JPH092930A - 光安定性の化粧品用光遮断組成物 - Google Patents
光安定性の化粧品用光遮断組成物Info
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- JPH092930A JPH092930A JP8159920A JP15992096A JPH092930A JP H092930 A JPH092930 A JP H092930A JP 8159920 A JP8159920 A JP 8159920A JP 15992096 A JP15992096 A JP 15992096A JP H092930 A JPH092930 A JP H092930A
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- heptan
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- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/33—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing oxygen
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- A—HUMAN NECESSITIES
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- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
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- A61K2800/52—Stabilizers
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- A61K2800/59—Mixtures
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- Acyclic And Carbocyclic Compounds In Medicinal Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、人体の表皮および毛髪を３２０と
４００ｎｍの間の、および３２０と４００ｎｍのそれぞ
れ紫外線に対して保護するための光安定性の化粧品用光
遮断組成物に関する。 【解決手段】 本発明は少なくとも一種の脂肪相を含む
化粧品用に許容されるビヒクル中に、ジベンゾイルメタ
ン型のＵＶ−Ａ遮断剤および一般式、 【化１】 のベンジリデン型安定剤から成り、そして４−メチルベ
ンジリデンカンフルが式Ｉの範囲から除外される場合に
は、さらに、任意に、少なくとも一種の慣用のＵＶ−Ｂ
フィルターを含む、光安定性の化粧品用光遮断組成物か
ら成る。
４００ｎｍの間の、および３２０と４００ｎｍのそれぞ
れ紫外線に対して保護するための光安定性の化粧品用光
遮断組成物に関する。 【解決手段】 本発明は少なくとも一種の脂肪相を含む
化粧品用に許容されるビヒクル中に、ジベンゾイルメタ
ン型のＵＶ−Ａ遮断剤および一般式、 【化１】 のベンジリデン型安定剤から成り、そして４−メチルベ
ンジリデンカンフルが式Ｉの範囲から除外される場合に
は、さらに、任意に、少なくとも一種の慣用のＵＶ−Ｂ
フィルターを含む、光安定性の化粧品用光遮断組成物か
ら成る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、人体の表皮および
毛髪を３２０と４００ｎｍの間の、および２９０と４０
０ｎｍの間のそれぞれ紫外線に対して保護するための光
安定性の化粧品用光遮断組成物に関する。
毛髪を３２０と４００ｎｍの間の、および２９０と４０
０ｎｍの間のそれぞれ紫外線に対して保護するための光
安定性の化粧品用光遮断組成物に関する。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】特に、本発明は少なく
とも一種の脂肪相を含む化粧品用に許容されるビヒクル
中に、約０．７５より約５重量％までの、特に約１より
約４重量％までの、ジベンゾイルメタン型のＵＶ−Ａ遮
断剤および少なくとも約０．５より約２重量％の、特に
約０．５より約１重量％の、一般式、
とも一種の脂肪相を含む化粧品用に許容されるビヒクル
中に、約０．７５より約５重量％までの、特に約１より
約４重量％までの、ジベンゾイルメタン型のＵＶ−Ａ遮
断剤および少なくとも約０．５より約２重量％の、特に
約０．５より約１重量％の、一般式、
【化３】 式中、
【化４】 はカンフル（１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン）、ノルカンフル（ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン）、ノピノン
（６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−２−オン）、ピノカンフォン（４，６，６−トリメチ
ル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−３−オン）、ベ
ルバノン（４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．
１．１］ヘプタン−２−オン）、ツジョン（１−イソプ
ロピル−４−メチル−ビシクロ［３．１．０］ヘキサン
−３−オン）または４，７−メタノ−オクタヒドロ−イ
ンデン−５−オン構造を有する橋かけ環式化合物を表
し、および式中Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 は独立に水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシを示し、または二つの隣接する
基はメチレンジオキシを表す、のベンジリデン型安定剤
から成り、そして前記のカンフル誘導体の場合には、Ｕ
Ｖ−Ａフィルターの安定剤に対する比率は約１．５：１
より大きく、好ましくは約２より約６：１であり、およ
び４−メチルベンジリデンカンフルが式Ｉの範囲から除
外される場合には、さらに、任意に、少なくとも一種の
慣用のＵＶ−Ｂフィルターを含む、光安定性の化粧品用
光遮断組成物を提供する。
２．１］ヘプタン−２−オン）、ノルカンフル（ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン）、ノピノン
（６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−２−オン）、ピノカンフォン（４，６，６−トリメチ
ル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−３−オン）、ベ
ルバノン（４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．
１．１］ヘプタン−２−オン）、ツジョン（１−イソプ
ロピル−４−メチル−ビシクロ［３．１．０］ヘキサン
−３−オン）または４，７−メタノ−オクタヒドロ−イ
ンデン−５−オン構造を有する橋かけ環式化合物を表
し、および式中Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 は独立に水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシを示し、または二つの隣接する
基はメチレンジオキシを表す、のベンジリデン型安定剤
から成り、そして前記のカンフル誘導体の場合には、Ｕ
Ｖ−Ａフィルターの安定剤に対する比率は約１．５：１
より大きく、好ましくは約２より約６：１であり、およ
び４−メチルベンジリデンカンフルが式Ｉの範囲から除
外される場合には、さらに、任意に、少なくとも一種の
慣用のＵＶ−Ｂフィルターを含む、光安定性の化粧品用
光遮断組成物を提供する。
【０００３】
【課題を解決するための手段】これらの、オルト結合に
表現された、上記の式II骨格の構造は次の様である。
表現された、上記の式II骨格の構造は次の様である。
【化５】
【０００４】Ｒ1 ，Ｒ2 およびＲ3 は水素または１０個
までの、好ましくは８個までの炭素原子を有するアルキ
ル基を示す。特に例をあげれば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓ−
ペンチル、ｔ−ペンチル、２−メチル−ブチルおよびネ
オペンチル、ヘキシル、オクチル、イソオクチル、ｔ−
オクチルなどを含む。
までの、好ましくは８個までの炭素原子を有するアルキ
ル基を示す。特に例をあげれば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、イソブ
チル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ｓ−
ペンチル、ｔ−ペンチル、２−メチル−ブチルおよびネ
オペンチル、ヘキシル、オクチル、イソオクチル、ｔ−
オクチルなどを含む。
【０００５】適当なアルコキシ基はメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、イソプロポキシなどである。この列挙
されたものから、アルキルとアルコキシ基は本発明に関
して直鎖のおよび枝分かれの基を表すこともまた推論さ
れることができる。
シ、プロポキシ、イソプロポキシなどである。この列挙
されたものから、アルキルとアルコキシ基は本発明に関
して直鎖のおよび枝分かれの基を表すこともまた推論さ
れることができる。
【０００６】特に好ましい基は水素、メチル、エチル、
プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシである。さらに好ま
しい態様は（Ｉ）のＲ1 とＲ2 が水素である化合物、ま
たは（Ｉ）の少なくとも一つのＲ基が水素であり、その
他は水素、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキ
シ、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキシまたはエトキ
シである化合物から成る。
プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシである。さらに好ま
しい態様は（Ｉ）のＲ1 とＲ2 が水素である化合物、ま
たは（Ｉ）の少なくとも一つのＲ基が水素であり、その
他は水素、メチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキ
シ、イソプロピル、ｔ−ブチル、メトキシまたはエトキ
シである化合物から成る。
【０００７】式Ｉはすべて可能な立体異性体、例えば、
ジアステレオマー、光学異性体、および幾何異性体、特
に分子のα、β−不飽和ケトン部分において生ずるよう
なＺおよびＥ異性体、を包含するものでなければならな
い。
ジアステレオマー、光学異性体、および幾何異性体、特
に分子のα、β−不飽和ケトン部分において生ずるよう
なＺおよびＥ異性体、を包含するものでなければならな
い。
【０００８】化合物Ｉは紫外線、主としてエリテミック
領域（２９０−３２０ｎｍ）、を吸収することにそれ自
身効果があるが、それらの本発明における機能は前記の
ＵＶ−Ａフィルターを光安定化することである。
領域（２９０−３２０ｎｍ）、を吸収することにそれ自
身効果があるが、それらの本発明における機能は前記の
ＵＶ−Ａフィルターを光安定化することである。
【０００９】新規な組み合わせのＵＶ−Ａ光遮断剤に関
する限り、特に好ましい化合物は、例えば、米国特許第
４，３８７，０８９号またはスイス特許第６４２，５３
６号に開示されているように、４−ｔ−ブチル−４’−
メトキシ−ジベンゾイルメタンである。
する限り、特に好ましい化合物は、例えば、米国特許第
４，３８７，０８９号またはスイス特許第６４２，５３
６号に開示されているように、４−ｔ−ブチル−４’−
メトキシ−ジベンゾイルメタンである。
【００１０】この特別な型のその他の適当な化合物は２
−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイル
メタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔ
−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベン
ゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、２−メ
チル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイル
メタン、２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシ
ジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキ
シジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔ
−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである。
−メチルジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイル
メタン、４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔ
−ブチルジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベン
ゾイルメタン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、
４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、２−メ
チル−５−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイル
メタン、２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシ
ジベンゾイルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキ
シジベンゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔ
−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである。
【００１１】式Ｉの化合物の機能は、上記に指摘された
ように、伴われたＵＶ−Ａ遮断剤を光安定化すること、
即ち、長い期間紫外光に露出されている間不変の保護を
保証することである。かくして、もしいろいろな間隔で
化粧品配合物を繰り返して適用することが必要な場合に
は、これらの間隔は延長されることができる。
ように、伴われたＵＶ−Ａ遮断剤を光安定化すること、
即ち、長い期間紫外光に露出されている間不変の保護を
保証することである。かくして、もしいろいろな間隔で
化粧品配合物を繰り返して適用することが必要な場合に
は、これらの間隔は延長されることができる。
【００１２】本発明は従ってまた、約０．５より約２重
量％の前記の安定剤を約０．７５より約５重量％のジベ
ンゾイルメタンＵＶ−Ａ光遮断剤に加えることを特徴と
する、３２０と４００ｎｍの間の波長の紫外線に関する
ジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮断剤を安定化する方法に
関する。
量％の前記の安定剤を約０．７５より約５重量％のジベ
ンゾイルメタンＵＶ−Ａ光遮断剤に加えることを特徴と
する、３２０と４００ｎｍの間の波長の紫外線に関する
ジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮断剤を安定化する方法に
関する。
【００１３】
【発明の実施の形態】ＵＶ−Ａフィルターの材料の望ま
しい安定化は、太陽光実験装置として適当に装備された
キセノン灯を使用してそれぞれＵＶ−Ａフィルターと新
規化合物Ｉによる厳密に平行する実験を行うことにより
容易に証明される。試験される製品の標準試料、例え
ば、高い沸点の化粧品溶媒、例えば、デルチル（ミリス
チン酸イソプロピル）、の中の溶液で、かくして調製さ
れたサンスクリーン剤はガラス板の上に塗布されてから
照射される。照射の後、前記のガラス板は適当な溶媒
（例えば、エタノール）の中に浸されてから、ＵＶスペ
クトルが記録される。安定化効果は照射の前と後のλ
mAX における吸収に直接関係づけられる。通常、２％の
ＵＶ−Ａフィルターと１％の安定剤の組み合わせが評価
のために使用される。
しい安定化は、太陽光実験装置として適当に装備された
キセノン灯を使用してそれぞれＵＶ−Ａフィルターと新
規化合物Ｉによる厳密に平行する実験を行うことにより
容易に証明される。試験される製品の標準試料、例え
ば、高い沸点の化粧品溶媒、例えば、デルチル（ミリス
チン酸イソプロピル）、の中の溶液で、かくして調製さ
れたサンスクリーン剤はガラス板の上に塗布されてから
照射される。照射の後、前記のガラス板は適当な溶媒
（例えば、エタノール）の中に浸されてから、ＵＶスペ
クトルが記録される。安定化効果は照射の前と後のλ
mAX における吸収に直接関係づけられる。通常、２％の
ＵＶ−Ａフィルターと１％の安定剤の組み合わせが評価
のために使用される。
【００１４】本発明の光遮断剤の組み合わせの両成分は
親油性である。これらの化粧品配合物は従ってエマルシ
ョン、ローションまたはゲルの形を呈することができ
る。
親油性である。これらの化粧品配合物は従ってエマルシ
ョン、ローションまたはゲルの形を呈することができ
る。
【００１５】本発明の化粧品用光遮断組成物はオイル、
ローション、ゲル、固形スティック、エマルション、例
えば、クリーム、ミルクの形または、イオン性または非
イオン性の両親媒性脂質の小胞分散液、エーロゾル、ス
プレー、フォーム、パウダー、シャンプー、ヘアコンデ
ィショナーまたはラッカー、あるいはメイクアップなど
の形をとることが適当である。
ローション、ゲル、固形スティック、エマルション、例
えば、クリーム、ミルクの形または、イオン性または非
イオン性の両親媒性脂質の小胞分散液、エーロゾル、ス
プレー、フォーム、パウダー、シャンプー、ヘアコンデ
ィショナーまたはラッカー、あるいはメイクアップなど
の形をとることが適当である。
【００１６】熟練した当業者に周知の溶媒、例えば、オ
イル、ワックス、アルコール、多価アルコールなど、は
これらの形の製剤のために使用することができる。とく
に好ましい媒体は脂肪酸、エステル、脂肪アルコールで
あるが、エタノール、イソプロパノール、プロピレング
リコール、グリセリンなどもまた好ましい。
イル、ワックス、アルコール、多価アルコールなど、は
これらの形の製剤のために使用することができる。とく
に好ましい媒体は脂肪酸、エステル、脂肪アルコールで
あるが、エタノール、イソプロパノール、プロピレング
リコール、グリセリンなどもまた好ましい。
【００１７】本発明の化粧品配合物はさらに、溶媒、増
粘剤、皮膚軟化剤、乳化剤、湿潤剤、界面活性剤、保存
剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、低級多価アル
コールおよび一価アルコール、噴射剤、シリコーン、着
色剤および顔料などの補助剤を含むことがある。
粘剤、皮膚軟化剤、乳化剤、湿潤剤、界面活性剤、保存
剤、消泡剤、芳香剤、オイル、ワックス、低級多価アル
コールおよび一価アルコール、噴射剤、シリコーン、着
色剤および顔料などの補助剤を含むことがある。
【００１８】ＵＶ−Ｂフィルターもまた組み入れられる
ことがある。いくつかの例が前記の米国特許第４，３８
７，０８９号に挙げられている。さらに適当なＵＶ−Ｂ
フィルターとして極微小粒顔料、例えば、慣用の金属酸
化物のマイクロ顔料、が使用されることがある。特にエ
マルションの場合には、そのようなＵＶフィルターは当
然また水溶性誘導体であってもよい。ＵＶ−Ｂフィルタ
ーの適当な量は約１より約１２％までである。
ことがある。いくつかの例が前記の米国特許第４，３８
７，０８９号に挙げられている。さらに適当なＵＶ−Ｂ
フィルターとして極微小粒顔料、例えば、慣用の金属酸
化物のマイクロ顔料、が使用されることがある。特にエ
マルションの場合には、そのようなＵＶフィルターは当
然また水溶性誘導体であってもよい。ＵＶ−Ｂフィルタ
ーの適当な量は約１より約１２％までである。
【００１９】本発明の新規安定剤の主要な利点は該新規
安定剤の低い投与量から生ずるが、その投与量は使用さ
れるＵＶ−Ａフィルターの投与量よりもかなり少ないこ
とさえあり得る。従って実際の使用者はＵＶ−Ｂ線の濾
光のために使用される材料の選択において完全に自由で
ある。
安定剤の低い投与量から生ずるが、その投与量は使用さ
れるＵＶ−Ａフィルターの投与量よりもかなり少ないこ
とさえあり得る。従って実際の使用者はＵＶ−Ｂ線の濾
光のために使用される材料の選択において完全に自由で
ある。
【００２０】毛髪の保護の場合には、適当な配合物はシ
ャンプー、コンディショナー、ローション、ゲル、エマ
ルション、ディスパージョン、ラッカーなどである。
ャンプー、コンディショナー、ローション、ゲル、エマ
ルション、ディスパージョン、ラッカーなどである。
【００２１】すべてこれらの配合の製剤はこの分野にお
ける熟練した当業者に周知のものである。
ける熟練した当業者に周知のものである。
【００２２】本発明の目的に使用される適当な安定剤の
例は下の表Ｉのものである。
例は下の表Ｉのものである。
【００２３】
【表１】表 Ｉ 実例の化合物 １） ＊３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−６，
６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−
オン、 ２） ３−（ベンジリデン）−１，７，７−トリメチ
ル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、 ３） ６−ベンジリデン−オクタヒドロ−４，７−メ
タノ−インデン−５−オン、 ４） ３−ベンジリデン−４，６，６−トリメチル−
ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−オン、 ５） ３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−１，
７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−オン、 ６） ３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−１，
７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−オン、 ７） ３−（２’，３’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−オン、 ８） ３−（３’，５’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−オン、 ９） ３−（３’−プロポキシ−ベンジリデン）−
６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−
２−オン、 １０） ３−（２’，４’−ジメチル−ベンジリデン）
−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−オン、 １１） ２−（３’−メトキシ−ベンジリデン）−１−
イソプロピル−４−メチル−ビシクロ［３．１．０］ヘ
キサン−３−オン、 １２） ３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−
２−オン、 １３）＊３−（３’，４’，５’−トリメトキシ−ベン
ジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン、 １４）＊３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−オン、 １５）＊３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、 １６） ６−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−オ
クタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−オン、 １７）＊３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプ
タン−２−オン、 １８）＊３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−２−オン、 １９）＊２−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプ
タン−３−オン、 ２０）＊６−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−オク
タヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−オン、 ２１）＊２−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−３−オン、 ２２） ３−（３’，４’−メチレン−ジオキシ−ベン
ジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン、 ２３）＊３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、 ２４）＊２−（２’，４’−ジメチル−ベンジリデン）
−４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘ
プタン−３−オン、 ２５） ６−（３’，４’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−４，７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−
オン、または ２６）＊６−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−オン。
６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−
オン、 ２） ３−（ベンジリデン）−１，７，７−トリメチ
ル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、 ３） ６−ベンジリデン−オクタヒドロ−４，７−メ
タノ−インデン−５−オン、 ４） ３−ベンジリデン−４，６，６−トリメチル−
ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−オン、 ５） ３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−１，
７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−オン、 ６） ３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−１，
７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−オン、 ７） ３−（２’，３’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−オン、 ８） ３−（３’，５’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−オン、 ９） ３−（３’−プロポキシ−ベンジリデン）−
６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−
２−オン、 １０） ３−（２’，４’−ジメチル−ベンジリデン）
−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−オン、 １１） ２−（３’−メトキシ−ベンジリデン）−１−
イソプロピル−４−メチル−ビシクロ［３．１．０］ヘ
キサン−３−オン、 １２） ３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−
２−オン、 １３）＊３−（３’，４’，５’−トリメトキシ−ベン
ジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン、 １４）＊３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−オン、 １５）＊３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−ビ
シクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、 １６） ６−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−オ
クタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−オン、 １７）＊３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプ
タン−２−オン、 １８）＊３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−２−オン、 １９）＊２−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプ
タン−３−オン、 ２０）＊６−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−オク
タヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−オン、 ２１）＊２−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−３−オン、 ２２） ３−（３’，４’−メチレン−ジオキシ−ベン
ジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン、 ２３）＊３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、 ２４）＊２−（２’，４’−ジメチル−ベンジリデン）
−４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘ
プタン−３−オン、 ２５） ６−（３’，４’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−４，７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−
オン、または ２６）＊６−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−オン。
【００２４】特に好ましい化合物は番号１，５，１４，
１６，２５および２６である。
１６，２５および２６である。
【００２５】＊印を付けた化合物は新規化合物である。
これらの新規化合物の製造は当業者に周知の化学手法に
より行うことができる。従って化合物Ｉの製造に適当な
方法は適当な二環式または三環式化合物IIを対応するベ
ンズアルデヒドと共に塩基性媒体中でアルドール縮合の
条件にさらすこと、そして好ましくは高い温度で、水の
分離をもたらすこと、およびその反応混合物から生成し
た化合物Ｉを分離することから成る。
これらの新規化合物の製造は当業者に周知の化学手法に
より行うことができる。従って化合物Ｉの製造に適当な
方法は適当な二環式または三環式化合物IIを対応するベ
ンズアルデヒドと共に塩基性媒体中でアルドール縮合の
条件にさらすこと、そして好ましくは高い温度で、水の
分離をもたらすこと、およびその反応混合物から生成し
た化合物Ｉを分離することから成る。
【００２６】アルデヒドと、二つの活性なオルト水素を
有する式IIのケト化合物との間のアルドール縮合の条件
は熟練した化学者には周知のものである。
有する式IIのケト化合物との間のアルドール縮合の条件
は熟練した化学者には周知のものである。
【００２７】それらの反応相手はかくして適当な溶媒中
で、好ましくは約１：約１の比率で、混合される。その
ような溶媒は非プロトン性であると好都合であり、例え
ば、いずれかのエーテルまたはいずれか任意にハロゲン
化された炭化水素、例えば、ジエチルエーテル、ベンゼ
ン、トルエン、あるいはまたジメチルホルムアミドなど
である。クラウンエーテルが触媒として加えられること
もある。
で、好ましくは約１：約１の比率で、混合される。その
ような溶媒は非プロトン性であると好都合であり、例え
ば、いずれかのエーテルまたはいずれか任意にハロゲン
化された炭化水素、例えば、ジエチルエーテル、ベンゼ
ン、トルエン、あるいはまたジメチルホルムアミドなど
である。クラウンエーテルが触媒として加えられること
もある。
【００２８】しかしまたプロトン性溶媒、例えば、メタ
ノール、エタノールまたはイソプロパノールのような慣
用の脂肪族アルコールも適当である。反応は高い温度、
例えば、反応混合物の還流温度のような温度、で行われ
ることが好ましい。しかしまた周囲温度もまた適当なこ
ともある。
ノール、エタノールまたはイソプロパノールのような慣
用の脂肪族アルコールも適当である。反応は高い温度、
例えば、反応混合物の還流温度のような温度、で行われ
ることが好ましい。しかしまた周囲温度もまた適当なこ
ともある。
【００２９】反応操作はいずれかの強塩基、例えば、無
機または有機の通例アルドール縮合に使用されるそのよ
うな塩基、の存在で行われる。
機または有機の通例アルドール縮合に使用されるそのよ
うな塩基、の存在で行われる。
【００３０】これらの塩基のパレットは従って特に（ア
ルカリ）金属の水酸化物、アルコラート、水素化物、お
よび（第二級）アミン、例えば、ピロリドン、モルホリ
ン、ピペリジンなど、を包含する。
ルカリ）金属の水酸化物、アルコラート、水素化物、お
よび（第二級）アミン、例えば、ピロリドン、モルホリ
ン、ピペリジンなど、を包含する。
【００３１】
例 １． 次の三つの手順Ａ、ＢおよびＣは化合物Ｉを
製造するために用いられた。物理的データはそれぞれの
場合に仮定された構造に一致していた。 Ａ．１０ｇ（６５．７ミリモル）のカンフル、６．６ｇ
の粉末化ＫＯＨおよび２ｇ（７．５ミリモル）の１８−
クラウン−６−エーテルを１８０ｍｌのトルエン中へ窒
素下に懸濁させる。１２．９ｇ（６５．７ミリモル）の
３，４，５−トリメトキシ−ベンズアルデヒドの、５０
ｍｌのトルエン中溶液を加える。その混合物を７０℃に
１８時間加熱する。反応生成物を冷却させてから、エー
テルと水の間に分配する。有機相をＮａ2 ＳＯ4 により
乾燥させてから濃縮した。その粗製品をエーテルと少量
のエタノールから再結晶させる。 収量：化合物Ｎｏ．１３の白色結晶１３．２ｇ（６１
％）；融点１２３℃，ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３１３ｎｍ
（ε＝１８３１９）。
製造するために用いられた。物理的データはそれぞれの
場合に仮定された構造に一致していた。 Ａ．１０ｇ（６５．７ミリモル）のカンフル、６．６ｇ
の粉末化ＫＯＨおよび２ｇ（７．５ミリモル）の１８−
クラウン−６−エーテルを１８０ｍｌのトルエン中へ窒
素下に懸濁させる。１２．９ｇ（６５．７ミリモル）の
３，４，５−トリメトキシ−ベンズアルデヒドの、５０
ｍｌのトルエン中溶液を加える。その混合物を７０℃に
１８時間加熱する。反応生成物を冷却させてから、エー
テルと水の間に分配する。有機相をＮａ2 ＳＯ4 により
乾燥させてから濃縮した。その粗製品をエーテルと少量
のエタノールから再結晶させる。 収量：化合物Ｎｏ．１３の白色結晶１３．２ｇ（６１
％）；融点１２３℃，ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３１３ｎｍ
（ε＝１８３１９）。
【００３２】Ｂ．１０ｇ（６５．７ミリモル）のカンフ
ル、６．６ｇの粉末化ＫＯＨおよび２ｇ（７．５ミリモ
ル）の１８−クラウン−６−エーテルを１８０ｍｌのＴ
ＨＦ中へ窒素下に懸濁させる。１０．２ｇ（６５．７ミ
リモル）のピペロナールの、５０ｍｌのトルエン中溶液
を加える。その混合物を６５℃に１８時間加熱する。反
応生成物を冷却させてから、エーテルと水の間に分配す
る。有機相をＮａ2 ＳＯ4 により乾燥させてから濃縮し
た。その粗製品をエーテルと少量のエタノールから再結
晶させる。 収量：化合物Ｎｏ．２２の白色結晶１３．７ｇ（７４
％）；融点１３２℃，ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３３３ｎｍ
（ε＝１７５４５）。
ル、６．６ｇの粉末化ＫＯＨおよび２ｇ（７．５ミリモ
ル）の１８−クラウン−６−エーテルを１８０ｍｌのＴ
ＨＦ中へ窒素下に懸濁させる。１０．２ｇ（６５．７ミ
リモル）のピペロナールの、５０ｍｌのトルエン中溶液
を加える。その混合物を６５℃に１８時間加熱する。反
応生成物を冷却させてから、エーテルと水の間に分配す
る。有機相をＮａ2 ＳＯ4 により乾燥させてから濃縮し
た。その粗製品をエーテルと少量のエタノールから再結
晶させる。 収量：化合物Ｎｏ．２２の白色結晶１３．７ｇ（７４
％）；融点１３２℃，ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３３３ｎｍ
（ε＝１７５４５）。
【００３３】Ｃ．２１．８ｇのカリウムｔ−ブトキシド
を３００ｍｌのｔ−ブタノール中に溶解させる。この混
合物を、２２．８ｇ（＋／−）−カンフルと４０．８ｇ
の２−メトキシベンズアルデヒドのｔ−ブタノール２５
０ｍｌ中によく攪拌された溶液へ３０分間に加える。そ
れから反応混合物を室温で１日間攪拌する。粗反応生成
物を分別漏斗へ移し、約５００ｍｌのｔ−ブチルメチル
エーテルで希釈してから、１０％塩化ナトリウム水溶液
で数回洗う。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、
濾過してから、減圧下に蒸発させる。その結晶性淡黄色
残留物（５１ｇ）を２５ｍｌのエタノールから４℃で再
結晶させると、（濾過と乾燥の後）３２．４ｇ（収率８
０％）の純粋な化合物６を得る。ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３
２４ｎｍ（ε＝１２１８０）。
を３００ｍｌのｔ−ブタノール中に溶解させる。この混
合物を、２２．８ｇ（＋／−）−カンフルと４０．８ｇ
の２−メトキシベンズアルデヒドのｔ−ブタノール２５
０ｍｌ中によく攪拌された溶液へ３０分間に加える。そ
れから反応混合物を室温で１日間攪拌する。粗反応生成
物を分別漏斗へ移し、約５００ｍｌのｔ−ブチルメチル
エーテルで希釈してから、１０％塩化ナトリウム水溶液
で数回洗う。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥させ、
濾過してから、減圧下に蒸発させる。その結晶性淡黄色
残留物（５１ｇ）を２５ｍｌのエタノールから４℃で再
結晶させると、（濾過と乾燥の後）３２．４ｇ（収率８
０％）の純粋な化合物６を得る。ＵＶ（ＥｔＯＨ）：３
２４ｎｍ（ε＝１２１８０）。
【００３４】例２．サンスクリーンローションは次の成
分により調製される。ローションａ） ％（Ｗ／Ｗ） Ａ グリセリルモノステアラート ４．０ オクチルメトキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸTM） ２．０ オクチルサリチラート ２．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２．０ （１−［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］−３− （４−メトキシフェニル）−１，３−フロパンジオン） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＰＡＲＳＯＬ １７８９で発売されている） ３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７− トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン ０．５ セチルアルコール １．０ ココ−カプリラート／カプラート ６．０ （ココナットアルコールとｎ−オクタン酸および ｎ−デカン酸のエステルの混合物） （ＨｅｎｋｅｌによりＣＥＴＩＯＬ ＬＣの商品名で発売されている） セチルリン酸カリウム（ヘキサデシルホスファートのカリウム塩） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＡＭＰＨＩＳＯＬ Ｋで発売されている） ２．０ ＥＤＴＡ Ｎａ2 ０．１
分により調製される。ローションａ） ％（Ｗ／Ｗ） Ａ グリセリルモノステアラート ４．０ オクチルメトキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸTM） ２．０ オクチルサリチラート ２．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２．０ （１−［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］−３− （４−メトキシフェニル）−１，３−フロパンジオン） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＰＡＲＳＯＬ １７８９で発売されている） ３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７− トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン ０．５ セチルアルコール １．０ ココ−カプリラート／カプラート ６．０ （ココナットアルコールとｎ−オクタン酸および ｎ−デカン酸のエステルの混合物） （ＨｅｎｋｅｌによりＣＥＴＩＯＬ ＬＣの商品名で発売されている） セチルリン酸カリウム（ヘキサデシルホスファートのカリウム塩） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＡＭＰＨＩＳＯＬ Ｋで発売されている） ２．０ ＥＤＴＡ Ｎａ2 ０．１
【００３５】 Ｂ 脱イオン水 ３４．７５ カルボマー（１％水中分散液、スクロースのアリルエーテル により橋かけされたアクリル酸のホモポリマー） １０．０ （Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈにより商品名Ｃａｒｂｏｐｏｌ ９８０TMで発売されている） プロピレングリコール ５．０ 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．４５ フェノキシエタノール中のパラベン混合物 ０．６
【００３６】 Ｃ フェニルベンズイミダゾールスルホン酸 ２．０ 脱イオン水 ２０．０ 水酸化カリウム、１０％溶液 ３．６
【００３７】ローションｂ） ： ％（Ｗ／Ｗ） Ａ グリセリルモノステアラート ４．０ オクチルメトキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸTM） ２．０ オクチルサリチラート ２．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２．０ （１−［４−（１，１−ジメチルエチル）フェニル］−３− （４−メトキシフェニル）−１，３−フロパンジオン） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＰＡＲＳＯＬ １７８９で発売されている） ３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７− トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン ０．５ セチルアルコール １．０ ココ−カプリラート／カプラート ６．０ （ココナットアルコールとｎ−オクタン酸および ｎ−デカン酸のエステルの混合物） （ＨｅｎｋｅｌによりＣＥＴＩＯＬ ＬＣの商品名で発売されている） セチルリン酸カリウム（ヘキサデシルホスファートのカリウム塩） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＡＭＰＨＩＳＯＬ Ｋで発売されている） ２．０ ＥＤＴＡ Ｎａ2 ０．１
【００３８】 Ｂ 脱イオン水 ３４．７５ カルボマー（１％水中分散液、スクロースのアリルエーテル により橋かけされたアクリル酸のホモポリマー） １０．０ （Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈにより商品名Ｃａｒｂｏｐｏｌ ９８０TMで発売されている） プロピレングリコール ５．０ 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．４５ フェノキシエタノール中のパラベン混合物 ０．６
【００３９】 Ｃ フェニルベンズイミダゾールスルホン酸 ２．０ 脱イオン水 ２０．０ 水酸化カリウム、１０％溶液 ３．６
【００４０】ローションｃ） ： ％（Ｗ／Ｗ） Ａ グリセリルモノステアラート ４．０ オクチルジメチルＰＡＢＡ（ｐ−アミノ安息香酸） ３．０ ホモサラート（ホモメンチルサリチラート） １．０ ベンゾフェノン−３ ２．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２．０ ３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７− トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン ０．５ セチルアルコール １．０ ココ−カプリラート／カプラート ６．０ セチルリン酸カリウム（ヘキサデシルホスファートのカリウム塩） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＡＭＰＨＩＳＯＬ Ｋで発売されている） ２．０ ＥＤＴＡ Ｎａ2 ０．１
【００４１】 Ｂ 脱イオン水 ６２．１６ カルボマー（１％水中分散液、スクロースのアリルエーテル により橋かけされたアクリル酸のホモポリマー） １０．０ （Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈにより商品名Ｃａｒｂｏｐｏｌ ９８０TMで発売されている） プロピレングリコール ５．０ 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．６４ フェノキシエタノール中のパラベン混合物 ０．６
【００４２】ローションｄ） ： ％（Ｗ／Ｗ） Ａ グリセリルモノステアラート ４．０ オクチルジメチルＰＡＢＡ（ｐ−アミノ安息香酸） ３．０ ホモサラート（ホモメンチルサリチラート） １．０ ベンゾフェノン−３ ２．０ ブチルメトキシジベンゾイルメタン ２．０ ３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７− トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン ０．５ セチルアルコール １．０ ココ−カプリラート／カプラート ６．０ セチルリン酸カリウム（ヘキサデシルホスファートのカリウム塩） （Ｇｉｖａｕｄａｎ−Ｒｏｕｒｅ Ｓ．Ａ．により商品名 ＡＭＰＨＩＳＯＬ Ｋで発売されている） ２．０ ＥＤＴＡ Ｎａ2 ０．１
【００４３】 Ｂ 脱イオン水 ６２．１６ カルボマー（１％水中分散液、スクロースのアリルエーテル により橋かけされたアクリル酸のホモポリマー） １０．０ （Ｂ．Ｆ．Ｇｏｏｄｒｉｃｈにより商品名Ｃａｒｂｏｐｏｌ ９８０TMで発売されている） プロピレングリコール ５．０ 水酸化カリウム、１０％溶液 ０．６４ フェノキシエタノール中のパラベン混合物 ０．６
フロントページの続き (72)発明者 ベルンハルト ホステットラー スイス国チューリッヒ，イム オブストガ ルテン ７ (72)発明者 ウルリッヒ フーバー スイス国チューリッヒ，ハゼルベグ ３
Claims (16)
- 【請求項１】 少なくとも一種の脂肪相を含む化粧品用
に許容されるビヒクル中に、約０．７５より約５重量％
までの、特に約１より約４重量％までの、ジベンゾイル
メタン型のＵＶ−Ａ遮断剤および少なくとも約０．５よ
り約２重量％の、特に約０．５より約１重量％の、一般
式、 【化１】 式中、 【化２】 はカンフル（１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン）、ノルカンフル（ビシク
ロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン）、ノピノン
（６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−２−オン）、ピノカンフォン（４，６，６−トリメチ
ル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−３−オン）、ベ
ルバノン（４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．
１．１］ヘプタン−２−オン）、ツジョン（１−イソプ
ロピル−４−メチル−ビシクロ［３．１．０］ヘキサン
−３−オン）または４，７−メタノ−オクタヒドロ−イ
ンデン−５−オン構造を有する橋かけ環式化合物を表
し、および式中Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 は独立に水素、低級ア
ルキル、低級アルコキシを示し、または二つの隣接する
基はメチレンジオキシを表す、の安定剤から成り、そし
て前記のカンフル誘導体の場合には、ＵＶ−Ａフィルタ
ーの安定剤に対する比率は約１．５：１より大きく、好
ましくは約２より約６：１であり、および４−メチルベ
ンジリデンカンフルが式Ｉの範囲から除外される場合に
は、さらに、任意に、少なくとも一種の慣用のＵＶ−Ｂ
フィルターを含む、光安定性の化粧品用光遮断組成物。 - 【請求項２】 ＵＶ−Ａフィルターが約１より約４％の
量に存在し、安定剤は約０．５より約１％の量に存在
し、そしてＵＶ−Ｂフィルターは約１より約１２％の量
に存在する、請求項１に記載の組成物。 - 【請求項３】 （Ｉ）のＲ1 ，Ｒ2 および／またはＲ3
が水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ
−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロ
ポキシより選択される請求項１または２に記載の組成
物。 - 【請求項４】 （Ｉ）のＲ1 およびＲ2 が水素である、
請求項１より３までのいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項５】 （Ｉ）のＲ基の少なくとも一つは水素で
あり、そしてその他は水素、メチル、イソプロピルまた
はｔ−ブチル、メトキシまたはエトキシである、請求項
１より４までのいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項６】 請求項１より５までにおいて、式Ｉの化
合物は、３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−６，
６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−
オン、３−（ベンジリデン）−１，７，７−トリメチル
−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、６−ベ
ンジリデン−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン
−５−オン、３−ベンジリデン−４，６，６−トリメチ
ル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−オン、３−
（４’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７−トリ
メチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、
３−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−１，７，７−
トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オ
ン、３−（２’，３’−ジメトキシ−ベンジリデン）−
１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−オン、３−（３’，５’−ジメトキシ−ベン
ジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．
２．１］ヘプタン−２−オン、３−（３’−プロポキシ
−ベンジリデン）−６，６−ジメチル−ビシクロ［３．
１．１］ヘプタン−２−オン、３−（２’，４’−ジメ
チル−ベンジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシ
クロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン、２−（３’−
メトキシ−ベンジリデン）−１−イソプロピル−４−メ
チル−ビシクロ［３．１．０］ヘキサン−３−オン、３
−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−６，６−ジメ
チル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−オン、３
−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−６，６−ジメチ
ル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−オン、３−
（３’，４’，５’−トリメトキシ−ベンジリデン）−
１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプ
タン−２−オン、３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデ
ン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．
１］ヘプタン−２−オン、３−（４’−ｔ−ブチル−ベ
ンジリデン）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−
オン、６−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−オク
タヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−オン、３−
（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−４，６，６−ト
リメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−オ
ン、３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−４，６，
６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２
−オン、２−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−
４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプ
タン−３−オン、６−（４’−メトキシ−ベンジリデ
ン）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５−
オン、２−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−４，
６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−３−オン、３−（３’，４’−メチレン−ジオキシ−
ベンジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−オン、３−（２’−メト
キシ−ベンジリデン）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタ
ン−２−オン、２−（２’，４’−ジメチル−ベンジリ
デン）−４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．
１］ヘプタン−３−オン、６−（３’，４’−ジメトキ
シ−ベンジリデン）−４，７−メタノ−オクタヒドロ−
インデン−５−オン、または６−（２’−メトキシ−ベ
ンジリデン）−４，７−メタノ−オクタヒドロ−インデ
ン−５−オン、である請求項１より５までのいずれか１
項に記載の組成物。 - 【請求項７】 請求項１より５までにおいて、式Ｉの化
合物は、３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−６，
６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン−２−
オン、３−（４’−メトキシ−ベンジリデン）−１，
７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン
−２−オン、３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）
−１，７，７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘ
プタン−２−オン、６−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリ
デン）−オクタヒドロ−４，７−メタノ−インデン−５
−オン、６−（３’，４’−ジメトキシ−ベンジリデ
ン）−４，７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−
オン、または６−（２’−メトキシ−ベンジリデン）−
４，７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−オン、
である請求項１より５までのいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項８】 請求項１より７までにおいて、ジベンゾ
イルメタン誘導体は次の化合物、すなわち、２−メチル
ジベンゾイルメタン、４−メチルジベンゾイルメタン、
４−イソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔ−ブチル
ジベンゾイルメタン、２，４−ジメチルジベンゾイルメ
タン、２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、４，４’
−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、４−ｔ−ブチル
−４’−メトキシジベンゾイルメタン、２−メチル−５
−イソプロピル−４’−メトキシジベンゾイルメタン、
２−メチル−５−ｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾ
イルメタン、２，４−ジメチル−４’−メトキシジベン
ゾイルメタンおよび２，６−ジメチル−４−ｔ−ブチル
−４’−メトキシジベンゾイルメタンより選択される請
求項１より７までのいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項９】 ジベンゾイルメタン誘導体は４−ｔ−ブ
チル−４’−メトキシジベンゾイルメタンである請求項
１より８までのいずれか１項に記載の組成物。 - 【請求項１０】 組成物がオイル、ローション、ゲル、
固形スティック、エマルション、例えば、クリーム、ミ
ルクの形または、イオン性または非イオン性の両親媒性
脂質の小胞分散液、エーロゾル、スプレー、フォーム、
パウダー、シャンプー、ヘアコンディショナーまたはラ
ッカー、あるいはメイクアップの形をとることを特徴と
する請求項１より９までのいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項１１】 組成物が、さらに、溶媒、増粘剤、皮
膚軟化剤、乳化剤、湿潤剤、界面活性剤、保存剤、消泡
剤、芳香剤、オイル、ワックス、低級多価アルコールお
よび一価アルコール、噴射剤、シリコーン、着色剤およ
び顔料より選択される化粧品補助剤を含むことを特徴と
する請求項１より１０までのいずれか１項に記載の組成
物。 - 【請求項１２】 請求項８または９に列挙されたジベン
ゾイルメタン誘導体のための安定剤として請求項６また
は７に列挙されたいずれかの化合物Ｉの使用。 - 【請求項１３】 化合物、３−（４’−ｔ−ブチル−ベ
ンジリデン）−１，７，７−トリメチル−ビシクロ
［２．２．１］ヘプタン−２−オン、６−（４’−メト
キシ−ベンジリデン）−オクタヒドロ−４，７−メタノ
−インデン−５−オン、３−（４’−メトキシ−ベンジ
リデン）−６，６−ジメチル−ビシクロ［３．１．１］
ヘプタン−２−オン、３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジ
リデン）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オ
ン、３−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）−４，
６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘプタン
−２−オン、２−（４’−ｔ−ブチル−ベンジリデン）
−４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．１］ヘ
プタン−３−オン、３−（４’−メトキシ−ベンジリデ
ン）−４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．１．
１］ヘプタン−２−オン、２−（４’−メトキシ−ベン
ジリデン）−４，６，６−トリメチル−ビシクロ［３．
１．１］ヘプタン−３−オン、２−（２’，４’−ジメ
チル−ベンジリデン）−４，６，６−トリメチル−ビシ
クロ［３．１．１］ヘプタン−３−オン、３−（３’，
４’，５’−トリメトキシ−ベンジリデン）−１，７，
７−トリメチル−ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２
−オン、または６−（２’−メトキシ−ベンジリデン）
−４，７−メタノ−オクタヒドロ−インデン−５−オ
ン、から成る群より選択される化合物。 - 【請求項１４】 適当な二環式または三環式化合物IIを
対応するベンズアルデヒドと共に塩基性媒体中でアルド
ール縮合の条件にさらすこと、そして好ましくは高い温
度で、水の分離をもたらすこと、およびその反応混合物
から生成した化合物Ｉを分離することから成る請求項１
３の化合物を製造する方法。 - 【請求項１５】 前記請求項に定義されたような化粧品
用光遮断組成物の有効量を皮膚または毛髪に適用するこ
とから成ることを特徴とする２９０と４００ｎｍの間の
波長の紫外線の損傷を与える作用に対して人体の表皮ま
たは毛髪を保護する方法。 - 【請求項１６】 約０．５より約２重量％の、請求項１
に定義された安定剤Ｉを約０．７５より約５重量％のジ
ベンゾイルメタンＵＶ−Ａ光遮断剤に加えることを特徴
とする、３２０と４００ｎｍの間の波長の紫外線に関す
るジベンゾイルメタンＵＶ−Ａ遮断剤を安定化する方
法。
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