JPH09286624A - 光学素子成形用型 - Google Patents
光学素子成形用型Info
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- JPH09286624A JPH09286624A JP8100314A JP10031496A JPH09286624A JP H09286624 A JPH09286624 A JP H09286624A JP 8100314 A JP8100314 A JP 8100314A JP 10031496 A JP10031496 A JP 10031496A JP H09286624 A JPH09286624 A JP H09286624A
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- molding
- intermediate layer
- sic
- optical element
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
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- C03B11/00—Pressing molten glass or performed glass reheated to equivalent low viscosity without blowing
- C03B11/06—Construction of plunger or mould
- C03B11/08—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses
- C03B11/084—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor
- C03B11/086—Construction of plunger or mould for making solid articles, e.g. lenses material composition or material properties of press dies therefor of coated dies
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/10—Die base materials
- C03B2215/12—Ceramics or cermets, e.g. cemented WC, Al2O3 or TiC
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2215/00—Press-moulding glass
- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
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- C03B2215/16—Metals or alloys, e.g. Ni-P, Ni-B, amorphous metals
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- C03B2215/02—Press-mould materials
- C03B2215/08—Coated press-mould dies
- C03B2215/30—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material
- C03B2215/34—Intermediate layers, e.g. graded zone of base/top material of ceramic or cermet material, e.g. diamond-like carbon
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】高強度で高精度な鏡面を得ることができ、しか
も、成形素材との融着反応を起しにくい、光学素子の成
形用型を提供する。 【解決手段】型母材１がＳｉＣの焼結体であり、型母材
１の成形面上には、第１中間層２、第２中間層３、およ
び、最上位層４が順に形成されており、第１中間層２
は、ＳｉＣ層であり、第２中間層３は、ＴｉＮ、Ａｌ
Ｎ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡｌＮから選ばれた少なくと
も一種の金属窒化物の層であり、最上位層４は、第２中
間層３上に形成されたのち高真空下で再結晶したＰｔ層
となっている。
も、成形素材との融着反応を起しにくい、光学素子の成
形用型を提供する。 【解決手段】型母材１がＳｉＣの焼結体であり、型母材
１の成形面上には、第１中間層２、第２中間層３、およ
び、最上位層４が順に形成されており、第１中間層２
は、ＳｉＣ層であり、第２中間層３は、ＴｉＮ、Ａｌ
Ｎ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡｌＮから選ばれた少なくと
も一種の金属窒化物の層であり、最上位層４は、第２中
間層３上に形成されたのち高真空下で再結晶したＰｔ層
となっている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、レンズやプリズム
等の光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型に
関する。
等の光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型に
関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、非球面レンズをはじめとする高精
度レンズや、プリズム、フライアイレンズ等の特殊形状
光学素子の製造に、後工程に研磨を必要としないプレス
成形がが使われるようになってきた。これにより、従来
行われていた複雑な工程が省かれ、同一形状の光学素子
を大量且つ安価に製造できるようになった。
度レンズや、プリズム、フライアイレンズ等の特殊形状
光学素子の製造に、後工程に研磨を必要としないプレス
成形がが使われるようになってきた。これにより、従来
行われていた複雑な工程が省かれ、同一形状の光学素子
を大量且つ安価に製造できるようになった。
【０００３】このようなプレス成形で使用される成形用
型には、高温下での化学的耐久性、成形素材との摩擦に
耐え得る機械的耐久性、転写面の鏡面加工性、成形素材
との離型性等、様々な特性が要求される。
型には、高温下での化学的耐久性、成形素材との摩擦に
耐え得る機械的耐久性、転写面の鏡面加工性、成形素材
との離型性等、様々な特性が要求される。
【０００４】例えば、特開昭５２−４５６１３号公報に
記載の発明では、化学的に安定なＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4、Ｓ
ｉＣ＋Ｃを型材として使用している。このような型材
は、高精度な鏡面を得やすく、高温下での化学的耐久性
もある。
記載の発明では、化学的に安定なＳｉＣ、Ｓｉ3Ｎ4、Ｓ
ｉＣ＋Ｃを型材として使用している。このような型材
は、高精度な鏡面を得やすく、高温下での化学的耐久性
もある。
【０００５】特開昭６２−２８０９１号公報に記載の発
明では、成形素材として用いる硝子に対して離型性を高
めるためにＷＣの母材上に貴金属膜を被覆しており、こ
の貴金属膜が、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕからなる
群より選ばれた少なくとも１つの元素とＰｔ（６０〜９
９重量％）との貴金属合金となっている。この貴金属膜
により、成形終了後において、完成した光学素子が成形
用型から離れ易くなり、いわゆる離型効果が向上する。
明では、成形素材として用いる硝子に対して離型性を高
めるためにＷＣの母材上に貴金属膜を被覆しており、こ
の貴金属膜が、Ｉｒ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｒｕからなる
群より選ばれた少なくとも１つの元素とＰｔ（６０〜９
９重量％）との貴金属合金となっている。この貴金属膜
により、成形終了後において、完成した光学素子が成形
用型から離れ易くなり、いわゆる離型効果が向上する。
【０００６】特公平７−４５３３１号公報に記載の発明
では、バインダーレスのＷＣ母材上に、ＴｉＮ、Ｔａ
Ｎ、Ｓｉ3Ｎ4、ＢＮ、ＡｌＮ、ＨｆＮ、ＺｒＮ等から選
ばれた少なくとも一つの窒化物もしくはＴａＣ、Ｓｉ
Ｃ、ＨｆＣから選ばれた少なくとも一つの炭化物を離型
膜として被覆している。
では、バインダーレスのＷＣ母材上に、ＴｉＮ、Ｔａ
Ｎ、Ｓｉ3Ｎ4、ＢＮ、ＡｌＮ、ＨｆＮ、ＺｒＮ等から選
ばれた少なくとも一つの窒化物もしくはＴａＣ、Ｓｉ
Ｃ、ＨｆＣから選ばれた少なくとも一つの炭化物を離型
膜として被覆している。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
５２−４５６１３号公報に記載の発明においては、Ｐｂ
成分やアルカリ成分が多く含まれている硝子素材をプレ
ス成形する場合に、型材中の珪素がこれらと反応し、融
着が発生するという問題がある。
５２−４５６１３号公報に記載の発明においては、Ｐｂ
成分やアルカリ成分が多く含まれている硝子素材をプレ
ス成形する場合に、型材中の珪素がこれらと反応し、融
着が発生するという問題がある。
【０００８】また、特開昭６２−２８０９１号公報に記
載の発明では、離型膜として機能する貴金属膜が軟らか
いため、傷等が入りやすく、また、成形圧力によって貴
金属膜自体が変形するといった問題がある。この場合、
高精度なレンズ成形は不可能となる。また、この貴金属
膜は、ＳｉＣとの密着性が非常に低いため、ＳｉＣを用
いた母材では、数十回の成形に耐えることができず、ま
た、さらに成形を繰り返した場合には貴金属膜の剥離に
至る。
載の発明では、離型膜として機能する貴金属膜が軟らか
いため、傷等が入りやすく、また、成形圧力によって貴
金属膜自体が変形するといった問題がある。この場合、
高精度なレンズ成形は不可能となる。また、この貴金属
膜は、ＳｉＣとの密着性が非常に低いため、ＳｉＣを用
いた母材では、数十回の成形に耐えることができず、ま
た、さらに成形を繰り返した場合には貴金属膜の剥離に
至る。
【０００９】また、特公平７−４５３３１号公報に記載
の発明においては、離型膜として窒化物や炭化物を使用
しているが、この場合、各窒化物、炭化物に対して反応
性が低い成形素材を探索する作業が先ず必要となる。こ
の探索作業は、非常に煩雑である。
の発明においては、離型膜として窒化物や炭化物を使用
しているが、この場合、各窒化物、炭化物に対して反応
性が低い成形素材を探索する作業が先ず必要となる。こ
の探索作業は、非常に煩雑である。
【００１０】以上のような問題点を鑑み、本発明の目的
は、高強度で高精度な鏡面を得ることができ、しかも、
成形素材との融着反応を起こしにくい、光学素子の成形
用型を提供することにある。
は、高強度で高精度な鏡面を得ることができ、しかも、
成形素材との融着反応を起こしにくい、光学素子の成形
用型を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の一態様によれば、光学素子のプレス成形に用
いる光学素子成形用型において、型母材がＳｉＣの焼結
体であり、前記型母材の成形面上には、第１中間層、第
２中間層、および、最上位層が順に形成されており、前
記第１中間層は、ＳｉＣ層であり、前記第２中間層は、
ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡｌＮから選ば
れた少なくとも一種の金属窒化物の層であり、前記最上
位層は、前記第２中間層上に形成されたのち高真空下で
再結晶したＰｔ層であることを特徴とする光学素子成形
用型が提供される。
の本発明の一態様によれば、光学素子のプレス成形に用
いる光学素子成形用型において、型母材がＳｉＣの焼結
体であり、前記型母材の成形面上には、第１中間層、第
２中間層、および、最上位層が順に形成されており、前
記第１中間層は、ＳｉＣ層であり、前記第２中間層は、
ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡｌＮから選ば
れた少なくとも一種の金属窒化物の層であり、前記最上
位層は、前記第２中間層上に形成されたのち高真空下で
再結晶したＰｔ層であることを特徴とする光学素子成形
用型が提供される。
【００１２】第１中間層の表面は、ほぼ、表面粗さＲma
x１００Å以下になるまで鏡面研磨されていることが望
ましい。また、最上位層は、Ｐｔを９９．９重量％以上
含んで形成されていることが望ましい。
x１００Å以下になるまで鏡面研磨されていることが望
ましい。また、最上位層は、Ｐｔを９９．９重量％以上
含んで形成されていることが望ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る一実施形態に
ついて図面を参照しながら説明する。
ついて図面を参照しながら説明する。
【００１４】図１は、本実施形態の成形用型の断面図で
ある。この成形用型は、成形時には２つ用意され、これ
らは、成形素材を挾むように重ね合わされて用いられ
る。成形素材には、硝子を用いることとする。
ある。この成形用型は、成形時には２つ用意され、これ
らは、成形素材を挾むように重ね合わされて用いられ
る。成形素材には、硝子を用いることとする。
【００１５】図１の成形用型を製造するにあたっては、
まず、凹面が形成されたＳｉＣ焼結体１を母材として用
意する。ＳｉＣ焼結体１の上には、ＣＶＤ（chemical v
apour deposition）法によって第１中間層２を被覆す
る。第１中間層２には、ＳｉＣ層を用いる。層厚は、例
えば、３００μｍ以上にする。続いて、第１中間層２を
研削、研磨し、目的の形状を有する鏡面に仕上げる。Ｓ
ｉＣ焼結体１をＣＶＤ法によるＳｉＣ層で被覆すれば、
焼結体特有のポアー発生による表面粗さの悪化を防ぐこ
とができる。具体的には、鏡面仕上げ時にＲmax５０Å
以下の表面粗さを得ることができるようになる。この表
面粗さは、高精度な光学素子でも十分対応できるもので
ある。第１中間層２の上には、第２中間層３を被覆す
る。第２中間層３は、主に、第１中間層２と後述する最
上位層４との密着力を高めるための接着層として機能す
る。なお、密着力を高めるという観点からすれば、化学
的にも活性なＴｉやＮｉ等の金属薄膜でもよいわけであ
るが、これらの金属は、酸素存在下において不安定であ
る。もちろん、酸素が取り除かれた雰囲気内で成形を行
えば採用できなくもないが、このような雰囲気を完全に
制御するためには大がかりな装置が必要となり、コスト
もかかる。また、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＴｉＣＮ等は、化学
的にも安定で、それ自体、離型膜として使用されること
もある。しかしながら、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＴｉＣＮ等か
ら成る薄膜は、表面粗さが悪く、これを第２中間層３に
用いた場合、第１中間層２に形成された鏡面を崩すこと
となる。このようなことを鑑み、本実施形態では、第２
中間層３に、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡ
ｌＮ等の金属窒化物を用いている。これらの金属窒化物
は、化学的にも安定で、また、第１中間層２の鏡面性を
失わせるようなこともない。また、第１中間層２として
のＳｉＣ層や、最上位層４として使用されるＰｔ層との
密着性が高い。
まず、凹面が形成されたＳｉＣ焼結体１を母材として用
意する。ＳｉＣ焼結体１の上には、ＣＶＤ（chemical v
apour deposition）法によって第１中間層２を被覆す
る。第１中間層２には、ＳｉＣ層を用いる。層厚は、例
えば、３００μｍ以上にする。続いて、第１中間層２を
研削、研磨し、目的の形状を有する鏡面に仕上げる。Ｓ
ｉＣ焼結体１をＣＶＤ法によるＳｉＣ層で被覆すれば、
焼結体特有のポアー発生による表面粗さの悪化を防ぐこ
とができる。具体的には、鏡面仕上げ時にＲmax５０Å
以下の表面粗さを得ることができるようになる。この表
面粗さは、高精度な光学素子でも十分対応できるもので
ある。第１中間層２の上には、第２中間層３を被覆す
る。第２中間層３は、主に、第１中間層２と後述する最
上位層４との密着力を高めるための接着層として機能す
る。なお、密着力を高めるという観点からすれば、化学
的にも活性なＴｉやＮｉ等の金属薄膜でもよいわけであ
るが、これらの金属は、酸素存在下において不安定であ
る。もちろん、酸素が取り除かれた雰囲気内で成形を行
えば採用できなくもないが、このような雰囲気を完全に
制御するためには大がかりな装置が必要となり、コスト
もかかる。また、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＴｉＣＮ等は、化学
的にも安定で、それ自体、離型膜として使用されること
もある。しかしながら、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＴｉＣＮ等か
ら成る薄膜は、表面粗さが悪く、これを第２中間層３に
用いた場合、第１中間層２に形成された鏡面を崩すこと
となる。このようなことを鑑み、本実施形態では、第２
中間層３に、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡ
ｌＮ等の金属窒化物を用いている。これらの金属窒化物
は、化学的にも安定で、また、第１中間層２の鏡面性を
失わせるようなこともない。また、第１中間層２として
のＳｉＣ層や、最上位層４として使用されるＰｔ層との
密着性が高い。
【００１６】第２中間層３の上には、Ｐｔ層を最上位層
４として被覆する。具体的には、第２中間層３の上にＰ
ｔ層をスパッタリングによって形成し、その後、これを
高温、高真空下で再結晶させる。再結晶することでＰｔ
層は安定し、再結晶前の状態と比較して、その硬度が格
段に向上する。このような高硬度のＰｔ層は、表面に傷
が入りにくく、精度の高い成形が繰り返し行えるように
なる。また、このＰｔ層は、硝子との反応性が極めて低
いため、融着反応を起こすことがほとんどない。したが
って、表面粗さの劣化も防止される。
４として被覆する。具体的には、第２中間層３の上にＰ
ｔ層をスパッタリングによって形成し、その後、これを
高温、高真空下で再結晶させる。再結晶することでＰｔ
層は安定し、再結晶前の状態と比較して、その硬度が格
段に向上する。このような高硬度のＰｔ層は、表面に傷
が入りにくく、精度の高い成形が繰り返し行えるように
なる。また、このＰｔ層は、硝子との反応性が極めて低
いため、融着反応を起こすことがほとんどない。したが
って、表面粗さの劣化も防止される。
【００１７】以上の工程を経て作製された成形用型は、
型母材がＳｉＣの焼結体であり、型母材の成形面上に
は、第１中間層、第２中間層、および、最上位層が順に
形成されており、第１中間層が、ＳｉＣ層であり、第２
中間層が、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡｌ
Ｎから選ばれた少なくとも一種の金属窒化物の層であ
り、最上位層が、第２中間層上に形成されたのち高真空
下で再結晶したＰｔ層である成形用型となる。
型母材がＳｉＣの焼結体であり、型母材の成形面上に
は、第１中間層、第２中間層、および、最上位層が順に
形成されており、第１中間層が、ＳｉＣ層であり、第２
中間層が、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＴｉＡｌ
Ｎから選ばれた少なくとも一種の金属窒化物の層であ
り、最上位層が、第２中間層上に形成されたのち高真空
下で再結晶したＰｔ層である成形用型となる。
【００１８】
【実施例】図１の成形型を用いて以下の成形作業を行っ
た。
た。
【００１９】ここでは、外径が２５ｍｍ、高さ２５ｍ
ｍ、凹面曲率半径２８．５ｍｍのＳｉＣ母材１を用意し
た。ＳｉＣ母材１の上には、ＣＶＤ法によりＳｉＣ層を
３００μｍの厚さで形成し、これを第１中間層２とし
た。その後、このＳｉＣ層２を研削加工で所望の形状に
し、これを研磨加工により鏡面仕上げし、最終的に表面
粗さをＲmax５０Å以下にした。続いて、ＳｉＣ層２の
鏡面部分にイオンプレーティング法によりＴｉＮ膜を１
μｍの厚さで均一に成形し、これを第２中間層３とし
た。このＴｉＮ膜３の上には、Ｐｔ層（Ｐｔ：９９．９
重量％以上）をスパッタリング法により膜厚２００Åで
成形した。このＰｔ層が最上位層４となる。
ｍ、凹面曲率半径２８．５ｍｍのＳｉＣ母材１を用意し
た。ＳｉＣ母材１の上には、ＣＶＤ法によりＳｉＣ層を
３００μｍの厚さで形成し、これを第１中間層２とし
た。その後、このＳｉＣ層２を研削加工で所望の形状に
し、これを研磨加工により鏡面仕上げし、最終的に表面
粗さをＲmax５０Å以下にした。続いて、ＳｉＣ層２の
鏡面部分にイオンプレーティング法によりＴｉＮ膜を１
μｍの厚さで均一に成形し、これを第２中間層３とし
た。このＴｉＮ膜３の上には、Ｐｔ層（Ｐｔ：９９．９
重量％以上）をスパッタリング法により膜厚２００Åで
成形した。このＰｔ層が最上位層４となる。
【００２０】この成形型は、その後、真空度５×１０-5
Torr以下に保たれたチャンバー内で、図２に示すような
温度スケジュールで加熱処理し、最上位層のＰｔ層を再
結晶させた。図２の温度スケジュールでは、１５分間で
型温度が７５０℃に達するようにし、その後、この温度
を６０分間維持し、その後冷却する。
Torr以下に保たれたチャンバー内で、図２に示すような
温度スケジュールで加熱処理し、最上位層のＰｔ層を再
結晶させた。図２の温度スケジュールでは、１５分間で
型温度が７５０℃に達するようにし、その後、この温度
を６０分間維持し、その後冷却する。
【００２１】出来上がった成形型は、図３（ａ）に示す
ように上下一対用意した。成形素材としては、重フリン
ト系光学ガラス（ＰｂＯ約７０％、ＳｉＯ2約２５％、
その他約５％）で形成された、半径６ｍｍのボールブラ
ンク５を用意した。ボールブランク５は、２つの成形型
の間に配置され、これらの成形型は、スリーブ６内に上
下動可能に納められている。
ように上下一対用意した。成形素材としては、重フリン
ト系光学ガラス（ＰｂＯ約７０％、ＳｉＯ2約２５％、
その他約５％）で形成された、半径６ｍｍのボールブラ
ンク５を用意した。ボールブランク５は、２つの成形型
の間に配置され、これらの成形型は、スリーブ６内に上
下動可能に納められている。
【００２２】成形作業は、図３（ａ）の組立品をＮ2雰
囲気中に配置し、図４に示すスケジュールにしたがって
行った。すなわち、３分間で型温度が５６０℃に達する
ような加熱を行い、４分間その温度を保持し、２つの成
形型やボールブランク５の均熱化を行った。その後、１
秒あたり０．５℃ずつ温度が下がるような温度制御を行
いながら、４２０℃に達するまで成形圧力１００ｋｇ／
ｃｍ2でプレスを行う。プレスは、図３（ｂ）に示すよ
うに、上型を下型に向かって押し付けて行うが、この駆
動装置に関しては図示省略している。４００℃以降は、
成形圧力を解除し、Ｎ2ガスによって強制冷却を行っ
た。そして、常温になったところで、スリーブ６から成
形レンズ７を取り出した。この成形レンズ７は、表面粗
さがＲmax８０Å以下になっており、非常によい光学特
性を示した。
囲気中に配置し、図４に示すスケジュールにしたがって
行った。すなわち、３分間で型温度が５６０℃に達する
ような加熱を行い、４分間その温度を保持し、２つの成
形型やボールブランク５の均熱化を行った。その後、１
秒あたり０．５℃ずつ温度が下がるような温度制御を行
いながら、４２０℃に達するまで成形圧力１００ｋｇ／
ｃｍ2でプレスを行う。プレスは、図３（ｂ）に示すよ
うに、上型を下型に向かって押し付けて行うが、この駆
動装置に関しては図示省略している。４００℃以降は、
成形圧力を解除し、Ｎ2ガスによって強制冷却を行っ
た。そして、常温になったところで、スリーブ６から成
形レンズ７を取り出した。この成形レンズ７は、表面粗
さがＲmax８０Å以下になっており、非常によい光学特
性を示した。
【００２３】なお、同様の工程でプレスを１０００回行
ったが、成形型の表面に傷の発生はなく、また、膜の剥
離などの現象も見られなかった。
ったが、成形型の表面に傷の発生はなく、また、膜の剥
離などの現象も見られなかった。
【００２４】また、他にも、クラウン系光学ガラス（Ｓ
ｉＯ2約６５％、Ｂ2Ｏ3約１５％、アルカリ成分約１５
％、その他約５％）や、フッ燐酸系光学ガラス（ＣａＦ
2＋ＳｒＦ2＋ＢａＦ2約５５％、ＡｌＦ3約３０％、Ｐ2
Ｏ5約１０％、残り約５％）を用いて成形を行ったが、
成形型にダメージは認められなかった。
ｉＯ2約６５％、Ｂ2Ｏ3約１５％、アルカリ成分約１５
％、その他約５％）や、フッ燐酸系光学ガラス（ＣａＦ
2＋ＳｒＦ2＋ＢａＦ2約５５％、ＡｌＦ3約３０％、Ｐ2
Ｏ5約１０％、残り約５％）を用いて成形を行ったが、
成形型にダメージは認められなかった。
【００２５】なお、比較のため、ＳｉＣ単体、ＳｉＣ＋
Ｐｔ膜、ＳｉＣ＋ＢＮ膜で、前記成形型１と同形状のも
のを作製し、順次、重フリント系光学ガラスを用いた成
形実験を行った。
Ｐｔ膜、ＳｉＣ＋ＢＮ膜で、前記成形型１と同形状のも
のを作製し、順次、重フリント系光学ガラスを用いた成
形実験を行った。
【００２６】すると、ＳｉＣ単体の成形用型では、プレ
ス一回目で硝子と激しく融着してしまった。ＳｉＣ＋Ｐ
ｔ膜の成形用型では、３０回程の成形で膜に傷が入り、
５０回前後で、膜の剥離現象が認められた。ＳｉＣ＋Ｂ
Ｎ膜の成形用型では、傷の発生や膜の剥離は認められな
かったものの、クラウン系光学ガラスのプレスでは、一
回で硝子との融着が起き、その後の使用に耐えられない
ものとなった。
ス一回目で硝子と激しく融着してしまった。ＳｉＣ＋Ｐ
ｔ膜の成形用型では、３０回程の成形で膜に傷が入り、
５０回前後で、膜の剥離現象が認められた。ＳｉＣ＋Ｂ
Ｎ膜の成形用型では、傷の発生や膜の剥離は認められな
かったものの、クラウン系光学ガラスのプレスでは、一
回で硝子との融着が起き、その後の使用に耐えられない
ものとなった。
【００２７】
【発明の効果】以上のように本発明の成形用型によれ
ば、プレス成形時に成形素材との融着反応が抑止される
と共に、高精度な表面形状が長期にわたって保たれるの
で、高精度な光学素子を安定的に量産できるようにな
る。
ば、プレス成形時に成形素材との融着反応が抑止される
と共に、高精度な表面形状が長期にわたって保たれるの
で、高精度な光学素子を安定的に量産できるようにな
る。
【００２８】また、本発明の成形用型は、様々な光学ガ
ラスに対応可能なため、光学素子のプレス成形の可能を
広げる効果もある。
ラスに対応可能なため、光学素子のプレス成形の可能を
広げる効果もある。
【図１】本発明に係る成形用型の一実施形態の断面図。
【図２】図１の成形用型のＰｔ層の再結晶時の加熱スケ
ジュール。
ジュール。
【図３】図１の成形用型を用いた成形作業の一例を示す
説明図。
説明図。
【図４】図１の成形用型を用いた成形作業のスケジュー
ル。
ル。
１：母材、 ２：第１中間層、 ３：第２中間層、 ４：最上位層、 ５：ボールブランク、 ６：スリーブ、 ７：成形レンズ
Claims (3)
- 【請求項１】光学素子のプレス成形に用いる光学素子成
形用型において、 型母材がＳｉＣの焼結体であり、 前記型母材の成形面上には、第１中間層、第２中間層、
および、最上位層が順に形成されており、 前記第１中間層は、ＳｉＣ層であり、 前記第２中間層は、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、
ＴｉＡｌＮから選ばれた少なくとも一種の金属窒化物の
層であり、 前記最上位層は、前記第２中間層上に形成されたのち高
真空下で再結晶したＰｔ層であることを特徴とする光学
素子成形用型。 - 【請求項２】請求項１において、 前記第１中間層の表面は、表面粗さ約Ｒmax１００Å以
下になるまで鏡面研磨されていることを特徴とする光学
素子成形用型。 - 【請求項３】請求項１または２において、 前記最上位層は、Ｐｔを９９．９重量％以上含んで形成
されていることを特徴とする光学素子成形用型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8100314A JPH09286624A (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | 光学素子成形用型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8100314A JPH09286624A (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | 光学素子成形用型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09286624A true JPH09286624A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14270726
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8100314A Pending JPH09286624A (ja) | 1996-04-22 | 1996-04-22 | 光学素子成形用型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09286624A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102225A (ja) * | 2003-01-24 | 2009-05-14 | Olympus Corp | 光学素子成形用型及び光学素子成形方法 |
| CN100560522C (zh) | 2005-01-07 | 2009-11-18 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 复合结构模仁及其制备方法 |
| KR100947331B1 (ko) * | 2008-03-24 | 2010-03-16 | (주)에이지광학 | 사용 수명이 향상된 보강층을 갖는 렌즈 금형 코어의 박막구조물 및 이의 형성 방법 |
| JP2010269964A (ja) * | 2009-05-20 | 2010-12-02 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス素子用成形金型の製造方法、ガラス素子用成形金型、光学素子の成形方法、光学素子、ガラスブランクの成形方法、及びガラスブランク |
-
1996
- 1996-04-22 JP JP8100314A patent/JPH09286624A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009102225A (ja) * | 2003-01-24 | 2009-05-14 | Olympus Corp | 光学素子成形用型及び光学素子成形方法 |
| CN100560522C (zh) | 2005-01-07 | 2009-11-18 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 复合结构模仁及其制备方法 |
| KR100947331B1 (ko) * | 2008-03-24 | 2010-03-16 | (주)에이지광학 | 사용 수명이 향상된 보강층을 갖는 렌즈 금형 코어의 박막구조물 및 이의 형성 방법 |
| JP2010269964A (ja) * | 2009-05-20 | 2010-12-02 | Konica Minolta Opto Inc | ガラス素子用成形金型の製造方法、ガラス素子用成形金型、光学素子の成形方法、光学素子、ガラスブランクの成形方法、及びガラスブランク |
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