JPH09283401A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH09283401A5 JPH09283401A5 JP1996086711A JP8671196A JPH09283401A5 JP H09283401 A5 JPH09283401 A5 JP H09283401A5 JP 1996086711 A JP1996086711 A JP 1996086711A JP 8671196 A JP8671196 A JP 8671196A JP H09283401 A5 JPH09283401 A5 JP H09283401A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- humidity
- exposure apparatus
- photosensitive substrate
- gas
- supplied
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Claims (11)
- 紫外線を射出する光源部と、前記光源部から射出された紫外線でレチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルの像を感光性基板上に転写する投影系部と、装置の一部もしくは全部を収容するチャンバーとを備える露光装置において、任意の部位に湿度除去された気体を供給することを特徴とする露光装置。
- 前記感光性基板雰囲気に湿度除去された気体を供給することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 感光性基板の存在を検知する手段を備え、感光性基板の有無に応じて湿度除去された気体の供給量を制御することを特徴とする請求項2記載の露光装置。
- 前記感光性基板の周囲雰囲気の湿度を測定する手段を備えることを特徴とする請求項2又は3記載の露光装置。
- 湿度除去された気体が供給される雰囲気中で前記感光性基板と接触する部材に静電気除去手段を設けたことを特徴とする請求項2、3又は4記載の露光装置。
- 前記照明光学系雰囲気に湿度除去された気体を供給することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- ガス状不純物除去フィルターと湿度除去手段を備え、前記ガス状不純物除去フィルターを通した気体を前記湿度除去手段に通すことによって湿度除去された気体を得ることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項記載の露光装置。
- 前記気体は大気を湿度除去したものであることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項記載の露光装置。
- 外気から湿度を除去する湿度除去手段を有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 前記外気の湿度をモニターする湿度測定手段と、
前記湿度測定手段でモニターされた前記外気の湿度に応じて、前記湿度除去手段の湿度除去能力を制御する制御手段とを有することを特徴とする請求項9記載の露光装置。 - 前記任意の部位は、前記感光性基板の移動経路であることを特徴とする請求項10記載の露光装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8086711A JPH09283401A (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 露光装置 |
| KR1019970012127A KR100542414B1 (ko) | 1996-03-27 | 1997-03-27 | 노광장치및공조장치 |
| US09/266,873 US6535270B1 (en) | 1996-03-27 | 1999-03-12 | Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus |
| US10/237,133 US20030035087A1 (en) | 1996-03-27 | 2002-09-09 | Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus |
| US11/071,106 US20050185156A1 (en) | 1996-03-27 | 2005-03-04 | Exposure apparatus and air-conditioning apparatus for use with exposure apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8086711A JPH09283401A (ja) | 1996-04-09 | 1996-04-09 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09283401A JPH09283401A (ja) | 1997-10-31 |
| JPH09283401A5 true JPH09283401A5 (ja) | 2004-07-29 |
Family
ID=13894499
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8086711A Withdrawn JPH09283401A (ja) | 1996-03-27 | 1996-04-09 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09283401A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6313953B1 (en) * | 1999-01-15 | 2001-11-06 | Donaldson Company, Inc. | Gas chemical filtering for optimal light transmittance; and methods |
| KR100326432B1 (ko) | 2000-05-29 | 2002-02-28 | 윤종용 | 웨이퍼 스테이지용 에어 샤워 |
| JP2002158170A (ja) | 2000-09-08 | 2002-05-31 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US7112549B2 (en) * | 2000-09-20 | 2006-09-26 | Sumitomo Metal Industries, Ltd. | Low thermal expansion ceramic and member for exposure system |
| WO2005031824A1 (ja) | 2003-09-29 | 2005-04-07 | Nikon Corporation | 投影露光装置、投影露光方法およびデバイス製造方法 |
| EP1528430A1 (en) | 2003-10-30 | 2005-05-04 | ASML Netherlands B.V. | A device manufacturing method, as well as a lithographic apparatus |
| US7616383B2 (en) * | 2004-05-18 | 2009-11-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2009111186A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-05-21 | Toshiba Corp | 基板処理方法、基板搬送方法および基板搬送装置 |
| KR102037749B1 (ko) * | 2018-03-16 | 2019-10-29 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 랩핑 장치 |
-
1996
- 1996-04-09 JP JP8086711A patent/JPH09283401A/ja not_active Withdrawn
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR970067589A (ko) | 노광장치 및 이에 사용되는 공조장치 | |
| JPH10270333A5 (ja) | ||
| JP4816080B2 (ja) | フィルタ装置及び露光システム並びにデバイスの製造方法 | |
| TW490731B (en) | Optical device, exposure system, and laser beam source, and gas feed method, exposure method, and device manufacturing method | |
| KR840000074A (ko) | 감광성 내식막에 균일한 정제 패턴을 노출시키는 방법 및 장치 | |
| JPH09283401A5 (ja) | ||
| JPH09270385A5 (ja) | ||
| TW374936B (en) | Exposure apparatus | |
| KR970017959A (ko) | 주사형 노광 장치 | |
| EP1331519A3 (en) | Exposure control | |
| TW368682B (en) | Exposure apparatus | |
| JPH10209040A5 (ja) | ||
| JP2005057154A5 (ja) | ||
| US5166530A (en) | Illuminator for microlithographic integrated circuit manufacture | |
| JP2004191767A5 (ja) | ||
| JP2000091192A (ja) | 露光装置 | |
| JP4194757B2 (ja) | チャンバ内気圧制御方法、チャンバ内気圧制御装置 | |
| JP2007250686A5 (ja) | ||
| EP1569033A3 (en) | Exposure apparatus and method | |
| JPH09283401A (ja) | 露光装置 | |
| JPH09275055A5 (ja) | ||
| JPH09266147A5 (ja) | ||
| JPH09266148A5 (ja) | ||
| JP2010085507A (ja) | 露光装置 | |
| JPH10284401A5 (ja) |