JPH09277539A - インクジェットプリントヘッド、その製造方法およびインクジェットプリント装置 - Google Patents
インクジェットプリントヘッド、その製造方法およびインクジェットプリント装置Info
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- JPH09277539A JPH09277539A JP11564196A JP11564196A JPH09277539A JP H09277539 A JPH09277539 A JP H09277539A JP 11564196 A JP11564196 A JP 11564196A JP 11564196 A JP11564196 A JP 11564196A JP H09277539 A JPH09277539 A JP H09277539A
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/005—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
- B41J2/01—Ink jet
- B41J2/135—Nozzles
- B41J2/14—Structure thereof only for on-demand ink jet heads
- B41J2002/14362—Assembling elements of heads
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の基板と天板との接合方法により生じる
ことがあった隣接するインク流路間のクロストークの発
生を確実に防止し得るインクジェットプリントヘッド等
を提供する。 【解決手段】 インクジェットプリントヘッドは、イン
クを吐出するために利用されるエネルギを発生する複数
の吐出エネルギ発生素子を有する基板と、該基板に接合
して該基板との間に、前記インクを吐出するための吐出
口と該吐出口に連通すると共に前記各吐出エネルギ発生
素子に対応する位置に形成された複数の溝とを含むイン
ク流路を構成する天板とを含み、前記吐出口が前記吐出
エネルギ発生素子の面に沿う方向に設けられている。前
記天板は前記基板との接合面に突出部を有し、かつ、前
記基板は、前記天板の突出部を嵌合するオーバーハング
構造の凹部を有している。
ことがあった隣接するインク流路間のクロストークの発
生を確実に防止し得るインクジェットプリントヘッド等
を提供する。 【解決手段】 インクジェットプリントヘッドは、イン
クを吐出するために利用されるエネルギを発生する複数
の吐出エネルギ発生素子を有する基板と、該基板に接合
して該基板との間に、前記インクを吐出するための吐出
口と該吐出口に連通すると共に前記各吐出エネルギ発生
素子に対応する位置に形成された複数の溝とを含むイン
ク流路を構成する天板とを含み、前記吐出口が前記吐出
エネルギ発生素子の面に沿う方向に設けられている。前
記天板は前記基板との接合面に突出部を有し、かつ、前
記基板は、前記天板の突出部を嵌合するオーバーハング
構造の凹部を有している。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント用の液体
(インク等)を飛翔液滴として吐出口(オリフィス)か
ら吐出させて、被プリント媒体に付着させることによっ
てプリントを行うインクジェットプリントヘッド、イン
クジェットプリント装置およびインクジェットプリント
ヘッドの製造方法に関するものである。
(インク等)を飛翔液滴として吐出口(オリフィス)か
ら吐出させて、被プリント媒体に付着させることによっ
てプリントを行うインクジェットプリントヘッド、イン
クジェットプリント装置およびインクジェットプリント
ヘッドの製造方法に関するものである。
【0002】ここで、プリントとしては、布、糸、紙、
シート材等の各種インク供与を受けるインク支持体すべ
てへのインク供与を含むもので、各種情報処理装置すべ
て或はその出力機としてのプリンタを含むもので、本発
明はこれらへの用途が可能なものである。
シート材等の各種インク供与を受けるインク支持体すべ
てへのインク供与を含むもので、各種情報処理装置すべ
て或はその出力機としてのプリンタを含むもので、本発
明はこれらへの用途が可能なものである。
【0003】
【従来の技術】従来、吐出口からインクを吐出すること
によってプリントを行うインクジェットプリントヘッド
においては、インク吐出用のエネルギーを発生させるた
めのエネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたも
のがある。
によってプリントを行うインクジェットプリントヘッド
においては、インク吐出用のエネルギーを発生させるた
めのエネルギー発生素子として電気熱変換体を用いたも
のがある。
【0004】この種のインクジェット記録ヘッドの例と
して、図1及び図2に示すようにエネルギー発生素子と
して複数の電気熱変換体1を配置した基板2に、電気熱
変換体1の位置に対応して設けられるインク流路3を構
成するための溝4や吐出口5等が形成された天板6を接
合したものがある。
して、図1及び図2に示すようにエネルギー発生素子と
して複数の電気熱変換体1を配置した基板2に、電気熱
変換体1の位置に対応して設けられるインク流路3を構
成するための溝4や吐出口5等が形成された天板6を接
合したものがある。
【0005】基板2は、所定のピッチで並列に配置され
た複数の電気熱変換体1と、各電気熱変換体1を駆動す
るための駆動回路(不図示)とが、エッチング、蒸着、
スパッタリング等の半導体プロセスにより成膜形成され
たものであり、支持体7に固定されている。また、基板
2には、図2に示すようにアルミニウムからなり、各電
気熱変換体1の駆動回路と接続される複数の電極パッド
8が形成されている。これら電極パッド8は、記録装置
(図示略)からの電気信号を受ける配線基板9の各配線
10に、アルミニウムのボンディングワイヤー11を介
してそれぞれ接続されている。
た複数の電気熱変換体1と、各電気熱変換体1を駆動す
るための駆動回路(不図示)とが、エッチング、蒸着、
スパッタリング等の半導体プロセスにより成膜形成され
たものであり、支持体7に固定されている。また、基板
2には、図2に示すようにアルミニウムからなり、各電
気熱変換体1の駆動回路と接続される複数の電極パッド
8が形成されている。これら電極パッド8は、記録装置
(図示略)からの電気信号を受ける配線基板9の各配線
10に、アルミニウムのボンディングワイヤー11を介
してそれぞれ接続されている。
【0006】一方、天板6には、インクタンク(不図
示)から供給されたインクを一時的に保持する共通液室
12と、各電気熱変換体1の位置に対応して配置され、
それぞれ共通液室12に連通する複数の溝3と、各溝3
の先端から天板6の端面に開口する吐出口5と形成され
ている。この天板6の各溝3は天板6が基板2に接合し
た際に基板2との間にインク流路を構成するものであ
る。
示)から供給されたインクを一時的に保持する共通液室
12と、各電気熱変換体1の位置に対応して配置され、
それぞれ共通液室12に連通する複数の溝3と、各溝3
の先端から天板6の端面に開口する吐出口5と形成され
ている。この天板6の各溝3は天板6が基板2に接合し
た際に基板2との間にインク流路を構成するものであ
る。
【0007】このような天板6と基板2との接合に際し
ては、まず、各電気熱変換体1と各溝3とが1対1で対
応するように、天板6を基板2に対して位置決めし、例
えば板バネ(不図示)等により固定する。次いで、仮止
め用の接着剤を基板2と天板6との接合部位に塗布して
基板2と天板6とを仮止めする。この仮止め用の接着剤
としては、一般的に、アクリル系の紫外線硬化型の接着
剤(例えば、AMICON社製、UV300等)が用い
られる。最後に、仮止め用の接着剤の上から更に、主に
シリコーン系の樹脂を塗布し、基板2と天板6との接合
部位を封止する方法を採っている。
ては、まず、各電気熱変換体1と各溝3とが1対1で対
応するように、天板6を基板2に対して位置決めし、例
えば板バネ(不図示)等により固定する。次いで、仮止
め用の接着剤を基板2と天板6との接合部位に塗布して
基板2と天板6とを仮止めする。この仮止め用の接着剤
としては、一般的に、アクリル系の紫外線硬化型の接着
剤(例えば、AMICON社製、UV300等)が用い
られる。最後に、仮止め用の接着剤の上から更に、主に
シリコーン系の樹脂を塗布し、基板2と天板6との接合
部位を封止する方法を採っている。
【0008】しかし、このような構成の従来のインクジ
ェットプリントヘッドでは、接着剤や封止剤がわずかで
もインク流路内に入り込むと、各インク流路の大きさが
極めて微細であることから、接着剤等によりインク流路
が閉塞されてしまうことが考えられる。この場合には、
複数のインク流路の一部においてインクの吐出不良や不
吐出等が発生してインクジェットプリントヘッドの信頼
性を低下させてしまう。このため、インクジェットプリ
ントヘッドの製造時における天板と基板との接合に接着
剤等を用いることのない接合方法が求められている。
ェットプリントヘッドでは、接着剤や封止剤がわずかで
もインク流路内に入り込むと、各インク流路の大きさが
極めて微細であることから、接着剤等によりインク流路
が閉塞されてしまうことが考えられる。この場合には、
複数のインク流路の一部においてインクの吐出不良や不
吐出等が発生してインクジェットプリントヘッドの信頼
性を低下させてしまう。このため、インクジェットプリ
ントヘッドの製造時における天板と基板との接合に接着
剤等を用いることのない接合方法が求められている。
【0009】このような要請に応える接合方法として、
例えば図3(a)〜(c)や図4(a)〜(e)に示す
ような方法が提案されている。これらの方法は、いずれ
インク流路の壁部を樹脂材料によって形成することと
し、その樹脂材料の硬化時の密着力を利用して基板と天
板とを接合しようとするものである。
例えば図3(a)〜(c)や図4(a)〜(e)に示す
ような方法が提案されている。これらの方法は、いずれ
インク流路の壁部を樹脂材料によって形成することと
し、その樹脂材料の硬化時の密着力を利用して基板と天
板とを接合しようとするものである。
【0010】図3(a)〜(c)はDF(ドライフィル
ム)法による接合方法を工程順に示す断面図である。
ム)法による接合方法を工程順に示す断面図である。
【0011】DF法においては、まず図3(a)に示す
ように基板2の上面にラミネート法等の方法により所定
の厚さのドライフィルム16を設ける。このドライフィ
ルム16の上には、所定パターンのマスク(図示略)を
用いて、フォトリソグラフィ等の方法によりドライフィ
ルム16に凹部を形成する。基板2上に残るドライフィ
ルム16の部分は、図3(b)に示すようにインク流路
壁17を構成するものとなる。
ように基板2の上面にラミネート法等の方法により所定
の厚さのドライフィルム16を設ける。このドライフィ
ルム16の上には、所定パターンのマスク(図示略)を
用いて、フォトリソグラフィ等の方法によりドライフィ
ルム16に凹部を形成する。基板2上に残るドライフィ
ルム16の部分は、図3(b)に示すようにインク流路
壁17を構成するものとなる。
【0012】次に、図3(c)に示すようにインク流路
壁17を有する基板2の上に別のドライフィルム18を
介して天板6を載置する。この天板6と基板2とは、ド
ライフィルム18を熱硬化させ、その硬化時の密着力に
より強固に接合され得る。
壁17を有する基板2の上に別のドライフィルム18を
介して天板6を載置する。この天板6と基板2とは、ド
ライフィルム18を熱硬化させ、その硬化時の密着力に
より強固に接合され得る。
【0013】図4(a)〜(e)は、いわゆる注型法に
よる接合方法を工程順に示す断面図である。
よる接合方法を工程順に示す断面図である。
【0014】注型法においては、まず図4(a)に示す
ように基板2の上面に所定の厚さのレジスト層20を設
ける。
ように基板2の上面に所定の厚さのレジスト層20を設
ける。
【0015】次に、このレジスト層20の上には図4
(b)に示すように、所定パターンのマスク(図示略)
を用いて、フォトリソグラフィ等の方法によりインク流
路に相当する部分のみを、インク流路形成用の型21と
して残す。
(b)に示すように、所定パターンのマスク(図示略)
を用いて、フォトリソグラフィ等の方法によりインク流
路に相当する部分のみを、インク流路形成用の型21と
して残す。
【0016】次に、基板2および型21の上には、図4
(c)に示すようにインク流路の壁を形成するための樹
脂層22を設ける。
(c)に示すようにインク流路の壁を形成するための樹
脂層22を設ける。
【0017】次に、基板2上に上記樹脂層22を介して
天板6を載置する。天板6と基板2とは、樹脂層22を
熱硬化させ、その硬化時の密着力により強固に接合され
得る。最後に吐出口面を切断し、溶媒等により型レジス
トを溶出してノズルを溶出してノズルを形成する。
天板6を載置する。天板6と基板2とは、樹脂層22を
熱硬化させ、その硬化時の密着力により強固に接合され
得る。最後に吐出口面を切断し、溶媒等により型レジス
トを溶出してノズルを溶出してノズルを形成する。
【0018】しかしながら、上記DF法および注型法の
いずれにおいても、接着剤を用いないためにインク流路
の閉塞を回避することができるものの、接合作業にはパ
ターニング工程が必須であり、高価な露光装置等を用い
る必要があった。
いずれにおいても、接着剤を用いないためにインク流路
の閉塞を回避することができるものの、接合作業にはパ
ターニング工程が必須であり、高価な露光装置等を用い
る必要があった。
【0019】このため、より安価な接合方法が求められ
ている。
ている。
【0020】このような要請に応える接合方法として、
エネルギ発生素子を有する基板と、インク流路および吐
出口を有する天板とを位置合せし、次いで押えばねを用
いて天板と基板とを固定する方法が知られている。
エネルギ発生素子を有する基板と、インク流路および吐
出口を有する天板とを位置合せし、次いで押えばねを用
いて天板と基板とを固定する方法が知られている。
【0021】図5は、上述のような押えバネを用いた天
板と基板との接合方法を説明するための図であって、イ
ンクジェットプリントヘッドを含むインクジェットユニ
ットの分解斜視図である。
板と基板との接合方法を説明するための図であって、イ
ンクジェットプリントヘッドを含むインクジェットユニ
ットの分解斜視図である。
【0022】図5において、2はSi基板上に複数の列
状に配された電気熱変換体1(吐出ヒータ)と、これに
電力を供給するAl等の電気配線とが成膜技術により形
成されてなるヒータボードとしての基板である。9はヒ
ータボード2に対する配線基板である。
状に配された電気熱変換体1(吐出ヒータ)と、これに
電力を供給するAl等の電気配線とが成膜技術により形
成されてなるヒータボードとしての基板である。9はヒ
ータボード2に対する配線基板である。
【0023】6は複数のインク流路を夫々区分するため
の隔壁(溝)や各インク流路(液流路)へインクを与え
るためにインクを収納するための共通液室等を設けた溝
付天板で、各インク流路に対応した吐出口を複数有する
オリフィスプレート6aを一体成型したものである。こ
れらの一体成型材料としてはポリサルフォン樹脂が好ま
しいが、他の成型用樹脂材料でも良い。
の隔壁(溝)や各インク流路(液流路)へインクを与え
るためにインクを収納するための共通液室等を設けた溝
付天板で、各インク流路に対応した吐出口を複数有する
オリフィスプレート6aを一体成型したものである。こ
れらの一体成型材料としてはポリサルフォン樹脂が好ま
しいが、他の成型用樹脂材料でも良い。
【0024】24は配線基板9の裏面を平面で支持する
例えば金属製の支持体で、インクジェットユニットの底
板となる。25は押圧部材である押えばねであり、M字
形状でそのM字の中央で共通液室を軽圧で押圧すると共
に前だれ部26で液路の一部、好ましくは吐出口近傍の
領域を線圧で集中押圧する。ヒータボード2および天板
6を押えばね25の足部が支持体24の穴24a,24
bを通って支持体24の裏面側に係合することでこれら
を挟み込んだ状態で両者を係合させることにより、押え
ばね25とその前だれ部26の集中付勢力によってヒー
タボード2と天板6とを圧着固定する。なお、27はイ
ンク供給部材であって、図示しないインクタンクから供
給されるインクを、押えばね25によりヒータボード
(基板)2に圧着固定された天板6を介してヒータボー
ド2のインク流路に供給するための部材である。
例えば金属製の支持体で、インクジェットユニットの底
板となる。25は押圧部材である押えばねであり、M字
形状でそのM字の中央で共通液室を軽圧で押圧すると共
に前だれ部26で液路の一部、好ましくは吐出口近傍の
領域を線圧で集中押圧する。ヒータボード2および天板
6を押えばね25の足部が支持体24の穴24a,24
bを通って支持体24の裏面側に係合することでこれら
を挟み込んだ状態で両者を係合させることにより、押え
ばね25とその前だれ部26の集中付勢力によってヒー
タボード2と天板6とを圧着固定する。なお、27はイ
ンク供給部材であって、図示しないインクタンクから供
給されるインクを、押えばね25によりヒータボード
(基板)2に圧着固定された天板6を介してヒータボー
ド2のインク流路に供給するための部材である。
【0025】上述のように天板と基板との接合に押えば
ねを用いる方法では、押えばねにより基板の面に直交す
る方向に圧着できることから、接着剤を用いることな
く、上記接合を容易に行うことができる利点がある。
ねを用いる方法では、押えばねにより基板の面に直交す
る方向に圧着できることから、接着剤を用いることな
く、上記接合を容易に行うことができる利点がある。
【0026】しかしながら、上記接合により天板と基板
との間に形成される複数のインク流路の壁を基板に均一
な力で押圧することが困難である。このため、特に多数
のインク流路を有するインクジェットプリントヘッドで
は、図6に示すように、基板2とインク流路壁3aの端
部との間に隙間Cが形成されることがあり、この隙間C
の存在により、クロストークが発生する。このクロスト
ークにより、発熱体1からの熱エネルギーによりインク
流路3中のインクに発生する膜発泡Bの圧力が隣接する
インク流路へ逃げる(図6中の矢印方向)など圧力損失
を生じることがあり、また、隙間Cの存在により膜発泡
Bの圧力が隣接するインク流路へ伝搬し、そのインク流
路の吐出口(オリフィス)におけるインクのメニスカス
が発熱体側へ後退するなどの変動を生じることがあり、
この場合にはインク吐出量の変動が発生することがあっ
た。
との間に形成される複数のインク流路の壁を基板に均一
な力で押圧することが困難である。このため、特に多数
のインク流路を有するインクジェットプリントヘッドで
は、図6に示すように、基板2とインク流路壁3aの端
部との間に隙間Cが形成されることがあり、この隙間C
の存在により、クロストークが発生する。このクロスト
ークにより、発熱体1からの熱エネルギーによりインク
流路3中のインクに発生する膜発泡Bの圧力が隣接する
インク流路へ逃げる(図6中の矢印方向)など圧力損失
を生じることがあり、また、隙間Cの存在により膜発泡
Bの圧力が隣接するインク流路へ伝搬し、そのインク流
路の吐出口(オリフィス)におけるインクのメニスカス
が発熱体側へ後退するなどの変動を生じることがあり、
この場合にはインク吐出量の変動が発生することがあっ
た。
【0027】なお、図6における符号30は耐キャビテ
ーション膜であり、31は保護膜であり、32は層間絶
縁膜である。
ーション膜であり、31は保護膜であり、32は層間絶
縁膜である。
【0028】上述のようなクロストークは、インクジェ
ットプリントヘッドにおいては、極めて重大であり、そ
の発生防止は急務である。
ットプリントヘッドにおいては、極めて重大であり、そ
の発生防止は急務である。
【0029】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の基板
と天板との接合方法により生じることがあったクロスト
ークの発生を確実に防止し得るインクジェットプリント
ヘッドを提供するものである。
と天板との接合方法により生じることがあったクロスト
ークの発生を確実に防止し得るインクジェットプリント
ヘッドを提供するものである。
【0030】また、本発明は、上述のインクジェットプ
リントヘッドを搭載したインクジェットプリント装置を
提供するものである。
リントヘッドを搭載したインクジェットプリント装置を
提供するものである。
【0031】さらに、本発明は、上述のインクジェット
プリントヘッドの製造方法を提供するものである。
プリントヘッドの製造方法を提供するものである。
【0032】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、次のようなものである。
に本発明は、次のようなものである。
【0033】すなわち、インクを吐出するために利用さ
れるエネルギを発生する複数の吐出エネルギ発生素子を
有する基板と、該基板に接合して該基板との間に、前記
インクを吐出するための吐出口と該吐出口に連通すると
共に前記各吐出エネルギ発生素子に対応する位置に形成
された複数の溝とを含むインク流路を構成する天板とを
含み、前記吐出口が前記吐出エネルギ発生素子の面に沿
う方向に設けられたインクジェットプリントヘッドであ
って、前記天板は前記基板との接合面に突出部を有し、
かつ、前記基板は、前記天板の突出部を嵌合するオーバ
ーハング構造の凹部を有するインクジェットプリントヘ
ッド、前記天板の突出部は、前記天板と前記基板との間
に形成されるインク流路の一部を構成する複数の壁部で
あり、前記基板の凹部は前記各壁部に対応する位置に形
成されているインクジェットプリントヘッド、前記天板
の突出部の端部は、前記基板の凹部内への嵌合後の溶着
により、前記基板の凹部から抜け出し不能な状態に変形
しているインクジェットプリントヘッド、前記基板の凹
部は、該基板上に形成された少なくとも1層からなる凹
部形成層のうち、前記天板の突出部に対応する前記凹部
形成層の所定部分を除去することにより形成されている
インクジェットプリントヘッド、前記凹部形成層は複数
の層から構成されており、前記基板に近い層ほど広く除
去され、かつ、前記基板から遠い層ほど狭く除去される
ことにより前記凹部が形成されているインクジェットプ
リントヘッド、前記凹部形成層は金属材料または絶縁性
材料から形成されているインクジェットプリントヘッ
ド、前記凹部形成層は感光性樹脂から形成されているイ
ンクジェットプリントヘッド、前記凹部形成層は前記基
板の耐キャビテーション体層上に形成されているインク
ジェットプリントヘッド、前記凹部形成層を構成する金
属材料はタンタル、アルミニウム、アルミニウム合金、
チタン、ニッケル、タングステンからなる群より選択さ
れたものであるインクジェットプリントヘッド、前記凹
部形成層を構成する絶縁性材料は窒化シリコン、アルミ
ナ、シリカ、酸化シリコンからなる群より選択されたも
のであるインクジェットプリントヘッド、前記感光性樹
脂から形成された前記凹部形成層はアクリル系樹脂、ゴ
ム系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミドであるイン
クジェットプリントヘッド、前記基板の凹部の深さは1
μm以上である前記のインクジェットプリントヘッド、
前記基板のエネルギ発生素子はインクを吐出するために
利用される熱エネルギを発生するための電気熱変換体で
あるインクジェットプリントヘッド、インクを吐出する
ために利用されるエネルギを発生する複数の吐出エネル
ギ発生素子を有する基板と、該基板に接合して該基板と
の間に、前記インクを吐出するための吐出口と該吐出口
に連通すると共に前記各吐出エネルギ発生素子に対応す
る位置に形成された複数の溝とを含むインク流路を構成
する天板とを含み、前記吐出口が前記吐出エネルギ発生
素子の面に沿う方向に設けられたインクジェットプリン
トヘッドの製造方法であって、前記基板上にオーバーハ
ング構造の凹部を形成する工程と、該凹部に前記天板の
突出部を嵌合する工程と、前記天板の突出部のうち、前
記凹部内に嵌入している部分を溶融して前記基板の凹部
から抜け出し不能な状態に変形させる工程とを含むイン
クジェットプリントヘッドの製造方法、前記天板の突出
部は、前記天板と前記基板との間に形成されるインク流
路の一部を構成する複数の壁部であり、前記基板の凹部
は前記各壁部に対応する位置に形成されているインクジ
ェットプリントヘッドの製造方法、前記溶融変形工程は
熱溶着または超音波溶着により行われるインクジェット
プリントヘッドの製造方法、前記凹部形成工程は、前記
基板上に少なくとも1層からなる凹部形成層を形成した
後、前記天板の突出部に対応する前記凹部形成層の所定
部分を除去することにより行われるインクジェットプリ
ントヘッドの製造方法、前記凹部形成工程における層の
除去はエッチングにより行われるインクジェットプリン
トヘッドの製造方法、前記凹部形成工程における層の形
成は、前記基板に近いほどエッチング速度の速い層を形
成した後、前記基板から遠いほどエッチング速度の遅い
層を形成することにより行われるインクジェットプリン
トヘッドの製造方法、前記のインクジェットプリントヘ
ッドを搭載する部材を備えたインクジェットプリント装
置、前記インクジェットプリントヘッド搭載部材は、前
記インクジェットプリントヘッドによりインクが吐出さ
れる被プリント媒体の搬送方向に直交する方向に往復移
動可能であるインクジェットプリント装置である。
れるエネルギを発生する複数の吐出エネルギ発生素子を
有する基板と、該基板に接合して該基板との間に、前記
インクを吐出するための吐出口と該吐出口に連通すると
共に前記各吐出エネルギ発生素子に対応する位置に形成
された複数の溝とを含むインク流路を構成する天板とを
含み、前記吐出口が前記吐出エネルギ発生素子の面に沿
う方向に設けられたインクジェットプリントヘッドであ
って、前記天板は前記基板との接合面に突出部を有し、
かつ、前記基板は、前記天板の突出部を嵌合するオーバ
ーハング構造の凹部を有するインクジェットプリントヘ
ッド、前記天板の突出部は、前記天板と前記基板との間
に形成されるインク流路の一部を構成する複数の壁部で
あり、前記基板の凹部は前記各壁部に対応する位置に形
成されているインクジェットプリントヘッド、前記天板
の突出部の端部は、前記基板の凹部内への嵌合後の溶着
により、前記基板の凹部から抜け出し不能な状態に変形
しているインクジェットプリントヘッド、前記基板の凹
部は、該基板上に形成された少なくとも1層からなる凹
部形成層のうち、前記天板の突出部に対応する前記凹部
形成層の所定部分を除去することにより形成されている
インクジェットプリントヘッド、前記凹部形成層は複数
の層から構成されており、前記基板に近い層ほど広く除
去され、かつ、前記基板から遠い層ほど狭く除去される
ことにより前記凹部が形成されているインクジェットプ
リントヘッド、前記凹部形成層は金属材料または絶縁性
材料から形成されているインクジェットプリントヘッ
ド、前記凹部形成層は感光性樹脂から形成されているイ
ンクジェットプリントヘッド、前記凹部形成層は前記基
板の耐キャビテーション体層上に形成されているインク
ジェットプリントヘッド、前記凹部形成層を構成する金
属材料はタンタル、アルミニウム、アルミニウム合金、
チタン、ニッケル、タングステンからなる群より選択さ
れたものであるインクジェットプリントヘッド、前記凹
部形成層を構成する絶縁性材料は窒化シリコン、アルミ
ナ、シリカ、酸化シリコンからなる群より選択されたも
のであるインクジェットプリントヘッド、前記感光性樹
脂から形成された前記凹部形成層はアクリル系樹脂、ゴ
ム系樹脂、エポキシ系樹脂またはポリイミドであるイン
クジェットプリントヘッド、前記基板の凹部の深さは1
μm以上である前記のインクジェットプリントヘッド、
前記基板のエネルギ発生素子はインクを吐出するために
利用される熱エネルギを発生するための電気熱変換体で
あるインクジェットプリントヘッド、インクを吐出する
ために利用されるエネルギを発生する複数の吐出エネル
ギ発生素子を有する基板と、該基板に接合して該基板と
の間に、前記インクを吐出するための吐出口と該吐出口
に連通すると共に前記各吐出エネルギ発生素子に対応す
る位置に形成された複数の溝とを含むインク流路を構成
する天板とを含み、前記吐出口が前記吐出エネルギ発生
素子の面に沿う方向に設けられたインクジェットプリン
トヘッドの製造方法であって、前記基板上にオーバーハ
ング構造の凹部を形成する工程と、該凹部に前記天板の
突出部を嵌合する工程と、前記天板の突出部のうち、前
記凹部内に嵌入している部分を溶融して前記基板の凹部
から抜け出し不能な状態に変形させる工程とを含むイン
クジェットプリントヘッドの製造方法、前記天板の突出
部は、前記天板と前記基板との間に形成されるインク流
路の一部を構成する複数の壁部であり、前記基板の凹部
は前記各壁部に対応する位置に形成されているインクジ
ェットプリントヘッドの製造方法、前記溶融変形工程は
熱溶着または超音波溶着により行われるインクジェット
プリントヘッドの製造方法、前記凹部形成工程は、前記
基板上に少なくとも1層からなる凹部形成層を形成した
後、前記天板の突出部に対応する前記凹部形成層の所定
部分を除去することにより行われるインクジェットプリ
ントヘッドの製造方法、前記凹部形成工程における層の
除去はエッチングにより行われるインクジェットプリン
トヘッドの製造方法、前記凹部形成工程における層の形
成は、前記基板に近いほどエッチング速度の速い層を形
成した後、前記基板から遠いほどエッチング速度の遅い
層を形成することにより行われるインクジェットプリン
トヘッドの製造方法、前記のインクジェットプリントヘ
ッドを搭載する部材を備えたインクジェットプリント装
置、前記インクジェットプリントヘッド搭載部材は、前
記インクジェットプリントヘッドによりインクが吐出さ
れる被プリント媒体の搬送方向に直交する方向に往復移
動可能であるインクジェットプリント装置である。
【0034】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。なお、本発明の実施の形態におけ
る各構成要素が前述の図面に示された構成要素と同一で
あるときは、同一符号を付し、その部分の説明を省略す
る。
施の形態を説明する。なお、本発明の実施の形態におけ
る各構成要素が前述の図面に示された構成要素と同一で
あるときは、同一符号を付し、その部分の説明を省略す
る。
【0035】図7は本発明のインクジェットプリントヘ
ッドの基本的な態様を示す斜視図であり、図8は図7の
A−A′線に沿う断面図である。基板2上にはエネルギ
ー発生素子1および該素子1上に保護膜31が形成さ
れ、この保護膜31上にはオーバーハング構造を有する
凹部40を有する凹部形成層41が形成されている。基
板2上には天板6が載せられ、エネルギー発生素子1と
インク吐出口5の位置関係を所定の関係とすべく位置合
わせされる、インク流路壁3aが凹部40に嵌着するよ
うに天板は作製されている。天板6と基板2との位置合
わせを行った後、天板6と基板2とを圧着せしめるよう
に加重を付与しつつ熱処理等の溶融変形処理を行うこと
によって凹部40内に嵌着されたインク流路壁3aの端
部は変形し、凹部40内から抜け出し不可能な状態で嵌
合することによって基板と天板の固定がなされる。な
お、本実施形態においては、上記熱処理には、熱溶着が
含まれる。また、上記溶融変形処理には超音波溶着など
が含まれる。
ッドの基本的な態様を示す斜視図であり、図8は図7の
A−A′線に沿う断面図である。基板2上にはエネルギ
ー発生素子1および該素子1上に保護膜31が形成さ
れ、この保護膜31上にはオーバーハング構造を有する
凹部40を有する凹部形成層41が形成されている。基
板2上には天板6が載せられ、エネルギー発生素子1と
インク吐出口5の位置関係を所定の関係とすべく位置合
わせされる、インク流路壁3aが凹部40に嵌着するよ
うに天板は作製されている。天板6と基板2との位置合
わせを行った後、天板6と基板2とを圧着せしめるよう
に加重を付与しつつ熱処理等の溶融変形処理を行うこと
によって凹部40内に嵌着されたインク流路壁3aの端
部は変形し、凹部40内から抜け出し不可能な状態で嵌
合することによって基板と天板の固定がなされる。な
お、本実施形態においては、上記熱処理には、熱溶着が
含まれる。また、上記溶融変形処理には超音波溶着など
が含まれる。
【0036】本発明に於て、オーバーハング構造の凹部
40を有する凹部形成層41を形成することが大きなポ
イントである。一般的には真空成膜法により凹部形成層
41を成膜し、次いで該被膜41上にレジストパターン
を形成した後、ドライエッチングによりエッチングを行
うか、あるいはケミカルエッチングにより加工を行うこ
とによってオーバーハング構造の凹部40を形成でき
る。ドライエッチングでは、エッチングガスの圧力を高
くすることによってエッチングの異方性を低減させ、オ
ーバーハング構造とすることが可能である。また、ケミ
カルエッチングによるエッチングは本質的に等方的に行
われるために、凹部40をオーバーハング構造とするこ
とが可能である。
40を有する凹部形成層41を形成することが大きなポ
イントである。一般的には真空成膜法により凹部形成層
41を成膜し、次いで該被膜41上にレジストパターン
を形成した後、ドライエッチングによりエッチングを行
うか、あるいはケミカルエッチングにより加工を行うこ
とによってオーバーハング構造の凹部40を形成でき
る。ドライエッチングでは、エッチングガスの圧力を高
くすることによってエッチングの異方性を低減させ、オ
ーバーハング構造とすることが可能である。また、ケミ
カルエッチングによるエッチングは本質的に等方的に行
われるために、凹部40をオーバーハング構造とするこ
とが可能である。
【0037】オーバーハング構造の凹部を形成するため
に、用いられる凹部形成層を形成する被膜材料として
は、耐インク性が高く、また成膜が容易であることが望
まれる。このような特性を満足する樹脂としては、例え
ばシリコン系ポリマーを挙げることができる。このポリ
マーは有機溶剤に可溶であり、スピンコート可能な為、
成膜が容易であり、またアルカリ性のインクに対しても
高い耐性を有している。一般的なシロキサン系樹脂は常
温により液体状であるが、ポリジフェニルシロキサンお
よびラダー形シリコン樹脂は、常温により固体状である
ので、本発明への適用が可能である。
に、用いられる凹部形成層を形成する被膜材料として
は、耐インク性が高く、また成膜が容易であることが望
まれる。このような特性を満足する樹脂としては、例え
ばシリコン系ポリマーを挙げることができる。このポリ
マーは有機溶剤に可溶であり、スピンコート可能な為、
成膜が容易であり、またアルカリ性のインクに対しても
高い耐性を有している。一般的なシロキサン系樹脂は常
温により液体状であるが、ポリジフェニルシロキサンお
よびラダー形シリコン樹脂は、常温により固体状である
ので、本発明への適用が可能である。
【0038】具体的にはポリジフェニルシロキサンの
他、ポリメチルシルセスキオキサン、ポリエチルシルセ
スキオキサン、ポリフェニルシルセスキオキサン等を挙
げることができる。これらシリコン樹脂はエステルやケ
トン等の有機溶剤に溶解するため、スピンコート法によ
り簡便に成膜することができる。また、シリコン系ポリ
マーは高分子末端に未反応の水酸基が現存しているた
め、塗布後に200〜400℃の熱処理を行うことによ
って架橋させることが可能である。更には400〜50
0℃程度の熱処理を行うことによって、メチルやエチル
等の炭化水素基が離脱し酸化シリコン被膜とすることも
可能である。
他、ポリメチルシルセスキオキサン、ポリエチルシルセ
スキオキサン、ポリフェニルシルセスキオキサン等を挙
げることができる。これらシリコン樹脂はエステルやケ
トン等の有機溶剤に溶解するため、スピンコート法によ
り簡便に成膜することができる。また、シリコン系ポリ
マーは高分子末端に未反応の水酸基が現存しているた
め、塗布後に200〜400℃の熱処理を行うことによ
って架橋させることが可能である。更には400〜50
0℃程度の熱処理を行うことによって、メチルやエチル
等の炭化水素基が離脱し酸化シリコン被膜とすることも
可能である。
【0039】上記シリコン系被膜の加工方法としては、
該被膜上にレジストを塗布し、パターニングし、ドライ
エッチングやケミカルエッチングを行うことによって容
易に加工できる。ドライエッチングとしてはCF4 やC
3 F8 等のガスによってドライエッチングできる。ま
た、50Pa以上の高い圧力でのエッチングにより、エ
ッチングの異方性を低減させることができるので、オー
バーハング構造の凹部を形成することができる。またケ
ミカルエッチングを行う場合はフッ酸系のエッチング液
を用いることが可能である。しかしながら、このフッ酸
系のエッチング液を用いた場合には、汎用的に使用され
る保護膜材料である、酸化シリコンや窒化シリコン被膜
もエッチングされるため、保護膜材料としてエッチャン
トに対して耐性の高い材料とする必要がある。最も好ま
しくは、保護膜材料としてポリイミド系高分子材料を使
用すれば十分な選択比を実現することができる。ポリイ
ミド被膜用の高分子材料としては、日立化成社製PI
Q、東レ社製フォトニース、旭化成社製PIMEL等を
使用することが可能である。
該被膜上にレジストを塗布し、パターニングし、ドライ
エッチングやケミカルエッチングを行うことによって容
易に加工できる。ドライエッチングとしてはCF4 やC
3 F8 等のガスによってドライエッチングできる。ま
た、50Pa以上の高い圧力でのエッチングにより、エ
ッチングの異方性を低減させることができるので、オー
バーハング構造の凹部を形成することができる。またケ
ミカルエッチングを行う場合はフッ酸系のエッチング液
を用いることが可能である。しかしながら、このフッ酸
系のエッチング液を用いた場合には、汎用的に使用され
る保護膜材料である、酸化シリコンや窒化シリコン被膜
もエッチングされるため、保護膜材料としてエッチャン
トに対して耐性の高い材料とする必要がある。最も好ま
しくは、保護膜材料としてポリイミド系高分子材料を使
用すれば十分な選択比を実現することができる。ポリイ
ミド被膜用の高分子材料としては、日立化成社製PI
Q、東レ社製フォトニース、旭化成社製PIMEL等を
使用することが可能である。
【0040】更に、オーバーハング状凹部を形成する材
料として有機高分子化合物も使用することができる。高
分子化合物としては、溶剤に溶解してスピンコートでき
るものであれば何れの材料も使用できるが、耐インク性
が高い点でポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、
ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)を使用できる
他、熱硬化性を有するものとして、エポキシ樹脂、ポリ
ジアリフタレート樹脂等も好適に使用できる。高分子被
膜のパターニング方法としては、被膜上に酸素プラズマ
に対する耐性の高い材料を用いてマスクパターンを形成
し、酸素プラズマによりドライエッチングを行えばオー
バーハング構造の凹部を形成することができる。最も簡
便なパターニング方法としては、シリコン系レジストを
フォトリソグラフィーによりパターニングし、このパタ
ーンをマスクとしてドライエッチングする方法を挙げる
ことができる。シリコン系レジストとしては、東ソー社
製CMS、フジハント社製FH−SP等を使用すること
ができる。特にFH−SPは汎用の露光装置によりパタ
ーニング可能であり、またアルカリ性現像液を用いても
現像できることから、シリコンを含有したマスクパター
ンを簡便に作製できる。
料として有機高分子化合物も使用することができる。高
分子化合物としては、溶剤に溶解してスピンコートでき
るものであれば何れの材料も使用できるが、耐インク性
が高い点でポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、
ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)を使用できる
他、熱硬化性を有するものとして、エポキシ樹脂、ポリ
ジアリフタレート樹脂等も好適に使用できる。高分子被
膜のパターニング方法としては、被膜上に酸素プラズマ
に対する耐性の高い材料を用いてマスクパターンを形成
し、酸素プラズマによりドライエッチングを行えばオー
バーハング構造の凹部を形成することができる。最も簡
便なパターニング方法としては、シリコン系レジストを
フォトリソグラフィーによりパターニングし、このパタ
ーンをマスクとしてドライエッチングする方法を挙げる
ことができる。シリコン系レジストとしては、東ソー社
製CMS、フジハント社製FH−SP等を使用すること
ができる。特にFH−SPは汎用の露光装置によりパタ
ーニング可能であり、またアルカリ性現像液を用いても
現像できることから、シリコンを含有したマスクパター
ンを簡便に作製できる。
【0041】ドライエッチングは酸素プラズマを使用し
た反応性イオンエッチング(RIE)により行うことが
できる。オーバーハング構造を形成するため、20Pa
以上のガス圧力で行うことが好ましく、またエッチング
時間としても、ジャストエッチングに対するオーバーエ
ッチングを10〜50%行うことが好ましい。本発明に
於ては、酸素プラズマによりエッチングを行う為、下地
である保護膜あるいは耐キャビテーション被膜として酸
化シリコンや窒化シリコン、タンタル等を使用すること
が可能である。
た反応性イオンエッチング(RIE)により行うことが
できる。オーバーハング構造を形成するため、20Pa
以上のガス圧力で行うことが好ましく、またエッチング
時間としても、ジャストエッチングに対するオーバーエ
ッチングを10〜50%行うことが好ましい。本発明に
於ては、酸素プラズマによりエッチングを行う為、下地
である保護膜あるいは耐キャビテーション被膜として酸
化シリコンや窒化シリコン、タンタル等を使用すること
が可能である。
【0042】また、電気熱変換素子を形成した基板は、
ヒータやアルミ等の配線が配設されていない箇所は、通
常酸化シリコンの蓄熱層上に、窒化シリコンの保護膜お
よび耐キャビテーション膜としてのタンタル膜が形成さ
れている。従ってフッ酸と硝酸の混合液でのウエットエ
ッチングあるいはフッ素系ガスでのドライエッチングに
てタンタル膜をエッチングした後、フッ酸とフッ化アン
モニウムの混合液にて酸化シリコン膜や窒化シリコン膜
をウエットエッチングすれば良好なオーバーハング構造
を形成することが可能である。なお、このときアルミ等
の配線をヒータ下に配設すれば、ヒータとヒータの間に
は、上記したオーバーハング構造を作製する領域を確保
することが可能である。
ヒータやアルミ等の配線が配設されていない箇所は、通
常酸化シリコンの蓄熱層上に、窒化シリコンの保護膜お
よび耐キャビテーション膜としてのタンタル膜が形成さ
れている。従ってフッ酸と硝酸の混合液でのウエットエ
ッチングあるいはフッ素系ガスでのドライエッチングに
てタンタル膜をエッチングした後、フッ酸とフッ化アン
モニウムの混合液にて酸化シリコン膜や窒化シリコン膜
をウエットエッチングすれば良好なオーバーハング構造
を形成することが可能である。なお、このときアルミ等
の配線をヒータ下に配設すれば、ヒータとヒータの間に
は、上記したオーバーハング構造を作製する領域を確保
することが可能である。
【0043】以上のように形成したオーバーハング状凹
部を有する基板上に天板を載せ、インク吐出口と基板上
のエネルギー発生素子との位置合わせを行う。位置合わ
せ方法としては、基板に形成したアライメントマークと
吐出口とを画像処理を行って位置合わせする方法により
行っても構わないし、また基板の凹部に天板のインク流
路壁の端部を振動等により落とし込むことによって天板
と基板との位置合わせを行っても構わない。
部を有する基板上に天板を載せ、インク吐出口と基板上
のエネルギー発生素子との位置合わせを行う。位置合わ
せ方法としては、基板に形成したアライメントマークと
吐出口とを画像処理を行って位置合わせする方法により
行っても構わないし、また基板の凹部に天板のインク流
路壁の端部を振動等により落とし込むことによって天板
と基板との位置合わせを行っても構わない。
【0044】次いで基板と天板を圧着しつつ加熱処理を
行い、インク流路壁の端部を溶融して変形させ、基板に
形成したオーバーハング状凹部に固定する。天板と基板
との圧着の方法としては、天板上方より天板を基板に押
し付けて圧着せしめることが好ましい。圧着方法や圧着
力は天板の形状等によって夫々適性化することが好まし
い。また圧着後の加熱処理については、樹脂製天板の熱
変形温度によって異なる為、夫々適性化することが好ま
しいが、一般的には60〜150℃程度の温度で1〜1
0分間程度行うことが好適である。
行い、インク流路壁の端部を溶融して変形させ、基板に
形成したオーバーハング状凹部に固定する。天板と基板
との圧着の方法としては、天板上方より天板を基板に押
し付けて圧着せしめることが好ましい。圧着方法や圧着
力は天板の形状等によって夫々適性化することが好まし
い。また圧着後の加熱処理については、樹脂製天板の熱
変形温度によって異なる為、夫々適性化することが好ま
しいが、一般的には60〜150℃程度の温度で1〜1
0分間程度行うことが好適である。
【0045】以上記載したように、基板にオーバーハン
グ状凹部パターンを設けて、これに天板のインク流路壁
を抜け出し不可能な状態で嵌着することによって、基板
と天板を安定して密着することが可能となり、良好な吐
出特性を有するインクジェットヘッドを作製することが
できる。尚本発明に於ては、基板と天板を圧着する為の
押えばね等は基本的には必要ないが、補助的に押えばね
により圧着せしめることは構わない。
グ状凹部パターンを設けて、これに天板のインク流路壁
を抜け出し不可能な状態で嵌着することによって、基板
と天板を安定して密着することが可能となり、良好な吐
出特性を有するインクジェットヘッドを作製することが
できる。尚本発明に於ては、基板と天板を圧着する為の
押えばね等は基本的には必要ないが、補助的に押えばね
により圧着せしめることは構わない。
【0046】また、本発明においては、天板のインク流
路壁の端部を基板の凹部に振動等により落とし込み、天
板に超音波を印加することにより、天板と基板とを強固
に溶着接合することもできる。
路壁の端部を基板の凹部に振動等により落とし込み、天
板に超音波を印加することにより、天板と基板とを強固
に溶着接合することもできる。
【0047】さらに、本発明においては、基板の吐出エ
ネルギ発生素子を保護するための少なくとも一層の保護
層の所定部位をオーバーハング構造となるように除去し
て凹部を形成することもできる。この場合、保護層のパ
ターンを変更するだけで凹部を形成できるので、保護層
の他に凹部形成層を別工程で成膜する必要がない利点が
ある。
ネルギ発生素子を保護するための少なくとも一層の保護
層の所定部位をオーバーハング構造となるように除去し
て凹部を形成することもできる。この場合、保護層のパ
ターンを変更するだけで凹部を形成できるので、保護層
の他に凹部形成層を別工程で成膜する必要がない利点が
ある。
【0048】以下本発明を実施例を以て更に詳細に説明
するが、本発明が下記実施例に限定されるものではない
ことは言うまでもない。
するが、本発明が下記実施例に限定されるものではない
ことは言うまでもない。
【0049】
(実施例1)図9(a)〜(e)は本発明のインクジェ
ットプリントヘッドの製造方法の一実施例を工程順に示
し、図7のA−A′線に沿う断面図である。
ットプリントヘッドの製造方法の一実施例を工程順に示
し、図7のA−A′線に沿う断面図である。
【0050】図9(a)に示すように、シリコン製の基
板2上にPSGまたはSiO2 からなる層間絶縁膜32
を設け、この上に吐出エネルギ発生素子を形成するため
の窒化シリコンからなるヒータ層1を設け、この上にヒ
ータ層1を保護するための窒化シリコンからなる保護膜
31を設け、この上に耐キャビテーション膜30を設け
た。
板2上にPSGまたはSiO2 からなる層間絶縁膜32
を設け、この上に吐出エネルギ発生素子を形成するため
の窒化シリコンからなるヒータ層1を設け、この上にヒ
ータ層1を保護するための窒化シリコンからなる保護膜
31を設け、この上に耐キャビテーション膜30を設け
た。
【0051】本実施例においては、基板2と後述の凹部
形成層としてのポリサルフォン層との更なる密着性を向
上させるために、耐キャビテーション膜30上に酸化タ
ンタル被膜29を設けた。なお、この酸化タンタル被膜
29上にポリサルフォン層をソルベントコート法により
形成した。以下、このポリサルフォン層の形成方法につ
いて説明する。
形成層としてのポリサルフォン層との更なる密着性を向
上させるために、耐キャビテーション膜30上に酸化タ
ンタル被膜29を設けた。なお、この酸化タンタル被膜
29上にポリサルフォン層をソルベントコート法により
形成した。以下、このポリサルフォン層の形成方法につ
いて説明する。
【0052】予め基板2上の酸化タンタル被膜29に対
し酸素プラズマ処理およびシランカップリング処理を施
した。ポリサルフォン(アモコ社製UDEL POLY
SULFON)を10wt%の濃度となるようにジクロ
ルメタンに溶解し、シクロヘキサノンを用いて2倍に希
釈した溶液を調製した。この溶液をスピナーを用いて1
000rpm、90秒の条件で基板2上の酸化タンタル
被膜29上にスピンコートした後、90℃で30分間プ
リベークを行い、次いで350℃で30分間ベークを行
うことによって、ポリサルフォン層41と酸化タンタル
被膜29の密着性を高めた。ポリサルフォン被膜41の
膜厚は3μmであった。なお、図面の簡略化の為、タン
タルからなる耐キャビテーション膜30および酸化タン
タル被膜29は以下の図9(b)〜(e)においては省
略することとし、符号31は両被膜29および30を含
む保護膜を示すものとする。
し酸素プラズマ処理およびシランカップリング処理を施
した。ポリサルフォン(アモコ社製UDEL POLY
SULFON)を10wt%の濃度となるようにジクロ
ルメタンに溶解し、シクロヘキサノンを用いて2倍に希
釈した溶液を調製した。この溶液をスピナーを用いて1
000rpm、90秒の条件で基板2上の酸化タンタル
被膜29上にスピンコートした後、90℃で30分間プ
リベークを行い、次いで350℃で30分間ベークを行
うことによって、ポリサルフォン層41と酸化タンタル
被膜29の密着性を高めた。ポリサルフォン被膜41の
膜厚は3μmであった。なお、図面の簡略化の為、タン
タルからなる耐キャビテーション膜30および酸化タン
タル被膜29は以下の図9(b)〜(e)においては省
略することとし、符号31は両被膜29および30を含
む保護膜を示すものとする。
【0053】次に、図9(b)に示すように、ポリサル
フォン被膜41上にシランカップリング処理を行った
後、シリコン系ポジ型フォトレジスト(フジハントテク
ノロジー社製FH−SP)をスピンコート法により10
00rpm、60秒の条件で塗布し、フォトレジスト被
膜42を形成した。この被膜42に対し90℃で30分
間プリベークを行った。このフォトレジスト被膜42の
膜厚は0.5μmであった。次いで、マスクアライナー
(キヤノン製PLA−601)を用いて15カウントの
露光を行った、現像はアルカリ性専用現像液を用いて6
0秒間行い、レジストの不要部分を除去した。
フォン被膜41上にシランカップリング処理を行った
後、シリコン系ポジ型フォトレジスト(フジハントテク
ノロジー社製FH−SP)をスピンコート法により10
00rpm、60秒の条件で塗布し、フォトレジスト被
膜42を形成した。この被膜42に対し90℃で30分
間プリベークを行った。このフォトレジスト被膜42の
膜厚は0.5μmであった。次いで、マスクアライナー
(キヤノン製PLA−601)を用いて15カウントの
露光を行った、現像はアルカリ性専用現像液を用いて6
0秒間行い、レジストの不要部分を除去した。
【0054】次いで、図9(c)に示すように、シリコ
ン系レジスト42をマスクとしてポリスルフォン被膜4
1に対するドライエッチング加工を行った。ドライエッ
チング装置(日電アネルバ社製DEM−451)を使用
し、酸素ガス圧力50Pa,投入電力0.33W/cm
2 の条件で行った。ポリスルフォン被膜41に対するエ
ッチング速度は0.3μm/秒であり、3μmの膜厚の
エッチングは10分間で終了するが、凹部40のオーバ
ーハング構造を十分なものとする為、さらに3分間のオ
ーバーエッチングを行った。
ン系レジスト42をマスクとしてポリスルフォン被膜4
1に対するドライエッチング加工を行った。ドライエッ
チング装置(日電アネルバ社製DEM−451)を使用
し、酸素ガス圧力50Pa,投入電力0.33W/cm
2 の条件で行った。ポリスルフォン被膜41に対するエ
ッチング速度は0.3μm/秒であり、3μmの膜厚の
エッチングは10分間で終了するが、凹部40のオーバ
ーハング構造を十分なものとする為、さらに3分間のオ
ーバーエッチングを行った。
【0055】前記したように、凹部40のオーバーハン
グ構造を形成する条件としては酸素ガス圧とオーバーエ
ッチング時間が大きく影響する。上記条件で形成した層
の膜厚3μmの樹脂層に対して、オーバーハングは片側
1μmであった。次いで本基板2をダイサーにより切断
し、分離した後、アルミ製ベースプレート(図示略)に
接着剤を用いてダイボンディングを行った。
グ構造を形成する条件としては酸素ガス圧とオーバーエ
ッチング時間が大きく影響する。上記条件で形成した層
の膜厚3μmの樹脂層に対して、オーバーハングは片側
1μmであった。次いで本基板2をダイサーにより切断
し、分離した後、アルミ製ベースプレート(図示略)に
接着剤を用いてダイボンディングを行った。
【0056】次いでポリスルフォンからなる天板を成型
により作製し、エキシマレーザーによりインク吐出口5
を形成した。図9(d)に示すように、この天板6を基
板2上に載せ、吐出エネルギー発生素子1とインク吐出
口5を画像処理により位置合わせを行った。画像処理
は、予めアルミ製ベースプレートを治具に固定した後、
基板に形成したアライメントマーク(図示略)を認識し
(このマークは吐出エネルギー発生素子1の中心部を認
識させる位置に形成されている)、ついで該位置情報に
対して、インク吐出口5の中心位置を画像処理により認
識し、両者を位置合わせする手段によって行った。図9
(d)は、この工程により位置合わせされた天板6と基
板との複合体の断面図である。
により作製し、エキシマレーザーによりインク吐出口5
を形成した。図9(d)に示すように、この天板6を基
板2上に載せ、吐出エネルギー発生素子1とインク吐出
口5を画像処理により位置合わせを行った。画像処理
は、予めアルミ製ベースプレートを治具に固定した後、
基板に形成したアライメントマーク(図示略)を認識し
(このマークは吐出エネルギー発生素子1の中心部を認
識させる位置に形成されている)、ついで該位置情報に
対して、インク吐出口5の中心位置を画像処理により認
識し、両者を位置合わせする手段によって行った。図9
(d)は、この工程により位置合わせされた天板6と基
板との複合体の断面図である。
【0057】次いで、図9(e)に示すように、天板6
の上方より基板に向けて3kgfの加重を付加しつつ、
アルミ製ベースプレート(図示略)の下方よりホットプ
レートにより加熱を行った。ホットプレートの加熱温度
は90℃であり、該条件で基板表面の温度を80℃に設
定した。加熱処理は5分間行うことによって、基板2の
凹部に嵌合した天板6のインク流路壁3aの端部が溶融
し、その溶融部分がオーバーハング構造の凹部から抜け
出し不可能な形状に変形した。このようにして天板と基
板とを接合して両者間に形成されたインク流路間にクロ
ストークの発生を確実に防止できるインクジェットプリ
ントヘッドを作製した。
の上方より基板に向けて3kgfの加重を付加しつつ、
アルミ製ベースプレート(図示略)の下方よりホットプ
レートにより加熱を行った。ホットプレートの加熱温度
は90℃であり、該条件で基板表面の温度を80℃に設
定した。加熱処理は5分間行うことによって、基板2の
凹部に嵌合した天板6のインク流路壁3aの端部が溶融
し、その溶融部分がオーバーハング構造の凹部から抜け
出し不可能な形状に変形した。このようにして天板と基
板とを接合して両者間に形成されたインク流路間にクロ
ストークの発生を確実に防止できるインクジェットプリ
ントヘッドを作製した。
【0058】図7は本実施例によって作製したインクジ
ェットプリントヘッドの吐出エレメントの態様を示す斜
視図である。図7において、配線パターンを形成した回
路基板9はワイヤーボンディング等の手段によって基板
2上と電気的接続が行われている。吐出エネルギー発生
素子1に付与する駆動用電気信号は回路基板9上のコン
タクトパッド8に投入する。またインクは天板6に形成
したインク供給路44にチューブを用いて供給しても構
わないし、またインクタンクを直接接続して供給しても
構わない。
ェットプリントヘッドの吐出エレメントの態様を示す斜
視図である。図7において、配線パターンを形成した回
路基板9はワイヤーボンディング等の手段によって基板
2上と電気的接続が行われている。吐出エネルギー発生
素子1に付与する駆動用電気信号は回路基板9上のコン
タクトパッド8に投入する。またインクは天板6に形成
したインク供給路44にチューブを用いて供給しても構
わないし、またインクタンクを直接接続して供給しても
構わない。
【0059】(実施例2)本実施例はシリコン樹脂を用
いてオーバーハング状凹部形状を作製して天板の密着を
行ったものである。
いてオーバーハング状凹部形状を作製して天板の密着を
行ったものである。
【0060】実施例1と同様に作製した吐出エネルギー
発生素子を形成した基板上の酸化タンタル被膜に対し
て、シリコン樹脂(東京応化工業社製OCD−Type
7(15000−T))をスピナーにより500rp
m,120秒の条件で塗布した。被膜を90℃,15分
間プリベークを行った後300℃,30分間硬化させて
得た被膜の膜厚は1.0μmであった。上記一連の操作
を3回行った後、最後に350℃,1時間硬化させて得
た被膜の膜厚は2.8μmであった。
発生素子を形成した基板上の酸化タンタル被膜に対し
て、シリコン樹脂(東京応化工業社製OCD−Type
7(15000−T))をスピナーにより500rp
m,120秒の条件で塗布した。被膜を90℃,15分
間プリベークを行った後300℃,30分間硬化させて
得た被膜の膜厚は1.0μmであった。上記一連の操作
を3回行った後、最後に350℃,1時間硬化させて得
た被膜の膜厚は2.8μmであった。
【0061】次に、シリコン樹脂被膜上にポジ型フォト
レジスト(東京応化工業社製OFPR−800)をスピ
ナーを用いて塗布し、120℃のホットプレートで12
0秒間プリベークを行った。次いで、マスクアライナー
(キヤノン株式会社製PLA−601FA)を用いてコ
ンタクト露光で50カウントの露光を行い、アルカリ性
現像液OMDを用いて現像を行った。このパターニング
では、コンタクト露光でオーバー露光を行うことによっ
て、ポジ型レジストの断面形状をアンダーカット形状と
し、オーバーハング構造を形成し易いレジストパターン
とした。
レジスト(東京応化工業社製OFPR−800)をスピ
ナーを用いて塗布し、120℃のホットプレートで12
0秒間プリベークを行った。次いで、マスクアライナー
(キヤノン株式会社製PLA−601FA)を用いてコ
ンタクト露光で50カウントの露光を行い、アルカリ性
現像液OMDを用いて現像を行った。このパターニング
では、コンタクト露光でオーバー露光を行うことによっ
て、ポジ型レジストの断面形状をアンダーカット形状と
し、オーバーハング構造を形成し易いレジストパターン
とした。
【0062】次いで、該基板をドライエッチング装置
(日電アネルバ社製DEM−451)内に導入し、エッ
チンガスとしてC3 F8 を使用し、ガス圧8Pa,投入
電力0.33W/cm2 の条件で3分間を要してエッチ
ングを行って凹部を形成した。このエッチングでは、シ
リコン樹脂被膜下が酸化タンタル被膜であり、十分なエ
ッチングの選択比を取ることができない為、10%のオ
ーバーエッチングを経てエッチングを終了した。
(日電アネルバ社製DEM−451)内に導入し、エッ
チンガスとしてC3 F8 を使用し、ガス圧8Pa,投入
電力0.33W/cm2 の条件で3分間を要してエッチ
ングを行って凹部を形成した。このエッチングでは、シ
リコン樹脂被膜下が酸化タンタル被膜であり、十分なエ
ッチングの選択比を取ることができない為、10%のオ
ーバーエッチングを経てエッチングを終了した。
【0063】次いで実施例1と同様にして基板を切断し
ベースプレート上にダイボンディングした。次いで基板
上に天板を載せ、吐出エネルギー発生素子と天板との位
置合わせを行った後、天板に加重を付与しつつ、ベース
プレート下方よりホットプレートを用いて90℃,10
分間の熱処理を施すことによって天板のインク流路壁を
基板の凹部内で溶融変形させて天板と基板とを密着させ
た。
ベースプレート上にダイボンディングした。次いで基板
上に天板を載せ、吐出エネルギー発生素子と天板との位
置合わせを行った後、天板に加重を付与しつつ、ベース
プレート下方よりホットプレートを用いて90℃,10
分間の熱処理を施すことによって天板のインク流路壁を
基板の凹部内で溶融変形させて天板と基板とを密着させ
た。
【0064】(実施例3)実施例2で凹部形成層の材料
として使用したスピンコート可能な有機シリコン樹脂
が、厚膜の塗布を行うためには複数回のコーティングが
必要であること、および厚膜に対して高温のベークを行
うとクラックが入ることがある等の可能性を考慮し、本
実施例では、有機シリコン樹脂に代えて末端水酸基をシ
リル化したポリメチルシルセスキオキサン(日本ゼオン
社製)を使用した。ポリメチルシルセスキオキサンとし
てはメチルイソブチルケトンに20wt%の濃度となる
ように溶解して使用した。
として使用したスピンコート可能な有機シリコン樹脂
が、厚膜の塗布を行うためには複数回のコーティングが
必要であること、および厚膜に対して高温のベークを行
うとクラックが入ることがある等の可能性を考慮し、本
実施例では、有機シリコン樹脂に代えて末端水酸基をシ
リル化したポリメチルシルセスキオキサン(日本ゼオン
社製)を使用した。ポリメチルシルセスキオキサンとし
てはメチルイソブチルケトンに20wt%の濃度となる
ように溶解して使用した。
【0065】実施例2と同様にして基板にポリメチルシ
ルセスキオキサン溶液をスピンコート法により塗布し、
90℃,30分間ベークを行った後、350℃,1時間
硬化させた。次いで実施例2と同様にしてポジ型フォト
レジストのパターニングを行った後、C3 F8 ガスを用
いてドライエッチングを行って凹部形成層に凹部を形成
した。次いで、基板を切断し、アルミ製ベースプレート
にダイボンディングした。天板を基板に載せ、吐出エネ
ルギー発生素子とインク吐出口との位置合わせを行った
後、天板上方より3kgfの加重を付与しつつアルミ製
ベースプレート側よりホットプレートを用いて100
℃,10分間加熱することによって、天板のインク流路
壁を基板の凹部内で溶融変形させて、天板と基板とを密
着させた。
ルセスキオキサン溶液をスピンコート法により塗布し、
90℃,30分間ベークを行った後、350℃,1時間
硬化させた。次いで実施例2と同様にしてポジ型フォト
レジストのパターニングを行った後、C3 F8 ガスを用
いてドライエッチングを行って凹部形成層に凹部を形成
した。次いで、基板を切断し、アルミ製ベースプレート
にダイボンディングした。天板を基板に載せ、吐出エネ
ルギー発生素子とインク吐出口との位置合わせを行った
後、天板上方より3kgfの加重を付与しつつアルミ製
ベースプレート側よりホットプレートを用いて100
℃,10分間加熱することによって、天板のインク流路
壁を基板の凹部内で溶融変形させて、天板と基板とを密
着させた。
【0066】(実施例4)本実施例はオーバーハング構
造の凹部を形成する層の材料樹脂として密着性の高いエ
ポキシを使用し3層レジスト法によりパターニングを行
った例を記載する。
造の凹部を形成する層の材料樹脂として密着性の高いエ
ポキシを使用し3層レジスト法によりパターニングを行
った例を記載する。
【0067】実施例1と同様にして形成した基板の酸化
タンタル被膜上に、エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ
社製エピコート1007)を97部、硬化剤としてトリ
エチレンテトラミンを3部、溶剤としてシクロヘキサノ
ン400部を混合したものをスピナーを用いて塗布し
た。90℃,30分間プリベークを行い、次いで200
℃,1時間硬化させて得た被膜の膜厚は2.5μmであ
った。次いで、被膜上に酸化シリコンをスパッタにより
0.5μmの膜厚で形成し、該被膜上に実施例2と同様
にしてポジ型フォトレジストのパターニングを行った。
タンタル被膜上に、エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ
社製エピコート1007)を97部、硬化剤としてトリ
エチレンテトラミンを3部、溶剤としてシクロヘキサノ
ン400部を混合したものをスピナーを用いて塗布し
た。90℃,30分間プリベークを行い、次いで200
℃,1時間硬化させて得た被膜の膜厚は2.5μmであ
った。次いで、被膜上に酸化シリコンをスパッタにより
0.5μmの膜厚で形成し、該被膜上に実施例2と同様
にしてポジ型フォトレジストのパターニングを行った。
【0068】次いでポジ型フォトレジストをマスクとし
て、実施例2と同様にしてC3 F8ガスを用いて酸化シ
リコン被膜に対するエッチングを行った。この後、酸化
シリコン被膜をマスクとして実施例1と同様に酸素プラ
ズマによりエポキシ被膜に対するエッチングを行った。
この工程で、2.5μmのオーバーハング構造のエポキ
シ樹脂層上に0.5μmの酸化シリコン被膜が載った構
造となっている。基板を実施例1と同様にして切断し、
アルミ製ベースプレート上にダイボンディングした。こ
の後、天板を基板上に載せ、吐出エネルギー発生素子と
インク吐出口とを位置合わせし、天板上方より3kgf
の加重を付与しつつ100℃,10分間の加熱をホット
プレートにより行った。一連の操作によって天板のイン
ク流路壁を基板の凹部内で溶融変形させて、天板と基板
を密着させることができた。
て、実施例2と同様にしてC3 F8ガスを用いて酸化シ
リコン被膜に対するエッチングを行った。この後、酸化
シリコン被膜をマスクとして実施例1と同様に酸素プラ
ズマによりエポキシ被膜に対するエッチングを行った。
この工程で、2.5μmのオーバーハング構造のエポキ
シ樹脂層上に0.5μmの酸化シリコン被膜が載った構
造となっている。基板を実施例1と同様にして切断し、
アルミ製ベースプレート上にダイボンディングした。こ
の後、天板を基板上に載せ、吐出エネルギー発生素子と
インク吐出口とを位置合わせし、天板上方より3kgf
の加重を付与しつつ100℃,10分間の加熱をホット
プレートにより行った。一連の操作によって天板のイン
ク流路壁を基板の凹部内で溶融変形させて、天板と基板
を密着させることができた。
【0069】(実施例5)本実施例はケミカルエッチン
グを用いてオーバーハング構造を形成した例を記載す
る。実施例1と同様にして作製した基板上に蒸着により
ニッケル層2μmを成膜し、このニッケル層上にタンタ
ル被膜1μmを成膜した。次いで、タンタル被膜上にポ
ジ型フォトレジストを実施例2と同様にしてパターニン
グし、130℃,30分間ハードベークを行った。次い
で、タンタル被膜をフッ酸と硝酸の1:3混合液を5倍
に脱イオン水で希釈したエッチャントを用いて90秒
間、エッチングし、その後ニッケル被膜を酸化第二鉄の
10wt%水溶液を用いて3分間、エッチングした。ニ
ッケルエッチャントではタンタルは全くエッチングされ
ない為、タンタル被膜下のニッケルがアンダーカットさ
れた形状のオーバーハング構造を形成できる。
グを用いてオーバーハング構造を形成した例を記載す
る。実施例1と同様にして作製した基板上に蒸着により
ニッケル層2μmを成膜し、このニッケル層上にタンタ
ル被膜1μmを成膜した。次いで、タンタル被膜上にポ
ジ型フォトレジストを実施例2と同様にしてパターニン
グし、130℃,30分間ハードベークを行った。次い
で、タンタル被膜をフッ酸と硝酸の1:3混合液を5倍
に脱イオン水で希釈したエッチャントを用いて90秒
間、エッチングし、その後ニッケル被膜を酸化第二鉄の
10wt%水溶液を用いて3分間、エッチングした。ニ
ッケルエッチャントではタンタルは全くエッチングされ
ない為、タンタル被膜下のニッケルがアンダーカットさ
れた形状のオーバーハング構造を形成できる。
【0070】実施例1と同様にして該基板を切断し、ア
ルミ製ベースプレートにダイボンディングした後、天板
と基板とのアライメントをした。次いで天板に加重を付
与しつつ基板を90℃で加熱することによって、天板の
インク流路壁を基板の凹部内で溶融変形させて、基板と
天板を密着させることができた。
ルミ製ベースプレートにダイボンディングした後、天板
と基板とのアライメントをした。次いで天板に加重を付
与しつつ基板を90℃で加熱することによって、天板の
インク流路壁を基板の凹部内で溶融変形させて、基板と
天板を密着させることができた。
【0071】(実施例6)図10は、本発明のインクジ
ェットプリントヘッドの他の実施例の要部側面図、図1
1は、図10に示したインクジェットプリントヘッドの
要部平面図であり、それぞれ一部を破断した状態で示し
ている。
ェットプリントヘッドの他の実施例の要部側面図、図1
1は、図10に示したインクジェットプリントヘッドの
要部平面図であり、それぞれ一部を破断した状態で示し
ている。
【0072】図10及び図11において、本実施例にお
いては、インクジェットプリントヘッドは基本的には、
吐出エネルギー発生素子としての複数の電気熱変換体1
が所定のピッチで並列配置された単結晶シリコンから成
る基板2と、この基板2に接合されて各電気熱変換体1
の位置に対応するインク流路3を構成する溝4や吐出口
5等が形成された溝付部材である天板6とから概略構成
されている。
いては、インクジェットプリントヘッドは基本的には、
吐出エネルギー発生素子としての複数の電気熱変換体1
が所定のピッチで並列配置された単結晶シリコンから成
る基板2と、この基板2に接合されて各電気熱変換体1
の位置に対応するインク流路3を構成する溝4や吐出口
5等が形成された溝付部材である天板6とから概略構成
されている。
【0073】天板6には、凹所50と、各電気熱変換体
1のピッチに対応して形成されそれぞれ凹所50に連通
する複数の溝4が形成されている。天板6が基板2に接
合されることにより、凹所50はインクタンク(不図
示)から供給されたインクを一時的に保持する共通液室
12を構成し、各溝4は共通液室12からのインクを吐
出口5に導くインク流路3を構成する。各溝4の先端は
天板6の端面に開口しており、それぞれインクが吐出さ
れる吐出口5となっている。
1のピッチに対応して形成されそれぞれ凹所50に連通
する複数の溝4が形成されている。天板6が基板2に接
合されることにより、凹所50はインクタンク(不図
示)から供給されたインクを一時的に保持する共通液室
12を構成し、各溝4は共通液室12からのインクを吐
出口5に導くインク流路3を構成する。各溝4の先端は
天板6の端面に開口しており、それぞれインクが吐出さ
れる吐出口5となっている。
【0074】一方、基板2は支持体7に固定されてお
り、所定のピッチで並列配置された複数の電気熱変換体
1と、各電気熱変換体1を駆動するための駆動回路(不
図示)とが、エッチング、蒸着、スパッタリング等の半
導体プロセスにより成膜形成されたものである。本実施
例の電気熱変換体1は、熱エネルギーを発生することで
インク流路3内のインクに膜沸騰を生じさせ、この膜沸
騰により発生する気泡の成長により、インクを吐出口5
から吐出させるもので、その詳細な構造については後述
する。
り、所定のピッチで並列配置された複数の電気熱変換体
1と、各電気熱変換体1を駆動するための駆動回路(不
図示)とが、エッチング、蒸着、スパッタリング等の半
導体プロセスにより成膜形成されたものである。本実施
例の電気熱変換体1は、熱エネルギーを発生することで
インク流路3内のインクに膜沸騰を生じさせ、この膜沸
騰により発生する気泡の成長により、インクを吐出口5
から吐出させるもので、その詳細な構造については後述
する。
【0075】また、基板2は天板6と接合される面、す
なわち各電気熱変換体1が設けられている面には、各電
気熱変換体1の駆動回路と接続される、アルミニウムか
らなる複数の電極パッド8が形成されている。これら各
電極パッド8は、基板2と同様に支持体7に固定されて
おり、プリント装置からの電気信号を受ける配線基板9
の各配線10に、アルミニウムまたはAuのボンディン
グワイヤー11を介してそれぞれ接続されている。
なわち各電気熱変換体1が設けられている面には、各電
気熱変換体1の駆動回路と接続される、アルミニウムか
らなる複数の電極パッド8が形成されている。これら各
電極パッド8は、基板2と同様に支持体7に固定されて
おり、プリント装置からの電気信号を受ける配線基板9
の各配線10に、アルミニウムまたはAuのボンディン
グワイヤー11を介してそれぞれ接続されている。
【0076】更に、基板2の天板6と接合される面の、
天板6との接合部位に対応する位置には、第3の保護層
41により、天板6の突出部が嵌合される凹部40が形
成されている。凹部40の形状としては、各インク流路
3を形成する複数の流路壁が接合する部分と、天板6の
共通液室12を構成する外周部の形状に沿ったものとが
ある。
天板6との接合部位に対応する位置には、第3の保護層
41により、天板6の突出部が嵌合される凹部40が形
成されている。凹部40の形状としては、各インク流路
3を形成する複数の流路壁が接合する部分と、天板6の
共通液室12を構成する外周部の形状に沿ったものとが
ある。
【0077】ここで、電気熱変換体1について説明す
る。図12は、図11に示した電気熱変換体1の拡大平
面図であり、図13は、図12に示したB−B線断面図
である。
る。図12は、図11に示した電気熱変換体1の拡大平
面図であり、図13は、図12に示したB−B線断面図
である。
【0078】図12及び図13に示すように、基板2の
表面には、熱酸化により得られるSiO2 膜からなる蓄
熱層としての層間絶縁膜51が、1〜7μm、好ましく
は2〜4μmの膜厚で形成される。蓄熱層51上には、
各インク流路3(図11参照)の位置に対応する複数の
発熱抵抗層16が形成される。発熱抵抗層52は、例え
ばHfB2 膜またはTaNX を含む膜からなり、その膜
厚は100〜300オングストローム、好ましくは50
0〜1500オングストロームである。
表面には、熱酸化により得られるSiO2 膜からなる蓄
熱層としての層間絶縁膜51が、1〜7μm、好ましく
は2〜4μmの膜厚で形成される。蓄熱層51上には、
各インク流路3(図11参照)の位置に対応する複数の
発熱抵抗層16が形成される。発熱抵抗層52は、例え
ばHfB2 膜またはTaNX を含む膜からなり、その膜
厚は100〜300オングストローム、好ましくは50
0〜1500オングストロームである。
【0079】そして、例えばAl膜またはAl−Cu膜
またはAl−Si膜を、3000〜10000オングス
トローム、好ましくは5000〜7000オングストロ
ームの膜厚で形成し、フォトリソグラフィ工程により所
望の形状にパターニングして、発熱抵抗層52に電力を
供給するための対の電極53a,53bを、上記駆動回
路の配線(不図示)と共に形成する。対の電極53a,
53bを介して発熱抵抗層52に電圧を印加することで
発熱抵抗層52が発熱する。すなわち、発熱抵抗層52
と、対の電極53a,53bとで電気熱変換体1が構成
され、特に、対の電極53a,53bで挟まれた部位
が、インクに熱エネルギーを与える熱作用部54とな
る。
またはAl−Si膜を、3000〜10000オングス
トローム、好ましくは5000〜7000オングストロ
ームの膜厚で形成し、フォトリソグラフィ工程により所
望の形状にパターニングして、発熱抵抗層52に電力を
供給するための対の電極53a,53bを、上記駆動回
路の配線(不図示)と共に形成する。対の電極53a,
53bを介して発熱抵抗層52に電圧を印加することで
発熱抵抗層52が発熱する。すなわち、発熱抵抗層52
と、対の電極53a,53bとで電気熱変換体1が構成
され、特に、対の電極53a,53bで挟まれた部位
が、インクに熱エネルギーを与える熱作用部54とな
る。
【0080】また、多層配線の場合は、上記の電極53
a,53b上に、層間絶縁層(不図示)として例えばS
iO2 膜またはSiNX を含む膜を1〜5μm、好まし
くは2〜3μmの膜厚で形成した後、第2の電極(不図
示)として例えばAl膜またはAl−Cu膜またはAl
−Si膜を3000〜10000オングストローム、好
ましくは5000〜7000オングストロームの膜厚で
形成し、所望の形状にパターン形成する。
a,53b上に、層間絶縁層(不図示)として例えばS
iO2 膜またはSiNX を含む膜を1〜5μm、好まし
くは2〜3μmの膜厚で形成した後、第2の電極(不図
示)として例えばAl膜またはAl−Cu膜またはAl
−Si膜を3000〜10000オングストローム、好
ましくは5000〜7000オングストロームの膜厚で
形成し、所望の形状にパターン形成する。
【0081】上記各層は、第1の保護層31により保護
され、更に第1の保護層31の表面には第2の保護層3
0(「耐キャビテーション層」ともいう)が設けられて
いる。第1の保護層31は、例えばSiO2 膜またはS
iNX を含む膜からなり、CVD法またはスパッタリン
グ法により、0.5〜2μmの膜厚で形成される。第2
の保護層30は、熱作用部54より伝わった熱により発
生したインクの気泡が消滅する時に生じる衝撃から、熱
作用部54を保護する目的で設けられている。第2の保
護層30は、例えばTa膜をスパッタリング法によって
500〜5000オングストローム、好ましくは100
0〜2500オングストロームの膜厚で形成した後、フ
ォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニング
することによって得られる。
され、更に第1の保護層31の表面には第2の保護層3
0(「耐キャビテーション層」ともいう)が設けられて
いる。第1の保護層31は、例えばSiO2 膜またはS
iNX を含む膜からなり、CVD法またはスパッタリン
グ法により、0.5〜2μmの膜厚で形成される。第2
の保護層30は、熱作用部54より伝わった熱により発
生したインクの気泡が消滅する時に生じる衝撃から、熱
作用部54を保護する目的で設けられている。第2の保
護層30は、例えばTa膜をスパッタリング法によって
500〜5000オングストローム、好ましくは100
0〜2500オングストロームの膜厚で形成した後、フ
ォトリソグラフィ工程により所望の形状にパターニング
することによって得られる。
【0082】基板2の第2の保護層30の上に設けられ
た、第3の保護層41に形成される凹部は、例えばSi
O2 膜またはSiNX を含む膜からなり、CVD法また
はスパッタリング法で単層または複数の層により、1〜
8μm、好ましくは2〜5μmの膜厚で形成した後、フ
ォトリソグラフィ工程により所望の形状が得られるよう
にエッチングすることによって得られる。この時、第3
の保護層41は、凹部の他に、発泡効率を良くする目的
で、熱作用部54の周囲(電気熱変換体1が完全に含ま
れる領域)が同時に除去される。(図4参照) 上述のように複数の電気熱変換体1が形成された基板2
と、配線基板9を支持体7上の所望の位置に精度良く固
定された後、基板2に天板6を、各電気熱変換体1とイ
ンク流路3とを1対1で対応するように精度よく位置決
めすることができる。
た、第3の保護層41に形成される凹部は、例えばSi
O2 膜またはSiNX を含む膜からなり、CVD法また
はスパッタリング法で単層または複数の層により、1〜
8μm、好ましくは2〜5μmの膜厚で形成した後、フ
ォトリソグラフィ工程により所望の形状が得られるよう
にエッチングすることによって得られる。この時、第3
の保護層41は、凹部の他に、発泡効率を良くする目的
で、熱作用部54の周囲(電気熱変換体1が完全に含ま
れる領域)が同時に除去される。(図4参照) 上述のように複数の電気熱変換体1が形成された基板2
と、配線基板9を支持体7上の所望の位置に精度良く固
定された後、基板2に天板6を、各電気熱変換体1とイ
ンク流路3とを1対1で対応するように精度よく位置決
めすることができる。
【0083】そして、支持体7上に固定された基板2の
各電極パッド8と配線基板9の各配線とをボンディング
ワイヤー11により電気的に接続する。
各電極パッド8と配線基板9の各配線とをボンディング
ワイヤー11により電気的に接続する。
【0084】次に、図14(a)および(b)を用いて
接合部の加熱について説明する。図14(a)および
(b)は、図11におけるA−A線断面図を利用して、
接合部における天板6の突出部6bがオーバーハング状
の凹部40内で加熱により溶融変形する様子を説明した
断面図である。図14(a)および(b)において、基
板2と天板6との接合部位を50〜250℃、好ましく
は100〜200℃に加熱して、天板6側の接合部付近
の突出部6bを溶融変形し、基板2に設けられた天板6
とのはめ合わせ用凹部40内を埋める。この時の加熱温
度は上記温度に限らず、天板6の材料等から任意に決め
られれば良いことは言うまでもない。上記の逆テーパ状
あるいはオーバーハング状の形状を得るためには、例え
ば無電界メッキ法により容易に得ることができる。無電
界メッキ法によると、4μm以上の膜厚を容易に形成で
きる利点がある。
接合部の加熱について説明する。図14(a)および
(b)は、図11におけるA−A線断面図を利用して、
接合部における天板6の突出部6bがオーバーハング状
の凹部40内で加熱により溶融変形する様子を説明した
断面図である。図14(a)および(b)において、基
板2と天板6との接合部位を50〜250℃、好ましく
は100〜200℃に加熱して、天板6側の接合部付近
の突出部6bを溶融変形し、基板2に設けられた天板6
とのはめ合わせ用凹部40内を埋める。この時の加熱温
度は上記温度に限らず、天板6の材料等から任意に決め
られれば良いことは言うまでもない。上記の逆テーパ状
あるいはオーバーハング状の形状を得るためには、例え
ば無電界メッキ法により容易に得ることができる。無電
界メッキ法によると、4μm以上の膜厚を容易に形成で
きる利点がある。
【0085】このようにして基板2と天板6との密着力
を向上させた後、例えばシリコーン系の封止剤(不図
示)により基板2と天板6との接合部位、及びボンディ
ングワイヤー11の封止を同時に行う。
を向上させた後、例えばシリコーン系の封止剤(不図
示)により基板2と天板6との接合部位、及びボンディ
ングワイヤー11の封止を同時に行う。
【0086】そして、これら天板6やボンディングワイ
ヤー11などの保護、及び前記天板6内に形成された共
通液室12にインクを供給する供給路を有する保護部材
(チップタンクともいう(不図示))を搭載し、インク
ジェット記録ヘッドが完成する。
ヤー11などの保護、及び前記天板6内に形成された共
通液室12にインクを供給する供給路を有する保護部材
(チップタンクともいう(不図示))を搭載し、インク
ジェット記録ヘッドが完成する。
【0087】以上説明したように、基板2に、天板2と
のはめ合わせ用凹部40を形成し、このはめ合わせ用凹
部40にはめ合うように天板6が位置決めされ固定され
た後、基板2と天板6との接合部を加熱することによ
り、天板6側の接合部付近に設けられた突出部6bのみ
を溶融し、前記はめ合わせ用凹部40内を埋めることに
より、基板2と天板6との密着力を向上させることがで
きるので、基板2と天板6との接合部位の封止を粘度の
低い封止剤で行うような場合でも、封止剤が共通液室1
2内及びインク流路3内に侵入することを防止すること
ができる。その結果、吐出安定性に優れた、信頼性の高
いインクジェット記録ヘッドが得られる。また、前記は
め合わせ用凹部40は、基板2と天板6との位置決めを
精確に行うことができるので、天板接合におけるピッチ
ずれ等の問題をも完全に解決できるという利点をも合わ
せ持つ。
のはめ合わせ用凹部40を形成し、このはめ合わせ用凹
部40にはめ合うように天板6が位置決めされ固定され
た後、基板2と天板6との接合部を加熱することによ
り、天板6側の接合部付近に設けられた突出部6bのみ
を溶融し、前記はめ合わせ用凹部40内を埋めることに
より、基板2と天板6との密着力を向上させることがで
きるので、基板2と天板6との接合部位の封止を粘度の
低い封止剤で行うような場合でも、封止剤が共通液室1
2内及びインク流路3内に侵入することを防止すること
ができる。その結果、吐出安定性に優れた、信頼性の高
いインクジェット記録ヘッドが得られる。また、前記は
め合わせ用凹部40は、基板2と天板6との位置決めを
精確に行うことができるので、天板接合におけるピッチ
ずれ等の問題をも完全に解決できるという利点をも合わ
せ持つ。
【0088】本実施例では、はめ合わせ用凹部40を基
板2と天板6との接合部位全域にわたって設けた例を示
したが、封止剤の侵入防止効果が十分である場合には、
はめ合わせ用凹部40はインク流路3周りだけでも良
く、その場所及び数は限定されるものではない。
板2と天板6との接合部位全域にわたって設けた例を示
したが、封止剤の侵入防止効果が十分である場合には、
はめ合わせ用凹部40はインク流路3周りだけでも良
く、その場所及び数は限定されるものではない。
【0089】(実施例7)図15は本発明のインクジェ
ットプリントヘッドの更に他の実施例の要部断面図であ
り、接合部を加熱することにより天板6の突出部6bが
溶融され、はめ合わせ用凹部40内を埋めている様子を
示している。
ットプリントヘッドの更に他の実施例の要部断面図であ
り、接合部を加熱することにより天板6の突出部6bが
溶融され、はめ合わせ用凹部40内を埋めている様子を
示している。
【0090】図15において、本実施例のインクジェッ
トプリントヘッドも、実施例6と同様に、基本的には、
複数の電気熱変換体1が所定のピッチで並列配置された
単結晶シリコンからなる基板2と、基板2に接合されて
各電気熱変換体1の位置に対応するインク流路3を構成
する溝4等が形成された天板6とから概略構成されてい
る。
トプリントヘッドも、実施例6と同様に、基本的には、
複数の電気熱変換体1が所定のピッチで並列配置された
単結晶シリコンからなる基板2と、基板2に接合されて
各電気熱変換体1の位置に対応するインク流路3を構成
する溝4等が形成された天板6とから概略構成されてい
る。
【0091】本実施例が実施例6と異なる点は、基板2
に、第3の保護膜41により形成される天板6とのはめ
合わせ用凹部40の断面形状を、下側が広く上側が狭く
なるようにした点である。このような形状は単層で形成
してもよいし、複数の層で形成してもよい。また、その
他の構成については先の実施例6と同様で良いので、そ
の説明は省略する。
に、第3の保護膜41により形成される天板6とのはめ
合わせ用凹部40の断面形状を、下側が広く上側が狭く
なるようにした点である。このような形状は単層で形成
してもよいし、複数の層で形成してもよい。また、その
他の構成については先の実施例6と同様で良いので、そ
の説明は省略する。
【0092】はめ合わせ用凹部40の形成については、
図13及び図15を参照して説明する。例えば基板2に
形成される第2の保護層30の上に、それぞれエッチン
グレードの異なる複数の層で第3の保護層41を形成
し、はめ合わせ用凹部40を形成する材料に応じた任意
のエッチング液によってエッチングを行う。この時、第
3の保護層41の下層をエッチングレードの速い層、上
層になる程エッチングレートの遅い層とすることによ
り、上記する形状は得られる。
図13及び図15を参照して説明する。例えば基板2に
形成される第2の保護層30の上に、それぞれエッチン
グレードの異なる複数の層で第3の保護層41を形成
し、はめ合わせ用凹部40を形成する材料に応じた任意
のエッチング液によってエッチングを行う。この時、第
3の保護層41の下層をエッチングレードの速い層、上
層になる程エッチングレートの遅い層とすることによ
り、上記する形状は得られる。
【0093】ここでは第3の保護層41を3層で構成す
る例で説明しているが、これに限定されないのは言うま
でもないことである。
る例で説明しているが、これに限定されないのは言うま
でもないことである。
【0094】そして、基板2と天板6との接合は、先の
実施例6と同様に、天板6を基板2に対して精確に位置
決めすることができ、はめ合わせ用凹部40の断面形状
が逆テーパ状になっているので基板2と天板6との密着
強度を実施例6と同様に高めることができる。
実施例6と同様に、天板6を基板2に対して精確に位置
決めすることができ、はめ合わせ用凹部40の断面形状
が逆テーパ状になっているので基板2と天板6との密着
強度を実施例6と同様に高めることができる。
【0095】本実施例においても、実施例6と同様に、
はめ合わせ用凹部40の数について限定されるものでは
なく、封止剤のインク流路3及び共通液室12内への侵
入を防止できる範囲で任意に設定できる。十分な侵入防
止効果を得るためには、本実施例のように、はめ合わせ
用凹部40の断面形状を逆テーパ状あるいはオーバーハ
ング状に形成する必要がある。また、はめ合わせ用凹部
40の深さについては、深ければ深いほど封止剤侵入防
止効果は得られるが、はめ合わせ用凹部40を形成する
層41の内部応力も増加し、基板2のソリや、はめ合わ
せ用凹部40を形成する第3の保護層41にクラックが
生じたりするので、両者のバランスで深さの設定は任意
に決められれば良い。
はめ合わせ用凹部40の数について限定されるものでは
なく、封止剤のインク流路3及び共通液室12内への侵
入を防止できる範囲で任意に設定できる。十分な侵入防
止効果を得るためには、本実施例のように、はめ合わせ
用凹部40の断面形状を逆テーパ状あるいはオーバーハ
ング状に形成する必要がある。また、はめ合わせ用凹部
40の深さについては、深ければ深いほど封止剤侵入防
止効果は得られるが、はめ合わせ用凹部40を形成する
層41の内部応力も増加し、基板2のソリや、はめ合わ
せ用凹部40を形成する第3の保護層41にクラックが
生じたりするので、両者のバランスで深さの設定は任意
に決められれば良い。
【0096】(実施例8)図16は本発明のインクジェ
ットプリントヘッドのさらに他の実施例の要部断面図で
あり、基板2に、天板6を熱硬化型材料55で固定して
いる様子を示している。
ットプリントヘッドのさらに他の実施例の要部断面図で
あり、基板2に、天板6を熱硬化型材料55で固定して
いる様子を示している。
【0097】図16において、本実施例のインクジェッ
ト記録ヘッドも、実施例6もしくは実施例7と同様に、
基本的には、複数の電気熱変換体1が所定のピッチで並
列配置された単結晶シリコンからなる基板2と、基板2
に接合されて各電気熱変換体1の位置に対応するインク
流路3を構成する溝4等が形成された天板6とから概略
構成されている。
ト記録ヘッドも、実施例6もしくは実施例7と同様に、
基本的には、複数の電気熱変換体1が所定のピッチで並
列配置された単結晶シリコンからなる基板2と、基板2
に接合されて各電気熱変換体1の位置に対応するインク
流路3を構成する溝4等が形成された天板6とから概略
構成されている。
【0098】本実施例が実施例7と異なる点は、基板2
に設けられる天板6とのはめ合わせ用凹部40を形成し
た後、熱硬化型の材料(例えば東燃株式会社製の熱硬化
型無機高分子ポリマーである東燃ポリシラザン)55
を、はめ合わせ用凹部40が埋まる程度の厚さで薄く塗
布し、次いで天板6を接合してから接合部位を加熱し、
上記熱硬化型の材料55を天板6の接合状態を維持した
まま硬化させた点である。また、その他の構成について
は実施例6と同様で良いので、その説明は省略する。
に設けられる天板6とのはめ合わせ用凹部40を形成し
た後、熱硬化型の材料(例えば東燃株式会社製の熱硬化
型無機高分子ポリマーである東燃ポリシラザン)55
を、はめ合わせ用凹部40が埋まる程度の厚さで薄く塗
布し、次いで天板6を接合してから接合部位を加熱し、
上記熱硬化型の材料55を天板6の接合状態を維持した
まま硬化させた点である。また、その他の構成について
は実施例6と同様で良いので、その説明は省略する。
【0099】本実施例が他の実施例と比較して優れてい
る点は、封止剤を必要としないことと、板バネによる押
さえを必要としないことの2点であり、製造コストの面
で非常に有利な構成となっている。この構成においては
熱硬化型材料55の塗布量が重要なポイントである。塗
布量が多いとヒーターの上まで塗布され吐出を不安定に
させてしまうし、塗布量が少ないと十分な強度や密着性
が得られない。よって、例えばスピンコートで塗布する
場合は、回転数を段階的に調節して、好ましくは、はめ
合わせ用凹部40だけが埋まるようにする必要がある。
また、更に接合強度を高めようとする場合には、天板6
の先端形状に1つ、または複数の切り欠き6cを付け
て、熱硬化型材料55が切り欠き6cに入り込むような
構造にするとよい。切り欠き6cの形状は、図16に示
した形状に限定されるものではなく、必要とする接合強
度や、天板6の材料に影響を受ける形成の容易さ等から
任意に決められれば良い。また、切り欠き6cを設ける
か設けないかは必要とする接合強度に応じて自由に選択
されれば良い。加熱方法等その他については、先の実施
例7と同様なので説明は省略する。
る点は、封止剤を必要としないことと、板バネによる押
さえを必要としないことの2点であり、製造コストの面
で非常に有利な構成となっている。この構成においては
熱硬化型材料55の塗布量が重要なポイントである。塗
布量が多いとヒーターの上まで塗布され吐出を不安定に
させてしまうし、塗布量が少ないと十分な強度や密着性
が得られない。よって、例えばスピンコートで塗布する
場合は、回転数を段階的に調節して、好ましくは、はめ
合わせ用凹部40だけが埋まるようにする必要がある。
また、更に接合強度を高めようとする場合には、天板6
の先端形状に1つ、または複数の切り欠き6cを付け
て、熱硬化型材料55が切り欠き6cに入り込むような
構造にするとよい。切り欠き6cの形状は、図16に示
した形状に限定されるものではなく、必要とする接合強
度や、天板6の材料に影響を受ける形成の容易さ等から
任意に決められれば良い。また、切り欠き6cを設ける
か設けないかは必要とする接合強度に応じて自由に選択
されれば良い。加熱方法等その他については、先の実施
例7と同様なので説明は省略する。
【0100】(実施例9)図17は本発明のインクジェ
ットプリントヘッドの他の実施例における要部を示す概
略断面図である。
ットプリントヘッドの他の実施例における要部を示す概
略断面図である。
【0101】図17に示すように、本実施例における凹
部形成層41に形成された凹部40は、先の実施例と異
なり、その内壁面からえぐれた曲面部分を含む構成とな
っている。凹部形成層41に対して凹部40はエッチン
グにより形成されており、凹部形成層41がある程度の
厚さを有している場合にはエッチングにより形成される
凹部40の内壁面はえぐれて逆テーパ形状となる。この
ような断面形状を有する凹部40に天板のインク流路壁
3aの端部が嵌合されると、その端部に対し凹部40が
アンカー効果を発揮することができる。
部形成層41に形成された凹部40は、先の実施例と異
なり、その内壁面からえぐれた曲面部分を含む構成とな
っている。凹部形成層41に対して凹部40はエッチン
グにより形成されており、凹部形成層41がある程度の
厚さを有している場合にはエッチングにより形成される
凹部40の内壁面はえぐれて逆テーパ形状となる。この
ような断面形状を有する凹部40に天板のインク流路壁
3aの端部が嵌合されると、その端部に対し凹部40が
アンカー効果を発揮することができる。
【0102】本実施例では、天板と基板との接合に仮止
め用の接着剤は用いず、天板のインク流路壁3aの端部
と基板の凹部40とを超音波溶着により十分な密着強度
を得て接合する。このため、インク流路壁3aの端部の
下面を平坦面とし、凹部40の底面との接触面積を大き
くとると共に、凹部40の上部開口部分の大きさとイン
ク流路壁3aの端部の大きさを可能な限り近づけて接触
機会を増やすようにしている。このような構造により、
超音波が印加された接触部分に熱を帯び、溶融変形し易
くなる利点がある。また、凹部40の上部開口部分の大
きさとインク流路壁3aの端部の大きさを可能な限り近
づけた構造としたことから、凹部40内へのインク流路
壁3の嵌合を振動等による落とし込みにより容易に行う
ことができる利点がある。
め用の接着剤は用いず、天板のインク流路壁3aの端部
と基板の凹部40とを超音波溶着により十分な密着強度
を得て接合する。このため、インク流路壁3aの端部の
下面を平坦面とし、凹部40の底面との接触面積を大き
くとると共に、凹部40の上部開口部分の大きさとイン
ク流路壁3aの端部の大きさを可能な限り近づけて接触
機会を増やすようにしている。このような構造により、
超音波が印加された接触部分に熱を帯び、溶融変形し易
くなる利点がある。また、凹部40の上部開口部分の大
きさとインク流路壁3aの端部の大きさを可能な限り近
づけた構造としたことから、凹部40内へのインク流路
壁3の嵌合を振動等による落とし込みにより容易に行う
ことができる利点がある。
【0103】なお、凹部形成層41は耐キャビテーショ
ン膜としてのTa膜上に絶縁物である窒化シリコン,ア
ルミナ,シリカ,SOG等または金属であるTa,アル
ミ,アルミニウム合金,チタン,ニッケル,タングステ
ン等をCVDあるいはスパッタ,蒸着,スピンナーによ
り成膜したものであり、凹部40は、その凹部形成層4
1をフォトリソ技術によりパターニングしたものであ
る。
ン膜としてのTa膜上に絶縁物である窒化シリコン,ア
ルミナ,シリカ,SOG等または金属であるTa,アル
ミ,アルミニウム合金,チタン,ニッケル,タングステ
ン等をCVDあるいはスパッタ,蒸着,スピンナーによ
り成膜したものであり、凹部40は、その凹部形成層4
1をフォトリソ技術によりパターニングしたものであ
る。
【0104】また、この凹部形成層41は感光性樹脂で
ある東京応化製のドライフィルム(商品名:OROYL
−α−540)や、東レのポリイミドフィルム(商品
名:フォトニース)を使用しても形成できた。
ある東京応化製のドライフィルム(商品名:OROYL
−α−540)や、東レのポリイミドフィルム(商品
名:フォトニース)を使用しても形成できた。
【0105】一つのインク流路壁3aに対しては、図1
7のように、インク流路壁3aの両面をはさみ込む様な
構造で凹部40が形成されていることが望ましい。基板
等の寸法上、ヒーター間に一つの凹部40を形成できな
い場合は、図18のように、インク流路壁3aを一本毎
に左右交互に押さえても良い。
7のように、インク流路壁3aの両面をはさみ込む様な
構造で凹部40が形成されていることが望ましい。基板
等の寸法上、ヒーター間に一つの凹部40を形成できな
い場合は、図18のように、インク流路壁3aを一本毎
に左右交互に押さえても良い。
【0106】凹部形成層41は、基板全体に及んでもよ
い。例えば、ヘッド基板上の全体パターニングは、図1
9のように、耐キャビテーション膜としてのTa膜上に
全面窒化シリコン等からなる凹部形成層41を成膜した
後、ヘッド基板と溝付天板を嵌合する必要から、液室と
インク流路と天板の外側部分に凹部形成層41を残し、
それ以外の基板上に凹部40を形成する。8は、外部と
の電気的接続用ワイヤーボンディングパッドである。こ
のような構成とすることにより、天板と基板とを強固に
接合することができるので、インク流路間にクロストー
クが発生することがなく、極めて吐出安定性の高いイン
クジェットプリントヘッドとなる。
い。例えば、ヘッド基板上の全体パターニングは、図1
9のように、耐キャビテーション膜としてのTa膜上に
全面窒化シリコン等からなる凹部形成層41を成膜した
後、ヘッド基板と溝付天板を嵌合する必要から、液室と
インク流路と天板の外側部分に凹部形成層41を残し、
それ以外の基板上に凹部40を形成する。8は、外部と
の電気的接続用ワイヤーボンディングパッドである。こ
のような構成とすることにより、天板と基板とを強固に
接合することができるので、インク流路間にクロストー
クが発生することがなく、極めて吐出安定性の高いイン
クジェットプリントヘッドとなる。
【0107】なお、凹部形成層41の厚みは、振動によ
る落とし込みができること、隣接したインク流路間にク
ロストークがないことから、1μm以上あることが、好
ましい。
る落とし込みができること、隣接したインク流路間にク
ロストークがないことから、1μm以上あることが、好
ましい。
【0108】次に、上述の構成を有するインクジェット
プリントヘッドを搭載できる本発明のインクジェットプ
リント装置について説明する。
プリントヘッドを搭載できる本発明のインクジェットプ
リント装置について説明する。
【0109】図20は、本発明のインクジェットプリン
ト装置の一実施例の概略斜視図である。図20におい
て、インクジェットヘッドカートリッジ120は、前述
したヘッドと同様の構成を有するインクジェットプリン
トヘッド121と、このインクジェットプリントヘッド
121に供給するインクを収納するインクタンク(不図
示)とを一体化したものであり、インクジェットプリン
トヘッド121を載置する部材であるキャリッジ116
に着脱自在に保持されている。キャリッジ116は、駆
動モーター117の駆動力を伝達する駆動ベルト118
の一部に連結されて、互いに平行に配設された2本のガ
イドシャフト119a,119bに対して摺動自在に取
り付けられている。一方、インクジェットプリントヘッ
ド121の吐出口(不図示)が形成された吐出口面には
プラテン124が対向して配置され、駆動モータ117
の駆動力によりインクジェットヘッドカートリッジ12
0を往復運動させながらインクジェットプリントヘッド
121に記録信号を与えインクを吐出することで、プラ
テン124上に搬送された被プリント媒体としての記録
紙(不図示)の全幅にわたって記録を行える構成となっ
ている。インクジェットプリントヘッド121は、上述
したように、電気熱変換体(不図示)と配線基板(不図
示)との電気的接続が良好に保たれているので、プリン
ト装置本体からの記録信号が確実にインクジェットプリ
ントヘッド121に伝わり、良好な記録が可能となる。
ト装置の一実施例の概略斜視図である。図20におい
て、インクジェットヘッドカートリッジ120は、前述
したヘッドと同様の構成を有するインクジェットプリン
トヘッド121と、このインクジェットプリントヘッド
121に供給するインクを収納するインクタンク(不図
示)とを一体化したものであり、インクジェットプリン
トヘッド121を載置する部材であるキャリッジ116
に着脱自在に保持されている。キャリッジ116は、駆
動モーター117の駆動力を伝達する駆動ベルト118
の一部に連結されて、互いに平行に配設された2本のガ
イドシャフト119a,119bに対して摺動自在に取
り付けられている。一方、インクジェットプリントヘッ
ド121の吐出口(不図示)が形成された吐出口面には
プラテン124が対向して配置され、駆動モータ117
の駆動力によりインクジェットヘッドカートリッジ12
0を往復運動させながらインクジェットプリントヘッド
121に記録信号を与えインクを吐出することで、プラ
テン124上に搬送された被プリント媒体としての記録
紙(不図示)の全幅にわたって記録を行える構成となっ
ている。インクジェットプリントヘッド121は、上述
したように、電気熱変換体(不図示)と配線基板(不図
示)との電気的接続が良好に保たれているので、プリン
ト装置本体からの記録信号が確実にインクジェットプリ
ントヘッド121に伝わり、良好な記録が可能となる。
【0110】インクジェットヘッドカートリッジ120
の記録動作における往復運動の範囲外の、例えばホーム
ポジションと対向する位置には、ヘッド回復装置126
が配設されている。ヘッド回復装置126は、インクジ
ェットプリントヘッド121の吐出口面をキャッピング
するキャップ部材126aを備え、伝動機構123を介
したクリーニング用モータ122の駆動力によって駆動
される。このキャップ部材126aによるインクジェッ
トプリントヘッド121の吐出口面のキャッピングに関
連して、ヘッド回復装置126内に設けられた適宜の吸
収手段によるインク吸収、もしくはインクジェットプリ
ントヘッド121へのインク供給経路に設けられた適宜
の加圧手段による圧送を行い、インクを吐出口より強制
的に排出させることによりインクジェットプリントヘッ
ド121のインク流路内の増粘インクを除去する等の吐
出回復処理が行われる。また、記録終了時等にキャッピ
ングをすることにより、インクジェットプリントヘッド
が保護される。
の記録動作における往復運動の範囲外の、例えばホーム
ポジションと対向する位置には、ヘッド回復装置126
が配設されている。ヘッド回復装置126は、インクジ
ェットプリントヘッド121の吐出口面をキャッピング
するキャップ部材126aを備え、伝動機構123を介
したクリーニング用モータ122の駆動力によって駆動
される。このキャップ部材126aによるインクジェッ
トプリントヘッド121の吐出口面のキャッピングに関
連して、ヘッド回復装置126内に設けられた適宜の吸
収手段によるインク吸収、もしくはインクジェットプリ
ントヘッド121へのインク供給経路に設けられた適宜
の加圧手段による圧送を行い、インクを吐出口より強制
的に排出させることによりインクジェットプリントヘッ
ド121のインク流路内の増粘インクを除去する等の吐
出回復処理が行われる。また、記録終了時等にキャッピ
ングをすることにより、インクジェットプリントヘッド
が保護される。
【0111】ヘッド回復装置126の側面には、シリコ
ーンゴムで形成されるワイピング部材としてのブレード
130が配置される。ブレード130は、ブレード保持
部材130aにカンチレバー形態で保持され、ヘッド回
復装置126と同様、クリーニング用モータ122及び
伝動機構123によって動作し、インクジェットプリン
トヘッド121の吐出口面に押圧可能となっている。こ
れにより、インクジェットプリントヘッド121の記録
動作における適切なタイミングで、あるいはヘッド回復
装置126を用いた吐出回復処理後に、ブレード130
をインクジェット記録ヘッド121の移動経路中に突出
させ、インクジェットプリントヘッド121の移動動作
に伴ってインクジェットプリントヘッド121の吐出口
面における結露、濡れあるいは塵埃を拭き取るものであ
る。
ーンゴムで形成されるワイピング部材としてのブレード
130が配置される。ブレード130は、ブレード保持
部材130aにカンチレバー形態で保持され、ヘッド回
復装置126と同様、クリーニング用モータ122及び
伝動機構123によって動作し、インクジェットプリン
トヘッド121の吐出口面に押圧可能となっている。こ
れにより、インクジェットプリントヘッド121の記録
動作における適切なタイミングで、あるいはヘッド回復
装置126を用いた吐出回復処理後に、ブレード130
をインクジェット記録ヘッド121の移動経路中に突出
させ、インクジェットプリントヘッド121の移動動作
に伴ってインクジェットプリントヘッド121の吐出口
面における結露、濡れあるいは塵埃を拭き取るものであ
る。
【0112】(その他)なお、本発明は、特にインクジ
ェット記録方式の中でも、インク吐出を行わせるために
利用されるエネルギとして熱エネルギを発生する手段
(例えば電気熱変換体やレーザ光等)を備え、前記熱エ
ネルギによりインクの状態変化を生起させる方式の記録
ヘッド、記録装置において優れた効果をもたらすもので
ある。かかる方式によれば記録の高密度化,高精細化が
達成できるからである。
ェット記録方式の中でも、インク吐出を行わせるために
利用されるエネルギとして熱エネルギを発生する手段
(例えば電気熱変換体やレーザ光等)を備え、前記熱エ
ネルギによりインクの状態変化を生起させる方式の記録
ヘッド、記録装置において優れた効果をもたらすもので
ある。かかる方式によれば記録の高密度化,高精細化が
達成できるからである。
【0113】その代表的な構成や原理については、例え
ば、米国特許第4723129号明細書,同第4740
796号明細書に開示されている基本的な原理を用いて
行うものが好ましい。この方式は所謂オンデマンド型,
コンティニュアス型のいずれにも適用可能であるが、特
に、オンデマンド型の場合には、液体(インク)が保持
されているシートや液路に対応して配置されている電気
熱変換体に、記録情報に対応していて核沸騰を越える急
速な温度上昇を与える少なくとも1つの駆動信号を印加
することによって、電気熱変換体に熱エネルギを発生せ
しめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を生じさせて、結
果的にこの駆動信号に一対一で対応した液体(インク)
内の気泡を形成できるので有効である。この気泡の成
長,収縮により吐出用開口を介して液体(インク)を吐
出させて、少なくとも1つの滴を形成する。この駆動信
号をパルス形状とすると、即時適切に気泡の成長収縮が
行われるので、特に応答性に優れた液体(インク)の吐
出が達成でき、より好ましい。このパルス形状の駆動信
号としては、米国特許第4463359号明細書,同第
4345262号明細書に記載されているようなものが
適している。なお、上記熱作用面の温度上昇率に関する
発明の米国特許第4313124号明細書に記載されて
いる条件を採用すると、さらに優れた記録を行うことが
できる。
ば、米国特許第4723129号明細書,同第4740
796号明細書に開示されている基本的な原理を用いて
行うものが好ましい。この方式は所謂オンデマンド型,
コンティニュアス型のいずれにも適用可能であるが、特
に、オンデマンド型の場合には、液体(インク)が保持
されているシートや液路に対応して配置されている電気
熱変換体に、記録情報に対応していて核沸騰を越える急
速な温度上昇を与える少なくとも1つの駆動信号を印加
することによって、電気熱変換体に熱エネルギを発生せ
しめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を生じさせて、結
果的にこの駆動信号に一対一で対応した液体(インク)
内の気泡を形成できるので有効である。この気泡の成
長,収縮により吐出用開口を介して液体(インク)を吐
出させて、少なくとも1つの滴を形成する。この駆動信
号をパルス形状とすると、即時適切に気泡の成長収縮が
行われるので、特に応答性に優れた液体(インク)の吐
出が達成でき、より好ましい。このパルス形状の駆動信
号としては、米国特許第4463359号明細書,同第
4345262号明細書に記載されているようなものが
適している。なお、上記熱作用面の温度上昇率に関する
発明の米国特許第4313124号明細書に記載されて
いる条件を採用すると、さらに優れた記録を行うことが
できる。
【0114】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出口,液路,電気熱変換体
の組合せ構成(直線状液流路または直角液流路)の他に
熱作用部が屈曲する領域に配置されている構成を開示す
る米国特許第4558333号明細書,米国特許第44
59600号明細書を用いた構成も本発明に含まれるも
のである。加えて、複数の電気熱変換体に対して、共通
するスリットを電気熱変換体の吐出部とする構成を開示
する特開昭59−123670号公報や熱エネルギの圧
力波を吸収する開孔を吐出部に対応させる構成を開示す
る特開昭59−138461号公報に基いた構成として
も本発明の効果は有効である。すなわち、記録ヘッドの
形態がどのようなものであっても、本発明によれば記録
を確実に効率よく行うことができるようになるからであ
る。
書に開示されているような吐出口,液路,電気熱変換体
の組合せ構成(直線状液流路または直角液流路)の他に
熱作用部が屈曲する領域に配置されている構成を開示す
る米国特許第4558333号明細書,米国特許第44
59600号明細書を用いた構成も本発明に含まれるも
のである。加えて、複数の電気熱変換体に対して、共通
するスリットを電気熱変換体の吐出部とする構成を開示
する特開昭59−123670号公報や熱エネルギの圧
力波を吸収する開孔を吐出部に対応させる構成を開示す
る特開昭59−138461号公報に基いた構成として
も本発明の効果は有効である。すなわち、記録ヘッドの
形態がどのようなものであっても、本発明によれば記録
を確実に効率よく行うことができるようになるからであ
る。
【0115】さらに、記録装置が記録できる記録媒体の
最大幅に対応した長さを有するフルラインタイプの記録
ヘッドに対しても本発明は有効に適用できる。そのよう
な記録ヘッドとしては、複数記録ヘッドの組合せによっ
てその長さを満たす構成や、一体的に形成された1個の
記録ヘッドとしての構成のいずれでもよい。
最大幅に対応した長さを有するフルラインタイプの記録
ヘッドに対しても本発明は有効に適用できる。そのよう
な記録ヘッドとしては、複数記録ヘッドの組合せによっ
てその長さを満たす構成や、一体的に形成された1個の
記録ヘッドとしての構成のいずれでもよい。
【0116】加えて、上例のようなシリアルタイプのも
のでも、装置本体に固定された記録ヘッド、あるいは装
置本体に装着されることで装置本体との電気的な接続や
装置本体からのインクの供給が可能になる交換自在のチ
ップタイプの記録ヘッド、あるいは記録ヘッド自体に一
体的にインクタンクが設けられたカートリッジタイプの
記録ヘッドを用いた場合にも本発明は有効である。
のでも、装置本体に固定された記録ヘッド、あるいは装
置本体に装着されることで装置本体との電気的な接続や
装置本体からのインクの供給が可能になる交換自在のチ
ップタイプの記録ヘッド、あるいは記録ヘッド自体に一
体的にインクタンクが設けられたカートリッジタイプの
記録ヘッドを用いた場合にも本発明は有効である。
【0117】また、本発明の記録装置の構成として、記
録ヘッドの吐出回復手段、予備的な補助手段等を付加す
ることは本発明の効果を一層安定できるので、好ましい
ものである。これらを具体的に挙げれば、記録ヘッドに
対してのキャッピング手段、クリーニング手段、加圧或
は吸引手段、電気熱変換体或はこれとは別の加熱素子或
はこれらの組み合わせを用いて加熱を行う予備加熱手
段、記録とは別の吐出を行なう予備吐出手段を挙げるこ
とができる。
録ヘッドの吐出回復手段、予備的な補助手段等を付加す
ることは本発明の効果を一層安定できるので、好ましい
ものである。これらを具体的に挙げれば、記録ヘッドに
対してのキャッピング手段、クリーニング手段、加圧或
は吸引手段、電気熱変換体或はこれとは別の加熱素子或
はこれらの組み合わせを用いて加熱を行う予備加熱手
段、記録とは別の吐出を行なう予備吐出手段を挙げるこ
とができる。
【0118】また、搭載される記録ヘッドの種類ないし
個数についても、例えば単色のインクに対応して1個の
みが設けられたものの他、記録色や濃度を異にする複数
のインクに対応して複数個数設けられるものであっても
よい。すなわち、例えば記録装置の記録モードとしては
黒色等の主流色のみの記録モードだけではなく、記録ヘ
ッドを一体的に構成するか複数個の組み合わせによるか
いずれでもよいが、異なる色の複色カラー、または混色
によるフルカラーの各記録モードの少なくとも一つを備
えた装置にも本発明は極めて有効である。
個数についても、例えば単色のインクに対応して1個の
みが設けられたものの他、記録色や濃度を異にする複数
のインクに対応して複数個数設けられるものであっても
よい。すなわち、例えば記録装置の記録モードとしては
黒色等の主流色のみの記録モードだけではなく、記録ヘ
ッドを一体的に構成するか複数個の組み合わせによるか
いずれでもよいが、異なる色の複色カラー、または混色
によるフルカラーの各記録モードの少なくとも一つを備
えた装置にも本発明は極めて有効である。
【0119】さらに加えて、以上説明した本発明実施例
においては、インクを液体として説明しているが、室温
やそれ以下で固化するインクであって、室温で軟化もし
くは液化するものを用いてもよく、あるいはインクジェ
ット方式ではインク自体を30℃以上70℃以下の範囲
内で温度調整を行ってインクの粘性を安定吐出範囲にあ
るように温度制御するものが一般的であるから、使用記
録信号付与時にインクが液状をなすものを用いてもよ
い。加えて、熱エネルギによる昇温を、インクの固形状
態から液体状態への状態変化のエネルギとして使用せし
めることで積極的に防止するため、またはインクの蒸発
を防止するため、放置状態で固化し加熱によって液化す
るインクを用いてもよい。いずれにしても熱エネルギの
記録信号に応じた付与によってインクが液化し、液状イ
ンクが吐出されるものや、記録媒体に到達する時点では
すでに固化し始めるもの等のような、熱エネルギの付与
によって初めて液化する性質のインクを使用する場合も
本発明は適用可能である。このような場合のインクは、
特開昭54−56847号公報あるいは特開昭60−7
1260号公報に記載されるような、多孔質シート凹部
または貫通孔に液状又は固形物として保持された状態
で、電気熱変換体に対して対向するような形態としても
よい。本発明においては、上述した各インクに対して最
も有効なものは、上述した膜沸騰方式を実行するもので
ある。
においては、インクを液体として説明しているが、室温
やそれ以下で固化するインクであって、室温で軟化もし
くは液化するものを用いてもよく、あるいはインクジェ
ット方式ではインク自体を30℃以上70℃以下の範囲
内で温度調整を行ってインクの粘性を安定吐出範囲にあ
るように温度制御するものが一般的であるから、使用記
録信号付与時にインクが液状をなすものを用いてもよ
い。加えて、熱エネルギによる昇温を、インクの固形状
態から液体状態への状態変化のエネルギとして使用せし
めることで積極的に防止するため、またはインクの蒸発
を防止するため、放置状態で固化し加熱によって液化す
るインクを用いてもよい。いずれにしても熱エネルギの
記録信号に応じた付与によってインクが液化し、液状イ
ンクが吐出されるものや、記録媒体に到達する時点では
すでに固化し始めるもの等のような、熱エネルギの付与
によって初めて液化する性質のインクを使用する場合も
本発明は適用可能である。このような場合のインクは、
特開昭54−56847号公報あるいは特開昭60−7
1260号公報に記載されるような、多孔質シート凹部
または貫通孔に液状又は固形物として保持された状態
で、電気熱変換体に対して対向するような形態としても
よい。本発明においては、上述した各インクに対して最
も有効なものは、上述した膜沸騰方式を実行するもので
ある。
【0120】さらに加えて、本発明インクジェット記録
装置の形態としては、コンピュータ等の情報処理機器の
画像出力端末として用いられるものの他、リーダ等と組
合せた複写装置、さらには送受信機能を有するファクシ
ミリ装置の形態を採るもの等であってもよい。
装置の形態としては、コンピュータ等の情報処理機器の
画像出力端末として用いられるものの他、リーダ等と組
合せた複写装置、さらには送受信機能を有するファクシ
ミリ装置の形態を採るもの等であってもよい。
【0121】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のインクジ
ェットプリントヘッドの製造方法によれば、エネルギー
発生素子を形成した基板の所定位置にオーバーハング形
状の凹部を設け、この凹部に天板のインク流路壁を嵌合
することにより位置精度の高い接合が可能となる。さら
に、基板と天板を圧着しつつ加熱処理を行うことによっ
て、天板と基板とを密着させることができ、基板と天板
との密着状態が良好となり、インク流路間のクロストー
クを確実に防止でき、接合後の樹脂封止によるノズル内
への封止剤の回り込みを防止できるので、安定した吐出
特性を示すと共に信頼性の高いインクジェットプリント
ヘッドを作製することが可能となる。
ェットプリントヘッドの製造方法によれば、エネルギー
発生素子を形成した基板の所定位置にオーバーハング形
状の凹部を設け、この凹部に天板のインク流路壁を嵌合
することにより位置精度の高い接合が可能となる。さら
に、基板と天板を圧着しつつ加熱処理を行うことによっ
て、天板と基板とを密着させることができ、基板と天板
との密着状態が良好となり、インク流路間のクロストー
クを確実に防止でき、接合後の樹脂封止によるノズル内
への封止剤の回り込みを防止できるので、安定した吐出
特性を示すと共に信頼性の高いインクジェットプリント
ヘッドを作製することが可能となる。
【0122】また、本発明のインクジェットプリントヘ
ッドの製造方法によれば、天板と基板との位置合わせを
振動などの落とし込みにより行ったのち、天板に超音波
を印加すれば、天板と基板との溶着接合が可能である。
その結果、従来のように、ノズルと発熱素子の画像処理
による位置合わせを行う必要がないため、画像処理装置
に要していた設備投資が少なくなるばかりでなく、製造
設備の占有面積が狭くできると共に、画像処理に要した
時間が不要になったので、稼働率の向上を図ることがで
きる。
ッドの製造方法によれば、天板と基板との位置合わせを
振動などの落とし込みにより行ったのち、天板に超音波
を印加すれば、天板と基板との溶着接合が可能である。
その結果、従来のように、ノズルと発熱素子の画像処理
による位置合わせを行う必要がないため、画像処理装置
に要していた設備投資が少なくなるばかりでなく、製造
設備の占有面積が狭くできると共に、画像処理に要した
時間が不要になったので、稼働率の向上を図ることがで
きる。
【0123】さらに、本発明のインクジェットプリント
ヘッドの製造方法によれば、基板の一方の面に、各エネ
ルギー発生素子を保護するための少なくとも1つの保護
層が形成された場合、保護層の所定の部位を除去して基
板にオーバーハング構造の凹部を形成することにより、
凹部形成層のためだけの新たな工程を追加することな
く、保護層のパターンを変更するだけで所望の凹部を形
成することができるので、凹部形成のためのコスト増が
ない利点がある。
ヘッドの製造方法によれば、基板の一方の面に、各エネ
ルギー発生素子を保護するための少なくとも1つの保護
層が形成された場合、保護層の所定の部位を除去して基
板にオーバーハング構造の凹部を形成することにより、
凹部形成層のためだけの新たな工程を追加することな
く、保護層のパターンを変更するだけで所望の凹部を形
成することができるので、凹部形成のためのコスト増が
ない利点がある。
【0124】また、本発明のインクジェットプリントヘ
ッドでは、天板と基板との接合に従来より使用されてい
る押えばねを用いる必要はないので、押えばねの分、部
品点数を少なくでき、さらに十分な接合強度が得られる
ので、接合部に対する樹脂封止を省略できることから、
コストの低減が可能となる。本発明においては、必要に
応じて押えばねを補助的に用いてもよい。
ッドでは、天板と基板との接合に従来より使用されてい
る押えばねを用いる必要はないので、押えばねの分、部
品点数を少なくでき、さらに十分な接合強度が得られる
ので、接合部に対する樹脂封止を省略できることから、
コストの低減が可能となる。本発明においては、必要に
応じて押えばねを補助的に用いてもよい。
【0125】本発明のインクジェットプリント装置は、
上述の吐出安定性、信頼性の高いインクジェット記録ヘ
ッドを備えることにより、高品位で、かつ、低コストの
ものとなる。
上述の吐出安定性、信頼性の高いインクジェット記録ヘ
ッドを備えることにより、高品位で、かつ、低コストの
ものとなる。
【図1】従来のインクジェットプリントヘッドの要部側
面図であり、その一部を破断した状態で示している。
面図であり、その一部を破断した状態で示している。
【図2】図1に示したインクジェットプリントヘッドの
要部平面図であり、その一部を破断した状態で示してい
る。
要部平面図であり、その一部を破断した状態で示してい
る。
【図3】(a),(b)および(c)はDF(ドライフ
ィルム)法による天板と基板との接合方法を工程順に示
す断面図である。
ィルム)法による天板と基板との接合方法を工程順に示
す断面図である。
【図4】(a),(b),(c),(d)および(e)
はいわゆる注型法による天板と基板との接合方法を工程
順に示す断面図である。
はいわゆる注型法による天板と基板との接合方法を工程
順に示す断面図である。
【図5】従来の押えバネを用いた天板と基板との接合方
法を説明するための図であって、インクジェットプリン
トヘッドを含むインクジェットユニットの分解斜視図で
ある。
法を説明するための図であって、インクジェットプリン
トヘッドを含むインクジェットユニットの分解斜視図で
ある。
【図6】従来のインクジェットプリントヘッドにおける
膜発泡の圧力損失の状態を示す断面図である。
膜発泡の圧力損失の状態を示す断面図である。
【図7】本発明のインクジェットプリントヘッドの基本
的な態様を示す斜視図である。
的な態様を示す斜視図である。
【図8】図7のA−A′線に沿う断面図である。
【図9】(a),(b),(c),(d)および(e)
は本発明のインクジェットプリントヘッドの製造方法の
一実施例を工程順に示し、図7のA−A′線に沿う断面
図である。
は本発明のインクジェットプリントヘッドの製造方法の
一実施例を工程順に示し、図7のA−A′線に沿う断面
図である。
【図10】本発明のインクジェットプリントヘッドの他
の実施例の要部側面図である。
の実施例の要部側面図である。
【図11】図10に示したインクジェットプリントヘッ
ドの要部平面図である。
ドの要部平面図である。
【図12】図11に示した電気熱変換体の拡大平面図で
ある。
ある。
【図13】図12に示したB−B線断面図である。
【図14】(a)および(b)は図11におけるA−A
線断面図を利用して、接合部における天板の突出部が凹
部内で加熱により溶融変形する様子を説明した断面図で
ある。
線断面図を利用して、接合部における天板の突出部が凹
部内で加熱により溶融変形する様子を説明した断面図で
ある。
【図15】本発明のインクジェットプリントヘッドの更
に他の実施例の要部断面図である。
に他の実施例の要部断面図である。
【図16】本発明のインクジェットプリントヘッドのさ
らに他の実施例の要部断面図である。
らに他の実施例の要部断面図である。
【図17】本発明のインクジェットプリントヘッドの他
の実施例における要部を示す概略断面図である。
の実施例における要部を示す概略断面図である。
【図18】本発明のインクジェットプリントヘッドの他
の実施例における要部を示す概略断面図である。
の実施例における要部を示す概略断面図である。
【図19】基板全体に凹部形成層を設けた本発明のイン
クジェットプリントヘッドの他の実施例における要部を
示す概略平面図である。
クジェットプリントヘッドの他の実施例における要部を
示す概略平面図である。
【図20】本発明のインクジェットプリント装置の一実
施例の概略斜視図である。
施例の概略斜視図である。
1 吐出エネルギ発生素子(電気熱変換体) 2 基板 3 インク流路 3a インク流路壁 4 天板の溝 5 吐出口 6 天板 7 支持体 8 コンタクトパッド 9 回路基板 10 配線 11 ボンディングワイヤー 12 共通液室 16 ドライフィルム 17 インク流路壁 18 ドライフィルム 20 レジスト 21 レジスト 22 樹脂 24 ベースプレート 25 押えばね 26 前だれ 27 インク供給部材 30 耐キャビテーション膜 31 保護膜 32 蓄熱層(層間絶縁膜) 40 凹部 41 凹部形成層 42 レジスト 50 凹所 51 蓄熱層 52 発熱抵抗層 53a,53b 電極 54 熱作用部 55 熱硬化型材料 116 キャリッジ 117 駆動モータ 118 駆動ベルト 119A,119B ガイドシャフト 120 インクジェットヘッドカートリッジ 121 インクジェット記録ヘッド 122 クリーニング用モータ 123 伝動機構 124 プラテン 126 ヘッド回復装置 130 ブレード 130A ブレード保持部材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小山 修司 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 木谷 充志 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 笠本 雅己 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 森 利浩 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内
Claims (21)
- 【請求項1】 インクを吐出するために利用されるエネ
ルギを発生する複数の吐出エネルギ発生素子を有する基
板と、該基板に接合して該基板との間に、前記インクを
吐出するための吐出口と該吐出口に連通すると共に前記
各吐出エネルギ発生素子に対応する位置に形成された複
数の溝とを含むインク流路を構成する天板とを含み、前
記吐出口が前記吐出エネルギ発生素子の面に沿う方向に
設けられたインクジェットプリントヘッドであって、 前記天板は前記基板との接合面に突出部を有し、かつ、
前記基板は、前記天板の突出部を嵌合するオーバーハン
グ構造の凹部を有することを特徴とするインクジェット
プリントヘッド。 - 【請求項2】 前記天板の突出部は、前記天板と前記基
板との間に形成されるインク流路の一部を構成する複数
の壁部であり、前記基板の凹部は前記各壁部に対応する
位置に形成されていることを特徴とする請求項1記載の
インクジェットプリントヘッド。 - 【請求項3】 前記天板の突出部の端部は、前記基板の
凹部内への嵌合後の溶着により、前記基板の凹部から抜
け出し不能な状態に変形していることを特徴とする請求
項2記載のインクジェットプリントヘッド。 - 【請求項4】 前記基板の凹部は、該基板上に形成され
た少なくとも1層からなる凹部形成層のうち、前記天板
の突出部に対応する前記凹部形成層の所定部分を除去す
ることにより形成されていることを特徴とする請求項1
〜3のいずれかの項に記載のインクジェットプリントヘ
ッド。 - 【請求項5】 前記凹部形成層は複数の層から構成され
ており、前記基板に近い層ほど広く除去され、かつ、前
記基板から遠い層ほど狭く除去されることにより前記凹
部が形成されていることを特徴とする請求項4記載のイ
ンクジェットプリントヘッド。 - 【請求項6】 前記凹部形成層は金属材料または絶縁性
材料から形成されていることを特徴とする請求項4また
は5に記載のインクジェットプリントヘッド。 - 【請求項7】 前記凹部形成層は感光性樹脂から形成さ
れていることを特徴とする請求項4または5に記載のイ
ンクジェットプリントヘッド。 - 【請求項8】 前記凹部形成層は前記基板の耐キャビテ
ーション体層上に形成されていることを特徴とする請求
項6または7に記載のインクジェットプリントヘッド。 - 【請求項9】 前記凹部形成層を構成する金属材料はタ
ンタル、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、ニ
ッケル、タングステンからなる群より選択されたもので
あることを特徴とする請求項6記載のインクジェットプ
リントヘッド。 - 【請求項10】 前記凹部形成層を構成する絶縁性材料
は窒化シリコン、アルミナ、シリカ、酸化シリコンから
なる群より選択されたものであることを特徴とする請求
項6記載のインクジェットプリントヘッド。 - 【請求項11】 前記感光性樹脂から形成された前記凹
部形成層はアクリル系樹脂、ゴム系樹脂、エポキシ系樹
脂またはポリイミドであることを特徴とする請求項7記
載のインクジェットプリントヘッド。 - 【請求項12】 前記基板の凹部の深さは1μm以上で
あることを特徴とする請求項1〜11のいずれかの項に
記載のインクジェットプリントヘッド。 - 【請求項13】 前記基板のエネルギ発生素子はインク
を吐出するために利用される熱エネルギを発生するため
の電気熱変換体であることを特徴とする請求項1〜12
のいずれかの項に記載のインクジェットプリントヘッ
ド。 - 【請求項14】 インクを吐出するために利用されるエ
ネルギを発生する複数の吐出エネルギ発生素子を有する
基板と、該基板に接合して該基板との間に、前記インク
を吐出するための吐出口と該吐出口に連通すると共に前
記各吐出エネルギ発生素子に対応する位置に形成された
複数の溝とを含むインク流路を構成する天板とを含み、
前記吐出口が前記吐出エネルギ発生素子の面に沿う方向
に設けられたインクジェットプリントヘッドの製造方法
であって、 前記基板上にオーバーハング構造の凹部を形成する工程
と、 該凹部に前記天板の突出部を嵌合する工程と、 前記天板の突出部のうち、前記凹部内に嵌入している部
分を溶融して前記基板の凹部から抜け出し不能な状態に
変形させる工程とを含むことを特徴とするインクジェッ
トプリントヘッドの製造方法。 - 【請求項15】 前記天板の突出部は、前記天板と前記
基板との間に形成されるインク流路の一部を構成する複
数の壁部であり、前記基板の凹部は前記各壁部に対応す
る位置に形成されていることを特徴とする請求項14記
載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 - 【請求項16】 前記溶融変形工程は熱溶着または超音
波溶着により行われることを特徴とする請求項14また
は15に記載のインクジェットプリントヘッドの製造方
法。 - 【請求項17】 前記凹部形成工程は、前記基板上に少
なくとも1層からなる凹部形成層を形成した後、前記天
板の突出部に対応する前記凹部形成層の所定部分を除去
することにより行われることを特徴とする請求項14〜
16のいずれかの項に記載のインクジェットプリントヘ
ッドの製造方法。 - 【請求項18】 前記凹部形成工程における層の除去は
エッチングにより行われることを特徴とする請求項17
記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 - 【請求項19】 前記凹部形成工程における層の形成
は、前記基板に近いほどエッチング速度の速い層を形成
した後、前記基板から遠いほどエッチング速度の遅い層
を形成することにより行われることを特徴とする請求項
14記載のインクジェットプリントヘッドの製造方法。 - 【請求項20】 請求項1〜13のいずれかの項に記載
のインクジェットプリントヘッドを搭載する部材を備え
たことを特徴とするインクジェットプリント装置。 - 【請求項21】 前記インクジェットプリントヘッド搭
載部材は、前記インクジェットプリントヘッドによりイ
ンクが吐出される被プリント媒体の搬送方向に直交する
方向に往復移動可能であることを特徴とする請求項20
記載のインクジェットプリント装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11564196A JPH09277539A (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | インクジェットプリントヘッド、その製造方法およびインクジェットプリント装置 |
| US08/843,286 US6180018B1 (en) | 1996-04-12 | 1997-04-11 | Ink jet printing head, manufacturing method therefor, and ink jet printing apparatus |
| DE69732389T DE69732389T2 (de) | 1996-04-12 | 1997-04-11 | Tintenstrahldruckkopfherstellungsverfahren |
| EP97106005A EP0800921B1 (en) | 1996-04-12 | 1997-04-11 | Ink jet printing head manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11564196A JPH09277539A (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | インクジェットプリントヘッド、その製造方法およびインクジェットプリント装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09277539A true JPH09277539A (ja) | 1997-10-28 |
Family
ID=14667676
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11564196A Pending JPH09277539A (ja) | 1996-04-12 | 1996-04-12 | インクジェットプリントヘッド、その製造方法およびインクジェットプリント装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09277539A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009137027A (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-25 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
| JP2015020379A (ja) * | 2013-07-22 | 2015-02-02 | パナソニック株式会社 | ラインヘッド |
| JP2015047783A (ja) * | 2013-09-02 | 2015-03-16 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
-
1996
- 1996-04-12 JP JP11564196A patent/JPH09277539A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009137027A (ja) * | 2007-12-03 | 2009-06-25 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド |
| JP2015020379A (ja) * | 2013-07-22 | 2015-02-02 | パナソニック株式会社 | ラインヘッド |
| JP2015047783A (ja) * | 2013-09-02 | 2015-03-16 | キヤノン株式会社 | 液体吐出ヘッド及びその製造方法 |
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