JPH0927443A - ステージ駆動制御装置 - Google Patents
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- JPH0927443A JPH0927443A JP7198183A JP19818395A JPH0927443A JP H0927443 A JPH0927443 A JP H0927443A JP 7198183 A JP7198183 A JP 7198183A JP 19818395 A JP19818395 A JP 19818395A JP H0927443 A JPH0927443 A JP H0927443A
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
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- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
- G03F7/70725—Stages control
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B19/00—Program-control systems
- G05B19/02—Program-control systems electric
- G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form
- G05B19/19—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path
- G05B19/21—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device
- G05B19/23—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control
- G05B19/231—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control the positional error is used to control continuously the servomotor according to its magnitude
- G05B19/234—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using an incremental digital measuring device for point-to-point control the positional error is used to control continuously the servomotor according to its magnitude with current or torque feedback only
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- G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
- G05B2219/00—Program-control systems
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ステージを自由度より多い数の駆動手段によ
り駆動する場合に制御手段(コントローラ)相互間の干
渉を効果的に防止する。 【構成】 ステージ10の位置が干渉計20、22、2
4により検出されると、変換手段26では干渉計で検出
した情報をステージの重心の自由度毎の位置及び速度情
報に変換する。自由度毎のPIコントローラ54、5
6、58では重心のθ方向、Y方向、X方向の位置偏差
の速度変換値と重心のそれぞれの方向の速度との差であ
るれぞれの方向の速度偏差に基づいて重心の運動に必要
な自由度毎の制御量を(比例+積分)動作により求め
る。変換手段60ではコントローラ54、56、58の
出力を入力し、モータ12、14、16、18のそれぞ
れで発生すべき制御量に変換し、変換後の制御量を各モ
ータに指令値として与える。
り駆動する場合に制御手段(コントローラ)相互間の干
渉を効果的に防止する。 【構成】 ステージ10の位置が干渉計20、22、2
4により検出されると、変換手段26では干渉計で検出
した情報をステージの重心の自由度毎の位置及び速度情
報に変換する。自由度毎のPIコントローラ54、5
6、58では重心のθ方向、Y方向、X方向の位置偏差
の速度変換値と重心のそれぞれの方向の速度との差であ
るれぞれの方向の速度偏差に基づいて重心の運動に必要
な自由度毎の制御量を(比例+積分)動作により求め
る。変換手段60ではコントローラ54、56、58の
出力を入力し、モータ12、14、16、18のそれぞ
れで発生すべき制御量に変換し、変換後の制御量を各モ
ータに指令値として与える。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ステージ駆動制御
装置に係り、特に半導体の製造工程で使用される露光装
置や測定装置等においてウエハ等の基板あるいはマスク
(又はレチクル)が載置されるステージの駆動制御用と
して好適なステージ駆動制御装置に関する。
装置に係り、特に半導体の製造工程で使用される露光装
置や測定装置等においてウエハ等の基板あるいはマスク
(又はレチクル)が載置されるステージの駆動制御用と
して好適なステージ駆動制御装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、露光装置等においては、ステ
ージを所定の位置に位置決めするため、ステージのX、
Y2次元方向及びZ軸回りの回転方向(以下、「θ方
向」という)の位置又は速度を制御することがなされて
いる。図4には、この種のステージの駆動系の一例が示
されている。図4において、ステージ80は、第1モー
タ82、第2モータ84とこれらのモータ82、84に
よってそれぞれ駆動されるボールねじ機構86、88と
によってY方向、θ方向へ駆動され、第3モータ90と
当該モータ90によって駆動されるボールねじ機構92
とによってX方向に駆動されるようになっている。この
場合、ステージ80のY方向、θ方向の位置はYl レー
ザ干渉計94、Yr レーザ干渉計96によって検出さ
れ、X方向の位置はXレーザ干渉計98によって検出さ
れる。
ージを所定の位置に位置決めするため、ステージのX、
Y2次元方向及びZ軸回りの回転方向(以下、「θ方
向」という)の位置又は速度を制御することがなされて
いる。図4には、この種のステージの駆動系の一例が示
されている。図4において、ステージ80は、第1モー
タ82、第2モータ84とこれらのモータ82、84に
よってそれぞれ駆動されるボールねじ機構86、88と
によってY方向、θ方向へ駆動され、第3モータ90と
当該モータ90によって駆動されるボールねじ機構92
とによってX方向に駆動されるようになっている。この
場合、ステージ80のY方向、θ方向の位置はYl レー
ザ干渉計94、Yr レーザ干渉計96によって検出さ
れ、X方向の位置はXレーザ干渉計98によって検出さ
れる。
【0003】図5には、ステージ80を駆動制御するス
テージ駆動制御装置の構成が示されている。この図にお
いて、重心θ位置計算ブロック100ではYl レーザ干
渉計94、Yr レーザ干渉計96からの位置情報をステ
ージ80の重心位置でのZ軸回りの回転量(θ方向の位
置情報)に変換して出力し、同様に重心Y位置計算ブロ
ック102ではYl レーザ干渉計94、Yr レーザ干渉
計96からの位置情報を重心のY方向の位置情報に変換
して出力する。また、重心X位置計算ブロック104で
は、Xレーザ干渉計98からの位置情報と重心θ位置計
算ブロック100からの重心のθ方向の位置情報とを入
力し、重心のX方向の位置情報に変換して出力する。こ
こで、前記3つの重心位置計算ブロック100、10
2、104では、いわゆる非干渉化計算が行なわれる。
テージ駆動制御装置の構成が示されている。この図にお
いて、重心θ位置計算ブロック100ではYl レーザ干
渉計94、Yr レーザ干渉計96からの位置情報をステ
ージ80の重心位置でのZ軸回りの回転量(θ方向の位
置情報)に変換して出力し、同様に重心Y位置計算ブロ
ック102ではYl レーザ干渉計94、Yr レーザ干渉
計96からの位置情報を重心のY方向の位置情報に変換
して出力する。また、重心X位置計算ブロック104で
は、Xレーザ干渉計98からの位置情報と重心θ位置計
算ブロック100からの重心のθ方向の位置情報とを入
力し、重心のX方向の位置情報に変換して出力する。こ
こで、前記3つの重心位置計算ブロック100、10
2、104では、いわゆる非干渉化計算が行なわれる。
【0004】前記3つの重心位置計算ブロック100、
102、104から出力された重心の位置情報は、それ
ぞれ主フィードバック信号となって、θ方向、Y方向、
X方向の位置の指令値(目標値を示す基準入力信号)と
それぞれ比較され、重心のθ方向の位置偏差、Y方向の
位置偏差、X方向の位置偏差が3つのモータ位置への変
換ブロック106、108、110に入力される。ま
た、3つの重心位置計算ブロック100、102、10
4から出力された重心のそれぞれの方向の位置情報は、
微分回路112、114、116でそれぞれ重心のθ方
向の速度情報、Y方向の速度情報、X方向の速度情報に
変換され、3つのモータ速度への変換ブロック118、
120、122に送出される。
102、104から出力された重心の位置情報は、それ
ぞれ主フィードバック信号となって、θ方向、Y方向、
X方向の位置の指令値(目標値を示す基準入力信号)と
それぞれ比較され、重心のθ方向の位置偏差、Y方向の
位置偏差、X方向の位置偏差が3つのモータ位置への変
換ブロック106、108、110に入力される。ま
た、3つの重心位置計算ブロック100、102、10
4から出力された重心のそれぞれの方向の位置情報は、
微分回路112、114、116でそれぞれ重心のθ方
向の速度情報、Y方向の速度情報、X方向の速度情報に
変換され、3つのモータ速度への変換ブロック118、
120、122に送出される。
【0005】第1のモータ位置への変換ブロック106
では、重心のθ方向の位置偏差、Y方向の位置偏差、X
方向の位置偏差を入力し、第1モータ82の位置での位
置情報に変換する。この第1モータ82の位置での位置
情報が位置ゲイン124によって第1モータ82の位置
での速度の目標値に変換される。第2のモータ位置への
変換ブロック108では、重心のθ方向の位置偏差、Y
方向の位置偏差、X方向の位置偏差を入力し、第2モー
タ84の位置での位置情報に変換し、この第2モータ8
4の位置での位置情報が位置ゲイン126によって第2
モータ84の位置での速度の目標値に変換される。第3
のモータ位置への変換ブロック110では、重心のθ方
向の位置偏差、Y方向の位置偏差、X方向の位置偏差を
入力し、第3モータ90の位置での位置情報に変換し、
この第3モータ90の位置での位置情報が位置ゲイン1
28によって第3モータ90の位置での速度の目標値に
変換される。
では、重心のθ方向の位置偏差、Y方向の位置偏差、X
方向の位置偏差を入力し、第1モータ82の位置での位
置情報に変換する。この第1モータ82の位置での位置
情報が位置ゲイン124によって第1モータ82の位置
での速度の目標値に変換される。第2のモータ位置への
変換ブロック108では、重心のθ方向の位置偏差、Y
方向の位置偏差、X方向の位置偏差を入力し、第2モー
タ84の位置での位置情報に変換し、この第2モータ8
4の位置での位置情報が位置ゲイン126によって第2
モータ84の位置での速度の目標値に変換される。第3
のモータ位置への変換ブロック110では、重心のθ方
向の位置偏差、Y方向の位置偏差、X方向の位置偏差を
入力し、第3モータ90の位置での位置情報に変換し、
この第3モータ90の位置での位置情報が位置ゲイン1
28によって第3モータ90の位置での速度の目標値に
変換される。
【0006】一方、第1のモータ速度への変換ブロック
118では、重心のθ方向の速度情報、Y方向の速度情
報、X方向の速度情報を第1モータ82の位置での速度
情報に変換し、この第1モータ82の位置での速度情報
が内部フィードバック信号として第1モータ82の位置
での速度の目標値と比較され、両者の差が第1のコント
ローラ130の動作信号となる。第2のモータ速度への
変換ブロック120では、重心のθ方向の速度情報、Y
方向の速度情報、X方向の速度情報を第2モータ84の
位置での速度情報に変換し、この第2モータ84の位置
での速度情報が内部フィードバック信号として第2モー
タ84の位置での速度の目標値と比較され、両者の差が
第2のコントローラ132の動作信号となる。第3のモ
ータ速度への変換ブロック122では、重心のθ方向の
速度情報、Y方向の速度情報、X方向の速度情報を第3
モータ90の位置での速度情報に変換し、この第3モー
タ90の位置での速度情報が内部フィードバック信号と
して第3モータ90の位置での速度の目標値と比較さ
れ、両者の差が第3のコントローラ134の動作信号と
なる。
118では、重心のθ方向の速度情報、Y方向の速度情
報、X方向の速度情報を第1モータ82の位置での速度
情報に変換し、この第1モータ82の位置での速度情報
が内部フィードバック信号として第1モータ82の位置
での速度の目標値と比較され、両者の差が第1のコント
ローラ130の動作信号となる。第2のモータ速度への
変換ブロック120では、重心のθ方向の速度情報、Y
方向の速度情報、X方向の速度情報を第2モータ84の
位置での速度情報に変換し、この第2モータ84の位置
での速度情報が内部フィードバック信号として第2モー
タ84の位置での速度の目標値と比較され、両者の差が
第2のコントローラ132の動作信号となる。第3のモ
ータ速度への変換ブロック122では、重心のθ方向の
速度情報、Y方向の速度情報、X方向の速度情報を第3
モータ90の位置での速度情報に変換し、この第3モー
タ90の位置での速度情報が内部フィードバック信号と
して第3モータ90の位置での速度の目標値と比較さ
れ、両者の差が第3のコントローラ134の動作信号と
なる。
【0007】第1、第2、第3のコントローラ130、
132、134では、比例動作(P動作)又は(比例+
積分)動作(PI動作)により第1、第2、第3モータ
82、84、90の制御量をそれぞれ求め、この求めた
制御量を指令値として第1、第2、第3モータ82、8
4、90に与えていた。
132、134では、比例動作(P動作)又は(比例+
積分)動作(PI動作)により第1、第2、第3モータ
82、84、90の制御量をそれぞれ求め、この求めた
制御量を指令値として第1、第2、第3モータ82、8
4、90に与えていた。
【0008】本明細書中で、P動作とは、いわゆる調節
器の基本制御動作の内、出力信号が動作信号(偏差)に
比例するもの、即ち偏差に比例して制御対象を操作する
ものをいい、フィードバック制御の基本となる制御動作
をいう。この制御動作を行なうコントローラの伝達関数
G(s)は比例ゲインをKP とすると、G(s)=KP
で表わされる。また、PI動作とは、いわゆる調節器の
基本制御動作の内、出力信号が、上記の偏差に比例した
制御出力と偏差の時間積分値に比例した制御出力との合
成値となる制御動作をいい、この制御動作を行なうコン
トローラの伝達関数はG(s)=KP (1+1/TI /
s)で表わされる。但し、TI は積分時間である。この
PI動作は、P動作のみでは定常偏差が残るという問題
を改善すべく、採用されるものである。即ち、偏差の積
分値を加えた制御出力によって制御すれば(PI動
作)、僅かな偏差でも時間経過に伴い大きいフィードバ
ック出力を生ずるため、定常偏差の問題は解決する。本
明細書においては、P動作を行なうコントローラをPコ
ントローラ、PI動作を行なうコントーラをPIコント
ローラという。
器の基本制御動作の内、出力信号が動作信号(偏差)に
比例するもの、即ち偏差に比例して制御対象を操作する
ものをいい、フィードバック制御の基本となる制御動作
をいう。この制御動作を行なうコントローラの伝達関数
G(s)は比例ゲインをKP とすると、G(s)=KP
で表わされる。また、PI動作とは、いわゆる調節器の
基本制御動作の内、出力信号が、上記の偏差に比例した
制御出力と偏差の時間積分値に比例した制御出力との合
成値となる制御動作をいい、この制御動作を行なうコン
トローラの伝達関数はG(s)=KP (1+1/TI /
s)で表わされる。但し、TI は積分時間である。この
PI動作は、P動作のみでは定常偏差が残るという問題
を改善すべく、採用されるものである。即ち、偏差の積
分値を加えた制御出力によって制御すれば(PI動
作)、僅かな偏差でも時間経過に伴い大きいフィードバ
ック出力を生ずるため、定常偏差の問題は解決する。本
明細書においては、P動作を行なうコントローラをPコ
ントローラ、PI動作を行なうコントーラをPIコント
ローラという。
【0009】従来のステージの3自由度の駆動制御装置
では、上記の如く、レーザ干渉計から取り込んだ情報を
重心の位置や速度に変換し、さらにモータ位置の位置や
速度に変換し、各モータ毎に設けられたPコントローラ
あるいはPIコントローラ等で、位置制御や速度制御を
行うことにより、3自由度間を干渉なく制御していた。
では、上記の如く、レーザ干渉計から取り込んだ情報を
重心の位置や速度に変換し、さらにモータ位置の位置や
速度に変換し、各モータ毎に設けられたPコントローラ
あるいはPIコントローラ等で、位置制御や速度制御を
行うことにより、3自由度間を干渉なく制御していた。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】露光装置等、特にいわ
ゆるステッパ等の一括露光方式の露光装置では、スルー
プットの向上が非常に重要な課題であり、そのために
は、ステージの移動速度を含む位置決め速度の向上が必
須となる。
ゆるステッパ等の一括露光方式の露光装置では、スルー
プットの向上が非常に重要な課題であり、そのために
は、ステージの移動速度を含む位置決め速度の向上が必
須となる。
【0011】しかし、上記の如くボールねじによりステ
ージを駆動する場合、ボールねじの剛性がステージの位
置決めを制限する要因となることがあるのでより高剛性
のステージが要求される。この要求に応えるべく、例え
ば、図2に示されるように、、ステージ(10)を4つ
のモータ(12、14、16、18)で3自由度方向に
駆動することが考えられている。
ージを駆動する場合、ボールねじの剛性がステージの位
置決めを制限する要因となることがあるのでより高剛性
のステージが要求される。この要求に応えるべく、例え
ば、図2に示されるように、、ステージ(10)を4つ
のモータ(12、14、16、18)で3自由度方向に
駆動することが考えられている。
【0012】しかしながら、図2に示される装置の構成
では、ステージの自由度よりモータの数が多く、従来の
ように、各モータ毎にコントローラを配置した制御系で
は、以下のような不都合が生じるおそれがある。
では、ステージの自由度よりモータの数が多く、従来の
ように、各モータ毎にコントローラを配置した制御系で
は、以下のような不都合が生じるおそれがある。
【0013】即ち、干渉計、ボールねじ、モータ等各部
の機械的取付け誤差に起因する重心位置計算ブロック、
モータ位置への変換ブロック、モータ速度への変換ブロ
ックにおける変換(非干渉化計算)の誤差、コントロー
ラの制御誤差、モータの推力誤差、各駆動部の動きムラ
等の誤差があると、コントローラ間の干渉が発生し、こ
のため、調整が困難となり、制御応答が低下し、更には
ロバスト性の悪化等の問題が生じる。一方、上記の各種
誤差を完全に防止することはほぼ不可能である。
の機械的取付け誤差に起因する重心位置計算ブロック、
モータ位置への変換ブロック、モータ速度への変換ブロ
ックにおける変換(非干渉化計算)の誤差、コントロー
ラの制御誤差、モータの推力誤差、各駆動部の動きムラ
等の誤差があると、コントローラ間の干渉が発生し、こ
のため、調整が困難となり、制御応答が低下し、更には
ロバスト性の悪化等の問題が生じる。一方、上記の各種
誤差を完全に防止することはほぼ不可能である。
【0014】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的は、ステージを自由度より多い数の駆動手
段により駆動する場合に制御手段(コントローラ)相互
間の干渉を効果的に防止することができるステージ駆動
制御装置を提供することにある。
で、その目的は、ステージを自由度より多い数の駆動手
段により駆動する場合に制御手段(コントローラ)相互
間の干渉を効果的に防止することができるステージ駆動
制御装置を提供することにある。
【0015】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、少なくとも1自由度を持ち当該自由度より多い数の
駆動手段で駆動されるステージを駆動制御するステージ
駆動制御装置であって、前記ステージの位置を検出する
位置検出手段と;前記位置検出手段で検出した情報を前
記ステージの重心の自由度毎の位置及び速度の少なくと
もいずれか一方の情報に変換する第1の変換手段と;重
心の自由度毎の目標位置と前記第1の変換手段で変換さ
れた重心の自由度毎の位置との差である自由度毎の位置
偏差と、重心の自由度毎の目標速度と前記第1の変換手
段で変換された重心の自由度毎の速度との差である自由
度毎の速度偏差の少なくとも一方に基づいて重心の運動
に必要な自由度毎の制御量を比例動作又は(比例+積
分)動作により求める自由度毎の制御手段と;前記全て
の自由度毎の制御手段の出力を入力し、前記各駆動手段
毎に発生すべき制御量に変換し、変換後の制御量を前記
各駆動手段に指令値として与える第2の変換手段とを有
する。
は、少なくとも1自由度を持ち当該自由度より多い数の
駆動手段で駆動されるステージを駆動制御するステージ
駆動制御装置であって、前記ステージの位置を検出する
位置検出手段と;前記位置検出手段で検出した情報を前
記ステージの重心の自由度毎の位置及び速度の少なくと
もいずれか一方の情報に変換する第1の変換手段と;重
心の自由度毎の目標位置と前記第1の変換手段で変換さ
れた重心の自由度毎の位置との差である自由度毎の位置
偏差と、重心の自由度毎の目標速度と前記第1の変換手
段で変換された重心の自由度毎の速度との差である自由
度毎の速度偏差の少なくとも一方に基づいて重心の運動
に必要な自由度毎の制御量を比例動作又は(比例+積
分)動作により求める自由度毎の制御手段と;前記全て
の自由度毎の制御手段の出力を入力し、前記各駆動手段
毎に発生すべき制御量に変換し、変換後の制御量を前記
各駆動手段に指令値として与える第2の変換手段とを有
する。
【0016】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
のステージ駆動制御装置において、前記自由度毎の制御
手段は、前記重心の自由度毎の位置偏差の速度変換値と
前記第1の変換手段で変換された重心の自由度毎の速度
との差に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量
を(比例+積分)動作により求めることを特徴とする。
のステージ駆動制御装置において、前記自由度毎の制御
手段は、前記重心の自由度毎の位置偏差の速度変換値と
前記第1の変換手段で変換された重心の自由度毎の速度
との差に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量
を(比例+積分)動作により求めることを特徴とする。
【0017】請求項3に記載の発明は、請求項1又は2
に記載のステージ駆動制御装置は、前記第1の変換手段
が、遅れ時間の補償系を有することを特徴とする。
に記載のステージ駆動制御装置は、前記第1の変換手段
が、遅れ時間の補償系を有することを特徴とする。
【0018】
【作用】請求項1記載の発明によれば、ステージの位置
が位置検出手段により検出されると、第1の変換手段で
は位置検出手段で検出した情報をステージの重心の自由
度毎の位置及び速度の少なくともいずれか一方の情報に
変換する。ここで、ステージの重心の自由度毎の位置及
び速度の少なくともいずれか一方の情報に変換すると
は、第1の変換手段が、位置検出手段で検出した情報を
ステージの重心の自由度毎の位置の情報に変換する場
合、位置検出手段で検出した情報をステージの重心の自
由度毎の速度の情報に変換する場合、あるいは位置検出
手段で検出した情報をステージの重心の自由度毎の位置
の情報及びステージの重心の自由度毎の速度の情報に変
換する場合のいずれかの場合である。
が位置検出手段により検出されると、第1の変換手段で
は位置検出手段で検出した情報をステージの重心の自由
度毎の位置及び速度の少なくともいずれか一方の情報に
変換する。ここで、ステージの重心の自由度毎の位置及
び速度の少なくともいずれか一方の情報に変換すると
は、第1の変換手段が、位置検出手段で検出した情報を
ステージの重心の自由度毎の位置の情報に変換する場
合、位置検出手段で検出した情報をステージの重心の自
由度毎の速度の情報に変換する場合、あるいは位置検出
手段で検出した情報をステージの重心の自由度毎の位置
の情報及びステージの重心の自由度毎の速度の情報に変
換する場合のいずれかの場合である。
【0019】第1の変換手段により位置検出手段で検出
した情報がステージの重心の自由度毎の位置の情報に変
換された場合は、自由度毎の制御手段では重心の自由度
毎の目標位置と第1の変換手段で変換された重心の自由
度毎の位置との差である自由度毎の位置偏差に基づいて
重心の運動に必要な自由度毎の制御量を比例動作又は
(比例+積分)動作により求める。また、第1の変換手
段により位置検出手段で検出した情報がステージの重心
の自由度毎の速度の情報に変換された場合には、自由度
毎の制御手段では重心の自由度毎の目標速度と第1の変
換手段で変換された重心の自由度毎の速度との差である
自由度毎の速度偏差に基づいて重心の運動に必要な自由
度毎の制御量をP(比例)動作又はPI(比例+積分)
動作により求める。また、第1の変換手段により位置検
出手段で検出した情報がステージの重心の自由度毎の位
置の情報及びステージの重心の自由度毎の速度の情報に
変換された場合には、自由度毎の制御手段では重心の自
由度毎の位置偏差及び速度偏差の両方又はいずれか一方
に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量をP動
作又はPI動作により求める。
した情報がステージの重心の自由度毎の位置の情報に変
換された場合は、自由度毎の制御手段では重心の自由度
毎の目標位置と第1の変換手段で変換された重心の自由
度毎の位置との差である自由度毎の位置偏差に基づいて
重心の運動に必要な自由度毎の制御量を比例動作又は
(比例+積分)動作により求める。また、第1の変換手
段により位置検出手段で検出した情報がステージの重心
の自由度毎の速度の情報に変換された場合には、自由度
毎の制御手段では重心の自由度毎の目標速度と第1の変
換手段で変換された重心の自由度毎の速度との差である
自由度毎の速度偏差に基づいて重心の運動に必要な自由
度毎の制御量をP(比例)動作又はPI(比例+積分)
動作により求める。また、第1の変換手段により位置検
出手段で検出した情報がステージの重心の自由度毎の位
置の情報及びステージの重心の自由度毎の速度の情報に
変換された場合には、自由度毎の制御手段では重心の自
由度毎の位置偏差及び速度偏差の両方又はいずれか一方
に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量をP動
作又はPI動作により求める。
【0020】そして、第2の変換手段では前記全ての自
由度毎の制御手段の出力を入力し、各駆動手段毎に発生
すべき制御量に変換し、変換後の制御量を各駆動手段に
指令値として与える。これにより、各駆動手段がそれぞ
れの指令値に応じて駆動される。
由度毎の制御手段の出力を入力し、各駆動手段毎に発生
すべき制御量に変換し、変換後の制御量を各駆動手段に
指令値として与える。これにより、各駆動手段がそれぞ
れの指令値に応じて駆動される。
【0021】請求項2に記載の発明によれば、自由度毎
の制御手段が、重心の自由度毎の位置偏差の速度変換値
と第1の変換手段で変換された重心の自由度毎の速度と
の差に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量を
PI動作により求めるようになっているので、位置の制
御ループの内部ループとして1型の速度制御ループを構
成することができる。即ち、当該速度制御ループにより
定常特性を補償した状態で、その外側に位置ループを構
成することができる。
の制御手段が、重心の自由度毎の位置偏差の速度変換値
と第1の変換手段で変換された重心の自由度毎の速度と
の差に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量を
PI動作により求めるようになっているので、位置の制
御ループの内部ループとして1型の速度制御ループを構
成することができる。即ち、当該速度制御ループにより
定常特性を補償した状態で、その外側に位置ループを構
成することができる。
【0022】請求項3に記載の発明によれば、第1の変
換手段が、遅れ時間の補償系を有することから、例えば
ディジタル制御系を中心に装置を構成した場合、重心位
置への変換を行なう非干渉化計算等に時間を要し、時間
遅れが生じても、時間遅れを補償して制御応答の向上を
計ることができる。
換手段が、遅れ時間の補償系を有することから、例えば
ディジタル制御系を中心に装置を構成した場合、重心位
置への変換を行なう非干渉化計算等に時間を要し、時間
遅れが生じても、時間遅れを補償して制御応答の向上を
計ることができる。
【0023】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1ないし図2に
基づいて説明する。
基づいて説明する。
【0024】図2には、一実施例に係るステージ10の
駆動系が示されている。このステージ10は、同図にお
けるX、Y2次元方向の移動と、Z軸回りの回転が可能
に構成されている。即ち、このステージ10は、X、
Y、θの3自由度を持っている。
駆動系が示されている。このステージ10は、同図にお
けるX、Y2次元方向の移動と、Z軸回りの回転が可能
に構成されている。即ち、このステージ10は、X、
Y、θの3自由度を持っている。
【0025】このステージ10のX軸方向の一端面と他
端面には、Y軸方向に沿ってステージ10をそれぞれ駆
動する駆動手段としての第1リニアモータ12と第2リ
ニアモータ14とが、ステージ10の重心を通るX軸上
からY方向の一側と他側にそれぞれ所定量だけ変位した
位置に設けられている。また、このステージ10のY方
向の一端面と他端面には、X軸方向に沿ってステージ1
0をそれぞれ駆動する駆動手段としての第3リニアモー
タ16と第4リニアモータ18とが、ステージ10の重
心を通るY軸上からX方向の一側と他側にそれぞれ所定
量だけ変位した位置に設けられている。
端面には、Y軸方向に沿ってステージ10をそれぞれ駆
動する駆動手段としての第1リニアモータ12と第2リ
ニアモータ14とが、ステージ10の重心を通るX軸上
からY方向の一側と他側にそれぞれ所定量だけ変位した
位置に設けられている。また、このステージ10のY方
向の一端面と他端面には、X軸方向に沿ってステージ1
0をそれぞれ駆動する駆動手段としての第3リニアモー
タ16と第4リニアモータ18とが、ステージ10の重
心を通るY軸上からX方向の一側と他側にそれぞれ所定
量だけ変位した位置に設けられている。
【0026】従って、このステージ10は、第3リニア
モータ16、第4リニアモータ18の推力が零でかつ第
1リニアモータ12、第2リニアモータ14の推力が等
しいとき、Y軸方向に駆動され、反対に第1リニアモー
タ12、第2リニアモータ14の推力が零でかつ第3リ
ニアモータ16、第4リニアモータ18の推力が等しい
とき、X軸方向に駆動されるようになっている。また、
このステージ10は、第1ないし第4リニアモータ10
〜18の推力の重心回りのモーメントの総和が零以外の
時、そのモーメントの総和に応じてθ方向に駆動される
(重心を通るZ軸回りに回転駆動される)ようになって
いる。このステージ10のY方向、θ方向の位置は位置
検出手段としてのYl レーザ干渉計20、Yr レーザ干
渉計22によって検出され、X方向の位置は位置検出手
段としてのXレーザ干渉計24によって検出される。
モータ16、第4リニアモータ18の推力が零でかつ第
1リニアモータ12、第2リニアモータ14の推力が等
しいとき、Y軸方向に駆動され、反対に第1リニアモー
タ12、第2リニアモータ14の推力が零でかつ第3リ
ニアモータ16、第4リニアモータ18の推力が等しい
とき、X軸方向に駆動されるようになっている。また、
このステージ10は、第1ないし第4リニアモータ10
〜18の推力の重心回りのモーメントの総和が零以外の
時、そのモーメントの総和に応じてθ方向に駆動される
(重心を通るZ軸回りに回転駆動される)ようになって
いる。このステージ10のY方向、θ方向の位置は位置
検出手段としてのYl レーザ干渉計20、Yr レーザ干
渉計22によって検出され、X方向の位置は位置検出手
段としてのXレーザ干渉計24によって検出される。
【0027】図1には、ステージ10の移動位置を制御
するステージ駆動制御装置50の構成が示されている。
このステージ駆動制御装置50は、3つのレーザ干渉計
20、22、24と、これらのレーザ干渉計20、2
2、24で検出した位置情報をステージ10の重心の自
由度毎の位置情報及び速度情報に変換する第1の変換手
段26と、重心の自由度毎の目標位置の指令を行なう3
つの位置指令部28、30、32と、重心の自由度毎の
目標位置と第1の変換手段26で変換された重心の自由
度毎の位置との差である自由度毎の位置偏差を演算する
3つの演算回路34、36、38と、これらの演算回路
34、36、38で演算された自由度毎の位置偏差を当
該位置偏差の速度変換値に変換する3つの位置−速度変
換ゲイン40、42、44と、重心の自由度毎の位置偏
差の速度変換値と第1の変換手段26で変換された重心
の自由度毎の速度との差を演算する3つの演算回路4
6、48、52と、これらの演算回路46、48、52
の出力に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量
求める自由度毎の制御手段としての3つのPIコントロ
ーラ54、56、58と、これら3つのPIコントロー
ラ54、56、58の出力を入力して4つのリニアモー
タ12、14、16、18がそれぞれ発生すべき制御量
に変換し、変換後の制御量を各リニアモータ12、1
4、16、18に指令値として与える第2の変換手段6
0と、を有する。
するステージ駆動制御装置50の構成が示されている。
このステージ駆動制御装置50は、3つのレーザ干渉計
20、22、24と、これらのレーザ干渉計20、2
2、24で検出した位置情報をステージ10の重心の自
由度毎の位置情報及び速度情報に変換する第1の変換手
段26と、重心の自由度毎の目標位置の指令を行なう3
つの位置指令部28、30、32と、重心の自由度毎の
目標位置と第1の変換手段26で変換された重心の自由
度毎の位置との差である自由度毎の位置偏差を演算する
3つの演算回路34、36、38と、これらの演算回路
34、36、38で演算された自由度毎の位置偏差を当
該位置偏差の速度変換値に変換する3つの位置−速度変
換ゲイン40、42、44と、重心の自由度毎の位置偏
差の速度変換値と第1の変換手段26で変換された重心
の自由度毎の速度との差を演算する3つの演算回路4
6、48、52と、これらの演算回路46、48、52
の出力に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御量
求める自由度毎の制御手段としての3つのPIコントロ
ーラ54、56、58と、これら3つのPIコントロー
ラ54、56、58の出力を入力して4つのリニアモー
タ12、14、16、18がそれぞれ発生すべき制御量
に変換し、変換後の制御量を各リニアモータ12、1
4、16、18に指令値として与える第2の変換手段6
0と、を有する。
【0028】第1の変換手段26は、Yl レーザ干渉計
20、Yr レーザ干渉計22によってそれぞれ検出され
た位置情報を同時に入力し、ステージ重心位置でのθ方
向の位置(回転量)に変換する重心θ位置への変換ブロ
ック62と、Yl レーザ干渉計20、Yr レーザ干渉計
22によってそれぞれ検出された位置情報を同時に入力
し、ステージ重心のY方向の位置へ変換する重心Y位置
への変換ブロック64と、Xレーザ干渉計24により検
出された位置情報と変換ブロック62により変換された
ステージ重心位置でのθ方向の位置情報とを入力し、ス
テージ重心のX方向の位置へ変換する重心X位置への変
換ブロック66と、これら3つの変換ブロック62、6
4、66から出力される重心のθ方向の位置情報、Y方
向の位置情報、X方向の位置情報をそれぞれ微分して速
度情報に変換する微分回路68、70、72とを有して
いる。
20、Yr レーザ干渉計22によってそれぞれ検出され
た位置情報を同時に入力し、ステージ重心位置でのθ方
向の位置(回転量)に変換する重心θ位置への変換ブロ
ック62と、Yl レーザ干渉計20、Yr レーザ干渉計
22によってそれぞれ検出された位置情報を同時に入力
し、ステージ重心のY方向の位置へ変換する重心Y位置
への変換ブロック64と、Xレーザ干渉計24により検
出された位置情報と変換ブロック62により変換された
ステージ重心位置でのθ方向の位置情報とを入力し、ス
テージ重心のX方向の位置へ変換する重心X位置への変
換ブロック66と、これら3つの変換ブロック62、6
4、66から出力される重心のθ方向の位置情報、Y方
向の位置情報、X方向の位置情報をそれぞれ微分して速
度情報に変換する微分回路68、70、72とを有して
いる。
【0029】第2の変換手段60は、θPIコントロー
ラ54、YPIコントローラ56、XPIコントローラ
58で演算された制御量を同時に入力し、第1リニアモ
ータ12、第2リニアモータ14、第3リニアモータ1
6、第4リニアモータ18がそれぞれ発生すべき制御量
に変換し、変換後の制御量をリニアモータ12、14、
16、18にそれぞれ指令値として与える第1のモータ
指令への変換ブロック74、第2のモータ指令への変換
ブロック76、第3のモータ指令への変換ブロック78
及び第4のモータ指令への変換ブロック79を有してい
る。
ラ54、YPIコントローラ56、XPIコントローラ
58で演算された制御量を同時に入力し、第1リニアモ
ータ12、第2リニアモータ14、第3リニアモータ1
6、第4リニアモータ18がそれぞれ発生すべき制御量
に変換し、変換後の制御量をリニアモータ12、14、
16、18にそれぞれ指令値として与える第1のモータ
指令への変換ブロック74、第2のモータ指令への変換
ブロック76、第3のモータ指令への変換ブロック78
及び第4のモータ指令への変換ブロック79を有してい
る。
【0030】次に、上述のようにして構成されたステー
ジ駆動制御装置50の作用を説明する。
ジ駆動制御装置50の作用を説明する。
【0031】重心θ位置への変換ブロック62ではYl
レーザ干渉計20、Yr レーザ干渉計22からの位置情
報を非干渉化計算により重心のθ方向の位置情報に変換
して出力し、同様に重心Y位置への変換ブロック64で
はYl レーザ干渉計20、Yr レーザ干渉計22からの
位置情報を非干渉化計算により重心のY方向の位置情報
に変換して出力する。また、重心X位置への変換ブロッ
ク66では、Xレーザ干渉計24からの位置情報と変換
ブロック62からの重心のθ方向の位置情報とを入力
し、非干渉化計算により重心のX方向の位置情報に変換
して出力する。
レーザ干渉計20、Yr レーザ干渉計22からの位置情
報を非干渉化計算により重心のθ方向の位置情報に変換
して出力し、同様に重心Y位置への変換ブロック64で
はYl レーザ干渉計20、Yr レーザ干渉計22からの
位置情報を非干渉化計算により重心のY方向の位置情報
に変換して出力する。また、重心X位置への変換ブロッ
ク66では、Xレーザ干渉計24からの位置情報と変換
ブロック62からの重心のθ方向の位置情報とを入力
し、非干渉化計算により重心のX方向の位置情報に変換
して出力する。
【0032】前記3つの重心位置への変換ブロック6
2、64、66から出力された重心の位置情報は、それ
ぞれ主フィードバック信号となって演算回路34、3
6、38に入力する。演算回路34ではθ位置指令部2
8からの重心のθ方向の目標位置と変換ブロック62か
らの重心のθ方向の位置との差である重心のθ方向の位
置偏差を演算する。同様に、演算回路36ではY位置指
令部30からの重心のY方向の目標位置と変換ブロック
64からの重心のY方向の位置との差である重心のY方
向の位置偏差を演算する。また、同様に、演算回路38
ではX位置指令部32からの重心のX方向の目標位置と
変換ブロック66からの重心のX方向の位置との差であ
る重心のX方向の位置偏差を演算する。演算回路34、
36、38でそれぞれ演算された重心のθ、Y、X方向
の位置偏差が、位置ゲイン40、42、44でそれぞれ
θ、Y、X方向の速度の目標値に変換される。
2、64、66から出力された重心の位置情報は、それ
ぞれ主フィードバック信号となって演算回路34、3
6、38に入力する。演算回路34ではθ位置指令部2
8からの重心のθ方向の目標位置と変換ブロック62か
らの重心のθ方向の位置との差である重心のθ方向の位
置偏差を演算する。同様に、演算回路36ではY位置指
令部30からの重心のY方向の目標位置と変換ブロック
64からの重心のY方向の位置との差である重心のY方
向の位置偏差を演算する。また、同様に、演算回路38
ではX位置指令部32からの重心のX方向の目標位置と
変換ブロック66からの重心のX方向の位置との差であ
る重心のX方向の位置偏差を演算する。演算回路34、
36、38でそれぞれ演算された重心のθ、Y、X方向
の位置偏差が、位置ゲイン40、42、44でそれぞれ
θ、Y、X方向の速度の目標値に変換される。
【0033】また、変換ブロック62、64、66から
出力された重心のθ方向の位置情報、Y方向の位置情
報、X方向の位置情報は、微分回路68、70、72で
それぞれ重心のθ方向の速度情報、Y方向の速度情報、
X方向の速度情報に変換され、これらの速度情報が内部
フィードバック信号として演算回路46、48、52に
入力される。演算回路46では、θ方向の速度の目標値
と微分回路68からの重心のθ方向の速度情報との差を
演算し、この差を動作信号としてθPIコントローラ5
4に与える。同様に、演算回路48では、Y方向の速度
の目標値と微分回路70からの重心のY方向の速度情報
との差を演算し、この差を動作信号としてYPIコント
ローラ56に与える。また、同様に、演算回路52で
は、X方向の速度の目標値と微分回路72からの重心の
X方向の速度情報との差を演算し、この差を動作信号と
してXPIコントローラ58に与える。
出力された重心のθ方向の位置情報、Y方向の位置情
報、X方向の位置情報は、微分回路68、70、72で
それぞれ重心のθ方向の速度情報、Y方向の速度情報、
X方向の速度情報に変換され、これらの速度情報が内部
フィードバック信号として演算回路46、48、52に
入力される。演算回路46では、θ方向の速度の目標値
と微分回路68からの重心のθ方向の速度情報との差を
演算し、この差を動作信号としてθPIコントローラ5
4に与える。同様に、演算回路48では、Y方向の速度
の目標値と微分回路70からの重心のY方向の速度情報
との差を演算し、この差を動作信号としてYPIコント
ローラ56に与える。また、同様に、演算回路52で
は、X方向の速度の目標値と微分回路72からの重心の
X方向の速度情報との差を演算し、この差を動作信号と
してXPIコントローラ58に与える。
【0034】θPIコントローラ54では前記動作信号
に基づいてPI動作により重心の運動に必要なθ方向の
制御量を求めて第2の変換手段60を構成する4つの変
換ブロック74、76、78、79に出力する。同様
に、YPIコントローラ56では前記動作信号に基づい
てPI動作により重心の運動に必要なY方向の制御量を
求めて第2の変換手段60を構成する4つの変換ブロッ
ク74、76、78、79に出力する。また、同様に、
XPIコントローラ58では前記動作信号に基づいてP
I動作により重心の運動に必要なX方向の制御量を求め
て第2の変換手段60を構成する4つの変換ブロック7
4、76、78、79に出力する。
に基づいてPI動作により重心の運動に必要なθ方向の
制御量を求めて第2の変換手段60を構成する4つの変
換ブロック74、76、78、79に出力する。同様
に、YPIコントローラ56では前記動作信号に基づい
てPI動作により重心の運動に必要なY方向の制御量を
求めて第2の変換手段60を構成する4つの変換ブロッ
ク74、76、78、79に出力する。また、同様に、
XPIコントローラ58では前記動作信号に基づいてP
I動作により重心の運動に必要なX方向の制御量を求め
て第2の変換手段60を構成する4つの変換ブロック7
4、76、78、79に出力する。
【0035】第1のモータ指令への変換ブロック74
は、3つのPIコントローラ54、56、58からのそ
れぞれの方向の制御量を入力して非干渉化計算により第
1リニアモータ12で発生すべき制御量に変換し、この
変換後の制御量を指令値として第1リニアモータ12に
与える。同様に、第2のモータ指令への変換ブロック7
6は、3つのPIコントローラ54、56、58からの
それぞれの方向の制御量を入力して非干渉化計算により
第2リニアモータ14で発生すべき制御量に変換し、こ
の変換後の制御量を指令値として第2リニアモータ14
に与える。第3のモータ指令への変換ブロック78は、
3つのPIコントローラ54、56、58からのそれぞ
れの方向の制御量を入力して非干渉化計算により第3リ
ニアモータ16で発生すべき制御量に変換し、この変換
後の制御量を指令値として第3リニアモータ16に与え
る。第4のモータ指令への変換ブロック79は、3つの
PIコントローラ54、56、58からのそれぞれの方
向の制御量を入力して非干渉化計算により第4リニアモ
ータ18で発生すべき制御量に変換し、この変換後の制
御量を指令値として第4リニアモータ18に与える。
は、3つのPIコントローラ54、56、58からのそ
れぞれの方向の制御量を入力して非干渉化計算により第
1リニアモータ12で発生すべき制御量に変換し、この
変換後の制御量を指令値として第1リニアモータ12に
与える。同様に、第2のモータ指令への変換ブロック7
6は、3つのPIコントローラ54、56、58からの
それぞれの方向の制御量を入力して非干渉化計算により
第2リニアモータ14で発生すべき制御量に変換し、こ
の変換後の制御量を指令値として第2リニアモータ14
に与える。第3のモータ指令への変換ブロック78は、
3つのPIコントローラ54、56、58からのそれぞ
れの方向の制御量を入力して非干渉化計算により第3リ
ニアモータ16で発生すべき制御量に変換し、この変換
後の制御量を指令値として第3リニアモータ16に与え
る。第4のモータ指令への変換ブロック79は、3つの
PIコントローラ54、56、58からのそれぞれの方
向の制御量を入力して非干渉化計算により第4リニアモ
ータ18で発生すべき制御量に変換し、この変換後の制
御量を指令値として第4リニアモータ18に与える。
【0036】これにより、第1、第2、第3、第4リニ
アモータ12〜18がそれぞれの指令値に応じて駆動さ
れ、このようにして第1、第2、第3、第4リニアモー
タ12〜18のフィードバック制御が行なわれ、ステー
ジ10が目標位置(θ、X、Y)に位置決めされる。
アモータ12〜18がそれぞれの指令値に応じて駆動さ
れ、このようにして第1、第2、第3、第4リニアモー
タ12〜18のフィードバック制御が行なわれ、ステー
ジ10が目標位置(θ、X、Y)に位置決めされる。
【0037】以上説明したように、本実施例によると、
従来と異なり、自由度毎にPIコントローラを設けて自
由度毎の制御量を求めた後に、これら自由度毎の制御量
を各リニアモータ12〜18で発生すべき制御量に変換
して指令値として各リニアモータ12〜18に与えてい
ることから、干渉計、モータ等の機械的取付け誤差によ
る第1の変換手段26、第2の変換手段60における非
干渉化計算の誤差、コントローラの制御誤差、リニアモ
ータの推力誤差、各駆動部の動きムラ等の誤差があって
も、PIコントローラ相互間の干渉が発生し難くなり、
これにより、調整の簡単化、制御応答の向上、ロバスト
性の向上及び自由度毎の最適調整の容易化等の種々の効
果を得ることができる。
従来と異なり、自由度毎にPIコントローラを設けて自
由度毎の制御量を求めた後に、これら自由度毎の制御量
を各リニアモータ12〜18で発生すべき制御量に変換
して指令値として各リニアモータ12〜18に与えてい
ることから、干渉計、モータ等の機械的取付け誤差によ
る第1の変換手段26、第2の変換手段60における非
干渉化計算の誤差、コントローラの制御誤差、リニアモ
ータの推力誤差、各駆動部の動きムラ等の誤差があって
も、PIコントローラ相互間の干渉が発生し難くなり、
これにより、調整の簡単化、制御応答の向上、ロバスト
性の向上及び自由度毎の最適調整の容易化等の種々の効
果を得ることができる。
【0038】なお、上記実施例では、位置のフィードバ
ックループの内側に速度の内部フィードバックループを
構成し、これに対応してレーザ干渉計で検出した位置情
報を第1の変換手段26で重心の位置情報及び速度情報
に変換する場合を例示したが、本発明がこれに限定され
るものではない。例えば、速度の内部フィードバックル
ープを設けない場合には、第1の変換手段26ではレー
ザ干渉計で検出した位置情報を重心の位置情報に変換す
ることのみで足りる。あるいは、ステージの速度を制御
することは、位置を制御することと実質上同じであるか
ら、目標値としてステージ重心の速度を用いてもよく、
かかる場合には、フィードバックループとしては速度の
フィードバックループのみを構成し、第1の変換手段2
6ではレーザ干渉計で検出した位置情報を重心の速度情
報にのみ変換するようにしても良い。
ックループの内側に速度の内部フィードバックループを
構成し、これに対応してレーザ干渉計で検出した位置情
報を第1の変換手段26で重心の位置情報及び速度情報
に変換する場合を例示したが、本発明がこれに限定され
るものではない。例えば、速度の内部フィードバックル
ープを設けない場合には、第1の変換手段26ではレー
ザ干渉計で検出した位置情報を重心の位置情報に変換す
ることのみで足りる。あるいは、ステージの速度を制御
することは、位置を制御することと実質上同じであるか
ら、目標値としてステージ重心の速度を用いてもよく、
かかる場合には、フィードバックループとしては速度の
フィードバックループのみを構成し、第1の変換手段2
6ではレーザ干渉計で検出した位置情報を重心の速度情
報にのみ変換するようにしても良い。
【0039】また、位置検出手段も上記実施例で例示し
たレーザ干渉計に限られるものではなく、これに代えて
例えばエンコーダ等を位置検出手段として用いることは
可能である。
たレーザ干渉計に限られるものではなく、これに代えて
例えばエンコーダ等を位置検出手段として用いることは
可能である。
【0040】更に、上記実施例では、駆動手段としてリ
ニアモータを用いる場合を例示したが、これは従来のロ
ータリモータとボールねじとの組み合わせに比べて剛性
の面で有利であることから、このようにしたものであ
り、本発明がこれに限定されるものでないことは勿論で
ある。従って、ロータリモータとボールねじとの組み合
わせや、ピエゾ素子等の推力発生手段を駆動手段として
使用しても良い。
ニアモータを用いる場合を例示したが、これは従来のロ
ータリモータとボールねじとの組み合わせに比べて剛性
の面で有利であることから、このようにしたものであ
り、本発明がこれに限定されるものでないことは勿論で
ある。従って、ロータリモータとボールねじとの組み合
わせや、ピエゾ素子等の推力発生手段を駆動手段として
使用しても良い。
【0041】また、上記実施例では、制御手段としてP
Iコントローラを自由度毎に設ける場合を例示したが、
比例ゲインを大きくするだけで、定常偏差を充分に小さ
くすることができ、しかも制御系の遅れに起因するハン
チングのおそれがないような場合であれば、制御手段と
してPコントローラを自由度毎に設けてもよい。
Iコントローラを自由度毎に設ける場合を例示したが、
比例ゲインを大きくするだけで、定常偏差を充分に小さ
くすることができ、しかも制御系の遅れに起因するハン
チングのおそれがないような場合であれば、制御手段と
してPコントローラを自由度毎に設けてもよい。
【0042】なお、上記のステージ駆動制御装置は、ア
ナログ制御系でもディジタル制御系でも実現はできる
が、ディジタル制御系の場合は、何等かのCPU計算に
よる遅れ補償を行なうことが望ましい。
ナログ制御系でもディジタル制御系でも実現はできる
が、ディジタル制御系の場合は、何等かのCPU計算に
よる遅れ補償を行なうことが望ましい。
【0043】図3には、この遅れ時間の補償系の一例が
示されている。この遅れ時間の補償系200は、実際に
は、第1の変換手段26を構成する変換ブロック62、
64、66の出口に配置されるもので、微分回路20
2、遅れ時間ゲイン204、演算回路(加え合わせ点)
206とを有する。これによれば、入力された重心の位
置情報が微分回路202により速度情報に変換され、こ
の速度情報が遅れ時間ゲイン204を通過することによ
り、当該遅れ時間におけるステージの移動距離の情報に
変換され、ステージの移動距離の情報と入力された重心
位置情報が演算回路206で加算される。即ち、この遅
れ時間の補償系200によれば、重心位置への変換を行
なう非干渉化計算等に時間を要し、時間遅れが生じて
も、この遅れ時間にステージが進むであろう距離を加え
た位置を重心の位置として算出するので、結果的に時間
遅れが補償され、制御応答の向上を計ることができる。
示されている。この遅れ時間の補償系200は、実際に
は、第1の変換手段26を構成する変換ブロック62、
64、66の出口に配置されるもので、微分回路20
2、遅れ時間ゲイン204、演算回路(加え合わせ点)
206とを有する。これによれば、入力された重心の位
置情報が微分回路202により速度情報に変換され、こ
の速度情報が遅れ時間ゲイン204を通過することによ
り、当該遅れ時間におけるステージの移動距離の情報に
変換され、ステージの移動距離の情報と入力された重心
位置情報が演算回路206で加算される。即ち、この遅
れ時間の補償系200によれば、重心位置への変換を行
なう非干渉化計算等に時間を要し、時間遅れが生じて
も、この遅れ時間にステージが進むであろう距離を加え
た位置を重心の位置として算出するので、結果的に時間
遅れが補償され、制御応答の向上を計ることができる。
【0044】なお、上記実施例では、重心の位置にコン
トローラがあるものとする場合について説明したが、本
発明の応用として、非干渉化計算の係数を操作すること
で、重心の他の任意の位置にコントローラを設置するこ
とが可能である。
トローラがあるものとする場合について説明したが、本
発明の応用として、非干渉化計算の係数を操作すること
で、重心の他の任意の位置にコントローラを設置するこ
とが可能である。
【0045】例えば、ウエハ露光装置におけるレチクル
微動ステージでは当該レチクル微動ステージの重心では
なく、レチクル中心の位置が重要であり、かかる場合に
は、レチクル中心をレチクル微動ステージの重心に座標
変換し、重心位置においたコントローラで制御する方法
の他、干渉計で位置を読み込んだ後、重心があたかもレ
チクル中心にあるように考えて各モータの制御量を計算
するところまでCPUにより計算処理する方法が考えら
れ、後者のような場合には、重心の他の任意の位置にコ
ントローラを設置することが可能となる。
微動ステージでは当該レチクル微動ステージの重心では
なく、レチクル中心の位置が重要であり、かかる場合に
は、レチクル中心をレチクル微動ステージの重心に座標
変換し、重心位置においたコントローラで制御する方法
の他、干渉計で位置を読み込んだ後、重心があたかもレ
チクル中心にあるように考えて各モータの制御量を計算
するところまでCPUにより計算処理する方法が考えら
れ、後者のような場合には、重心の他の任意の位置にコ
ントローラを設置することが可能となる。
【0046】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
自由度毎にP動作あるいはPI動作を行なう制御手段に
より、重心の運動に必要な自由度毎の制御量が求められ
るので、干渉計等の位置検出手段やモータ等の駆動手段
の機械的取付け誤差に起因する位置の読取りからモータ
制御量の演算までの間の非干渉化計算の誤差、制御手段
の制御誤差、駆動手段の推力誤差、各駆動部の動きムラ
等の誤差があっても、制御手段相互間の干渉が発生しに
くいという従来にない優れた効果がある。
自由度毎にP動作あるいはPI動作を行なう制御手段に
より、重心の運動に必要な自由度毎の制御量が求められ
るので、干渉計等の位置検出手段やモータ等の駆動手段
の機械的取付け誤差に起因する位置の読取りからモータ
制御量の演算までの間の非干渉化計算の誤差、制御手段
の制御誤差、駆動手段の推力誤差、各駆動部の動きムラ
等の誤差があっても、制御手段相互間の干渉が発生しに
くいという従来にない優れた効果がある。
【図1】一実施例に係るステージ駆動制御装置の構成を
示すブロック図である。
示すブロック図である。
【図2】図1の装置により制御されるステージ駆動系の
構成を示す平面図である。
構成を示す平面図である。
【図3】時間遅れの補償系の一構成例を示す図である。
【図4】従来のステージ駆動系の構成を示す平面図であ
る。
る。
【図5】従来のステージ駆動制御装置の構成を示すブロ
ック図である。
ック図である。
10 ステージ 12 第1リニアモータ(駆動手段) 14 第2リニアモータ(駆動手段) 16 第3リニアモータ(駆動手段) 18 第4リニアモータ(駆動手段) 20 Yl レーザ干渉計(位置検出手段) 22 Yr レーザ干渉計(位置検出手段) 24 Xレーザ干渉計(位置検出手段) 50 ステージ駆動制御装置 26 第1の変換手段 54 θPIコントローラ(制御手段) 56 YPIコントローラ(制御手段) 58 XPIコントローラ(制御手段) 60 第2の変換手段 200 遅れ時間の補償系
Claims (3)
- 【請求項1】 少なくとも1自由度を持ち当該自由度よ
り多い数の駆動手段で駆動されるステージを駆動制御す
るステージ駆動制御装置であって、 前記ステージの位置を検出する位置検出手段と;前記位
置検出手段で検出した情報を前記ステージの重心の自由
度毎の位置及び速度の少なくともいずれか一方の情報に
変換する第1の変換手段と;重心の自由度毎の目標位置
と前記第1の変換手段で変換された重心の自由度毎の位
置との差である自由度毎の位置偏差と、重心の自由度毎
の目標速度と前記第1の変換手段で変換された重心の自
由度毎の速度との差である自由度毎の速度偏差の少なく
とも一方に基づいて重心の運動に必要な自由度毎の制御
量を比例動作又は(比例+積分)動作により求める自由
度毎の制御手段と;前記全ての自由度毎の制御手段の出
力を入力し、前記各駆動手段毎に発生すべき制御量に変
換し、変換後の制御量を前記各駆動手段に指令値として
与える第2の変換手段とを有するステージ駆動制御装
置。 - 【請求項2】 前記自由度毎の制御手段は、前記重心の
自由度毎の位置偏差の速度変換値と前記第1の変換手段
で変換された重心の自由度毎の速度との差に基づいて重
心の運動に必要な自由度毎の制御量を(比例+積分)動
作により求めることを特徴とする請求項1に記載のステ
ージ駆動制御装置。 - 【請求項3】 前記第1の変換手段が、遅れ時間の補償
系を有することを特徴とする請求項1又は2に記載のス
テージ駆動制御装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7198183A JPH0927443A (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | ステージ駆動制御装置 |
| KR1019960027171A KR970008468A (ko) | 1995-07-11 | 1996-07-05 | 스테이지 구동 제어장치 |
| US08/934,728 US5883702A (en) | 1995-07-11 | 1997-09-22 | Stage driving exposure apparatus wherein the number of driving devices exceeds the degrees of freedom of the stage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7198183A JPH0927443A (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | ステージ駆動制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0927443A true JPH0927443A (ja) | 1997-01-28 |
Family
ID=16386866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7198183A Pending JPH0927443A (ja) | 1995-07-11 | 1995-07-11 | ステージ駆動制御装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5883702A (ja) |
| JP (1) | JPH0927443A (ja) |
| KR (1) | KR970008468A (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3907252B2 (ja) * | 1996-12-05 | 2007-04-18 | キヤノン株式会社 | 露光装置およびデバイス製造方法ならびにステージ装置および原点出し方法 |
| US6151100A (en) * | 1996-12-12 | 2000-11-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Positioning system |
| US6260282B1 (en) * | 1998-03-27 | 2001-07-17 | Nikon Corporation | Stage control with reduced synchronization error and settling time |
| JPH11354417A (ja) * | 1998-06-11 | 1999-12-24 | Canon Inc | 走査型露光装置およびこれを用いたデバイス製造方法ならびにステージ制御装置 |
| JP3796367B2 (ja) * | 1999-03-09 | 2006-07-12 | キヤノン株式会社 | ステージ制御方法、露光方法、露光装置およびデバイス製造方法 |
| KR100626280B1 (ko) * | 1999-12-31 | 2006-09-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 진공증착장비의 서스셉터 구동 장치 |
| US6405659B1 (en) | 2000-05-01 | 2002-06-18 | Nikon Corporation | Monolithic stage |
| JP3870066B2 (ja) * | 2000-12-27 | 2007-01-17 | サンエー技研株式会社 | 基板位置決め装置および露光装置 |
| GB2379735A (en) * | 2001-09-14 | 2003-03-19 | Qinetiq Ltd | Method and apparatus for controlling the growth of thin film during deposition process by measuring the rate of change of optical thickness of the thin-film |
| EP1335248A1 (en) | 2002-02-12 | 2003-08-13 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| NL2003993A (nl) * | 2009-01-22 | 2010-07-26 | Asml Netherlands Bv | Control system, lithographic apparatus and a method to control a position quantity of a control location of a movable object. |
| EP2336838A1 (en) | 2009-12-15 | 2011-06-22 | Robert Bosch GmbH | Method and control device for aligning a stage in an electro chemical pattern reproduction process |
| JP6253312B2 (ja) * | 2012-09-10 | 2017-12-27 | キヤノン株式会社 | 制御装置、制御装置を備えるアクチュエータ、画像振れ補正装置、交換用レンズ、撮像装置、及び自動ステージ |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2658051B2 (ja) * | 1987-05-15 | 1997-09-30 | 株式会社ニコン | 位置合わせ装置,該装置を用いた投影露光装置及び投影露光方法 |
| JP2535366B2 (ja) * | 1988-01-09 | 1996-09-18 | ファナック株式会社 | 産業用ロボットの動作能力確認方法と装置 |
| US4924257A (en) * | 1988-10-05 | 1990-05-08 | Kantilal Jain | Scan and repeat high resolution projection lithography system |
| US5202695A (en) * | 1990-09-27 | 1993-04-13 | Sperry Marine Inc. | Orientation stabilization by software simulated stabilized platform |
| US5227839A (en) * | 1991-06-24 | 1993-07-13 | Etec Systems, Inc. | Small field scanner |
| US5477304A (en) * | 1992-10-22 | 1995-12-19 | Nikon Corporation | Projection exposure apparatus |
| DE69315318D1 (de) * | 1992-12-07 | 1998-01-02 | Koninkl Philips Electronics Nv | Steuerungseinrichtung |
| JPH06332538A (ja) * | 1993-05-19 | 1994-12-02 | Fanuc Ltd | 柔軟なサーボ制御方法 |
| JP3184044B2 (ja) * | 1994-05-24 | 2001-07-09 | キヤノン株式会社 | 微動位置決め制御装置 |
-
1995
- 1995-07-11 JP JP7198183A patent/JPH0927443A/ja active Pending
-
1996
- 1996-07-05 KR KR1019960027171A patent/KR970008468A/ko not_active Withdrawn
-
1997
- 1997-09-22 US US08/934,728 patent/US5883702A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5883702A (en) | 1999-03-16 |
| KR970008468A (ko) | 1997-02-24 |
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