JPH09302249A - アゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜 - Google Patents
アゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜Info
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- JPH09302249A JPH09302249A JP11876196A JP11876196A JPH09302249A JP H09302249 A JPH09302249 A JP H09302249A JP 11876196 A JP11876196 A JP 11876196A JP 11876196 A JP11876196 A JP 11876196A JP H09302249 A JPH09302249 A JP H09302249A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B29/00—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling
- C09B29/24—Monoazo dyes prepared by diazotising and coupling from coupling components containing both hydroxyl and amino directing groups
- C09B29/28—Amino naphthols
- C09B29/30—Amino naphtholsulfonic acid
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 染料、特に偏光膜用の染料として有用なアゾ
化合物、及び当該化合物を含有し、偏光性能及び耐久性
等に優れた染料系偏光膜を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘは１個以上のスルホ若しくはカルボキシで置
換され、さらに別の置換基で置換されていてもよいフェ
ニル、又は１個以上のスルホで置換され、さらに別の置
換基で置換されていてもよいナフチルを、Ｒ1 及びＲ2
は水素、メチル等を、Ｒ3 は水素、アミノ等を、Ｒ4 は
水素、アミノ等を、Ｙは水素、スルホ等を表す。）で示
されるアゾ化合物、及び当該アゾ化合物を偏光膜基材に
含有してなる染料系偏光膜。
化合物、及び当該化合物を含有し、偏光性能及び耐久性
等に優れた染料系偏光膜を提供する。 【解決手段】 一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘは１個以上のスルホ若しくはカルボキシで置
換され、さらに別の置換基で置換されていてもよいフェ
ニル、又は１個以上のスルホで置換され、さらに別の置
換基で置換されていてもよいナフチルを、Ｒ1 及びＲ2
は水素、メチル等を、Ｒ3 は水素、アミノ等を、Ｒ4 は
水素、アミノ等を、Ｙは水素、スルホ等を表す。）で示
されるアゾ化合物、及び当該アゾ化合物を偏光膜基材に
含有してなる染料系偏光膜。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、染料、特に偏光膜
用の染料として有用なアゾ化合物及びそれを含有してな
る染料系偏光膜に関するものである。
用の染料として有用なアゾ化合物及びそれを含有してな
る染料系偏光膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】偏光膜は、延伸配向したポリビニルアル
コール又はその誘導体のフィルムあるいは、ポリ塩化ビ
ニルフィルムの脱塩酸又はポリビニルアルコール系フィ
ルムの脱水によりポリエンを生成して配向せしめたポリ
エン系のフィルムなどの偏光膜基材に、偏光素子として
ヨウ素や二色性染料を含有せしめて製造される。これら
のうち、ヨウ素系偏光膜は、初期偏光性能には優れるも
のの、熱に対する耐久性及び水に対する耐久性が劣るた
め、高温で且つ高湿の状態ではその性能が低下するとい
う問題がある。熱に対する耐久性及び水に対する耐久性
を向上させるために、ホルマリン又はホウ酸を含む水溶
液で処理したり、また透湿度の低い高分子フィルムを保
護膜として用いる方法などが考えられているが、未だ十
分とはいえない。一方、二色性染料を用いた染料系偏光
膜としては、下記式
コール又はその誘導体のフィルムあるいは、ポリ塩化ビ
ニルフィルムの脱塩酸又はポリビニルアルコール系フィ
ルムの脱水によりポリエンを生成して配向せしめたポリ
エン系のフィルムなどの偏光膜基材に、偏光素子として
ヨウ素や二色性染料を含有せしめて製造される。これら
のうち、ヨウ素系偏光膜は、初期偏光性能には優れるも
のの、熱に対する耐久性及び水に対する耐久性が劣るた
め、高温で且つ高湿の状態ではその性能が低下するとい
う問題がある。熱に対する耐久性及び水に対する耐久性
を向上させるために、ホルマリン又はホウ酸を含む水溶
液で処理したり、また透湿度の低い高分子フィルムを保
護膜として用いる方法などが考えられているが、未だ十
分とはいえない。一方、二色性染料を用いた染料系偏光
膜としては、下記式
【０００３】
【化４】
【０００４】で示される水溶性ジスアゾ染料等を用いて
偏光膜を製造したことが、例えば特開昭５９−１４５２
５５号公報に記載されている。
偏光膜を製造したことが、例えば特開昭５９−１４５２
５５号公報に記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、当該水
溶性染料を含有してなる染料系偏光膜は偏光性能や耐久
性等の観点から、必ずしも満足なものではない。
溶性染料を含有してなる染料系偏光膜は偏光性能や耐久
性等の観点から、必ずしも満足なものではない。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、特に染料
系偏光膜に用いた場合に偏光性能や高温・高湿条件下の
耐久性等に優れる偏光膜を与え、又、偏光膜を製造する
際の染色性に優れる化合物を提供すべく鋭意検討した結
果、特定構造のアゾ化合物が有効であることを見出し
て、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、遊離
酸の形で表すと、一般式（Ｉ）
系偏光膜に用いた場合に偏光性能や高温・高湿条件下の
耐久性等に優れる偏光膜を与え、又、偏光膜を製造する
際の染色性に優れる化合物を提供すべく鋭意検討した結
果、特定構造のアゾ化合物が有効であることを見出し
て、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、遊離
酸の形で表すと、一般式（Ｉ）
【０００７】
【化５】
【０００８】〔式中、Ｘは１個以上のスルホ基若しくは
カルボキシ基で置換され、さらに別の置換基で置換され
ていてもよいフェニル基、又は１個以上のスルホ基で置
換され、さらに別の置換基で置換されていてもよいナフ
チル基を表し、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は相異なり、水素
原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｒ3 は水素原
子、アミノ基又はスルホ基を表し、Ｒ4 は水素原子、ア
ミノ基又はアセチルアミノ基を表し、Ｙは水素原子、ス
ルホ基、下記式(a) −ＮＨ−Ａ (a) （式中、Ａはアミノ基若しくはヒドロキシ基で置換され
ていてもよいベンゾイル基、メチル基、エチル基、アセ
チル基又はフェニル基を表す。）で示される基、又は下
記式(b) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ (b) （式中、Ｂは置換されていてもよいフェニル基又は置換
されていてもよいナフチル基を表す。）で示される基を
表す。〕で示されるアゾ化合物、当該アゾ化合物を偏光
膜基材に含有してなる染料系偏光膜、及び、前記アゾ化
合物とその他の有機染料を偏光膜基材に含有してなる染
料系偏光膜を提供するものである。
カルボキシ基で置換され、さらに別の置換基で置換され
ていてもよいフェニル基、又は１個以上のスルホ基で置
換され、さらに別の置換基で置換されていてもよいナフ
チル基を表し、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は相異なり、水素
原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｒ3 は水素原
子、アミノ基又はスルホ基を表し、Ｒ4 は水素原子、ア
ミノ基又はアセチルアミノ基を表し、Ｙは水素原子、ス
ルホ基、下記式(a) −ＮＨ−Ａ (a) （式中、Ａはアミノ基若しくはヒドロキシ基で置換され
ていてもよいベンゾイル基、メチル基、エチル基、アセ
チル基又はフェニル基を表す。）で示される基、又は下
記式(b) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ (b) （式中、Ｂは置換されていてもよいフェニル基又は置換
されていてもよいナフチル基を表す。）で示される基を
表す。〕で示されるアゾ化合物、当該アゾ化合物を偏光
膜基材に含有してなる染料系偏光膜、及び、前記アゾ化
合物とその他の有機染料を偏光膜基材に含有してなる染
料系偏光膜を提供するものである。
【０００９】
【発明の実施の形態】一般式（Ｉ）において、Ｘは１個
又は複数のスルホ基若しくはカルボキシ基で置換され、
さらに別の置換基で置換されていてもよいフェニル基、
或いは、１個又は複数のスルホ基で置換され、さらに別
の置換基で置換されていてもよいナフチル基であり、こ
こで、フェニル基及びナフチル基の別の置換基は複数個
であってもよい。Ｘで示される置換されたフェニル基と
しては、例えば、下記式(c)
又は複数のスルホ基若しくはカルボキシ基で置換され、
さらに別の置換基で置換されていてもよいフェニル基、
或いは、１個又は複数のスルホ基で置換され、さらに別
の置換基で置換されていてもよいナフチル基であり、こ
こで、フェニル基及びナフチル基の別の置換基は複数個
であってもよい。Ｘで示される置換されたフェニル基と
しては、例えば、下記式(c)
【００１０】
【化６】
【００１１】（式中、Ｒ5 及びＲ6 の一方はスルホ基又
はカルボキシ基であり、他方は水素原子、ヒドロキシ
基、炭素数４以下のアルキル基、炭素数４以下のアルコ
キシ基、スルホ基又はカルボキシ基を表す。）で示され
る置換フェニル基が、好ましく挙げられる。式(c) で示
される置換フェニル基の中でも、１個のスルホ基又はカ
ルボキシ基で置換されたフェニル基が特に好ましい。同
じく、Ｘで示される置換されたナフチル基としては、例
えば、下記式(d)
はカルボキシ基であり、他方は水素原子、ヒドロキシ
基、炭素数４以下のアルキル基、炭素数４以下のアルコ
キシ基、スルホ基又はカルボキシ基を表す。）で示され
る置換フェニル基が、好ましく挙げられる。式(c) で示
される置換フェニル基の中でも、１個のスルホ基又はカ
ルボキシ基で置換されたフェニル基が特に好ましい。同
じく、Ｘで示される置換されたナフチル基としては、例
えば、下記式(d)
【００１２】
【化７】
【００１３】（式中、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9 は同一又は相
異なって、水素原子、ヒドロキシ基若しくはスルホ基を
表すが、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9 の少なくとも１つはスルホ
基を表す。）で示される置換ナフチル基が好ましく挙げ
られる。式(d) で示される置換ナフチル基の中でも、１
〜２個のスルホ基で置換されたナフチル基が特に好まし
い。
異なって、水素原子、ヒドロキシ基若しくはスルホ基を
表すが、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9 の少なくとも１つはスルホ
基を表す。）で示される置換ナフチル基が好ましく挙げ
られる。式(d) で示される置換ナフチル基の中でも、１
〜２個のスルホ基で置換されたナフチル基が特に好まし
い。
【００１４】Ｒ1 及びＲ2 は、同一又は相異なって、水
素原子、メチル基又はメトキシ基を表すが、好ましいＲ
1 及びＲ2 は水素原子である。
素原子、メチル基又はメトキシ基を表すが、好ましいＲ
1 及びＲ2 は水素原子である。
【００１５】Ｙとしては、前記の式(a) 又は(b) で示さ
れる基が好ましい。
れる基が好ましい。
【００１６】式(b) で示される基としては、特に、下記
式(e) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ’ (e) （式中、Ｂ’は無置換フェニル基又は、炭素数４以下の
アルキル基、炭素数４以下のアルコキシ基、ヒドロキシ
基、ニトロ基、塩素原子、カルボキシル基、アミノ基、
スルホ基及び置換アミノ基からなる群より選ばれる置換
基で置換されたフェニル基を表す。）で示される基、又
は下記式(f) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ” (f) （式中、Ｂ”は少なくとも１個のスルホ基で置換され、
さらにアミノ基、置換アミノ基及びヒドロキシ基からな
る群より選ばれる置換基で置換されていてもよいナフチ
ル基を表す。）で示される基が好ましい。ここで、Ｂ’
が置換アミノ基で置換されたフェニル基の場合、置換ア
ミノ基の好ましい置換基としてはメチル基、エチル基、
ヒドロキシエチル基、シアノエチル基、アセチル基、ス
ルホメチル基又はカルバモイル基が挙げられる。又、
Ｂ”が置換アミノ基で置換されたナフチル基の場合、置
換アミノ基の好ましい置換基としてはメチル基、エチル
基又はアセチル基が挙げられる。Ｂ’で表される置換フ
ェニル基の好ましい置換基としては、メチル、エチル、
メトキシ、エトキシ、アミノ、アセチルアミノ、ヒドロ
キシ、ニトロ、塩素、カルボキシ及びスルホ等が挙げら
れる。
式(e) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ’ (e) （式中、Ｂ’は無置換フェニル基又は、炭素数４以下の
アルキル基、炭素数４以下のアルコキシ基、ヒドロキシ
基、ニトロ基、塩素原子、カルボキシル基、アミノ基、
スルホ基及び置換アミノ基からなる群より選ばれる置換
基で置換されたフェニル基を表す。）で示される基、又
は下記式(f) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ” (f) （式中、Ｂ”は少なくとも１個のスルホ基で置換され、
さらにアミノ基、置換アミノ基及びヒドロキシ基からな
る群より選ばれる置換基で置換されていてもよいナフチ
ル基を表す。）で示される基が好ましい。ここで、Ｂ’
が置換アミノ基で置換されたフェニル基の場合、置換ア
ミノ基の好ましい置換基としてはメチル基、エチル基、
ヒドロキシエチル基、シアノエチル基、アセチル基、ス
ルホメチル基又はカルバモイル基が挙げられる。又、
Ｂ”が置換アミノ基で置換されたナフチル基の場合、置
換アミノ基の好ましい置換基としてはメチル基、エチル
基又はアセチル基が挙げられる。Ｂ’で表される置換フ
ェニル基の好ましい置換基としては、メチル、エチル、
メトキシ、エトキシ、アミノ、アセチルアミノ、ヒドロ
キシ、ニトロ、塩素、カルボキシ及びスルホ等が挙げら
れる。
【００１７】一般式（Ｉ）で示されるアゾ化合物は、例
えば、以下に述べる(i) 又は(ii)の方法により製造する
ことができる。即ち、(i) 一般式(II)
えば、以下に述べる(i) 又は(ii)の方法により製造する
ことができる。即ち、(i) 一般式(II)
【００１８】
【化８】
【００１９】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記の意味を表
す。）で示される化合物を公知の方法により酸クロライ
ドとし、一般式(III)
す。）で示される化合物を公知の方法により酸クロライ
ドとし、一般式(III)
【００２０】
【化９】
【００２１】（式中、Ｒ1 及びＲ2 は前記の意味を表
す。）で示される化合物を得る。次いで、当該化合物と
一般式(IV) Ｘ−ＮＨ2 (IV) （式中、Ｘは前記の意味を表す。）で示される化合物を
反応させた後、公知の方法により還元して一般式(V)
す。）で示される化合物を得る。次いで、当該化合物と
一般式(IV) Ｘ−ＮＨ2 (IV) （式中、Ｘは前記の意味を表す。）で示される化合物を
反応させた後、公知の方法により還元して一般式(V)
【００２２】
【化１０】
【００２３】（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＸは前記の意味を
表す。）で示される化合物を得る。次いで、当該化合物
をジアゾ化して、ジアゾ化物を得る。
表す。）で示される化合物を得る。次いで、当該化合物
をジアゾ化して、ジアゾ化物を得る。
【００２４】さらに、前記ジアゾ化物を一般式(VI)
【００２５】
【化１１】
【００２６】（式中、Ｒ3 及びＲ4 は前記の意味を表
し、Ｙ’は水素原子、スルホ基又は式(a) で示される基
を表す。）で示される化合物とカップリングさせること
により、Ｙが水素原子、スルホ基又は式(a) で示される
基であるアゾ化合物を製造することができる。
し、Ｙ’は水素原子、スルホ基又は式(a) で示される基
を表す。）で示される化合物とカップリングさせること
により、Ｙが水素原子、スルホ基又は式(a) で示される
基であるアゾ化合物を製造することができる。
【００２７】又、(ii)Ｙが式(b) で示される基であるア
ゾ化合物は、下記及びの２つの方法により製造する
ことができる。 先ず、３−アミノ−８−ナフトール−６−スルホン酸
とｐ−トルエンスルホン酸クロライドを反応させて得ら
れる式(VII)
ゾ化合物は、下記及びの２つの方法により製造する
ことができる。 先ず、３−アミノ−８−ナフトール−６−スルホン酸
とｐ−トルエンスルホン酸クロライドを反応させて得ら
れる式(VII)
【００２８】
【化１２】
【００２９】で示される化合物をジアゾ化し、このジア
ゾ化物と、一般式(VIII) Ｈ−Ｂ (VIII) （式中、Ｂは前記の意味を表す。）で示される化合物又
は該化合物のω−メタンスルホン化物とをカップリング
反応させる。次いで、カップリング生成物を加水分解
し、得られる一般式(IX)
ゾ化物と、一般式(VIII) Ｈ−Ｂ (VIII) （式中、Ｂは前記の意味を表す。）で示される化合物又
は該化合物のω−メタンスルホン化物とをカップリング
反応させる。次いで、カップリング生成物を加水分解
し、得られる一般式(IX)
【００３０】
【化１３】
【００３１】（式中、Ｒ4 及びＢは前記の意味を表し、
Ｒ3 ' は水素原子又はスルホ基を表す。）で示されるモ
ノアゾ化合物を、(i) の方法で製造した、一般式（Ｖ）
で示される化合物の還元生成物のジアゾ化物とカップリ
ングさせて、目的とするアゾ化合物を得ることができ
る。 ４−アミノ−８−ナフトール−６−スルホン酸とｐ−
トルエンスルホン酸クロライドを反応させて得られる式
（Ｘ）
Ｒ3 ' は水素原子又はスルホ基を表す。）で示されるモ
ノアゾ化合物を、(i) の方法で製造した、一般式（Ｖ）
で示される化合物の還元生成物のジアゾ化物とカップリ
ングさせて、目的とするアゾ化合物を得ることができ
る。 ４−アミノ−８−ナフトール−６−スルホン酸とｐ−
トルエンスルホン酸クロライドを反応させて得られる式
（Ｘ）
【００３２】
【化１４】
【００３３】（式中、Ｒ4 は前記の意味を表す。）で示
される化合物と、一般式(XI) ＮＨ2 −Ｂ (XI) （式中、Ｂは前記の意味を表す。）で示される化合物の
ジアゾ化物とをカップリング反応させる。次いで、カッ
プリング生成物を加水分解し、得られる一般式(XII)
される化合物と、一般式(XI) ＮＨ2 −Ｂ (XI) （式中、Ｂは前記の意味を表す。）で示される化合物の
ジアゾ化物とをカップリング反応させる。次いで、カッ
プリング生成物を加水分解し、得られる一般式(XII)
【００３４】
【化１５】
【００３５】（式中、Ｂ及びＲ4 は前記と同じ意味を表
す。）で示されるモノアゾ化合物を、さらに(i) の方法
で製造した、一般式（Ｖ）で示される化合物の還元生成
物のジアゾ化物とカップリングさせて、目的とするアゾ
化合物を得ることができる。
す。）で示されるモノアゾ化合物を、さらに(i) の方法
で製造した、一般式（Ｖ）で示される化合物の還元生成
物のジアゾ化物とカップリングさせて、目的とするアゾ
化合物を得ることができる。
【００３６】一般式(II)で示される化合物としては、例
えば、４−ニトロ安息香酸、４−ニトロ−３−ヒドロキ
シ安息香酸、４−ニトロ−３−メチル安息香酸、４−ニ
トロ−３−メトキシ安息香酸、４−ニトロ−２，５−ジ
メチル安息香酸等が挙げられる。
えば、４−ニトロ安息香酸、４−ニトロ−３−ヒドロキ
シ安息香酸、４−ニトロ−３−メチル安息香酸、４−ニ
トロ−３−メトキシ安息香酸、４−ニトロ−２，５−ジ
メチル安息香酸等が挙げられる。
【００３７】一般式(IV)で示される化合物としては、例
えば、１−アミノベンゼン−２−、３−又は４−スルホ
ン酸、１−アミノベンゼン−２，４−ジスルホン酸、１
−アミノベンゼン−２，５−ジスルホン酸、１−アミノ
−２−、３−又は４−安息香酸、５−アミノイソフタル
酸、４−アミノイソフタル酸、２−アミノ−４−スルホ
安息香酸、２−アミノ−５−スルホ安息香酸、４−アミ
ノサリチル酸、５−アミノサリチル酸、１−アミノベン
ゼン−２−メチル−４−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−２−メトキシ−４−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−２−メトキシ−５−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−４−メトキシ−５−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−２−メトキシ−５−メチル−４−スルホン酸、１−
アミノナフタレン−４−、５−、６−、７−又は８−ス
ルホン酸、２−アミノナフタレン−１−、８−、７−、
６−又は５−スルホン酸、１−アミノナフタレン−４，
７−、４，６−、３，７−、３，８−又は３，６−ジス
ルホン酸、２−アミノナフタレン−４，８−、６，８
−、３，６−、１，５−又は５，７−ジスルホン酸、１
−アミノナフタレン−３，６，８−トリスルホン酸、２
−アミノナフタレン−３，６，８−又は４，６，８−ト
リスルホン酸、２−アミノナフタレン−５−ヒドロキシ
−７−スルホン酸、２−アミノナフタレン−８−ヒドロ
キシ−６−スルホン酸等が挙げられる。
えば、１−アミノベンゼン−２−、３−又は４−スルホ
ン酸、１−アミノベンゼン−２，４−ジスルホン酸、１
−アミノベンゼン−２，５−ジスルホン酸、１−アミノ
−２−、３−又は４−安息香酸、５−アミノイソフタル
酸、４−アミノイソフタル酸、２−アミノ−４−スルホ
安息香酸、２−アミノ−５−スルホ安息香酸、４−アミ
ノサリチル酸、５−アミノサリチル酸、１−アミノベン
ゼン−２−メチル−４−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−２−メトキシ−４−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−２−メトキシ−５−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−４−メトキシ−５−スルホン酸、１−アミノベンゼ
ン−２−メトキシ−５−メチル−４−スルホン酸、１−
アミノナフタレン−４−、５−、６−、７−又は８−ス
ルホン酸、２−アミノナフタレン−１−、８−、７−、
６−又は５−スルホン酸、１−アミノナフタレン−４，
７−、４，６−、３，７−、３，８−又は３，６−ジス
ルホン酸、２−アミノナフタレン−４，８−、６，８
−、３，６−、１，５−又は５，７−ジスルホン酸、１
−アミノナフタレン−３，６，８−トリスルホン酸、２
−アミノナフタレン−３，６，８−又は４，６，８−ト
リスルホン酸、２−アミノナフタレン−５−ヒドロキシ
−７−スルホン酸、２−アミノナフタレン−８−ヒドロ
キシ−６−スルホン酸等が挙げられる。
【００３８】式(VI)で示される化合物としては、例え
ば、１−ヒドロキシナフタレン−６−アミノ−３−スル
ホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−７−アミノ−３−
スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−５−アミノ−
３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−７−アミ
ノ−３，６−ジスルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン
−６−アミノ−３，５−ジスルホン酸、１−ヒドロキシ
ナフタレン−８−アミノ−３，５−ジスルホン酸、１−
ヒドロキシナフタレン−８−アミノ−３，６−ジスルホ
ン酸、１−ヒドロキシナフタレン−８−アセチルアミノ
−３，５−ジスルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−
８−アセチルアミノ−３，６−ジスルホン酸、１−ヒド
ロキシナフタレン−６−メチルアミノ−３−スルホン
酸、１−ヒドロキシナフタレン−６−エチルアミノ−３
−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−６−ジメチ
ルアミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン
−６−ジエチルアミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキ
シナフタレン−６−アセチルアミノ−３−スルホン酸、
１−ヒドロキシナフタレン−６−フェニルアミノ−３−
スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−６−ベンゾイ
ルアミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン
−６−（４−、３−又は２−ヒドロキシベンゾイル）ア
ミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−６
−（４−、３−又は２−アミノベンゾイル）アミノ−３
−スルホン酸等が挙げられる。
ば、１−ヒドロキシナフタレン−６−アミノ−３−スル
ホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−７−アミノ−３−
スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−５−アミノ−
３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−７−アミ
ノ−３，６−ジスルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン
−６−アミノ−３，５−ジスルホン酸、１−ヒドロキシ
ナフタレン−８−アミノ−３，５−ジスルホン酸、１−
ヒドロキシナフタレン−８−アミノ−３，６−ジスルホ
ン酸、１−ヒドロキシナフタレン−８−アセチルアミノ
−３，５−ジスルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−
８−アセチルアミノ−３，６−ジスルホン酸、１−ヒド
ロキシナフタレン−６−メチルアミノ−３−スルホン
酸、１−ヒドロキシナフタレン−６−エチルアミノ−３
−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−６−ジメチ
ルアミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン
−６−ジエチルアミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキ
シナフタレン−６−アセチルアミノ−３−スルホン酸、
１−ヒドロキシナフタレン−６−フェニルアミノ−３−
スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−６−ベンゾイ
ルアミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン
−６−（４−、３−又は２−ヒドロキシベンゾイル）ア
ミノ−３−スルホン酸、１−ヒドロキシナフタレン−６
−（４−、３−又は２−アミノベンゾイル）アミノ−３
−スルホン酸等が挙げられる。
【００３９】式(VIII)で示される化合物としては、例え
ば、１−アミノベンゼン、１，３−ジアミノベンゼン、
１，３−ジアミノ−４−メチルベンゼン、１−アミノ−
２−又は３−メチルベンゼン、１−アミノ−２−又は３
−エチルベンゼン、１−アミノ−２−又は３−メトキシ
ベンゼン、１−アミノ−２−又は３−エトキシベンゼ
ン、１−アミノ−３−アセチルアミノベンゼン、１−ア
ミノ−３−カルバモイルアミノベンゼン、１−アミノ−
２−メトキシ−５−メチルベンゼン、１−アミノ−２，
５−ジメトキシベンゼン、１−アミノ−２，５−ジエト
キシベンゼン、１−アミノ−３−メチルスルホニルアミ
ノベンゼン、１−アミノ−２−メトキシ−５−アセチル
アミノベンゼン、１−ヒドロキシベンゼン、１，３−ジ
ヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベン
ゼン、１−ヒドロキシ−２−、３−又は４−メチルベン
ゼン、２−ヒドロキシ安息香酸、１−アミノ−２−又は
３−ヒドロキシベンゼン、１−ジエチルアミノ−３−ヒ
ドロキシベンゼン等のアニリン及びその誘導体、フェノ
ール及びその誘導体、アミノフェノール及びその誘導体
が挙げられ、さらに式(VI)で例示した化合物も挙げられ
る。
ば、１−アミノベンゼン、１，３−ジアミノベンゼン、
１，３−ジアミノ−４−メチルベンゼン、１−アミノ−
２−又は３−メチルベンゼン、１−アミノ−２−又は３
−エチルベンゼン、１−アミノ−２−又は３−メトキシ
ベンゼン、１−アミノ−２−又は３−エトキシベンゼ
ン、１−アミノ−３−アセチルアミノベンゼン、１−ア
ミノ−３−カルバモイルアミノベンゼン、１−アミノ−
２−メトキシ−５−メチルベンゼン、１−アミノ−２，
５−ジメトキシベンゼン、１−アミノ−２，５−ジエト
キシベンゼン、１−アミノ−３−メチルスルホニルアミ
ノベンゼン、１−アミノ−２−メトキシ−５−アセチル
アミノベンゼン、１−ヒドロキシベンゼン、１，３−ジ
ヒドロキシベンゼン、１，３，５−トリヒドロキシベン
ゼン、１−ヒドロキシ−２−、３−又は４−メチルベン
ゼン、２−ヒドロキシ安息香酸、１−アミノ−２−又は
３−ヒドロキシベンゼン、１−ジエチルアミノ−３−ヒ
ドロキシベンゼン等のアニリン及びその誘導体、フェノ
ール及びその誘導体、アミノフェノール及びその誘導体
が挙げられ、さらに式(VI)で例示した化合物も挙げられ
る。
【００４０】式(XI)で示される化合物としては、例え
ば、１−アミノベンゼン、１−アミノ−２−、３−又は
４−スルファモイルベンゼン、１−アミノ−２−、３−
又は４−クロロベンゼン、１−アミノ−２，５−ジクロ
ロベンゼン、１−アミノ−２−、３−又は４−ブロモベ
ンゼン、１−アミノ−２−、３−又は４−メチルベンゼ
ン、１−アミノ−２−、３−又は４−エチルベンゼン、
１−アミノ−２−、３−又は４−メトキシベンゼン、１
−アミノ−２−、３−又は４−エトキシベンゼン、１−
アミノ−４−ジ（β−ヒドロキシエチル）アミノベンゼ
ン、１−アミノ−４−ニトロベンゼン、１−アミノ−４
−アセチルアミノベンゼン、及び式(IV)で例示した化合
物等が挙げられる。
ば、１−アミノベンゼン、１−アミノ−２−、３−又は
４−スルファモイルベンゼン、１−アミノ−２−、３−
又は４−クロロベンゼン、１−アミノ−２，５−ジクロ
ロベンゼン、１−アミノ−２−、３−又は４−ブロモベ
ンゼン、１−アミノ−２−、３−又は４−メチルベンゼ
ン、１−アミノ−２−、３−又は４−エチルベンゼン、
１−アミノ−２−、３−又は４−メトキシベンゼン、１
−アミノ−２−、３−又は４−エトキシベンゼン、１−
アミノ−４−ジ（β−ヒドロキシエチル）アミノベンゼ
ン、１−アミノ−４−ニトロベンゼン、１−アミノ−４
−アセチルアミノベンゼン、及び式(IV)で例示した化合
物等が挙げられる。
【００４１】このようにして得られる式(I) で示される
アゾ化合物は遊離酸の形で用いてもよいが、通常は、ナ
トリウム塩の形で用いるのが好ましく、リチウム塩、カ
リウム塩、アンモニウム塩、エタノールアミン塩、アル
キルアミン塩などの形で用いることもできる。又、式
(I) で示されるアゾ化合物は、他の有機染料と併用する
ことにより色相を補正し、偏光性能を向上させることが
できる。この場合に用いられる有機染料としては、二色
性の高いものであればいかなる染料でもよく、例えばカ
ラーインデックスに記載の次のようなものが例示され
る。シー・アイ・ダイレクト・イエロー12、シー・アイ
・ダイレクト・イエロー28、シー・アイ・ダイレクト・
イエロー44、シー・アイ・ダイレクト・オレンジ26、シ
ー・アイ・ダイレクト・オレンジ39、シー・アイ・ダイ
レクト・オレンジ107 、シー・アイ・ダイレクト・レッ
ド２、シー・アイ・ダイレクト・レッド31、シー・アイ
・ダイレクト・レッド79、シー・アイ・ダイレクト・レ
ッド81、及びシー・アイ・ダイレクト・レッド247
アゾ化合物は遊離酸の形で用いてもよいが、通常は、ナ
トリウム塩の形で用いるのが好ましく、リチウム塩、カ
リウム塩、アンモニウム塩、エタノールアミン塩、アル
キルアミン塩などの形で用いることもできる。又、式
(I) で示されるアゾ化合物は、他の有機染料と併用する
ことにより色相を補正し、偏光性能を向上させることが
できる。この場合に用いられる有機染料としては、二色
性の高いものであればいかなる染料でもよく、例えばカ
ラーインデックスに記載の次のようなものが例示され
る。シー・アイ・ダイレクト・イエロー12、シー・アイ
・ダイレクト・イエロー28、シー・アイ・ダイレクト・
イエロー44、シー・アイ・ダイレクト・オレンジ26、シ
ー・アイ・ダイレクト・オレンジ39、シー・アイ・ダイ
レクト・オレンジ107 、シー・アイ・ダイレクト・レッ
ド２、シー・アイ・ダイレクト・レッド31、シー・アイ
・ダイレクト・レッド79、シー・アイ・ダイレクト・レ
ッド81、及びシー・アイ・ダイレクト・レッド247
【００４２】本発明の染料系偏光膜は、式（Ｉ）で示さ
れる化合物からなる、あるいは、さらに他の有機染料を
も含んでなる二色性染料を、偏光膜基材である高分子フ
ィルムに公知の方法で含有せしめることにより、製造す
ることができる。式（Ｉ）で示されるアゾ化合物に加え
て、他の有機染料を用いる場合、それぞれの配合割合は
特に限定されるものではないが、一般的には、式（Ｉ）
で示されるアゾ化合物の重量を基準として、他の有機染
料を合計で0.1 〜５重量倍の範囲で用いるのが好まし
い。高分子フィルムとしては例えば、ポリビニルアルコ
ール又はその誘導体、これらのいずれかをエチレン、プ
ロピレンのようなオレフィンや、クロトン酸、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸のような不飽和カルボン
酸などで変性したもの、ＥＶＡ（エチレン／ビニルアセ
テート）樹脂、ケン化ＥＶＡ樹脂、ナイロン樹脂、ポリ
エステル樹脂などからなるものが利用される。なかで
も、ポリビニルアルコール又はその誘導体からなるフィ
ルムが、染料の吸着性及び配向性の点から、好適に用い
られる。このような高分子フィルムに二色性染料を含有
せしめるにあたっては、通常、高分子フィルムを染色す
る方法が採用される。染色は例えば次のようにして行う
ことができる。まず、二色性染料を水に溶解して染浴を
調製する。染浴中の染料濃度は特に制限されないが、通
常は０. ０００１〜１０重量％の範囲から選択される。
また、必要により染色助剤を用いてもよく、例えば芒硝
を１〜１０重量％用いるのが好適である。このようにし
て調製した染浴に高分子フィルムを浸漬し、染色を行
う。染色温度は、好ましくは４０〜８０℃である。二色
性染料の配向は、高分子フィルムを延伸することによっ
て行われる。延伸する方法としては、例えば湿式法、乾
式法など、公知のいずれの方法を採用してもよい。高分
子フィルムの延伸は、染色の前に行ってもよい。二色性
染料を含有・配向せしめた高分子フィルムは、必要に応
じて公知の方法によりホウ酸処理などの後処理が施され
る。このような後処理は、偏光膜の光線透過率、偏光度
及び耐久性を向上させる目的で行われる。ホウ酸処理の
条件は、用いる高分子フィルムの種類や用いる染料の種
類によって異なるが、一般的にはホウ酸水溶液のホウ酸
濃度を１〜１５重量％、好ましくは５〜１０重量％の範
囲とし、処理は３０〜８０℃、好ましくは５０〜７５℃
の温度範囲で行われる。さらには必要に応じて、カチオ
ン系高分子化合物を含む水溶液で、フィックス処理を併
せて行ってもよい。
れる化合物からなる、あるいは、さらに他の有機染料を
も含んでなる二色性染料を、偏光膜基材である高分子フ
ィルムに公知の方法で含有せしめることにより、製造す
ることができる。式（Ｉ）で示されるアゾ化合物に加え
て、他の有機染料を用いる場合、それぞれの配合割合は
特に限定されるものではないが、一般的には、式（Ｉ）
で示されるアゾ化合物の重量を基準として、他の有機染
料を合計で0.1 〜５重量倍の範囲で用いるのが好まし
い。高分子フィルムとしては例えば、ポリビニルアルコ
ール又はその誘導体、これらのいずれかをエチレン、プ
ロピレンのようなオレフィンや、クロトン酸、アクリル
酸、メタクリル酸、マレイン酸のような不飽和カルボン
酸などで変性したもの、ＥＶＡ（エチレン／ビニルアセ
テート）樹脂、ケン化ＥＶＡ樹脂、ナイロン樹脂、ポリ
エステル樹脂などからなるものが利用される。なかで
も、ポリビニルアルコール又はその誘導体からなるフィ
ルムが、染料の吸着性及び配向性の点から、好適に用い
られる。このような高分子フィルムに二色性染料を含有
せしめるにあたっては、通常、高分子フィルムを染色す
る方法が採用される。染色は例えば次のようにして行う
ことができる。まず、二色性染料を水に溶解して染浴を
調製する。染浴中の染料濃度は特に制限されないが、通
常は０. ０００１〜１０重量％の範囲から選択される。
また、必要により染色助剤を用いてもよく、例えば芒硝
を１〜１０重量％用いるのが好適である。このようにし
て調製した染浴に高分子フィルムを浸漬し、染色を行
う。染色温度は、好ましくは４０〜８０℃である。二色
性染料の配向は、高分子フィルムを延伸することによっ
て行われる。延伸する方法としては、例えば湿式法、乾
式法など、公知のいずれの方法を採用してもよい。高分
子フィルムの延伸は、染色の前に行ってもよい。二色性
染料を含有・配向せしめた高分子フィルムは、必要に応
じて公知の方法によりホウ酸処理などの後処理が施され
る。このような後処理は、偏光膜の光線透過率、偏光度
及び耐久性を向上させる目的で行われる。ホウ酸処理の
条件は、用いる高分子フィルムの種類や用いる染料の種
類によって異なるが、一般的にはホウ酸水溶液のホウ酸
濃度を１〜１５重量％、好ましくは５〜１０重量％の範
囲とし、処理は３０〜８０℃、好ましくは５０〜７５℃
の温度範囲で行われる。さらには必要に応じて、カチオ
ン系高分子化合物を含む水溶液で、フィックス処理を併
せて行ってもよい。
【００４３】このようにして得られた染料系偏光膜は、
その片面又は両面に、光学的透明性及び機械的強度に優
れる保護膜を貼合して、偏光板とすることができる。保
護膜を形成する材料は、従来から使用されているもので
よく、例えば、セルロースアセテート系フィルムやアク
リル系フィルムのほか、四フッ化エチレン／六フッ化プ
ロピレン系共重合体のようなフッ素系フィルム又は、ポ
リエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂もしくはポリアミ
ド系樹脂からなるフィルム処理したものなどが用いられ
る。
その片面又は両面に、光学的透明性及び機械的強度に優
れる保護膜を貼合して、偏光板とすることができる。保
護膜を形成する材料は、従来から使用されているもので
よく、例えば、セルロースアセテート系フィルムやアク
リル系フィルムのほか、四フッ化エチレン／六フッ化プ
ロピレン系共重合体のようなフッ素系フィルム又は、ポ
リエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂もしくはポリアミ
ド系樹脂からなるフィルム処理したものなどが用いられ
る。
【００４４】このようにして、高い偏光性能を有し、且
つ水及び熱に対する耐久性に優れた偏光膜を得ることが
できる。又、式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と他の有機
染料を併用することによって、水及び熱に対する耐久性
に優れた中性色の偏光膜を得ることができる。
つ水及び熱に対する耐久性に優れた偏光膜を得ることが
できる。又、式（Ｉ）で示されるアゾ化合物と他の有機
染料を併用することによって、水及び熱に対する耐久性
に優れた中性色の偏光膜を得ることができる。
【００４５】
【発明の効果】本発明のアゾ化合物は偏光膜基材に対し
て良好な親和性を有しており、染色性が優れている。従
って、染料、特に偏光膜用の染料として有用である。そ
して、この化合物を含有する染料系偏光膜は高い偏光性
能を有し且つ耐久性にも優れるので、各種液晶表示体、
なかでも高い偏光性能と耐久性を必要とする屋外用途
（特に自動車に搭載される場合）、各種環境で用いられ
る工業計器類の表示用途などに好適である。
て良好な親和性を有しており、染色性が優れている。従
って、染料、特に偏光膜用の染料として有用である。そ
して、この化合物を含有する染料系偏光膜は高い偏光性
能を有し且つ耐久性にも優れるので、各種液晶表示体、
なかでも高い偏光性能と耐久性を必要とする屋外用途
（特に自動車に搭載される場合）、各種環境で用いられ
る工業計器類の表示用途などに好適である。
【００４６】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、これらは例示的なものであって、本発明をな
んら限定するものではない。例中にある％及び部は、特
にことわらないかぎり重量基準である。
明するが、これらは例示的なものであって、本発明をな
んら限定するものではない。例中にある％及び部は、特
にことわらないかぎり重量基準である。
【００４７】実施例１ スルファニル酸３４．６部を水１０００部に分散させ、
２８％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ７とし溶解
させる。次いで４−ニトロ塩化ベンゾイル３７．１部を
少量ずつ加え、この間２８％水酸化ナトリウム水溶液を
適宜加えることによりｐＨ７付近を保持する。さらに１
２時間反応させる。次いで塩化ナトリウムを加えて塩析
し、析出した結晶を濾過する。
２８％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ７とし溶解
させる。次いで４−ニトロ塩化ベンゾイル３７．１部を
少量ずつ加え、この間２８％水酸化ナトリウム水溶液を
適宜加えることによりｐＨ７付近を保持する。さらに１
２時間反応させる。次いで塩化ナトリウムを加えて塩析
し、析出した結晶を濾過する。
【００４８】水１４００部に鉄粉３０部、硫酸第１鉄
（７水和物）５部を加え、分散させ８５℃に加熱する。
次いで先に得られた結晶を少量ずつ加え、８５℃、７時
間反応させる。次いで６０℃まで冷却した後、２８％水
酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ１０とし、不溶解物
を濾過して除く。得られた濾液に３５％塩酸を加えてｐ
Ｈ７とし、塩化ナトリウムを加えて塩析し、析出した結
晶を濾過して下記構造の中間体（１）を得た。
（７水和物）５部を加え、分散させ８５℃に加熱する。
次いで先に得られた結晶を少量ずつ加え、８５℃、７時
間反応させる。次いで６０℃まで冷却した後、２８％水
酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ１０とし、不溶解物
を濾過して除く。得られた濾液に３５％塩酸を加えてｐ
Ｈ７とし、塩化ナトリウムを加えて塩析し、析出した結
晶を濾過して下記構造の中間体（１）を得た。
【００４９】
【化１６】
【００５０】水１５０部に上記中間体（１）１５．７
部、２８％水酸化ナトリウム水溶液７部を加えて溶解さ
せ、この溶液に３５％亜硝酸ナトリウム水溶液１０．９
部を加え、次いで３５％塩酸２６部を加えて２０〜３０
℃でジアゾ化する。過剰の亜硝酸ナトリウムをスルファ
ミン酸を加えて消去し、ジアゾ溶液を得る。一方、１−
ヒドロキシナフタレン−６−ベンゾイルアミノ−３−ス
ルホン酸１７．２部を水２００部に加え、１０〜１５℃
で炭酸ナトリウムを加えてｐＨ８．５とし、炭酸ナトリ
ウムでこのｐＨを保持しながら先に得たジアゾ溶液を注
入し、攪拌してカップリング反応を完結させる。塩化ナ
トリウムで塩析し、析出した結晶を濾過して下記構造の
アゾ化合物を得た。
部、２８％水酸化ナトリウム水溶液７部を加えて溶解さ
せ、この溶液に３５％亜硝酸ナトリウム水溶液１０．９
部を加え、次いで３５％塩酸２６部を加えて２０〜３０
℃でジアゾ化する。過剰の亜硝酸ナトリウムをスルファ
ミン酸を加えて消去し、ジアゾ溶液を得る。一方、１−
ヒドロキシナフタレン−６−ベンゾイルアミノ−３−ス
ルホン酸１７．２部を水２００部に加え、１０〜１５℃
で炭酸ナトリウムを加えてｐＨ８．５とし、炭酸ナトリ
ウムでこのｐＨを保持しながら先に得たジアゾ溶液を注
入し、攪拌してカップリング反応を完結させる。塩化ナ
トリウムで塩析し、析出した結晶を濾過して下記構造の
アゾ化合物を得た。
【００５１】
【化１７】
【００５２】この化合物は、水性媒体中でλmax ４９１
nmを示した。
nmを示した。
【００５３】実施例２ １−ヒドロキシナフタレン−５−アミノ−３−スルホン
酸12.0部を水200 部に分散させた後、苛性ソーダ６部を
加え、次いで塩化トシル9.6 部を加えて35〜40℃で１時
間攪拌し、反応液を得る。一方、４−アセチルアミノア
ニリン7.5 部を水100 部に分散させる。35％塩酸5.2 部
を加え、次いで氷を添加して内容物の温度を５℃とした
後、35％塩酸11部、亜硝酸ソーダ3.5 部を加えてジアゾ
化する。過剰の亜硝酸ソーダをスルファミン酸を加えて
消去した後、先に得た反応液中に10〜15℃で、過剰の亜
硝酸ソーダ消去後のジアゾ化液を注入した。注入後、エ
タノール100 部を加え、次いで15％炭酸ソーダ溶液を加
えてpH３とし、15％炭酸ソーダ溶液を適宜加えることに
よりこのpHを維持しながら、カップリング反応を完結さ
せる。次いで、苛性ソーダ16部を加え、80〜90℃で加温
攪拌して加水分解させた。室温まで冷却後、35％塩酸を
加えて弱アルカリ性にし、塩化ナトリウムを加えて塩析
し、析出した結晶を濾過して下記構造で示される中間体
化合物(2) を得た。
酸12.0部を水200 部に分散させた後、苛性ソーダ６部を
加え、次いで塩化トシル9.6 部を加えて35〜40℃で１時
間攪拌し、反応液を得る。一方、４−アセチルアミノア
ニリン7.5 部を水100 部に分散させる。35％塩酸5.2 部
を加え、次いで氷を添加して内容物の温度を５℃とした
後、35％塩酸11部、亜硝酸ソーダ3.5 部を加えてジアゾ
化する。過剰の亜硝酸ソーダをスルファミン酸を加えて
消去した後、先に得た反応液中に10〜15℃で、過剰の亜
硝酸ソーダ消去後のジアゾ化液を注入した。注入後、エ
タノール100 部を加え、次いで15％炭酸ソーダ溶液を加
えてpH３とし、15％炭酸ソーダ溶液を適宜加えることに
よりこのpHを維持しながら、カップリング反応を完結さ
せる。次いで、苛性ソーダ16部を加え、80〜90℃で加温
攪拌して加水分解させた。室温まで冷却後、35％塩酸を
加えて弱アルカリ性にし、塩化ナトリウムを加えて塩析
し、析出した結晶を濾過して下記構造で示される中間体
化合物(2) を得た。
【００５４】
【化１８】
【００５５】上記中間体化合物(2)26 部を水100 部に加
え、さらに28％苛性ソーダ溶液を加えてpH９としてモノ
アゾ溶液を得た。一方、実施例１で得た中間体（１）1
5.7部を水150 部に加え、28％苛性ソーダ７部を加えて
溶解させた後、35％亜硝酸ソーダ10.9部を加え、次いで
35％塩酸26部を加えて20〜30℃でジアゾ化する。過剰の
亜硝酸ソーダをスルファミン酸で消去してジアゾ液を得
た。このジアゾ液を10〜15℃で先のモノアゾ溶液中に注
入し、この間、28％苛性ソーダを適宜加えてこのpHを維
持しながら、カップリング反応させた。次いで、塩化ナ
トリウムを加えて塩析し、析出した結晶を濾過して、下
記構造で示されるアゾ化合物を得た。
え、さらに28％苛性ソーダ溶液を加えてpH９としてモノ
アゾ溶液を得た。一方、実施例１で得た中間体（１）1
5.7部を水150 部に加え、28％苛性ソーダ７部を加えて
溶解させた後、35％亜硝酸ソーダ10.9部を加え、次いで
35％塩酸26部を加えて20〜30℃でジアゾ化する。過剰の
亜硝酸ソーダをスルファミン酸で消去してジアゾ液を得
た。このジアゾ液を10〜15℃で先のモノアゾ溶液中に注
入し、この間、28％苛性ソーダを適宜加えてこのpHを維
持しながら、カップリング反応させた。次いで、塩化ナ
トリウムを加えて塩析し、析出した結晶を濾過して、下
記構造で示されるアゾ化合物を得た。
【００５６】
【化１９】
【００５７】この化合物は、水性媒体中でλmax597nmを
示した。
示した。
【００５８】実施例３ ４−アミノ安息香酸27.5部を水1000部に分散させ、28％
苛性ソーダを加えてpHを９とした。次いで、４−ニトロ
塩化ベンゾイル37.1部を少量ずつ加え、この間、28％苛
性ソーダを適宜加えてpH８近辺を維持した。さらに、12
時間反応後、塩析し、次いで濾過して結晶を得た。
苛性ソーダを加えてpHを９とした。次いで、４−ニトロ
塩化ベンゾイル37.1部を少量ずつ加え、この間、28％苛
性ソーダを適宜加えてpH８近辺を維持した。さらに、12
時間反応後、塩析し、次いで濾過して結晶を得た。
【００５９】水１４００部に鉄粉３０部、硫酸第１鉄
（７水和物）５部を加え、分散させ８５℃に加熱する。
次いで先に得られた結晶を少量ずつ加え、８５℃、７時
間反応させる。次いで６０℃まで冷却した後、２８％水
酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ１０とし、不溶解物
を濾過して除く。得られた濾液に３５％塩酸を加えてｐ
Ｈ７とし、塩化ナトリウムを加えて塩析し、析出した結
晶を濾過して下記構造の中間体（３）を得た。
（７水和物）５部を加え、分散させ８５℃に加熱する。
次いで先に得られた結晶を少量ずつ加え、８５℃、７時
間反応させる。次いで６０℃まで冷却した後、２８％水
酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ１０とし、不溶解物
を濾過して除く。得られた濾液に３５％塩酸を加えてｐ
Ｈ７とし、塩化ナトリウムを加えて塩析し、析出した結
晶を濾過して下記構造の中間体（３）を得た。
【００６０】
【化２０】
【００６１】水１５０部に上記中間体（３）１３．９
部、２８％水酸化ナトリウム水溶液７部を加えて溶解さ
せ、この溶液に３５％亜硝酸ナトリウム水溶液１０．９
部を加え、次いで３５％塩酸２６部を加えて２０〜３０
℃でジアゾ化する。過剰の亜硝酸ナトリウムをスルファ
ミン酸を加えて消去し、ジアゾ溶液を得る。一方、先に
得た中間体化合物(2) ２６部を水１００部に加え、さら
に２８％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ９とす
る。これに、10〜15℃で、先に得たジアゾ溶液を注入
し、この間、２８％水酸化ナトリウム水溶液を適宜加え
て、このｐＨを保持しながら攪拌してカップリング反応
させた。塩化ナトリウムで塩析し、析出した結晶を濾過
して下記構造のアゾ化合物を得た。
部、２８％水酸化ナトリウム水溶液７部を加えて溶解さ
せ、この溶液に３５％亜硝酸ナトリウム水溶液１０．９
部を加え、次いで３５％塩酸２６部を加えて２０〜３０
℃でジアゾ化する。過剰の亜硝酸ナトリウムをスルファ
ミン酸を加えて消去し、ジアゾ溶液を得る。一方、先に
得た中間体化合物(2) ２６部を水１００部に加え、さら
に２８％水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ９とす
る。これに、10〜15℃で、先に得たジアゾ溶液を注入
し、この間、２８％水酸化ナトリウム水溶液を適宜加え
て、このｐＨを保持しながら攪拌してカップリング反応
させた。塩化ナトリウムで塩析し、析出した結晶を濾過
して下記構造のアゾ化合物を得た。
【００６２】
【化２１】
【００６３】この化合物は、水性媒体中でλmax597nmを
示した。
示した。
【００６４】実施例４ １−ヒドロキシナフタレン−６−アミノ−３−スルホン
酸12.0部を水150 部に分散させた後、苛性ソーダ６部を
加え、次いで塩化トシル9.6 部を加えて35〜40℃で１時
間攪拌する。次いで、氷を加えて５℃とした後、35％塩
酸21部、亜硝酸ソーダ3.5 部を加えてジアゾ化する。次
いで、フェノール4.7 部を加えた後、苛性ソーダを加え
てpH９とし、５〜10℃で攪拌して、カップリング反応を
完結させる。次いで、苛性ソーダ３部を加え、80℃で３
時間攪拌して加水分解させた。室温まで冷却後、35％塩
酸を加えてpH７にし、塩化ナトリウムを加えて塩析し、
析出した結晶を濾過して下記構造で示される中間体(4)
を得た。
酸12.0部を水150 部に分散させた後、苛性ソーダ６部を
加え、次いで塩化トシル9.6 部を加えて35〜40℃で１時
間攪拌する。次いで、氷を加えて５℃とした後、35％塩
酸21部、亜硝酸ソーダ3.5 部を加えてジアゾ化する。次
いで、フェノール4.7 部を加えた後、苛性ソーダを加え
てpH９とし、５〜10℃で攪拌して、カップリング反応を
完結させる。次いで、苛性ソーダ３部を加え、80℃で３
時間攪拌して加水分解させた。室温まで冷却後、35％塩
酸を加えてpH７にし、塩化ナトリウムを加えて塩析し、
析出した結晶を濾過して下記構造で示される中間体(4)
を得た。
【００６５】
【化２２】
【００６６】一方、実施例１で得た中間体（１）15.7部
を水150 部に加え、28％苛性ソーダ７部を加えて溶解さ
せた後、35％亜硝酸ソーダ10.9部を加え、次いで35％塩
酸26部を加えて20〜30℃でジアゾ化する。過剰の亜硝酸
ソーダをスルファミン酸で消去してジアゾ液を得た。上
記中間体(4)18.3 部を水100 部に加え、さらに28％苛性
ソーダを加えてpH８とする。これに、上記ジアゾ液を10
〜15℃で注入し、この間、28％苛性ソーダを適宜加えて
pH７近辺を維持しながら、カップリング反応させた。次
いで、塩化ナトリウムを加えて塩析し、析出した結晶を
濾過して、下記構造で示されるアゾ化合物を得た。
を水150 部に加え、28％苛性ソーダ７部を加えて溶解さ
せた後、35％亜硝酸ソーダ10.9部を加え、次いで35％塩
酸26部を加えて20〜30℃でジアゾ化する。過剰の亜硝酸
ソーダをスルファミン酸で消去してジアゾ液を得た。上
記中間体(4)18.3 部を水100 部に加え、さらに28％苛性
ソーダを加えてpH８とする。これに、上記ジアゾ液を10
〜15℃で注入し、この間、28％苛性ソーダを適宜加えて
pH７近辺を維持しながら、カップリング反応させた。次
いで、塩化ナトリウムを加えて塩析し、析出した結晶を
濾過して、下記構造で示されるアゾ化合物を得た。
【００６７】
【化２３】
【００６８】厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィ
ルム（クラレビニロン＃７５００、（株）クラレ製品）
を縦一軸に５倍の延伸を実施し、偏光膜基材とした。こ
のポリビニルアルコールフィルムを緊張状態に保ったま
ま、先に得たアゾ化合物を０．０２５％、染色助剤であ
る芒硝を２．０％の濃度とした６５℃水溶液に浸漬し
た。さらにホウ酸濃度を７．５％とした６５℃水溶液に
５分浸漬したのち、取り出して２０℃の水で２０秒間洗
浄を行い、５０℃で乾燥することにより、偏光膜を得
た。得られた偏光膜のλmax は５２０nmであり、この偏
光膜は高い偏光度を有し、しかも、高温且つ高湿の状態
でも長時間にわたる耐久性をしめした。
ルム（クラレビニロン＃７５００、（株）クラレ製品）
を縦一軸に５倍の延伸を実施し、偏光膜基材とした。こ
のポリビニルアルコールフィルムを緊張状態に保ったま
ま、先に得たアゾ化合物を０．０２５％、染色助剤であ
る芒硝を２．０％の濃度とした６５℃水溶液に浸漬し
た。さらにホウ酸濃度を７．５％とした６５℃水溶液に
５分浸漬したのち、取り出して２０℃の水で２０秒間洗
浄を行い、５０℃で乾燥することにより、偏光膜を得
た。得られた偏光膜のλmax は５２０nmであり、この偏
光膜は高い偏光度を有し、しかも、高温且つ高湿の状態
でも長時間にわたる耐久性をしめした。
【００６９】実施例５ 実施例４で用いたアゾ化合物の代わりに、実施例１〜３
で得られたアゾ化合物を用いて、実施例４と同様の方法
により偏光膜を得た。得られた偏光膜のλmaxを下表に
示す。
で得られたアゾ化合物を用いて、実施例４と同様の方法
により偏光膜を得た。得られた偏光膜のλmaxを下表に
示す。
【００７０】
【表１】
【００７１】実施例６ 実施例５で用いたアゾ化合物の代わりに、実施例１〜４
と同様の方法により得られた下表の第２欄に示されるア
ゾ化合物を用いて、実施例４と同様の方法により偏光膜
を得た。なお、表中の色相は偏光膜での色相である。得
られた偏光膜はそれぞれ高温且つ高湿の条件下での耐久
性に優れていた。
と同様の方法により得られた下表の第２欄に示されるア
ゾ化合物を用いて、実施例４と同様の方法により偏光膜
を得た。なお、表中の色相は偏光膜での色相である。得
られた偏光膜はそれぞれ高温且つ高湿の条件下での耐久
性に優れていた。
【００７２】
【表２】
Claims (9)
- 【請求項１】遊離酸の形で表すと、一般式（Ｉ） 【化１】 〔式中、Ｘは１個以上のスルホ基若しくはカルボキシ基
で置換され、さらに別の置換基で置換されていてもよい
フェニル基、又は１個以上のスルホ基で置換され、さら
に別の置換基で置換されていてもよいナフチル基を表
し、Ｒ1 及びＲ2 は同一又は相異なり、水素原子、メチ
ル基又はメトキシ基を表し、Ｒ3 は水素原子、アミノ基
又はスルホ基を表し、Ｒ4 は水素原子、アミノ基又はア
セチルアミノ基を表し、Ｙは水素原子、スルホ基、下記
式(a) −ＮＨ−Ａ (a) （式中、Ａはアミノ基若しくはヒドロキシ基で置換され
ていてもよいベンゾイル基、メチル基、エチル基、アセ
チル基又はフェニル基を表す。）で示される基、又は下
記式(b) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ (b) （式中、Ｂは置換されていてもよいフェニル基又は置換
されていてもよいナフチル基を表す。）で示される基を
表す。〕で示されるアゾ化合物。 - 【請求項２】Ｘが、下記式(c) 【化２】 （式中、Ｒ5 及びＲ6 の一方はスルホ基又はカルボキシ
基であり、他方は水素原子、ヒドロキシ基、炭素数４以
下のアルキル基、炭素数４以下のアルコキシ基、スルホ
基又はカルボキシ基を表す。）で示される置換フェニル
基である請求項１に記載のアゾ化合物。 - 【請求項３】Ｘが、下記式(d) 【化３】 （式中、Ｒ7 、Ｒ8 及びＲ9 は同一又は相異なって水素
原子、ヒドロキシ基若しくはスルホ基を表すが、Ｒ7 、
Ｒ8 及びＲ9 の少なくとも１つはスルホ基を表す。）で
示される置換ナフチル基である請求項１に記載のアゾ化
合物。 - 【請求項４】Ｙが、下記式(e) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ’ (e) （式中、Ｂ’は無置換フェニル基又は、炭素数４以下の
アルキル基、炭素数４以下のアルコキシ基、ヒドロキシ
基、ニトロ基、塩素原子、カルボキシ基、アミノ基、ス
ルホ基及び置換アミノ基からなる群より選ばれる置換基
で置換されたフェニル基を表す。）で示される基である
請求項１〜３のいずれかに記載のアゾ化合物。 - 【請求項５】Ｙが、下記式(f) −Ｎ＝Ｎ−Ｂ” (f) （式中、Ｂ”は少なくとも１個のスルホ基で置換され、
さらにアミノ基、置換アミノ基及びヒドロキシ基からな
る群より選ばれる置換基で置換されていてもよいナフチ
ル基を表す。）で示される基である請求項１〜３のいず
れかに記載のアゾ化合物。 - 【請求項６】Ｒ1 及びＲ2 が、水素原子である請求項１
〜５のいずれかに記載のアゾ化合物。 - 【請求項７】請求項１〜６のいずれかに記載のアゾ化合
物を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜。 - 【請求項８】請求項１〜６のいずれかに記載のアゾ化合
物の少なくとも１種及びその他の有機染料の少なくとも
１種を偏光膜基材に含有してなる染料系偏光膜。 - 【請求項９】偏光膜基材が、ポリビニルアルコール又は
その誘導体からなるフィルムである請求項７又は８に記
載の染料系偏光膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11876196A JPH09302249A (ja) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | アゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11876196A JPH09302249A (ja) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | アゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09302249A true JPH09302249A (ja) | 1997-11-25 |
Family
ID=14744415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11876196A Pending JPH09302249A (ja) | 1996-05-14 | 1996-05-14 | アゾ化合物及びそれを含有する染料系偏光膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09302249A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002275381A (ja) * | 2001-01-10 | 2002-09-25 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポリアゾ化合物又はその塩及びそれらを含有する染料系偏光膜 |
| JP2003064276A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | アゾ化合物又はその塩及びそれらを含有する染料系偏光膜 |
| US7070715B2 (en) | 2002-08-19 | 2006-07-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Disazo compound or salt thereof and polarizing film using the same |
| JP2007238888A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アゾ化合物及び該化合物を含有する偏光膜 |
| JP2013091723A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物 |
-
1996
- 1996-05-14 JP JP11876196A patent/JPH09302249A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002275381A (ja) * | 2001-01-10 | 2002-09-25 | Sumitomo Chem Co Ltd | ポリアゾ化合物又はその塩及びそれらを含有する染料系偏光膜 |
| JP2003064276A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-05 | Sumitomo Chem Co Ltd | アゾ化合物又はその塩及びそれらを含有する染料系偏光膜 |
| US7070715B2 (en) | 2002-08-19 | 2006-07-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Disazo compound or salt thereof and polarizing film using the same |
| JP2007238888A (ja) * | 2006-03-13 | 2007-09-20 | Sumitomo Chemical Co Ltd | アゾ化合物及び該化合物を含有する偏光膜 |
| JP2013091723A (ja) * | 2011-10-26 | 2013-05-16 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化合物 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060131 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
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| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060530 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |