JPH09287017A - 高純度鋼溶製方法 - Google Patents
高純度鋼溶製方法Info
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- JPH09287017A JPH09287017A JP8098833A JP9883396A JPH09287017A JP H09287017 A JPH09287017 A JP H09287017A JP 8098833 A JP8098833 A JP 8098833A JP 9883396 A JP9883396 A JP 9883396A JP H09287017 A JPH09287017 A JP H09287017A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空脱ガス処理による、極低炭素及び極低硫
黄の高純度溶鋼の溶製方法を提供する。 【解決手段】 溶鋼中に攪拌用ガスおよび精錬フラック
スを吹き込みながら真空脱ガス処理を行う大径直胴の単
一浸漬管を有する真空脱ガス装置を用いて、未脱酸溶鋼
に、真空槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以下に維持する精錬
前期と、２００〜４００Ｔｏｒｒに維持して金属マグネ
シウムを吹き込む精錬後期とからなる真空脱ガス精錬処
理を施す。
黄の高純度溶鋼の溶製方法を提供する。 【解決手段】 溶鋼中に攪拌用ガスおよび精錬フラック
スを吹き込みながら真空脱ガス処理を行う大径直胴の単
一浸漬管を有する真空脱ガス装置を用いて、未脱酸溶鋼
に、真空槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以下に維持する精錬
前期と、２００〜４００Ｔｏｒｒに維持して金属マグネ
シウムを吹き込む精錬後期とからなる真空脱ガス精錬処
理を施す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は高純度鋼の溶製方法
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来の技術】炭素、窒素、硫黄濃度の低い高純度鋼
は、炭化物、窒化物、硫化物の析出が少ないため深絞り
性、非時効性、電磁特性に優れていることは良く知られ
ている。しかし、窒素は脱酸剤であるＡｌやＴｉにより
ＡｌＮやＴｉＮという窒化物を形成しやすいため、これ
らの脱酸剤を用いる鋼種では、窒化物の析出は避け難
く、時効性には優れているものの、窒化物により圧延、
熱処理時の結晶粒成長が抑制されるため深絞り性や電磁
特性に対しては十分な高純度化の効果が得られない。し
かし、脱酸剤としてＡｌやＴｉを用いない場合には、溶
鋼中の酸素濃度が下げられないため冶金学的に脱硫反応
が進行しにくく、極低硫鋼の溶製ができないという問題
が生じる。従って、この場合にはＡｌＮやＴｉＮという
窒化物は生成しないものの、硫黄濃度が高いためＭｎＳ
が析出して、同様に圧延、熱処理時の結晶粒成長が抑制
され、従って深絞り性や電磁特性に対しては十分な高純
度化の効果が得られない。
は、炭化物、窒化物、硫化物の析出が少ないため深絞り
性、非時効性、電磁特性に優れていることは良く知られ
ている。しかし、窒素は脱酸剤であるＡｌやＴｉにより
ＡｌＮやＴｉＮという窒化物を形成しやすいため、これ
らの脱酸剤を用いる鋼種では、窒化物の析出は避け難
く、時効性には優れているものの、窒化物により圧延、
熱処理時の結晶粒成長が抑制されるため深絞り性や電磁
特性に対しては十分な高純度化の効果が得られない。し
かし、脱酸剤としてＡｌやＴｉを用いない場合には、溶
鋼中の酸素濃度が下げられないため冶金学的に脱硫反応
が進行しにくく、極低硫鋼の溶製ができないという問題
が生じる。従って、この場合にはＡｌＮやＴｉＮという
窒化物は生成しないものの、硫黄濃度が高いためＭｎＳ
が析出して、同様に圧延、熱処理時の結晶粒成長が抑制
され、従って深絞り性や電磁特性に対しては十分な高純
度化の効果が得られない。
【０００３】極低炭素であり、かつ極低硫黄の鋼を溶製
する方法としては、ＲＨでの脱ガス処理後に、脱酸し、
その後、大気圧下での生石灰を主成分とするフラックス
を溶鋼中に吹き込む方法がある。しかし、２つの精錬工
程を必要とするため、時間がかかり、生産性、固定費負
荷等の大きな問題がある。１つの炉で脱炭と脱硫を実施
する方法としては、Ｊ字形のインジェクションランスを
用いたＲＨ法があるが、この方法では、ＲＨでの脱ガス
後に、脱酸し、引き続いてランスから生石灰を主成分と
したフラックスを吹き込むため、同一工程での処理が可
能となる。しかし、例えば電磁鋼のようにＡｌＮの析出
により材質特性が悪化する場合には、脱酸剤としてＡｌ
は用いることができず、この場合には、生石灰系のフラ
ックスでは脱硫が十分に進行しない。従って、こういう
場合には、Ｍｇを用いる必要がある。Ｍｇは夫れ自体で
脱酸と脱硫が可能なため、Ａｌを用いない処理に適した
フラックスであるが、蒸発しやすいため、高真空度下で
は、溶鋼内へインジェクションしたとしても高い精錬効
率は得られない。特に、ＲＨの場合には、溶鋼循環流を
形成させるためには、上昇管、下降管よりも上の位置ま
で、溶鋼面を上昇させることが必須であるから、１００
Ｔｏｒｒ以下の高真空が処理の必須条件となり、蒸発し
やすいＭｇを用いる処理はほとんど実施することができ
ない。
する方法としては、ＲＨでの脱ガス処理後に、脱酸し、
その後、大気圧下での生石灰を主成分とするフラックス
を溶鋼中に吹き込む方法がある。しかし、２つの精錬工
程を必要とするため、時間がかかり、生産性、固定費負
荷等の大きな問題がある。１つの炉で脱炭と脱硫を実施
する方法としては、Ｊ字形のインジェクションランスを
用いたＲＨ法があるが、この方法では、ＲＨでの脱ガス
後に、脱酸し、引き続いてランスから生石灰を主成分と
したフラックスを吹き込むため、同一工程での処理が可
能となる。しかし、例えば電磁鋼のようにＡｌＮの析出
により材質特性が悪化する場合には、脱酸剤としてＡｌ
は用いることができず、この場合には、生石灰系のフラ
ックスでは脱硫が十分に進行しない。従って、こういう
場合には、Ｍｇを用いる必要がある。Ｍｇは夫れ自体で
脱酸と脱硫が可能なため、Ａｌを用いない処理に適した
フラックスであるが、蒸発しやすいため、高真空度下で
は、溶鋼内へインジェクションしたとしても高い精錬効
率は得られない。特に、ＲＨの場合には、溶鋼循環流を
形成させるためには、上昇管、下降管よりも上の位置ま
で、溶鋼面を上昇させることが必須であるから、１００
Ｔｏｒｒ以下の高真空が処理の必須条件となり、蒸発し
やすいＭｇを用いる処理はほとんど実施することができ
ない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、炭素、窒
素、硫黄濃度の低い高純度鋼の製造方法を提供すること
を目的とする。
素、硫黄濃度の低い高純度鋼の製造方法を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の前記目的は下記
の要旨の本発明によって達成される。 （１）溶鋼中に攪拌用ガスおよび精錬フラックスを吹き
込みながら真空脱ガス処理を行う大径直胴の単一浸漬管
を有する真空脱ガス装置を用いて、未脱酸溶鋼に、真空
槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以下に維持する精錬前期と、
２００〜４００Ｔｏｒｒに維持する精錬後期とからなる
真空脱ガス精錬処理を施すことを特徴とする高純度鋼溶
製方法。
の要旨の本発明によって達成される。 （１）溶鋼中に攪拌用ガスおよび精錬フラックスを吹き
込みながら真空脱ガス処理を行う大径直胴の単一浸漬管
を有する真空脱ガス装置を用いて、未脱酸溶鋼に、真空
槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以下に維持する精錬前期と、
２００〜４００Ｔｏｒｒに維持する精錬後期とからなる
真空脱ガス精錬処理を施すことを特徴とする高純度鋼溶
製方法。
【０００６】（２）未脱酸溶鋼を用いて真空脱ガス精錬
を開始し、真空槽内真空度を２００〜４００Ｔｏｒｒに
維持する精錬後期のみに金属マグネシウムを吹き込むこ
とを特徴とする前項１記載の高純度鋼溶製方法。 （３）酸素濃度３００〜１０００ｐｐｍ、硫黄濃度３０
〜１００ｐｐｍ、炭素濃度２００〜５００ｐｐｍの未脱
酸溶鋼を真空槽内真空度１〜１０Ｔｏｒｒで攪拌用ガス
のみを吹き込んで真空脱ガス処理を行い、炭素濃度２０
ｐｐｍ以下、窒素濃度を２０ｐｐｍ以下とした後、Ｍ
ｎ、Ｓｉを添加して酸素濃度を１００ｐｐｍ以下とし、
さらに真空槽内真空度を２００〜４００Ｔｏｒｒに複圧
させて金属マグネシウムを吹き込んで硫黄濃度２０ｐｐ
ｍ以下かつ炭素濃度２０ｐｐｍ以下、窒素濃度２０ｐｐ
ｍ以下の溶鋼を得ることを特徴とする前項２記載の高純
度溶鋼製方法。
を開始し、真空槽内真空度を２００〜４００Ｔｏｒｒに
維持する精錬後期のみに金属マグネシウムを吹き込むこ
とを特徴とする前項１記載の高純度鋼溶製方法。 （３）酸素濃度３００〜１０００ｐｐｍ、硫黄濃度３０
〜１００ｐｐｍ、炭素濃度２００〜５００ｐｐｍの未脱
酸溶鋼を真空槽内真空度１〜１０Ｔｏｒｒで攪拌用ガス
のみを吹き込んで真空脱ガス処理を行い、炭素濃度２０
ｐｐｍ以下、窒素濃度を２０ｐｐｍ以下とした後、Ｍ
ｎ、Ｓｉを添加して酸素濃度を１００ｐｐｍ以下とし、
さらに真空槽内真空度を２００〜４００Ｔｏｒｒに複圧
させて金属マグネシウムを吹き込んで硫黄濃度２０ｐｐ
ｍ以下かつ炭素濃度２０ｐｐｍ以下、窒素濃度２０ｐｐ
ｍ以下の溶鋼を得ることを特徴とする前項２記載の高純
度溶鋼製方法。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の構成要件における数値その他の限定の理由は下
記のとおりである。請求項１の真空処理において、溶鋼
中に攪拌用ガスおよび精錬フラックスを吹き込みながら
真空脱ガス処理を行う大径直胴の単一浸漬管を有する真
空脱ガス装置を特に用いる理由はＭｇの蒸発を抑制し反
応効率を高く保持したままで、溶鋼循環流を形成させる
ことが可能なためである。またこの装置を用いて、真空
精錬を実施する際に、真空槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以
下に維持する精錬前期と、２００〜４００Ｔｏｒｒに維
持する精錬後期とからなる真空脱ガス精錬処理を行う理
由は、１０Ｔｏｒｒ以下の高真空度で脱ガス処理を施し
た後、Ｍｇの蒸発が少ない２００〜４００ＴｏｒｒでＭ
ｇによる脱硫を実施させるためである。
本発明の構成要件における数値その他の限定の理由は下
記のとおりである。請求項１の真空処理において、溶鋼
中に攪拌用ガスおよび精錬フラックスを吹き込みながら
真空脱ガス処理を行う大径直胴の単一浸漬管を有する真
空脱ガス装置を特に用いる理由はＭｇの蒸発を抑制し反
応効率を高く保持したままで、溶鋼循環流を形成させる
ことが可能なためである。またこの装置を用いて、真空
精錬を実施する際に、真空槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以
下に維持する精錬前期と、２００〜４００Ｔｏｒｒに維
持する精錬後期とからなる真空脱ガス精錬処理を行う理
由は、１０Ｔｏｒｒ以下の高真空度で脱ガス処理を施し
た後、Ｍｇの蒸発が少ない２００〜４００ＴｏｒｒでＭ
ｇによる脱硫を実施させるためである。
【０００８】脱ガス処理は、未脱酸鋼を１０Ｔｏｒｒ以
下の高真空度下で攪拌用ガスのみを吹き込むことで実施
する。真空度が１０Ｔｏｒｒよりも低真空度の場合に
は、吹き込まれたガス気泡が浮上し、表面直下で膨張す
る時の体積増加が小さくなるため、溶鋼表面の攪拌が不
十分となり、その結果材質上必要な２０ｐｐｍ以下の炭
素濃度に到達するまでに長時間を要する。
下の高真空度下で攪拌用ガスのみを吹き込むことで実施
する。真空度が１０Ｔｏｒｒよりも低真空度の場合に
は、吹き込まれたガス気泡が浮上し、表面直下で膨張す
る時の体積増加が小さくなるため、溶鋼表面の攪拌が不
十分となり、その結果材質上必要な２０ｐｐｍ以下の炭
素濃度に到達するまでに長時間を要する。
【０００９】引き続き、真空度を２００〜４００Ｔｏｒ
ｒとした上で、攪拌用ガスとともにＭｇを吹き込む。真
空度が２００Ｔｏｒｒよりも高真空の場合には、溶鋼中
に溶解したＭｇが真空面で蒸発しやすくなるため、反応
効率が低下し、４００Ｔｏｒｒよりも低真空の場合は、
攪拌力が小さくなるため、脱硫反応速度が低下し、その
結果反応効率も下がることになる。
ｒとした上で、攪拌用ガスとともにＭｇを吹き込む。真
空度が２００Ｔｏｒｒよりも高真空の場合には、溶鋼中
に溶解したＭｇが真空面で蒸発しやすくなるため、反応
効率が低下し、４００Ｔｏｒｒよりも低真空の場合は、
攪拌力が小さくなるため、脱硫反応速度が低下し、その
結果反応効率も下がることになる。
【００１０】請求項２において、処理の対象を未脱酸溶
鋼に限定した理由は真空処理により脱炭させるためであ
る。また精錬後期にのみＭｇを添加する理由は、Ｍｇの
蒸発を抑制するためであり、これらは、請求項１記載の
要件に加えて、極低炭素，極低窒素，極低硫黄の高純度
鋼（炭素：２０ｐｐｍ以下、窒素：２０ｐｐｍ以下、硫
黄：２０ｐｐｍ以下）を得るに必要にして十分な要件で
ある。
鋼に限定した理由は真空処理により脱炭させるためであ
る。また精錬後期にのみＭｇを添加する理由は、Ｍｇの
蒸発を抑制するためであり、これらは、請求項１記載の
要件に加えて、極低炭素，極低窒素，極低硫黄の高純度
鋼（炭素：２０ｐｐｍ以下、窒素：２０ｐｐｍ以下、硫
黄：２０ｐｐｍ以下）を得るに必要にして十分な要件で
ある。
【００１１】特に有利な実施の態様として、請求項３の
如く出発溶鋼の酸素濃度が３００〜１０００ｐｐｍ、硫
黄濃度が３０〜１００ｐｐｍ、炭素濃度が２００〜５０
０ｐｐｍの未脱酸溶鋼とした理由は、酸素濃度が３００
ｐｐｍよりも低いと真空処理による脱炭反応が起こりに
くくなり、１０００ｐｐｍよりも高いと、Ｍｇを添加す
る前に酸素濃度を１００ｐｐｍ以下とする場合に、多量
のＳｉ、Ｍｎが必要となりコストが高くなる上、酸化物
が多くなるため鋼の清浄度が低下するからである。
如く出発溶鋼の酸素濃度が３００〜１０００ｐｐｍ、硫
黄濃度が３０〜１００ｐｐｍ、炭素濃度が２００〜５０
０ｐｐｍの未脱酸溶鋼とした理由は、酸素濃度が３００
ｐｐｍよりも低いと真空処理による脱炭反応が起こりに
くくなり、１０００ｐｐｍよりも高いと、Ｍｇを添加す
る前に酸素濃度を１００ｐｐｍ以下とする場合に、多量
のＳｉ、Ｍｎが必要となりコストが高くなる上、酸化物
が多くなるため鋼の清浄度が低下するからである。
【００１２】請求項３において、前記の酸素濃度、窒素
濃度、硫黄濃度の未脱酸溶鋼を真空処理することで、炭
素濃度を２０ｐｐｍ以下、窒素濃度を２０ｐｐｍ以下と
するのは、炭素濃度が２０ｐｐｍよりも高いと炭化物の
析出量が多くなるため結晶粒成長が抑制され材質特性が
悪化するからであり、窒素濃度が２０ｐｐｍよりも高い
と窒化物の析出量が多くなるため結晶粒成長が抑制され
材質特性が劣化するからであり、しかも本発明の実施に
際しても、脱酸剤としてのＳｉやＭｎを含有する合金や
耐火物から微量のＡｌが溶鋼中に入るため、上記の条件
に窒素を低下させる必要があるからである。
濃度、硫黄濃度の未脱酸溶鋼を真空処理することで、炭
素濃度を２０ｐｐｍ以下、窒素濃度を２０ｐｐｍ以下と
するのは、炭素濃度が２０ｐｐｍよりも高いと炭化物の
析出量が多くなるため結晶粒成長が抑制され材質特性が
悪化するからであり、窒素濃度が２０ｐｐｍよりも高い
と窒化物の析出量が多くなるため結晶粒成長が抑制され
材質特性が劣化するからであり、しかも本発明の実施に
際しても、脱酸剤としてのＳｉやＭｎを含有する合金や
耐火物から微量のＡｌが溶鋼中に入るため、上記の条件
に窒素を低下させる必要があるからである。
【００１３】請求項３においては、前記処理に引き続い
て、Ｓｉ及び／またはＭｎを添加して酸素濃度を１００
ｐｐｍ以下とし、次いで、Ｍｇを添加する必要がある。
その理由は、ＳｉやＭｎは窒化物や炭化物を形成しない
脱酸剤であるために用いる。またＭｎは硫化物を形成す
るが、本発明のようにＭｇによる脱硫処理により硫黄濃
度を低くできる場合には、硫化物はほとんど形成されず
問題はない。また、この時点での酸素濃度は１００ｐｐ
ｍ以下とする必要があるのは、１００ｐｐｍよりも高い
とＭｇがＭｇＯを形成するため、多量のＭｇを必要とし
処理コストが高くなるのに加えて、酸化物が多くなるた
め鋼の清浄度が低下するからである。Ｍｇを添加する理
由は、Ｍｇは強い脱酸、脱硫能力があるため極低硫鋼の
溶製が可能である上に、Ｍｇは炭化物、窒化物を形成せ
ず、さらにＭｇ硫化物も溶鋼中では生成するものの鋼板
の圧延、熱処理中には、ほとんど生成しないが故に、鋼
板の材質特性を左右するものではないからである。
て、Ｓｉ及び／またはＭｎを添加して酸素濃度を１００
ｐｐｍ以下とし、次いで、Ｍｇを添加する必要がある。
その理由は、ＳｉやＭｎは窒化物や炭化物を形成しない
脱酸剤であるために用いる。またＭｎは硫化物を形成す
るが、本発明のようにＭｇによる脱硫処理により硫黄濃
度を低くできる場合には、硫化物はほとんど形成されず
問題はない。また、この時点での酸素濃度は１００ｐｐ
ｍ以下とする必要があるのは、１００ｐｐｍよりも高い
とＭｇがＭｇＯを形成するため、多量のＭｇを必要とし
処理コストが高くなるのに加えて、酸化物が多くなるた
め鋼の清浄度が低下するからである。Ｍｇを添加する理
由は、Ｍｇは強い脱酸、脱硫能力があるため極低硫鋼の
溶製が可能である上に、Ｍｇは炭化物、窒化物を形成せ
ず、さらにＭｇ硫化物も溶鋼中では生成するものの鋼板
の圧延、熱処理中には、ほとんど生成しないが故に、鋼
板の材質特性を左右するものではないからである。
【００１４】本発明により得られる高純度鋼の硫黄濃度
を２０ｐｐｍ以下とする理由は、硫黄濃度が２０ｐｐｍ
よりも高い場合には合金元素として存在しているＭｎに
よりＭｎＳを析出するため材質特性が劣化するからであ
る。本発明の実施に際して、Ｍｇを溶鋼中へ吹き込む場
合、望ましくは、真空下溶鋼表面よりも１．５ｍ以上の
深い位置から吹き込むのがよい。１．５ｍよりも浅い場
合には、反応効率が低下する。Ｍｇは吹き込んだ直後に
Ｍｇガスとなり、その後、浮上中に溶鋼へ一旦溶解し、
脱硫反応を引き起こす。したがって、浅い位置から吹き
込んだ場合には、溶解が十分に進行する前には、Ｍｇガ
ス気泡として表面に浮上してしまうため効率が低下す
る。
を２０ｐｐｍ以下とする理由は、硫黄濃度が２０ｐｐｍ
よりも高い場合には合金元素として存在しているＭｎに
よりＭｎＳを析出するため材質特性が劣化するからであ
る。本発明の実施に際して、Ｍｇを溶鋼中へ吹き込む場
合、望ましくは、真空下溶鋼表面よりも１．５ｍ以上の
深い位置から吹き込むのがよい。１．５ｍよりも浅い場
合には、反応効率が低下する。Ｍｇは吹き込んだ直後に
Ｍｇガスとなり、その後、浮上中に溶鋼へ一旦溶解し、
脱硫反応を引き起こす。したがって、浅い位置から吹き
込んだ場合には、溶解が十分に進行する前には、Ｍｇガ
ス気泡として表面に浮上してしまうため効率が低下す
る。
【００１５】本発明の実施の態様を示す説明図を添付の
図１に示す。図において、１は取鍋、２は取鍋の溶鋼４
中に浸漬された大径直胴の単一浸漬管、３はアルゴンガ
スまたは／およびＭｇ５を取鍋内溶鋼４中に添加するた
めのインジェクションランス、６は浸漬管２内の真空下
溶鋼表面である。
図１に示す。図において、１は取鍋、２は取鍋の溶鋼４
中に浸漬された大径直胴の単一浸漬管、３はアルゴンガ
スまたは／およびＭｇ５を取鍋内溶鋼４中に添加するた
めのインジェクションランス、６は浸漬管２内の真空下
溶鋼表面である。
【００１６】
【実施例】転炉で、炭素：３５０ｐｐｍ、酸素：５２０
ｐｐｍ、硫黄：２００ｐｐｍの未脱酸溶鋼を製造し、出
鋼後、図１に示す、溶鋼中への攪拌用ガスと精錬フラッ
クスの供給が可能なインジェクションランスを有する大
径直胴浸漬管型の真空脱ガス装置を用いて、真空度を１
〜５Ｔｏｒｒとする精錬前期において、インジェクショ
ンランス３より約３．３Ｎｌ／（分・トン）のＡｒガス
を吹き込んで脱炭処理し、炭素濃度を６ｐｐｍとした。
次いで、フェロシリコン、フェロマンガンを溶鋼４に添
加し、溶鋼のＳｉ量を０．３９％、Ｍｎ量を０．２１
％、酸素量を２１ｐｐｍとした。引き続いて、前記真空
脱ガス装置の真空度を２５０〜３００Ｔｏｒｒとする精
錬後期において、インジェクションランス３より約２．
１Ｎｌ／（分・トン）のＡｒガスとともに、Ｍｇ粉を
０．０７ｋｇ／（分・トン）の速度で７分間溶鋼中に供
給して溶鋼の硫黄濃度を８ｐｐｍまで低下させた。この
場合、Ｍｇは真空下溶鋼表面６よりも約２．１ｍ下の位
置から供給した。Ｍｇによる脱硫反応効率は約３５％で
あった。
ｐｐｍ、硫黄：２００ｐｐｍの未脱酸溶鋼を製造し、出
鋼後、図１に示す、溶鋼中への攪拌用ガスと精錬フラッ
クスの供給が可能なインジェクションランスを有する大
径直胴浸漬管型の真空脱ガス装置を用いて、真空度を１
〜５Ｔｏｒｒとする精錬前期において、インジェクショ
ンランス３より約３．３Ｎｌ／（分・トン）のＡｒガス
を吹き込んで脱炭処理し、炭素濃度を６ｐｐｍとした。
次いで、フェロシリコン、フェロマンガンを溶鋼４に添
加し、溶鋼のＳｉ量を０．３９％、Ｍｎ量を０．２１
％、酸素量を２１ｐｐｍとした。引き続いて、前記真空
脱ガス装置の真空度を２５０〜３００Ｔｏｒｒとする精
錬後期において、インジェクションランス３より約２．
１Ｎｌ／（分・トン）のＡｒガスとともに、Ｍｇ粉を
０．０７ｋｇ／（分・トン）の速度で７分間溶鋼中に供
給して溶鋼の硫黄濃度を８ｐｐｍまで低下させた。この
場合、Ｍｇは真空下溶鋼表面６よりも約２．１ｍ下の位
置から供給した。Ｍｇによる脱硫反応効率は約３５％で
あった。
【００１７】得られた高純度鋼の炭素濃度は８ｐｐｍ、
窒素濃度は９ｐｐｍ、硫黄濃度は１０ｐｐｍであった。 〔比較例〕転炉で、炭素：３８０ｐｐｍ、酸素：５００
ｐｐｍの未脱酸溶鋼を製造し、出鋼後、溶鋼中への攪拌
用ガスと精錬フラックスの供給が可能なインジェクショ
ンランスを有するＲＨ脱ガス装置を用いて、真空度を１
〜５Ｔｏｒｒとして、インジェクションランスより約
３．３Ｎｌ／（分・トン）のＡｒガスを吹き込んで脱炭
処理し、炭素濃度を１７ｐｐｍとした。その後、フェロ
シリコン、フェロマンガンを溶鋼に添加し、溶鋼のＳｉ
量を０．３８％、Ｍｎ量を０．２０％、酸素量を２０ｐ
ｐｍとした。引き続いて、真空度を２５０〜３００Ｔｏ
ｒｒとし、インジェクションランスより約２．０Ｎｌ／
（分・トン）のＡｒガスとともに、Ｍｇ粉を０．０８ｋ
ｇ／（分・トン）の速度で７分間供給した。しかし、溶
鋼の硫黄濃度は２５ｐｐｍまでしか低下せずまた、Ｍｇ
は真空下溶鋼表面よりも約１．１ｍ下の位置から供給し
たため、Ｍｇによる脱硫反応効率は約１８％に過ぎなか
った。
窒素濃度は９ｐｐｍ、硫黄濃度は１０ｐｐｍであった。 〔比較例〕転炉で、炭素：３８０ｐｐｍ、酸素：５００
ｐｐｍの未脱酸溶鋼を製造し、出鋼後、溶鋼中への攪拌
用ガスと精錬フラックスの供給が可能なインジェクショ
ンランスを有するＲＨ脱ガス装置を用いて、真空度を１
〜５Ｔｏｒｒとして、インジェクションランスより約
３．３Ｎｌ／（分・トン）のＡｒガスを吹き込んで脱炭
処理し、炭素濃度を１７ｐｐｍとした。その後、フェロ
シリコン、フェロマンガンを溶鋼に添加し、溶鋼のＳｉ
量を０．３８％、Ｍｎ量を０．２０％、酸素量を２０ｐ
ｐｍとした。引き続いて、真空度を２５０〜３００Ｔｏ
ｒｒとし、インジェクションランスより約２．０Ｎｌ／
（分・トン）のＡｒガスとともに、Ｍｇ粉を０．０８ｋ
ｇ／（分・トン）の速度で７分間供給した。しかし、溶
鋼の硫黄濃度は２５ｐｐｍまでしか低下せずまた、Ｍｇ
は真空下溶鋼表面よりも約１．１ｍ下の位置から供給し
たため、Ｍｇによる脱硫反応効率は約１８％に過ぎなか
った。
【００１８】また、得られた真空処理鋼の炭素濃度は２
１ｐｐｍ、窒素濃度は２３ｐｐｍ、硫黄濃度は２５ｐｐ
ｍであった。
１ｐｐｍ、窒素濃度は２３ｐｐｍ、硫黄濃度は２５ｐｐ
ｍであった。
【００１９】
【発明の効果】本発明の真空脱ガス処理法によれば、炭
素，窒素，硫黄濃度が共に低い高純度鋼を溶製すること
ができる。
素，窒素，硫黄濃度が共に低い高純度鋼を溶製すること
ができる。
【図１】本発明を実施する真空脱ガス装置の概略説明図
である。
である。
１ 取鍋 ２ 大径直胴の単一浸漬管 ３ インジェクションランス ４ 溶鋼 ５ アルゴンガス又はＭｇ粉 ６ 真空下溶鋼表面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ２１Ｃ 7/076 Ｃ２１Ｃ 7/076 Ａ
Claims (3)
- 【請求項１】 溶鋼中に攪拌用ガスおよび精錬フラック
スを吹き込みながら真空脱ガス処理を行う大径直胴の単
一浸漬管を有する真空脱ガス装置を用いて、未脱酸溶鋼
に、真空槽内真空度を１０Ｔｏｒｒ以下に維持する精錬
前期と、２００〜４００Ｔｏｒｒに維持する精錬後期と
からなる真空脱ガス精錬処理を施すことを特徴とする高
純度鋼溶製方法 - 【請求項２】 未脱酸溶鋼を用いて真空脱ガス精錬を開
始し、真空槽内真空度を２００〜４００Ｔｏｒｒに維持
する精錬後期のみに金属マグネシウムを吹き込むことを
特徴とする請求項１記載の高純度鋼溶製方法。 - 【請求項３】 酸素濃度３００〜１０００ｐｐｍ、硫黄
濃度３０〜１００ｐｐｍ、炭素濃度２００〜５００ｐｐ
ｍの未脱酸溶鋼を真空槽内真空度１〜１０Ｔｏｒｒで攪
拌用ガスのみを吹き込んで真空脱ガス処理を行い炭素濃
度２０ｐｐｍ以下、窒素濃度を２０ｐｐｍ以下とした
後、Ｍｎ、Ｓｉを添加して酸素濃度を１００ｐｐｍ以下
とし、さらに真空槽内真空度を２００〜４００Ｔｏｒｒ
に複圧させて金属マグネシウムを吹き込んで硫黄濃度２
０ｐｐｍ以下、かつ炭素濃度２０ｐｐｍ以下、窒素濃度
２０ｐｐｍ以下の溶鋼を得ることを特徴とする請求項２
記載の高純度鋼溶製方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8098833A JPH09287017A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 高純度鋼溶製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8098833A JPH09287017A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 高純度鋼溶製方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09287017A true JPH09287017A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14230287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8098833A Withdrawn JPH09287017A (ja) | 1996-04-19 | 1996-04-19 | 高純度鋼溶製方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09287017A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000077264A1 (en) * | 1999-06-16 | 2000-12-21 | Nippon Steel Corporation | Refining method and refining apparatus of molten steel |
| JP2020012143A (ja) * | 2018-07-17 | 2020-01-23 | 日本製鉄株式会社 | 高清浄鋼の溶製方法 |
| JP2020012158A (ja) * | 2018-07-18 | 2020-01-23 | 日本製鉄株式会社 | 高清浄鋼の溶製方法 |
-
1996
- 1996-04-19 JP JP8098833A patent/JPH09287017A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2000077264A1 (en) * | 1999-06-16 | 2000-12-21 | Nippon Steel Corporation | Refining method and refining apparatus of molten steel |
| US6432164B1 (en) | 1999-06-16 | 2002-08-13 | Nippon Steel Corporation | Method for refining molten steel and apparatus therefor |
| CN1316045C (zh) * | 1999-06-16 | 2007-05-16 | 新日本制铁株式会社 | 钢水的精炼方法及精炼装置 |
| JP2020012143A (ja) * | 2018-07-17 | 2020-01-23 | 日本製鉄株式会社 | 高清浄鋼の溶製方法 |
| JP2020012158A (ja) * | 2018-07-18 | 2020-01-23 | 日本製鉄株式会社 | 高清浄鋼の溶製方法 |
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|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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