JPH09288444A - 共焦点光学装置及びホログラム露光装置 - Google Patents

共焦点光学装置及びホログラム露光装置

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JPH09288444A
JPH09288444A JP10150096A JP10150096A JPH09288444A JP H09288444 A JPH09288444 A JP H09288444A JP 10150096 A JP10150096 A JP 10150096A JP 10150096 A JP10150096 A JP 10150096A JP H09288444 A JPH09288444 A JP H09288444A
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light
hologram
incident
optical device
reference light
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JP10150096A
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Masato Moriya
正人 守屋
Hiroyuki Mizukami
裕之 水上
Toru Suzuki
徹 鈴木
Hideyuki Wakai
秀之 若井
Takanori Nakaike
孝昇 中池
Masanobu Seki
正暢 関
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Komatsu Ltd
Original Assignee
Komatsu Ltd
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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ホログラムに斜めに入射する参照光を、ホロ
グラムに円形状になって入射できるようにする。 【解決手段】 ホログラム３に参照光を斜めに入射し、
この参照光をホログラム３で回析してピンホールアレイ
４の各ピンホール位置から出射する点光源と等価な光に
再生し、この再生光を物体に投光し、その反射光である
物体光をピンホールに集光するようにした共焦点光学装
置、及び上記ホログラムの一側面に物体光を、他側面に
斜め方向から参照光を入射してホログラム３を作るホロ
グラム露光装置等において、ホログラム３に斜めに入射
する参照光の光路内に、ホログラムに略円形で入射する
ように整形する入射光整形手段を介装した。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３次元形状、例え
ば、被計測物体のおよその表面形状が既知であるＩＣ実
装用ハンダバンブ等の被計測物体の形状を高速で検査す
る３次元形状検査装置に用いる共焦点光学装置、及びこ
れに用いるホログラムを露光するホログラム露光装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】この種の共焦点光学装置は図１に示すよ
うになっており、光源１の光は拡大レンズ２ａ，２ｂを
介して平行光となってホログラム３に参照光として入射
する。ホログラム３はピンホールアレイ４の各ピンホー
ル位置から出射する点光源と等価な光を、上記参照光を
回析することにより再生する。
【０００３】この再生光は、第１対物レンズ５ａによっ
て物体（被計測物体）６に投光され、物体６で散乱し、
反射し、第１対物レンズ５ａ、ホログラム３を透過し、
第２対物レンズ５ｂを介してピンホールアレイ４に集光
する。この図１は１つのピンホール位置の光を代表して
表現している。
【０００４】図２，図３，図４は投光の第１対物レンズ
５ａによる集光点と、物体６の表面の光軸方向（Ｚ方
向）の位置関係に対して、反射光がピンホールアレイ４
付近でどのように結像するかを示したものである。これ
によれば、図３に示すように、集光点と物体６の表面が
一致（合焦）したときのみ反射光がピンホールアレイ４
のピンホール４ａを通過するが、それ以外のとき、すな
わち、図２に示すように集光点が物体６に反射した後に
ある場合（後ピン）、あるいは図４に示すように、反射
する前にある場合（前ピン）には、反射光はピンホール
アレイ４に遮蔽されて殆ど、通過できなくなり、いわゆ
る受光絞り作用がなされる。
【０００５】この特性を利用すれば、物体６を光軸方向
（Ｚ方向）に移動しながらピンホール４ａを通過する反
射光の光量を図１に示すように、第１，第２のリレーレ
ンズ７ａ，７ｂを介して２次元用の光検出器アレイ８に
て計測することにより、最大の光量が得られた位置が物
体の表面であること、すなわち、物体６の表面の位置が
計測できることになる。これをピーク処理という。
【０００６】図１は図２〜図４で説明した共焦点光学系
を２次元的に配列したものであるから、物体６をＺ方向
に移動させながら、各ピンホール４ａを通過する反射光
の光量を計測し、これをピーク処理してやれば、ピンホ
ールに対応した部分の物体６の表面の形状計測をするこ
とができる。実際には、第１，第２の対物レンズ５ａ，
５ｂを共にテレセントリック系（アフォーカル系あるい
はタンデム配置ともいう）で構成し、物体６をＺ方向に
移動するかわりに第１対物レンズ５ａをＺ方向へ移動し
て計測する。
【０００７】ピンホール４ａを通過する光は、第１，第
２のリレーレンズ７ａ，７ｂを介して２次元の光を検出
する光検出器アレイ８に結像し、個々のピンホール４ａ
を通過する光は、独立した光検出部分に結像して計測さ
れ制御装置９にて制御と処理される。この制御装置９
は、物体６を載置するステージ１０のＸＹ位置（必要が
あればＺ方向のオフセット位置）を制御して計測視野を
決め、第１対物レンズ５ａをＺ方向に移動しながら光検
出器アレイ８の計測値を読み出してピーク処理し、その
結果を表示、出力あるいは記録する。
【０００８】一方上記共焦点光学装置に用いられるホロ
グラムを作るホログラム露光装置は図５に示すようにな
っており、以下にこのホログラム３の製造工程を説明す
る。光源１１はレーザなどのコヒーレントな光源であ
り、ビームスプリッタ１２により波面分割され、それぞ
れホログラム３の参照光、物体光の光源となる。光源１
１の光が直線偏光の特性を示す場合には、第１の１／２
波長板１３ａの回転により直線偏光の偏光方向を回転さ
せ、ビームスプリッタ１２に偏光ビームスプリッタを採
用することにより、分割の強度比を所望の値に設定す
る。
【０００９】ビームスプリッタ１２にて分割した参照光
と物体光は、第１，第２及び第３，第４の拡大レンズ１
４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄにより拡大されて、それ
ぞれ、ホログラム３、ピンホールアレイ４に入射され
る。ピンホールアレイ４を透過する光は、それぞれのピ
ンホールで回折し、点光源と等価な光になり、対物レン
ズ５ｂにより平行光に変換され、ホログラム３に直径Ｄ
の物体光として入射され、この直径Ｄの領域にホログラ
ム（干渉縞）が形成される。第２，第３の１／２波長板
１３ｂ，１３ｃの調節により、参照光、物体光の偏光方
向が所望の方向（一般的には同じ方向になるようにす
る）に設定され、ホログラム露光の準備が完了する。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の共焦点光学
装置及びこれのホログラム３を作成するホログラム露光
装置にあっては、図１、図５に示すように、参照光及び
レーザ光がホログラム３に対して斜め下側から入射する
ことにより、図６に示すように、ホログラム３に対する
参照光及びレーザ光の投影領域Ａが楕円となってしま
い、ホログラム３面上で記録したい円形の物体光の投影
領域Ｂとずれてしまう。すなわち、投影領域において
は、ＸとＹ方向の光学的倍率が違ってしまうため楕円と
なる。このことから、（Ａ−Ｂ）のはみだし参照光及び
レーザ光は利用されず、露光、再生時の光エネルギを無
駄に消費していた。
【００１１】一方、図５に示すホログラム露光装置の場
合のように、光源にレーザ光を用いた場合、このレーザ
光源そのものの光量分布が拡大レンズ１４ｂ，１４ｄに
て平行光となった位置ａ，ｂで図７に示すようにガウス
分布となっているので、光軸中心と光軸周辺の光量分布
に差がある。これにより、物体光の光量分布、すなわ
ち、光軸中心のピンホールで回析する光量と、周辺のピ
ンホールで回析する光量に差を生じさせ、各共焦点ユニ
ットごとの投受光強度に分布差が生じてしまう。これ
は、共焦点ユニットごとの計測のダイナミックレンジ、
Ｓ／Ｎにばらつきを生むので、反射率が場所により均一
でない物体を計測するのを困難にする。このことは、光
源にレーザ光源を用いるもの以外にも、光源に光量分布
がある場合は同様の問題となる。
【００１２】また、ホログラム露光装置において上記光
量分布は参照光の光量分布を生じさせ、露光したときの
ホログラムの露光量（ホログラムに照射した物体光と参
照光の光エネルギの積）がホログラムの場所によって均
一でなくなるので、ホログラムに均一に干渉縞が記録さ
れない場合があった。このような場合、このホログラム
露光装置で作成したホログラムを用いる共焦点光学装置
において、再生される物体光の品質が劣化し、ひいては
計測機の特性を悪化させる要因となる。さらに、上記光
量分布は、レーザ光がホログラムに対して斜め下側から
投光されることと相乗して、ホログラムの場所によって
物体光と参照光の光エネルギの比にバラツキ（強度分布
の不一致）を生む。これもホログラムの品質を劣化させ
る要因となる。
【００１３】また上記ホログラムを用いた光学装置にあ
っては、ホログラム３に対して参照光及び露光光が斜め
に入射されるため、図８（ａ），（ｂ）に示すように、
ホログラム３に斜め下側からある角度βで入射した場
合、このホログラム３を透過したホログラム３の上面
（ホログラム材３ａあるいはガラス基板３ｂの裏面）で
反射した光は図中ｔ1 ，ｔ2 ，ｔ3 で示したように、ホ
ログラム３の厚み間で多重反射してしまう。そしてこの
反射光はこの反射の都度ホログラム材３ａに入射される
ため、参照光自体が干渉縞を作ってしまう。このことは
上記したように、ホログラム３の再生像品質を劣化させ
る要因となる。また、ホログラム材３ａやガラス基板３
ｂで反射した光が迷光Ｔ1 ，Ｔ2 となって物体６や光検
出器アレイ８の方向に進み、これがノイズとして観測さ
れてしまう可能性があった。
【００１４】また、ガラス基板（プリズム１８）の側面
から光を挿入反射する場合には、図９に示すように、ホ
ログラム材３ａで反射した光が基板内で反射光ｔ１し
て、再びホログラム材３ａに入射したり、迷光となって
物体や光検出器の方向へ進み、ノイズとして観測されて
しまう可能性があった。また光が入射するガラス基板の
入射面の反射光Ｒもノイズとして観測されてしまう可能
性があった。これは上記と同様の多重反射は物体光につ
いて同様の可能性がある。
【００１５】また、上記ホログラムを用いた光学装置
で、特に、図１に示す共焦点光学装置において、ホログ
ラム３を挟んでタンデム配置される第１・第２の対物レ
ンズ５ａ，５ｂは、図１０に示したように、それぞれの
焦点距離をｆ1 ，ｆ2 としたときに、この両対物レンズ
５ａ，５ｂの間隔Ｌは、Ｌ＝ｆ1 ＋ｆ2 にするのが望ま
しい。
【００１６】また、物体６に対して対物レンズを光軸方
向に移動してピーク処理を行う場合には、レンズ間を上
記間隔Ｌの前後で移動するのが望ましい。これはＬ＝ｆ
1 ＋ｆ2 のときは第１の対物レンズ５ａから物体６側へ
焦点を結ぶときの左右の焦点角θｌ，θｒは、θｌ＝θ
ｒであるが、Ｌａ＝ｆ1 ＋ｆ2 ＋δとなると、例えば図
１０において、θｌ′＞θｒ′となってしまい、光に偏
りが生じて計測に誤差が生じる。
【００１７】ここで、両対物レンズ５ａ，５ｂの間に配
置されるホログラム３に参照光を導入するためには、レ
ンズ間の間隔が必要となる。しかしながら、対物レンズ
５ａ，５ｂは収差などの補正を目的としてそれぞれの対
物レンズ５ａ，５ｂは図１１に示すように、複数のレン
ズ構成となっており、どうしても両対物レンズ５ａ，５
ｂの間の距離を必要なだけとることができない場合があ
る。
【００１８】特に、対物レンズ５ａ，５ｂのレンズ支持
鏡筒は、レンズの光軸に対する位置を堅固に保持する目
的でレンズの周囲を囲むように作る必要があるので、図
１１に示すように、鏡筒３０と参照光が干渉してしまう
場合があった。そして参照光が鏡筒３０と干渉しないよ
うに鏡筒３０の角を、この干渉する分だけ削ると、その
分だけレンズ保持精度が悪くなるなどの問題がある。
【００１９】
【課題を解決するための手段】本発明は共焦点光学装置
やこの共焦点光学装置に用いるホログラムに露光するホ
ログラム露光装置等のホログラムを用いた光学装置にお
ける上記したような問題点を解決するものである。
【００２０】そしてその構成は、ホログラムに参照光を
斜めに入射し、この参照光をホログラムで回析してピン
ホールアレイの各ピンホール位置から出射する点光源と
等価な光に再生し、この再生光を物体に投光し、その反
射光である物体光をピンホールに集光するようにした共
焦点光学装置、及び上記ホログラムの一側面に物体光
を、他側面に斜め方向から参照光を入射してホログラム
を作るホログラム露光装置等において、ホログラムに斜
めに入射する参照光の光路内に、参照光がホログラムに
略円形で入射するようにこれの断面形状を整形する入射
光整形手段を介装した構成となっている。
【００２１】そして上記入射光整形手段がプリズム、あ
るいはシリンドリカルレンズである。
【００２２】また、共焦点光学系を１次元あるいは２次
元アレイに配置し、ピンホールアレイのピンホールを通
過する反射光をリレーレンズを介して光検出器アレイで
計測する共焦点光学装置において、少なくとも物体光、
参照光のいずれか一方の光路内にアンチガウシャンフィ
ルタを介装した構成となっている。
【００２３】また、ホログラム露光装置は、ホログラム
の一側面に物体光を、他側面に斜め方向から参照光を入
射してホログラムを作るホログラム露光装置において、
上記ホログラムの各面に入射する光の光路の少なくとも
いずれか一方の光路内にアンチガウシャンフィルタを介
装した構成となっている。そして上記いずれの場合のア
ンチガウシャンフィルタは吸収型を用いるのが望まし
い。
【００２４】また、上記共焦点光学装置及びホログラム
露光装置におけるホログラムに斜めに入射する光の入射
角を略ブリュースタ角としている。
【００２５】また、上記共焦点装置及びホログラム露光
装置におけるホログラムのガラス基板の表面に物体光の
入射角である略ゼロ度及び参照光の入射角の双方に対し
て共に減反射効果のあるＡＲコートを施している。
【００２６】そしてさらに、ホログラムに参照光を斜め
に入射し、この参照光をホログラムで回析してピンホー
ルアレイの各ピンホール位置から出射する点光源と等価
な光に再生し、この再生光を物体に投光し、その反射光
である物体光をピンホールに集光するようにした共焦点
光学装置において、ホログラムを挟んでこれの両側に位
置する一対の対物レンズの参照光の入射側に位置する方
の対物レンズの対向端部に平行平板状光学基板を設けた
構成となっている。
【００２７】
【作 用】上記構成において、ホログラムを用いた共
焦点光学装置及びホログラム露光装置でのホログラムに
斜めに入射する参照光は入射光整形手段にてホログラム
に対して略円形となって入射される。すなわち、参照光
のホログラム上での投影が光学的にＸ，Ｙ方向で等倍に
なるようにする。
【００２８】また、共焦点光学装置及びホログラム露光
装置の各光路内の１つのアンチガウシャンフィルタを介
装することにより、光路内を通る光の光軸に対する光の
強度分布が均一化される。
【００２９】またホログラムに入射する光が略ブリュー
スタ角で入射されることにより、この入射光は入射され
ることなく入射されて、ホログラム内での多重反射がな
くなる。
【００３０】
【発明の効果】上記構成における請求項１，２，３に記
載の発明によれば、ホログラムに斜めに入射する参照光
が、このホログラムに略円形に入射されることにより、
この入射光の領域とホログラムに円形状になって入射さ
れる物体光の領域とを一致させることができ、上記物体
光に対して参照光がはみ出すのを防止でき、参照光のた
めの光のエネルギを有効に用いることができる。
【００３１】また、請求項４，５，６に記載の発明によ
れば、光路内に介装したアンチガウシャンフィルタによ
り、光路内の光の光軸に対する光の強度分布を均一にす
ることができる。
【００３２】また、請求項７，８に記載の発明によれ
ば、ホログラム内での多重反射を防止できると共に、ホ
ログラム外への迷光を抑制できる。
【００３３】さらに請求項９に記載の発明によれば、ホ
ログラムの両側に配置される一対の対物レンズの間隔を
広くとることができ、上記ホログラムに斜め下方から参
照光を入射する際に、この参照光入射側に位置する対物
レンズが、この参照光と干渉することがなくなり、この
対物レンズの鏡筒のレンズ保持機能を十分にとることが
できる。
【００３４】
【発明の実施の形態】本発明の第１の実施の形態を図１
２から図１７に基づいて説明する。なお以下の説明にお
いて、図１から図１１に示した構成と同一のものは同一
符号を付して説明を省略する。
【００３５】図１２に示すように、共焦点光学装置の平
行参照光光路Ｃにプリズム１５を介装する。このプリズ
ム１５は、上記平行参照光光路Ｃの直径Ｄの円形の参照
光を、ホログラム３上で同系の直径Ｄで入射されるよう
に、すなわち参照光の楕円補正するように配置する。プ
リズム１５は参照光をホログラム３に所望の角度βで入
射する作用と、アナモルフィックアフォーカル系の倍率
γ＝ｃｏｓβでホログラム３に入射し、ホログラム３面
での参照光の投影を円に補正する作用をする。
【００３６】このプリズム１５の光学系の性質を図１３
を参照して下記の関係式で示される。なお式中のｎはプ
リズムの屈折率、αは頂角、θはふれ角、γは倍率、ｉ
１，ｉ２，ｒ１，ｒ２はプリズム内外の入射角、屈折角
である。
【００３７】
【数１】
【００３８】
【数２】
【００３９】
【数３】
【００４０】
【数４】
【００４１】これらの式から、例えば、ｎを一定にする
と、次のことがいえる。 ・ｉ１，αを決めれば、θ，γが決まる。 ・ｉ１，θを決めれば、α，γが決まる。 ・α，θを決めれば、ｉ１，γが決まる。 ・α，θを決めれば、ｉ１，γが決まる。 ・γ、ｉ１を決めれば、θ，γが決まる。 ・γ、αを決めれば、ｉ１，θが決まる。 ・γ、θを決めれば、ｉ１，αが決まる。 つまり、２つのパラメータを決めると自ずと他のパラメ
ータは決まる。この性質を考慮して所望の２つのパラメ
ータを設定（設計）してやればよい。
【００４２】たとえば、γ、θを決め、他のパラメータ
を求めることは、とても有効な方法である。この場合、
例えば、（１）から（５）の関係式からγをθとｉ１，
αで表現した式（（５）′式）に、所望のγとθを設計
し、式を満たすｉ１，αを求めればよい。このときγは
（６）′式のようにρ＝π／２にすると、光学配置が容
易になる。この設定では、（５）′式を満たす解ｉ１，
αがない場合がある。そのときは、さらにｎを変化させ
て（５）′式を満たす解ｎ，ｉ１，αを探せばよい。し
かしながら、この場合でも適当な解がない場合もある
し、例え、解が求まっても、ｎ，αが特殊な値となり、
工業的にそのようなプリズムを製造することが困難、あ
るいはコスト高を招く。
【００４３】従って、そのような場合には、ｎ，αを固
定し、さらにθかγを固定して、自ずと決まるｉ１を求
めるようにする。当然ｎ，αは一般的に入手しやすいプ
リズムの値を設定することはいうまでもない。このと
き、ｎは一定であるから上記関係より ・α，θを決めれば、（３）′式からｉ１が決まり、自
ずとγも決まる。 ・γ，αを決めれば、（５）″式からｉ１が決まり、自
ずとθも決まる。 であり、θかγのどちらかを優先して決めることに留意
する必要がある。従って、γを優先してパラメータを決
めた場合には、θはどうなるかわからないのでρ＝π／
２にすることはできなくなる場合がある。逆にθ（ρ＝
π／２）を優先してパラメータを決めた場合には、γは
どうなるかわからないので完全な楕円補正をすることが
できなくなる場合がある。いずれにしても、光学系の精
度の要請に即して設計すればよい。
【００４４】図１４（ａ），（ｂ）は上記プリズム１５
に代えてアナモルフィックアフォーカル系を構成する２
個のシリンドリカルレンズ１６，１７，１６ａ，１７ａ
を参照光光路Ｃ内に介装した実施の形態を示す。図１４
（ａ）はガリレイ型、図１４（ｂ）はケプラ型であり、
これらの構成を図１２のプリズム１５を介装したものと
比較すると、上記プリズム１５は角度βの設計機能を併
せ持っているので、図１４（ａ），（ｂ）に示すシリン
ドリカルレンズよりもコンパクトであることがわかる。
また、一般的にいって、プリズムはシリンドリカルレン
ズよりも工作精度が高く製作できるので、精密なアナモ
ルフィックアフォーカル系になる。
【００４５】図１５はホログラム３にプリズム１８をホ
ログラム基板として一体状に積層し、このホログラム基
板のプリズム１８の側面から第１・第２のシリンドリカ
ルレンズ１９，２０を介して参照光を入射する例を示
す。このプリズム１８及び光路Ｃの構成は図１６、図１
７に示すようになる。
【００４６】この構成において、アナモルフィクアフォ
ーカル系のシリンドリカルレンズ１９，２０でＹ方向
（横方向）に参照光を拡大率γ＝Ｄ／ｄで拡大し、その
光をプリズム１８でγ＝（Ｄ／ｄ）ｃｏｓβ（（９）′
式）となるようにＸ方向（上下方向）に拡大してやれば
ホログラム３上で均一な拡大率を得ることができる。こ
のホログラム基板となるプリズム１８の光学関係式は次
の７，８，９，９′式のようになる。この式は上記図１
３に示すプリズムの場合と同様にして、αあるいはｉな
どを求めて設計すればよい。
【００４７】
【数５】
【００４８】図１８は参照光光路内にプリズムを介装す
るかわりに、共焦点光学系内にアンチガウシャンフィル
タ２１を介装した例を示す。このアンチガウシャンフィ
ルタ２１を介装する位置は、 ＊１ ピンホールアレイとリレーレンズの間 ＊２ リレーレンズと光検出器アレイの間 ＊３ ピンホールアレイと対物レンズの間 ＊４ 対物レンズと対物の間 ＊５ 光源からホログラムの間 のどこでもよい。ただし、＊４の位置にいれる場合に
は、光の投受光に対してフィルタ効果が有効になるの
で、それを考慮したフィルタにする。また、＊５の位置
にアンチガウシャンフィルタを入れることは、他の＊１
から＊４の効果とは全く別の効果を示し、＊１から＊４
が共焦点ユニット間の光強度のばらつきを補正するのに
対し、＊５は参照光の強度を均一にして、ホログラムの
再生品質に寄与する。
【００４９】図１９はホログラム露光時におけるアンチ
ガウシャンフィルタ２１の配置を示したもので、 ＊６ 光源とピンホールの間 に配置する。そのほか ＊５ 光源と参照光と物体光の分岐用ＰＢＳの間 ＊７ 参照光とホログラムの間 に配置してもよい。＊６が共焦点ユニット間の光強度の
ばらつきを補正するのに対し、＊７は参照光の強度を均
一にして、ホログラムの露光品質に寄与する。また、＊
５は共焦点ユニット間の光強度のばらつきを補正し、か
つ参照光の強度も均一にするのに寄与する。＊５，＊７
の場合、再生時にも同じ位置にアンチガウシャンフィル
タを配置することはいうまでもない。さらに、ここで最
も重要なことは、＊６のようにしてホログラムを作成す
れば、再生時に、図１８に示すような位置（＊１〜＊
４）にフィルタを必要としない。
【００５０】上記アンチガウシャンフィルタ２１の作成
方法を以下に図２０から図２４を参照して説明する。 （１）レーザ光の光量分布を計測する。これはシリコン
センサ上にピンホールをおいたものを微動ステージで移
動して測定する。 （２）光量分布をガウス分布近似して下記式よりビーム
系を求める。 Ｉ＝Ｉ0 ×ｅｘｐ（−２ｒ2 ／ｗ2 ） ただし、Ｉ0 ：ピークビーム強度 Ｗ：ビーム径 ｒ：濃度分布の半径 （３）上記分布の濃度分布を持つ画像ファイルを作成す
る。Ｉ0 ，Ｗの２つをパラメータにとり、２次元濃度分
布を計算してビットマップファイルを作成する。プロッ
タとのマッチングのための解像度変換する。 （４）昇華型プロッタでフィルムに出力して図２０に示
すように、アンチガウシャンフィルタとなるフィルム２
２を作成する。この図２０で示されるフィルム２２の光
透過率は図２１に示すようになる。 （５）上記フィルム２２を図２２に示すように、２枚の
ガラス基板２３，２３の間に、両側にシリコンオイル２
４を介装してサんドイッチしてアンチガウシャンフィル
タ２１とする。上記シリコンオイル２４はフィルム２２
の境界面で不要な反射を防ぐためのものである。またガ
ラス基板２３の表面にはＡＲコートを施すことが効果的
である。
【００５１】上記のようにして作成したアンチガウシャ
ンフィルタ２１はこれの光軸（最も透過率が低い部分の
中心）が計測光の光軸と一致させて共焦点ユニットの光
路内に介装する。すなわち、光ビームとアンチガウシャ
ンフィルタ２１をアライメント出力の光量分布をモニタ
しながらセットする。
【００５２】図２３，２４で示すアンチガウシャンフィ
ルタ２１ａ，２１ｂは化学的に作成されたもので、光学
平行基板である透明のガラス板に、アルミやクロームな
どの金属膜を中心部にいくに従って、光の透過度が低く
なるように段階的に蒸着した。この蒸着金属はフィルタ
による反射が迷光となって観測されないように、低反射
型、例えばＣｒ2 Ｏ3 ，Ｃｒ，Ｃｒ2 Ｏ3 の３層膜、あ
るいは吸収型、例えばエマルジョンが望ましい。
【００５３】さらに、図２５のように、アンチガウシャ
ンフィルタ２１ｃとして透過率の低い凸レンズ２５と、
その凸レンズ表面に対して逆の曲率をもつ透過率の高い
凹レンズ２６を組み合わせたものを採用してもよい。
【００５４】図２６から図２８は図１で示した構成と異
なる構成の共焦点光学装置におけるアンチガウシャンフ
ィルタの配置例を示すものである。
【００５５】図２６はホログラムを用いない共焦点光学
装置で、特開平４−２６５９１８号公報で開示された共
焦点光学装置でありこれは、光源１からの光は拡大レン
ズ２により拡大されて、ピンホールアレイ４に入射し、
この各ピンホール４ａにて回折した光はビームスプリッ
タ１５を通過し、第２，第１の対物レンズ５ｂ，５ａに
よって物体６に投光されるようになっている。そして物
体６に投光されて反射散乱した光は、第１，第２の対物
レンズ５ａ，５ｂを逆に通ってビームスプリッタ１５に
入り、ここで反射して光検出器アレイ８に結像するよう
になっている。そしてこの構成の共焦点光学装置では、
アンチガウシャンフィルタ２１を拡大レンズ２とピンホ
ールアレイ４との間（＊１）、ピンホールアレイ４とビ
ームスプリッタ１５の間（＊２）、ビームスプリッタ２
７と光検出器アレイ８との間（＊３）、ビームスプリッ
タ２７と対物レンズ５ｂとの間（＊４）、対物レンズ５
ａと物体１６との間（＊５）のいずれか１個所にアンチ
ガウシャンフィルタ２１を介装する。
【００５６】図２７はホログラムを用いない共焦点光学
装置で、米国特許第４，８０６，００４号に示されたも
ので、これは、光源１からの光は拡大レンズ２により拡
大されて、ピンホールアレイ４に入射し、ピンホール４
ａで回折した光は第２，第１の対物レンズ５ｂ，５ａに
よって物体６に投光されるようになっている。物体６に
投光されて反射散乱した光は対物レンズ５ａ，５ｂを介
し、受光絞りの作用を奏するピンホールアレイ４に集光
される。そして各ピンホール４ａを通過する光をリレー
レンズ７を介して１対１で光検出器アレイ８に結像す
る。この構成は、投光の点光源を作るピンホールアレイ
４と受光絞りのピンホールアレイ４が同一の構造になっ
ている。ただし、ピンホールアレイ４の背後から光を入
射する必要があるので、ピンホールマスクの反射光Ｒに
よる遮光を何らかの方法で検出器アレイ８に到達しない
ようにしている。そしてこの構成の共焦点光学装置で
は、拡大レンズ２の下側（＊１）、ピンホールアレイ４
の上側（＊２）、リレーレンズ７と光検出器アレイ８と
の間（＊３）、ピンホールアレイ４と対物レンズ５ｂの
間（＊４）、対物レンズ５ａと物体６の間（＊５）のい
ずれか１個所にアンチガウシャンフィルタ２１を介装す
る。
【００５７】図２８は特開平１−５０３４９３号公報、
米国特許第４，９２７，２５４号公報に示されるもの
で、ピンホールアレイ４がニップコウディスク（Ｎｉｐ
ｋｏｗＤｉｓｃ）と呼ばれる、円盤上にピンホール４ａ
をスパイラル状に配置したものを採用し、それを回転さ
せるようにしている。このディスク状のピンホールアレ
イ４を回転することにより、ピンホール間の画像をスキ
ャニングして得るようにしている。そしてこの構成の共
焦点光学装置では、拡大レンズ２の下側（＊１）、ピン
ホールアレイ４の上側（＊２）、リレーレンズ７と光検
出部（肉眼）との間（＊３）、ピンホールアレイ４と対
物レンズ５ｂの間（＊４）、対物レンズ５ａと物体６の
間（＊５）のいずれか１個所にアンチガウシャンフィル
タ２１を介装する。
【００５８】上記図８、図９に示した従来技術の不具合
を解決するための構成の実施の形態を図２９から図３２
に基づいて説明する。図２９は図１２に示した構成の共
焦点光学装置の場合であり、光源１と拡大レンズ２ａと
の間に、光源１からの光をＰ偏光にする１／２波長板２
８を介装すると共に、参照光をホログラム３へブリュー
スター角βｂでもって入射するようにする。
【００５９】図３０は図１９に示したホログラム露光装
置の場合であり、この構成においても同様に、露光光を
ホログラム３へブリュースター角βｂでもって入射する
ようにしている。
【００６０】図３１は図１６に示したホログラム材３ａ
をプリズム１８に塗布したホログラム３の側面から光を
入射させる構成のものであり、この構成においても、光
はプリズム１８の側面に対してブリュースター角βｂで
入射するようにする。またこのプリズム１８の入射側と
は反対側の他側面１８ｂの角度φを、上記プリズム１８
に入射してホログラム材３ａに反射した反射光ｔ１，ｔ
２が上記他側面１８ｂに対してブリュースター角度βｂ
出射するようにした角度φとなるようにしてある。上記
他側面１８ｂ及びホログラム材３ａと平行な面１８ａに
はＡＲ（アンチレフレクション）コートを施してある。
【００６１】以上のように、光の入射角がブュースター
角度βｂにすることにより、図３２（ａ），（ｂ）に示
すように、ホログラム３に入射した光は、このホログラ
ム３の光の出射側での反射はほとんどされない。この構
成におけるホログラム３のガラス基板３ｂのホログラム
材３ａと平行な面（０度面）３ｃにＡＲコートが施され
ている。このＡＲコートは図３２に示すように、物体光
の入射角である略ゼロ度、及び参照光の入射角の双方に
対して減反射効果のあるものが用いられる。そしてこの
ＡＲコートは次の（イ），（ロ）の２つの方法のいずれ
かで膜を設計する。（イ）、広帯域ＡＲコートとし、入
射角度に対して選択性があまりないという性質を応用す
る。（ロ）狭帯域ＡＲコートを２重に施す。例えば１重
目の膜は参照光の入射角度にあわせ、２重目の膜は物体
光の入射角度に合わせて設計する。
【００６２】図３１に示すものも、ホログラム材３ａに
反射した反射光ｒ１，ｒ２は他側面でほとんど反射しな
いでそのまま外部へ出射される。図３１におけるプリズ
ム１８内での光のホログラム材３ａへの入射角βは臨界
角以上にして全反射させることが望ましい。図３１、図
３２における２９は迷光吸収層である。光吸収層の具体
的なものとしては、黒色の起毛（例えばベルベット）、
光吸収率の高い光学ガラス、また、光吸収層を含めた塗
装、コーティングとしては、Ｂｌａｃｋ ｓｕｒｆａｃ
ｅ ｆｏｒ ｏｐｔｉｃａｌ ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｈａｎ
ｄｂｏｏｋ ｏｆ ｏｐｔｉｃｓ Ｖｏｌ．２ Ｓｅｃ
ｏｎｄ ｅｄｉｔｉｏｎ １９９５ ＭｃＧｒａｗ−Ｈ
ｉｌｌｓ，Ｓｔｅｐｈｅｎ Ｍ，Ｐｏｍｐｅａ，Ｒｏｂ
ｅｒｔＰ．Ｂｒｅａｕｌｔ．の例が好適である。
【００６３】図３３は図１１に示した従来の技術におけ
る問題を解決するため構成の実施の形態を示すもので、
参照光が入射される方に位置する第１の対物レンズ５ａ
の第２の対物レンズ５ｂと対向する方の端部に、平行平
板状光学基板３１を鏡筒３２に保持して配置する。
【００６４】以下に、この構成における光学系を説明す
る。図３４は平行平板状光学基板３１を用いない場合の
光学系であり、両対物レンズ５ａ，５ｂ間の距離Ｌ、第
２の対物レンズ５ｂによって角度θ1 の平行光となって
Ｘだけずれて第１の対物レンズ５ａに入射している様子
を示している。ここで、 Ｘ＝Ｌ・ｔａｎθｌ…（１０） である。
【００６５】図３５は第１の対物レンズ５ａの端部に平
行平板状光学基板３１を装着した状態を示すもので、対
物レンズ間の距離をＬａ、第２の対物レンズ５ｂによっ
て角度θ1 の平行光となって、Ｘ1 だけずれて平行平板
状の平行平板状光学基板３１に入射し、さらにＸ2 だけ
ずれて第１の対物レンズ５ａに入射している様子を示し
ている。
【００６３】ここで、 Ｘ＝（Ｌａ−ｈ）・ｔａｎθ1 Ｘ2 ＝ｈ・ｔａｎθ2 …（１１） ただし、ｈ：平行平板状光学基板の板厚 θ2 ：平行平板状光学基板の入射角 となる。Ｘ＝Ｘ1 ＋Ｘ2 とすれば、図１０に示したよう
な光の偏りを生じさせることなく平行平板状光学基板３
１を入れることができる。従って、
【００６６】
【数６】
【００６７】ｎ1 ＝１．０、ｎ2 ＝１．５、Ｌ＝４６ｍ
ｍ、ｈ＝１０ｍｍとすれば、Ｌａは約４９．３となり、
約３．３ｍｍだけレンズ間の距離を広くすることができ
る。なおあらかじめＬ，Ｌａを与えてｈを求めてもよ
い。ちなみに、ｎ2 が大きい程ｈは小さくてすみ、レン
ズ間拡大の効果が大きい。さらに、両対物レンズ５ａ，
５ｂは、第１の対物レンズ５ａの上面にあらかじめ平行
平板状光学基板３１が装着されたときに一番収差が小さ
くなるように設計してもよい。この際、平行平板状光学
基板自体あるいは平行平板状光学基板を保持する鏡筒部
分が参照光を蹴ってしまう場合には、図３３に示すよう
に、平行平板状光学基板自体あるいは平行平板状光学基
板を保持する鏡筒を参照光を蹴らないように削っても良
い。従来のレンズ、あるいは鏡筒を削るのと違って、平
行平板状光学基板はＸＹ方向の位置ずれに対して厳密な
位置合わせをする必要がないので、削ることが精度に影
響を与えるということはない。
【００６８】この構成によれば、両対物レンズの間隔を
左右の焦点θｌ＝θｒが片寄ることなくそれぞれの焦点
距離の和より長くすることができて、下側の対物レンズ
が参照光と干渉することがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の共焦点光学装置を示す構成説明図であ
る。
【図２】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
【図３】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
【図４】反射光のピンホール付近での結像状態を示す説
明図である。
【図５】ホログラムを露光する際の構成説明図である。
【図６】ホログラムに対する参照光と物体光の両投影領
域を示す説明図である。
【図７】レーザ光の光軸中心に対する光量分布図であ
る。
【図８】（ａ），（ｂ）はホログラム内で入射光が多重
反射する様子を示す説明図である。
【図９】プリズム内で入射光が多重反射する様子を示す
説明図である。
【図１０】第１・第２の対物レンズの焦点距離の関係を
示す説明図である。
【図１１】従来の第１・第２の対物レンズの一部破断面
図である。
【図１２】本発明の実施の形態で、参照光光路内にプリ
ズムを介装した構成を示す説明図である。
【図１３】プリズムの光学系の性質を示す説明図であ
る。
【図１４】（ａ），（ｂ）は参照光光路内にシリンドリ
カルレンズを介装した構成を示す説明図である。
【図１５】プリズムと一体にしたホログラムの側面に参
照光を入射する例を示す構成説明図である。
【図１６】プリズムと一体にしたホログラムの構成をし
めす断面図である。
【図１７】プリズムと一体にしたホログラムに対する参
照光光路を示す構成説明図である。
【図１８】共焦点光学系にアンチガウシャンフィルタを
介装した構成を示す説明図である。
【図１９】ホログラム露光系にアンチガウシャンフィル
タを介装した構成を示す説明図である。
【図２０】アンチガウシャンフィルタのフィルムを示す
平面図である。
【図２１】レーザ光の光軸中心に対する光量分布を示す
線図である。
【図２２】アンチガウシャンフィルタの断面図である。
【図２３】化学的に作成されるアンチガウシャンフィル
タの光軸中心に対する光透過率の変化の様子を示す平面
図である。
【図２４】化学的に作成されるアンチガウシャンフィル
タの光軸中心に対する光透過率の変化の様子を示す平面
図である。
【図２５】レンズの組合せにて構成したアンチガウシャ
ンフィルタを示す断面図である。
【図２６】他の構成の共焦点光学装置におけるアンチガ
ウシャンフィルタの配置例を示す構成説明図である。
【図２７】他の構成の共焦点光学装置におけるアンチガ
ウシャンフィルタの配置例を示す構成説明図である。
【図２８】他の構成の共焦点光学装置におけるアンチガ
ウシャンフィルタの配置例を示す構成説明図である。
【図２９】共焦点光学装置のホログラムにブリュースタ
角で参照光を入射する例を示す構成説明図である。
【図３０】ホログラム露光装置のホログラムにブリュー
スタ角で参照光を入射する例を示す構成説明図である。
【図３１】ホログラムと一体にしたプリズムにブリュー
スタ角で参照光を入射する例を示す構成説明図である。
【図３２】（ａ），（ｂ）はホログラムにブリュースタ
角で参照光を入射したときの光路説明図である。
【図３３】本発明における第１・第２の対物レンズの構
成を示す一部破断断面図である。
【図３４】従来の第１・第２の対物レンズの光の経路を
示す説明図である。
【図３５】本発明における第１・第２の対物レンズの光
の経路をを示す説明図である。
【符号の説明】
１，１１…光源 ２，２ａ，２ｂ，１４ａ，１４ｂ，１４ｃ，１４ｄ…拡
大レンズ ３…ホログラム ３ａ…ホログラム材 ３ｂ…ガラス基板 ４…ピンホールアレイ ４ａ…ピンホール ５ａ，５ｂ…対物レンズ ６…物体 ７，７ａ，７ｂ…リレーレンズ ８…光検出器アレイ ９…制御装置 １０…ステージ １２，２７…ビームスプリッタ １３ａ，１３ｂ，１３ｃ…１／２波長板 １５，１８，１８ａ…プリズム １６，１７，１６ａ，１７ａ，１９，２０…シリンドリ
カルレンズ ２１，２１ａ，２１ｂ，２１ｃ…アンチガウシャンフィ
ルタ ２２…フィルム ２３…ガラス基板 ２４…シリコンオイル ２５…凸レンズ ２６…凹レンズ ２８…１／２波長板 ２９…迷光吸収層 ３０，３２…鏡筒 ３１…平行平板状光学基板 Ａ…レーザ光の投影領域 Ｂ…物体光の投影領域
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若井 秀之 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 中池 孝昇 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内 (72)発明者 関 正暢 神奈川県平塚市万田1200 株式会社小松製 作所研究所内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ホログラムに参照光を斜めに入射し、こ
    の参照光をホログラムで回析してピンホールアレイの各
    ピンホール位置から出射する点光源と等価な光に再生
    し、この再生光を物体に投光し、その反射光である物体
    光をピンホールに集光するようにした共焦点光学装置、
    及び上記ホログラムの一側面に物体光を、他側面に斜め
    方向から参照光を入射してホログラムを作るホログラム
    露光装置等において、 ホログラムに斜めに入射する参照光の光路内に、参照光
    が、ホログラムに略円形で入射するようにこれの断面形
    状を整形する入射光整形手段を介装したことを特徴とす
    る共焦点光学装置及びホログラム露光装置。
  2. 【請求項２】 入射光整形手段がプリズムであることを
    特徴とする請求項１記載の共焦点光学装置及びホログラ
    ム露光装置。
  3. 【請求項３】 入射光整形手段がシリンドリカルレンズ
    であることを特徴とする請求項１記載の共焦点光学装置
    及びホログラム露光装置。
  4. 【請求項４】 共焦点光学系を１次元あるいは２次元ア
    レイに配置し、ピンホールアレイのピンホールを通過す
    る反射光をリレーレンズを介して光検出器アレイで計測
    する共焦点光学装置において、 少なくとも物体光、参照光のいずれか一方の光路内にア
    ンチガウシャンフィルタを介装したことを特徴とする共
    焦点光学装置。
  5. 【請求項５】 ホログラムの一側面に物体光を、他側面
    に斜め方向から参照光を入射してホログラムを作るホロ
    グラム露光装置において、上記ホログラムの各面に入射
    する光の光路の少なくともいずれか一方の光路内にアン
    チガウシャンフィルタを介装したことを特徴とするホロ
    グラム露光装置。
  6. 【請求項６】 アンチガウシャンフィルタは吸収型フィ
    ルタであることを特徴とする請求項４または５記載の共
    焦点光学装置。
  7. 【請求項７】 ホログラムに斜めに入射する光の入射角
    を略ブリュースタ角にしたことを特徴とする請求項１記
    載の共焦点光学装置及びホログラム露光装置。
  8. 【請求項８】 ホログラムのガラス基板の表面に物体光
    の入射角である略ゼロ度及び参照光の入射角の双方に対
    して減反射効果のあるＡＲコートを施したことを特徴と
    する請求項１記載の共焦点光学装置及びホログラム露光
    装置。
  9. 【請求項９】 ホログラムに参照光を斜めに入射し、こ
    の参照光をホログラムで回析してピンホールアレイの各
    ピンホール位置から出射する点光源と等価な光に再生
    し、この再生光を物体に投光し、その反射光である物体
    光をピンホールに集光するようにした共焦点光学装置に
    おいて、 ホログラムを挟んでこれの両側に位置する一対の対物レ
    ンズの参照光の入射側に位置する方の対物レンズの対向
    端部に平行平板状光学基板を設けたことを特徴とする共
    焦点光学装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007041436A (ja) * 2005-08-05 2007-02-15 Fujitsu Ltd ホログラム記録装置
JP2007199488A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Ohkura Industry Co 共焦点型顕微鏡

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5624310A (en) * 1979-08-02 1981-03-07 Ricoh Co Ltd Hologram for hologram scanner and its production
US4367911A (en) * 1980-07-14 1983-01-11 Hughes Aircraft Company Method and assembly for holographic exposure
DE3037983C2 (de) * 1980-10-08 1983-03-31 Fa. Carl Zeiss, 7920 Heidenheim Verfahren und Vorrichtung zur lichtinduzierten rastermikroskopischen Darstellung von Probenparametern in ihrer räumlichen Verteilung
CA1251624A (en) * 1983-08-01 1989-03-28 Ronald A. Ferrante Gaussian laser beam filter
EP0207132B1 (en) * 1984-12-28 1989-03-22 Ncr Corporation Method of producing a gaussian laser beam filter
JPS6280688A (ja) * 1985-10-04 1987-04-14 Mitsubishi Electric Corp ホログラムの製造方法
JP2836829B2 (ja) * 1987-03-27 1998-12-14 ザ ボード オブ トラスティーズ オブ ザ リーランド スタンフォード ジュニア ユニバーシティ 走査式共焦点型光学顕微鏡
US4806004A (en) * 1987-07-10 1989-02-21 California Institute Of Technology Scanning microscopy
JPH0289080A (ja) * 1988-09-27 1990-03-29 Fujitsu Ltd 反射型ホログラムの作成方法
JPH0369985A (ja) * 1989-08-10 1991-03-26 Nippondenso Co Ltd ホログラムの製造方法
US5028802A (en) * 1990-01-11 1991-07-02 Eye Research Institute Of Retina Foundation Imaging apparatus and methods utilizing scannable microlaser source
ATE137588T1 (de) * 1990-11-10 1996-05-15 Grosskopf Rudolf Dr Ing Optische abtastvorrichtung mit konfokalem strahlengang, in der lichtquellen- und detektormatrix verwendet werden
GB2271648B (en) * 1992-10-14 1996-04-03 Holtronic Technologies Ltd Apparatus and method for the manufacture of high uniformity total internal reflection holograms
JPH0728380A (ja) * 1993-07-09 1995-01-31 Sony Corp エッジリットホログラムの露光方法及びそれに用いるガラスブロック
JP3404607B2 (ja) * 1993-09-30 2003-05-12 株式会社小松製作所 共焦点光学装置
WO1996010728A1 (fr) * 1994-09-30 1996-04-11 Komatsu Ltd. Dispositif optique confocal

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007041436A (ja) * 2005-08-05 2007-02-15 Fujitsu Ltd ホログラム記録装置
JP2007199488A (ja) * 2006-01-27 2007-08-09 Ohkura Industry Co 共焦点型顕微鏡

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