JPH0929251A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH0929251A JPH0929251A JP18001895A JP18001895A JPH0929251A JP H0929251 A JPH0929251 A JP H0929251A JP 18001895 A JP18001895 A JP 18001895A JP 18001895 A JP18001895 A JP 18001895A JP H0929251 A JPH0929251 A JP H0929251A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- ultrapure water
- membrane
- dissolved oxygen
- ion exchange
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶存酸素量が著しく低い超純水を製造する。
【解決手段】 前処理工程より得られた一次純水をサブ
タンク１１、ポンプ１２、熱交換器１３、低圧紫外線酸
化装置１４、イオン交換装置１５、膜式脱気装置１６及
び限外濾過膜分離装置１７に順次に通水し、得られた極
低溶存酸素の超純水をユースポイント１８に送る。
タンク１１、ポンプ１２、熱交換器１３、低圧紫外線酸
化装置１４、イオン交換装置１５、膜式脱気装置１６及
び限外濾過膜分離装置１７に順次に通水し、得られた極
低溶存酸素の超純水をユースポイント１８に送る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は超純水製造装置に係
り、特に溶存酸素濃度がきわめて低い超純水を得る超純
水製造装置に関する。
り、特に溶存酸素濃度がきわめて低い超純水を得る超純
水製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体洗浄用水として用いられて
いる超純水は、図２に示すように前処理システム１、一
次純水システム２及びサブシステム３から構成される超
純水製造装置で原水（工業用水、市水、井水等）を処理
することにより製造されている。図２において、各シス
テムの役割は次の通りである。
いる超純水は、図２に示すように前処理システム１、一
次純水システム２及びサブシステム３から構成される超
純水製造装置で原水（工業用水、市水、井水等）を処理
することにより製造されている。図２において、各シス
テムの役割は次の通りである。
【０００３】凝集、加圧浮上（沈殿）、濾過装置等より
なる前処理システム１では、原水中の懸濁物質やコロイ
ド物質の除去を行う。逆浸透膜分離装置、脱気装置及び
イオン交換装置（混床式又は４床５塔式）を備える一次
純水システム２では原水中のイオンや有機成分の除去を
行う。なお、逆浸透膜分離装置では、塩類除去のほかに
イオン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。イオン交換
装置では、塩類除去のほかにイオン交換樹脂によって吸
着又はイオン交換されるＴＯＣ成分を除去する。脱気装
置（窒素脱気又は真空脱気）では溶存酸素の除去を行
う。
なる前処理システム１では、原水中の懸濁物質やコロイ
ド物質の除去を行う。逆浸透膜分離装置、脱気装置及び
イオン交換装置（混床式又は４床５塔式）を備える一次
純水システム２では原水中のイオンや有機成分の除去を
行う。なお、逆浸透膜分離装置では、塩類除去のほかに
イオン性、コロイド性のＴＯＣを除去する。イオン交換
装置では、塩類除去のほかにイオン交換樹脂によって吸
着又はイオン交換されるＴＯＣ成分を除去する。脱気装
置（窒素脱気又は真空脱気）では溶存酸素の除去を行
う。
【０００４】熱交換器、低圧紫外線酸化装置、ポリッシ
ャー（非再生式イオン交換樹脂装置）及び限外濾過膜分
離装置を備えるサブシステム４では、水の純度をより一
層高め超純水にする。なお、低圧紫外線酸化装置では、
低圧紫外線ランプより出される１８５ｎｍの紫外線によ
りＴＯＣを有機酸さらにはＣＯ2 まで分解する。分解さ
れた有機物及びＣＯ2 は後段のイオン交換樹脂で除去さ
れる。限外濾過膜分離装置では、微小粒子が除去されイ
オン交換樹脂の流出粒子も除去される。
ャー（非再生式イオン交換樹脂装置）及び限外濾過膜分
離装置を備えるサブシステム４では、水の純度をより一
層高め超純水にする。なお、低圧紫外線酸化装置では、
低圧紫外線ランプより出される１８５ｎｍの紫外線によ
りＴＯＣを有機酸さらにはＣＯ2 まで分解する。分解さ
れた有機物及びＣＯ2 は後段のイオン交換樹脂で除去さ
れる。限外濾過膜分離装置では、微小粒子が除去されイ
オン交換樹脂の流出粒子も除去される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】超純水中の溶存酸素
は、シリコンウェハーの自然酸化膜の厚さをコントロー
ルする上で重要な因子であるが、上記従来の超純水製造
装置によれば、溶存酸素濃度が５〜１０ｐｐｂ程度とな
ってしまい、さらに低い溶存酸素値が要求されるケース
では要求水質を満足できなくなる。
は、シリコンウェハーの自然酸化膜の厚さをコントロー
ルする上で重要な因子であるが、上記従来の超純水製造
装置によれば、溶存酸素濃度が５〜１０ｐｐｂ程度とな
ってしまい、さらに低い溶存酸素値が要求されるケース
では要求水質を満足できなくなる。
【０００６】本発明は、超純水中の溶存酸素を効率的に
除去できる超純水製造装置を提供することを目的とす
る。
除去できる超純水製造装置を提供することを目的とす
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の超純水製造装置
は、一次純水を導入し、少なくとも紫外線照射酸化装置
（紫外線酸化装置）とイオン交換純水装置とを有するサ
ブシステムに通水して超純水を得る超純水製造装置にお
いて、該イオン交換純水装置の後段に膜式脱気装置を配
置したことを特徴とする。
は、一次純水を導入し、少なくとも紫外線照射酸化装置
（紫外線酸化装置）とイオン交換純水装置とを有するサ
ブシステムに通水して超純水を得る超純水製造装置にお
いて、該イオン交換純水装置の後段に膜式脱気装置を配
置したことを特徴とする。
【０００８】本発明者らは、図２に示されるような超純
水製造装置における溶存酸素濃度の推移を調べた結果、
サブシステム内の低圧紫外線酸化装置出口で一旦溶存酸
素濃度は低下するが、後段のポリッシャー出口で再度低
圧紫外線酸化装置入口の溶存酸素濃度まで（場合によっ
てはそれ以上に）上昇してしまい、結果的に低圧紫外線
酸化装置の溶存酸素除去効果が表れないことを確認し
た。即ち、一次純水システムの流出水の溶存酸素濃度は
約５〜１０ｐｐｂであり、この水が低圧紫外線酸化装置
で処理されることにより、溶存酸素濃度は０〜５ｐｐｂ
に低減するが、ポリッシャー出口水の溶存酸素濃度は再
び５〜１０ｐｐｂ程度に上昇しており、結果として得ら
れる超純水の溶存酸素濃度は５〜１０ｐｐｂとなる。
水製造装置における溶存酸素濃度の推移を調べた結果、
サブシステム内の低圧紫外線酸化装置出口で一旦溶存酸
素濃度は低下するが、後段のポリッシャー出口で再度低
圧紫外線酸化装置入口の溶存酸素濃度まで（場合によっ
てはそれ以上に）上昇してしまい、結果的に低圧紫外線
酸化装置の溶存酸素除去効果が表れないことを確認し
た。即ち、一次純水システムの流出水の溶存酸素濃度は
約５〜１０ｐｐｂであり、この水が低圧紫外線酸化装置
で処理されることにより、溶存酸素濃度は０〜５ｐｐｂ
に低減するが、ポリッシャー出口水の溶存酸素濃度は再
び５〜１０ｐｐｂ程度に上昇しており、結果として得ら
れる超純水の溶存酸素濃度は５〜１０ｐｐｂとなる。
【０００９】本発明者らは、この現象について鋭意検討
した結果、下記（１）式のような反応が低圧紫外線酸化
装置からポリッシャーの間で生じていることを見出し
た。
した結果、下記（１）式のような反応が低圧紫外線酸化
装置からポリッシャーの間で生じていることを見出し
た。
【００１０】
【化１】
【００１１】即ち、低圧紫外線酸化装置入口では水（Ｈ
2 Ｏ）とＴＯＣが存在するが、一次純水中のＴＯＣが極
めて低い場合、紫外線酸化装置における紫外線照射量が
設計値よりも過剰となる。（例えば、紫外線照射量をＴ
ＯＣ１０ｐｐｂに対応した照射量とした紫外線酸化装置
にＴＯＣ５ｐｐｂの一次純水が流入する場合、紫外線照
射量がＴＯＣ５ｐｐｂ分だけ過剰となる。）そして、Ｈ
2 Ｏが、この過剰な紫外線の照射によりＯＨラジカルを
介してＨ2 Ｏ2 （過酸化水素）となり、溶存酸素はＴＯ
Ｃ分解に使用されるために見掛け上溶存酸素濃度が低下
する。しかし、生成したＨ2 Ｏ2 はポリッシャー（特に
ポリッシャー内のアニオン交換樹脂）の接触触媒作用で
分解され、再度Ｏ2 が発生するため、ポリッシャー出口
水の溶存酸素濃度が上昇する。
2 Ｏ）とＴＯＣが存在するが、一次純水中のＴＯＣが極
めて低い場合、紫外線酸化装置における紫外線照射量が
設計値よりも過剰となる。（例えば、紫外線照射量をＴ
ＯＣ１０ｐｐｂに対応した照射量とした紫外線酸化装置
にＴＯＣ５ｐｐｂの一次純水が流入する場合、紫外線照
射量がＴＯＣ５ｐｐｂ分だけ過剰となる。）そして、Ｈ
2 Ｏが、この過剰な紫外線の照射によりＯＨラジカルを
介してＨ2 Ｏ2 （過酸化水素）となり、溶存酸素はＴＯ
Ｃ分解に使用されるために見掛け上溶存酸素濃度が低下
する。しかし、生成したＨ2 Ｏ2 はポリッシャー（特に
ポリッシャー内のアニオン交換樹脂）の接触触媒作用で
分解され、再度Ｏ2 が発生するため、ポリッシャー出口
水の溶存酸素濃度が上昇する。
【００１２】本発明は、紫外線酸化装置からイオン交換
装置を通ることにより発生した溶存酸素を膜式脱気装置
で除去することにより、得られる超純水中の溶存酸素値
を低下させるようにしたものである。
装置を通ることにより発生した溶存酸素を膜式脱気装置
で除去することにより、得られる超純水中の溶存酸素値
を低下させるようにしたものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１４】図１は本発明の超純水製造装置の一実施例
を示す系統図である。
を示す系統図である。
【００１５】各種前処理工程より得られた一次純水（通
常の場合、ＴＯＣ濃度２ｐｐｂ以下の純水）をサブタン
ク１１、ポンプ１２、熱交換器１３、低圧紫外線酸化装
置１４、イオン交換装置（本実施例ではアニオン交換樹
脂とカチオン交換樹脂とをイオン負荷に応じて混合した
デミナー）１５、膜式脱気装置１６及び限外濾過膜分離
装置１７に順次に通水し、得られた極低溶存酸素の超純
水をユースポイント１８に送る。
常の場合、ＴＯＣ濃度２ｐｐｂ以下の純水）をサブタン
ク１１、ポンプ１２、熱交換器１３、低圧紫外線酸化装
置１４、イオン交換装置（本実施例ではアニオン交換樹
脂とカチオン交換樹脂とをイオン負荷に応じて混合した
デミナー）１５、膜式脱気装置１６及び限外濾過膜分離
装置１７に順次に通水し、得られた極低溶存酸素の超純
水をユースポイント１８に送る。
【００１６】膜式脱気装置としては、脱気膜の一方の側
に水を流し、他方の側を真空ポンプで排気し、溶存酸素
を膜を透過させて真空側に移行させて除去するようにし
たものが用いられる。なお、この膜の真空側には若干の
水分が脱気膜を透過して出てくるので、この真空側に窒
素等のガスを流し、水分を除去して膜性能の低下を防止
するのが好ましい。Ｎ2 流量は一定でも良く、変動させ
ても良い。
に水を流し、他方の側を真空ポンプで排気し、溶存酸素
を膜を透過させて真空側に移行させて除去するようにし
たものが用いられる。なお、この膜の真空側には若干の
水分が脱気膜を透過して出てくるので、この真空側に窒
素等のガスを流し、水分を除去して膜性能の低下を防止
するのが好ましい。Ｎ2 流量は一定でも良く、変動させ
ても良い。
【００１７】脱気膜は、酸素、窒素、蒸気等のガスは通
過するが水は透過しない膜であれば良く、例えば、シリ
コンゴム系、ポリテトラフルオロエチレン系、ポリオレ
フィン系、ポリウレタン系等がある。この脱気膜として
は市販の各種のものを用いることができる。
過するが水は透過しない膜であれば良く、例えば、シリ
コンゴム系、ポリテトラフルオロエチレン系、ポリオレ
フィン系、ポリウレタン系等がある。この脱気膜として
は市販の各種のものを用いることができる。
【００１８】この膜式脱気装置の真空度は５５〜７０Ｔ
ｏｒｒ、Ｎ2 等のガスの真空側流量は水流量の５〜２５
％とするのが好ましい。なお、この運転条件は、膜性能
により任意に設定できるが、通常上記のような範囲が好
ましい。真空度が過度に低いと脱気効率が低下し、逆に
過度に大きいと膜を通して水も透過側に出てきて効率が
悪くなる。Ｎ2 流量は過度に少ないと水分除去が十分で
なく脱気効率が低下し、大きすぎると真空度が上がらず
脱気効率が低下する。
ｏｒｒ、Ｎ2 等のガスの真空側流量は水流量の５〜２５
％とするのが好ましい。なお、この運転条件は、膜性能
により任意に設定できるが、通常上記のような範囲が好
ましい。真空度が過度に低いと脱気効率が低下し、逆に
過度に大きいと膜を通して水も透過側に出てきて効率が
悪くなる。Ｎ2 流量は過度に少ないと水分除去が十分で
なく脱気効率が低下し、大きすぎると真空度が上がらず
脱気効率が低下する。
【００１９】なお、図１の構成は本発明の一例であり、
本発明はサブシステムにおいて紫外線酸化装置、イオン
交換装置及び膜式脱気装置を備えている限り各種の機器
を組み合わせることができる。例えば、膜脱気の後に限
外濾過（ＵＦ）装置や逆浸透膜装置を設置しても良い。
また、原水をｐＨ４．５以下の酸性下、かつ、酸化剤存
在下で加熱分解処理して原水中の尿素及び他のＴＯＣ成
分を分解した後、脱イオン処理する装置を組み込むこと
もできる。紫外線酸化装置、イオン交換装置、膜式脱気
装置は多段に設置されても良い。なお、図１のように、
膜式脱気装置の後段にＵＦ装置を設置することにより、
脱気膜で発生した微粒子を除去し、ユースポイントへの
持ち込みを阻止できる。
本発明はサブシステムにおいて紫外線酸化装置、イオン
交換装置及び膜式脱気装置を備えている限り各種の機器
を組み合わせることができる。例えば、膜脱気の後に限
外濾過（ＵＦ）装置や逆浸透膜装置を設置しても良い。
また、原水をｐＨ４．５以下の酸性下、かつ、酸化剤存
在下で加熱分解処理して原水中の尿素及び他のＴＯＣ成
分を分解した後、脱イオン処理する装置を組み込むこと
もできる。紫外線酸化装置、イオン交換装置、膜式脱気
装置は多段に設置されても良い。なお、図１のように、
膜式脱気装置の後段にＵＦ装置を設置することにより、
脱気膜で発生した微粒子を除去し、ユースポイントへの
持ち込みを阻止できる。
【００２０】本発明においては、紫外線酸化装置で紫外
線照射された水をイオン交換樹脂に接触させた後、膜脱
気処理することが重要であり、膜式脱気装置を紫外線酸
化装置とイオン交換樹脂との間に配置しても、得られる
超純水中の溶存酸素は低減しない。
線照射された水をイオン交換樹脂に接触させた後、膜脱
気処理することが重要であり、膜式脱気装置を紫外線酸
化装置とイオン交換樹脂との間に配置しても、得られる
超純水中の溶存酸素は低減しない。
【００２１】
【実施例】以下に比較例及び実施例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２２】比較例１ 原水（厚木市水：ＴＯＣ７００〜８００ｐｐｂ、溶存酸
素８０００ｐｐｂ、電導度２４０μＳ／ｃｍ）を図２の
装置によって処理して超純水を製造した。
素８０００ｐｐｂ、電導度２４０μＳ／ｃｍ）を図２の
装置によって処理して超純水を製造した。
【００２３】実施例１〜３ サブシステムを、膜式脱気装置を組み込んだ図１のもの
とし、膜式脱気装置の運転条件及び通水量を表１の通り
としたほかは比較例１と同様にして超純水を製造した。
とし、膜式脱気装置の運転条件及び通水量を表１の通り
としたほかは比較例１と同様にして超純水を製造した。
【００２４】この比較例及び実施例における各装置の仕
様は下記の通りである。
様は下記の通りである。
【００２５】低圧紫外線照射酸化装置：８０Ｗ×４本
（０．３２ｋＷ） （発生波長：１８５ｎｍ及び２５４ｎｍ） ポリッシャー（デミナー）：カチオン交換樹脂とアニオ
ン交換樹脂とを混合充填した混床式イオン交換装置 ＳＶ＝７０〜８０ｈｒ-1 限外濾過膜分離装置：ＫＵ−１０１０（栗田工業株式会
社製） 脱気膜： Hoechst Celanese 製Ｌｉｑｕｉ−Ｃｅｌ １
本 ハウジング：５ＰＣＨ−１２０ カートリッジ：５ＰＣＨ−１１８，ＳＮ：１２２１
（０．３２ｋＷ） （発生波長：１８５ｎｍ及び２５４ｎｍ） ポリッシャー（デミナー）：カチオン交換樹脂とアニオ
ン交換樹脂とを混合充填した混床式イオン交換装置 ＳＶ＝７０〜８０ｈｒ-1 限外濾過膜分離装置：ＫＵ−１０１０（栗田工業株式会
社製） 脱気膜： Hoechst Celanese 製Ｌｉｑｕｉ−Ｃｅｌ １
本 ハウジング：５ＰＣＨ−１２０ カートリッジ：５ＰＣＨ−１１８，ＳＮ：１２２１
【００２６】
【表１】
【００２７】得られた超純水の電導度と低圧紫外線酸化
装置以降の各装置の流出水の溶存酸素は表２に示す通り
であった。
装置以降の各装置の流出水の溶存酸素は表２に示す通り
であった。
【００２８】
【表２】
【００２９】表２より、本発明例によると溶存酸素濃度
が極めて低い超純水が得られることが明らかである。
が極めて低い超純水が得られることが明らかである。
【００３０】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水製造
装置によると、溶存酸素濃度が著しく低い超純水を製造
できる。
装置によると、溶存酸素濃度が著しく低い超純水を製造
できる。
【図１】本発明の超純水製造装置の一実施例を示す系統
図である。
図である。
【図２】従来の超純水製造装置を示す系統図である。
【符号の説明】 １ 前処理システム ２ 一次純水システム ３ サブシステム １１ サブタンク １２ ポンプ １３ 熱交換器 １４ 低圧紫外線酸化装置 １５ イオン交換装置（デミナー） １６ 膜式脱気装置 １７ 限外濾過膜分離装置
Claims (1)
- 【請求項１】 一次純水を導入し、少なくとも紫外線照
射酸化装置とイオン交換純水装置とを有するサブシステ
ムに通水して超純水を得る超純水製造装置において、 該イオン交換純水装置の後段に膜式脱気装置を配置した
ことを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18001895A JPH0929251A (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18001895A JPH0929251A (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0929251A true JPH0929251A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=16076028
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18001895A Pending JPH0929251A (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0929251A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004024639A1 (en) * | 2002-09-12 | 2004-03-25 | Chemitreat Pte Ltd | Method of removing organic impurities from water |
| US6733661B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-05-11 | Renesas Technology Corp. | Ultrapure water producing apparatus |
| KR100796561B1 (ko) * | 2006-08-16 | 2008-01-23 | 지은상 | 막분리를 이용한 발전소용 순수제조방법 |
| JP2008119658A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 紫外線酸化装置及び有機物除去装置 |
| JP2012510365A (ja) * | 2008-12-01 | 2012-05-10 | テクニシェ・ユニヴェルシテイト・デルフト | 膜を利用した超純水を製造するためのプロセス |
| WO2019155672A1 (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-15 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システムの微粒子管理方法 |
| JP2020199436A (ja) * | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2022029769A (ja) * | 2020-08-05 | 2022-02-18 | 水ｉｎｇ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
-
1995
- 1995-07-17 JP JP18001895A patent/JPH0929251A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6733661B2 (en) | 2001-03-26 | 2004-05-11 | Renesas Technology Corp. | Ultrapure water producing apparatus |
| CN100482602C (zh) | 2002-09-12 | 2009-04-29 | 化学处理私人有限公司 | 从水中脱除有机杂质的方法 |
| GB2408737A (en) * | 2002-09-12 | 2005-06-08 | Chemitreat Pte Ltd | Method of removing organic impurities from water |
| JP2005538827A (ja) * | 2002-09-12 | 2005-12-22 | ケミトリート ピーティーイー リミテッド | 水からの有機不純物除去方法 |
| GB2408737B (en) * | 2002-09-12 | 2006-06-07 | Chemitreat Pte Ltd | Method of removing organic impurities from water |
| WO2004024639A1 (en) * | 2002-09-12 | 2004-03-25 | Chemitreat Pte Ltd | Method of removing organic impurities from water |
| KR100796561B1 (ko) * | 2006-08-16 | 2008-01-23 | 지은상 | 막분리를 이용한 발전소용 순수제조방법 |
| JP2008119658A (ja) * | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 紫外線酸化装置及び有機物除去装置 |
| JP2012510365A (ja) * | 2008-12-01 | 2012-05-10 | テクニシェ・ユニヴェルシテイト・デルフト | 膜を利用した超純水を製造するためのプロセス |
| WO2019155672A1 (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-15 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システムの微粒子管理方法 |
| JP2019136628A (ja) * | 2018-02-07 | 2019-08-22 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造システムの微粒子管理方法 |
| JP2020199436A (ja) * | 2019-06-06 | 2020-12-17 | 栗田工業株式会社 | 超純水製造装置及び超純水製造方法 |
| JP2022029769A (ja) * | 2020-08-05 | 2022-02-18 | 水ｉｎｇ株式会社 | 純水製造装置及び純水製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3180348B2 (ja) | 純水の製造方法 | |
| KR100687361B1 (ko) | 오존 용해수의 제조장치 | |
| US12338152B2 (en) | Boron removal device and boron removal method, and pure water production device and pure water production method | |
| WO2009082008A1 (ja) | 過酸化水素除去方法およびその装置、オゾン水製造方法およびその装置、並びに洗浄方法およびその装置 | |
| JPH0929251A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP4552327B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP2000015257A (ja) | 高純度水の製造装置および方法 | |
| JP4519930B2 (ja) | 超純水製造方法及び超純水製造装置 | |
| JP5211414B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH09253638A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP4826864B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP2003145148A (ja) | 超純水供給装置及び超純水供給方法 | |
| JPH09192658A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP2000308815A (ja) | オゾン溶解水の製造装置 | |
| JP2002355683A (ja) | 超純水製造方法及び超純水製造装置 | |
| JP2006192354A (ja) | 非再生型イオン交換容器及び超純水製造装置 | |
| JP3645007B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JP3727156B2 (ja) | 脱塩装置 | |
| JP4159823B2 (ja) | 超純水製造方法 | |
| JP3580648B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH09253639A (ja) | 超純水製造装置 | |
| JPH1094785A (ja) | 超純水製造方法および製造装置 | |
| US12577132B2 (en) | Ultrapure water production system and ultrapure water production method | |
| JP5257175B2 (ja) | 超純水製造装置 | |
| Saitoh et al. | Simultaneous removal of DO and TOC in ultrapure water by using UV rays |