JPH09276773A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理液を除去するためのエアーナイフ等を配
設する必要がなく、しかも、処理液の表面張力が大きい
場合や基板の表面が疎水性である場合等においても、基
板の表面全域に処理液を供給することのできる基板処理
装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 薬液吐出部１２におけるスリット状の吐
出口３２から、搬送ローラ８によりその表面が傾斜した
状態で搬送される基板１の上端部付近に吐出された薬液
は、第１のノズル４２から基板１の搬送方向に対し上流
側に向けて噴出される薬液と、第２のノズル４３から基
板１の搬送方向に対し下流側に向けて噴出される薬液と
により、その中央部から広がる方向に誘導される。この
ため、薬液吐出部１２より基板１の表面に供給される薬
液は、その両端部がほぼ平行もしくは下流側に向けて広
がった状態で基板１の表面上を流下する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板等の基板
の表面に処理液を供給することにより、その処理を行う
基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板の処理工程の一種として、例えば、
フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カラー
フィルター用の染色材等からなる薄膜がその表面に形成
された液晶表示パネル用のガラス基板の表面を、アルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液によ
り処理した後、純水等の洗浄液により洗浄処理する工程
がある。このような工程においては、基板の表面に薬液
を供給する薬液供給部、基板の表面に洗浄液を供給する
洗浄液供給部、および、基板の表面に乾燥用の気体を供
給する乾燥部に対して基板を順次搬送し、その処理を行
う基板処理装置が使用される。

【０００３】このような基板処理装置においては、循環
使用される薬液と洗浄液との混合を防止する必要があ
る。このため、従来の基板処理装置においては、薬液供
給部と洗浄液供給部との境界部分にエアーナイフを配設
し、このエアーナイフから基板の表面に窒素ガス等の気
体をカーテン状に吹き付けて、基板表面に付着した薬液
を薬液供給部に向けて吹き飛ばすことにより、薬液の洗
浄液供給部への持ち込みを防止し、薬液と洗浄液とが混
合しないようにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の基板
処理装置においては、薬液供給部と洗浄液供給部との境
界部分において、エアーナイフから吹き付けられる気体
により基板の表面が乾燥し、基板の表面に薬液の成分が
シミとなって残留する場合がある。このシミは、後段の
洗浄処理によっても取り除くことができず、基板が乾燥
処理された後に、このシミによりパーティクルが発生し
基板が汚染されるという問題がある。

【０００５】また、特に大型の基板を処理する場合にお
いては、１枚の基板がその搬送方向における上流側で薬
液の供給を受けつつ下流側で洗浄液の供給を受ける場合
もある。このような場合においては、薬液や洗浄液が基
板の表面に沿って移動することから、上述したエアーナ
イフによっては薬液と洗浄液との混合を有効には防止で
きないという問題がある。このため、薬液供給部と洗浄
液供給部の境界部分においては、薬液と洗浄液との何れ
もが基板に供給されないようにすることが考えられる
が、このようにするためには装置を大型化しなければな
らず、装置の占有面積が大きくなるという別の問題が発
生する。

【０００６】このような問題点を解決するため、本出願
人は先に、次のような基板処理装置を提案している（特
願平８−７８９７２号）。すなわち、この基板処理装置
は、基板をその表面が傾斜した状態で前記表面に沿って
水平方向に搬送するとともに、この基板の表面の上端部
付近にスリット状の吐出口が形成された処理液吐出部か
ら処理液を吐出するように構成されている。この基板処
理装置においては、処理液吐出部から基板表面に吐出さ
れた処理液は、基板表面を処理しつつ基板の傾斜に沿っ
て基板の下端部へ流下し、基板表面にはほとんど残存し
ないため、従来の装置のようにエアーナイフを配設する
必要がなくなるという効果を奏するものである。

【０００７】この基板処理装置は、簡易な構成により従
来の装置による問題点を解消しうるものではあるが、そ
の表面が疎水性の基板を処理する場合や、表面張力が大
きい処理液を使用する場合においては、基板の一部に処
理液が供給されず処理むらが発生する場合がある。

【０００８】すなわち、図１１（ａ）に示すように、傾
斜した状態で水平方向に搬送される基板１の先端が、ス
リット状の吐出口より処理液２を吐出している処理液吐
出部３の下方に達することにより、処理液２は基板１の
表面の上端部付近に吐出され、基板１の傾斜に沿って基
板１の下端部方向に流下する。このとき、この処理液２
は、その表面張力によって、基板１の表面を流下するに
つれて互いにその中央部を中心として集まる方向に移動
する。このため、基板１の先端における下端部付近には
処理液２が接触しないことになる。続いて、図１１
（ｂ）に示すように基板１がさらに移動した後、図１１
（ｃ）に示すように基板１の後端が処理液吐出部３の下
方を通過する状態においても、処理液２が互いにその中
央部を中心として集まることにより、基板１の後端にお
ける下端部付近には処理液が接触しないことになる。

【０００９】このため、図１２においてハッチングを付
した領域４については、処理液による処理が行われない
ことになる。このような現象は、処理液として純水等の
表面張力が大きい液体を使用した場合や、基板の表面が
強い疎水性を有する場合、さらには基板１の傾斜角度が
小さい場合等において、特に顕著となる。なお、図１１
および図１２においては、理解を容易にするため、処理
液２の流れを誇張して表現している。

【００１０】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、従来の装置のようにエアーナイフを配
設する必要がなく、しかも、処理液の表面張力が大きい
場合や基板の表面が疎水性である場合等においても、基
板の表面全域に処理液を供給することのできる基板処理
装置を提供することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板をその表面が傾斜した状態で支持し、前記表面
に沿って水平方向に搬送する搬送手段と、前記基板の搬
送方向に延びるスリット状の吐出口を有し、当該吐出口
から前記搬送手段により搬送される基板の表面における
上端部付近に処理液を吐出する処理液吐出部と、前記処
理液吐出部より基板の表面に吐出された処理液を誘導す
るための処理液を、前記搬送手段により搬送される基板
の表面に対して噴出する一対のノズルとを備えたことを
特徴とする。なお、一対のノズルより噴出される処理液
は、処理液吐出部より吐出される処理液と同一の処理液
であってもよく、また、異なる処理液であってもよい。

【００１２】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記一対のノズルから噴出される処理
液の噴出角度を、前記搬送手段により搬送される基板の
表面に対して０度以上２０度以下の角度に設定してい
る。

【００１３】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２に記載の発明において、前記一対のノズルは、前記基
板の搬送方向に対して上流側に配設され誘導用の処理液
を上流側に噴出する第１のノズルと、前記基板の搬送方
向に対して下流側に配設され誘導用の処理液を下流側に
噴出する第２のノズルとから構成される。

【００１４】請求項４に記載の発明は、基板をその表面
が傾斜した状態で支持し、前記表面に沿って水平方向に
搬送する搬送手段と、前記基板の搬送方向に延びるスリ
ット状の吐出口を有し、当該吐出口から前記搬送手段に
より搬送される基板の表面における上端部付近に処理液
を吐出する処理液吐出部とを備え、前記スリット状の吐
出口のスリット幅を１ｍｍ以上５ｍｍ以下としたことを
特徴とする。

【００１５】請求項５に記載の発明は、基板をその表面
が傾斜した状態で支持し、前記表面に沿って水平方向に
搬送する搬送手段と、前記基板の搬送方向に延びる複数
のスリット状の吐出口を有し、当該吐出口から前記搬送
手段により搬送される基板の表面における上端部付近に
処理液を吐出する処理液吐出部とを備え、前記複数のス
リット状の吐出口のスリット幅の合計値を１ｍｍ以上５
ｍｍ以下としたことを特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。

【００１７】最初に、この発明を適用する基板処理装置
の構成について説明する。図１はこの発明を適用する基
板処理装置の側面概要図であり、図２は薬液供給部５を
示す斜視図である。

【００１８】この基板処理装置は、基板１の表面に薬液
を供給してその処理を行う薬液供給部５と、基板１の表
面に純水等の洗浄液を供給してその洗浄処理を行う洗浄
液供給部６と、基板１の表面に乾燥用の窒素ガスを供給
して基板１を乾燥する乾燥部７とから構成される。基板
１は、複数の搬送ローラ８よりなる搬送装置により、そ
の表面が傾斜した状態で、薬液供給部５、洗浄液供給部
６および乾燥部７に順次搬送される。

【００１９】薬液供給部５は、図２に示すように、後述
するスリット状の吐出口を有する薬液吐出部１２を備え
る。この薬液吐出部１２は、薬液供給用の配管１４によ
り、ポンプ１５およびフィルタ１６を介して薬液タンク
１７と接続されている。また、薬液供給部５の底部に
は、基板１から流出した薬液を薬液タンク１７に回収す
るための配管１８が配設されている。搬送ローラ８によ
り支持されて薬液供給部５に搬送された基板１は、その
上端部付近に処理液としての薬液の供給を受け、この薬
液が基板１の表面の傾斜に沿って流下する際に、その表
面を薬液により処理される。

【００２０】基板１の処理に使用された薬液は、基板１
の下端部より薬液供給部５の底部に落下する。このた
め、薬液供給部５から排出される基板１の表面には、薬
液が薄膜状態で残留するのみとなり、基板１が洗浄液供
給部６に搬入される前に実質的な液切り処理が施された
状態となる。従って、従来のように薬液供給部５と洗浄
液供給部６との間にエアナイフを設ける必要はなくな
り、装置を簡易化することができる。また、薬液の基板
１の表面上での乾燥に起因するパーティクルの発生を防
止することができる。なお、薬液供給部５において、基
板１から流出した薬液を回収せず、排出する構成として
もよい。

【００２１】なお、搬送ローラ８としては、図示しない
モータの駆動を受けて回転する回転軸２４と、この回転
軸２４の両端に固設された一対の支持ローラ２５、２６
と、回転軸２４の中央部に固設された支持ローラ２７と
から構成されるローラが使用される。基板１は、支持ロ
ーラ２５、２６に設けられた鍔部によりその両端を案内
された状態で、各支持ローラ２５、２６、２７によりそ
の裏面を支持される。このため、基板１は、搬送ローラ
８との接触量を最小としつつ、撓みの発生を生じること
なく搬送される。

【００２２】洗浄液供給部６は、薬液吐出部１２と同様
の構成を有する洗浄液吐出部１３を備える。この洗浄液
吐出部１３は、図示しない洗浄液の供給部と接続されて
いる。また、洗浄液供給部６の底部には、基板１から流
出した洗浄液をドレインに排出するための配管が配設さ
れている。搬送ローラ８により支持されて薬液供給部５
から洗浄液供給部６に搬送された基板１は、その上端部
付近に処理液としての洗浄液の供給を受け、この洗浄液
が基板１の表面傾斜に沿って流下する際に、表面を洗浄
液により洗浄処理される。

【００２３】基板１の洗浄処理に使用された洗浄液は、
基板１の下端部より洗浄液供給部６の底部に落下する。
このため、洗浄液供給部６から排出される基板１の表面
には、洗浄液が薄膜状態で残留するのみとなり、基板１
が乾燥部７に搬入される前に実質的な液切り処理が施さ
れた状態となる。従って、乾燥部７における乾燥効率を
高めることができる。なお、洗浄液供給部６において
も、薬液供給部５と同様、基板１から流出した洗浄液を
回収することにより再利用する構成としてもよい。

【００２４】乾燥部７は、基板１の表面に窒素ガスを吹
き付けるためのエアーナイフ２２を備える。搬送ローラ
８により支持されて洗浄液供給部６から乾燥部７に搬送
された基板１は、エアーナイフ２２からその表面全域に
カーテン状の窒素ガスの供給を受け、基板１の表面に残
存する洗浄液が乾燥される。

【００２５】次に、この発明の第１実施形態について説
明する。図３は第１実施形態に係る薬液供給部５の要部
を示す斜視図であり、図４はその平面概要図、また、図
５はその側面概要図である。なお、以下の説明において
は、この発明を薬液供給部５に対して適用した場合につ
いて説明するが、洗浄液供給部６においても同様の構成
が採用されている。

【００２６】前述した薬液吐出部１２は、図３において
矢印で示す基板１の搬送方向に延びるスリット状の吐出
口３２を有する。この吐出口３２は、液溜め部３３を介
して薬液供給用の配管１４と接続されている。薬液吐出
部１２の吐出口３２より吐出された薬液は、搬送ローラ
８により傾斜した状態で搬送される基板１の上端部付近
に帯状に供給される。なお、搬送ローラ８により搬送さ
れる基板１の傾斜角度θ１は、略５度に設定されてい
る。

【００２７】搬送ローラ８により搬送される基板１側か
ら見て薬液吐出部１２の奥側には、一対のノズル４２、
４３が配設されている。これらのノズル４２、４３は、
薬液吐出部１２より吐出される薬液を案内するための薬
液を噴出するためのものであり、図４に示すように、基
板１の搬送方向に対して上流側に配置された第１のノズ
ル４２は上流側を向き、また、基板１の搬送方向に対し
て下流側に配置された第２のノズル４３は下流側を向く
ように設置されている。また、これらのノズル４２、４
３は、図示しないポンプ等に接続する配管により、図２
に図示の薬液タンク１７と接続されている。

【００２８】なお、この実施形態においては、薬液吐出
部１２から吐出される薬液と第１、第２のノズル４２、
４３噴出される薬液とを、同一の薬液タンク１７から供
給する場合について述べたが、これらの薬液をそれぞれ
異なる薬液の供給源から供給するようにしてもよい。こ
のとき、これらのノズル４２、４３より噴出される薬液
は、薬液吐出部１２より吐出される薬液と同じ薬液の場
合、処理された基板１が製品上問題のない範囲でほぼ同
温度あるいはほぼ同濃度であれば良く、また、異なる薬
液の場合は、薬液吐出部１２より吐出される薬液を希釈
するだけの純水等の薬液であっても構わない。

【００２９】第１、第２のノズル４２、４３の先端の位
置は、基板１の搬送方向（図４における左右方向）につ
いては、薬液吐出部１２の吐出口３２の位置より内側の
位置となっており、基板１の搬送方向と直交する方向
（図４における上下方向）については、薬液吐出部１２
の吐出口３２に対し基板１と反対側の位置となってい
る。また、第１、第２のノズル４２、４３の、基板１の
表面に対する薬液の噴出角度θ２（図５参照）は、略５
度に設定されている。

【００３０】このような構成により基板１の表面に薬液
を供給して処理を行う場合において、薬液吐出部１２の
吐出口３２より基板１の上端部付近に吐出された薬液
は、第１のノズル４２から基板１の搬送方向に対し上流
側に向けて噴出される薬液と第２のノズル４３から基板
１の搬送方向に対し下流側に向けて噴出される薬液とに
より、その中央部から広がる方向に誘導される。このた
め、薬液吐出部１２より基板１の表面に供給される薬液
は、図３および図４に示すように、その両端部がほぼ平
行もしくは下流側に広がった状態で基板１の表面上を流
下する。従って、この薬液は、基板１の移動に伴ってそ
の表面全域に接触することになり、図１２に示す薬液が
接触しない領域４の発生を防止することが可能となる。

【００３１】なお、第１、第２のノズル４２、４３から
噴出された薬液が搬送ローラ８により搬送される基板１
の表面に到達する位置は、基板１の表面を流下する薬液
が表面張力により互いにその中央部を中心として集まり
はじめる位置とすることが好ましい。この位置は、基板
１の傾斜角度や薬液の表面張力の大きさ等により変化す
るが、通常、基板１の搬送方向と直交する方向（図４の
上下方向）における基板１の上端から１／３〜１／２付
近であることから、第１、第２のノズル４２、４３は、
基板１の上端から１／３〜１／２付近の位置に向けて薬
液を噴出することが好ましい。

【００３２】また、上記実施の形態においては、第１、
第２のノズル４２、４３から噴出される薬液の噴出角度
θ２を、搬送ローラ８により搬送される基板１の表面に
対して５度としている。これは、この角度θ２が大きく
なった場合には、第１、第２のノズル４２、４３から噴
出された薬液が、基板１との接触後、基板１の下流方向
以外の方向にも広がることにより、薬液を誘導する作用
が小さくなるためである。第１、第２のノズル４２、４
３から噴出される薬液により薬液吐出部１２から吐出さ
れた薬液を基板１の下端部に至るまで有効に誘導するた
めには、この角度θ２を０度以上２０度以下とすること
が好ましい。

【００３３】さらに、上記実施の形態においては、基板
１の搬送方向に対して上流側に配置された第１のノズル
４２は上流側を向き、また、基板１の搬送方向に対して
下流側に配置された第２のノズル４３は下流側を向くよ
うに設置した場合について述べたが、第１、第２のノズ
ル４２、４３から比較的高圧の薬液を噴出する場合等に
おいては、第１、第２のノズル４２、４３から互いに平
行な方向に薬液を噴出するようにしてもよい。また、上
流側を向く第１のノズル４２と下流側を向く第２のノズ
ル４３以外に、互いに平行な方向を向く他の一対のノズ
ルを設け、これらの４本のノズルから誘導用の薬液を噴
出するようにしてもよい。

【００３４】なお、上述した第１、第２のノズル４２、
４３からの薬液の好ましい噴出方向は、薬液の種類や基
板１の表面の状態等により変化する。このため、第１、
第２のノズル４２、４３としては、薬液の噴出方向を調
整しうる構成とすることが好ましい。

【００３５】また、上記実施の形態においては、搬送ロ
ーラ８により搬送される基板１の傾斜角度θ１を５度と
した場合について説明したが、この傾斜角度θ１は１〜
４０度の範囲で任意に設定することができる。この傾斜
角度θ１を過度に大きくすると、薬液吐出部１２から基
板１の表面に供給された薬液が基板１の表面を高速に流
下してしまい、基板１に対する適切な処理が行えないこ
とになる。一方、この傾斜角度θ１を過度に小さくする
と、基板１の液切り作用が有効に機能しないことにな
る。

【００３６】さらに、上記実施の形態においては、薬液
吐出部１２と第１、第２のノズル４２、４３とを、別々
の部材により構成した場合について説明したが、これら
を一体として構成してもよい。例えば図６に示すよう
に、基板１の上端部付近に薬液を吐出するスリット状の
吐出口５３を有する薬液吐出部５２に、誘導用の薬液を
噴出するための一対の噴出口５４、５５を付設すること
により、薬液吐出部と第１、第２のノズルとを一体とし
て構成することができる。

【００３７】また、上記実施の形態においては、第１、
第２のノズル４２、４３を薬液吐出部１２の吐出口３２
に対し基板１と反対側の位置に配置し、薬液を基板１の
表面に対してスポット状に噴出する場合について説明し
たが、図７に示すように、多数の噴出口を穿設したパイ
プ状のノズル８２、８３を、薬液吐出部１２の両側にお
いて搬送ローラ８によって搬送される基板１の上方に設
置し、これらのノズル８２、８３から、基板１の表面に
薬液をシャワー状に供給するようにしてもよい。この場
合においても、第１、第２のノズル８２、８３から供給
される薬液により、薬液吐出部１２から吐出された薬液
が誘導され、その両端部がほぼ並行となった状態で基板
１の表面を流下する。なお、ノズル８２、８３に多数の
噴出口を穿設する換わりに、基板１の搬送方向と直交す
る方向を向くスリットを形成し、このスリットから薬液
を噴出するようにしてもよい。

【００３８】次に、この発明の第２実施形態について説
明する。図８は第２実施形態に係る薬液供給部５の要部
を示す斜視図であり、図９はその薬液供給部１２の断面
図である。第２実施形態においては、薬液吐出部１２に
おけるスリット状の吐出口６２のスリット幅を所定の値
とすることにより、第１、第２のノズル４２、４３を省
略した点が、前述した第１実施形態とは異なる。

【００３９】この薬液吐出部１２は、図８において矢印
で示す基板１の搬送方向に延びるスリット状の吐出口６
２を有する。この吐出口６２は、液溜め部６３を介して
図１および図２に示す薬液供給用の配管１４と接続され
ている。そして、図９に示すこの吐出口６２のスリット
幅Ｄ１は、２ｍｍに設定されている。

【００４０】この薬液吐出部１２における吐出口６２か
ら基板１の表面の上端部付近に薬液を吐出した場合に
は、吐出口６２のスリット幅Ｄ１を２ｍｍという大きい
値に設定しているため、吐出口６２から吐出された薬液
は基板１の表面に到達した時点で比較的厚い膜厚を有す
ることになる。このため、表面張力の作用が弱くなり、
基板１の表面を流下するにつれて互いにその中央部を中
心として集まる方向に移動しようとする作用も弱くな
る。また、薬液の膜厚が比較的厚い場合には、基板１の
表面に沿う流下時に、薬液はその幅を広げる方向にも流
出する。このため、薬液吐出部１２の吐出口６２より基
板１の表面に供給される薬液は、図８に示すように、そ
の両端部がほぼ平行もしくは下流側に広がった状態で基
板１の表面上を流下する。従って、この薬液は、基板１
の移動に伴ってその表面全域に接触することになり、図
１２に示す薬液が接触しない領域４の発生を防止するこ
とが可能となる。

【００４１】なお、スリット状の吐出口６２のスリット
幅Ｄ１は、１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることが好まし
い。このスリット幅Ｄ１が大きい程、上述した効果を有
効に得ることができるものであり、このスリット幅Ｄ１
は少なくとも１ｍｍ以上とすることが必要となる。但
し、このスリット幅を過度に大きくした場合には、スリ
ット状の吐出口６２から均一に薬液を吐出することが困
難となる。このため、このスリット幅Ｄ１は、５ｍｍ以
下とすることが好ましい。

【００４２】なお、上記実施の形態においては、単一の
吐出口６２から薬液を吐出する場合について説明した
が、図１０に示すように、薬液吐出部１２に互いに平行
に延びる２本のスリット状の吐出口６４、６５を設け、
これらの吐出口６４、６５より薬液を吐出する構成とす
ることも可能である。この場合においては、これらの吐
出口６４、６５のスリット幅Ｄ２、Ｄ３の合計値が１ｍ
ｍ以上５ｍｍ以下となるようにすればよい。このよう
に、薬液吐出部１２に複数のスリット状の吐出口６４、
６５を設けた場合には、各吐出口６４、６５のスリット
幅Ｄ２、Ｄ３の各々を小さくした場合においても基板１
の表面に比較的厚い膜厚の薬液を供給することができ
る。このため、吐出口６４、６５から吐出する薬液を、
基板１の搬送方向に対して均一に供給できるという効果
を奏する。

【００４３】以上説明した第１、第２の実施形態におい
ては、いずれもこの発明を、基板１の表面に薬液を供給
してその処理を行う薬液供給部５と、基板１の表面に純
水等の洗浄液を供給してその洗浄処理を行う洗浄液供給
部６と、基板１の表面に乾燥用の窒素ガスを供給して基
板１を乾燥する乾燥部７とから構成される基板処理装置
の薬液供給部５および洗浄液供給部６に適用した場合に
ついて説明したが、この発明は、傾斜した状態で搬送さ
れる基板の表面に薬液や純水等の処理液を供給して処理
する各種の基板処理装置に適用することができる。

【００４４】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、搬送手
段により傾斜した状態で搬送され、処理液吐出部におけ
るスリット状の吐出口からその表面の上端部付近に処理
液を吐出された基板は、基板の表面に沿って流下する処
理液により処理される。そして、この処理液は基板の下
端部より流出するため、基板の表面には、処理液が薄膜
状態で残留するのみとなり、実質的な液切り処理が施さ
れた状態となる。このため、処理液の液切りのためのエ
アナイフ等を設ける必要はなくなり、装置を簡易化する
ことができ、また、処理液の乾燥に起因するパーティク
ルの発生を防止することができる。

【００４５】このとき、基板の表面を流下する処理液
は、一対のノズルから噴出される誘導用の処理液により
誘導されることから、処理を行うべき基板の表面が強い
疎水性を有する場合や、処理液の表面張力が大きい場合
等においても、処理液がその中央部を中心として集まる
ことを防止することができ、基板の表面全域に処理液を
供給してその処理を行うことができる。

【００４６】請求項２に記載の発明によれば、一対のノ
ズルから噴出される処理液の噴出角度を、搬送手段によ
り搬送される基板の表面に対して０度以上２０度以下の
角度に設定しているため、一対のノズルから噴出される
誘導用の処理液により、処理液吐出部から吐出された処
理液を基板の下端部に至るまで有効に誘導することがで
きる。

【００４７】請求項３に記載の発明によれば、一対のノ
ズルは、基板の搬送方向に対して上流側に配設され誘導
用の処理液を上流側に噴出する第１のノズルと、基板の
搬送方向に対して下流側に配設され誘導用の処理液を下
流側に噴出する第２のノズルとから構成されていること
から、誘導用の処理液の流量や圧力が小さい場合であっ
ても、一対のノズルから噴出される誘導用の処理液によ
り、処理液吐出部から吐出された処理液を有効に誘導す
ることができる。

【００４８】請求項４に記載の発明によれば、搬送手段
により傾斜した状態で搬送され、処理液吐出部における
スリット状の吐出口からその表面の上端部付近に処理液
を吐出された基板は、基板の表面に沿って流下する処理
液により処理される。そして、この処理液は基板の下端
部より流出するため、基板の表面には、処理液が薄膜状
態で残留するのみとなり、実質的な液切り処理が施され
た状態となる。このため、処理液の液切りのためのエア
ナイフ等を設ける必要はなくなり、装置を簡易化するこ
とができ、また、処理液の乾燥に起因するパーティクル
の発生を防止することができる。

【００４９】このとき、上記スリット状の吐出口のスリ
ット幅が１ｍｍ以上５ｍｍ以下となっていることから、
処理を行うべき基板の表面が強い疎水性を有する場合
や、処理液の表面張力が大きい場合等においても、基板
の表面を流下する処理液がその中央部を中心として集ま
ることはなく、基板の表面全域に処理液を供給してその
処理を行うことができる。

【００５０】請求項５に記載の発明によれば、搬送手段
により傾斜した状態で搬送され、処理液吐出部における
複数のスリット状の吐出口からその表面の上端部付近に
処理液を吐出された基板は、基板の表面に沿って流下す
る処理液により処理される。そして、この処理液は基板
の下端部より流出するため、基板の表面には、処理液が
薄膜状態で残留するのみとなり、実質的な液切り処理が
施された状態となる。このため、処理液の液切りのため
のエアナイフ等を設ける必要はなくなり、装置を簡易化
することができ、また、処理液の乾燥に起因するパーテ
ィクルの発生を防止することができる。

【００５１】このとき、上記複数のスリット状の吐出口
のスリット幅の合計値が１ｍｍ以上５ｍｍ以下となって
いることから、処理を行うべき基板の表面が強い疎水性
を有する場合や、処理液の表面張力が大きい場合等にお
いても、基板の表面を流下する処理液がその中央部を中
心として集まることはなく、基板の表面全域に処理液を
供給してその処理を行うことができ、また、スリット状
の吐出口から吐出される処理液を吐出口全域において均
一にすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明を適用する基板処理装置の側面概要図
である。

【図２】薬液供給部５を示す斜視図である。

【図３】第１実施形態に係る薬液供給部５の要部を示す
斜視図である。

【図４】第１実施形態に係る薬液供給部５の要部を示す
平面概要図である。

【図５】第１実施形態に係る薬液供給部５の要部を示す
側面概要図である。

【図６】第１実施形態に係る薬液供給部５の変形例を示
す側面概要図である。

【図７】第１実施形態に係る薬液供給部５の変形例を示
す斜視図である。

【図８】第２実施形態に係る薬液供給部５の要部を示す
斜視図である。

【図９】第２実施形態に係る薬液供給部１２の断面図で
ある。

【図１０】第２実施形態に係る薬液供給部１２の変形例
を示す断面図である。

【図１１】薬液の流下状態を示す説明図である。

【図１２】非処理領域４を示す説明図である。

【符号の説明】

１ 基板 ８ 搬送ローラ １２ 薬液吐出部 １３ 洗浄液吐出部 ３２ 吐出口 ４２ 第１のノズル ４３ 第２のノズル ５２ 薬液吐出部 ６２ 吐出口 ６４ 吐出口 ６５ 吐出口 ８２ 第１のノズル ８３ 第２のノズル

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板をその表面が傾斜した状態で支持
   し、前記表面に沿って水平方向に搬送する搬送手段と、 前記基板の搬送方向に延びるスリット状の吐出口を有
   し、当該吐出口から前記搬送手段により搬送される基板
   の表面における上端部付近に処理液を吐出する処理液吐
   出部と、 前記処理液吐出部より基板の表面に吐出された処理液を
   誘導するための処理液を、前記搬送手段により搬送され
   る基板の表面に対して噴出する一対のノズルと、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記一対のノズルから噴出される処理液の噴出角度を、
   前記搬送手段により搬送される基板の表面に対して０度
   以上２０度以下の角度に設定した基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板処理装置
   において、 前記一対のノズルは、前記基板の搬送方向に対して上流
   側に配設され誘導用の処理液を上流側に噴出する第１の
   ノズルと、前記基板の搬送方向に対して下流側に配設さ
   れ誘導用の処理液を下流側に噴出する第２のノズルとか
   らなる基板処理装置。
4. 【請求項４】 基板をその表面が傾斜した状態で支持
   し、前記表面に沿って水平方向に搬送する搬送手段と、 前記基板の搬送方向に延びるスリット状の吐出口を有
   し、当該吐出口から前記搬送手段により搬送される基板
   の表面における上端部付近に処理液を吐出する処理液吐
   出部とを備え、 前記スリット状の吐出口のスリット幅を１ｍｍ以上５ｍ
   ｍ以下としたことを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 基板をその表面が傾斜した状態で支持
   し、前記表面に沿って水平方向に搬送する搬送手段と、 前記基板の搬送方向に延びる複数のスリット状の吐出口
   を有し、当該吐出口から前記搬送手段により搬送される
   基板の表面における上端部付近に処理液を吐出する処理
   液吐出部とを備え、 前記複数のスリット状の吐出口のスリット幅の合計値を
   １ｍｍ以上５ｍｍ以下としたことを特徴とする基板処理
   装置。