JPH09291076A - 置換グアニジン誘導体およびその製法 - Google Patents
置換グアニジン誘導体およびその製法Info
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- JPH09291076A JPH09291076A JP8128973A JP12897396A JPH09291076A JP H09291076 A JPH09291076 A JP H09291076A JP 8128973 A JP8128973 A JP 8128973A JP 12897396 A JP12897396 A JP 12897396A JP H09291076 A JPH09291076 A JP H09291076A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ナトリウム/プロトン(Na+ /H+ )交換
輸送系の亢進に起因する疾患、例えば、高血圧、不整
脈、狭心症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚血再潅流
による臓器障害、脳虚血障害、細胞の過剰増殖が原因と
なる疾患、内皮細胞の障害による疾患等の治療、予防薬
として有用な、新規な置換グアニジン誘導体またはその
塩及びその製造法を提供する。 【解決手段】 一般式 【化1】 で表わされる置換グアニジン誘導体。具体的には、例え
ば式 【化2】
輸送系の亢進に起因する疾患、例えば、高血圧、不整
脈、狭心症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚血再潅流
による臓器障害、脳虚血障害、細胞の過剰増殖が原因と
なる疾患、内皮細胞の障害による疾患等の治療、予防薬
として有用な、新規な置換グアニジン誘導体またはその
塩及びその製造法を提供する。 【解決手段】 一般式 【化1】 で表わされる置換グアニジン誘導体。具体的には、例え
ば式 【化2】
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は新規な置換グアニジ
ン誘導体またはその塩及びその製造法に関する。本発明
化合物はナトリウム/プロトン(Na+ /H+ )交換輸
送系阻害作用を有し、ナトリウム/プロトン(Na+ /
H+ )交換輸送系の亢進に起因する疾患、例えば、高血
圧、不整脈、狭心症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚
血再潅流による臓器障害(例えば心筋虚血再潅流障害、
急性腎不全、外科的処置(例えば臓器移植やPTCA
(Percutaneous Transluminal Coronary Angioplasty)
)により生ずる障害など)、脳虚血障害(例えば脳梗
塞に伴う障害、脳卒中後の後遺症として起こる障害、脳
浮腫など)、細胞の過剰増殖(例えば繊維芽細胞増殖、
平滑筋細胞増殖、メサンギウム細胞増殖など)が原因と
なる疾患(例えばアテローム性動脈硬化、肺繊維症、肝
繊維症、腎繊維症、腎糸球体硬化症、器官肥大、前立腺
肥大、糖尿病合併症、PTCA後の再狭窄など)、内皮
細胞の障害による疾患等の治療、予防薬として有用であ
る。
ン誘導体またはその塩及びその製造法に関する。本発明
化合物はナトリウム/プロトン(Na+ /H+ )交換輸
送系阻害作用を有し、ナトリウム/プロトン(Na+ /
H+ )交換輸送系の亢進に起因する疾患、例えば、高血
圧、不整脈、狭心症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚
血再潅流による臓器障害(例えば心筋虚血再潅流障害、
急性腎不全、外科的処置(例えば臓器移植やPTCA
(Percutaneous Transluminal Coronary Angioplasty)
)により生ずる障害など)、脳虚血障害(例えば脳梗
塞に伴う障害、脳卒中後の後遺症として起こる障害、脳
浮腫など)、細胞の過剰増殖(例えば繊維芽細胞増殖、
平滑筋細胞増殖、メサンギウム細胞増殖など)が原因と
なる疾患(例えばアテローム性動脈硬化、肺繊維症、肝
繊維症、腎繊維症、腎糸球体硬化症、器官肥大、前立腺
肥大、糖尿病合併症、PTCA後の再狭窄など)、内皮
細胞の障害による疾患等の治療、予防薬として有用であ
る。
【0002】
【従来の技術】ナトリウム/プロトン(Na+ /H+ )
交換輸送系阻害作用を有する置換グアニジン誘導体とし
ては、例えば、アミロライドに代表されるピラジノイル
グアニジン誘導体が知られている(例えば、J.Membrane
Biol.,Vo1.105,1(1988);Circulation,Vo1.79,1257(198
9))。またベンゾイルグアニジン誘導体がナトリウム/
プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有し、
抗不整脈作用を有することが報告されている(例えば、
J.Mol.Cell.Cardiol.,Vol.24,Suppl.I,S.92(1992);J.Mo
l.Cell.Cardiol.,Vol.24,Suppl.I,S.117(1992); 特開平
5-339228号公報;特開平6-9545号公報;特開平6-345715
号公報;特開平7-109251号公報)。また多環性アロイル
グアニジン誘導体がナトリウム/プロトン(Na+ /H
+ )交換輸送系阻害作用を有することが報告されている
(例えば特開平7-10839 号公報;特開平7-145149号公
報;特開平7-206823号公報)。
交換輸送系阻害作用を有する置換グアニジン誘導体とし
ては、例えば、アミロライドに代表されるピラジノイル
グアニジン誘導体が知られている(例えば、J.Membrane
Biol.,Vo1.105,1(1988);Circulation,Vo1.79,1257(198
9))。またベンゾイルグアニジン誘導体がナトリウム/
プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有し、
抗不整脈作用を有することが報告されている(例えば、
J.Mol.Cell.Cardiol.,Vol.24,Suppl.I,S.92(1992);J.Mo
l.Cell.Cardiol.,Vol.24,Suppl.I,S.117(1992); 特開平
5-339228号公報;特開平6-9545号公報;特開平6-345715
号公報;特開平7-109251号公報)。また多環性アロイル
グアニジン誘導体がナトリウム/プロトン(Na+ /H
+ )交換輸送系阻害作用を有することが報告されている
(例えば特開平7-10839 号公報;特開平7-145149号公
報;特開平7-206823号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、ナトリウム
/プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有
し、ナトリウム/プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系
の亢進に起因する疾患、例えば、高血圧、不整脈、狭心
症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚血再潅流による臓
器障害(例えば心筋虚血再潅流障害、急性腎不全、外科
的処置(例えば臓器移植やPTCA (Percutaneous Tra
nsluminal Coronary Angioplasty))により生じる障害な
ど)、脳虚血障害(例えば脳梗塞に伴う障害、脳卒中後
の後遺症として起こる障害、脳浮腫など)、細胞の過剰
増殖(例えば繊維芽細胞増殖、平滑筋細胞増殖、メサン
ギウム細胞増殖など)が原因となる疾患(例えばアテロ
ーム性動脈硬化、肺繊維症、肝繊維症、腎繊維症、腎糸
球体硬化症、器官肥大、前立腺肥大、糖尿病合併症、P
TCA後の再狭窄など)、内皮細胞の障害による疾患等
の治療、予防薬として有用な、新規な置換グアニジン誘
導体またはその塩及びその製造法を提供することを目的
とする。
/プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有
し、ナトリウム/プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系
の亢進に起因する疾患、例えば、高血圧、不整脈、狭心
症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚血再潅流による臓
器障害(例えば心筋虚血再潅流障害、急性腎不全、外科
的処置(例えば臓器移植やPTCA (Percutaneous Tra
nsluminal Coronary Angioplasty))により生じる障害な
ど)、脳虚血障害(例えば脳梗塞に伴う障害、脳卒中後
の後遺症として起こる障害、脳浮腫など)、細胞の過剰
増殖(例えば繊維芽細胞増殖、平滑筋細胞増殖、メサン
ギウム細胞増殖など)が原因となる疾患(例えばアテロ
ーム性動脈硬化、肺繊維症、肝繊維症、腎繊維症、腎糸
球体硬化症、器官肥大、前立腺肥大、糖尿病合併症、P
TCA後の再狭窄など)、内皮細胞の障害による疾患等
の治療、予防薬として有用な、新規な置換グアニジン誘
導体またはその塩及びその製造法を提供することを目的
とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記の一般式
(1)
(1)
【化4】 (式中、R1 は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素
環基、芳香族基、−OR5 、アシル基または−Q−Ra
を表す。R2 、R3 およびR4 は、互いに独立して、水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、ハロゲン原
子、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON
(R6 )R7 、−SO2 N(R6 )R7 、−S(O)n
R8 、アシル基、−Q−Ra または
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素
環基、芳香族基、−OR5 、アシル基または−Q−Ra
を表す。R2 、R3 およびR4 は、互いに独立して、水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、ハロゲン原
子、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON
(R6 )R7 、−SO2 N(R6 )R7 、−S(O)n
R8 、アシル基、−Q−Ra または
【化5】 (環は3〜8員の窒素原子1個と炭素原子からなる飽和
複素環基を表す)を表す。Y1 、Y2 、Y3 およびY4
は、 いずれか一つはメチレン基、カルボニル基、酸素原
子、−S(O )n −、−N(R10)−または−C(=
C(R11)(R12))−を表し、他のいずれか二つはメ
チレン基を表し、残りの一つは単結合またはメチレン基
を表すか、又は、 隣り合ういずれか二つでビニレン基(−CH=CH
−)または−CON(R10)−を表し、他のいずれか一
つはメチレン基、カルボニル基、酸素原子、−S(O)
n −、−N(R10)−または−C(=C(R11)
(R12))−を表し、残りの一つは単結合またはメチレ
ン基を表す。但し、酸素原子、窒素原子および硫黄原子
は直接ビニレン基とは結合しない。Z は、環構成炭素
原子に結合する1以上の水素原子と任意に置き換わって
もよい置換基を意味する。すなわち、Zは存在しない
か、存在する場合には各々独立して、アルキル基、置換
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、ハロゲン
原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、芳香
族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON(R6 )
R7 、−S(O)n R8 、アシル基および−Q−Ra か
らなる置換基群の中から選ばれる。Aは酸素原子、−S
(O)n −または−N(R10)−を表す。Q は置換さ
れていてもよい低級アルキレン基を表す。Ra は置換さ
れていてもよいビニル基または置換されていてもよいエ
チニル基を表す。R5 は水素原子、アルキル基、置換ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽
和複素環基または芳香族基を表す。R6 およびR7 は、
互いに独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素
環基、芳香族基、アシル基もしくは−Q−Ra を表す
か、又は、R6 とR7 が互いに結合して、これらが結合
する窒素原子と一緒になって、環中に酸素原子又は硫黄
原子を含んでもよい飽和5〜7員環の環状アミノ基(該
環状アミノ基は1以上のアルキル基、置換アルキル基、
水酸基又は−OR5 で置換されていてもよい)を表す。
R8 はアルキル基、置換アルキル基または芳香族基を表
す。R9 は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
シル基または−Q−Ra を表す。R10は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、飽和複素
環基、芳香族基、アシル基または−Q−Ra を表す。R
11およびR12は、互いに独立して、水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON
(R6 )R7 、−S(O)n R8 、アシル基または−Q
−Ra を表す。nは0、1または2を表す)で表される
置換グアニジン誘導体またはその医薬として許容される
酸付加塩およびその製造法並びに上記化合物を含有する
医薬に関する。
複素環基を表す)を表す。Y1 、Y2 、Y3 およびY4
は、 いずれか一つはメチレン基、カルボニル基、酸素原
子、−S(O )n −、−N(R10)−または−C(=
C(R11)(R12))−を表し、他のいずれか二つはメ
チレン基を表し、残りの一つは単結合またはメチレン基
を表すか、又は、 隣り合ういずれか二つでビニレン基(−CH=CH
−)または−CON(R10)−を表し、他のいずれか一
つはメチレン基、カルボニル基、酸素原子、−S(O)
n −、−N(R10)−または−C(=C(R11)
(R12))−を表し、残りの一つは単結合またはメチレ
ン基を表す。但し、酸素原子、窒素原子および硫黄原子
は直接ビニレン基とは結合しない。Z は、環構成炭素
原子に結合する1以上の水素原子と任意に置き換わって
もよい置換基を意味する。すなわち、Zは存在しない
か、存在する場合には各々独立して、アルキル基、置換
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアル
キル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、ハロゲン
原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、芳香
族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON(R6 )
R7 、−S(O)n R8 、アシル基および−Q−Ra か
らなる置換基群の中から選ばれる。Aは酸素原子、−S
(O)n −または−N(R10)−を表す。Q は置換さ
れていてもよい低級アルキレン基を表す。Ra は置換さ
れていてもよいビニル基または置換されていてもよいエ
チニル基を表す。R5 は水素原子、アルキル基、置換ア
ルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽
和複素環基または芳香族基を表す。R6 およびR7 は、
互いに独立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素
環基、芳香族基、アシル基もしくは−Q−Ra を表す
か、又は、R6 とR7 が互いに結合して、これらが結合
する窒素原子と一緒になって、環中に酸素原子又は硫黄
原子を含んでもよい飽和5〜7員環の環状アミノ基(該
環状アミノ基は1以上のアルキル基、置換アルキル基、
水酸基又は−OR5 で置換されていてもよい)を表す。
R8 はアルキル基、置換アルキル基または芳香族基を表
す。R9 は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ア
シル基または−Q−Ra を表す。R10は水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、飽和複素
環基、芳香族基、アシル基または−Q−Ra を表す。R
11およびR12は、互いに独立して、水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シ
クロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、
ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON
(R6 )R7 、−S(O)n R8 、アシル基または−Q
−Ra を表す。nは0、1または2を表す)で表される
置換グアニジン誘導体またはその医薬として許容される
酸付加塩およびその製造法並びに上記化合物を含有する
医薬に関する。
【0005】本発明における各種の基を以下に説明す
る。アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、2−プロピル、ブチル、2−ブチル、2−メチ
ルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチルなどの直鎖または分枝した炭
素原子数8個以下のアルキル基が挙げられる。
る。アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、2−プロピル、ブチル、2−ブチル、2−メチ
ルプロピル、1,1−ジメチルエチル、ペンチル、ヘキ
シル、ヘプチル、オクチルなどの直鎖または分枝した炭
素原子数8個以下のアルキル基が挙げられる。
【0006】シクロアルキル基は、置換されていない
か、または1〜4個のアルキル基、置換アルキル基、水
酸基、または−OR5 により置換されていてもよく、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、2−メチルシクロペ
ンチル、3−メチルシクロペンチル、2−メチルシクロ
ヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4−メチルシク
ロヘキシル、2−ヒドロキシシクロペンチル、3−ヒド
ロキシシクロペンチル、2−ヒドロキシシクロヘキシ
ル、3−ヒドロキシシクロヘキシル、4−ヒドロキシシ
クロヘキシル、2−(ヒドロキシメチル)シクロペンチ
ル、3−(ヒドロキシメチル)シクロペンチル、2−
(ヒドロキシメチル)シクロヘキシル、3−(ヒドロキ
シメチル)シクロヘキシル、4−(ヒドロキシメチル)
シクロヘキシル、2−(アミノメチル)シクロペンチ
ル、3−(アミノメチル)シクロペンチル、2−(アミ
ノメチル)シクロヘキシル、3−(アミノメチル)シク
ロヘキシル、4−(アミノメチル)シクロヘキシル、2
−(メトキシメチル)シクロペンチル、3−(メトキシ
メチル)シクロペンチル、2−(メトキシメチル)シク
ロヘキシル、3−(メトキシメチル)シクロヘキシル、
4−(メトキシメチル)シクロヘキシルなどの3〜8員
環シクロアルキル基が挙げられる。
か、または1〜4個のアルキル基、置換アルキル基、水
酸基、または−OR5 により置換されていてもよく、例
えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、
シクロヘキシル、シクロヘプチル、2−メチルシクロペ
ンチル、3−メチルシクロペンチル、2−メチルシクロ
ヘキシル、3−メチルシクロヘキシル、4−メチルシク
ロヘキシル、2−ヒドロキシシクロペンチル、3−ヒド
ロキシシクロペンチル、2−ヒドロキシシクロヘキシ
ル、3−ヒドロキシシクロヘキシル、4−ヒドロキシシ
クロヘキシル、2−(ヒドロキシメチル)シクロペンチ
ル、3−(ヒドロキシメチル)シクロペンチル、2−
(ヒドロキシメチル)シクロヘキシル、3−(ヒドロキ
シメチル)シクロヘキシル、4−(ヒドロキシメチル)
シクロヘキシル、2−(アミノメチル)シクロペンチ
ル、3−(アミノメチル)シクロペンチル、2−(アミ
ノメチル)シクロヘキシル、3−(アミノメチル)シク
ロヘキシル、4−(アミノメチル)シクロヘキシル、2
−(メトキシメチル)シクロペンチル、3−(メトキシ
メチル)シクロペンチル、2−(メトキシメチル)シク
ロヘキシル、3−(メトキシメチル)シクロヘキシル、
4−(メトキシメチル)シクロヘキシルなどの3〜8員
環シクロアルキル基が挙げられる。
【0007】シクロアルケニル基は、置換されていない
か、または1〜4個のアルキル基、置換アルキル基、水
酸基または−OR5 により置換されていてもよく、例え
ば1−シクロペンテニル、2−シクロペンテニル、3−
シクロペンテニル、1−シクロヘキセニル、2−シクロ
ヘキセニル、3−シクロヘキセニルなどの3〜8員環の
二重結合を1つ有するシクロアルケニル基が挙げられ
る。
か、または1〜4個のアルキル基、置換アルキル基、水
酸基または−OR5 により置換されていてもよく、例え
ば1−シクロペンテニル、2−シクロペンテニル、3−
シクロペンテニル、1−シクロヘキセニル、2−シクロ
ヘキセニル、3−シクロヘキセニルなどの3〜8員環の
二重結合を1つ有するシクロアルケニル基が挙げられ
る。
【0008】飽和複素環基は、置換されていないか、ま
たは1〜4個のアルキル基、置換アルキル基、水酸基ま
たは−OR5 により置換されていてもよく、例えば2−
テトラヒドロフラニル、3−テトラヒドロフラニル、2
−テトラヒドロ−2H−ピラニル、4−テトラヒドロ−
4H−ピラニルなどの3〜8員環の酸素原子またはS原
子を1個有する飽和複素環基が挙げられる。
たは1〜4個のアルキル基、置換アルキル基、水酸基ま
たは−OR5 により置換されていてもよく、例えば2−
テトラヒドロフラニル、3−テトラヒドロフラニル、2
−テトラヒドロ−2H−ピラニル、4−テトラヒドロ−
4H−ピラニルなどの3〜8員環の酸素原子またはS原
子を1個有する飽和複素環基が挙げられる。
【0009】ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩
素および臭素原子が挙げられる。
素および臭素原子が挙げられる。
【0010】アルコキシカルボニル基としては、例えば
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、2−プロポキシカルボニルなどの直鎖また
は分枝した炭素原子数6個以下のアルコキシカルボニル
基が挙げられる。
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、2−プロポキシカルボニルなどの直鎖また
は分枝した炭素原子数6個以下のアルコキシカルボニル
基が挙げられる。
【0011】芳香族基には置換基を有していてもよいア
リール基および置換基を有していてもよいヘテロアリー
ル基が含まれ、アリール基としては、例えばフェニル、
ナフチルなどの炭素原子数10個以下のアリール基が、
ヘテロアリール基としては、例えば2−、3−、4−ピ
リジル、ピロリル、イソダゾリル、トリアゾリル、テト
ラゾリル、2−、3−フリル、2−、3−チエニル、1
−、3−、4−オキサゾリル、3−、4−、5−イソオ
キサゾリルなどの窒素原子を1〜4個含む5〜6員ヘテ
ロアリール基および窒素原子を0〜2個と酸素原子を1
個もしくは硫黄原子を1個含む5〜6員ヘテロアリール
基が挙げられる。
リール基および置換基を有していてもよいヘテロアリー
ル基が含まれ、アリール基としては、例えばフェニル、
ナフチルなどの炭素原子数10個以下のアリール基が、
ヘテロアリール基としては、例えば2−、3−、4−ピ
リジル、ピロリル、イソダゾリル、トリアゾリル、テト
ラゾリル、2−、3−フリル、2−、3−チエニル、1
−、3−、4−オキサゾリル、3−、4−、5−イソオ
キサゾリルなどの窒素原子を1〜4個含む5〜6員ヘテ
ロアリール基および窒素原子を0〜2個と酸素原子を1
個もしくは硫黄原子を1個含む5〜6員ヘテロアリール
基が挙げられる。
【0012】置換アリール基および置換ヘテロアリール
基における置換基にはアルキル基、置換アルキル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カル
ボキシル基および式−OR5 、−NR6 R7 、−CON
R6 R7 、−SO2 NR6 R7 、または−S(O)n R
8 で示される基が含まれる。
基における置換基にはアルキル基、置換アルキル基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アルコキシカルボニル基、カル
ボキシル基および式−OR5 、−NR6 R7 、−CON
R6 R7 、−SO2 NR6 R7 、または−S(O)n R
8 で示される基が含まれる。
【0013】R1 ,R2 ,R3 ,R4 が式−OR5 で示
される基であり、ここでR5 が芳香族基である場合の代
表的な−OR5 基の例は、フェノキシ基および置換フェ
ノキシ基である。置換フェノキシ基の例としては、例え
ばニトロ基、−NR6 R7 基(R6 およびR7 として
は、例えば水素原子、アルキル基など)、置換アルキル
基(置換基としては、例えば水酸基、−NR6 R7 基な
ど)などで置換されたフェノキシ基が挙げられる。さら
に具体的な置換フェノキシ基としては、例えばo−,m
−またはp−ニトロフェノキシ、o−,m−またはp−
アミノフェノキシ、o−,m−またはp−(ジメチルア
ミノ)フェノキシ、o−,m−またはp−(アミノメチ
ル)フェノキシ、o−,m−またはp−(ジメチルアミ
ノメチル)フェノキシなどが挙げられる。
される基であり、ここでR5 が芳香族基である場合の代
表的な−OR5 基の例は、フェノキシ基および置換フェ
ノキシ基である。置換フェノキシ基の例としては、例え
ばニトロ基、−NR6 R7 基(R6 およびR7 として
は、例えば水素原子、アルキル基など)、置換アルキル
基(置換基としては、例えば水酸基、−NR6 R7 基な
ど)などで置換されたフェノキシ基が挙げられる。さら
に具体的な置換フェノキシ基としては、例えばo−,m
−またはp−ニトロフェノキシ、o−,m−またはp−
アミノフェノキシ、o−,m−またはp−(ジメチルア
ミノ)フェノキシ、o−,m−またはp−(アミノメチ
ル)フェノキシ、o−,m−またはp−(ジメチルアミ
ノメチル)フェノキシなどが挙げられる。
【0014】アルコキシ基としては、例えばメトキシ、
エトキシ、イソプロポキシ、tert−ブトキシなどの直鎖
または分枝した炭素原子数6個以下のアルコキシ基が挙
げられる。
エトキシ、イソプロポキシ、tert−ブトキシなどの直鎖
または分枝した炭素原子数6個以下のアルコキシ基が挙
げられる。
【0015】R6 およびR7 が互いに結合して、それら
が結合する窒素原子と共に形成する、環中に他のヘテロ
原子を含んでもよい飽和5ないし7員環の環状アミノ基
としては、例えば窒素原子を1〜3個含む5〜7員環基
または窒素原子1個および酸素原子1個を含む5〜7員
環基が挙げられ、さらに具体的には1−ピロリジニル、
1−ピペリジノ、1−ピペラジニル、4−モルホリノ、
1−(4−メチル)ピペラジニル等が挙げられる。
が結合する窒素原子と共に形成する、環中に他のヘテロ
原子を含んでもよい飽和5ないし7員環の環状アミノ基
としては、例えば窒素原子を1〜3個含む5〜7員環基
または窒素原子1個および酸素原子1個を含む5〜7員
環基が挙げられ、さらに具体的には1−ピロリジニル、
1−ピペリジノ、1−ピペラジニル、4−モルホリノ、
1−(4−メチル)ピペラジニル等が挙げられる。
【0016】置換アルキル基における置換基にはハロゲ
ン原子、水酸基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シ
アノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、式
(6)、芳香族基、アシル基および式−CONRp Rq
(Rp およびRq は互いに独立して、水素原子またはア
ルキル基を表すか、あるいはRq およびRq は互いに結
合して、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和5な
いし7員環の環状アミノ基を表す)、−NR6 R7 もし
くは
ン原子、水酸基、アルコキシ基、シクロアルキル基、シ
アノ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、式
(6)、芳香族基、アシル基および式−CONRp Rq
(Rp およびRq は互いに独立して、水素原子またはア
ルキル基を表すか、あるいはRq およびRq は互いに結
合して、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和5な
いし7員環の環状アミノ基を表す)、−NR6 R7 もし
くは
【化6】 (R13は水素原子、アルキル基、または置換アルキル基
を表し、環は3〜8員の飽和脂肪族環または窒素原子一
つを含有する飽和複素環であることを表す)で示される
基が含まれる。特にR1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
8 、R9 、R12およびZが置換アルキル基である場合の
置換基としては、シクロアルキル基、ハロゲン原子、水
酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカル
ボニル基、アシル基、芳香族基、および式−CONRp
Rq もしくは−NR6 R7 で示される基などが挙げら
れ、R6 、R7 、R10、R11、R13が置換アルキル基で
ある場合の置換基としては、シクロアルキル基、水酸
基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、アリール基、および式−CONRp
Rq もしくは−NRp Rq で示される基などが挙げられ
る。また、置換アルキル基のアルキル部分としては、前
述したアルキル基と同様の例を挙げることができる。
を表し、環は3〜8員の飽和脂肪族環または窒素原子一
つを含有する飽和複素環であることを表す)で示される
基が含まれる。特にR1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R
8 、R9 、R12およびZが置換アルキル基である場合の
置換基としては、シクロアルキル基、ハロゲン原子、水
酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカル
ボニル基、アシル基、芳香族基、および式−CONRp
Rq もしくは−NR6 R7 で示される基などが挙げら
れ、R6 、R7 、R10、R11、R13が置換アルキル基で
ある場合の置換基としては、シクロアルキル基、水酸
基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アシル基、アリール基、および式−CONRp
Rq もしくは−NRp Rq で示される基などが挙げられ
る。また、置換アルキル基のアルキル部分としては、前
述したアルキル基と同様の例を挙げることができる。
【0017】そのような置換アルキル基としては、例え
ば炭素原子数3〜6のシクロアルキルで置換された炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のポリハ
ロアルキル基、炭素原子数1〜6のヒドロキシアルキル
基、炭素原子数2〜6のアルコキシアルキル基、炭素原
子数2〜6のシアノアルキル基、炭素原子数2〜6のカ
ルボキシアルキル基、炭素原子数3〜8のアルコキシカ
ルボニルアルキル基、炭素原子数3〜8のアルカノイル
アルキル基、炭素原子数16以下のアロイルアルキル
基、置換基を有していてもよいフェニルもしくはナフチ
ル−C1 〜C5 アルキル基、窒素原子が一つまたは二つ
のC1 〜C3 アルキルで置換されていてもよいカルバモ
イル−C1 〜C3 アルキル基、窒素原子が一つもしくは
二つのC1〜C3 アルキルまたはC7 〜C11アラルキル
で置換されていてもよいアミノ−C1 〜C5 アルキル
基、飽和5ないし7員環状アミノ−C1 〜C3 アルキル
基等が挙げられる。
ば炭素原子数3〜6のシクロアルキルで置換された炭素
原子数1〜5のアルキル基、炭素原子数1〜5のポリハ
ロアルキル基、炭素原子数1〜6のヒドロキシアルキル
基、炭素原子数2〜6のアルコキシアルキル基、炭素原
子数2〜6のシアノアルキル基、炭素原子数2〜6のカ
ルボキシアルキル基、炭素原子数3〜8のアルコキシカ
ルボニルアルキル基、炭素原子数3〜8のアルカノイル
アルキル基、炭素原子数16以下のアロイルアルキル
基、置換基を有していてもよいフェニルもしくはナフチ
ル−C1 〜C5 アルキル基、窒素原子が一つまたは二つ
のC1 〜C3 アルキルで置換されていてもよいカルバモ
イル−C1 〜C3 アルキル基、窒素原子が一つもしくは
二つのC1〜C3 アルキルまたはC7 〜C11アラルキル
で置換されていてもよいアミノ−C1 〜C5 アルキル
基、飽和5ないし7員環状アミノ−C1 〜C3 アルキル
基等が挙げられる。
【0018】代表的な置換アルキル基としては、トリフ
ルオロメチル、トリフルオロエチル、トリクロロメチル
などの炭素原子数1〜3のポリハロアルキル基、ヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル
などの炭素原子数1〜6のヒドロキシアルキル基、アミ
ノメチル、アミノエチル、1−アミノエチル、などの炭
素原子数1〜5のアミノアルキル基、メトキシエチル、
エトキシエチル、メトキシプロピルなどの炭素原子数1
〜6のアルコキシアルキル基、カルボキシエチル、カル
ボキシプロピルなどの炭素原子数2〜6のカルボキシア
ルキル基、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル、メトキシカルボニルエチルなどの炭素原子
数3〜7のアルコキシカルボニルアルキル基、ベンジ
ル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチ
ル、1−もしくは2−ナフチルメチルなどの、フェニル
またはナフチル−C1 〜C5 アルキル基(フェニルまた
はナフチル部分にC1 〜C3 アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基、水酸基、C1 〜C3 アルコキ
シ基などの置換基を有していてもよい)、カルバモイル
メチル、カルバモイルエチル、ジメチルカルバモイルメ
チルなどの、窒素原子が一つもしくは二つのC1 〜C3
アルキルで置換されていてもよいカルバモイル−C1 〜
C3 アルキル基、アミノエチル、アミノプロピル、ジメ
チルアミノエチル、ジメチルアミノプロピル、ジエチル
アミノエチル、N−メチル−N−ベンジルアミノエチル
などの、窒素原子が一つもしくは二つのC1 〜C3 アル
キルまたはC7 〜C11アラルキルで置換されていてもよ
いアミノ−C1 〜C5 アルキル基、1−ピロリジニルエ
チル、ピペリジノエチルなどの飽和5ないし7員環状ア
ミノ−C1 〜C3 アルキル基等が挙げられ、R6 および
R7 においてはフェニルエチルなどのフェニル−C1 〜
C5 アルキル基が挙げられる。
ルオロメチル、トリフルオロエチル、トリクロロメチル
などの炭素原子数1〜3のポリハロアルキル基、ヒドロ
キシメチル、ヒドロキシエチル、1−ヒドロキシエチル
などの炭素原子数1〜6のヒドロキシアルキル基、アミ
ノメチル、アミノエチル、1−アミノエチル、などの炭
素原子数1〜5のアミノアルキル基、メトキシエチル、
エトキシエチル、メトキシプロピルなどの炭素原子数1
〜6のアルコキシアルキル基、カルボキシエチル、カル
ボキシプロピルなどの炭素原子数2〜6のカルボキシア
ルキル基、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボ
ニルメチル、メトキシカルボニルエチルなどの炭素原子
数3〜7のアルコキシカルボニルアルキル基、ベンジ
ル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニルブチ
ル、1−もしくは2−ナフチルメチルなどの、フェニル
またはナフチル−C1 〜C5 アルキル基(フェニルまた
はナフチル部分にC1 〜C3 アルキル基、ハロゲン原
子、ニトロ基、アミノ基、水酸基、C1 〜C3 アルコキ
シ基などの置換基を有していてもよい)、カルバモイル
メチル、カルバモイルエチル、ジメチルカルバモイルメ
チルなどの、窒素原子が一つもしくは二つのC1 〜C3
アルキルで置換されていてもよいカルバモイル−C1 〜
C3 アルキル基、アミノエチル、アミノプロピル、ジメ
チルアミノエチル、ジメチルアミノプロピル、ジエチル
アミノエチル、N−メチル−N−ベンジルアミノエチル
などの、窒素原子が一つもしくは二つのC1 〜C3 アル
キルまたはC7 〜C11アラルキルで置換されていてもよ
いアミノ−C1 〜C5 アルキル基、1−ピロリジニルエ
チル、ピペリジノエチルなどの飽和5ないし7員環状ア
ミノ−C1 〜C3 アルキル基等が挙げられ、R6 および
R7 においてはフェニルエチルなどのフェニル−C1 〜
C5 アルキル基が挙げられる。
【0019】Qにおける低級アルキレン基並びにRa に
おけるビニル基およびエチニル基の置換基としては、例
えばアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基、飽和複素環基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、芳香族基、および式−CON
(R6 )R7 で示される基などが挙げられる。
おけるビニル基およびエチニル基の置換基としては、例
えばアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、
シクロアルケニル基、飽和複素環基、カルボキシル基、
アルコキシカルボニル基、芳香族基、および式−CON
(R6 )R7 で示される基などが挙げられる。
【0020】低級アルキレン基としては、例えばメチレ
ン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタ
メチレン、ヘキサメチレン等の炭素原子数6以下のアル
キレン基が挙げられる。
ン、エチレン、トリメチレン、テトラメチレン、ペンタ
メチレン、ヘキサメチレン等の炭素原子数6以下のアル
キレン基が挙げられる。
【0021】アシル基としては、ホルミル基、例えばア
セチル、プロパノイルなどの炭素原子数2〜6のアルカ
ノイル基、例えばシクロプロパンカルボニル、シクロブ
タンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘ
キサンカルボニルなどの炭素原子数3〜6のシクロアル
カンカルボニル基、例えばシクロペンテンカルボニル、
シクロヘキセンカルボニルなどの炭素原子数3〜6のシ
クロアルケンカルボニル基、例えばベンゾイル、トルオ
イル、ナフトイルなどの炭素原子数6〜10のアロイル
基、例えば2−ピペリジンカルボニル、3−モルホリン
カルボニルなどの窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選
ばれる複素原子1〜2個を含む5又は6員の飽和複素環
を有する飽和複素環−カルボニル基、例えばフロイル、
テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイルなどの窒素
原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる複素原子1〜2
個を含む5又は6員の複素芳香族環を有する複素芳香族
アシル基などが挙げられる。
セチル、プロパノイルなどの炭素原子数2〜6のアルカ
ノイル基、例えばシクロプロパンカルボニル、シクロブ
タンカルボニル、シクロペンタンカルボニル、シクロヘ
キサンカルボニルなどの炭素原子数3〜6のシクロアル
カンカルボニル基、例えばシクロペンテンカルボニル、
シクロヘキセンカルボニルなどの炭素原子数3〜6のシ
クロアルケンカルボニル基、例えばベンゾイル、トルオ
イル、ナフトイルなどの炭素原子数6〜10のアロイル
基、例えば2−ピペリジンカルボニル、3−モルホリン
カルボニルなどの窒素原子、酸素原子、硫黄原子から選
ばれる複素原子1〜2個を含む5又は6員の飽和複素環
を有する飽和複素環−カルボニル基、例えばフロイル、
テノイル、ニコチノイル、イソニコチノイルなどの窒素
原子、酸素原子、硫黄原子から選ばれる複素原子1〜2
個を含む5又は6員の複素芳香族環を有する複素芳香族
アシル基などが挙げられる。
【0022】Rp およびRq が互いに結合して形成す
る、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和5ないし
7員環の環状アミノ基としては、前記のR6 およびR7
が形成する、環状アミノ基の場合と同様の例を挙げるこ
とができる。
る、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和5ないし
7員環の環状アミノ基としては、前記のR6 およびR7
が形成する、環状アミノ基の場合と同様の例を挙げるこ
とができる。
【0023】式−S(0)n R8 で表される基として
は、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基など
の炭素原子数8以下のアルキルスルホニル基および対応
するアルキルスルフィニル基、アルキルチオ基を挙げる
ことができる。
は、例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、
プロピルスルホニル基、イソプロピルスルホニル基など
の炭素原子数8以下のアルキルスルホニル基および対応
するアルキルスルフィニル基、アルキルチオ基を挙げる
ことができる。
【0024】式
【化7】 で表される基としては例えば、式
【化8】 で表される基が挙げられ、好ましくは、(ピペリジン−
3−イル)オキシ、(ピペリジン−4−イル)オキシ、
(1−メチルピペリジン−3−イル)オキシ、(1−メ
チルピペリジン−4−イル)オキシ、(ピロリジン−3
−イル)オキシ、(1−メチルピロリジン−3−イル)
オキシ、(ピペリジン−3−イル)チオ、(ピペリジン
−4−イル)チオ、(1−メチルピペリジン−3−イ
ル)チオ、(1−メチルピペリジン−4−イル)チオ、
(ピロリジン−3−イル)チオ、(1−メチルピロリジ
ン−2−イル)チオ、(ピペリジン−3−イル)アミ
ノ、(ピペリジン−4−イル)アミノ、(1−メチルピ
ペリジン−3−イル)アミノ、(1−メチルピペリジン
−4−イル)アミノ、(ピロリジン−3−イル)アミ
ノ、(1−メチルピロリジン−3−イル)アミノが挙げ
られる。
3−イル)オキシ、(ピペリジン−4−イル)オキシ、
(1−メチルピペリジン−3−イル)オキシ、(1−メ
チルピペリジン−4−イル)オキシ、(ピロリジン−3
−イル)オキシ、(1−メチルピロリジン−3−イル)
オキシ、(ピペリジン−3−イル)チオ、(ピペリジン
−4−イル)チオ、(1−メチルピペリジン−3−イ
ル)チオ、(1−メチルピペリジン−4−イル)チオ、
(ピロリジン−3−イル)チオ、(1−メチルピロリジ
ン−2−イル)チオ、(ピペリジン−3−イル)アミ
ノ、(ピペリジン−4−イル)アミノ、(1−メチルピ
ペリジン−3−イル)アミノ、(1−メチルピペリジン
−4−イル)アミノ、(ピロリジン−3−イル)アミ
ノ、(1−メチルピロリジン−3−イル)アミノが挙げ
られる。
【0025】アルケニル基としては、例えばビニル、ア
リル、プロペニル、2−プロペニル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル等の炭素原子数6以下のアルケニル基
が挙げられる。
リル、プロペニル、2−プロペニル、ブテニル、ペンテ
ニル、ヘキセニル等の炭素原子数6以下のアルケニル基
が挙げられる。
【0026】アルキニル基としては、例えばエチニル、
プロパルギル、ブチニル、ペンチニル等の炭素原子数6
以下のアルキニル基が挙げられる。
プロパルギル、ブチニル、ペンチニル等の炭素原子数6
以下のアルキニル基が挙げられる。
【0027】さらに、本発明は、前記式(1)の化合物
を製造する方法に関するものであり、そして該方法は、
式(2)
を製造する方法に関するものであり、そして該方法は、
式(2)
【化9】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y1 、Y2 、Y3 、
Y4 およびZは前記と同じ意味を有し、Lは容易に求核
試薬によって置換しうる脱離基を表わす)で表されるカ
ルボン酸の反応性誘導体をグアニジンと反応させて式
(1)において示したグアニジノカルボニル基(−C
(=0)N=C(NH2 )2 基)を形成させ、そして必
要に応じて生成物を薬理学的に許容し得る塩に変換する
ことからなる。
Y4 およびZは前記と同じ意味を有し、Lは容易に求核
試薬によって置換しうる脱離基を表わす)で表されるカ
ルボン酸の反応性誘導体をグアニジンと反応させて式
(1)において示したグアニジノカルボニル基(−C
(=0)N=C(NH2 )2 基)を形成させ、そして必
要に応じて生成物を薬理学的に許容し得る塩に変換する
ことからなる。
【0028】本反応においては、式(2)に示した酸誘
導体が水酸基やアミノ基のような、反応に活性な基を有
する場合には、これらの基を予め適当な保護基で保護し
ておき、本反応を実施した後に保護基を除去することに
より、目的とするアシルグアニジン誘導体(1)を製造
することができる。
導体が水酸基やアミノ基のような、反応に活性な基を有
する場合には、これらの基を予め適当な保護基で保護し
ておき、本反応を実施した後に保護基を除去することに
より、目的とするアシルグアニジン誘導体(1)を製造
することができる。
【0029】式(2)で表されるカルボン酸の反応性誘
導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物(混合酸無水
物を含む)あるいはエステル誘導体が挙げられ、具体的
には、酸ハロゲン化物としては酸クロリドまたは酸ブロ
ミド、混合酸無水物としてはエチルオキシカルボニルク
ロリド、イソブチルオキシカルボニルクロリドなどのア
ルキルオキシクロリド型、および塩化ジエチルアセチ
ル、塩化トリメチルアセチルなどのα−ポリアルキル置
換カルボン酸塩化物型化合物との混合酸無水物、エステ
ル誘導体としてはp−ニトロフェニルエステル、N−ヒ
ドロキシスクシンイミドエステル、ペンタフルオロフェ
ニルエステルなどの活性エステルおよびメチルエステ
ル、エチルエステルなどの一般のエステルが挙げられ
る。このようなカルボン酸の反応性誘導体は、通常行わ
れる一般的方法に従って、対応するカルボン酸から容易
に得ることができる。
導体としては、酸ハロゲン化物、酸無水物(混合酸無水
物を含む)あるいはエステル誘導体が挙げられ、具体的
には、酸ハロゲン化物としては酸クロリドまたは酸ブロ
ミド、混合酸無水物としてはエチルオキシカルボニルク
ロリド、イソブチルオキシカルボニルクロリドなどのア
ルキルオキシクロリド型、および塩化ジエチルアセチ
ル、塩化トリメチルアセチルなどのα−ポリアルキル置
換カルボン酸塩化物型化合物との混合酸無水物、エステ
ル誘導体としてはp−ニトロフェニルエステル、N−ヒ
ドロキシスクシンイミドエステル、ペンタフルオロフェ
ニルエステルなどの活性エステルおよびメチルエステ
ル、エチルエステルなどの一般のエステルが挙げられ
る。このようなカルボン酸の反応性誘導体は、通常行わ
れる一般的方法に従って、対応するカルボン酸から容易
に得ることができる。
【0030】酸ハロゲン化物または酸無水物(混合酸無
水物を含む)と反応させる場合には、塩基または過剰の
グアニジンの存在下、溶媒中で冷却下ないし室温で実施
することができる。塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウムなどの無機塩基、およびトリエチルアミ
ン、ピリジンなどの有機塩基が、溶媒としてはベンゼ
ン、トルエン、キシレン、などの芳香族炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエ
ーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド系溶媒、ピリジンなどの塩基性溶媒、またはそれらの
混合溶媒が挙げられる。
水物を含む)と反応させる場合には、塩基または過剰の
グアニジンの存在下、溶媒中で冷却下ないし室温で実施
することができる。塩基としては水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水
素ナトリウムなどの無機塩基、およびトリエチルアミ
ン、ピリジンなどの有機塩基が、溶媒としてはベンゼ
ン、トルエン、キシレン、などの芳香族炭化水素系溶
媒、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキサンなどのエ
ーテル系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2
−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミ
ド系溶媒、ピリジンなどの塩基性溶媒、またはそれらの
混合溶媒が挙げられる。
【0031】エステル誘導体と反応させる場合には、等
モルないし過剰のグアニジンの存在下、溶媒中で冷却な
いし加熱しながら行われる。活性エステルの場合は、例
えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなど
のエステル系溶媒、ジメチルホルムアミドまたはそれら
の混合溶媒中で、他のエステルの場合には、たとえば、
メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアル
コール系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキ
シエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジメチル
ホルムアミドまたはそれらの混合溶媒中で反応させるこ
とが好ましい。場合によっては溶媒留去後、130℃付
近にて短時間加熱することも可能である。
モルないし過剰のグアニジンの存在下、溶媒中で冷却な
いし加熱しながら行われる。活性エステルの場合は、例
えば、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタ
ン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、酢酸エチルなど
のエステル系溶媒、ジメチルホルムアミドまたはそれら
の混合溶媒中で、他のエステルの場合には、たとえば、
メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアル
コール系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキ
シエタン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジメチル
ホルムアミドまたはそれらの混合溶媒中で反応させるこ
とが好ましい。場合によっては溶媒留去後、130℃付
近にて短時間加熱することも可能である。
【0032】また、本発明化合物(1)は、一般式
(3)
(3)
【化10】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y1 、Y2 、Y3 、
Y4 およびZは前記と同じ意味を有する。)で表される
カルボン酸とグアニジンとを好ましくは縮合剤の存在
下、不活性溶媒中、室温または加熱下反応させることに
よって得ることができる。本反応においては、式(3)
に示した化合物がカルボキシル基や水酸基、アミノ基の
ような、反応に活性な基を有する場合には、これらの基
を予め適当な保護基で保護しておき、本反応を実施した
後に保護基を除去することにより、目的とするインドロ
イルグアニジン誘導体(1)を製造することができる。
Y4 およびZは前記と同じ意味を有する。)で表される
カルボン酸とグアニジンとを好ましくは縮合剤の存在
下、不活性溶媒中、室温または加熱下反応させることに
よって得ることができる。本反応においては、式(3)
に示した化合物がカルボキシル基や水酸基、アミノ基の
ような、反応に活性な基を有する場合には、これらの基
を予め適当な保護基で保護しておき、本反応を実施した
後に保護基を除去することにより、目的とするインドロ
イルグアニジン誘導体(1)を製造することができる。
【0033】反応は、たとえば、ジシクロヘキシルカル
ボジイミド(DCC)、ジイソプロピルカルボジイミド
(DIPC)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ
プロピル)−カルボジイミド(WSC)、ベンゾトリア
ゾール−1−イル−トリス(ジメチルアミノ)ホスホニ
ウム・ヘキサフルオロリン化物塩(BOP)、ジフェニ
ルホスホニルアジド(DPPA)、N,N−カルボニル
ジイミダゾール(Angew.Chem.Int.Ed.Engl., Vol. 1, 35
1(1962) などの縮合剤の存在下、場合によっては、たと
えば、N−ヒドロキシスクシンイミド(HONSu)、
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)、3−
ヒドロキシ−4−オキソ−3,4−ジヒドロー1,2,
3−ベンゾトリアジン(HOObt)などの添加剤を加
えて、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミドなどのアミド系溶媒、ピリジンなどの塩基性溶
媒、またはそれらの混合溶媒中で行なうことが好まし
い。
ボジイミド(DCC)、ジイソプロピルカルボジイミド
(DIPC)、1−エチル−3−(3−ジメチルアミノ
プロピル)−カルボジイミド(WSC)、ベンゾトリア
ゾール−1−イル−トリス(ジメチルアミノ)ホスホニ
ウム・ヘキサフルオロリン化物塩(BOP)、ジフェニ
ルホスホニルアジド(DPPA)、N,N−カルボニル
ジイミダゾール(Angew.Chem.Int.Ed.Engl., Vol. 1, 35
1(1962) などの縮合剤の存在下、場合によっては、たと
えば、N−ヒドロキシスクシンイミド(HONSu)、
1−ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBt)、3−
ヒドロキシ−4−オキソ−3,4−ジヒドロー1,2,
3−ベンゾトリアジン(HOObt)などの添加剤を加
えて、たとえば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの
芳香族炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4−
ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム、1,2−ジクロロエタンなどのハロゲン化
炭化水素系溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ
トアミドなどのアミド系溶媒、ピリジンなどの塩基性溶
媒、またはそれらの混合溶媒中で行なうことが好まし
い。
【0034】前記製造において、反応に活性な水酸基、
アミノ基、カルボキシル基などを保護する保護基として
は、有機合成化学の分野で使われる通常の保護基を用い
ればよく、このような保護基の導入および除去は通常の
方法に従って行うことができる(例えば、Protective G
roups in Organic Synthesys, JOHN WILLEY & SONS,199
1年)。例えば、水酸基の保護基としては、メトキシメ
チル基、テトラヒドロピラニル基などが挙げられ、アミ
ノ基の保護基としてはtert−ブチルオキシカルボニル基
などが挙げられる。このような水酸基の保護基は、例え
ば、塩基、硫酸、酢酸などの酸の存在下、含水メタノー
ル、含水エタノール、含水テトラヒドロフランなどの溶
媒中で反応させることにより除去することができ、アミ
ノ基の保護基は、例えば、塩酸、トリフルオロ酢酸など
の酸の存在下、含水テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、含水メタノールなどの溶媒中で反応
させることにより除去することができる。
アミノ基、カルボキシル基などを保護する保護基として
は、有機合成化学の分野で使われる通常の保護基を用い
ればよく、このような保護基の導入および除去は通常の
方法に従って行うことができる(例えば、Protective G
roups in Organic Synthesys, JOHN WILLEY & SONS,199
1年)。例えば、水酸基の保護基としては、メトキシメ
チル基、テトラヒドロピラニル基などが挙げられ、アミ
ノ基の保護基としてはtert−ブチルオキシカルボニル基
などが挙げられる。このような水酸基の保護基は、例え
ば、塩基、硫酸、酢酸などの酸の存在下、含水メタノー
ル、含水エタノール、含水テトラヒドロフランなどの溶
媒中で反応させることにより除去することができ、アミ
ノ基の保護基は、例えば、塩酸、トリフルオロ酢酸など
の酸の存在下、含水テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、クロロホルム、含水メタノールなどの溶媒中で反応
させることにより除去することができる。
【0035】カルボキシル基を保護する場合の保護の形
態としては、例えばtert−ブチルエステル、オルトエス
テル、酸アミドなどが挙げられる。このような保護基の
除去は、tert−ブチルエステルの場合は、例えば塩酸の
存在下、含水溶媒中で反応させることにより行われ、オ
ルトエステルの場合は、例えば、含水メタノール、含水
テトラヒドロフラン、含水1,2−ジメトキシエタンな
どの溶媒中で酸で処理し、引き続いて水酸化ナトリウム
などのアルカリで処理することにより行われ、酸アミド
の場合は、例えば、塩酸、硫酸などの酸の存在下、水、
含水メタノール、含水テトラヒドロフランなどの溶媒中
で反応させることにより行うことができる。
態としては、例えばtert−ブチルエステル、オルトエス
テル、酸アミドなどが挙げられる。このような保護基の
除去は、tert−ブチルエステルの場合は、例えば塩酸の
存在下、含水溶媒中で反応させることにより行われ、オ
ルトエステルの場合は、例えば、含水メタノール、含水
テトラヒドロフラン、含水1,2−ジメトキシエタンな
どの溶媒中で酸で処理し、引き続いて水酸化ナトリウム
などのアルカリで処理することにより行われ、酸アミド
の場合は、例えば、塩酸、硫酸などの酸の存在下、水、
含水メタノール、含水テトラヒドロフランなどの溶媒中
で反応させることにより行うことができる。
【0036】前記の製法の原料化合物となる、一般式
(2)および一般式(3)に示されたカルボン酸類は、
下記の文献に記載されて既知であるか同文献記載の方法
と同様にして合成することができる。 文献: (1)特開平7−188166号公報 (2)Chem. Pharm. Bull.(1977), 25, 3023-3033 (3)J. Med. Chem.(1994), 37, 1153-1164 (4) J. Am. Chem. Soc.(1955), 77, 3334-3336 (5)特開昭63−501361号公報、など なお、前記一般式(3)に示されたカルボン酸は、下記
一般式(1e)に示されたエステルを通常行われる加水
分解反応に付すことにより容易に導くことができ、一般
式(2)に示されたカルボン酸の反応性誘導体は、一般
式(3)に示されたカルボン酸から通常行われる一般的
方法に従って合成することができる。そこで、以下に一
般式(1e)で表されるエステルの合成方法を示す。
(2)および一般式(3)に示されたカルボン酸類は、
下記の文献に記載されて既知であるか同文献記載の方法
と同様にして合成することができる。 文献: (1)特開平7−188166号公報 (2)Chem. Pharm. Bull.(1977), 25, 3023-3033 (3)J. Med. Chem.(1994), 37, 1153-1164 (4) J. Am. Chem. Soc.(1955), 77, 3334-3336 (5)特開昭63−501361号公報、など なお、前記一般式(3)に示されたカルボン酸は、下記
一般式(1e)に示されたエステルを通常行われる加水
分解反応に付すことにより容易に導くことができ、一般
式(2)に示されたカルボン酸の反応性誘導体は、一般
式(3)に示されたカルボン酸から通常行われる一般的
方法に従って合成することができる。そこで、以下に一
般式(1e)で表されるエステルの合成方法を示す。
【0037】(合成法−1)一般式(1e)の化合物
は、下記の反応式に従って合成することができる。
は、下記の反応式に従って合成することができる。
【化11】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y1 、Y2 、Y3 、
Y4 及びZは前記と同様の意味を表わし、Rは低級アル
キル基を表わす。)
Y4 及びZは前記と同様の意味を表わし、Rは低級アル
キル基を表わす。)
【0038】工程(a)のニトロ化反応は、鉱酸または
有機カルボン酸中で、ニトロ化剤として濃硝酸もしくは
発煙硝酸、または硝酸ナトリウムなどを用いて行うこと
ができる。また、クロロホルムや塩化メチレンなどのハ
ロゲン化溶媒中、テトラフルオロホウ酸ニトロニウムで
処理する方法も用いることができる。
有機カルボン酸中で、ニトロ化剤として濃硝酸もしくは
発煙硝酸、または硝酸ナトリウムなどを用いて行うこと
ができる。また、クロロホルムや塩化メチレンなどのハ
ロゲン化溶媒中、テトラフルオロホウ酸ニトロニウムで
処理する方法も用いることができる。
【0039】工程(b)のアシル化反応は、不活性なプ
ロトン溶媒または非プロトン溶媒中で強塩基の存在下
で、しゅう酸ジエチル等のしゅう酸ジエステル類と反応
させることにより行われる。本工程で用いられる溶媒と
しては、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなど)、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アルコール類(例えば、メ
タノール、エタノールなど)、ベンゼンまたは、これら
の溶媒の混合物があげられる。また、本工程で用いられ
る塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、n−
ブチルリチウム、水素化ナトリウム、金属アルコラート
(例えば、ナトリウムメトキシド、カリウムエトキシ
ド、カリウムtert−ブトキシドなど)などがあげられ
る。
ロトン溶媒または非プロトン溶媒中で強塩基の存在下
で、しゅう酸ジエチル等のしゅう酸ジエステル類と反応
させることにより行われる。本工程で用いられる溶媒と
しては、エーテル類(例えば、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフランなど)、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アルコール類(例えば、メ
タノール、エタノールなど)、ベンゼンまたは、これら
の溶媒の混合物があげられる。また、本工程で用いられ
る塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド、n−
ブチルリチウム、水素化ナトリウム、金属アルコラート
(例えば、ナトリウムメトキシド、カリウムエトキシ
ド、カリウムtert−ブトキシドなど)などがあげられ
る。
【0040】工程(c)の還元閉環反応は、メタノー
ル、エタノールまたは、酢酸などのプロトン性溶媒中、
あるいはアセトン、テトラヒドロフラン、トルエン、
N,N−ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性溶媒
中、還元剤として三塩化チタン水溶液、塩化スズ、亜
鉛、鉄粉、ギ酸−パラジウム炭素などを用いることによ
り行うことができる。
ル、エタノールまたは、酢酸などのプロトン性溶媒中、
あるいはアセトン、テトラヒドロフラン、トルエン、
N,N−ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性溶媒
中、還元剤として三塩化チタン水溶液、塩化スズ、亜
鉛、鉄粉、ギ酸−パラジウム炭素などを用いることによ
り行うことができる。
【0041】工程(d)は、不活性な溶媒(例えば、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランな
ど)中、塩基の存在下、R1 X(R1 は前記と同様の意
味を表わし、Xはフッ素、塩基、臭素、ヨウ素、メタン
スルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシなどの脱離基を表わ
す)を反応させることにより行われる。本工程で用いら
れる塩基としては、無機塩基(例えば、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウムなど)、有機塩基(例えば、トリエチル
アミン、ピリジンなど)、アルカリ金属の水素化物(例
えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)などが
あげられる。
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフランな
ど)中、塩基の存在下、R1 X(R1 は前記と同様の意
味を表わし、Xはフッ素、塩基、臭素、ヨウ素、メタン
スルホニルオキシ、p−トルエンスルホニルオキシ、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシなどの脱離基を表わ
す)を反応させることにより行われる。本工程で用いら
れる塩基としては、無機塩基(例えば、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウムなど)、有機塩基(例えば、トリエチル
アミン、ピリジンなど)、アルカリ金属の水素化物(例
えば、水素化ナトリウム、水素化カリウムなど)などが
あげられる。
【0042】(合成法−2)一般式(2f)の化合物
は、下記の反応式に従って合成することができる。
は、下記の反応式に従って合成することができる。
【化12】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 およびRは前記と同様
の意味を表わし、R′は低級アルキル基を表わし、Yは
非置換または前記置換基Zを有する炭素原子数2ないし
3のアルキレン鎖を表わす。)
の意味を表わし、R′は低級アルキル基を表わし、Yは
非置換または前記置換基Zを有する炭素原子数2ないし
3のアルキレン鎖を表わす。)
【0043】化合物(2c)は、文献公知の方法(例え
ば、特開昭48-22495公報;特開平6-287192号公報など)
と同様にして不活性溶媒(例えば、トルエン、ベンゼ
ン、テトラヒドロフランなど)中、酸(例えば、酢酸、
p−トルエンスルホン酸など)存在下にて、フェニルヒ
ドラジン(2a)とケトン(2b)を反応させるフィッ
シャー・インドール縮合反応により調製することができ
る。
ば、特開昭48-22495公報;特開平6-287192号公報など)
と同様にして不活性溶媒(例えば、トルエン、ベンゼ
ン、テトラヒドロフランなど)中、酸(例えば、酢酸、
p−トルエンスルホン酸など)存在下にて、フェニルヒ
ドラジン(2a)とケトン(2b)を反応させるフィッ
シャー・インドール縮合反応により調製することができ
る。
【0044】工程(e)加水分解反応は、酸性条件(例
えば、酢酸−硫酸など)下にて行うことがきる。
えば、酢酸−硫酸など)下にて行うことがきる。
【0045】工程(f)の閉環反応は、通常知られてい
るフリーデル・クラフツ反応を用いて行うことができ
る。方法としては、例えば、カルボン酸を塩化チオニル
あるいは五塩化リンなどで酸ハライドとしてから塩化ア
ルミニウム、五塩化アンチモン、三塩化鉄、四塩化ス
ズ、四塩化チタン、塩化亜鉛、三ふっ化ほう素などのル
イス酸を用いて閉環反応を行うことができる。本工程に
用いる溶媒としては、ニトロベンゼン、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチルなどを用いることができる。又、別法と
しては、カルボン酸をPPA(ポリリン酸)中にて反応
させることにより、閉環反応を行うことができる。
るフリーデル・クラフツ反応を用いて行うことができ
る。方法としては、例えば、カルボン酸を塩化チオニル
あるいは五塩化リンなどで酸ハライドとしてから塩化ア
ルミニウム、五塩化アンチモン、三塩化鉄、四塩化ス
ズ、四塩化チタン、塩化亜鉛、三ふっ化ほう素などのル
イス酸を用いて閉環反応を行うことができる。本工程に
用いる溶媒としては、ニトロベンゼン、1,2−ジクロ
ロエタン、クロロホルム、アセトン、テトラヒドロフラ
ン、酢酸エチルなどを用いることができる。又、別法と
しては、カルボン酸をPPA(ポリリン酸)中にて反応
させることにより、閉環反応を行うことができる。
【0046】工程(g)は、前出の工程(d)と同様に
行うことができる。さらに、化合物(2f)は、例え
ば、下記のスキームに示すような化合物(2g)、(2
h)、(2i)に変換することができる。
行うことができる。さらに、化合物(2f)は、例え
ば、下記のスキームに示すような化合物(2g)、(2
h)、(2i)に変換することができる。
【化13】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y及びRは前記と同
様の意味を有する。R'5は前記R5 と同様の意味を表わ
すが、但し水素原子ではない。)
様の意味を有する。R'5は前記R5 と同様の意味を表わ
すが、但し水素原子ではない。)
【0047】工程(h)の還元は、例えば、トリフルオ
ロ酢酸中、トリエチルシランを用いて行うことができ
る。工程(i)の還元は、例えば、水素化ホウ素ナトリ
ウムを用いて行うことができる。工程(j)は、前出の
工程(d)と同様に行うことができる。
ロ酢酸中、トリエチルシランを用いて行うことができ
る。工程(i)の還元は、例えば、水素化ホウ素ナトリ
ウムを用いて行うことができる。工程(j)は、前出の
工程(d)と同様に行うことができる。
【0048】(合成法−3)一般式(3d)の化合物
は、下記の反応式に従って合成することができる。
は、下記の反応式に従って合成することができる。
【化14】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y、R及びR’は前
記と同じ意味を表わす。)
記と同じ意味を表わす。)
【0049】化合物(3a)のインドール−2−カルボ
ン酸誘導体は、通常、インドール−2−カルボン酸の合
成方法としてよく知られているフィッシャー・インドー
ル縮合反応、ライセルト反応、あるいはHemetsberger法
などを用いて調製することができる。工程(k)の加水
分解反応は、前出の工程(e)と同様に行うことができ
る。工程(l)の閉環反応は、前出の工程(f)と同様
に行うことができる。工程(m)は、前出の工程(d)
と同様に行うことができる。
ン酸誘導体は、通常、インドール−2−カルボン酸の合
成方法としてよく知られているフィッシャー・インドー
ル縮合反応、ライセルト反応、あるいはHemetsberger法
などを用いて調製することができる。工程(k)の加水
分解反応は、前出の工程(e)と同様に行うことができ
る。工程(l)の閉環反応は、前出の工程(f)と同様
に行うことができる。工程(m)は、前出の工程(d)
と同様に行うことができる。
【0050】さらに、化合物(3d)は、例えば下記の
スキームに示すような化合物(3e)、(3f)、(3
g)に変換することができる。
スキームに示すような化合物(3e)、(3f)、(3
g)に変換することができる。
【化15】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y、R及びR'5は前
記と同じ意味を表わす。) 工程(n)、(o)および(p)は、各々、前出の工程
(h)、(i)および(j)と同様に行うことができ
る。
記と同じ意味を表わす。) 工程(n)、(o)および(p)は、各々、前出の工程
(h)、(i)および(j)と同様に行うことができ
る。
【0051】なお、上記合成法−1〜3において、各中
間体化合物がカルボキシル基や水酸基、アミノ基のよう
な、反応に活性な基を有する場合には、これらの基をあ
らかじめ適当な保護基で保護しておき、各反応を実施し
た後に必要に応じて保護基を除去することにより、目的
とする一般式(2)および一般式(3)で示した化合物
を製造することができる。上記のようにして製造される
一般式(1)で表わされる化合物として、例えば下記の
表1〜9に示す化合物が挙げられる。
間体化合物がカルボキシル基や水酸基、アミノ基のよう
な、反応に活性な基を有する場合には、これらの基をあ
らかじめ適当な保護基で保護しておき、各反応を実施し
た後に必要に応じて保護基を除去することにより、目的
とする一般式(2)および一般式(3)で示した化合物
を製造することができる。上記のようにして製造される
一般式(1)で表わされる化合物として、例えば下記の
表1〜9に示す化合物が挙げられる。
【0052】
【化16】
【0053】
【表1】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── H CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- H H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- H H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- H OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- H H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- H H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- H Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- H H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- H H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- H F H H -CH2- -CH2- -CH2- H H F H -CH2- -CH2- -CH2- H H H F -CH2- -CH2- -CH2- H CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- H H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- H H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0054】
【表2】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── CH3 CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH3 OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH3 Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- CH3 F H H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H F H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H F -CH2- -CH2- -CH2- CH3 CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0055】
【表3】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── CH(CH3)2 CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 F H H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H F H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H F -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0056】
【表4】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── CH2Ph CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph F H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H F H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H F -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0057】
【表5】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── CH2CH2OCH3 CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 F H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H F H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H F -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0058】
【表6】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── H H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- CH3 H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- CH2Ph H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- H H H H -CO- -CH2- -CH2- CH3 H H H -CO- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H H -CO- -CH2- -CH2- CH2Ph H H H -CO- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H H -CO- -CH2- -CH2- H F H H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- CH3 H F H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H F -C(=CH2)- -CH2- -CH2- CH2Ph CF3 H H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H CF3 H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0059】
【表7】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 −v−w− −x− ─────────────────────────────────── H H H H -CH=CH- -CH2- CH3 H H H -CH=CH- -CH2- CH(CH3)2 H H H -CH=CH- -CH2- CH2Ph H H H -CH=CH- -CH2- CH2CH2OCH3 H H H -CH=CH- -CH2- ───────────────────────────────────
【0060】
【表8】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 −v− −w−x− ─────────────────────────────────── H H H H -CH2- -CH=CH- CH3 H H H -CH2- -CH=CH- CH(CH3)2 H H H -CH2- -CH=CH- CH2Ph H H H -CH2- -CH=CH- CH2CH2OCH3 H H H -CH2- -CH=CH- ───────────────────────────────────
【0061】
【表9】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- ─────────────────────────────────── H H H H -CH2- -CH2- -CO- CH3 H H H -CH2- -CH2- -CO- CH(CH3)2 H H H -CH2- -CH2- -CO- CH2Ph H H H -CH2- -CH2- -CO- CH2CH2OCH3 H H H -CH2- -CH2- -CO- H H H H -CH2- -CH2- -C(=CH)- CH3 H H H -CH2- -CH2- -C(=CH)- CH(CH3)2 H H H -CH2- -CH2- -C(=CH)- CH2Ph H H H -CH2- -CH2- -C(=CH)- CH2CH2OCH3 H H H -CH2- -CH2- -C(=CH)- H F H H -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH3 H F H -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH(CH3)2 H H F -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH2Ph CF3 H H -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH2CH2OCH3 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH(CH3)- ───────────────────────────────────
【0062】同様に、下記の表10〜18に示す化合物
を製造することができる。
を製造することができる。
【化17】
【0063】
【表10】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── H CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H F H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H F H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H H F -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- H H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0064】
【表11】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── CH3 CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 F H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H F H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H F -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0065】
【表12】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── CH(CH3)2 CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 F H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H F H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H F -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0066】
【表13】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── CH2Ph CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph F H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H F H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H F -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0067】
【表14】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── CH2CH2OCH3 CH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H CH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H CH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 OCH3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H OCH3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H OCH3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 Cl H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H Cl H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H Cl -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 F H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H F H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H F -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H CF3 -CH2- -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0068】
【表15】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── H H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H H -CH(CH3)- -CH2- -CH2- -CH2- H H H H -CO- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H H H -CO- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H H -CO- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph H H H -CO- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H H -CO- -CH2- -CH2- -CH2- H F H H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- -CH2- CH3 H F H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H F -C(=CH2)- -CH2- -CH2- -CH2- CH2Ph CF3 H H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H CF3 H -C(=CH2)- -CH2- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0069】
【表16】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 −v−w− -x- -y- ─────────────────────────────────── H H H H -CH=CH- -CH2- -CH2- CH3 H H H -CH=CH- -CH2- -CH2- CH(CH3)2 H H H -CH=CH- -CH2- -CH2- CH2Ph H H H -CH=CH- -CH2- -CH2- CH2CH2OCH3 H H H -CH=CH- -CH2- -CH2- ───────────────────────────────────
【0070】
【表17】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- −x−y− ─────────────────────────────────── H H H H -CH2- -CH2- -CH=CH- CH3 H H H -CH2- -CH2- -CH=CH- CH(CH3)2 H H H -CH2- -CH2- -CH=CH- CH2Ph H H H -CH2- -CH2- -CH=CH- CH2CH2OCH3 H H H -CH2- -CH2- -CH=CH- ───────────────────────────────────
【0071】
【表18】 ─────────────────────────────────── R1 R2 R3 R4 -v- -w- -x- -y- ─────────────────────────────────── H H H H -CH2- -CH2- -CH2- -CO- CH3 H H H -CH2- -CH2- -CH2- -CO- CH(CH3)2 H H H -CH2- -CH2- -CH2- -CO- CH2Ph H H H -CH2- -CH2- -CH2- -CO- CH2CH2OCH3 H H H -CH2- -CH2- -CH2- -CO- H H H H -CH2- -CH2- -CH2- -C(=CH2)- CH3 H H H -CH2- -CH2- -CH2- -C(=CH2)- CH(CH3)2 H H H -CH2- -CH2- -CH2- -C(=CH2)- CH2Ph H H H -CH2- -CH2- -CH2- -C(=CH2)- CH2CH2OCH3 H H H -CH2- -CH2- -CH2- -C(=CH2)- H F H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH3 H F H -CH2- -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH(CH3)2 H H F -CH2- -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH2Ph CF3 H H -CH2- -CH2- -CH2- -CH(CH3)- CH2CH2OCH3 H CF3 H -CH2- -CH2- -CH2- -CH(CH3)- ───────────────────────────────────
【0072】本発明の置換グアニジン誘導体は、そのグ
アニジン部分を前記式(1)のとおり表記したが、当該
化合物には互変異性が存在し得る。すなわち、グアニジ
ン部分がジアミノメチレンアミノである互変体〔Ind
−C(O)N=C(NH2 )2 〕とアミノイミノメチル
アミノである互変体〔Ind−C(O)NH−C(=N
H)NH2 〕とが存在し得、両者は状態が相違するだけ
で同一の化合物である。したがって、本発明はこれらの
いずれの互変体をも包含するものである(上記式中、I
ndはインドール部分を示す)。
アニジン部分を前記式(1)のとおり表記したが、当該
化合物には互変異性が存在し得る。すなわち、グアニジ
ン部分がジアミノメチレンアミノである互変体〔Ind
−C(O)N=C(NH2 )2 〕とアミノイミノメチル
アミノである互変体〔Ind−C(O)NH−C(=N
H)NH2 〕とが存在し得、両者は状態が相違するだけ
で同一の化合物である。したがって、本発明はこれらの
いずれの互変体をも包含するものである(上記式中、I
ndはインドール部分を示す)。
【0073】一般式(1)の化合物は、光学的非対称中
心を有するものも含まれ、したがって、これらはセラミ
体としてまたは、光学活性の出発材料が用いられた場合
には光学活性型で得ることができる。必要であれば、得
られたセラミ体を、物理的にまたは化学的にそれらの光
学対掌体に自体公知の方法によって分割することができ
る。好ましくは、光学活性分割剤を用いる反応によって
セラミ体からジアステレオマーを形成する。異なるかた
ちのジアステレオマーは、例えば分別結晶などの自体公
知の方法によって分割することができる。
心を有するものも含まれ、したがって、これらはセラミ
体としてまたは、光学活性の出発材料が用いられた場合
には光学活性型で得ることができる。必要であれば、得
られたセラミ体を、物理的にまたは化学的にそれらの光
学対掌体に自体公知の方法によって分割することができ
る。好ましくは、光学活性分割剤を用いる反応によって
セラミ体からジアステレオマーを形成する。異なるかた
ちのジアステレオマーは、例えば分別結晶などの自体公
知の方法によって分割することができる。
【0074】一般式(1)で表される化合物は、必要に
応じて医薬として許容される無機酸または有機酸との酸
付加塩とすることができる。そのような酸付加塩として
は、たとえば塩基、臭化水素酸、硫酸、リン酸などの鉱
酸との塩;ギ酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸、シュウ
酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、グ
ルタミン酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、
ヒドロキシベンゼンスルホン酸、ジヒドロキシベンゼン
スルホン酸などのスルホン酸との塩等が挙げられる。ま
た、一般式(1)で表される化合物およびその酸付加塩
は、それらの無水物、水和物または溶媒和物であっても
よい。
応じて医薬として許容される無機酸または有機酸との酸
付加塩とすることができる。そのような酸付加塩として
は、たとえば塩基、臭化水素酸、硫酸、リン酸などの鉱
酸との塩;ギ酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸、シュウ
酸、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、アスパラギン酸、グ
ルタミン酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホ
ン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、
ヒドロキシベンゼンスルホン酸、ジヒドロキシベンゼン
スルホン酸などのスルホン酸との塩等が挙げられる。ま
た、一般式(1)で表される化合物およびその酸付加塩
は、それらの無水物、水和物または溶媒和物であっても
よい。
【0075】本発明化合物は、ナトリウム/プロトン
(Na+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有し、ナトリウ
ム/プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系の異常に起因
する疾患、例えば、高血圧、虚血もしくは虚血再潅流に
よる臓器障害、不整脈、狭心症、糖尿病、心肥大、脳虚
血障害、細胞の過剰増殖が原因となる疾患または内皮細
胞の障害による疾患等の治療、予防薬として有用であ
る。
(Na+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有し、ナトリウ
ム/プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系の異常に起因
する疾患、例えば、高血圧、虚血もしくは虚血再潅流に
よる臓器障害、不整脈、狭心症、糖尿病、心肥大、脳虚
血障害、細胞の過剰増殖が原因となる疾患または内皮細
胞の障害による疾患等の治療、予防薬として有用であ
る。
【0076】本発明化合物は、これらを医薬として用い
るにあたり経口的または非経口的に投与することができ
る。すなわち通常用いられる投与形態、例えば粉末、顆
粒、錠剤、カプセル剤、シロップ剤、懸濁液等の剤型で
経口的に投与することができ、あるいは、例えば、その
溶液、乳剤、懸濁液の剤型にしたものを注射の型で非経
口投与することができる。坐剤の型で直腸投与すること
もできる。前記の適当な投与剤型は、例えば、許容され
る通常の担体、賦型剤、結合剤、安定剤、希釈剤に活性
化合物を配合することにより製造することができる。注
射剤型で用いる場合には、例えば、許容される緩衝剤、
溶解補助剤、等張剤を添加することもできる。投与量お
よび投与回数は、例えば、対象疾患、症状、年齢、体
重、投与形態によって異なるが、通常は成人に対し1日
あたり0.1 〜2000mg好ましくは1〜200mg を1回または
数回に分けて投与することができる。
るにあたり経口的または非経口的に投与することができ
る。すなわち通常用いられる投与形態、例えば粉末、顆
粒、錠剤、カプセル剤、シロップ剤、懸濁液等の剤型で
経口的に投与することができ、あるいは、例えば、その
溶液、乳剤、懸濁液の剤型にしたものを注射の型で非経
口投与することができる。坐剤の型で直腸投与すること
もできる。前記の適当な投与剤型は、例えば、許容され
る通常の担体、賦型剤、結合剤、安定剤、希釈剤に活性
化合物を配合することにより製造することができる。注
射剤型で用いる場合には、例えば、許容される緩衝剤、
溶解補助剤、等張剤を添加することもできる。投与量お
よび投与回数は、例えば、対象疾患、症状、年齢、体
重、投与形態によって異なるが、通常は成人に対し1日
あたり0.1 〜2000mg好ましくは1〜200mg を1回または
数回に分けて投与することができる。
【0077】
【実施例】以下に本発明を、参考例、実施例および試験
例により、さらに具体的に説明するが、本発明はもとよ
りこれに限定されるものではない。
例により、さらに具体的に説明するが、本発明はもとよ
りこれに限定されるものではない。
【0078】参考例1 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1−メチル−ベ
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラートの合成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキシラート(1.00g、4.36mm
ol)のN,N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液中
に60%水素化ナトリウム(0.19g、4.80mmol)を
加え、室温にて30分間攪拌した。つづいてヨウ化メチ
ル(1.86g、13.1mmol)を加え、さらに室温にて2
時間攪拌してから、反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチル
で抽出(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1.5/98.5
で溶出)で精製することにより、エチル1,3,4,5
−テトラヒドロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール
−2−カルボキシラート(1.03g)を得た。 融点 80〜81℃(イソプロピルアルコールより再結
晶)
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラートの合成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキシラート(1.00g、4.36mm
ol)のN,N−ジメチルホルムアミド(20ml)溶液中
に60%水素化ナトリウム(0.19g、4.80mmol)を
加え、室温にて30分間攪拌した。つづいてヨウ化メチ
ル(1.86g、13.1mmol)を加え、さらに室温にて2
時間攪拌してから、反応液を氷水中に注ぎ、酢酸エチル
で抽出(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウム水溶
液で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1.5/98.5
で溶出)で精製することにより、エチル1,3,4,5
−テトラヒドロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール
−2−カルボキシラート(1.03g)を得た。 融点 80〜81℃(イソプロピルアルコールより再結
晶)
【0079】参考例1に示した方法に準じて、以下に示
す化合物を合成した。 (1) エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1−メチ
ル−5−オキソ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボ
キシラート 融点 111〜112℃(イソプロピルアルコールより
再結晶) (2) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−1−メチ
ル−6−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール
−2−カルボキシラート 融点 109〜110℃(イソプロピルアルコールより
再結晶) (3) メチル1,3,4,5−テトラヒドロ−7−クロ
ロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボ
キシラート 融点 136〜137℃(イソプロピルアルコールより
再結晶)
す化合物を合成した。 (1) エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1−メチ
ル−5−オキソ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボ
キシラート 融点 111〜112℃(イソプロピルアルコールより
再結晶) (2) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−1−メチ
ル−6−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール
−2−カルボキシラート 融点 109〜110℃(イソプロピルアルコールより
再結晶) (3) メチル1,3,4,5−テトラヒドロ−7−クロ
ロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボ
キシラート 融点 136〜137℃(イソプロピルアルコールより
再結晶)
【0080】参考例2 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒドロキシ
−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラートの合
成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベ
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラート(0.40
g、1.64mmol)、水素化ほう素ナトリウム(0.062
g、1.64mmol)、エタノール(2ml)及びテトラヒド
ロフラン(8ml)の混合物を0〜5℃にて1.5時間攪拌
した。反応液を5%塩化ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出(3回)した。抽出液を5%塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄(2回)してから、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−
ヘキサン=15/85で溶出)で精製することにより、
エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒドロキシ
−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラート(0.
40g)を得た。 融点 166〜170℃(分解)(トルエンより再結
晶)
−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラートの合
成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベ
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラート(0.40
g、1.64mmol)、水素化ほう素ナトリウム(0.062
g、1.64mmol)、エタノール(2ml)及びテトラヒド
ロフラン(8ml)の混合物を0〜5℃にて1.5時間攪拌
した。反応液を5%塩化ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢
酸エチルで抽出(3回)した。抽出液を5%塩化ナトリ
ウム水溶液で洗浄(2回)してから、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−
ヘキサン=15/85で溶出)で精製することにより、
エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒドロキシ
−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラート(0.
40g)を得た。 融点 166〜170℃(分解)(トルエンより再結
晶)
【0081】参考例2に示した方法に準じて、以下に示
す化合物を合成した。 (1) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6−ヒド
ロキシ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキシラート 融点 136〜138℃(トルエンより再結晶) (2) エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒド
ロキシ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキシラート 融点 102〜103℃(トルエン/n−ヘキサンより
再結晶) (3) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6−ヒド
ロキシ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インド
ール−2−カルボキシラート 融点 88〜89℃(トルエン/n−ヘキサンより再結
晶)
す化合物を合成した。 (1) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6−ヒド
ロキシ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキシラート 融点 136〜138℃(トルエンより再結晶) (2) エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒド
ロキシ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキシラート 融点 102〜103℃(トルエン/n−ヘキサンより
再結晶) (3) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6−ヒド
ロキシ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インド
ール−2−カルボキシラート 融点 88〜89℃(トルエン/n−ヘキサンより再結
晶)
【0082】参考例3 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−
1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシ
ラートの合成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒドロキシ
−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキ
シラート(0.25g、0.96mmol)を、60%水素化ナ
トリウム(0.039g、0.96mmol)のテトラヒドロフ
ラン(10ml)懸濁液中に加え、室温にて20分間攪拌
した。つづいて反応液を0〜5℃まで冷却してからヨウ
化メチル(0.27g、1.93mmol)を加え、0〜5℃に
て1時間攪拌してから、さらに室温にて2.5時間攪拌し
た。反応液を5%塩化ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄(2回)してから、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘ
キサン=2/98で溶出)で精製することにより、エチ
ル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−1−
メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラー
ト(0.16g)を得た。 融点 63〜64℃(n−ヘキサンより再結晶)
1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシ
ラートの合成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒドロキシ
−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキ
シラート(0.25g、0.96mmol)を、60%水素化ナ
トリウム(0.039g、0.96mmol)のテトラヒドロフ
ラン(10ml)懸濁液中に加え、室温にて20分間攪拌
した。つづいて反応液を0〜5℃まで冷却してからヨウ
化メチル(0.27g、1.93mmol)を加え、0〜5℃に
て1時間攪拌してから、さらに室温にて2.5時間攪拌し
た。反応液を5%塩化ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸
エチルで抽出(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウ
ム水溶液で洗浄(2回)してから、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘ
キサン=2/98で溶出)で精製することにより、エチ
ル1,3,4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−1−
メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラー
ト(0.16g)を得た。 融点 63〜64℃(n−ヘキサンより再結晶)
【0083】参考例3に示した方法に準じて、以下に示
す化合物を合成した。 (1) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6−メト
キシ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドー
ル−2−カルボキシラート 油状物1 Hnmr(CDCl3 )δ;1.40〜1.45(3H, m) 、1.8
1〜1.89(1H, m) 、2.19〜2.35(3H, m) 、3.19〜3.29(1
H, m) 、3.35(3H, s) 、3.38〜3.44(1H, m) 、3.98(3H,
s) 、4.40(2H, dd, J=7.26, 14.19Hz) 、4.55〜4.57(1
H, m) 、7.12〜7.15(1H, m) 、7.26〜7.34(2H, m).
す化合物を合成した。 (1) エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6−メト
キシ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドー
ル−2−カルボキシラート 油状物1 Hnmr(CDCl3 )δ;1.40〜1.45(3H, m) 、1.8
1〜1.89(1H, m) 、2.19〜2.35(3H, m) 、3.19〜3.29(1
H, m) 、3.35(3H, s) 、3.38〜3.44(1H, m) 、3.98(3H,
s) 、4.40(2H, dd, J=7.26, 14.19Hz) 、4.55〜4.57(1
H, m) 、7.12〜7.15(1H, m) 、7.26〜7.34(2H, m).
【0084】参考例4 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1−ベンジル−
ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラートの合成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキシラート(0.40g、1.74mm
ol)を、60%水素化ナトリウム(0.077g、1.92
mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)懸濁液
中に加え、室温にて30分間攪拌した。次にベンジルブ
ロマイド(0.36g、2.09mmol)を加え、さらに1.5
時間攪拌した。以下の後処理は、参考例1と同様に行う
ことにより、エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1
−ベンジル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシ
ラートの油状物を得た。1 Hnmr(CDCl3 )δ;1.32〜1.37(3H, m) 、2.0
6〜2.15(2H, m) 、2.95(2H, t, J=5.94Hz) 、3.12〜3.1
6(2H, m) 、4.27〜4.35(2H, m) 、5.76(2H, s)、6.84(1
H, d, J=6.27Hz) 、7.06〜7.11(3H, m) 、7.17〜7.27(4
H, m).
ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラートの合成 エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキシラート(0.40g、1.74mm
ol)を、60%水素化ナトリウム(0.077g、1.92
mmol)のN,N−ジメチルホルムアミド(5ml)懸濁液
中に加え、室温にて30分間攪拌した。次にベンジルブ
ロマイド(0.36g、2.09mmol)を加え、さらに1.5
時間攪拌した。以下の後処理は、参考例1と同様に行う
ことにより、エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1
−ベンジル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシ
ラートの油状物を得た。1 Hnmr(CDCl3 )δ;1.32〜1.37(3H, m) 、2.0
6〜2.15(2H, m) 、2.95(2H, t, J=5.94Hz) 、3.12〜3.1
6(2H, m) 、4.27〜4.35(2H, m) 、5.76(2H, s)、6.84(1
H, d, J=6.27Hz) 、7.06〜7.11(3H, m) 、7.17〜7.27(4
H, m).
【0085】参考例4に示した方法に準じて、以下のと
おり合成した。 (1) エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1−イソ
プロピル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ートの合成 上記参考例4において、ベンジルブロマイドのかわり
に、2−ヨードプロパンを用いる以外は、同様の方法を
用いることにより、エチル1,3,4,5−テトラヒド
ロ−1−イソプロピル−ベンズ〔cd〕インドール−2−
カルボキシラートを得た。 融点 60〜63℃(n−ヘキサンより再結晶)
おり合成した。 (1) エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1−イソ
プロピル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ートの合成 上記参考例4において、ベンジルブロマイドのかわり
に、2−ヨードプロパンを用いる以外は、同様の方法を
用いることにより、エチル1,3,4,5−テトラヒド
ロ−1−イソプロピル−ベンズ〔cd〕インドール−2−
カルボキシラートを得た。 融点 60〜63℃(n−ヘキサンより再結晶)
【0086】参考例5 エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−1−メチル−6
−メチレン−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2
−カルボキシラートの合成 60%水素化ナトリウム(0.13g、3.17mmol)をジ
メチルスルホキシド(5ml)中に加え、75℃にて45
分間攪拌した。反応液を室温まで冷却してから、メチル
トリフェニルホスホニウムヨウーダイド(1.28g、3.
17mmol)のジメチルスルホキシド(10ml)溶液を加
え、60℃にて10分間攪拌した。再び反応液を室温ま
で冷却してから、エチル3,4,5,6−テトラヒドロ
−1−メチル−6−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕
インドール−2−カルボキシラート(0.86g、3.17
mmol)を加え、このまま室温にて一晩放置した。反応液
を5%塩化ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウム水溶液で
洗浄(2回)してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1
/99で溶出)で精製することにより、エチル3,4,
5,6−テトラヒドロ−1−メチル−6−メチレン−1
H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ート(0.36g)を得た。 融点 45〜49℃(イソプロピルアルコール/n−ヘ
キサンより再結晶)
−メチレン−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2
−カルボキシラートの合成 60%水素化ナトリウム(0.13g、3.17mmol)をジ
メチルスルホキシド(5ml)中に加え、75℃にて45
分間攪拌した。反応液を室温まで冷却してから、メチル
トリフェニルホスホニウムヨウーダイド(1.28g、3.
17mmol)のジメチルスルホキシド(10ml)溶液を加
え、60℃にて10分間攪拌した。再び反応液を室温ま
で冷却してから、エチル3,4,5,6−テトラヒドロ
−1−メチル−6−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕
インドール−2−カルボキシラート(0.86g、3.17
mmol)を加え、このまま室温にて一晩放置した。反応液
を5%塩化ナトリウム水溶液中に注ぎ、酢酸エチルで抽
出(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウム水溶液で
洗浄(2回)してから、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1
/99で溶出)で精製することにより、エチル3,4,
5,6−テトラヒドロ−1−メチル−6−メチレン−1
H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ート(0.36g)を得た。 融点 45〜49℃(イソプロピルアルコール/n−ヘ
キサンより再結晶)
【0087】参考例6 エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−1−メチル−1
H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ートの合成 エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−1−メチル−6
−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−
カルボキシラート(0.40g、1.47mmol)、トリフル
オロ酢酸(4ml)及びトリエチルシラン(Et3 SiH)(0.
69g、5.90mmol)の混合物を室温にて一晩攪拌し
た。反応液を減圧下にて濃縮して得られた残渣中に5%
塩化ナトリウム水溶液を加えてから酢酸エチルで抽出
(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウム水溶液で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1/99で溶出)で
精製することにより、エチル3,4,5,6−テトラヒ
ドロ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドー
ル−2−カルボキシラートの油状物を得た。1 Hnmr(CDCl3 )δ;1.40〜1.46(3H, m) 、2.0
0(4H, dd, J=2.97, 6.27Hz)、3.10〜3.20(2H, m) 、3.2
5〜3.35(2H, m) 、3.97(3H, s) 、4.41(2H, dd,J=7.26,
14.19Hz) 、6.89(1H, dd, J=0.99, 6.60Hz)、7.15〜7.
23(2H, m).
H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ートの合成 エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−1−メチル−6
−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−
カルボキシラート(0.40g、1.47mmol)、トリフル
オロ酢酸(4ml)及びトリエチルシラン(Et3 SiH)(0.
69g、5.90mmol)の混合物を室温にて一晩攪拌し
た。反応液を減圧下にて濃縮して得られた残渣中に5%
塩化ナトリウム水溶液を加えてから酢酸エチルで抽出
(2回)した。抽出液を5%塩化ナトリウム水溶液で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留
去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー(酢酸エチル/n−ヘキサン=1/99で溶出)で
精製することにより、エチル3,4,5,6−テトラヒ
ドロ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドー
ル−2−カルボキシラートの油状物を得た。1 Hnmr(CDCl3 )δ;1.40〜1.46(3H, m) 、2.0
0(4H, dd, J=2.97, 6.27Hz)、3.10〜3.20(2H, m) 、3.2
5〜3.35(2H, m) 、3.97(3H, s) 、4.41(2H, dd,J=7.26,
14.19Hz) 、6.89(1H, dd, J=0.99, 6.60Hz)、7.15〜7.
23(2H, m).
【0088】実施例1 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−5−オキソ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキサミド・メタンスルホン酸塩の合成
ヒドロ−5−オキソ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキサミド・メタンスルホン酸塩の合成
【化18】
【0089】エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−5
−オキソ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ート(1.00g、4.11mmol)、ナトリウムメトキシド
(2.22g、41.1mmol)、グアニジン塩酸塩(3.92
g、41.1mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド
(15ml)の混合物を室温にて一晩攪拌した。反応終了
後、氷冷下にて反応液中に5%塩化ナトリウム水溶液を
加えてから酢酸エチルで抽出(3回)した。抽出液を5
%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄(2回)した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム/メタノール=95/5で溶出)で精製する
ことにより、N−(アミノイミノメチル)−1,3,
4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベンズ〔cd〕イン
ドール−2−カルボキサミド(1.00g)を得た。次に
この化合物(1.00g)をイソプロピルアルコール/水
及びメタンスルホン酸(0.75g、7.80mmol)の混合
液中で処理することにより、粗N−(アミノイミノメチ
ル)−1,3,4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベ
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンス
ルホン酸を得た。さらにこの粗生成物をメタンスルホン
酸(0.04g、0.39mmol)及び水(36ml)から再結
晶することにより、N−(アミノイミノメチル)−1,
3,4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベンズ〔cd〕
インドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.72g)を得た。 融点 240〜241℃(分解)
−オキソ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ート(1.00g、4.11mmol)、ナトリウムメトキシド
(2.22g、41.1mmol)、グアニジン塩酸塩(3.92
g、41.1mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド
(15ml)の混合物を室温にて一晩攪拌した。反応終了
後、氷冷下にて反応液中に5%塩化ナトリウム水溶液を
加えてから酢酸エチルで抽出(3回)した。抽出液を5
%炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄(2回)した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧留去して得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ク
ロロホルム/メタノール=95/5で溶出)で精製する
ことにより、N−(アミノイミノメチル)−1,3,
4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベンズ〔cd〕イン
ドール−2−カルボキサミド(1.00g)を得た。次に
この化合物(1.00g)をイソプロピルアルコール/水
及びメタンスルホン酸(0.75g、7.80mmol)の混合
液中で処理することにより、粗N−(アミノイミノメチ
ル)−1,3,4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベ
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンス
ルホン酸を得た。さらにこの粗生成物をメタンスルホン
酸(0.04g、0.39mmol)及び水(36ml)から再結
晶することにより、N−(アミノイミノメチル)−1,
3,4,5−テトラヒドロ−5−オキソ−ベンズ〔cd〕
インドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.72g)を得た。 融点 240〜241℃(分解)
【0090】実施例2 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキサミド・メタンスルホン酸塩の合成
ヒドロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキサミド・メタンスルホン酸塩の合成
【化19】
【0091】エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−1
−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ート(0.37g、1.50mmol)、ナトリウムメトキシド
(0.81g、15.0mmol)、グアニジン・塩酸塩(1.4
3g、15.0mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド
(15ml)を用い、実施例1に示した方法に準じて反応
を行うことにより、N−(アミノイミノメチル)−1,
3,4,5−テトラヒドロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕
インドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.24g)を得た。 融点 233〜234℃(分解)
−メチル−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラ
ート(0.37g、1.50mmol)、ナトリウムメトキシド
(0.81g、15.0mmol)、グアニジン・塩酸塩(1.4
3g、15.0mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド
(15ml)を用い、実施例1に示した方法に準じて反応
を行うことにより、N−(アミノイミノメチル)−1,
3,4,5−テトラヒドロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕
インドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.24g)を得た。 融点 233〜234℃(分解)
【0092】実施例3 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド
・メタンスルホン酸塩の合成
ヒドロ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド
・メタンスルホン酸塩の合成
【化20】
【0093】エチル1,3,4,5−テトラヒドロ−ベ
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラート(0.34
g、1.50mmol)、ナトリウムメトキシド(0.81g、
15.0mmol)、グアニジン・塩酸塩(1.43g、15.0
mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド(15ml)を
用い、実施例1に示した方法に準じて反応を行うことに
より、N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−
テトラヒドロ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキ
サミド・メタンスルホン酸塩(0.18g)を得た。 融点 253〜254℃(分解)
ンズ〔cd〕インドール−2−カルボキシラート(0.34
g、1.50mmol)、ナトリウムメトキシド(0.81g、
15.0mmol)、グアニジン・塩酸塩(1.43g、15.0
mmol)及びN,N−ジメチルホルムアミド(15ml)を
用い、実施例1に示した方法に準じて反応を行うことに
より、N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−
テトラヒドロ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキ
サミド・メタンスルホン酸塩(0.18g)を得た。 融点 253〜254℃(分解)
【0094】実施例1に示した方法に準じて反応を行う
ことにより、以下に示す実施例4〜実施例15の化合物
を合成した。
ことにより、以下に示す実施例4〜実施例15の化合物
を合成した。
【0095】実施例4 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−1−メチル−5−オキソ−ベンズ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−1−メチル−5−オキソ−ベンズ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化21】 融点 248〜249℃(分解)
【0096】実施例5 N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−6−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−6−オキソ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化22】 融点 250〜251℃(分解)
【0097】実施例6 N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−1−メチル−6−オキソ−1H−シクロヘプタ
〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンスルホ
ン酸塩
ヒドロ−1−メチル−6−オキソ−1H−シクロヘプタ
〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンスルホ
ン酸塩
【化23】 融点 268〜269℃(分解)
【0098】実施例7 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−5−ヒドロキシ−ベンズ〔cd〕インドール−2
−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−5−ヒドロキシ−ベンズ〔cd〕インドール−2
−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化24】 融点 162〜163℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0099】実施例8 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−5−ヒドロキシ−1−メチル−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−5−ヒドロキシ−1−メチル−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化25】 融点 156〜157℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0100】実施例9 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−5−メトキシ−1−メチル−ベンズ〔cd〕イン
ドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−5−メトキシ−1−メチル−ベンズ〔cd〕イン
ドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化26】 融点 165〜166℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0101】実施例10 N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−6−メトキシ−1−メチル−1H−シクロヘプ
タ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンスル
ホン酸塩
ヒドロ−6−メトキシ−1−メチル−1H−シクロヘプ
タ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンスル
ホン酸塩
【化27】 融点 239〜240℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0102】実施例11 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−7−クロロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−7−クロロ−1−メチル−ベンズ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化28】 融点 267〜268℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0103】実施例12 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−1−ベンジル−ベンズ〔cd〕インドール−2−
カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−1−ベンジル−ベンズ〔cd〕インドール−2−
カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化29】 融点 230〜231℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0104】実施例13 N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−1−メチル−6−メチレン−1H−シクロヘプ
タ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンスル
ホン酸塩
ヒドロ−1−メチル−6−メチレン−1H−シクロヘプ
タ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド・メタンスル
ホン酸塩
【化30】 融点 229〜230℃(分解) (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0105】実施例14 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−1−イソプロピル−ベンズ〔cd〕インドール−
2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−1−イソプロピル−ベンズ〔cd〕インドール−
2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化31】 融点 216〜218℃ (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0106】実施例15 N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,6−テトラ
ヒドロ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
ヒドロ−1−メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インド
ール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化32】 融点 223〜224℃ (なお、上記化合物は、テトラヒドロフランを溶媒に用
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
いてメタンスルホン酸塩化を行った。)
【0107】実施例16 N−(アミノイミノメチル)−1,3,4,5−テトラ
ヒドロ−5−メトキシ−ベンズ〔cd〕インドール−2−
カルボキサミド・メタンスルホン酸塩の合成
ヒドロ−5−メトキシ−ベンズ〔cd〕インドール−2−
カルボキサミド・メタンスルホン酸塩の合成
【化33】
【0108】実施例7において得られたN−(アミノイ
ミノメチル)−1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキサミ
ド・メタンスルホン酸塩(0.13g、0.37mmol)、メ
タンスルホン酸(0.036g、0.37mmol)及びメタノ
ール(20ml)の混合物を2時間加熱還流した。つづい
て反応液を減圧下にて濃縮(約5mlまで)してから、5
%塩化ナトリウム水溶液を加えた。次に28%アンモニ
ア水でアルカリ性としてから酢酸エチルで抽出(2回)
し、抽出液を5%塩化ナトリウム水溶液で洗浄(2回)
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム/メタノール=96/4で溶出)
で精製することにより、N−(アミノイミノメチル)−
1,3,4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−ベンズ
〔cd〕インドール−2−カルボキサミド(0.11g)を
得た。この化合物(0.11g)をメタンスルホン酸(0.
05g)/テトラヒドロフラン(2.5ml)溶液で処理す
ることにより、N−(アミノイミノメチル)−1,3,
4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.08g)を得た。 融点 174〜175℃(分解)
ミノメチル)−1,3,4,5−テトラヒドロ−5−ヒ
ドロキシ−ベンズ〔cd〕インドール−2−カルボキサミ
ド・メタンスルホン酸塩(0.13g、0.37mmol)、メ
タンスルホン酸(0.036g、0.37mmol)及びメタノ
ール(20ml)の混合物を2時間加熱還流した。つづい
て反応液を減圧下にて濃縮(約5mlまで)してから、5
%塩化ナトリウム水溶液を加えた。次に28%アンモニ
ア水でアルカリ性としてから酢酸エチルで抽出(2回)
し、抽出液を5%塩化ナトリウム水溶液で洗浄(2回)
した後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減圧
留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー(クロロホルム/メタノール=96/4で溶出)
で精製することにより、N−(アミノイミノメチル)−
1,3,4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−ベンズ
〔cd〕インドール−2−カルボキサミド(0.11g)を
得た。この化合物(0.11g)をメタンスルホン酸(0.
05g)/テトラヒドロフラン(2.5ml)溶液で処理す
ることにより、N−(アミノイミノメチル)−1,3,
4,5−テトラヒドロ−5−メトキシ−ベンズ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.08g)を得た。 融点 174〜175℃(分解)
【0109】実施例17 N−(アミノイミノメチル)−3,4−ジヒドロ−1H
−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド
・メタンスルホン酸塩の合成
−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド
・メタンスルホン酸塩の合成
【化34】
【0110】エチル3,4,5,6−テトラヒドロ−6
−ヒドロキシ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−
2−カルボキシラート(0.30g、1.16mmol)、ナト
リウムメトキシド(1.26g、23.1mmol)、グアニジ
ン・塩酸塩(2.22g、23.1mmol)及びN,N−ジメ
チルホルムアミド(15ml)の混合物を室温にて3日間
攪拌した。反応液を5%塩化ナトリウム水溶液中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出(3回)した。抽出液を5%塩化
ナトリウム水溶液で洗浄(2回)してから、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去すること
により、粗N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,
6−テトラヒドロ−6−ヒドロキシ−1H−シクロヘプ
タ〔cd〕インドール−2−カルボキサミドを得た。この
粗生成物をメタンスルホン酸(0.22g)/テトラヒド
ロフラン(12ml)の溶液中に加え、0〜5℃にて攪拌
した。不溶物を濾去し、得られた濾液を減圧下にて濃縮
した。こうして得られた残渣中に5%塩化ナトリウム水
溶液を加えてから、28%アンモニア水でアルカリ性と
し、酢酸エチルで抽出(2回)した。抽出液を5%塩化
ナトリウム水溶液で洗浄してから無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メタノ
ール=96/4で溶出)で精製することにより、N−
(アミノイミノメチル)−3,4−ジヒドロ−1H−シ
クロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド(0.
16g)を得た。この化合物(0.16g)を、メタンス
ルホン酸(0.15g)/テトラヒドロフラン(3.5ml)
の溶液で処理することにより、N−(アミノイミノメチ
ル)−3,4−ジヒドロ−1H−シクロヘプタ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.11g)を得た。 融点 264〜265℃(分解)
−ヒドロキシ−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−
2−カルボキシラート(0.30g、1.16mmol)、ナト
リウムメトキシド(1.26g、23.1mmol)、グアニジ
ン・塩酸塩(2.22g、23.1mmol)及びN,N−ジメ
チルホルムアミド(15ml)の混合物を室温にて3日間
攪拌した。反応液を5%塩化ナトリウム水溶液中に注
ぎ、酢酸エチルで抽出(3回)した。抽出液を5%塩化
ナトリウム水溶液で洗浄(2回)してから、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。溶媒を減圧下にて留去すること
により、粗N−(アミノイミノメチル)−3,4,5,
6−テトラヒドロ−6−ヒドロキシ−1H−シクロヘプ
タ〔cd〕インドール−2−カルボキサミドを得た。この
粗生成物をメタンスルホン酸(0.22g)/テトラヒド
ロフラン(12ml)の溶液中に加え、0〜5℃にて攪拌
した。不溶物を濾去し、得られた濾液を減圧下にて濃縮
した。こうして得られた残渣中に5%塩化ナトリウム水
溶液を加えてから、28%アンモニア水でアルカリ性と
し、酢酸エチルで抽出(2回)した。抽出液を5%塩化
ナトリウム水溶液で洗浄してから無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を減圧留去して得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー(クロロホルム/メタノ
ール=96/4で溶出)で精製することにより、N−
(アミノイミノメチル)−3,4−ジヒドロ−1H−シ
クロヘプタ〔cd〕インドール−2−カルボキサミド(0.
16g)を得た。この化合物(0.16g)を、メタンス
ルホン酸(0.15g)/テトラヒドロフラン(3.5ml)
の溶液で処理することにより、N−(アミノイミノメチ
ル)−3,4−ジヒドロ−1H−シクロヘプタ〔cd〕イ
ンドール−2−カルボキサミド・メタンスルホン酸塩
(0.11g)を得た。 融点 264〜265℃(分解)
【0111】実施例17に示した方法に準じて反応を行
うことにより、以下に示す実施例18の化合物を合成し
た。 実施例18 N−(アミノイミノメチル)−3,4−ジヒドロ−1−
メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキサミド・メタンスルホン酸塩
うことにより、以下に示す実施例18の化合物を合成し
た。 実施例18 N−(アミノイミノメチル)−3,4−ジヒドロ−1−
メチル−1H−シクロヘプタ〔cd〕インドール−2−カ
ルボキサミド・メタンスルホン酸塩
【化35】 融点 239〜240℃(分解)
【0112】試験例 Na+ /H+ 交換輸送系阻害作用(イン・ビトロ試験) 〔試験方法〕家森らの方法(J.Hypertension, 8, 153(1
990)) に準じて試験を行った。すなわち、単離心室筋細
胞(ラット)を用い、酸負荷時の細胞内pH変化を指標
にしてNa+ /H+ 交換輸送系阻害作用を評価した。
990)) に準じて試験を行った。すなわち、単離心室筋細
胞(ラット)を用い、酸負荷時の細胞内pH変化を指標
にしてNa+ /H+ 交換輸送系阻害作用を評価した。
【0113】〔試験結果〕
【表19】
【0114】本発明化合物はナトリウム/プロトン(N
a+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有し、ナトリウム/
プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系の亢進に起因する
疾患、例えば、高血圧、不整脈、狭心症、心肥大、糖尿
病、虚血もしくは虚血再灌流による臓器障害(例えば、
心筋虚血再灌流障害、急性腎不全、外科的処置(例え
ば、臓器移植やPTCA(Percutaneous Transluminal C
oronary Angioplasty))により生ずる障害など)、脳虚
血障害(例えば、脳梗塞に伴う障害、脳卒中後の後遺症
として起こる障害、脳浮腫など)、細胞の過剰増殖(例
えば、繊維芽細胞増殖、平滑筋細胞増殖、メサンギウム
細胞増殖など)が原因となる疾患(例えば、アテローム
性動脈硬化、肺繊維症、肝繊維症、腎繊維症、腎糸球体
硬化症、器官肥大、前立腺肥大、糖尿病合併症、PTC
A後の再狭窄など)、内皮細胞の障害による疾患等の治
療、予防薬として有用である。
a+ /H+ )交換輸送系阻害作用を有し、ナトリウム/
プロトン(Na+ /H+ )交換輸送系の亢進に起因する
疾患、例えば、高血圧、不整脈、狭心症、心肥大、糖尿
病、虚血もしくは虚血再灌流による臓器障害(例えば、
心筋虚血再灌流障害、急性腎不全、外科的処置(例え
ば、臓器移植やPTCA(Percutaneous Transluminal C
oronary Angioplasty))により生ずる障害など)、脳虚
血障害(例えば、脳梗塞に伴う障害、脳卒中後の後遺症
として起こる障害、脳浮腫など)、細胞の過剰増殖(例
えば、繊維芽細胞増殖、平滑筋細胞増殖、メサンギウム
細胞増殖など)が原因となる疾患(例えば、アテローム
性動脈硬化、肺繊維症、肝繊維症、腎繊維症、腎糸球体
硬化症、器官肥大、前立腺肥大、糖尿病合併症、PTC
A後の再狭窄など)、内皮細胞の障害による疾患等の治
療、予防薬として有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 A61K 31/40 ABS A61K 31/40 ABS ABU ABU ABX ABX ACD ACD ACV ACV ADP ADP 31/445 ACS 31/445 ACS C07D 209/94 C07D 209/94 401/12 209 401/12 209 403/12 207 403/12 207
Claims (13)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中、R1 は水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素
環基、芳香族基、−OR5 、アシル基または−Q−Ra
を表す。R2 、R3 およびR4 は、互いに独立して、水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、ハロゲン原
子、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル
基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON
(R6 )R7 、−SO2 N(R6 )R7 、−S(O)n
R8 、アシル基、−Q−Ra または 【化2】 (環は3〜8員の窒素原子1個と炭素原子からなる飽和
複素環基を表す)を表す。Y1 、Y2 、Y3 およびY4
は、 いずれか一つはメチレン基、カルボニル基、酸素原
子、−S(O )n −、−N(R10)−または−C(=
C(R11)(R12))−を表し、他のいずれか二つはメ
チレン基を表し、残りの一つは単結合またはメチレン基
を表すか、又は、 隣り合ういずれか二つでビニレン基(−CH=CH
−)または−CON(R10)−を表し、他のいずれか一
つはメチレン基、カルボニル基、酸素原子、−S(O)
n −、−N(R10)−または−C(=C(R11)
(R12))−を表し、残りの一つは単結合またはメチレ
ン基を表す。但し、酸素原子、窒素原子および硫黄原子
は直接ビニレン基とは結合しない。Z は、環構成炭素
原子に結合する1以上の水素原子と任意に置き換わって
もよい置換基を意味し、各々独立して、アルキル基、置
換アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロア
ルキル基、シクロアルケニル基、飽和複素環基、ハロゲ
ン原子、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、芳
香族基、−OR5 、−N(R6 )R7 、−CON
(R6 )R7 、−S(O)n R8 、アシル基および−Q
−Ra からなる置換基群の中から選ばれる。Aは酸素原
子、−S(O)n −または−N(R10)−を表す。Q
は置換されていてもよい低級アルキレン基を表す。Ra
は置換されていてもよいビニル基または置換されていて
もよいエチニル基を表す。R5 は水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケ
ニル基、飽和複素環基または芳香族基を表す。R6 およ
びR7 は、互いに独立して、水素原子、アルキル基、置
換アルキル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル
基、飽和複素環基、芳香族基、アシル基もしくは−Q−
Ra を表すか、又は、R6 とR7 が互いに結合して、こ
れらが結合する窒素原子と一緒になって、環中に酸素原
子又は硫黄原子を含んでもよい飽和5〜7員環の環状ア
ミノ基(該環状アミノ基は1以上のアルキル基、置換ア
ルキル基、水酸基又は−OR5 で置換されていてもよ
い)を表す。R8 はアルキル基、置換アルキル基または
芳香族基を表す。R9 は水素原子、アルキル基、置換ア
ルキル基、アシル基または−Q−Ra を表す。R10は水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、飽和複素環基、芳香族基、アシル基または−Q−R
a を表す。R11およびR12は、互いに独立して、水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、飽
和複素環基、ハロゲン原子、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R
7 、−CON(R6 )R7 、−S(O)n R8 、アシル
基または−Q−Ra を表す。nは0、1または2を表
す)で表される置換グアニジン誘導体またはその医薬と
して許容される酸付加塩。 - 【請求項2】 R2 、R3 およびR4 が、互いに独立し
て、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、ハロゲン
原子、ニトロ基、芳香族基、−OR5 、−N(R6 )R
7 、−CON(R6 )R7 、−SO2 N(R6 )R7 、
−S(O)nR8 、アシル基または−Q−Ra であり、
Ra が置換されていてもよいビニル基である請求項1記
載の化合物。 - 【請求項3】 Y1 、Y2 、Y3 およびY4 のいずれか
一つがメチレン基、カルボニル基、酸素原子、−S
(O)n − 、−N(R10)−または−C(=C
(R11)(R12))−であり、他のいずれか二つがメチ
レン基であり、残りの一つが単結合またはメチレン基
(Zは請求項1と同じ)である請求項1または2記載の
化合物。 - 【請求項4】 Y1 、Y2 、Y3 およびY4 の隣り合う
いずれか二つが置換されていてもよいビニレン基であ
り、他のいずれか一つがメチレン基、カルボニル基、酸
素原子、−S(O)n −、−N(R10)−または−C
(=C(R11)(R12))−であり、残りの一つが単結
合またはメチレン基(Zは請求項1と同じ)である請求
項1または2記載の化合物。 - 【請求項5】 Y1 とY2 が一緒になってビニレン基で
あり、Y3 とY4 のいずれか一つがメチレン基、カルボ
ニル基、酸素原子、−S(O )n − 、−N(R10)
−または−C(=C(R11)(R12))−であり、残り
の一つが単結合またはメチレン基(Zは請求項1と同
じ)である請求項1または2記載の化合物。 - 【請求項6】 Y2 とY3 が一緒になってビニレン基で
あり、Y1 とY4 のいずれか一つがメチレン基、カルボ
ニル基、酸素原子、−S(O)n −、−N(R10)−ま
たは−C(=C(R11)(R12))−であり、残りの一
つがメチレン基(Zは請求項1と同じ)である請求項1
または2記載の化合物。 - 【請求項7】 Y3 とY4 が一緒になってビニレン基で
あり、Y1 とY2 のいずれか一つがメチレン基、カルボ
ニル基、酸素原子、−S(O)n −、−N(R10)−ま
たは−C(=C(R11)(R12))−であり、残りの一
つが単結合またはメチレン基(Zは請求項1と同じ)で
ある請求項1または2記載の化合物。 - 【請求項8】 Y1 、Y2 、Y3 およびY4 のいずれか
一つがメチレン基、カルボニル基、酸素原子、−S
(O)n −、−N(R10)−または−C(=C(R11)
(R12))−であり、他のいずれか二つがメチレン基で
あり、残りの一つが単結合(Zは請求項1と同じ)であ
る請求項1または2記載の化合物。 - 【請求項9】 Y1 がカルボニル基、メチレン基または
ビニリデン基であり、Y2 とY3 がメチレン基であり、
Y4 が単結合またはメチレン基であり、Zが水酸基また
はアルコキシ基である請求項1または2記載の化合物。 - 【請求項10】 一般式 【化3】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、Y1 、Y2 、Y3 お
よびY4 は請求項1と同じ意味を有し、Lは求核試薬に
よって置換し得る脱離基を表す)で表される化合物をグ
アニジンと反応させることを特徴とする請求項1記載の
化合物の製法。 - 【請求項11】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8または9記載の化合物を含有する医薬。 - 【請求項12】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8または9記載の化合物を含有するナトリウム/プロト
ン交換輸送系阻害剤。 - 【請求項13】 請求項1、2、3、4、5、6、7、
8または9記載の化合物を含有する高血圧、不整脈、狭
心症、心肥大、糖尿病、虚血もしくは虚血再灌流による
臓器障害、脳虚血障害、細胞の過剰増殖に起因する疾
患、または内皮細胞の障害による疾患の治療剤もしくは
予防剤。
Priority Applications (6)
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|---|---|---|---|
| JP8128973A JPH09291076A (ja) | 1996-04-24 | 1996-04-24 | 置換グアニジン誘導体およびその製法 |
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