじく特性、つまり撥水性
が要求される。
面エネルギーが大きいため、体液に含まれる油分や飲料
等に含まれるＣａ、Ｍｇ、Ｎａ等のいわゆるミネラル成
分が一旦付着すると、洗剤等で拭いても１００Å以上の
残査が残る。そればかりでなく、拭きムラが発生し、著
しく光学特性が劣化し、反射防止性能が失われる場合も
あり、反射防止膜には水分をはじく特性、つまり撥水性
が要求される。
【０００５】そこで従来の反射防止膜では、光学膜を構
成する誘電体層の上に、Ｃ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ
等から成る高分子材料、いわゆる界面活性剤が２０〜３
０Åの膜厚で形成される。
成する誘電体層の上に、Ｃ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ
等から成る高分子材料、いわゆる界面活性剤が２０〜３
０Åの膜厚で形成される。
【０００６】反射防止膜は通常、多層膜で構成され、そ
の最上層の誘電体膜であるＳｉＯXやＡｌＯX、ＭｇＦX
等の水接触角は、通常、ＳｉＯXで約１０°、ＡｌＯX、
ＭｇＦXで６０°程度であり、撥水性が不充分である
が、前記の界面活性剤が形成されたものは１１０°の水
接触角を示し、実用上の撥水性は充分に満たされてい
る。図１の（ａ）にＴｉＯXとＳｉＯX膜を有する従来の
反射防止膜、図１の（ｂ）にＩＴＯとＳｉＯX膜を有す
る従来の反射防止膜の構造を示した。
の最上層の誘電体膜であるＳｉＯXやＡｌＯX、ＭｇＦX
等の水接触角は、通常、ＳｉＯXで約１０°、ＡｌＯX、
ＭｇＦXで６０°程度であり、撥水性が不充分である
が、前記の界面活性剤が形成されたものは１１０°の水
接触角を示し、実用上の撥水性は充分に満たされてい
る。図１の（ａ）にＴｉＯXとＳｉＯX膜を有する従来の
反射防止膜、図１の（ｂ）にＩＴＯとＳｉＯX膜を有す
る従来の反射防止膜の構造を示した。
【０００７】反射防止膜は可視光透過性の光学フィルタ
ーであるから、基板には、通常、透光性を有する透明な
ＰＥＴ、ＰＭＭＡやガラス等が用いられる。図１の模式
図（ａ）は、高屈折率の誘電体膜ＴｉＯXと、低屈折率
のＳｉＯX膜を交互に設計値に見合った膜厚で４層積層
したもので、図１の模式図（ｂ）は、基板上の第１層目
と第３層目が導電性のＩＴＯ膜になっており、導電性を
持たせることによって反射防止膜に電磁シールド機能を
保有させたものである。いかなる場合でも、反射防止特
性を発現させるために最上層は屈折率の低いＳｉＯX、
ＡｌＯX、ＭｇＦX、或いはこれらの混合物、例えば、Ａ
ｌ−Ｓｉ−ＯX等の材料が選択される。これら従来の反
射防止膜の最上層の膜の上に、反射防止特性を阻害しな
い範囲の膜厚３０Å以下の界面活性剤の撥水層が形成さ
れている。
ーであるから、基板には、通常、透光性を有する透明な
ＰＥＴ、ＰＭＭＡやガラス等が用いられる。図１の模式
図（ａ）は、高屈折率の誘電体膜ＴｉＯXと、低屈折率
のＳｉＯX膜を交互に設計値に見合った膜厚で４層積層
したもので、図１の模式図（ｂ）は、基板上の第１層目
と第３層目が導電性のＩＴＯ膜になっており、導電性を
持たせることによって反射防止膜に電磁シールド機能を
保有させたものである。いかなる場合でも、反射防止特
性を発現させるために最上層は屈折率の低いＳｉＯX、
ＡｌＯX、ＭｇＦX、或いはこれらの混合物、例えば、Ａ
ｌ−Ｓｉ−ＯX等の材料が選択される。これら従来の反
射防止膜の最上層の膜の上に、反射防止特性を阻害しな
い範囲の膜厚３０Å以下の界面活性剤の撥水層が形成さ
れている。
【０００８】図２は従来の反射防止膜の成膜装置の１例
の説明図であり、反射防止膜を構成する光学膜の成膜用
の真空槽ａと撥水層の成膜用の真空槽ｂとを分離独立し
て設け、まず真空槽ａ内に於いて繰り出しロールｄに取
り付けた例えばＰＥＴ等のロール状の高分子フィルム基
板ｃを成膜ドラムｅを循環して巻き取りロールｆへと繰
り出し、該ドラムｅの周囲に配置した４基のスパッタ装
置ｇにＲＦ電源から電力を投入して該装置ｇのスパッタ
ターゲットをスパッタし、交互にＴｉＯ2とＳｉＯ2の薄
膜を循環移動する該基板ｃに成膜して巻き取る。膜厚は
ＲＦ電力の投入量で調整される。そして巻き取った該基
板ｃを１０-5Torr程度の真空に保った真空槽ｂ内の繰り
出しロールｈに取り付け、これより成膜ドラムｉを循環
して巻き取りロールｊの巻き取られる間にＤＣ電源に接
続したタングステンボートの蒸発源ｋから溶融蒸発する
ベヘン酸等の界面活性剤を例えば約３０Åの膜厚で蒸着
して撥水層を形成することにより反射防止多層膜が成膜
される。撥水層の厚さはＤＣ電源のパワーを調整するこ
とにより、所望値に調整できる。ｌ、ｍは真空ポンプに
接続された真空排気孔、ｎはアルゴンガスの導入口で、
真空槽ａ内は１０-2〜１０-4Torr程度にガス導入量と排
気量とで調整される。尚、光学膜の成膜に蒸着法を使用
し、撥水層をＣＶＤ、スクリーン印刷、ディピング等に
より形成することも行われている。
の説明図であり、反射防止膜を構成する光学膜の成膜用
の真空槽ａと撥水層の成膜用の真空槽ｂとを分離独立し
て設け、まず真空槽ａ内に於いて繰り出しロールｄに取
り付けた例えばＰＥＴ等のロール状の高分子フィルム基
板ｃを成膜ドラムｅを循環して巻き取りロールｆへと繰
り出し、該ドラムｅの周囲に配置した４基のスパッタ装
置ｇにＲＦ電源から電力を投入して該装置ｇのスパッタ
ターゲットをスパッタし、交互にＴｉＯ2とＳｉＯ2の薄
膜を循環移動する該基板ｃに成膜して巻き取る。膜厚は
ＲＦ電力の投入量で調整される。そして巻き取った該基
板ｃを１０-5Torr程度の真空に保った真空槽ｂ内の繰り
出しロールｈに取り付け、これより成膜ドラムｉを循環
して巻き取りロールｊの巻き取られる間にＤＣ電源に接
続したタングステンボートの蒸発源ｋから溶融蒸発する
ベヘン酸等の界面活性剤を例えば約３０Åの膜厚で蒸着
して撥水層を形成することにより反射防止多層膜が成膜
される。撥水層の厚さはＤＣ電源のパワーを調整するこ
とにより、所望値に調整できる。ｌ、ｍは真空ポンプに
接続された真空排気孔、ｎはアルゴンガスの導入口で、
真空槽ａ内は１０-2〜１０-4Torr程度にガス導入量と排
気量とで調整される。尚、光学膜の成膜に蒸着法を使用
し、撥水層をＣＶＤ、スクリーン印刷、ディピング等に
より形成することも行われている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】図１に代表的に示した
従来の反射防止膜は、光学膜である積層誘電体膜の上に
直接に撥水層である界面活性剤が成膜されている。通
常、光学膜の光学的特性つまり反射防止特性を阻害しな
い撥水層の膜厚は３０Å以下であるから、界面活性剤の
単分子層程度に成膜厚さが制限される。そのため、界面
活性剤には、カルボキシル基等の電気的分極によって光
学膜である誘電体材料と弱い電気的結合をする材料が選
択されている。しかし、化学的反応を伴わない結合であ
るため、機械的摩擦によって膜剥離を発生する欠点があ
る。
従来の反射防止膜は、光学膜である積層誘電体膜の上に
直接に撥水層である界面活性剤が成膜されている。通
常、光学膜の光学的特性つまり反射防止特性を阻害しな
い撥水層の膜厚は３０Å以下であるから、界面活性剤の
単分子層程度に成膜厚さが制限される。そのため、界面
活性剤には、カルボキシル基等の電気的分極によって光
学膜である誘電体材料と弱い電気的結合をする材料が選
択されている。しかし、化学的反応を伴わない結合であ
るため、機械的摩擦によって膜剥離を発生する欠点があ
る。
【００１０】図２の装置で作成した反射防止膜は、脱脂
綿に１００％エタノールを含ませ、２５０ｇ／ｃｍ2の
荷重と２ｃｍ／ｓｅｃの速さで１０回ランビングする
と、０．５ｃｃ初期水接触角１１０°が８０°に低下
し、実用性を満足していない。またその装置は、光学膜
成膜用と撥水層成膜用が独立分離しているので、生産性
の観点からコスト高となっており、基板は真空槽内で光
学膜を成膜したのちこれより一旦大気中に取り出し、撥
水層成膜用の真空槽に収めて成膜されるので、大気中の
Ｈ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2等が付着し、撥水層の耐久性が向上し
ない。具体的には、図２の装置の真空槽ａで表１、表２
の諸元で作成した光学膜を５０℃、湿度５５％の大気中
に放置し、その放置時間を変えて真空槽ｂに入れ、表２
の諸元で撥水層を成膜した後、０．５ｃｃ、水接触角を
測定した結果は図３に示す如くである。これに黒丸で示
した水接触角は、脱脂綿に１００％エタノールを含ま
せ、２５０ｇ／ｃｍ2の荷重と２ｃｍ／ｓｅｃの速さで
１０回ランビングしたのちの測定値であり、白丸はラビ
リング前の水接触角である。これより大気中の放置時間
が長くなるに従ってラビリング後の水接触角の低下が見
られる。
綿に１００％エタノールを含ませ、２５０ｇ／ｃｍ2の
荷重と２ｃｍ／ｓｅｃの速さで１０回ランビングする
と、０．５ｃｃ初期水接触角１１０°が８０°に低下
し、実用性を満足していない。またその装置は、光学膜
成膜用と撥水層成膜用が独立分離しているので、生産性
の観点からコスト高となっており、基板は真空槽内で光
学膜を成膜したのちこれより一旦大気中に取り出し、撥
水層成膜用の真空槽に収めて成膜されるので、大気中の
Ｈ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2等が付着し、撥水層の耐久性が向上し
ない。具体的には、図２の装置の真空槽ａで表１、表２
の諸元で作成した光学膜を５０℃、湿度５５％の大気中
に放置し、その放置時間を変えて真空槽ｂに入れ、表２
の諸元で撥水層を成膜した後、０．５ｃｃ、水接触角を
測定した結果は図３に示す如くである。これに黒丸で示
した水接触角は、脱脂綿に１００％エタノールを含ま
せ、２５０ｇ／ｃｍ2の荷重と２ｃｍ／ｓｅｃの速さで
１０回ランビングしたのちの測定値であり、白丸はラビ
リング前の水接触角である。これより大気中の放置時間
が長くなるに従ってラビリング後の水接触角の低下が見
られる。
【００１１】
【表１】
【００１２】
【表２】
【００１３】本発明は、容易に剥離しない耐久性及び撥
水性の良い撥水層を備えた反射防止膜を提供すること、
およびこの反射防止膜を成膜する方法、並びにこの反射
防止膜を安価に作製できる装置を提供することを目的と
するものである。
水性の良い撥水層を備えた反射防止膜を提供すること、
およびこの反射防止膜を成膜する方法、並びにこの反射
防止膜を安価に作製できる装置を提供することを目的と
するものである。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明では、基板上に、
屈折率の異なった２種以上の材料で２層以上の反射防止
用の光学薄膜を成膜し、該光学薄膜上にＣ、Ｆ、Ｈ、
Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等から構成される高分子材料の薄膜を
撥水層として成膜した反射防止多層膜に於いて、該光学
薄膜と撥水層の間に１０Å以下の膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓ
ｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかか
ら構成される中間層を設けることにより、上記目的を達
成するようにした。該中間層は該光学薄膜の最上層の薄
膜及び該撥水層と化学反応で互いに結合する材料から成
り、該中間層を該光学薄膜上に蒸着又はスパッタにより
形成し、その上に撥水層を蒸着又はスパッタにより形成
することが好ましく、請求項４、５の方法とすることに
より、容易に剥離せずしかも撥水性のよい反射防止多層
膜が安価に製作でき、この方法は請求項６の装置構成に
より的確に実施できる。
屈折率の異なった２種以上の材料で２層以上の反射防止
用の光学薄膜を成膜し、該光学薄膜上にＣ、Ｆ、Ｈ、
Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等から構成される高分子材料の薄膜を
撥水層として成膜した反射防止多層膜に於いて、該光学
薄膜と撥水層の間に１０Å以下の膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓ
ｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかか
ら構成される中間層を設けることにより、上記目的を達
成するようにした。該中間層は該光学薄膜の最上層の薄
膜及び該撥水層と化学反応で互いに結合する材料から成
り、該中間層を該光学薄膜上に蒸着又はスパッタにより
形成し、その上に撥水層を蒸着又はスパッタにより形成
することが好ましく、請求項４、５の方法とすることに
より、容易に剥離せずしかも撥水性のよい反射防止多層
膜が安価に製作でき、この方法は請求項６の装置構成に
より的確に実施できる。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図４に示す
反射防止多層膜の模式図に基づき説明すると、同図に於
いて符号１はガラス、プラスチックス等の着色又は無色
の透明なセラミックス基板や高分子フィルム基板から成
る任意の厚さの基板、２は該基板１上に設けられた反射
防止多層膜を示し、該膜２は該基板１上に成膜された屈
折率の異なった２種以上の材料から成り２層以上に形成
された反射防止用の光学薄膜３と該光学薄膜３を保護す
るベヘン酸から成る撥水層４を有する。該撥水層４は、
通常は約３０Å以下である。
反射防止多層膜の模式図に基づき説明すると、同図に於
いて符号１はガラス、プラスチックス等の着色又は無色
の透明なセラミックス基板や高分子フィルム基板から成
る任意の厚さの基板、２は該基板１上に設けられた反射
防止多層膜を示し、該膜２は該基板１上に成膜された屈
折率の異なった２種以上の材料から成り２層以上に形成
された反射防止用の光学薄膜３と該光学薄膜３を保護す
るベヘン酸から成る撥水層４を有する。該撥水層４は、
通常は約３０Å以下である。
【００１６】こうした膜構成は従来のものも備えるとこ
ろであるが、本発明では該光学薄膜３と撥水層４の間に
１０Å以下の膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかから構成されて該光学
薄膜の最上層の薄膜及び撥水層４の材料と化学反応する
中間層５を設け、従来の撥水層が剥離し易く撥水性が失
われ易い欠点を解消するようにした。該基板１にはガラ
ス、ＰＥＴ、ＰＭＭＡが多用される。該光学薄膜３とし
てはＴｉＯX、ＳｉＯX、ＡｌＯX、ＭｇＦX、ＴａＯX、
ＭｇＯ、ＺｒＯX、ＩＴＯ等の公知の材料が使用され、
スパッタリング若しくは蒸着により膜設計値に応じた膜
厚で２層以上例えば４層３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄに形成
される。該中間層５もスパッタリング又は蒸着で反射防
止機能を損なわないように極めて薄く形成され、化学反
応により該光学薄膜３に強固に付着ししかも撥水層４と
も化学反応して結合するから撥水層４は容易に該光学薄
膜３から剥離しない。
ろであるが、本発明では該光学薄膜３と撥水層４の間に
１０Å以下の膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかから構成されて該光学
薄膜の最上層の薄膜及び撥水層４の材料と化学反応する
中間層５を設け、従来の撥水層が剥離し易く撥水性が失
われ易い欠点を解消するようにした。該基板１にはガラ
ス、ＰＥＴ、ＰＭＭＡが多用される。該光学薄膜３とし
てはＴｉＯX、ＳｉＯX、ＡｌＯX、ＭｇＦX、ＴａＯX、
ＭｇＯ、ＺｒＯX、ＩＴＯ等の公知の材料が使用され、
スパッタリング若しくは蒸着により膜設計値に応じた膜
厚で２層以上例えば４層３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄに形成
される。該中間層５もスパッタリング又は蒸着で反射防
止機能を損なわないように極めて薄く形成され、化学反
応により該光学薄膜３に強固に付着ししかも撥水層４と
も化学反応して結合するから撥水層４は容易に該光学薄
膜３から剥離しない。
【００１７】該反射防止多層膜２を高分子フィルムの基
板１に形成する製造装置の１例は図５に示す如くであ
り、１つの真空槽６内に２つの成膜ドラム７、８を回転
自在に設け、該成膜ドラム７、８の周囲の空間を区画壁
９、１０、１１で３つに区画し、その１の空間１２に両
成膜ドラム７、８の周面の一部を露出させると共に該基
板１の繰り出しロール１３と巻き取りロール１４を配置
し、残りの一つの空間１５に反射防止用の光学薄膜３を
２層以上に形成するために２基以上のスパッタ装置１６
ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄを設け、残りのもう一つの
空間１７に撥水層４を形成するための蒸発源１８が設け
られ、該１の空間１２に、光学薄膜３の成膜を終えた該
基板１上に中間層５を成膜するためのスパッタ装置１９
を設けた構成を有する。光学薄膜３と撥水層４を成膜す
る各空間１５、１７には、夫々真空ポンプに接続された
排気口２０、２１が設けられ、各空間１５、１７をスパ
ッタ或いは蒸着に適した真空圧に排気する。２２はアル
ゴン等のスパッタガスを導入するガス導入口である。
板１に形成する製造装置の１例は図５に示す如くであ
り、１つの真空槽６内に２つの成膜ドラム７、８を回転
自在に設け、該成膜ドラム７、８の周囲の空間を区画壁
９、１０、１１で３つに区画し、その１の空間１２に両
成膜ドラム７、８の周面の一部を露出させると共に該基
板１の繰り出しロール１３と巻き取りロール１４を配置
し、残りの一つの空間１５に反射防止用の光学薄膜３を
２層以上に形成するために２基以上のスパッタ装置１６
ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６ｄを設け、残りのもう一つの
空間１７に撥水層４を形成するための蒸発源１８が設け
られ、該１の空間１２に、光学薄膜３の成膜を終えた該
基板１上に中間層５を成膜するためのスパッタ装置１９
を設けた構成を有する。光学薄膜３と撥水層４を成膜す
る各空間１５、１７には、夫々真空ポンプに接続された
排気口２０、２１が設けられ、各空間１５、１７をスパ
ッタ或いは蒸着に適した真空圧に排気する。２２はアル
ゴン等のスパッタガスを導入するガス導入口である。
【００１８】ロール状の高分子フィルムの基板１を繰り
出しロール１３にセットし、各空間１２、１５、１７を
成膜に適した真空圧になるように排気口２０、２１から
排気する。そして該繰り出しロール１３及び巻き取りロ
ール１４を駆動し、各スパッタ装置１６ａ〜１６ｄ、１
９にＲＦ電力、及び蒸発源１８にＤＣ電力を投入する
と、移動する基板１の表面に４層の光学薄膜３が形成さ
れ、続いて中間層５が形成され、更にその上に例えば２
０Åの撥水層４が形成されて反射防止多層膜２が製造さ
れる。該基板１の速度とスパッタ装置１９の電力を調整
することにより、光学薄膜３の反射防止機能を損なわな
い程度の１０Å以下の薄い中間層５を成膜出来、また、
各空間１２、１５、１７は区画壁９、１０、１１でコン
ダクタンスが小さくなるように区画されていため、空間
１５、１７をプロセスに見合ったガス圧力に保てる。
出しロール１３にセットし、各空間１２、１５、１７を
成膜に適した真空圧になるように排気口２０、２１から
排気する。そして該繰り出しロール１３及び巻き取りロ
ール１４を駆動し、各スパッタ装置１６ａ〜１６ｄ、１
９にＲＦ電力、及び蒸発源１８にＤＣ電力を投入する
と、移動する基板１の表面に４層の光学薄膜３が形成さ
れ、続いて中間層５が形成され、更にその上に例えば２
０Åの撥水層４が形成されて反射防止多層膜２が製造さ
れる。該基板１の速度とスパッタ装置１９の電力を調整
することにより、光学薄膜３の反射防止機能を損なわな
い程度の１０Å以下の薄い中間層５を成膜出来、また、
各空間１２、１５、１７は区画壁９、１０、１１でコン
ダクタンスが小さくなるように区画されていため、空間
１５、１７をプロセスに見合ったガス圧力に保てる。
【００１９】空間１５のスパッタ装置１６ａ、１６ｃの
ターゲットをＴｉＯX、残りのスパッタ装置１６ｂ、１
６ｄのターゲットをＳｉＯXとし、空間１２のスパッタ
装置１９のターゲットをＴｉ、蒸発源１８にベヘン酸の
蒸発材料を入れ、該空間１５を例えば１０-2乃至１０-4
Torr、空間１７を１０-5Torrとすれば、ＴｉＯXとＳｉ
ＯXが交互に４層に積層された光学薄膜３とベヘン酸の
撥水層４との間にＴｉの中間層５を持つ図４に示した膜
構造の反射防止多層膜２が得られる。
ターゲットをＴｉＯX、残りのスパッタ装置１６ｂ、１
６ｄのターゲットをＳｉＯXとし、空間１２のスパッタ
装置１９のターゲットをＴｉ、蒸発源１８にベヘン酸の
蒸発材料を入れ、該空間１５を例えば１０-2乃至１０-4
Torr、空間１７を１０-5Torrとすれば、ＴｉＯXとＳｉ
ＯXが交互に４層に積層された光学薄膜３とベヘン酸の
撥水層４との間にＴｉの中間層５を持つ図４に示した膜
構造の反射防止多層膜２が得られる。
【００２０】こうして製造された反射防止多層膜２は、
真空雰囲気中で順次に成膜されたため、撥水性を劣化さ
せるＨ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2などの不純物が膜中に混入するこ
とがなく、Ｔｉの中間層５が最上層の光学薄膜３ｄとＴ
ｉ−ＳｉやＴｉ−Ｏの化学的結合すると同時に撥水層４
とも化学的結合して脂肪酸塩を生成するため通常のテー
プ剥離試験即ち１００％エタノールを含ませた脱脂綿で
２５０ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ２ｃｍ／ｓｅｃの速度で
１０回ランビングしても剥離することのない強固な結合
となり、図６に示すように、従来のものの水接触角１１
０°よりも大きくなり、撥水性が大きくしかもランビン
グされても撥水機能の低下が小さく、その生産性が向上
して安価に製作できる。
真空雰囲気中で順次に成膜されたため、撥水性を劣化さ
せるＨ2Ｏ、Ｏ2、Ｎ2などの不純物が膜中に混入するこ
とがなく、Ｔｉの中間層５が最上層の光学薄膜３ｄとＴ
ｉ−ＳｉやＴｉ−Ｏの化学的結合すると同時に撥水層４
とも化学的結合して脂肪酸塩を生成するため通常のテー
プ剥離試験即ち１００％エタノールを含ませた脱脂綿で
２５０ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ２ｃｍ／ｓｅｃの速度で
１０回ランビングしても剥離することのない強固な結合
となり、図６に示すように、従来のものの水接触角１１
０°よりも大きくなり、撥水性が大きくしかもランビン
グされても撥水機能の低下が小さく、その生産性が向上
して安価に製作できる。
【００２１】該撥水層４のランビング後の水接触角は、
図６に示したように、中間層５の膜圧が増加するに従っ
て増加するが、その厚さが１０Å以上では一定になり、
０Å付近でも従来のものと異なり１１０°を保持するこ
とができる。
図６に示したように、中間層５の膜圧が増加するに従っ
て増加するが、その厚さが１０Å以上では一定になり、
０Å付近でも従来のものと異なり１１０°を保持するこ
とができる。
【００２２】最上層の光学薄膜３ｄがＳｉＯX以外の例
えばＴｉＯX、ＡｌＯXであっても、中間層５にＴｉ以外
のＡｌ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒ或
いはこれらの合金組成物を使用しても従来よりも剥離し
にくく撥水性のよい反射防止多層膜が得られる。また、
光学薄膜３を蒸着によって成膜してもスパッタ成膜した
場合と同様の効果がある。撥水層４にポリテトラフルオ
ロエチレン（商品名テフロン）をスパッタで或いはイオ
ンビームスパッタで成膜した場合も同様の効果があっ
た。尚、上記高分子フィルム基板の代わりに建材用のガ
ラスの基板１を使用してもよい。
えばＴｉＯX、ＡｌＯXであっても、中間層５にＴｉ以外
のＡｌ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒ或
いはこれらの合金組成物を使用しても従来よりも剥離し
にくく撥水性のよい反射防止多層膜が得られる。また、
光学薄膜３を蒸着によって成膜してもスパッタ成膜した
場合と同様の効果がある。撥水層４にポリテトラフルオ
ロエチレン（商品名テフロン）をスパッタで或いはイオ
ンビームスパッタで成膜した場合も同様の効果があっ
た。尚、上記高分子フィルム基板の代わりに建材用のガ
ラスの基板１を使用してもよい。
【００２３】
【実施例】厚さ２５０ミクロン、幅１ｍ、長さ５００ｍ
のロール状に巻いたＰＥＴフィルムの基板１に、図５に
示す装置を使用して４層の光学薄膜３の上にＴｉの中間
層５を介してベヘン酸の撥水層４を有する反射防止多層
膜２を成膜した。該光学薄膜３はＴｉＯXとＳｉＯXの交
互の４層とし、該光学薄膜３及び中間層５は５基のＲＦ
マグネトロンスパッタ装置により形成し、撥水層４はＤ
Ｃ抵抗加熱の蒸着装置により蒸着した。中間層５はカソ
ードパワーを変えて０、５、１０、１５、２０Åの５種
類の膜厚で作製し、撥水層４は１０Åとした。フィルム
基板の巻き取り速度は０．３ｍ／ｍｉｎ、その他の諸元
は表３に示した。
のロール状に巻いたＰＥＴフィルムの基板１に、図５に
示す装置を使用して４層の光学薄膜３の上にＴｉの中間
層５を介してベヘン酸の撥水層４を有する反射防止多層
膜２を成膜した。該光学薄膜３はＴｉＯXとＳｉＯXの交
互の４層とし、該光学薄膜３及び中間層５は５基のＲＦ
マグネトロンスパッタ装置により形成し、撥水層４はＤ
Ｃ抵抗加熱の蒸着装置により蒸着した。中間層５はカソ
ードパワーを変えて０、５、１０、１５、２０Åの５種
類の膜厚で作製し、撥水層４は１０Åとした。フィルム
基板の巻き取り速度は０．３ｍ／ｍｉｎ、その他の諸元
は表３に示した。
【００２４】
【表３】
【００２５】これにより得られた反射防止多層膜２の模
式的構造は図４と同様であり、各膜の中間層の厚さと水
接触角の関係は図６の白丸、黒丸で示す如くであった。
白丸はラビリング前の初期接触角、黒丸はラビリング後
の接触角である。尚、同図の白三角及び黒三角は従来の
図２の装置により作製した図１の（ａ）の膜構造を有す
る反射防止多層膜のラビリング前とラビリング後の水接
触角である。これより明らかなように、本発明の方法で
作製した反射防止多層膜２の水接触角は１２５°と大き
く、ラビリング後でも１１０°以上の充分な水接触角を
有し、耐久性の良い撥水性を持つことが分かる。また、
このラビリングは、１００％エタノールを含ませた脱脂
綿で荷重２５０ｇ／ｃｍ2、２ｃｍ／ｓｅｃの速度で１
０回行ったが、撥水層４の剥離はなかった。本発明では
反射防止多層膜２の完成まで基板１が大気中に曝されな
いので、従来よりも生産時間が短い。
式的構造は図４と同様であり、各膜の中間層の厚さと水
接触角の関係は図６の白丸、黒丸で示す如くであった。
白丸はラビリング前の初期接触角、黒丸はラビリング後
の接触角である。尚、同図の白三角及び黒三角は従来の
図２の装置により作製した図１の（ａ）の膜構造を有す
る反射防止多層膜のラビリング前とラビリング後の水接
触角である。これより明らかなように、本発明の方法で
作製した反射防止多層膜２の水接触角は１２５°と大き
く、ラビリング後でも１１０°以上の充分な水接触角を
有し、耐久性の良い撥水性を持つことが分かる。また、
このラビリングは、１００％エタノールを含ませた脱脂
綿で荷重２５０ｇ／ｃｍ2、２ｃｍ／ｓｅｃの速度で１
０回行ったが、撥水層４の剥離はなかった。本発明では
反射防止多層膜２の完成まで基板１が大気中に曝されな
いので、従来よりも生産時間が短い。
【００２６】
【発明の効果】以上のように本発明によるときは、高分
子フィルム基板等の基板上に形成した屈折率の異なった
２種以上の材料で２層以上から成る反射防止用の光学薄
膜とＣ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等の高分子材料の撥
水層の間に１０Å以下の膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎ
ｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかから構成
される中間層を設けたので、撥水層が剥離しにくく撥水
性も向上する効果が得られ、請求項４の方法で本発明の
反射防止多層膜を製作することにより撥水層が剥離しに
くい反射防止多層膜を能率良く生産できる効果があり、
請求項５の装置構成とすることにより本発明の方法を的
確に実施できる効果がある。
子フィルム基板等の基板上に形成した屈折率の異なった
２種以上の材料で２層以上から成る反射防止用の光学薄
膜とＣ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等の高分子材料の撥
水層の間に１０Å以下の膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎ
ｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかから構成
される中間層を設けたので、撥水層が剥離しにくく撥水
性も向上する効果が得られ、請求項４の方法で本発明の
反射防止多層膜を製作することにより撥水層が剥離しに
くい反射防止多層膜を能率良く生産できる効果があり、
請求項５の装置構成とすることにより本発明の方法を的
確に実施できる効果がある。
【図１】従来の反射防止多層膜の模式的構造図
【図２】従来の反射防止多層膜の製造装置の説明図
【図３】従来の反射防止多層膜の光学薄膜を大気中に放
置した時間と水接触角との関係図
置した時間と水接触角との関係図
【図４】本発明の反射防止多層膜の模式的構造図
【図５】本発明の反射防止多層膜の製造装置の説明図
【図６】本発明の反射防止多層膜の中間層の厚さと水接
触角の関係図
触角の関係図
【符号の説明】 １ 基板、２ 反射防止多層膜、３、３ａ、３ｂ、３
ｃ、３ｄ 光学薄膜、４撥水層、５ 中間層、６ 真空
槽、７、８ 成膜ドラム、９、１０、１１ 区画壁、１
２、１５、１７ 空間、１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６
ｄ、１９ スパッタ装置、１８ 蒸発源、
ｃ、３ｄ 光学薄膜、４撥水層、５ 中間層、６ 真空
槽、７、８ 成膜ドラム、９、１０、１１ 区画壁、１
２、１５、１７ 空間、１６ａ、１６ｂ、１６ｃ、１６
ｄ、１９ スパッタ装置、１８ 蒸発源、
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 太田 賀文 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内 (72)発明者 中村 久三 千葉県山武郡山武町横田523 日本真空技 術株式会社千葉超材料研究所内
Claims (6)
- 【請求項１】基板上に、屈折率の異なった２種以上の材
料で２層以上の反射防止用の光学薄膜を成膜し、該光学
薄膜上にＣ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓｉ等から構成され
る高分子材料の薄膜を撥水層として成膜した反射防止多
層膜に於いて、該光学薄膜と撥水層の間に１０Å以下の
膜厚でＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔ
ａ、Ｚｒのいずれかから構成される中間層を設けたこと
を特徴とする反射防止多層膜。 - 【請求項２】上記中間層は上記光学薄膜の最上層の薄膜
と上記撥水層に化学反応で互いに結合する材料から成
り、該中間層を上記光学薄膜上にスパッタ又は蒸着によ
り形成し、その上に撥水層をスパッタ又は蒸着により形
成したことを特徴とする請求項１に記載の反射防止多層
膜。 - 【請求項３】上記基板、光学薄膜、撥水層及び中間層は
透明であり、該基板はガラス、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリメチルメタアクリレートのいずれかであるこ
とを特徴とする請求項１に記載の反射防止多層膜。 - 【請求項４】基板上に、屈折率の異なった２種以上の材
料からなる反射防止用の光学薄膜、及びＣ、Ｆ、Ｈ、
Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓi等から構成される高分子薄膜の撥水層
を真空雰囲気中でスパッタ又は蒸着により順次に成膜す
ることを特徴とする反射防止多層膜の成膜方法。 - 【請求項５】基板上に、屈折率の異なった２種以上の材
料からなる反射防止用の光学薄膜、Ａｌ、Ｔi、Ｓi、Ｎ
ｂ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかから成る
中間層、及びＣ、Ｆ、Ｈ、Ｎ、Ｓ、Ｏ、Ｓi等から構成
される高分子薄膜の撥水層を真空雰囲気中でスパッタ又
は蒸着により順次に成膜することを特徴とする反射防止
多層膜の成膜方法。 - 【請求項６】１つの真空槽内に２つの成膜ドラムを回転
自在に設け、該成膜ドラムの周囲の空間を３つに区画し
てその１の空間に両成膜ドラムの周面の一部を露出させ
ると共に高分子フィルム基板の繰り出しロールと巻き取
りロールを配置し、残りの空間を屈折率の異なった２種
以上の材料で２層以上の反射防止用の光学薄膜を成膜す
るための複数の蒸発源又はスパッタ装置を設けた空間
と、撥水層を成膜するための蒸発源又はスパッタ装置を
設けた空間とし、該１の空間に光学薄膜の成膜を終えた
該高分子フィルム基板にＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｃ
ｒ、Ｃｕ、Ｍｇ、Ｔａ、Ｚｒのいずれかから成る中間層
を成膜するための蒸発源又はスパッタ装置を設けたこと
を特徴とする反射防止多層膜の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06860896A JP3739478B2 (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06860896A JP3739478B2 (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09258004A true JPH09258004A (ja) | 1997-10-03 |
| JP3739478B2 JP3739478B2 (ja) | 2006-01-25 |
Family
ID=13378666
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP06860896A Expired - Fee Related JP3739478B2 (ja) | 1996-03-25 | 1996-03-25 | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3739478B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998033077A3 (en) * | 1997-01-27 | 1998-09-11 | Peter D Haaland | Coatings, methods and apparatus for reducing reflection from optical substrates |
| JP2001521201A (ja) * | 1997-10-29 | 2001-11-06 | イノヴェイティヴ・スパッタリング・テクノロジー | 多層導電性反射防止コーティング |
| JP2006501367A (ja) * | 2002-10-03 | 2006-01-12 | テトゥラ・ラバル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニム | プラズマ強化プロセスを実行するための装置 |
| KR100926284B1 (ko) * | 2008-12-16 | 2009-11-12 | (주) 미래아이앤티 | 투명 도전성 필름 및 이를 이용한 터치패널 |
| JP2012172263A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-09-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 表面コーティング方法及びその装置 |
| CN103630950A (zh) * | 2013-11-01 | 2014-03-12 | 无锡海特新材料研究院有限公司 | 新型防水减反射膜材料 |
| WO2014065371A1 (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止多層膜 |
| WO2019203024A1 (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | コニカミノルタ株式会社 | 透明部材及び透明部材の製造方法 |
| WO2021073276A1 (zh) * | 2019-10-18 | 2021-04-22 | 金华万得福日用品股份有限公司 | 幻彩膜真空镀膜方法 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03504900A (ja) * | 1988-06-03 | 1991-10-24 | アンダス・コーポレイション | 透明導電性被覆 |
| JPH06138305A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Nikon Corp | 撥水処理された光学部材 |
| JPH07104102A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Olympus Optical Co Ltd | ガラス製光学部品の撥水製反射防止膜およびその製造 方法 |
| JPH07287101A (ja) * | 1994-04-18 | 1995-10-31 | Asahi Optical Co Ltd | 耐湿反射防止膜 |
| JPH10508263A (ja) * | 1994-11-01 | 1998-08-18 | デポジション・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 低可視光透過率および低可視光反射率を有する光学素子 |
-
1996
- 1996-03-25 JP JP06860896A patent/JP3739478B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03504900A (ja) * | 1988-06-03 | 1991-10-24 | アンダス・コーポレイション | 透明導電性被覆 |
| JPH06138305A (ja) * | 1992-10-29 | 1994-05-20 | Nikon Corp | 撥水処理された光学部材 |
| JPH07104102A (ja) * | 1993-09-30 | 1995-04-21 | Olympus Optical Co Ltd | ガラス製光学部品の撥水製反射防止膜およびその製造 方法 |
| JPH07287101A (ja) * | 1994-04-18 | 1995-10-31 | Asahi Optical Co Ltd | 耐湿反射防止膜 |
| JPH10508263A (ja) * | 1994-11-01 | 1998-08-18 | デポジション・テクノロジーズ・インコーポレイテッド | 低可視光透過率および低可視光反射率を有する光学素子 |
Cited By (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998033077A3 (en) * | 1997-01-27 | 1998-09-11 | Peter D Haaland | Coatings, methods and apparatus for reducing reflection from optical substrates |
| JP2001521201A (ja) * | 1997-10-29 | 2001-11-06 | イノヴェイティヴ・スパッタリング・テクノロジー | 多層導電性反射防止コーティング |
| JP2006501367A (ja) * | 2002-10-03 | 2006-01-12 | テトゥラ・ラバル・ホールディングス・アンド・ファイナンス・ソシエテ・アノニム | プラズマ強化プロセスを実行するための装置 |
| KR100926284B1 (ko) * | 2008-12-16 | 2009-11-12 | (주) 미래아이앤티 | 투명 도전성 필름 및 이를 이용한 터치패널 |
| JP2012172263A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-09-10 | Samsung Electronics Co Ltd | 表面コーティング方法及びその装置 |
| WO2014065371A1 (ja) * | 2012-10-25 | 2014-05-01 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止多層膜 |
| CN104755967A (zh) * | 2012-10-25 | 2015-07-01 | 富士胶片株式会社 | 防反射多层膜 |
| US20150226881A1 (en) * | 2012-10-25 | 2015-08-13 | Fujifilm Corporation | Antireflection multilayer film |
| JP5796140B2 (ja) * | 2012-10-25 | 2015-10-21 | 富士フイルム株式会社 | 反射防止多層膜 |
| CN104755967B (zh) * | 2012-10-25 | 2016-08-24 | 富士胶片株式会社 | 防反射多层膜 |
| US9651714B2 (en) | 2012-10-25 | 2017-05-16 | Fujifilm Corporation | Antireflection multilayer film |
| CN103630950A (zh) * | 2013-11-01 | 2014-03-12 | 无锡海特新材料研究院有限公司 | 新型防水减反射膜材料 |
| WO2019203024A1 (ja) * | 2018-04-20 | 2019-10-24 | コニカミノルタ株式会社 | 透明部材及び透明部材の製造方法 |
| JPWO2019203024A1 (ja) * | 2018-04-20 | 2021-05-13 | コニカミノルタ株式会社 | 透明部材及び透明部材の製造方法 |
| WO2021073276A1 (zh) * | 2019-10-18 | 2021-04-22 | 金华万得福日用品股份有限公司 | 幻彩膜真空镀膜方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3739478B2 (ja) | 2006-01-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8215766B2 (en) | Optical article and method for producing the same | |
| JP3520627B2 (ja) | 光反射防止部材及びその作製方法、並びに陰極線管 | |
| US5719705A (en) | Anti-static anti-reflection coating | |
| JP5622468B2 (ja) | レンズの製造方法及びレンズ | |
| CN115210067A (zh) | 光学层叠体、物品、光学层叠体的制造方法 | |
| JP2009128820A (ja) | 多層反射防止膜を有するプラスチックレンズおよびその製造方法 | |
| JP7089609B2 (ja) | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 | |
| JP3387204B2 (ja) | 偏光板、偏光板の製造方法および液晶表示装置 | |
| WO2018174049A1 (ja) | 撥水性反射防止膜付きレンズ及びその製造方法 | |
| KR102638362B1 (ko) | 광학 적층체, 물품 및 화상 표시 장치 | |
| JP5698902B2 (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| JP7791854B2 (ja) | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 | |
| JP7279713B2 (ja) | 光学薄膜、光学部材及び光学薄膜の製造方法 | |
| JP2010069675A (ja) | 機能性フィルム、その製造方法、積層体および電子デバイス | |
| JP2022019686A (ja) | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 | |
| JP3739478B2 (ja) | 反射防止多層膜とその成膜方法並びにその成膜装置 | |
| TW202141071A (zh) | 光學積層體之製造方法 | |
| JP2010140008A (ja) | 光学物品およびその製造方法 | |
| US20230251401A1 (en) | Hydrophilic film manufacturing method, hydrophilic film, and optical member | |
| WO2022014696A1 (ja) | 光学積層体、物品、光学積層体の製造方法 | |
| JP2003114302A (ja) | 反射防止フィルム及び反射防止偏光板の製造方法 | |
| JPH09211204A (ja) | プラスティックフィルムへの反射防止膜の成膜方法 | |
| JP2007310335A (ja) | 表面鏡 | |
| JP6799850B2 (ja) | 光学シート | |
| JP2005055724A (ja) | 反射防止フィルム、および画像表示装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050304 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050712 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050902 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20051004 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20051102 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081111 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111111 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111111 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141111 Year of fee payment: 9 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |