JPH09271968A - レーザ加工機の光学系チェック方法およびその装置 - Google Patents
レーザ加工機の光学系チェック方法およびその装置Info
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- JPH09271968A JPH09271968A JP8085224A JP8522496A JPH09271968A JP H09271968 A JPH09271968 A JP H09271968A JP 8085224 A JP8085224 A JP 8085224A JP 8522496 A JP8522496 A JP 8522496A JP H09271968 A JPH09271968 A JP H09271968A
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- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な装置でしかも安価でレーザ発振器内の
ミラーや外部ベンドミラーの汚れやずれを容易に測定で
きるようにする。 【解決手段】 リアミラー３１，出力ミラー１５を備え
たレーザ発振器３から発振されたレーザビームを複数の
外部のベンドミラー５，７，９を経て集光レンズ１１で
集光せしめた後、ワークＷへ向けて照射せしめてワーク
Ｗにレーザ加工を行うレーザ加工機１において、出力ミ
ラー１３とこの出力ミラー１３に最も近い外部ベンドミ
ラー５との間に設けた反射ミラー２３に第１ガイド光を
照射し、またリアミラー１３の前に設けた反射ミラー３
３に第２ガイド光を照射し、集光レンズ１１とこの集光
レンズ１１に最も近い外部ベンドミラー９との間に設け
たガイド光用出力計３７並びにターゲット３９によりレ
ーザ発振器内部のミラー，外部ベンドミラーの汚れ，光
軸ずれを測定することを特徴とする。
ミラーや外部ベンドミラーの汚れやずれを容易に測定で
きるようにする。 【解決手段】 リアミラー３１，出力ミラー１５を備え
たレーザ発振器３から発振されたレーザビームを複数の
外部のベンドミラー５，７，９を経て集光レンズ１１で
集光せしめた後、ワークＷへ向けて照射せしめてワーク
Ｗにレーザ加工を行うレーザ加工機１において、出力ミ
ラー１３とこの出力ミラー１３に最も近い外部ベンドミ
ラー５との間に設けた反射ミラー２３に第１ガイド光を
照射し、またリアミラー１３の前に設けた反射ミラー３
３に第２ガイド光を照射し、集光レンズ１１とこの集光
レンズ１１に最も近い外部ベンドミラー９との間に設け
たガイド光用出力計３７並びにターゲット３９によりレ
ーザ発振器内部のミラー，外部ベンドミラーの汚れ，光
軸ずれを測定することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ加工機に
おいてレーザ発振器内部のミラー，外部ベンドミラーの
汚れ，光軸ずれを測定するレーザ加工機の光学系チェッ
ク方法およその装置に関する。
おいてレーザ発振器内部のミラー，外部ベンドミラーの
汚れ，光軸ずれを測定するレーザ加工機の光学系チェッ
ク方法およその装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来，レーザ加工機に使用されている光
学系のうち、レーザ発振器で使用しているレンズとミラ
ーの劣化および傾き等のずれは、アクリル板等にレーザ
ビームを照射してそのバーンパターンから調べる方法や
出力の低下から推定している。
学系のうち、レーザ発振器で使用しているレンズとミラ
ーの劣化および傾き等のずれは、アクリル板等にレーザ
ビームを照射してそのバーンパターンから調べる方法や
出力の低下から推定している。
【０００３】また、レーザ発振器より発振されたレーザ
ビームを加工点へ導くための外部ベンドミラーの劣化や
ずれは、加工点にアクリル板等を置き、バーンパターン
をとって調べるか、各外部ベンドミラーを外して目視に
て調べている。
ビームを加工点へ導くための外部ベンドミラーの劣化や
ずれは、加工点にアクリル板等を置き、バーンパターン
をとって調べるか、各外部ベンドミラーを外して目視に
て調べている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のアクリル板等を用いてバーンパターンをとる方法
は、レーザビームを光軸カバーの外部に取り出して行う
ため、危険な作業であるから、サービスマン又はメーカ
側の技術者が行う必要がある。また、レーザビーム自体
を測定する他の方法では高価な装置が必要であった。
来のアクリル板等を用いてバーンパターンをとる方法
は、レーザビームを光軸カバーの外部に取り出して行う
ため、危険な作業であるから、サービスマン又はメーカ
側の技術者が行う必要がある。また、レーザビーム自体
を測定する他の方法では高価な装置が必要であった。
【０００５】この発明の目的は、簡単な装置でしかも安
価でレーザ発振器内のミラーや外部ベンドミラーの汚れ
やずれを容易に測定できるようにしたレーザ加工機の光
学系チェック方法およびその装置を提供することにあ
る。
価でレーザ発振器内のミラーや外部ベンドミラーの汚れ
やずれを容易に測定できるようにしたレーザ加工機の光
学系チェック方法およびその装置を提供することにあ
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１によるこの発明のレーザ加工機の光学系チ
ェック方法は、リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部のベン
ドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワーク向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記出力ミラーとこの出力ミラーに最も近
い外部ベンドミラーとの間に設けた反射ミラーに第１ガ
イド光を照射すると共に、各外部ベンドミラーの後に設
けたガイド光用出力計並びにターゲットにより各外部ベ
ンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定することを特徴とす
るものである。
に、請求項１によるこの発明のレーザ加工機の光学系チ
ェック方法は、リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部のベン
ドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワーク向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記出力ミラーとこの出力ミラーに最も近
い外部ベンドミラーとの間に設けた反射ミラーに第１ガ
イド光を照射すると共に、各外部ベンドミラーの後に設
けたガイド光用出力計並びにターゲットにより各外部ベ
ンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定することを特徴とす
るものである。
【０００７】請求項４によるこの発明のレーザ加工機の
光学系チェック装置は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記出力ミラーとこの出力ミラー
に最も近い外部ベンドミラーとの間に第１ガイド光を照
射する反射ミラーを設けると共に、各外部ベンドミラー
の後にそれぞれ各外部ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを
測定する移動自在なガイド光用出力計並びにターゲット
を設けてなることを特徴とするものである。
光学系チェック装置は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記出力ミラーとこの出力ミラー
に最も近い外部ベンドミラーとの間に第１ガイド光を照
射する反射ミラーを設けると共に、各外部ベンドミラー
の後にそれぞれ各外部ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを
測定する移動自在なガイド光用出力計並びにターゲット
を設けてなることを特徴とするものである。
【０００８】請求項１，４によるこの発明のレーザ加工
機の光学系チェック方法およびその装置では、出力ミラ
ーとこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間
に設けた反射ミラーへ第１ガイド光を照射せしめると、
第１ガイド光は反射ミラーで反射された後、複数の外部
ベンドミラーへ送られる。このとき、各外部ベンドミラ
ーの後に設けたガイド光用出力計でもって第１ガイド光
の出力が測定され、各外部ベンドミラーの汚れが測定さ
れる。また、各ベンドミラーの後に設けたターゲットに
より光軸ずれが測定される。而して、各外部ベンドミラ
ーの汚れや光軸ずれが簡単な装置でしかも安価で、かつ
容易に測定される。
機の光学系チェック方法およびその装置では、出力ミラ
ーとこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間
に設けた反射ミラーへ第１ガイド光を照射せしめると、
第１ガイド光は反射ミラーで反射された後、複数の外部
ベンドミラーへ送られる。このとき、各外部ベンドミラ
ーの後に設けたガイド光用出力計でもって第１ガイド光
の出力が測定され、各外部ベンドミラーの汚れが測定さ
れる。また、各ベンドミラーの後に設けたターゲットに
より光軸ずれが測定される。而して、各外部ベンドミラ
ーの汚れや光軸ずれが簡単な装置でしかも安価で、かつ
容易に測定される。
【０００９】請求項２によるこの発明のレーザ加工機の
光学系チェック方法は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記リアミラーの前に設けた反射
ミラーに第２ガイド光を照射すると共に出力ミラーとこ
の出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に設け
たガイド光用出力計並びにターゲットによりリアミラ
ー，出力ミラーの汚れ，光軸ずれを測定することを特徴
とするものである。
光学系チェック方法は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記リアミラーの前に設けた反射
ミラーに第２ガイド光を照射すると共に出力ミラーとこ
の出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に設け
たガイド光用出力計並びにターゲットによりリアミラ
ー，出力ミラーの汚れ，光軸ずれを測定することを特徴
とするものである。
【００１０】請求項５によるこの発明のレーザ加工機の
光学系チェック装置は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記リアミラーの前に第２ガイド
光を照射する反射ミラーを設けると共に、出力ミラーと
この出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間にリ
アミラー，出力ミラーの汚れ、光軸ずれを測定する移動
自在なガイド光用出力計並びにターゲットを設けてなる
ことを特徴とするものである。
光学系チェック装置は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記リアミラーの前に第２ガイド
光を照射する反射ミラーを設けると共に、出力ミラーと
この出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間にリ
アミラー，出力ミラーの汚れ、光軸ずれを測定する移動
自在なガイド光用出力計並びにターゲットを設けてなる
ことを特徴とするものである。
【００１１】請求項２，５によるこの発明のレーザ加工
機の光学系チェック方法およびその装置では、リアミラ
ーの前に設けた反射ミラーへ第２ガイド光を照射せしめ
ると、出力ミラーを経て出力ミラーとこの出力ミラーに
最も近い外部ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出
力計でもって第２ガイド光の出力が測定され、リアミラ
ー，出力ミラーの汚れが測定される。また、出力ミラー
とこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に
設けたターゲットにより光軸ずれが測定される。而し
て、リアミラー，出力ミラーの汚れや光軸ずれが簡単な
装置でしかも安価で、かつ容易に測定される。
機の光学系チェック方法およびその装置では、リアミラ
ーの前に設けた反射ミラーへ第２ガイド光を照射せしめ
ると、出力ミラーを経て出力ミラーとこの出力ミラーに
最も近い外部ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出
力計でもって第２ガイド光の出力が測定され、リアミラ
ー，出力ミラーの汚れが測定される。また、出力ミラー
とこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に
設けたターゲットにより光軸ずれが測定される。而し
て、リアミラー，出力ミラーの汚れや光軸ずれが簡単な
装置でしかも安価で、かつ容易に測定される。
【００１２】請求項３によるこの発明のレーザ加工機の
光工学系チェック方法は、リアミラー，出力ミラーを備
えたレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の
外部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、
ワークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行う
レーザ加工機において、前記出力ミラーとこの出力ミラ
ーに最も近い外部ベンドミラーとの間に設けた反射ミラ
ーに第１ガイド光を照射し、また前記リアミラーの前に
設けた反射ミラーに第２ガイド光を照射し、前記集光レ
ンズとこの集光レンズに最も近い外部ベンドミラーとの
間に設けたガイド光用出力計並びにターゲットによりレ
ーザ発振器内部のミラー，外部ベンドミラーの汚れ，光
軸ずれを測定することを特徴とするものである。
光工学系チェック方法は、リアミラー，出力ミラーを備
えたレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の
外部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、
ワークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行う
レーザ加工機において、前記出力ミラーとこの出力ミラ
ーに最も近い外部ベンドミラーとの間に設けた反射ミラ
ーに第１ガイド光を照射し、また前記リアミラーの前に
設けた反射ミラーに第２ガイド光を照射し、前記集光レ
ンズとこの集光レンズに最も近い外部ベンドミラーとの
間に設けたガイド光用出力計並びにターゲットによりレ
ーザ発振器内部のミラー，外部ベンドミラーの汚れ，光
軸ずれを測定することを特徴とするものである。
【００１３】請求項６によるこの発明のレーザ加工機の
光学系チェック装置は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記出力ミラーとこの出力ミラー
に最も近い外部ベンドミラーとの間に第１ガイド光を照
射する両面に反射ミラーを備えたシャッターを設けると
共に、前記リアミラーの前に第２ガイド光を照射する反
射ミラーを設け、前記集光レンズとこの集光レンズに最
も近い外部ベンドミラーとの間にレーザ発振器内部のミ
ラー，外部ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定する移
動自在なガイド光用出力計並びにターゲットを設けてな
ることを特徴とするものである。
光学系チェック装置は、リアミラー，出力ミラーを備え
たレーザ発振器から発振されたレーザビームを複数の外
部ベンドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワ
ークへ向けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレ
ーザ加工機において、前記出力ミラーとこの出力ミラー
に最も近い外部ベンドミラーとの間に第１ガイド光を照
射する両面に反射ミラーを備えたシャッターを設けると
共に、前記リアミラーの前に第２ガイド光を照射する反
射ミラーを設け、前記集光レンズとこの集光レンズに最
も近い外部ベンドミラーとの間にレーザ発振器内部のミ
ラー，外部ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定する移
動自在なガイド光用出力計並びにターゲットを設けてな
ることを特徴とするものである。
【００１４】請求項３，６によるこの発明のレーザ加工
機の光学系チェック方法およびその装置では、出力ミラ
ーとこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間
に設けた反射ミラーに第１ガイド光を照射すると、第１
ガイド光が反射ミラーで反射された後、複数の外部ベン
ドミラーを経て、集光レンズと集光レンズに最も近い外
部ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出力計でもっ
て出力され、外部ベンドミラーの汚れが測定され、また
ターゲットにより光軸ずれが測定される。
機の光学系チェック方法およびその装置では、出力ミラ
ーとこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間
に設けた反射ミラーに第１ガイド光を照射すると、第１
ガイド光が反射ミラーで反射された後、複数の外部ベン
ドミラーを経て、集光レンズと集光レンズに最も近い外
部ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出力計でもっ
て出力され、外部ベンドミラーの汚れが測定され、また
ターゲットにより光軸ずれが測定される。
【００１５】また、リアミラーの前に設けた反射ミラー
に第２ガイド光を照射せしめると、第２ガイド光は反射
ミラーで反射された後、リアミラー，出力ミラー並びに
複数の外部ベンドミラーを経て前記ガイド光用出力計、
ターゲットでもってレーザ発振器内のミラー，外部ベン
ドミラーによる出力が測定される。この第２ガイド光に
より出力された出力と、前記第１ガイド光により出力さ
れた出力とから、レーザ発振器内のミラーの出力が測定
されて、汚れが測定される。また、ターゲットによりレ
ーザ発振器内のミラーの光軸ずれが測定される。而し
て、レーザ発振器内のミラー，外部ベンドミラーの汚
れ，光軸ずれが一緒に簡単な装置でしかも安価で、かつ
容易に測定される。
に第２ガイド光を照射せしめると、第２ガイド光は反射
ミラーで反射された後、リアミラー，出力ミラー並びに
複数の外部ベンドミラーを経て前記ガイド光用出力計、
ターゲットでもってレーザ発振器内のミラー，外部ベン
ドミラーによる出力が測定される。この第２ガイド光に
より出力された出力と、前記第１ガイド光により出力さ
れた出力とから、レーザ発振器内のミラーの出力が測定
されて、汚れが測定される。また、ターゲットによりレ
ーザ発振器内のミラーの光軸ずれが測定される。而し
て、レーザ発振器内のミラー，外部ベンドミラーの汚
れ，光軸ずれが一緒に簡単な装置でしかも安価で、かつ
容易に測定される。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態の例
を図面に基いて詳細に説明する。
を図面に基いて詳細に説明する。
【００１７】図１を参照するに、レーザ加工機１はレー
ザ発振器３，複数の外部ベンドミラー５，７，９および
集光レンズ１１を備えている。前記レーザ発振器３は特
にリアミラー１３，出力ミラー１５を備えた光共振器１
７で構成されており、リアミラー１３の脇には光出力計
１９が設けられている。
ザ発振器３，複数の外部ベンドミラー５，７，９および
集光レンズ１１を備えている。前記レーザ発振器３は特
にリアミラー１３，出力ミラー１５を備えた光共振器１
７で構成されており、リアミラー１３の脇には光出力計
１９が設けられている。
【００１８】上記構成により、レーザ発振器３における
光共振器１７のリアミラー１３と出力ミラー１５とによ
り発振されたレーザビームは、外部ベンドミラー５，
７，９を経て集光レンズ１１で集光される。この集光レ
ンズ１１で集光されたレーザビームはワークテーブル２
１上に載置されたワークＷへ向けて照射されることによ
り、ワークＷにレーザ加工が行われることになる。な
お、レーザ発振器３で発振されたレーザビームの出力は
光出力計１９でもって出力されるものである。
光共振器１７のリアミラー１３と出力ミラー１５とによ
り発振されたレーザビームは、外部ベンドミラー５，
７，９を経て集光レンズ１１で集光される。この集光レ
ンズ１１で集光されたレーザビームはワークテーブル２
１上に載置されたワークＷへ向けて照射されることによ
り、ワークＷにレーザ加工が行われることになる。な
お、レーザ発振器３で発振されたレーザビームの出力は
光出力計１９でもって出力されるものである。
【００１９】前記出力ミラー１５と外部ベンドミラー５
との間には両面に反射ミラー２３，２５を備えたシャッ
ター２７が図１において上下方向へ移動可能に設けられ
ている。このシャッター２７の図１において上下には第
１ガイド光を照射せしめる光源３１，光ダンパー３１が
それぞれ設けられている。
との間には両面に反射ミラー２３，２５を備えたシャッ
ター２７が図１において上下方向へ移動可能に設けられ
ている。このシャッター２７の図１において上下には第
１ガイド光を照射せしめる光源３１，光ダンパー３１が
それぞれ設けられている。
【００２０】前記リアミラー１３の前には反射ミラーと
してのダイクロイックミラーなどからなる特殊ミラー３
３が設けられている。この特殊ミラー３３の図１におい
て下方には第２ガイド光を照射せしめる光源３５が設け
られている。前記外部ベンドミラー９と集光レンズ１１
との間にはガイド光用出力計３７とターゲット３９を備
えたセンサアッシー４１が設けられている。
してのダイクロイックミラーなどからなる特殊ミラー３
３が設けられている。この特殊ミラー３３の図１におい
て下方には第２ガイド光を照射せしめる光源３５が設け
られている。前記外部ベンドミラー９と集光レンズ１１
との間にはガイド光用出力計３７とターゲット３９を備
えたセンサアッシー４１が設けられている。
【００２１】このセンサアッシー４１は図２によく示さ
れているように、ガイド光用出力計３７はエアシリンダ
４３に装着されたピストンロッド４５の先端に取付けら
れている。また、ターゲット３９はエアシリンダ４７に
装着されたピストンロッド４９の先端に取付けられてい
る。ターゲット３９の真中には穴３９Ｈが形成されてい
る。
れているように、ガイド光用出力計３７はエアシリンダ
４３に装着されたピストンロッド４５の先端に取付けら
れている。また、ターゲット３９はエアシリンダ４７に
装着されたピストンロッド４９の先端に取付けられてい
る。ターゲット３９の真中には穴３９Ｈが形成されてい
る。
【００２２】上記構成により、エアシリンダ４３，４７
をそれぞれ作動せしめて、ピストンロッド４５，４９を
図２において左右方向へ移動せしめることにより、ガイ
ド光用出力計３７，ターゲット３９がそれぞれ個々に第
１，第２ガイド光の光軸に位置決めされたり、あるいは
退避位置に退避されることになる。
をそれぞれ作動せしめて、ピストンロッド４５，４９を
図２において左右方向へ移動せしめることにより、ガイ
ド光用出力計３７，ターゲット３９がそれぞれ個々に第
１，第２ガイド光の光軸に位置決めされたり、あるいは
退避位置に退避されることになる。
【００２３】前記光源２９，３５から照射される第１ガ
イド光，第２ガイド光は、例えば図３に示されているよ
うなＨｅＮｅ光のガウスモード（ＴＥＭ00）が使用され
るものである。
イド光，第２ガイド光は、例えば図３に示されているよ
うなＨｅＮｅ光のガウスモード（ＴＥＭ00）が使用され
るものである。
【００２４】上記構成により、まずエアシリンダ４３を
作動せしめてピストンロッド４５を介してガイド光用出
力計３７をガイド光の光軸上に位置せしめる。この状態
でシャッター２３をガイド光の光軸上に位置せしめるこ
とにより、光源２９から照射された第１ガイド光はシャ
ッター２７の一面に設けられた反射ミラー２３で反射さ
れた後、外部ベンドミラー５，７，９を経てガイド光用
出力計３７でもって第１ガイド光の出力が図４の曲線Ａ
に示されているように出力される。なお、レーザ発振器
３から発振されるレーザビームはシャッター２７の他面
に設けられている反射ミラー２５で反射されて光ダンパ
ー３１に吸収されるようになっている。
作動せしめてピストンロッド４５を介してガイド光用出
力計３７をガイド光の光軸上に位置せしめる。この状態
でシャッター２３をガイド光の光軸上に位置せしめるこ
とにより、光源２９から照射された第１ガイド光はシャ
ッター２７の一面に設けられた反射ミラー２３で反射さ
れた後、外部ベンドミラー５，７，９を経てガイド光用
出力計３７でもって第１ガイド光の出力が図４の曲線Ａ
に示されているように出力される。なお、レーザ発振器
３から発振されるレーザビームはシャッター２７の他面
に設けられている反射ミラー２５で反射されて光ダンパ
ー３１に吸収されるようになっている。
【００２５】したがって、ガイド光用出力計３７で図４
の曲線Ａのごとき出力されるので、外部ベンドミラー
５，７，９が汚れていないときの出力は例えば図４の直
線Ｌで出力される出力値との差Ｌ１が外部ベンドミラー
５，７，９のトータルの汚れとして測定することができ
る。
の曲線Ａのごとき出力されるので、外部ベンドミラー
５，７，９が汚れていないときの出力は例えば図４の直
線Ｌで出力される出力値との差Ｌ１が外部ベンドミラー
５，７，９のトータルの汚れとして測定することができ
る。
【００２６】また、エアシリンダ４７を作動せしめてピ
ストンロッド４９を介してターゲット３９を第１ガイド
光の光軸に位置決めすると、ターゲット３９の穴３９Ｈ
を通過してガイド光用出力計３７で図５（Ａ）に示すよ
うな出力分布が得られる。この場合、第１ガイド光の光
軸を予めターゲット３９の穴３９Ｈの中心に合わせてお
けば、図５（Ｂ）に示すような出力分布が得られるはず
であるから、この図５の（Ａ）と（Ｂ）の出力分布を比
較して出力の低下分を計算することにより、光軸ずれを
測定することができる。
ストンロッド４９を介してターゲット３９を第１ガイド
光の光軸に位置決めすると、ターゲット３９の穴３９Ｈ
を通過してガイド光用出力計３７で図５（Ａ）に示すよ
うな出力分布が得られる。この場合、第１ガイド光の光
軸を予めターゲット３９の穴３９Ｈの中心に合わせてお
けば、図５（Ｂ）に示すような出力分布が得られるはず
であるから、この図５の（Ａ）と（Ｂ）の出力分布を比
較して出力の低下分を計算することにより、光軸ずれを
測定することができる。
【００２７】同様にして、シヤッター２７を図１におい
て点線に示されているように移動せしめた状態にして、
光源３５から第２ガイド光を特殊ミラー３３へ向けて照
射せしめると、特殊ミラー３３で反射された第２ガイド
光はリアミラー１３，出力ミラー１５を通り、外部ベン
ドミラー５，７，９を経てガイド光用出力計３７でもっ
て、図４の曲線Ｂで示すような出力が測定される。この
曲線Ｂの出力はリアミラー１３，出力ミラー１５および
外部ベンドミラー５，７，９による出力であるから、こ
の曲線Ｂの出力値と前回測定された曲線Ａの出力値との
差Ｌ２がレーザ発振器３のリアミラー１３，出力ミラー
１５による汚れとして測定することができる。
て点線に示されているように移動せしめた状態にして、
光源３５から第２ガイド光を特殊ミラー３３へ向けて照
射せしめると、特殊ミラー３３で反射された第２ガイド
光はリアミラー１３，出力ミラー１５を通り、外部ベン
ドミラー５，７，９を経てガイド光用出力計３７でもっ
て、図４の曲線Ｂで示すような出力が測定される。この
曲線Ｂの出力はリアミラー１３，出力ミラー１５および
外部ベンドミラー５，７，９による出力であるから、こ
の曲線Ｂの出力値と前回測定された曲線Ａの出力値との
差Ｌ２がレーザ発振器３のリアミラー１３，出力ミラー
１５による汚れとして測定することができる。
【００２８】また、第２ガイド光がターゲット３９の穴
３９Ｈを通過してガイド光用出力計３７で図５（Ａ）に
示すような出力分布と、図５（Ｂ）に示すような出力分
布とを比較して出力の低下分計算することにより、光軸
ずれを測定することができる。
３９Ｈを通過してガイド光用出力計３７で図５（Ａ）に
示すような出力分布と、図５（Ｂ）に示すような出力分
布とを比較して出力の低下分計算することにより、光軸
ずれを測定することができる。
【００２９】こように第１ガイド光，第２ガイド光の出
力をガイド光用出力計３７，ターゲット３９を用いて測
定し計算することにより、レーザ発振器３内のリアミラ
ー１３，出力ミラー１５によるミラー並びに外部ベンド
ミラー５，７，９によるミラーの汚れ並びに光軸ずれ
を、簡単な装置でしかも安価で、かつ容易に測定するこ
とができる。
力をガイド光用出力計３７，ターゲット３９を用いて測
定し計算することにより、レーザ発振器３内のリアミラ
ー１３，出力ミラー１５によるミラー並びに外部ベンド
ミラー５，７，９によるミラーの汚れ並びに光軸ずれ
を、簡単な装置でしかも安価で、かつ容易に測定するこ
とができる。
【００３０】特殊ミラー３３，シャッター２７，ガイド
光用出力計３７およびターゲット３９では加工光である
レーザビームを直接測定しないから、装置そのものが単
純で、安価であり、しかも安全で長寿命となるものであ
る。
光用出力計３７およびターゲット３９では加工光である
レーザビームを直接測定しないから、装置そのものが単
純で、安価であり、しかも安全で長寿命となるものであ
る。
【００３１】図６には他の実施例が示されている。図６
において図１における部品と同じ品には同一の符号を符
して重複する説明を省略する。図６において外部ベンド
ミラー５と外部ベンドミラー７との間および外部ベンド
ミラー７と外部ベンドミラー９との間に、図２に示され
ているようなガイド光用出力計３７およびターゲット３
９を備えたセンサアッシー４１を設けたものである。
において図１における部品と同じ品には同一の符号を符
して重複する説明を省略する。図６において外部ベンド
ミラー５と外部ベンドミラー７との間および外部ベンド
ミラー７と外部ベンドミラー９との間に、図２に示され
ているようなガイド光用出力計３７およびターゲット３
９を備えたセンサアッシー４１を設けたものである。
【００３２】この場合には、外部ベンドミラー５と外部
ベンドミラー７との間にガイド光用出力計３７，ターゲ
ット３９を用いて、それぞれ作動せしめることにより、
上述した要領でもって外部ベンドミラー５のみの汚れ並
び光軸ずれを測定することができる。さらに、外部ベン
ドミラー７と外部ベンドミラー９との間に設けたガイド
光用出力計３７，ターゲット３９も併せて用いて、それ
ぞれ作動せしめることにより、上述した要領てもって外
部ベンドミラー７のみの汚れ並びに光軸ずれを測定する
ことができる。
ベンドミラー７との間にガイド光用出力計３７，ターゲ
ット３９を用いて、それぞれ作動せしめることにより、
上述した要領でもって外部ベンドミラー５のみの汚れ並
び光軸ずれを測定することができる。さらに、外部ベン
ドミラー７と外部ベンドミラー９との間に設けたガイド
光用出力計３７，ターゲット３９も併せて用いて、それ
ぞれ作動せしめることにより、上述した要領てもって外
部ベンドミラー７のみの汚れ並びに光軸ずれを測定する
ことができる。
【００３３】外部ベンドミラー５と外部ベンドミラー７
との間、外部ベンドミラー７と外部ベンドミラー９との
間および外部ベンドミラー９と集光レンズ１１との間に
設けたそれぞれのガイド光用出力計３７並びターゲット
３９を用いてそれぞれを作動せしめることにより、上述
した要領でもって外部ベンド９のみの汚れ並びに光軸ず
れを測定することができる。
との間、外部ベンドミラー７と外部ベンドミラー９との
間および外部ベンドミラー９と集光レンズ１１との間に
設けたそれぞれのガイド光用出力計３７並びターゲット
３９を用いてそれぞれを作動せしめることにより、上述
した要領でもって外部ベンド９のみの汚れ並びに光軸ず
れを測定することができる。
【００３４】したがって、外部ベンドミラー５，７，９
の個々の汚れや光軸ずれ、また複数の外部ベンドミラー
５，７あるいは外部ベンドミラー５，７，９の汚れや光
軸ずれを測定することができると共に、上述した例と同
様の効果を奏するものである。
の個々の汚れや光軸ずれ、また複数の外部ベンドミラー
５，７あるいは外部ベンドミラー５，７，９の汚れや光
軸ずれを測定することができると共に、上述した例と同
様の効果を奏するものである。
【００３５】図７には別の実施の形態の例が示されてい
る。図７において図１における部品と同じ部品には同一
の符号を符して重複する説明を省略する。図７におい
て、前記出力ミラー１５と外部ベンドミラー５との間に
図２に示したようなガイド光用出力計３７，ターゲット
３９を備えたセンサアッシー４１を設けたものである。
る。図７において図１における部品と同じ部品には同一
の符号を符して重複する説明を省略する。図７におい
て、前記出力ミラー１５と外部ベンドミラー５との間に
図２に示したようなガイド光用出力計３７，ターゲット
３９を備えたセンサアッシー４１を設けたものである。
【００３６】上記構成により、シャッター２７を点線の
位置に移動せしめた状態において、光源３５から第２ガ
イド光を特殊ミラー３３へ照射せしめると、第２ガイド
光は特殊ミラー３３で反射された後、リアミラー３３，
出力ミラー１５を経てガイド光用出力計３７，ターゲッ
ト３９により、上述した要領でもって、リアミラー１
３，出力ミラー１５によるミラーの汚れ並びに光軸ずれ
を測定することができると共に、上述した例と同様の効
果を奏するものである。
位置に移動せしめた状態において、光源３５から第２ガ
イド光を特殊ミラー３３へ照射せしめると、第２ガイド
光は特殊ミラー３３で反射された後、リアミラー３３，
出力ミラー１５を経てガイド光用出力計３７，ターゲッ
ト３９により、上述した要領でもって、リアミラー１
３，出力ミラー１５によるミラーの汚れ並びに光軸ずれ
を測定することができると共に、上述した例と同様の効
果を奏するものである。
【００３７】なお、この発明は、前述した実施の形態の
例に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。前記ガイド
光用出力計３７で測定された測定値を通信システムによ
りサービス営業所に送って管理し、ミラー等の定期点検
を不用にすることもできる。また、測定値から加工部で
の出力を推計し出力を補正することにより、今までのレ
ーザ発振器３の内部の出力補正から外部ベンドミラー
５，７，９の汚れによる出力低下を含めた出力補正とな
り、加工安定性の向上を図ることができる。
例に限定されることなく、適宜な変更を行うことによ
り、その他の態様で実施し得るものである。前記ガイド
光用出力計３７で測定された測定値を通信システムによ
りサービス営業所に送って管理し、ミラー等の定期点検
を不用にすることもできる。また、測定値から加工部で
の出力を推計し出力を補正することにより、今までのレ
ーザ発振器３の内部の出力補正から外部ベンドミラー
５，７，９の汚れによる出力低下を含めた出力補正とな
り、加工安定性の向上を図ることができる。
【００３８】図１に示したように、レーザ発振器３の内
部またはガイド光用出力計３７間の外部ベンドミラー
５，７，９に直線偏向ミラーが必ず入るため、直線偏向
ミラー上を反射するガイド光は、ランダム変更よりも直
線偏向の光の方が測定値が安定し、正確な測定値を得る
ことができる。
部またはガイド光用出力計３７間の外部ベンドミラー
５，７，９に直線偏向ミラーが必ず入るため、直線偏向
ミラー上を反射するガイド光は、ランダム変更よりも直
線偏向の光の方が測定値が安定し、正確な測定値を得る
ことができる。
【００３９】
【発明の効果】以上のごとき実施の形態の例から理解さ
れるように、請求項１，４の発明によれば、出力ミラー
とこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に
設けた反射ミラーへ第１ガイド光を照射せしめると、第
１ガイド光は反射ミラーで反射された後、複数の外部ベ
ンドミラーへ送られる。このとき、各外部ベンドミラー
の後に設けたガイド光用出力計でもって第１ガイド光の
出力が測定され、各外部ベンドミラーの汚れを測定する
ことができる。また、各ベンドミラーの後に設けたター
ゲットにより光軸ずれを測定することができる。而し
て、各外部ベンドミラーの汚れや光軸ずれが簡単な装置
でしかも安価で、かつ容易に測定することができる。
れるように、請求項１，４の発明によれば、出力ミラー
とこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に
設けた反射ミラーへ第１ガイド光を照射せしめると、第
１ガイド光は反射ミラーで反射された後、複数の外部ベ
ンドミラーへ送られる。このとき、各外部ベンドミラー
の後に設けたガイド光用出力計でもって第１ガイド光の
出力が測定され、各外部ベンドミラーの汚れを測定する
ことができる。また、各ベンドミラーの後に設けたター
ゲットにより光軸ずれを測定することができる。而し
て、各外部ベンドミラーの汚れや光軸ずれが簡単な装置
でしかも安価で、かつ容易に測定することができる。
【００４０】請求項２，５の発明によれば、リアミラー
の前に設けた反射ミラーへ第２ガイド光を照射せしめる
と、出力ミラーを経て出力ミラーとこの出力ミラーに最
も近い外部ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出力
計でもって第２ガイド光の出力が測定され、リアミラ
ー，出力ミラーの汚れを測定することができる。また、
出力ミラーとこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラ
ーとの間に設けたターゲットにより光軸ずれを測定する
ことができる。而して、リアミラー，出力ミラーの汚れ
や光軸ずれを簡単な装置でしかも安価で、かつ容易に測
定することができる。
の前に設けた反射ミラーへ第２ガイド光を照射せしめる
と、出力ミラーを経て出力ミラーとこの出力ミラーに最
も近い外部ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出力
計でもって第２ガイド光の出力が測定され、リアミラ
ー，出力ミラーの汚れを測定することができる。また、
出力ミラーとこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラ
ーとの間に設けたターゲットにより光軸ずれを測定する
ことができる。而して、リアミラー，出力ミラーの汚れ
や光軸ずれを簡単な装置でしかも安価で、かつ容易に測
定することができる。
【００４１】請求項３，６の発明によれば、出力ミラー
とこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に
設けた反射ミラーに第１ガイド光を照射すると、第１ガ
イド光が反射ミラーで反射された後、複数の外部ベンド
ミラーを経て、集光レンズと集光レンズに最も近い外部
ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出力計でもって
出力され、外部ベンドミラーの汚れを測定することがで
き、またターゲットにより光軸ずれを測定することがで
きる。
とこの出力ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に
設けた反射ミラーに第１ガイド光を照射すると、第１ガ
イド光が反射ミラーで反射された後、複数の外部ベンド
ミラーを経て、集光レンズと集光レンズに最も近い外部
ベンドミラーとの間に設けたガイド光用出力計でもって
出力され、外部ベンドミラーの汚れを測定することがで
き、またターゲットにより光軸ずれを測定することがで
きる。
【００４２】また、リアミラーの前に設けた反射ミラー
に第２ガイド光を照射せしめると、第２ガイド光は反射
ミラーで反射された後、リアミラー，出力ミラー並びに
複数の外部ベンドミラーを経て前記ガイド光用出力計、
ターゲットでもってレーザ発振器内のミラー，外部ベン
ドミラーによる出力が測定される。この第２ガイド光に
より出力された出力と、前記第１ガイド光により出力さ
れた出力とから、レーザ発振器内のミラーの出力が測定
されて、汚れを測定することができる。また、ターゲッ
トによりレーザ発振器内のミラーの光軸ずれを測定する
ことができる。而して、レーザ発振器内のミラー，外部
ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを一緒に簡単な装置でし
かも安価で、かつ容易に測定することができる。
に第２ガイド光を照射せしめると、第２ガイド光は反射
ミラーで反射された後、リアミラー，出力ミラー並びに
複数の外部ベンドミラーを経て前記ガイド光用出力計、
ターゲットでもってレーザ発振器内のミラー，外部ベン
ドミラーによる出力が測定される。この第２ガイド光に
より出力された出力と、前記第１ガイド光により出力さ
れた出力とから、レーザ発振器内のミラーの出力が測定
されて、汚れを測定することができる。また、ターゲッ
トによりレーザ発振器内のミラーの光軸ずれを測定する
ことができる。而して、レーザ発振器内のミラー，外部
ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを一緒に簡単な装置でし
かも安価で、かつ容易に測定することができる。
【図１】この発明を実施するレーザ加工機の光学系チェ
ック装置の説明図である。
ック装置の説明図である。
【図２】センサアッシー部を拡大した詳細な説明図であ
る。
る。
【図３】ガイド光に用いるＨｅＮＥ光のガウスモードの
出力分布図である。
出力分布図である。
【図４】各ミラーの汚れを測定する説明図である。
【図５】各ミラーの光軸ずれを測定する説明図である。
【図６】レーザ加工機の光学系チェック装置の他の例を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図７】レーザ加工機の光学系チェック装置の別の例を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
１ レーザ加工機 ３ レーザ発振器 ５，７，９ 外部ベンドミラー １１ 集光レンズ １３ リアミラー １５ 出力ミラー １７ 光共振器 ２３，２５ 反射ミラー ２７ シャッター ２９ 光源 ３３ 特殊ミラー（反射ミラー） ３５ 光源 ３７ ガイド光用出力計 ３９ ターゲット ４１ センサアッシー
Claims (6)
- 【請求項１】 リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部のベン
ドミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワーク向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記出力ミラーとこの出力ミラーに最も近
い外部ベンドミラーとの間に設けた反射ミラーに第１ガ
イド光を照射すると共に、各外部ベンドミラーの後に設
けたガイド光用出力計並びにターゲットにより各外部ベ
ンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定することを特徴とす
るレーザ加工機の光学系チェック方法。 - 【請求項２】 リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部ベンド
ミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワークへ向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記リアミラーの前に設けた反射ミラーに
第２ガイド光を照射すると共に出力ミラーとこの出力ミ
ラーに最も近い外部ベンドミラーとの間に設けたガイド
光用出力計並びにターゲットによりリアミラー，出力ミ
ラーの汚れ，光軸ずれを測定することを特徴とするレー
ザ加工機の光学系チェック方法。 - 【請求項３】 リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器か発振されたレーザビームを複数の外部ベンドミ
ラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワークへ向け
て照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工機
において、前記出力ミラーとこの出力ミラーに最も近い
外部ベンドミラーとの間に設けた反射ミラーに第１ガイ
ド光を照射し、また前記リアミラーの前に設けた反射ミ
ラーに第２ガイド光を照射し、前記集光レンズとこの集
光レンズに最も近い外部ベンドミラーとの間に設けたガ
イド光用出力計並びにターゲットによりレーザ発振器内
部のミラー，外部ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定
することを特徴とするレーザ加工機の光学系チェック方
法。 - 【請求項４】 リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部ベンド
ミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワークへ向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記出力ミラーとこの出力ミラーに最も近
い外部ベンドミラーとの間に第１ガイド光を照射する反
射ミラーを設けると共に、各外部ベンドミラーの後にそ
れぞれ各外部ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定する
移動自在なガイド光用出力計並びにターゲットを設けて
なることを特徴とするレーザ加工機の光学系チェック装
置。 - 【請求項５】 リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部ベンド
ミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワークへ向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記出力ミラーの前に第２ガイド光を照射
する反射ミラーを設けると共に、出力ミラーとこの出力
ミラーに最も近い外部ベンドミラーとの間にリアミラ
ー，出力ミラーの汚れ、光軸ずれを測定する移動自在な
ガイド光用出力計並びにターゲットを設けてなることを
特徴とするレーザ加工機の光学系チェック装置。 - 【請求項６】 リアミラー，出力ミラーを備えたレーザ
発振器から発振されたレーザビームを複数の外部ベンド
ミラーを経て集光レンズで集光せしめた後、ワークへ向
けて照射せしめてワークにレーザ加工を行うレーザ加工
機において、前記出力ミラーとこの出力ミラーに最も近
い外部ベンドミラーとの間に第１ガイド光を照射する両
面に反射ミラーを備えたシャッターを設けると共に、前
記リアミラーの前に第２ガイド光を照射する反射ミラー
を設け、前記集光レンズとこの集光レンズに最も近い外
部ベンドミラーとの間レーザ発振器内部のミラー，外部
ベンドミラーの汚れ，光軸ずれを測定する移動自在なガ
イド光用出力計並びにターゲットを設けてなることを特
徴とするレーザ加工機の光学系チェック装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08522496A JP3808128B2 (ja) | 1996-04-08 | 1996-04-08 | レーザ加工機 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08522496A JP3808128B2 (ja) | 1996-04-08 | 1996-04-08 | レーザ加工機 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09271968A true JPH09271968A (ja) | 1997-10-21 |
| JP3808128B2 JP3808128B2 (ja) | 2006-08-09 |
Family
ID=13852602
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08522496A Expired - Fee Related JP3808128B2 (ja) | 1996-04-08 | 1996-04-08 | レーザ加工機 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3808128B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001284684A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Komatsu Ltd | ガイドレーザ装置 |
| WO2008136073A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-13 | Mitsubishi Electric Corporation | レーザ発振器 |
| JP2016115829A (ja) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | 花王株式会社 | レーザー照射装置及びレーザー照射方法 |
| JPWO2021117850A1 (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 |
-
1996
- 1996-04-08 JP JP08522496A patent/JP3808128B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001284684A (ja) * | 2000-03-31 | 2001-10-12 | Komatsu Ltd | ガイドレーザ装置 |
| WO2008136073A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2008-11-13 | Mitsubishi Electric Corporation | レーザ発振器 |
| DE112007003374T5 (de) | 2007-04-20 | 2010-01-21 | Mitsubishi Electric Corp. | Laseroszillator |
| JPWO2008136073A1 (ja) * | 2007-04-20 | 2010-07-29 | 三菱電機株式会社 | レーザ発振器 |
| US7876804B2 (en) | 2007-04-20 | 2011-01-25 | Mitsubishi Electric Corporation | Laser oscillator |
| DE112007003374B4 (de) * | 2007-04-20 | 2012-04-26 | Mitsubishi Electric Corp. | Laseroszillator mit Oszillatorgehäuse |
| JP2016115829A (ja) * | 2014-12-16 | 2016-06-23 | 花王株式会社 | レーザー照射装置及びレーザー照射方法 |
| JPWO2021117850A1 (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 | ||
| WO2021117851A1 (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レーザ装置 |
| WO2021117850A1 (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | レーザ装置 |
| JPWO2021117851A1 (ja) * | 2019-12-13 | 2021-06-17 |
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|---|---|
| JP3808128B2 (ja) | 2006-08-09 |
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