JPH093038A - ベンジルスルフィド誘導体、その製造方法及び有害生物防除剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】作物に悪影響を及ぼすことなく、種々の有害生
物を殺滅防除することができるベンジルスルフィド誘導
体を提供する。 【解決手段】一般式［Ｉ］ （式中、Ｒ^１は炭素数１から６のアルキル基、炭素数１
から６のハロアルキル基、炭素数２から４のアルケニル
基、シアノ基を示し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して水素
原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１から４のアル
キル基、炭素数１から３のハロアルキル基を示し、Ｒ^４
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル
基を示し、Ａはヒドラジノアラルキル基又はヒドラゾノ
アラルキル基を示し、ｎは０、１又は２を示す。）にて
表されるベンジルスルフィド誘導体及びその塩、その製
造方法及び該ベンジルスルフィド誘導体を有効成分とし
て含有する有害生物防除剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なベンジルス
ルフィド誘導体、その製造方法及びこれを有効成分とし
て含有する有害生物防除剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】これまでベンゾヒドラゾノイルフェニル
スルフィド誘導体が殺虫剤として使用し得る事が、例え
ば、米国特許３７３２３０７号明細書、特開昭５４−１
２２２６１号公報明細書及び特開昭５６−４５４５２号
公報明細書等に報告されているが、本発明のベンジルス
ルフィド誘導体は未だ知られていない。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】近年、既存の市販殺虫
剤には残留、蓄積、環境汚染等の問題から使用が規制さ
れたり、長期使用によって抵抗性害虫が発生し、効力の
薄れたものも出ている。そのため低薬量において高い効
力を有し、安全性に優れた殺虫剤の開発が望まれてい
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、種々のベ
ンジルスルフィド誘導体を合成し、その生理活性につい
て検討を重ねた。その結果、本発明化合物が、種々の有
害生物、特に農園芸有害生物であるコナガ、ニカメイ
ガ、シロイチモジヨトウに代表される鱗翅目害虫、トビ
イロウンカ、ツマグロヨコバイ、ワタアブラムシに代表
される半翅目害虫及びアズキゾウムシに代表される鞘翅
目害虫に卓効を示すことを見いだし、本発明を完成した
ものである。

【０００５】即ち、本発明は（１）一般式［Ｉ］、

【０００６】

【化１２】 ｛式中、Ｒ^１は炭素数１から６のアルキル基、炭素数１
から４のシアノアルキル基、炭素数１から４のヒドロキ
シアルキル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、炭
素数１から６のハロアルキル基、炭素数２から４のアル
ケニル基、炭素数２から４のアルキニル基、フェニル基
［該基はハロゲン原子又は炭素数１から４のアルキル基
で置換されてもよい］、シアノ基、ベンジル基［該基は
ハロゲン原子で置換されてもよい］、チアゾリル基、炭
素数１から４のアルキルカルバモイル基又は−Ｎ（Ｒ
５）Ｒ６基を示し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して水素原
子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１から４のアルキ
ル基、炭素数１から３のハロアルキル基、炭素数１から
４のアルキルチオ基、炭素数１から４のアルキルカルボ
ニル基、カルボキシル基又は炭素数１から４のアルコキ
シカルボニル基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はこれらの結合し
た炭素原子と共に３から６員環を形成してもよい。又、
Ｒ^１及びＲ^２はこれらの結合した硫黄原子及び炭素原子
と共に一つ又はそれ以上のヘテロ原子を有する３から８
員環を形成してもよい。Ｒ^４は水素原子、ハロゲン原
子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４のハ
ロアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基又は炭素
数１から４のハロアルコキシ基を示し、Ｒ^５及びＲ^６は
各々独立して水素原子、炭素数１から６のアルキル基又
は炭素数１から４のハロアルキル基を示す。又、Ｒ^５及
びＲ^６は一緒になって基＝ＣＲ^７Ｒ^８を形成又はＲ^５及
びＲ^６はこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する４から８員環を形成し
てもよい。Ｒ^７は水素原子、炭素数１から３のアルキル
基又は炭素数１から３のアルキルチオ基を示し、Ｒ^８は
炭素数１から３のアルキルチオ基又は炭素数１から３の
アルキルアミノ基を示す。又、Ｒ^７及びＲ^８はこれらの
結合した炭素原子と合わせて飽和または不飽和の４から
８員環を形成してもよい。Ａは式［Ａ１］または式［Ａ
２］

【０００７】

【化１３】 で表されるヒドラジノアラルキル基又はヒドラゾノアラ
ルキル基を示し、Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基、シアノ基、炭素数１から４のアルキル基、炭素数
１から４のハロアルキル基、炭素数１から４のアルコキ
シ基、炭素数１から４のハロアルコキシ基、炭素数１か
ら４のアルキルチオ基、炭素数１から４のハロアルキル
チオ基、炭素数１から４のアルキルスルホニル基、炭素
数２から４のアルキルスルホニルメチル基、炭素数１か
ら４のハロアルキルスルホニルオキシ基、フェニル基
［該基はハロゲン原子で置換されてもよい］又はフェノ
キシ基［該基はハロゲン原子で置換されてもよい］を示
す。又、２つのＲ^９を合わせて５から６員環を形成して
もよい。Ｒ^１０は水素原子または炭素数１から４のアル
キル基を示し、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３は各々独立し
て水素原子、シアノ基、炭素数１から６のアルキル基、
炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から１０の
アルコキシアルキル基、炭素数３から８のアルコキシア
ルコキシアルキル基、炭素数２から６のアルキルチオア
ルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数２か
ら４のアルキニル基、炭素数１から４のシアノアルキル
基、ベンジル基［該基はハロゲン原子、炭素数１から４
のハロアルキル基又は炭素数１から４のアルキル基で置
換されてもよい］、基−ＣＯＲ^１４、基−ＣＳＲ^１４、
基−ＣＯＯＲ^１５、基−ＣＯＳＲ^１５、基−ＣＯＮ（Ｒ
^１６）Ｒ^１７、基−ＣＳＮ（Ｒ^１６）Ｒ^１７、基−ＳＮ
（Ｒ^１８）Ｒ^１９、基−ＳＯ_２Ｒ^２０又は基−Ｃ（Ｒ
^２１）＝ＣＨＲ^２２を示す。又、Ｒ^１２及びＲ^１３は一
緒になって基＝ＣＲ^２３Ｒ^２４を形成、又はＲ^１２及び
Ｒ^１３はこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する４から８員環を形成し
てもよい。Ｒ^１４は水素原子、炭素数１から２０のアル
キル基、炭素数１から８のハロアルキル基、炭素数２か
ら１２のアルコキシアルキル基、炭素数２から１０のハ
ロアルコキシアルキル基、炭素数３から１６のアルコキ
シアルコキシアルキル基、炭素数４から２２のアルコキ
シアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数３から６の
シクロアルキル基、炭素数１から６のヒドロキシアルキ
ル基、炭素数１から６のアミノアルキル基、炭素数１か
ら６のアミドアルキル基、炭素数１から８のシアノアル
キル基、炭素数３から１２のアルコキシカルボニルアル
キル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数２から
４のアルキニル基、フェニル基［該基はハロゲン原子、
ニトロ基、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から
４のハロアルキル基、フェノキシ基又は炭素数１から４
のアルコキシ基で置換されてもよい］、ナフチル基［該
基はハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基で置換
されてもよい］又はヘテロ芳香環基［該基はハロゲン原
子、炭素数１から４のアルキル基で置換されてもよい］
を示し、Ｒ^１５は炭素数１から２０のアルキル基、炭素
数２から８のハロアルキル基、炭素数２から１２のアル
コキシアルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭
素数２から４のアルキニル基、ベンジル基［該基はハロ
ゲン原子、炭素数１から４のアルコキシ基又は炭素数１
から４のアルキル基で置換されてもよい］又はフェニル
基［該基はハロゲン原子で置換されてもよい］を示し、
Ｒ^１６は水素原子又は炭素数１から４のアルキル基を示
し、Ｒ^１７は水素原子、炭素数１から６のアルキル基又
はフェニル基［該基はハロゲン原子、炭素数１から４の
ハロアルコキシ基又は炭素数１から４のアルキル基で置
換されてもよい）を示し、Ｒ^１８及びＲ^１９は各々独立
して炭素数１から４のアルキル基（該基は炭素数１から
４のアルコキシカルボニル基で置換されてもよい］、炭
素数２から５のアルコキシアルキル基を示す。又、Ｒ
^１８及びＲ^１９はこれらの結合した窒素原子と合わせて
５から６員環を形成してもよい。Ｒ^２０は炭素数１から
４のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は
炭素数２から４のジアルキルアミノ基を示し、Ｒ^２１は
水素原子又は炭素数１から６のアルキル基を示し、Ｒ
^２２は炭素数２から４のアルカノイル基又は炭素数２か
ら６のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ^２３及びＲ
^２４は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
１から６のアルキル基又は基−Ｎ（Ｒ^２５）Ｒ^２６を示
し、Ｒ^２５及びＲ^２６は各々独立して、水素原子、炭素
数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ
基、炭素数２から１２のアルコキシアルキル基又は基−
ＳＯ_２Ｒ^２７を示す。又、Ｒ^２５及びＲ^２６はこれらの
結合した窒素原子と合わせて５から６員環を形成しても
よい。Ｒ^２７は炭素数１から８のアルキル基又はフェニ
ル基［該基はハロゲン原子又は炭素数１から４のアルキ
ル基で置換されてもよい］を示し、Ｑ^１及びＱ^２は窒素
原子又は基−ＣＲ^９を示し、ｍは１又は２〜３の整数を
示し、ｎは０、１又は２を示す。｝にて表されるベンジ
ルスルフィド誘導体及びその塩、（２）一般式［Ｉ］で
表される化合物を製造するための新規な合成中間体であ
る一般式［ＩＩ］、

【０００８】

【化１４】 ｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びｎは前記と同じ
意味を示し、Ｂは式［Ｂ１］または式［Ｂ２］

【０００９】

【化１５】 で表されるアラルキル基又はアリールカルボニル基を示
し、Ｒ^９、Ｒ^１０、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味
を示し、Ｒ^２８はハロゲン原子又はヒドロキシル基を示
す。｝にて表されるベンジルスルフィド誘導体、（３）
一般式［Ｉ］で表される化合物を製造するための新規な
合成中間体である一般式［ＩＩＩ］、

【００１０】

【化１６】 ｛式中、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ^１３、ｍ、Ｑ^１及びＱ
^２は前記と同じ意味を示し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立し
て水素原子又は炭素数１から４のアルキル基を示し、Ｒ
^２９はハロゲン原子、メルカプト基またはヒドロキシル
基を示す。｝にて表されるベンゾフェノンヒドラゾン誘
導体、（４）一般式［ＩＶ］、

【００１１】

【化１７】 ｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、ｍ、ｎ、Ｑ^１
及びＱ^２は前記と同じ意味を示す。｝で示される化合物
と一般式［Ｖ１］、

【００１２】

【化１８】 ｛式中、Ｒ^１２及びＲ^１３は前記と同じ意味を示す。｝
で示される化合物とを反応させることを特徴とする化１
２記載のＡが化１３記載の式［Ａ２］であるベンジルス
ルフィド誘導体の製造法、（５）一般式［ＩＩＩ］、

【００１３】

【化１９】 ｛式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ
^２９、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示す。｝で
示される化合物と一般式［Ｖ２］

【００１４】

【化２０】Ｚ−Ｒ^１ ［Ｖ２］ ｛式中、Ｚは、Ｒ^２９がメルカプト基の時はハロゲン原
子、炭素数１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベ
ンゼンスルホニルオキシ基［該基はメチル基で置換され
てもよい。］を示し、Ｒ^２９がハロゲン原子の時は基−
Ｓ（Ｏ）ｎＭを示し、Ｒ^２９がヒドロキシル基の時は基
−ＳＳＲ^１を示す。Ｒ^１は炭素数１から６のアルキル
基、炭素数１から４のシアノアルキル基、炭素数３から
６のシクロアルキル基、炭素数１から６のハロアルキル
基、炭素数２から４のアルケニル基又はベンジル基（該
基はハロゲン原子で置換されてもよい）を示し、Ｍはア
ルカリ金属を示し、ｎは０又は２を示す。｝で示される
化合物とを反応させることを特徴とする化１２記載のＡ
が化１３記載の式［Ａ２］であるベンジルスルフィド誘
導体の製造法、（６）一般式［ＶＩ］、

【００１５】

【化２１】 ｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、ｍ、
ｎ，Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示し、Ｒ^２８はハ
ロゲン原子を示す。｝で示される化合物と一般式［Ｖ
１］、

【００１６】

【化２２】 ｛式中、Ｒ^１２及びＲ^１３は前記と同じ意味を示す。｝
で示される化合物とを反応させることを特徴とする化１
２記載のＡが化１３記載の式［Ａ１］であるベンジルス
ルフィド誘導体の製造法及び、（７）化１２のベンジル
スルフィド誘導体を有効成分として含有する有害生物防
除剤である。

【００１７】本明細書において、ハロゲン原子とは、フ
ッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子を示す。

【００１８】アルキル基とは、炭素数が１〜２０の直鎖
又は分岐のアルキル基を意味し、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ネオペンチル
基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、３、３−ジメチ
ルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノ
ニル基、ｎ−デシル基等を挙げることができる。

【００１９】シクロアルキル基とは、炭素数が３〜６の
シクロアルキル基を示し、例えばシクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基等を挙げることがで
きる。

【００２０】アルケニル基とは炭素数２から６の直鎖又
は分岐鎖のアルケニル基を示し、例えばエテニル基、２
−プロペニル基等を挙げることができる。

【００２１】ハロアルキル基とは、同一又は相異なるハ
ロゲン原子１〜１０で置換されている炭素数が１〜８の
直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示し、例えばクロロメチ
ル基、トリフルオロメチル基、テトラフルオロエチル基
等を挙げることができる。

【００２２】シアノアルキル基とは、シアノ基で置換さ
れている炭素数が１〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基
を示す。

【００２３】ヒドロキシアルキル基とは、ヒドロキシル
基で置換されている炭素数が１〜８の直鎖又は分岐鎖の
アルキル基を示す。

【００２４】アルコキシ基とは、アルキル部分が上記の
意味である−Ｏ−（アルキル基）を示し、例えばメトキ
シ基、エトキシ基等を挙げることができる。

【００２５】ハロアルコキシ基とは、ハロアルキル部分
が上記の意味である−Ｏ−（ハロアルキル基）を示し、
例えばトリフルオロメトキシ基、２−クロロエトキシ基
等を挙げることができる。

【００２６】アルキルチオ基とは、アルキル部分が上記
の意味である−Ｓ−（アルキル基）を示し、例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基等を挙げることができる。

【００２７】ハロアルキルチオ基とは、ハロアルキル部
分が上記の意味である−Ｓ−（ハロアルキル基）を示
し、例えばトリフルオロメチルチオ基、２−クロロエチ
ルチオ基等を挙げることができる。

【００２８】アルキルスルホニル基とは、アルキル部分
が上記の意味である−ＳＯ_２−（アルキル基）を示し、
例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基等を挙
げることができる。

【００２９】アルキルスルホニルメチル基とは、アルキ
ル部分が上記の意味である−ＣＨ_２ＳＯ_２−（アルキル
基）を示し、例えばメチルスルホニルメチル基、エチル
スルホニルメチル基等を挙げることができる。

【００３０】アルコキシアルキル基とは、アルキル部分
及びアルキレン部分が上記の意味である（アルキレン
基）−Ｏ−（アルキル基）を示し、例えばメトキシメチ
ル基、エトキシメチル基等を挙げることができる。

【００３１】アルキルチオアルキル基とは、アルキル部
分及びアルキレン部分が上記の意味である（アルキレン
基）−Ｓ−（アルキル基）を示し、例えばメチルチオメ
チル基、エチルチオメチル基等を挙げることができる。

【００３２】アルコキシアルコキシアルキル基とは、ア
ルキル部分及びアルキレン部分が上記の意味である（ア
ルキレン基）−Ｏ−（アルキレン基）−Ｏ−（アルキル
基）を示す。

【００３３】アルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基とは、アルキル部分及びアルキレン部分が上記の意味
である（アルキレン基）−Ｏ−（アルキレン基）−Ｏ−
（アルキレン基）−Ｏ−（アルキル基）を示す。

【００３４】アミノアルキル基とは、アミノ基、モノア
ルキルアミノ基又はジアルキルアミノ基で置換されてい
る炭素数が１〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示
す。

【００３５】アミドアルキル基とは、アシルアミノ基又
はＮ−アルキル−Ｎ−アシルアミノ基で置換されている
炭素数が１〜８の直鎖又は分岐鎖のアルキル基を示す。

【００３６】アルキニル基とは炭素数２から４の直鎖の
アルキニル基を示す。

【００３７】アルキレン基とは、炭素数が１〜８の直鎖
のアルキレン基を意味し、メチレン基、エチレン基、ト
リメチレン基、テトラメチレン基を示す。

【００３８】ヘテロ芳香環基とは窒素原子、酸素原子又
は硫黄原子を１〜４個含んだ５員環の芳香環基およびそ
れらとベンゼン環との縮合環、あるいは１〜３個の窒素
原子を含んだ６員環の芳香環基およびそれらとベンゼン
環との縮合環を示し、例えば、フリル基、チエニル基、
ピラゾリル基、イミダゾリル基、ベンゾフラニル基、ベ
ンゾチアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリ
ダジニル基、トリアジニル基、キノリル基、キノキサリ
ニル基等を挙げることができる。

【００３９】本発明化合物における塩とは、一般式
［Ｉ］で表される化合物と酸との塩又は一般式［Ｉ］で
表される化合物において、Ｒ^２あるいはＲ^３がカルボキ
シル基である化合物と金属あるいはアミン類との塩であ
り、酸としては塩酸や臭化水素酸等のハロゲン化水素酸
又は硫酸やメタンスルホン酸等のスルホン酸を挙げるこ
とができ、金属としてはナトリウムやカリウム等のアル
カリ金属、マグネシウムやカルシウム等のアルカリ土類
金属を挙げることができ、アミン類としてはアンモニ
ア、イソプロピルアミン又はトリエチルアミン等を挙げ
ることができる。

【００４０】前記一般式［Ｉ］において、好ましい化合
物群として、Ｒ^１が炭素数１から４のアルキル基、炭素
数１から２のシアノアルキル基、ヒドロキシエチル基、
シクロペンチル基、炭素数１から２のハロアルキル基、
フェニル基［該基はハロゲン原子で置換されてもよ
い］、シアノ基、炭素数１から４のアルキルカーバモイ
ル基又はチアゾリル基であり、Ｒ^２、Ｒ^３が各々独立し
て水素原子、メチル基または炭素数１から２のアルコキ
シカルボニル基であり、又、Ｒ^１及びＲ^２はこれらの結
合した硫黄原子及び炭素原子と共に５員環を形成しても
よく、Ｒ^４が水素原子又はフッ素原子であり、Ａが式
［Ａ１］または［Ａ２］で表されるヒドラジノアラルキ
ル基又はをヒドラゾノアラルキル基であり、Ｒ^９が水素
原子、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メチル基、
トリフルオロメチル基、メトキシ基、炭素数１から２の
ハロアルコキシ基、メチルチオ基、ジフルオロメチルチ
オ基、メチルスルホニル基、メチルスルホニルメチル
基、トリフルオロメチルスルホニルオキシ基、フェニル
基、フェノキシ基［該基はハロゲン原子で置換されても
よい］又はメチレンジオキシ基であり、Ｒ^１０が水素原
子であり、Ｒ^１１が水素原子、基−ＣＯＲ^１４または基
−ＣＯＯＲ^１５であり、Ｒ^１２及びＲ^１３が各々独立し
て水素原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１か
ら４のハロアルキル基、炭素数２から１０のアルコキシ
アルキル基、炭素数３から８のアルコキシアルコキシア
ルキル基、炭素数２から６のアルキルチオアルキル基、
シアノメチル基、ベンジル基［該基はハロゲン原子又は
トリフルオロメチル基で置換されてもよい］、基−ＣＯ
Ｒ^１４、基−ＣＯＯＲ^１５、基−ＣＯＮＨＲ^１７、基−
ＳＯ_２Ｒ^２０又は基−Ｃ（Ｒ^２１）＝ＣＨＲ^２２であ
り、又、Ｒ^１２及びＲ^１３は一緒になって基＝ＣＲ^２３
Ｒ^２４を形成又はＲ^１２及びＲ^１３はこれらの結合した
窒素原子と合わせて５員環を形成してもよく、Ｒ^１４が
炭素数１から１０のアルキル基、炭素数１から４のハロ
アルキル基、炭素数２から６のアルコキシアルキル基、
炭素数２から４のハロアルコキシアルキル基、炭素数３
から１０のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数４
から１２のアルコキシアルコキシアルコキシアルキル
基、シクロプロピル基、炭素数１から４のシアノアルキ
ル基、炭素数３から６のアルコキシカルボニルアルキル
基、フェニル基［該基はハロゲン原子、ニトロ基、炭素
数１から４のアルキル基、トリフルオロメチル基、フェ
ノキシ基又はメトキシ基で置換されてもよい］、ナフチ
ル基、ピリジル基、チエニル基又は２−フリル基であ
り、Ｒ^１５が炭素数１から１０のアルキル基、炭素数２
から６のハロアルキル基、炭素数２から６のアルコキシ
アルキル基又はフェニル基であり、Ｒ^１６が水素原子又
はメチル基であり、Ｒ^１７が水素原子、炭素数１から６
のアルキル基又はフェニル基［該基は塩素原子、メチル
基又はトリフルオロメトキシ基で置換されてもよい］で
あり、Ｒ^２０がメチル基又はトリフルオロメチル基であ
り、Ｒ^２１が水素原子又はメチル基であり、Ｒ^２２がア
セチル基又は炭素数メトキシカルボニル基であり、Ｒ
^２３及びＲ^２４が各々独立して、水素原子、塩素原子、
炭素数１から４のアルキル基、１−トリアゾリル基又は
基−Ｎ（Ｒ^２５）Ｒ^２６であり、Ｒ^２５及びＲ^２６が各
々独立して、水素原子、炭素数１から４のアルキル基、
メトキシ基又は炭素数２から４のアルコキシアルキル基
であり、Ｒ^２７が炭素数１から４のアルキル基又はフェ
ニル基［該基はハロゲン原子又はメチル基で置換されて
もよい］であり、Ｑ^１及びＱ^２が窒素原子又は基−ＣＲ
^９であり、ｍが１又は２〜３の整数であり、ｎは、Ｒ^１
がシアノ基又は炭素数１から４のアルキルカルバモイル
基の時は０であり、それ以外は０、１又は２で表される
化合物群が挙げられる。

【００４１】前記一般式［ＩＩ］において、好ましい化
合物郡としては、Ｒ^１が炭素数１から４のアルキル基、
シアノメチル基、ヒドロキシエチル基、シクロペンチル
基、炭素数１から３のハロアルキル基、フェニル基［該
基はハロゲン原子で置換されてもよい］、シアノ基、炭
素数１から４のアルキルカルバモイル基又はチアゾリル
基であり、Ｒ^２、Ｒ^３が各々独立して水素原子、メチル
基又は炭素数１から２のアルコキシカルボニル基であ
り、又、Ｒ^１及びＲ^２はこれらの結合した硫黄原子及び
炭素原子と共に５員環を形成してもよく、Ｒ^４が水素原
子又はフッ素原子であり、Ｂが式［Ｂ１］または［Ｂ
２］で表されるアラルキル基又はアリールカルボニル基
であり、Ｒ^９がハロゲン原子、トリフルオロメチル基、
メトキシ基、炭素数１から２のフルオロアルコキシ基又
はフェノキシ基［該基はハロゲン原子で置換されてもよ
い］であり、Ｒ^１０が水素原子であり、Ｒ^２８が塩素原
子又はヒドロキシル基であり、Ｑ^１及びＱ^２が窒素原子
又は基−ＣＲ^９であり、ｍが１又は２の整数であり、ｎ
は、Ｒ^１がシアノ基又は炭素数１から４のアルキルカル
バモイル基の時は０であり、それ以外は０、１又は２で
表される化合物群が挙げられる。

【００４２】前記一般式［ＩＩＩ］において、好ましい
化合物郡としては、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４が水素原子であ
り、Ｒ^９が４位置換塩素原子であり、Ｒ^１２及びＲ^１３
が水素原子、基−ＣＯＲ^１４、基−ＣＯＯＲ^１５であ
り、Ｒ^１４が炭素数１から４のアルキル基であり、Ｒ
^１５が炭素数１から４のアルキル基であり、Ｒ^２９が塩
素原子、メルカプト基又はヒドロキシル基であり、Ｑ^１
及びＱ^２がメチン基であり、ｍが１で表される化合物群
が挙げられる。

【００４３】

【発明の実施の形態】次に、一般式［Ｉ］、［ＩＩ］、
及び［ＩＩＩ］で表される本発明化合物の代表的な具体
例を表１〜表３５に例示する。尚、化合物番号は以後の
記載において参照される。

【００４４】一般式［Ｉ］で表される化合物にはＣ＝Ｎ
結合が存在する為にエントゲーゲン（Ｅ）体及びツザー
メン（Ｚ）体の２種類の幾何異性体が存在するが、本発
明化合物はＥ体又はＺ体単独で用いても良く、その混合
物としても使用できる。

【００４５】また、一般式［Ｉ］で表される本発明化合
物は、ある場合において互変異性体が存在する。例え
ば、基＝ＣＲ^２３Ｒ^２４が＝Ｃ（Ｒ^２３）−Ｎ
（Ｒ^２５）Ｒ^２６で表される場合に、Ｒ^２５が水素原子
の時、部分的な構造として−Ｎ＝Ｃ（Ｒ^２３）ＮＨ−Ｒ
^２６を持つ化合物は、部分的な構造として−ＮＨ−Ｃ
（Ｒ^２３）＝Ｎ−Ｒ^２６を持つ互変異性体の平衡状態と
して存在し得る。従って、本発明化合物において互変異
性体を取り得る化合物については、互変異性体を特記し
ない場合でも相当する互変異性体が存在するものとして
理解されるべきである。

【００４６】

【表１】

【００４７】

【表２】

【００４８】

【表３】

【００４９】

【表４】

【００５０】

【表５】

【００５１】

【表６】

【００５２】

【表７】

【００５３】

【表８】

【００５４】

【表９】

【００５５】

【表１０】

【００５６】

【表１１】

【００５７】

【表１２】

【００５８】

【表１３】

【００５９】

【表１４】

【００６０】

【表１５】

【００６１】

【表１６】

【００６２】

【表１７】

【００６３】

【表１８】

【００６４】

【表１９】

【００６５】

【表２０】

【００６６】

【表２１】

【００６７】

【表２２】

【００６８】

【表２３】

【００６９】

【表２４】

【００７０】

【表２５】

【００７１】

【表２６】

【００７２】

【表２７】

【００７３】

【表２８】

【００７４】

【表２９】

【００７５】

【表３０】

【００７６】

【表３１】

【００７７】

【表３２】

【００７８】

【表３３】

【００７９】

【表３４】

【００８０】

【表３５】

【００８１】次に、本発明化合物の製造法について説明
する。

【００８２】一般式［Ｉ］で表される本発明化合物は、
下記の製造法１〜５に従って製造できる。 製造法１

【００８３】

【化２３】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ
^１３、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示
す。）

【００８４】製造法１において、一般式［ＩＶ］で示さ
れるベンゾフェノン類１モルに対し、一般式［Ｖ１］で
示されるヒドラジン類又はその水和物１．０〜１０．０
モルを０〜５ｌの溶媒の存在下、必要ならば０．０１〜
１．０モルの酸触媒の存在下に反応させて一般式［Ｉ］
でＡが［Ａ２］で表される本発明化合物を得ることがで
きる。

【００８５】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、エ
チレングリコール及びグリセリン等のアルコール類、塩
化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、
ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化
水素類、ピリジン及びピコリン等のピリジン類、酢酸及
び水等の溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。

【００８６】酸触媒としては、例えば、塩酸、硫酸及び
硝酸等の鉱酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、メタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸及びｐ−トルエンスルホン
酸一水和物のような有機酸、ピリジン塩酸塩及びトリエ
チルアミン塩酸塩等のアミン類の酸付加塩、四塩化チタ
ン、塩化亜鉛、塩化第一鉄及び塩化第二鉄等の金属ハロ
ゲン化物又は三フッ化ホウ素・エーテラート等が挙げら
れる。

【００８７】反応温度は−１０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは室温から１
５０℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分
〜２０時間の間で設定できる。 製造法２

【００８８】

【化２４】 （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ^１３、
ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示し、Ｒ^２９はハ
ロゲン原子を示し、Ｚは基ＭＳ（Ｏ）ｎを示し、Ｒ^１は
請求項１と同じ意味を示し、Ｍはアルカリ金属を示し、
ｎは０又は２を示す。）

【００８９】製造法２において、一般式［ＩＩＩ］で示
されるで示されるベンジルハライド類１モルに対し一般
式［Ｖ２］で表されるイオウ化合物のアルカリ金属塩
１．０〜３．０モルを０〜１０ｌの溶媒の存在下反応さ
せて一般式［Ｉ］でＡが［Ａ２］で表される本発明化合
物を得ることができる。

【００９０】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、メタノール、エタノール、エ
チレングリコール及びグリセリン等のアルコール類、塩
化メチレン及びクロロホルム等のハロゲン化炭化水素
類、酢酸エチル、プロピオン酸エチル等のエステル類、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の
脂肪族炭化水素類、ピリジン及びピコリン等のピリジン
類及び水等の溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げられる。

【００９１】本製造法に用いられるイオウ化合物のアル
カリ金属塩は、ＺがＨＳ（Ｏ）ｎのイオウ化合物とアル
カリ金属、アルカリ金属水素化物又はアルカリ金属水酸
化物とから調製することもできる。

【００９２】反応温度は−１０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは室温から１
５０℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分
〜２０時間の間で設定できる。 製造法３

【００９３】

【化２５】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ
^１３、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示し、Ｒ
^２９はメルカプト基を示し、Ｚはハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼンスル
ホニルオキシ基［該基はメチル基で置換されてもよ
い。］を示す。）

【００９４】製造法３において、一般式［ＩＩＩ］で示
されるメルカプト類１モルに対し、一般式［Ｖ２］で表
される化合物１．０〜５．０モルを０〜５ｌの溶媒中
１．０〜３．０モルの塩基の存在下反応させて一般式
［Ｉ］でＡが［Ａ２］で表される本発明化合物を得るこ
とができる。

【００９５】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン及びクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロ
ピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン
酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン
及びピコリン等のピリジン類及び水等の溶媒又はこれら
の混合溶媒が挙げられる。

【００９６】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。

【００９７】反応温度は−３０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは０〜１５０
℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２
０時間の間で設定できる。 製造法４

【００９８】

【化２６】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ
^１３、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示し、Ｒ
^２９はヒドロキシル基を示し、Ｚは基−ＳＳＲ^１を
す。）

【００９９】製造法４において、一般式［ＩＩＩ］で示
されるベンジルアルコール類１モルに対し、０．１〜５
ｌの溶媒中１．０〜３．０モルの塩基の存在下、１．０
〜３．０モルのジアミノクロロホスフィンと反応させて
ホスファイトとし、次いで一般式［Ｖ２］で示されるジ
スルフィド類１．０〜５．０モルを０〜５ｌの溶媒の存
在下反応させて、一般式［Ｉ］でＡが［Ａ２］で表され
る本発明化合物を得ることができる。

【０１００】使用できる溶媒及び塩基としては、製造法
４と同じものが挙げられる。

【０１０１】反応温度は−４０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくはー３０〜５
０℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜
２０時間の間で設定できる。製造法５

【０１０２】

【化２７】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ
^１２、Ｒ^１３、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味
を示し、Ｒ^１１は水素原子を示し、Ｒ^２８はハロゲン原
子を示す。）

【０１０３】製造法５において、一般式［ＶＩ］で示さ
れる化合物１モルに対し、一般式［Ｖ１］で示されるヒ
ドラジン類又はその水和物１．０〜１０．０モルを０〜
５ｌの溶媒の存在下、必要ならば１．０〜３．０モルの
塩基の存在下反応させて一般式［Ｉ］でＡが［Ａ１］で
表される本発明化合物を得ることができる。

【０１０４】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン及びクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロ
ピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン
酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン
及びピコリン等のピリジン類及び水等の溶媒又はこれら
の混合溶媒が挙げられる。

【０１０５】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。

【０１０６】反応温度は−３０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは０〜１５０
℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２
０時間の間で設定できる。

【０１０７】一般式［Ｉ］で表される本発明化合物は、
一般式［Ｉ］で表される本発明化合物そのものを原料と
して製造することも可能であり、それらを下記の製造法
６〜１１に示した。しかし、これらの方法のみに限定さ
れるものではない。（式中、Ｒ^３０はシアノ基、炭素数
１から６のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル
基、炭素数２から１０のアルコキシアルキル基、炭素数
３から８のアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数２
から６のアルキルチオアルキル基、炭素数２から６のア
ルケニル基、炭素数２から４のアルキニル基、ベンジル
基［該基はハロゲン原子、メチル基又はトリフルオロメ
チル基で置換されてもよい］、基−ＣＯＲ^１４、基−Ｃ
ＯＯＲ^１５、基−ＣＯＮ（Ｒ^１６）Ｒ^１７、基−ＳＮ
（Ｒ^１８）Ｒ^１９、基−ＳＯ_２Ｒ^２０、基−Ｃ
（Ｒ^２１）＝ＣＨＲ^２２又は基−Ｃ（Ｒ^２３）＝ＮＲ
^２５を示し、Ｒ^３０が基−Ｃ（Ｒ^２１）＝ＣＨＲ^２２の
時はＸ^１はハロゲン原子、ヒドロキシル基、炭素数１〜
４のアルコキシ基、炭素数１〜４のアルキルカルボニル
オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜４のアルキルチオ
基、炭素数１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベ
ンゼンスルホニルオキシ基（該基はメチル基で置換され
てもよい）を示し、その他の時はハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼンスル
ホニルオキシ基［該基はメチル基で置換されてもよ
い。］を示す。又、Ｒ^３０−Ｘ^１が一体となって、Ｒ
^１７ＮＣＯ又はＣｌＳＯ_２ＮＣＯとなってもよい。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ
^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ^１７、Ｒ
^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ
^２５、Ｑ^１、Ｑ^２、ｍ及びｎは前記と同じ意味を示
す。） 即ち、本発明化合物［ＶＩＩ］、［ＩＸ］又は［ＸＩ］
示される化合物１モルに対し、一般式［Ｖ３］で示され
る化合物１．０〜１０．０モルを０〜５ｌの溶媒の存在
下、必要ならば０．１〜３．０モルの酸又は塩基の存在
下に反応させることにより新たな本発明化合物［ＶＩＩ
Ｉ］、［Ｘ］または［ＸＩＩ］が得られる。

【０１０８】使用できる溶媒及び酸触媒としては、製造
法１と同様のものが挙げられる。

【０１０９】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。

【０１１０】反応温度は−３０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは０〜１５０
℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２
０時間の間で設定できる。

【０１１１】クロロスルホニルイソシアナートを上述の
化合物［ＶＩＩ］、［ＩＸ］又は［ＸＩ］と反応させた
時は、ついでこの反応生成物を単離、もしくは単離する
ことなしに加水分解し、Ｒ^３０がＣＯＮＨ_２で示される
本発明化合物を得ることができる。 製造法６

【０１１２】

【化２８】 （式中、Ｒ^３０はシアノ基、炭素数１から６のアルキル
基、炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から１
０のアルコキシアルキル基、炭素数３から８のアルコキ
シアルコキシアルキル基、炭素数２から６のアルキルチ
オアルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数
２から４のアルキニル基、ベンジル基［該基はハロゲン
原子、メチル基又はトリフルオロメチル基で置換されて
もよい］、基−ＣＯＲ^１４、基−ＣＯＯＲ^１５、基−Ｃ
ＯＮ（Ｒ^１６）Ｒ^１７、基−ＳＮ（Ｒ^１８）Ｒ^１９、基
−ＳＯ_２Ｒ^２０、基−Ｃ（Ｒ^２１）＝ＣＨＲ^２２又は基
−Ｃ（Ｒ^２３）＝ＮＲ^２５を示し、Ｒ^３０が基−Ｃ（Ｒ
^２１）＝ＣＨＲ^２２の時はＸ^１はハロゲン原子、ヒドロ
キシル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数１〜４
のアルキルカルボニルオキシ基、メルカプト基、炭素数
１〜４のアルキルチオ基、炭素数１〜４のアルキルスル
ホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基（該基
はメチル基で置換されてもよい）を示し、その他の時は
ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキルスルホニルオキ
シ基又はベンゼンスルホニルオキシ基［該基はメチル基
で置換されてもよい。］を示す。又、Ｒ^３０−Ｘ^１が一
体となって、Ｒ^１７ＮＣＯ又はＣｌＳＯ_２ＮＣＯとなっ
てもよい。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ
^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４、Ｒ^１５、Ｒ^１６、Ｒ
^１７、Ｒ^１８、Ｒ^１９、Ｒ^２０、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ
^２３、Ｒ^２５、Ｑ^１、Ｑ^２、ｍ及びｎは前記と同じ意味
を示す。）

【０１１３】即ち、本発明化合物［ＶＩＩ］、［ＩＸ］
又は［ＸＩ］示される化合物１モルに対し、一般式［Ｖ
３］で示される化合物１．０〜１０．０モルを０〜５ｌ
の溶媒の存在下、必要ならば０．１〜３．０モルの酸又
は塩基の存在下に反応させることにより新たな本発明化
合物［ＶＩＩＩ］、［Ｘ］または［ＸＩＩ］が得られ
る。

【０１１４】使用できる溶媒及び酸触媒としては、製造
法１と同様のものが挙げられる。

【０１１５】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物
類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルコキシド類又は
トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８−ジ
アザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機
塩基類が挙げられる。

【０１１６】反応温度は−３０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは０〜１５０
℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２
０時間の間で設定できる。

【０１１７】クロロスルホニルイソシアナートを上述の
化合物［ＶＩＩ］、［ＩＸ］又は［ＸＩ］と反応させた
時は、ついでこの反応生成物を単離、もしくは単離する
ことなしに加水分解し、Ｒ^３０がＣＯＮＨ_２で示される
本発明化合物を得ることができる。 製造法７

【０１１８】

【化２９】 （式中、Ｒ^３１とＲ^３２は各々独立して、水素原子、炭
素数１〜６のアルキル基又は基−Ｎ（Ｒ^２５）Ｒ^２６を
示す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、
Ｒ^１１、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示
し、Ｒ^２５及びＲ^２６は各々独立して炭素数１から４の
アルキル基を示す。Ｘ^２は炭素数１〜４のアルコキシ基
を示す。又、２つのＸ^２と炭素が一緒になってカルボニ
ル基となってもよい。）

【０１１９】即ち、本発明化合物［ＸＩＩＩ］または
［ＸＩＶ］で示される化合物１モルに対し、一般式［Ｖ
４］で示される化合物１．０〜１０．０モルを０〜５ｌ
の溶媒の存在下、必要ならば０．０１〜１．０モルの酸
触媒及び溶媒の存在下に反応させることにより新たな本
発明化合物［ＸＶ］または［ＸＶＩ］が得られる。

【０１２０】この反応は製造法１と同様の条件下に行う
ことができる。 製造法８

【０１２１】

【化３０】 （式中、Ｒ^３３はアゾリル基又は基ーＮ（Ｒ^２５）Ｒ
^２６を示し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^２５、
Ｒ^２６、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示
し、Ｒ^２３は水素原子又は炭素数１から６のアルキル基
を示す。Ｘ^３は塩素原子又は臭素原子を表す。）

【０１２２】即ち、本発明化合物［ＸＶＩＩ］で示され
る化合物１モルに対し、０〜５ｌの溶媒の存在下に、ハ
ロゲン化剤を１．０＾１０．０モル反応させることによ
り新たな本発明化合物［ＸＶＩＩＩ］が得られる。次い
で一般式［Ｖ５］で示される化合物１．０〜５．０モル
を０〜５ｌの溶媒中、必要ならば１．０−３．０モルの
塩基の存在下反応させることにより新たな本発明化合物
［ＸＸ］が得られる。なお、化合物［ＸＶＩＩＩ］の代
わりに一般式［ＸＩＸ］で示される化合物を使用するこ
とによっても、本発明化合物［ＸＸ］を得ることもでき
る。

【０１２３】ハロゲン化剤としては五塩化燐、塩化チオ
ニル、トリフェニルホスフィン／四塩化炭素及びトリフ
ェニルホスフィン／臭素の混合物等が挙げられる。また
使用できる溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン及びジオキサン等のエーテル類、ベン
ゼン、トルエン、キシレン及びクロロベンゼン等の芳香
族炭化水素類、塩化メチレン及びクロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロピオニトリ
ル等のニトリル類、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサ
ン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類等の溶媒又はこれ
らの混合溶媒が挙げられる。なおハロゲン化剤は溶媒を
かねることもできる。

【０１２４】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜１８０℃
である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２０
時間の間で設定できる。

【０１２５】化合物［ＸＩＸ］は化合物［ＸＶＩＩ］と
オキシ塩化燐とを反応させることにより得ることができ
る。この反応の具体例は例えばケミカルアブストラク
ト、第１１３巻、９７１９２ｂに記載されている。

【０１２６】本発明化合物［ＸＸ］は、一般式［ＸＶＩ
ＩＩ］又は［ＸＩＸ］で示される化合物を、通常、溶媒
の存在下に、必要ならば、塩基及び触媒の存在下に一般
式［Ｖ５］で示される化合物と反応させることにより得
られる。

【０１２７】使用できる溶媒及び塩基としては、製造法
６と同様のものが挙げられる。触媒としては、メタンス
ルフィン酸ナトリウム、ｐ−トルエンスルフィン酸ナト
リウム等のスルフィン酸塩又はその水和物を用いること
ができる。反応温度は０℃から反応系における還流温度
までの任意の温度であり、好ましくは１０〜１００℃で
ある。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２０時
間の間で設定できる。 製造法９

【０１２８】

【化３１】 （式中、ｎは１又は２を示し、Ａ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、
Ｒ^４、及びｌは前記と同じ意味を表す。）

【０１２９】即ち、本発明化合物［ＸＸＩ］で示される
化合物１モルに対し、１．０〜１０．０モルの酸化剤を
０〜５ｌの溶媒の存在下、必要ならば０．０１〜１．０
モルの触媒の存在下に反応させることにより新たな本発
明化合物［ＸＸＩＩ］が得られる。

【０１３０】酸化剤としては、例えば過酸化水素、ｍ−
クロロ過安息香酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン
（ＯＸＯＮＥ、イー・アイ・デュポン社商品名；ペルオ
キソ硫酸水素カリウム含有物）、Ｎ−クロロスクシンイ
ミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸ｔｅｒｔ
−ブチルエステル又は次亜塩素酸ナトリウム等が挙げら
れる。また触媒としては、例えばタングステン酸ナトリ
ウムが挙げられる。

【０１３１】ここで使用できる溶媒としては、例えば製
造法１で使用されるようなエーテル類、芳香族炭化水素
類、非プロトン性極性溶媒、アルコール類、ハロゲン化
炭化水素類、脂肪族炭化水素類、酢酸、水及びアセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類又はこれらの混合溶媒が挙げられる。

【０１３２】反応温度は−２０℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜
１００℃である。反応時間は化合物により異なるが１０
分〜２０時間の間で設定できる。 製造法１０

【０１３３】

【化３２】 （式中、Ｒ^２及びＲ^３はそれぞれ独立して炭素数１〜４
のアルキル基又は炭素数１〜３のハロアルキル基を表
し、Ａ、Ｒ^１、Ｒ^４及びｎは前記と同じ意味を表す。Ｘ
^４はハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキルスルホニル
オキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基［該基はメチ
ル基で置換されてもよい］を示す。）

【０１３４】即ち、一般式［ＸＸＩＩＩ］で示される化
合物１モルに対し、０〜５ｌの溶媒及び１．０〜３．０
モルの塩基の存在下に、一般式［Ｖ６］で示されるアル
キル化剤１．０〜５．０モルと反応させて一般式［ＸＸ
ＩＶ］で示される化合物を製造することができる。次に
この化合物［ＸＸＩＶ］を単離し又は単離することなし
に０〜５ｌの溶媒及び１．０〜３．０モルの塩基の存在
下、一般式［Ｖ７］で示されるアルキル化剤１．０〜
５．０モルと反応させることにより一般式［ＸＸＶ］で
示される化合物を製造することができる。

【０１３５】これらの反応で使用できる塩基及び溶媒と
しては例えば製造法６で使用したのと同じものを挙げる
ことができる。また反応温度は−３０℃からその反応系
に於ける還流温度までの任意の温度であり、好ましくは
０〜１００℃である。 製造法１１

【０１３６】

【化３３】 （式中、Ｘ^４はハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル
スルホニルオキシ基又はベンゼンスルホニルオキシ基
［該基はメチル基で置換されてもよい。］を示す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１１、Ｒ
^１２、Ｒ^１３、Ｑ^１、Ｑ^２、ｍ及びｎは前記と同じ意味
を示す。）

【０１３７】即ち、本発明化合物［ＸＸＶＩ］又は［Ｘ
ＸＶＩＩＩ］で示される化合物１モルに対し一般式［Ｖ
８］で示される酸類１．０〜３．０モル０．１〜５ｌの
溶媒の存在下に反応させることにより、本発明化合物の
塩［ＸＶＩＩ］または［ＸＩＸ］が得られる。

【０１３８】これらの反応で使用できる溶媒としては例
えば製造法１で使用したのと同じものを挙げることがで
きる。また反応温度は−３０℃からその反応系に於ける
還流温度までの任意の温度であり、好ましくは０〜１０
０℃である。

【０１３９】前記一般式［ＩＩ］及び［ＩＩＩ］で表さ
れる新規な合成中間体は、例えば以下に示す製造法１２
〜製造法２０に従って製造できる。 製造法１２

【０１４０】

【化３４】 （式中、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１か
ら４のシアノアルキル基、炭素数１〜４のヒドロキシア
ルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数１
〜６のハロアルキル基、フェニル基［該基はハロゲン原
子又は炭素数１から４のアルキル基で置換されてもよ
い］、ベンジル基［該基はハロゲン原子で置換されても
よい］又はチアゾリル基を示し、Ｘ^４はハロゲン原子、
炭素数１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼ
ンスルホニルオキシ基［該基はメチル基で置換されても
よい］を示し、Ｍ^１はアルカリ金属を示し、Ｍ^２はアル
カリ金属又はアンモニウムイオンを示す。Ｒ^２、Ｒ^３、
Ｒ^４、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同じ意味を示す。ｎは
１又は２を示す。）

【０１４１】即ち、一般式［ＸＸＸ］で示されるベンジ
ルハライド類１モルに対し、一般式［Ｖ９］で示される
スルフィン酸のアルカリ金属塩類１．０〜３．０モル
を、０〜１０ｌの溶媒の存在下に反応させて一般式［Ｘ
ＸＸＩ］で示されるベンジルスルホン誘導体を得ること
ができる。

【０１４２】ここで使用できる溶媒としては、例えばエ
ーテル類、芳香族炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、
アルコール類、ハロゲン化炭化水素類、脂肪族炭化水素
類及び水又はこれらの混合溶媒が挙げられる。反応温度
は０℃からその反応系に於ける還流温度までの任意の温
度であり、好ましくは１０〜１００℃である。

【０１４３】この際使用するスルフィン酸塩類は試薬と
して又は公知の方法［例えばジャーナル・オブ・ケミカ
ル・ソサイティー（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、第６３
６巻（１９４５年）又はジャーナル・オブ・アメリカン
・ケミカル・ソサイティー（Ｊ．Ａ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．）、第９６巻、第７号、第２２７５頁（１９７４
年）に記載の方法］で得ることができる。

【０１４４】また同様の反応条件で、化合物［ＸＸＸ］
と一般式［Ｖ１０］で示されるチオシアン酸塩から一般
式［ＸＸＸＩＩ］で示される化合物を得ることができ
る。

【０１４５】更に、化合物［ＸＸＸ］１モルに対し、一
般式［Ｖ１１］で示されるメルカプタン類１．０〜３．
０モルを０〜５ｌの溶媒中、１．０〜０．３モルの塩基
の存在下に反応させて一般式［ＸＸＸＩＩＩ］で示され
るスルフィド類を得ることができる。

【０１４６】溶媒及び塩基類としては、例えば製造法６
と同じものが挙げられる。反応温度は−１０℃からその
反応系に於ける還流温度までの任意の温度であり、好ま
しくは０〜１００℃である。

【０１４７】このようにして得られた化合物［ＸＸＸＩ
ＩＩ］１モルに対し、１．０〜１０．０モルの酸化剤を
０〜５ｌの溶媒の存在下、必要ならば０．０１〜１．０
モルの触媒の存在下に反応させることにより本発明化合
物［ＸＸＸＩＶ］が得られる。

【０１４８】酸化剤としては、例えば過酸化水素、ｍ−
クロロ過安息香酸酸、過ヨウ素酸ナトリウム、オキソン
（ＯＸＯＮＥ、イー・アイ・デュポン社商品名；ペルオ
キソ硫酸水素カリウム含有物）、Ｎ−クロロスクシンイ
ミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、次亜塩素酸ｔｅｒｔ
−ブチル又は次亜塩素酸ナトリウム等が挙げられる。ま
た触媒としては、例えばタングステン酸ナトリウムが挙
げられる。

【０１４９】ここで使用できる溶媒としては、例えば製
造法１で使用されるようなエーテル類、芳香族炭化水素
類、非プロトン性極性溶媒、アルコール類、ハロゲン化
炭化水素類、脂肪族炭化水素類、酢酸、水及びアセト
ン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン
類又はこれらの混合溶媒が挙げられる。

【０１５０】反応温度は−２０℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜
１００℃である。

【０１５１】製造原料である一般式［ＸＸＸ］で示され
るベンジルハライド類は、一般に公知であるか、公知の
方法［例えば、オーガニック・シンセシス（Ｏｒｇ．Ｓ
ｙｎｔｈ．）、第４巻、第９２１頁（１９６３年）に記
載の方法］に準じて、相当するアーリルカルボニルトル
エンのメチル基をハロゲン化剤（例えば、塩素、臭素、
Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミ
ド、塩化スルフリル又は臭化スルフリル等）でハロゲン
化することにより得ることができる。

【０１５２】アーリルカルボニルトルエンは、一般に、
トルエン中、塩化アルミニウムのようなルイス酸の存在
下アリールカルボン酸ハライドと反応させて得ることが
できる。 製造法１３

【０１５３】

【化３５】 （式中、Ｒ^１は炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜
６のシクロアルキル基、炭素数１〜６のハロアルキル
基、炭素数１〜４のシアノアルキル基又は炭素数１〜４
のヒドロキシアルキル基を示し、Ｒｆはフッ素原子又は
ペルフルオロアルキル基を示し、Ｘ^４はハロゲン原子、
炭素数１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼ
ンスルホニルオキシ基［該基はメチル基で置換されても
よい］を示す。Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は
前記と同じ意味を示す。ｎは１又は２を示す。）

【０１５４】一般式［ＸＸＸＩＩＩ］または［ＸＸＸＶ
ＩＩＩ］で示されるスルフィド類は、一般式［ＸＸＸ
Ｖ］で示されるベンジルメルカプタン類１モルに対し、
１．０〜３．０モルの一般式［Ｖ１２］で示されるアル
キル化剤、一般式［ＸＸＸＶＩ］で示されるジベンゾチ
オフェニウムトリフルオロメタンスルホナート類又は
［ＸＸＸＶＩＩ］で示されるペルフルオロアルケン類
と、０〜１０ｌの溶媒の存在下、必要ならば、１．０〜
３．０モルの塩基の存在下に反応させることによって得
ることができる。

【０１５５】ここで使用できる塩基及び溶媒としては、
例えば製造法６で使用したのと同じものを挙げることが
できる。反応温度は０℃からその反応系に於ける還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜１５０℃
である。

【０１５６】このようにして得られた一般式［ＸＸＸＩ
ＩＩ］または［ＸＸＸＶＩＩＩ］で示されるスルフィド
類を製造法１２と同じ酸化法で酸化することにより、各
々対応するスルホキシド及びスルホン誘導体を得ること
ができる。

【０１５７】製造原料の一般式［ＸＸＸＶ］で示される
ベンジルメルカプタン類はすでに公知であるか、公知の
方法［例えば、オーガニック・シンセシス（Ｏｒｇ．Ｓ
ｙｎｔｈ．）、第３巻、第３６３頁（１９５５年）に記
載の方法］又はそれに準じて得ることができる。即ち、
製造法１２の原料の一般式［ＸＸＸ］で示されるベンジ
ルハライド類を水硫化ナトリウムと反応させるか、チオ
ウレアと塩基の存在下に反応させ次いで加水分解するこ
とにより得ることができる。 製造法１４

【０１５８】

【化３６】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^９、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前
記と同じ意味を示す。Ｒ^２及びＲ^３はアルキル基又はハ
ロアルキル基を示し、Ｘ^４は、ハロゲン原子、炭素数１
〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベンゼンスルホ
ニルオキシ基［該基はメチル基で置換されてもよい。］
を示す。）

【０１５９】即ち、一般式［ＸＸＸＩＸ］で示される化
合物１モルに対し、０〜５ｌの溶媒及び１．０〜３．０
モルの塩基の存在下に、一般式［Ｖ１３］及び［Ｖ１
４］で示されるアルキル化剤１．０〜５．０モルを製造
法１０と同様に反応させて一般式［ＸＬ］及び［ＸＬ
Ｉ］で示される化合物を製造することができる。又、Ｘ
^４がＲ^１基の側鎖中に存在する場合には、Ｒ^１及びＲ^２
はこれらの結合した硫黄原子及び炭素原子と共に一つ又
はそれ以上のヘテロ原子を有する３から８員環を形成す
る。

【０１６０】ここで使用できる塩基及び溶媒としては、
例えば製造法６で使用したのと同じものを挙げることが
できる。反応温度は０℃からその反応系に於ける還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜１５０℃
である。 製造法１５

【０１６１】

【化３７】 （式中、Ｒ^４、Ｒ^９、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前記と同
じ意味を示す。Ｒ^１はアルキル基又はハロアルキル基を
示す。）

【０１６２】即ち、一般式［ＸＬＩＩ］で示される本発
明化合物１モルに対し、０〜１０ｌの溶媒存在下に、一
般式［ＸＬＩＩＩ］で示されるカルバニオン１．０〜
５．０モルと反応させて一般式［ＸＬＩＶ］で示される
化合物を製造することができる。一般式［ＸＬＩＩＩ］
で示されるカルバニオンの発生方法としては、１）１．
０〜１５．０モルのトリハロメタンと１．０〜１５．０
モルの塩基を、必要ならば０．０１〜１．０モルのテト
ラアルキルアンモニウム塩、ベンジルトリアルキルアン
モニウム塩、テトラアルキルホスホニウム塩及びクラウ
ンエーテル類等の相関移動触媒の存在下接触させる方
法、２）１．０〜１５．０モルの（トリアルキルシリ
ル）アルキルハライド類と、１．０〜１５．０モルのフ
ッ化カリウムやテトラブチルアンモニウムフルオリドの
ようなフッ化水素塩を接触させる方法および３）１．０
〜５．０モルのアルキルハライド又はハロアルキルハラ
イドを、１．０〜５．０モルのリチウム、ナトリウム、
銅又は亜鉛等の金属もしくはリチウムジイソプロピルア
ミド、フェニルリチウム又はブチルリチウム等の有機金
属化合物を接触させる方法を挙げることができる。ここ
で使用できる溶媒としては、例えばエーテル類、芳香族
炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、アルコール類、脂
肪族炭化水素類、エーテル類、芳香族炭化水素類、非プ
ロトン性極性溶媒、アルコール類、脂肪族炭化水素類及
び水、又はこれらの混合溶媒が挙げられる。

【０１６３】反応温度は−７０℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは−５０
〜５０℃である。 製造法１６

【０１６４】

【化３８】 （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ
^２は前記と同じ意味を示す。Ｘ^５はハロゲン、シアノま
たは基ＳＲ^１を示す。Ｒ^１はアルキル基又はハロアルキ
ル基を示す。）

【０１６５】即ち、一般式［ＸＬＶ］で示される本発明
化合物１モルに対し、０〜５ｌの溶媒及び１．０〜５．
０モルの塩基の存在下に、一般式［ＸＬＶＩ］で示され
る化合物１．０〜５．０モルを反応させて一般式［ＸＬ
ＶＩＩ］で示される化合物を製造することができる。こ
こで使用できる塩基及び溶媒としては、例えば製造法６
で使用したのと同じものを挙げることができる。

【０１６６】反応温度は−７０℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは−５０
〜５０℃である。 製造法１７

【０１６７】

【化３９】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^４、Ｒ^９、ｍ、ｎ、Ｑ^１及びＱ^２は前
記と同じ意味を示す。）

【０１６８】即ち、通常、溶媒と塩基の存在下、一般式
［ＸＬＶＩＩＩ］で表されるベンジルアルコール類１モ
ルに対し、０．１〜５ｌの溶媒中１．０〜３．０モルの
塩基の存在下１．０〜３．０モルのジアルキルアミノク
ロロホスフィン類と反応させてホスファイトとし、次い
で一般式［Ｖ１５］で示されるジスルフィド類１．０〜
５．０モルを０〜５ｌの溶媒の存在下反応させて一般式
［ＸＬＩＸ］で表される本発明化合物を得ることができ
る。

【０１６９】使用できる溶媒としては、例えばジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサン等のエー
テル類、ベンゼン、トルエン、キシレン及びクロルベン
ゼン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシド及びスルホラン等
の非プロトン性極性溶媒、塩化メチレン及びクロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル及びプロ
ピオニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン
酸エチル等のエステル類、ペンタン、ヘキサン、シクロ
ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素類、ピリジン
及びピコリン等のピリジン類等の溶媒又はこれらの混合
溶媒が挙げられる。

【０１７０】塩基としては、例えば、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物、水酸
化カルシウム、水酸化マグネシウム等のアルカリ土類金
属の水酸化物、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアル
カリ金属の炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウム等のアルカリ金属の重炭酸塩類等の無機塩基類、
水素化ナトリウム、水素化カリウム等の金属水素化物類
又はトリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピ
リジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン、１，８
−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の
有機塩基類が挙げられる。

【０１７１】反応温度は−４０℃から反応系における還
流温度までの任意の温度であり、好ましくは−３０〜５
０℃である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜
２０時間の間で設定できる。 製造法１８

【０１７２】

【化４０】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、
Ｑ^１、Ｑ^２、Ｍ^３、ｍ及びｎは前記と同じ意味を示
す。）

【０１７３】即ち、本発明化合物［Ｌ］を、０〜５ｌの
溶媒の存在下、必要ならば０．０１〜１．０モルの触媒
の存在下に１．０〜５．０モルの還元剤と反応させる
か、又は、一般式［Ｖ１６］で示されるアルキル金属化
合物１．０〜５．０モルと反応させることで一般式［Ｌ
Ｉ］の本発明化合物を得ることができる。

【０１７４】還元剤としては、例えば水素分子、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、水素
化ジイソブチルアルミニウム等が挙げられる。また触媒
としては、例えば白金、ニッケル、コバルトおよびパラ
ジウム等が挙げられる。

【０１７５】ここで使用できる溶媒としては、エーテル
類、芳香族炭化水素類、非プロトン性極性溶媒、アルコ
ール類、脂肪族炭化水素類、酢酸、及び水、又はこれら
の混合溶媒が挙げられる。

【０１７６】反応温度は−２０℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜
１００℃である。反応時間は化合物により異なるが１０
分〜２０時間の間で設定できる。 製造法１９

【０１７７】

【化４１】 （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、
Ｑ^１、Ｑ^２、ｍ及びｎは前記と同じ意味を示す。Ｘ^３は
塩素原子又は臭素原子を表す。）

【０１７８】本発明化合物［ＬＩ］１モルに対し、１．
０〜１０．０モルのハロゲン化剤を０〜５ｌの溶媒の存
在下反応させることにより新たな本発明化合物［ＬＩ
Ｉ］が得られる。

【０１７９】ハロゲン化剤としては塩化水素、臭化水
素、三塩化燐、三臭化燐、塩化チオニル、トリフェニル
ホスフィン／四塩化炭素及びトリフェニルホスフィン／
臭素の混合物等が挙げられる。また使用できる溶媒とし
ては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及
びジオキサン等のエーテル類、ベンゼン、トルエン、キ
シレン及びクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類、塩化
メチレン及びクロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、
アセトニトリル及びプロピオニトリル等のニトリル類、
ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン及びヘプタン等の
脂肪族炭化水素類等の溶媒又はこれらの混合溶媒が挙げ
られる。なおハロゲン化剤は溶媒をかねることもでき
る。

【０１８０】反応温度は０℃から反応系における還流温
度までの任意の温度であり、好ましくは１０〜１８０℃
である。反応時間は化合物により異なるが１０分〜２０
時間の間で設定できる。 製造法２０

【０１８１】

【化４２】 （式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ
^２９、Ｑ^１、Ｑ^２、及びｍは前記と同じ意味を示す。）

【０１８２】即ち、一般式で［ＬＩＩＩ］示されるベン
ゾフェノン類１モルに対し、一般式［Ｖ１］で示される
ヒドラジン類又はその水和物１．０〜１０．０モルを０
〜５ｌの溶媒の存在下、必要ならば０．０１〜１．０モ
ルの酸触媒の存在下に反応させて一般式［ＩＩＩ］で表
される本発明化合物を得ることができる。

【０１８３】ここで使用できる溶媒及び酸触媒として
は、例えば製造法１で使用したものと同じものを挙げる
ことができる。

【０１８４】反応温度は−１０℃からその反応系に於け
る還流温度までの任意の温度であり、好ましくは０〜１
００℃である。

【０１８５】

【実施例】次に実施例をあげて本発明化合物の製造法並
びに製剤法、用途を具体的に説明する。

【０１８６】製造例１ ４−クロロ−４’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−エト
キシカルボニルヒドラゾン（化合物番号I−１７５）の
製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン（０．５ｇ）及びエチル−カルバゼー
ト（０．４ｇ）をエタノール（６０ｍｌ）及び酢酸（５
ｍｌ）に加え、還流下に１９時間撹拌した。反応混合物
を濃縮し、残渣を酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル
層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エ
チルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）
にて精製し、目的物（０．６ｇ、融点１４８〜１５０
℃、収率９６％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．３０ （３Ｈ、ｔ） ４．２３ （２Ｈ、ｑ） ４．３５、４．５３ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ７．０３〜７．８０ （９Ｈ、ｍ）

【０１８７】製造例２ ４−クロロ−４’−メチルスル
ホニルメチルベンゾフェノン−ヒドラゾン（化合物番号
I−２）の製造 ４−クロロ−４’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン（１０．０ｇ）及びヒドラジン一水和物（４．９
ｇ）をエタノール（２００ｍｌ）及び酢酸（１０ｍｌ）
に加え、還流下に６時間撹拌した。反応混合物を濃縮
し、残渣を酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水
洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精
製し、目的物（１０．０ｇ、融点５２〜５４℃、収率９
７％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．７３、２．８５ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ４．２０、４．３０ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ５．５０ （２Ｈ、ｂｒ） ７．０５〜７．７０ （８Ｈ、ｍ）

【０１８８】製造例３ ４−クロロ−４’−メチルスル
ホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−プロピオニルヒド
ラゾン（化合物番号I−１５）の製造 ４−クロロ−４’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン−ヒドラゾン（１．３ｇ）、プロピオニルクロリド
（０．４ｇ）及び炭酸カリウム（０．７ｇ）を酢酸エチ
ル（１５０ｍｌ）と水（１００ｍｌ）の溶媒に加え、室
温下で２時間撹拌した。反応混合物を分液し、酢酸エチ
ル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸
エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：
１）にて精製し、目的物（１．３ｇ、融点１５９〜１６
０℃、収率８６％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．２３ （３Ｈ、ｔ） ２．８５〜３．００ （５Ｈ、ｍ） ４．３０ （２Ｈ、ｓ） ７．００〜８．００ （８Ｈ、ｍ） ８．２５ （１Ｈ、ｂｒ）

【０１８９】製造例４ ４−クロロ−４’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−ヒドラゾン
（化合物番号I−１３６）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン（２．５ｇ）、ヒドラジン一水和物
（４．３ｇ）及びｐ−トルエンスルホン酸一水和物
（０．２ｇ）をエタノール（３０ｍｌ）に加え、還流下
に３時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エ
チルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去し
た。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−
ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、目的物
（２．２ｇ、ｎ_D ²⁰１．５８７１、収率８５％）を得
た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．４３、４．５３ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ５．４７、５．５３ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ７．０７〜７．６０ （８Ｈ、ｍ）

【０１９０】製造例５ ４−クロロ−４’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ−プロピ
オニルヒドラゾン（化合物番号I−１４９）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−ヒドラゾン（０．９ｇ）、プロピオ
ニルクロリド（０．２２ｇ）及び炭酸カリウム０．４ｇ
を酢酸エチル（１００ｍｌ）と水（１００ｍｌ）の溶媒
に加え、室温下で１６時間撹拌した。反応混合物を分液
し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の個体を
ｎ−ヘキサンにて洗い、目的物（０．７５ｇ、融点１３
０〜１３２℃、収率７５％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．２０ （３Ｈ、ｔ） ２．６０〜３．００ （２Ｈ、ｍ） ４．４７ （２Ｈ、ｄ） ７．０３〜７．６３ （８Ｈ、ｍ） ８．２２ （１Ｈ、ｄ）

【０１９１】製造例６ ４−クロロ−４’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−（１
−クロロプロピリデン）ヒドラゾン（化合物番号II−１
４）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−Ｎ’−プロピオニルヒドラゾン
（１．７ｇ）、トリフェニルホスフィン（１．５ｇ）及
び四塩化炭素（１．２ｇ）をアセトニトリル（８０ｍ
ｌ）に加え、還流下に１０分間撹拌した。反応混合物を
濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、
目的物（１．７ｇ、融点１０８〜１０９℃、収率９７
％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．０５、１．１０ （３Ｈ、ｔ、ｔ） ２．５０、２．５５ （２Ｈ、ｑ、ｑ） ４．４７ （２Ｈ、ｓ） ７．００〜７．８５ （８Ｈ、ｍ）

【０１９２】製造例７ ４−クロロ−４’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−［１
−（１Ｈ−１、２、４−トリアゾール−１−イル）プロ
ピリデン］ヒドラゾン（化合物番号II−１０）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−Ｎ’−（１−クロロプロピリデン）
ヒドラゾン（１．０ｇ）、１Ｈ−１、２、４−トリアゾ
ール（０．２ｇ）、炭酸カリウム（０．４ｇ）及びｐ−
トルエンスルフィン酸ナトリウム（０．３ｇ）をＮ、Ｎ
−ジメチルホルムアミド（７０ｍｌ）に加え、９５〜１
００℃で７時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物
に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）にて精
製し、目的物（０．７ｇ、ｎ_D ²⁰１．５９７８、収率６
６％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．２８ （３Ｈ、ｔ） ３．２８ （２Ｈ、ｑ） ４．５２ （２Ｈ、ｓ） ７．０５〜７．８６ （８Ｈ、ｍ） ７．９５ （１Ｈ、ｓ） ８．４０、８．５２ （１Ｈ、ｓ、ｓ）

【０１９３】製造例８ ４−クロロ−４’−トリフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−［１
−（Ｎ−メチルアミノ）エチリデン］ヒドラゾン（化合
物番号II−８）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン−Ｎ’−（１−クロロエチリデン）ヒ
ドラゾン（０．７ｇ）及び４０％メチルアミン水溶液
（０．３ｇ）をキシレン（５０ｍｌ）に加え、還流下に
１時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、目的物（０．６
ｇ、融点５８〜６０℃、収率８７％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．００、２．２０ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ２．６７、２．９４ （３Ｈ、ｄ、ｄ） ４．４６ （２Ｈ、ｓ） ６．３０ （１Ｈ、ｂｒ） ６．９５〜７．７８ （８Ｈ、ｍ）

【０１９４】製造例９ ４−クロロ−４’−エチルスル
ホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−イソプロピリデン
ヒドラゾン（化合物番号II−３５）の製造 ４−クロロ−４’−エチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノンヒドラゾン（０．７ｇ）をアセトン（３０ｍｌ）に
加え、還流下に３０分間撹拌した。反応混合物を濃縮
し、目的物（０．７ｇ、ｎ_D ²⁰１．６１６３、収率８８
％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．３４ （３Ｈ、ｔ） ２．００ （６Ｈ、ｓ） ２．９０ （２Ｈ、ｑ） ４．２０ （２Ｈ、ｓ） ７．００〜７．６７ （８Ｈ、ｍ）

【０１９５】製造例１０ ４−クロロ−４’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン−Ｎ’−［１−（Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノ）エチリデン］ヒドラゾン（化合物番号II−
２２）の製造 ４−クロロ−４’−メチルチオメチルベンゾフェノン−
ヒドラゾン（２．０ｇ）及びジメチルアセトアミド−ジ
メチルアセタール（１．４ｇ）をエタノール（１００ｍ
ｌ）に加え、還流下に６時間撹拌した。反応混合物を濃
縮し、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、
無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下
に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）にて精製し、
淡黄色透明粘稠液体の目的物（２．０ｇ、収率８１％）
を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．００ （３Ｈ、ｓ） ２．３５ （３Ｈ、ｓ） ２．８８ （６Ｈ、ｓ） ３．６６、３．７０ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ７．０３〜７．７５ （８Ｈ、ｍ）

【０１９６】製造例１１ ４−クロロ−４’−メチルス
ルホニルメチルベンゾフェノン−セミカルバゾン（化合
物番号I−４２）の製造 ４−クロロ−４’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン−ヒドラゾン（１．３ｇ）及びクロロスルホニルイ
ソシアナート（０．６３ｇ）を酢酸エチル（１００ｍ
ｌ）に加え、室温下で１時間撹拌した後、水（１００ｍ
ｌ）を加え、更に室温下で１６時間撹拌した。反応混合
物を分液し、酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣
の個体を酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝４；１の混合溶媒
にて洗い、目的物（１．２ｇ、融点１８９〜１９１℃、
収率８０％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．８７、２．９７ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ４．３４、４．５０ （５Ｈ、ｍ） ７．１０〜７．７０ （８Ｈ、ｍ）

【０１９７】製造例１２ ４−クロロ−４’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン−Ｎ’−エトキシカルボニル−
Ｎ’−メチルヒドラゾン（化合物番号I−４７）の製造 ４−クロロ−４’−メチルチオメチルベンゾフェノン−
Ｎ’−エトキシカルボニルヒドラゾン（４．３ｇ）を
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（１００ｍｌ）に溶か
し、この溶液に６０％水素化ナトリウム（０．６ｇ）を
加え室温下に３０分間撹拌した後、ヨウ化メチル（２．
５ｇ）を加え、室温下で１６時間撹拌した。反応混合物
に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水
洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを
減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）にて精
製し、目的物（４．３ｇ、ｎ_D ²⁰１．６０４２、収率８
９％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．１７ （３Ｈ、ｔ） ２．００ （３Ｈ、ｓ） ２．７９、３．００ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ３．６３、３．６７ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ４．０４ （２Ｈ、ｑ） ７．０７〜７．５７ （８Ｈ、ｍ）

【０１９８】製造例１３ ４−クロロ−４’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−４−ブチ
ルセミカルバゾン（化合物番号I−１７１）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノンヒドラゾン（１．２ｇ）、トリエチル
アミン（０．５ｇ）及びブチルイソシアナート（０．６
ｇ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に加え、室温下
で１６時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸
エチルにて抽出した。酢酸エチル層を２Ｎ塩酸及び水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチル
を減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて
精製し、目的物（０．６ｇ、融点１７９〜１８１℃、収
率４０％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ０．７５〜１．６５ （７Ｈ、ｍ） ３．１５〜３．５０ （２Ｈ、ｍ） ４．５０ （２Ｈ、ｓ） ６．２０ （１Ｈ、ｂｒ） ６．９０〜７．７０ （９Ｈ、ｍ）

【０１９９】製造例１４ ４−クロロ−４’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−メ
チルスルホニルイミノメチルヒドラゾン（化合物番号I
−１３７）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノンヒドラゾン（１．２ｇ）、トリエチル
アミン（１．６ｇ）及びＮ−メチルスルホニルホルムイ
ミド酸エチル（１．２ｇ）をジオキサン（３０ｍｌ）に
加え、還流下に５時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、目的物（０．
８ｇ、融点６３〜６５℃、収率５２％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．９５、３．０５ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ４．４５、４．６０ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ４．９５ （１Ｈ、ｂｒ） ７．１０〜７．８０ （８Ｈ、ｍ） ８．８０ （１Ｈ、ｂｒ）

【０２００】製造例１５ ４−クロロ−４’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−メ
チルスルホニルヒドラゾン（化合物番号I−１８２）の
製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノンヒドラゾン（１．２ｇ）及びトリエチ
ルアミン（０．４ｇ）を酢酸エチルに（３０ｍｌ）に溶
解し、この溶液にメタンスルホニルクロリド（０．４
ｇ）を室温下に滴下し、１時間撹拌した。反応混合物を
２Ｎ塩酸及び水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムにて乾
燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチ
ル＝４：１）にて精製し、目的物（０．５ｇ、融点６４
〜６５℃、収率３６％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ３．５０ （３Ｈ、ｓ） ４．５０ （２Ｈ、ｄ） ７．１０〜７．７０ （９Ｈ、ｍ）

【０２０１】製造例１６ ４−クロロ−４’−メチルス
ルフィニルメチルベンゾフェノン−Ｎ’−プロピオニル
ヒドラゾン（化合物番号I−１４）の製造 ４−クロロ−４’−メチルチオメチルベンゾフェノン−
Ｎ’−プロピオニルヒドラゾン（０．８ｇ）及び過ヨウ
素酸ナトリウム（０．５ｇ）をメタノール（５０ｍｌ）
及び水（７ｍｌ）に加え、室温下に１６時間撹拌した。
反応混合物を濃縮し、残渣を酢酸エチルで抽出した。酢
酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥
し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝９：１）にて精製し、目的物（０．７ｇ、融点１５３
〜１５６℃、収率８４％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．２１ （３Ｈ、ｔ） ２．４３、２．５６ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ２．８５ （２Ｈ、ｑ） ３．９３、４．００ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ６．９６〜７．７０ （８Ｈ、ｍ） ８．２３ （１Ｈ、ｂｒ）

【０２０２】製造例１７ ４−クロロ−４’−（２−メ
チルスルホニル−２−プロピル）ベンゾフェノン−Ｎ’
−ヘキサノイル−Ｎ’−メチルヒドラゾン（化合物番号
I−２４８）の製造 ４−クロロ−４’−メチルスルホニルメチルベンゾフェ
ノン−Ｎ’−ヘキサノイルヒドラゾン（１．４ｇ）、ヨ
ウ化メチル（５．６ｇ）及び６０％水素化ナトリウム
（０．１５ｇ）をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（８０
ｍｌ）に加え、室温下に１６時間撹拌した。反応混合物
に水を加え酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗
後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減
圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィ−（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製
し、目的物（０．８ｇ、融点９４〜９６℃、収率５３
％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ０．９０ （３Ｈ、ｍ） １．１０〜１．９３ （６Ｈ、ｍ） １．８７ （６Ｈ、ｓ） ２．１６〜２．６７ （２Ｈ、ｍ） ２．５７、２．７６ （３Ｈ、ｓ） ３．０９ （３Ｈ、ｓ） ７．０５〜７．７３ （８Ｈ、ｍ）

【０２０３】製造例１８ ４−クロル−４’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンズヒドリルヒドラジン
の合成（化合物番号V−８） トルエン（８０ｍｌ）に、ヒドラジン一水和物（５０ｍ
ｌ）及び４−クロル−４’−トリフルオロメチルスルホ
ニルメチルベンズヒドリルクロリドを加え、撹拌しなが
ら徐々に加熱した。８０度で２時間撹拌し、放冷後これ
を水中にあけた。酢酸エチル２５０ｍｌを加え、抽出、
水洗し、硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧下に
て溶媒を留去して淡黄色アメ状物質の目的物（２．９
ｇ、ｎ_D ²⁰１．５６７１、収率８２．４％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ３．８３ （２Ｈ、ｂｒ） ４．３８ （２Ｈ、ｓ） ４．８３ （１Ｈ、ｓ） ６．９３〜７．５０ （８Ｈ、ｍ）

【０２０４】製造例１９ Ｎ−（４−クロル−４’−ト
リフルオロメチルスルホニルメチルベンズヒドリル）−
Ｎ’−メトキシカルボニルヒドラジン塩酸塩の合成（化
合物番号V−１３） Ｎ−（４−クロル−４’−トリフルオロメチルスルホニ
ルメチルベンズヒドリル）−Ｎ’−メトキシカルボニル
ヒドラジン１．６ｇをメタノール８０ｍｌに加え、室温
下で撹拌しながら塩酸３ｍｌを加えた。これを還流する
まで徐々に加熱した。還流下にて２時間撹拌した後、放
冷した。これを減圧下にて溶媒を留去し、淡黄色粉末の
目的物（１．６ｇ、融点５２〜５４℃、収率９１．５
％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ３．６ （３Ｈ、ｓ） ４．７３ （２Ｈ、ｓ） ５．２３ （１Ｈ、ｓ） ７．２７〜７．５０ （８Ｈ、ｍ）

【０２０５】製造例２０ ４−クロロ−４’−エチルチ
オメチルベンゾフェノン− Ｎ’−エトキシカルボニル
ヒドラゾン（化合物番号I−１１４）の製造 エタンチオール１．２ｇおよび水酸化ナトリウム１ｇを
Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に懸濁させ
た後、４−クロロ−４’−クロロメチルベンゾフェノン
− Ｎ’−エトキシカルボニルヒドラゾン３．５ｇを加
え、室温下に１６時間撹拌した。反応混合物に水を加
え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無
水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に
留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し目的
物（２．０ｇ、ｎ_D ²⁰１．６１９８、収率５３％）を得
た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．３４ （６Ｈ、ｔ） ２．５３ （２Ｈ、ｑ） ３．７０、３、８０ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ４．２５ （２Ｈ、ｑ） ７．１０〜７．７７ （８Ｈ、ｍ）

【０２０６】製造例２１ ４−クロロ−４’−ジフルオ
ロメチルチオメチルベンゾフェノン−Ｎ’−メトキシカ
ルボニルヒドラゾン（化合物番号I−１８７）の製造 ４−クロロ−４’−メルカプトメチルベンゾフェノン−
Ｎ’−メトキシカルボニルヒドラゾン（１．５ｇ）及び
水酸化カリウム（１．５ｇ）をジオキサン（３０ｍｌ）
と水（３０ｍｌ）の溶媒に加え、この溶液に４０℃でジ
フルオロメチルクロリドを原料の４−クロロ−４’−メ
ルカプトメチルベンゾフェノン−Ｎ’−メトキシカルボ
ニルヒドラゾンがなくなるまで吹き込んだ。反応混合物
を室温まで冷却後、濾過した。濾液の有機層を無水硫酸
マグネシウムにて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル
＝４：１）にて精製し、目的物（０．３ｇ、ｎ_D ²⁰１．
６２１３、収率１８％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ３．７８ （３Ｈ、ｓ） ３．９８、４、１０ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ６．７、６．８ （１Ｈ、ｔ） ７．０７〜７．６７ （８Ｈ、ｍ） ７．７７ （１Ｈ、ｓ）

【０２０７】製造例２２ ４−クロロ−４’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン− Ｎ’−メトキシカルボニル
ヒドラゾン（化合物番号I−６７）の製造 ４−クロロ−４’−ヒドロキシルメチルベンゾフェノン
−Ｎ’−メトキシカルボニルヒドラゾン（１．２ｇ）及
びトリエチルアミン（０．５ｇ）をテトラヒドロフラン
（３０ｍｌ）に加え、この溶液に−２０℃でクロロビス
ジエチルアミノホスフィン（１．１ｇ）を滴下する。室
温にて２時間撹拌後、溶媒を減圧下留去し、氷水と酢酸
エチルを加え、分液した。有機層を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し、濃縮し、ホスファイトを得た。これをテ
トラヒドロフラン（３０ｍｌ）に加え、この溶液に０℃
でジメチルジスルフィド（ｇ）を滴下し、さらに室温に
て１２時間撹拌した。原料のホスファイトが消失したこ
とを確認後、溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
４：１）にて精製し、目的物（０．３ｇ、融点４０〜４
２℃、収率１７％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．９３、２．０８ （３Ｈ、ｓ、ｓ） ３．６７、３．７７ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ３．８ （３Ｈ、ｓ） ７．１〜７．６７ （８Ｈ、ｍ） ７．８５ （１Ｈ、ｂｒ）

【０２０８】製造例２３ ４−クロロ−４’−メチルス
ルホニルメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−３）の
製造 ４−ブロモメチル−４’−クロロベンゾフェノン（３．
１ｇ）及びメタンスルフィン酸ナトリウム（１．５ｇ）
をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に加え、
室温下に１６時間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢
酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸
マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去し
た。残渣の個体をｎ−ヘキサンにて洗い、目的物（２．
８ｇ、融点１６４〜１６６℃、収率９０％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．９０ （３Ｈ、ｓ） ４．４７ （２Ｈ、ｓ） ７．３７〜７．８３ （８Ｈ、ｍ）

【０２０９】製造例２４ ４−クロロ−４’−エチルス
ルホニルメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−６）の
製造 亜硫酸ナトリウム（２４．５ｇ）及び炭酸水素ナトリウ
ム（３３ｇ）を水（２００ｍｌ）に溶解し、この溶液に
エタンスルホニルクロリド（２５ｇ）を室温下に３０分
で加えた後、１時間撹拌した。この反応混合物を濃縮
し、残渣をＮ、Ｎ−ジメチルホルムアミド（２００ｍ
ｌ）に懸濁させた後、４−ブロモメチル−４’−クロロ
ベンゾフェノン（１０．０ｇ）を加え、室温下に１６時
間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の個体
をｎ−ヘキサンにて洗い、目的物（７．５ｇ、融点１１
７〜１１８℃、収率７２％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．３７ （３Ｈ、ｔ） ２．９３ （２Ｈ、ｑ） ４．２７ （２Ｈ、ｓ） ７．２０〜７．８３ （８Ｈ、ｍ）

【０２１０】製造例２５ ４−クロロ−４’−エチルチ
オメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−４）の製造 ４−クロロ−４’−メルカプトメチルベンゾフェノン
（１６．０ｇ）、エチルブロミド（７．４ｇ）及び水酸
化カリウム（４．３ｇ）をメタノール（２５０ｍｌ）に
加え、還流下に３０分間撹拌した。反応混合物を室温ま
で冷却後、濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）
にて精製し、目的物（１４．０ｇ、融点３３〜３４℃、
収率７９％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．２３ （３Ｈ、ｔ） ２．４５ （２Ｈ、ｓ） ３．７５ （２Ｈ、ｓ） ７．１０〜７．９０ （８Ｈ、ｍ）

【０２１１】製造例２６ ４−クロロ−４’−ジフルオ
ロメチルチオメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−１
５）の製造 ４−クロロ−４’−メルカプトメチルベンゾフェノン
（１４．７ｇ）及び水酸化カリウム（１５ｇ）をジオキ
サン（１００ｍｌ）と水（１００ｍｌ）の溶媒に加え、
この溶液に６０℃でジフルオロメチルクロリドを原料の
４−クロロ−４’−メルカプトメチルベンゾフェノンが
なくなるまで１時間吹き込んだ。反応混合物を室温まで
冷却後、濾過した。濾液の有機層を無水硫酸マグネシウ
ムにて乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）
にて精製し、目的物（６．４ｇ、融点３４〜３５℃、収
率３６％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．０３ （２Ｈ、ｓ） ６．６９ （１Ｈ、ｔ） ７．１５〜７．７１ （８Ｈ、ｍ）

【０２１２】製造例２７ ４−クロロ−４’−ジフルオ
ロメチルスルホニルメチルベンゾフェノン （化合物番
号VI−１６）の製造 ４−クロロ−４’−ジフルオロメチルチオメチルベンゾ
フェノン（３．２ｇ）及びｍ−クロロ過安息香酸（５．
３ｇ）をクロロホルム（１５０ｍｌ）に加え、この懸濁
液を還流下に３時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残
渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル層を
水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチル
を減圧下に留去した。残渣の個体をｎ−ヘキサンにて洗
い、目的物（２．７ｇ、融点１５４〜１５７℃、収率７
８％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．５７ （２Ｈ、ｓ） ６．４１ （１Ｈ、ｔ） ７．２７〜７．８７ （８Ｈ、ｍ）

【０２１３】製造例２８ ４−クロロ−４’−トリフル
オロメチルチオメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−
１２）の製造 ４−クロロ−４’−メルカプトメチルベンゾフェノン
（４．５ｇ）をテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）に溶
解し、この溶液に６０％水素化ナトリウム（０．８ｇ）
を加え、室温下で３０分間撹拌後、Ｓ−（トリフルオロ
メチル）ジベンゾチオフェニウム− トリフルオロメタ
ンスルホナート（６．４ｇ）を加え、更に３０分間撹拌
した。反応混合物を濃縮し、これに水を加え、酢酸エチ
ルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し、目的物（２．０
ｇ、融点６３〜６５℃、収率３５％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．１４ （２Ｈ、ｓ） ７．３０〜７．７７ （８Ｈ、ｍ）

【０２１４】製造例２９ ４−クロロ−４’−（１、
１、２、２−テトラフルオロエチルチオメチルベンゾフ
ェノン（化合物番号VI−２０）の製造 ４−クロロ−４’−メルカプトメチルベンゾフェノン
（５．０ｇ）及びカリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド
（０．９ｇ）をエタノ−ル（１５０ｍｌ）に加え、これ
にペルフルオロエチレン（２．９ｇ）を室温下に吹き込
み、その後１６時間撹拌した。反応混合物を濾過、濃縮
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ−（ｎ−
ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製して、目的物
（５．３ｇ、融点４８〜５０℃、収率７７％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．１３ （２Ｈ、ｓ） ５．７７ （１Ｈ、ｔｔ） ７．２３〜７．７３ （８Ｈ、ｍ）

【０２１５】製造例３０ ４−クロロ−４’−メチルチ
オメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−１）の製造 ４−ブロモメチル−４’−クロロベンゾフェノン（３．
１ｇ）及び１５％メチルメルカプタン−ナトリウム水溶
液（５．６ｇ）をメタノ−ル（１５０ｍｌ）に加え、還
流下に３０分間撹拌した。反応混合物を濃縮し、酢酸エ
チルで抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。
残渣の固体をｎ−ヘキサンにて洗い、目的物（２．３
ｇ、融点５９〜６１℃、収率８３％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．００ （３Ｈ、ｓ） ３．７０ （２Ｈ、ｓ） ７．１３〜７．７４ （８Ｈ、ｍ）

【０２１６】製造例３１ ４−クロロ−４’−メチルス
ルフィニルメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−２）
の製造 ４−クロロ−４’−メチルチオメチルベンゾフェノン
（４．２ｇ）をメタノール（１５０ｍｌ）に加え、この
溶液に水（２０ｍｌ）に溶かした過ヨウ素酸ナトリウム
（３．６ｇ）を加え、室温下で１６時間撹拌した。反応
混合物を濃縮し、これに水を加え、酢酸エチルで抽出し
た。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて
乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の固体を
ｎ−ヘキサンにて洗い、目的物（４．１ｇ、融点１１６
〜１１８℃、収率９３％）を得た。^１Ｈ−ＮＭＲデータ
（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ値） ２．５０ （３Ｈ、ｓ） ４．００ （２Ｈ、ｓ） ７．３０〜７．８０ （８Ｈ、ｍ）

【０２１７】製造例３２ ４−（３−ブロモプロピル）
スルホニルメチル−４’−クロロベンゾフェノン（化合
物番号VI−１１）の製造 ４−（３−ブロモプロピル）チオメチル−４’−クロロ
ベンゾフェノン（５．１ｇ）及び３１％過酸化水素水
（６ｇ）を酢酸（２００ｍｌ）に加え、８０℃で１時
間、更に還流下に１時間撹拌した。反応混合物を濃縮
し、これに水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチ
ル層を炭酸カリウム水溶液及び水で洗い、無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。
残渣の固体をｎ−ヘキサンにて洗い、目的物（５．０
ｇ、融点１０５〜１０７℃、収率９１％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．１７〜２．６０ （２Ｈ、ｍ） ３．００〜３．１７ （２Ｈ、ｍ） ３．５３ （２Ｈ、ｔ） ４．３３ （２Ｈ、ｓ） ７．２３〜７．８７（ｍ、８Ｈ）

【０２１８】製造例３３ ４−クロロ−４’−（１、１
−ジオキソチオラン−２−イル）ベンゾフェノン（化合
物番号VI−３６）の製造 ４−（３−ブロモプロピル）スルホニルメチル−４’−
クロロベンゾフェノン（２．５ｇ）及び６０％水素化ナ
トリウム（０．３ｇ）をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド
（７０ｍｌ）に加え、室温下に１６時間撹拌した。反応
混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エチル
層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エ
チルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）
にて精製し、淡黄色アメ状物質の目的物（１．０ｇ、収
率５０％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．６７〜２．７３ （４Ｈ、ｍ） ２．８７〜３．３３ （２Ｈ、ｍ） ４．０２〜４．３７ （１Ｈ、ｍ） ７．２３〜７．９７ （８Ｈ、ｍ）

【０２１９】製造例３４ ４−クロロ−４’−（２−ト
リフルオロメチルスルホニルプロピル）ベンゾフェノン
（化合物番号VI−２８）の製造 ４−クロロ−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン（３．３ｇ）及び６０％水素化ナトリ
ウム（０．８ｇ）をＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミド（１
５０ｍｌ）に加え、室温下に１時間撹拌した後、この溶
液にヨウ化メチル（０．８ｇ）を加え、室温下で１６時
間撹拌した。反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出
した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムに
て乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル＝４：１）にて精製し、目的物（３．１ｇ、融点
１０７〜１０９℃、収率８６％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．００ （６Ｈ、ｓ） ７．２０〜７．７０ （８Ｈ、ｍ）

【０２２０】製造例３５ ４−クロロ−４’−チオシア
ナトメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−３５）の製
造 ４−ブロモメチル−４’−クロロベンゾフェノン（５．
７ｇ）及びチオシアン酸ナトリウム（５．５ｇ）をエタ
ノ−ル（５０ｍｌ）に加え、６０℃で１時間撹拌した。
反応混合物を濃縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽
出した。酢酸エチル層を水洗後、無水硫酸マグネシウム
にて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留去した。残渣の固
体をｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１の混合溶媒に
て洗い、目的物（２．２ｇ、融点１２９〜１３１℃、収
率４２％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．１８ （２Ｈ、ｓ） ７．２３〜７．８７ （８Ｈ、ｍ）

【０２２１】製造例３６ ２−｛４−（４−クロロベン
ゾイル）フェニル｝−２−トリフルオロメチルチオマロ
ン酸ジエチル（化合物番号VI−８０）の製造 ６０％水素化ナトリウム（０．５ｇ）をテトラヒドロフ
ラン（１５０ｍｌ）に分散させ、０℃撹拌下、２−｛４
−（４−クロロベンゾイル）フェニル｝マロン酸ジエチ
ル（４．４ｇ）を滴下した。水素の発生が止んだ後、０
℃にてトリフルオロメチルスルフェニルクロリドを吹き
込み、その後室温にて１時間撹拌した。反応混合物を濃
縮し、残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。酢酸エ
チル層を水洗後、無水硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢
酸エチルを減圧下に留去した。残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝８：
１）にて精製し、目的物（４．７ｇ、ｎ_D ²⁰１．５３６
２、収率８７％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．３ （６Ｈ、ｔ） ４．３５ （４Ｈ、ｑ） ７．４ （２Ｈ、ｄ） ７．７５ （２Ｈ、ｄ） ７．８ （４Ｈ、ｓ）

【０２２２】製造例３７ ４−クロロ−４’−トリクロ
ロメチルチオメチルベンゾフェノン（化合物番号VI−８
１）の製造 ４ークロロ−４’−チオシアン酸メチルベンゾフェノン
（５．５ｇ）、トリエチルベンジルアンモニウムクロリ
ド（０．５ｇ）をクロロホルム（３０ｍｌ）に分散さ
せ、４８％水酸化ナトリウム水溶液（４ｍｌ）を４０℃
で加えた後、そのまま３時間撹拌した。

【０２２３】冷水を加え、分液し、有機相を水洗し、硫
酸マグネシウムで乾燥した後、クロロホルムを減圧留去
した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝９：１混合溶液）により
精製し、目的物（１．０ｇ、融点１０３〜１０５℃、収
率１３％）を得た^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．４５ （２Ｈ、ｓ） ７．１５〜７．８ （８Ｈ、ｍ）

【０２２４】製造例３８ ４−クロル−４’−トリフル
オロメチルスルホニルメチルベンズヒドロール（化合物
番号VIII−２）の製造 ４−クロル−４’−トリフルオロメチルスルホニルメチ
ルベンゾフェノン（５．５ｇ）をメタノール（２００ｍ
ｌ）に分散し、これに室温下で撹拌しながら水素化ホウ
素ナトリウムを徐々に加え、更に室温で一晩撹拌した。
反応終了後、メタノールを減圧下にて留去した。残査を
酢酸エチル２５０ｍｌにて抽出した後、これを水洗し、
硫酸マグネシウムにより乾燥した後、減圧下にて酢酸エ
チルを留去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒 ヘキサン：酢酸エチル＝２：１混合
溶液）により精製し白色粉末の目的物（４．２ｇ、融点
１１３〜１１５℃、収率７７％ ）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．７ （２Ｈ、ｓ） ５．７７ （２Ｈ、ｓ） ７．３ （４Ｈ、ｓ） ７．４７ （４Ｈ、ｓ）

【０２２５】製造例３９ ４−クロル−４’−エタンス
ルホニルメチルベンズヒドリルクロリド（化合物番号VI
II−５）の製造 ４−クロル−４’−エタンスルホニルメチルベンズヒド
ロール（６．０ｇ）、塩化チオニル（５．４ｇ）、トル
エン２００ｍｌ及び触媒量のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミドを加え、撹拌しながら徐々に還流するまで加熱し
た。還流下にて４時間撹拌し、放冷後減圧下にて溶媒を
留去した。残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（展開溶媒 ヘキサン：酢酸エチル＝２：１混合溶液）
により精製し、淡黄色アメ状物質の目的物（４．６ｇ、
ｎ_D ²⁰１．６０４４、収率７５％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） １．３３ （３Ｈ、ｔ） ２．８８ （２Ｈ、ｑ） ４．３７ （２Ｈ、ｓ） ６．０５ （１Ｈ、ｓ） ７．２７ （４Ｈ、ｓ） ７．３５ （４Ｈ、ｓ）

【０２２６】製造例４０ （６−クロロ−３−ピリジ
ル）（４−トリフルオロメチルチオメチルフェニル）ケ
トン（化合物番号VII−３）の製造 （６−クロロ−３−ピリジル）（４−チオシアナトメチ
ルフェニル）ケトン（５．０ｇ）をテトラヒドロフラン
（３００ｍｌ）に溶解し、トリフルオロメチルトリメチ
ルシラン（５．０ｇ）を室温で加えた後、５℃まで冷却
した。テトラブチルアンモニウムフルオリド（１．０Ｍ
テトラヒドロフラン溶液、２３ｇ）を冷却下に徐々に滴
下した後、このまま一晩撹拌した。テトラヒドロフラン
を減圧留去後、残渣を酢酸エチルで抽出した。これを水
洗し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、酢酸エチルを減
圧留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝４：１混合溶液）
により精製し、目的物（収量２．０ｇ、ｎ_D ²⁰１．５８
２０、収率３５％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ４．１５ （２Ｈ、ｓ） ７．４ （３Ｈ、ｄｄ） ７．７２ （２Ｈ、ｄｄ） ８．０５ （２Ｈ、ｄｄ） ８．６７ （２Ｈ、ｄ）

【０２２７】製造例４１ ４−クロロ−４’−ヒドロキ
シメチルベンゾフェノン−Ｎ’−メトキシカルボニルヒ
ドラゾン（化合物番号IX−１）の製造 ４−クロロ−４’−ヒドロキシメチルベンゾフェノン
（０．５ｇ）及びメチル−カルバゼート（０．４ｇ）を
エタノール（６０ｍｌ）及び酢酸（５ｍｌ）に加え、還
流下に１９時間撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を
酢酸エチルにて抽出した。酢酸エチル層を水洗後、無水
硫酸マグネシウムにて乾燥し、酢酸エチルを減圧下に留
去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し、目
的物（０．５ｇ、収率８３％）を得た。^１ Ｈ−ＮＭＲデータ（６０ＭＨｚ、ＣＤＣｌ_３溶媒、δ
値） ２．１７ （１Ｈ、ｂｒ） ３．７７ （３Ｈ、ｓ） ４．６３、４．７３ （２Ｈ、ｓ、ｓ） ６．９７〜７．６３ （８Ｈ、ｍ） ７．７３ （１Ｈ、ｂｒ）

【０２２８】本発明化合物を有害生物防除剤の有効成分
として使用するに際しては、本発明化合物それ自体で用
いてもよいが、農薬補助剤として製剤化に一般的に用い
られる担体、界面活性剤、及びその他補助剤を配合し
て、乳剤、懸濁剤、粉剤、粒剤、錠剤、水和剤、水溶
剤、液剤、フロアブル剤、顆粒水和剤、エアゾール剤、
ペースト剤、油剤、乳濁剤等の種々の形態に製剤するこ
とができる。これらの配合割合は通常、有効成分０．１
〜９０重量部で農薬補助剤１０〜９９．９重量部であ
る。

【０２２９】ここにいう製剤化に際して用いられる担体
としては、固体担体と液体担体に分けられる。固体担体
としては、例えば澱粉、活性炭、大豆粉、小麦粉、木
粉、魚粉、粉乳等の動植物性粉末、タルク、カオリン、
ベントナイト、炭酸カルシウム、ゼオライト、珪藻土、
ホワイトカーボン、クレー、アルミナ等の鉱物性粉末が
挙げられる。液体担体としては、例えば水、イソプロピ
ルアルコール、エチレングリコール等のアルコール類、
シクロヘキサノン、メチルエチルケトン等のケトン類、
ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、ケロ
シン、軽油等の脂肪族炭化水素類、キシレン、トリメチ
ルベンゼン、テトラメチルベンゼン、メチルナフタリ
ン、ソルベントナフサ等の芳香族炭化水素類、クロロベ
ンゼン等のハロゲン化炭化水素類、ジメチルアセトアミ
ド等の酸アミド類、脂肪酸のグリセリンエステル等のエ
ステル類、アセトニトリル等のニトリル類、ジメチルス
ルホキシド等の含硫化合物類等が挙げられる。

【０２３０】界面活性剤としては、例えばアルキルベン
ゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジスルホン酸
金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルアリール
スルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリオキシエチ
レングリコールエーテル、ポリオキシエチレンアルキル
アリールエーテル、ポリオキシエチレンソルビタンモノ
アルキレート等が挙げられる。

【０２３１】その他の補助剤としては、例えばカルボキ
シメチルセルロース、アラビアゴム、アルギン酸ナトリ
ウム、グアーガム、トラガントガム、ポリビニルアルコ
ール等の固着剤あるいは増粘剤、金属石鹸等の消泡剤、
脂肪酸、アルキルリン酸塩、シリコーン、パラフィン等
の物性向上剤、着色剤等を用いることができる。

【０２３２】これらの製剤の実際の使用に際しては、そ
のまま使用するか、又は水等の希釈剤で所定濃度に希釈
して使用することができる。本発明化合物を含有する種
々の製剤、又はその希釈物の施用は、通常一般に行なわ
れている施用方法、即ち、散布（例えば噴霧、ミスティ
ング、アトマイジング、散粉、散粒、水面施用、箱施用
等）、土壌施用（例えば混入、灌注等）、表面施用（例
えば塗布、粉衣、被覆等）、浸漬、毒餌等により行うこ
とができる。また、家畜に対して前記有効成分を飼料に
混合して与え、その排泄物での有害虫、特に有害昆虫の
発生、成育を防除することも可能である。また、いわゆ
る超高濃度少量散布法により施用することもできる。こ
の方法においては、活性成分を１００％含有することが
可能である。

【０２３３】本発明の有害生物防除剤の施用は、一般に
０．１〜５００００ｐｐｍ、望ましくは１〜１００００
ｐｐｍの有効成分濃度で行なう。

【０２３４】有効成分濃度は、製剤の形態及び施用する
方法、目的、時期、場所及び有害生物の発生状況等によ
って適当に変更できる。例えば水生有害生物の場合、上
記濃度範囲の薬液を発生場所に散布しても防除できるこ
とから、水中での有効成分濃度範囲は上記以下である。
単位面積あたりの施用量は１ｈａ当り、有効成分化合物
として０．１〜５０００ｇ、好ましくは１〜１０００ｇ
が使用されるが、これらに限定されるものではない。

【０２３５】尚、本発明化合物は単独でも十分有効であ
ることはいうまでもないが、必要に応じて他の肥料、農
薬、例えば殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、殺菌剤、抗ウ
イルス剤、誘引剤、除草剤、植物成長調整剤などと混
用、併用することができ、この場合に一層優れた効果を
示すこともある。

【０２３６】本発明化合物と混合して使用できる殺虫
剤、殺菌剤、殺ダニ剤等の代表例を以下に示す。

【０２３７】例えば有機リン及びカーバメート系殺虫
剤：フェンチオン、フェニトロチオン、ダイアジノン、
クロルピリホス、オキシデプロホス、バミドチオン、フ
ェントエート、ジメトエート、ホルモチオン、マラチオ
ン、トリクロルホン、チオメトン、ホスメット、ジクロ
ルボス、アセフェート、ＥＰＢＰ、メチルパラチオン、
オキシジメトンメチル、エチオン、ジオキサベンゾホ
ス、シアノホス、イソキサチオン、ピリダフェンチオ
ン、ホサロン、メチダチオン、スルプロホス、クロルフ
ェンビンホス、テトラクロルビンホス、ジメチルビンホ
ス、プロパホス、イソフェンホス、ジスルホトン、プロ
フェノホス、ピラクロホス、モノクロトホス、アジンホ
スメチル、アルジカルブ、メソミル、チオジカルブ、カ
ルボフラン、カルボスルファン、ベンフラカルブ、フラ
チオカルブ、プロポキスル、フェノブカルブ、メトルカ
ルブ、イソプロカルブ、カルバリル、ピリミカーブ、エ
チオフェンカルブ、ジクロフェンチオン、ピリミホスメ
チル、キナルホス、クロルピリホスメチル、プロチオホ
ス、ナレッド、ＥＰＮ、ＸＭＣ、ベンダイオカルブ、オ
キサミル、アラニカルブ、クロルエトキシホス等。

【０２３８】ピレスロイド系殺虫剤：ペルメトリン、シ
ペルメトリン、デルタメトリン、フェンバレレート、フ
ェンプロパトリン、ピレトリン、アレスリン、テトラメ
トリン、レスメトリン、ジメスリン、プロパスリン、フ
ェノトリン、プロトリン、フルバリネート、シフルトリ
ン、シハロトリン、フルシトリネート、エトフェンプロ
ックス、シクロプロトリン、トラロメトリン、シラフル
オフェン、テフルトリン、ビフェントリン、アクリナト
リン等。

【０２３９】アシルウレア系、その他の殺虫剤：ジフル
ベンズロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、
トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロ
ン、フルシクロクスロン、ブプロフェジン、ピリプロキ
シフェン、ルフェヌロン、シロマジン、メトプレン、エ
ンドスルファン、ジアフェンチウロン、イミダクロプリ
ド、フィプロニル、硫酸ニコチン、ロテノン、メタアル
デヒド、マシン油、ＢＴや昆虫病原ウイルス等の微生物
農薬、フェノキシカルブ、カルタップ、チオシクラム、
ベンスルタップ、テブフェノジド、クロルフェナピル、
エマメクチンベンゾエート、アセタミプリド、ニテンピ
ラム、ピメトロジン、オレイン酸ナトリウム、なたね油
等。

【０２４０】殺線虫剤：フェナミホス、ホスチアゼー
ト、エトプロホス、メチルイソチオシアネート、１，３
−ジクロロプロペン、ＤＣＩＰ等。

【０２４１】殺ダニ剤：クロルベンジレート、フェニソ
ブロモレート、ジコホル、アミトラズ、プロパルギッ
ト、ベンゾメート、ヘキシチアゾクス、フェンブタチン
オキシド、ポリナクチン、キノメチオネート、クロルフ
ェンソン、テトラジホン、アバメクチン、ミルベメクチ
ン、クロフェンテジン、ピリダベン、フェンピロキシメ
ート、テブフェンピラド、ピリミジフェン、フェノチオ
カルブ、ジエノクロル、エトキサゾール、ハルフェンプ
ロックス等。

【０２４２】殺菌剤：チオファネートメチル、ベノミ
ル、カルベンダゾール、チアベンダゾール、フォルペッ
ト、チウラム、ジラム、ジネブ、マンネブ、マンゼブ、
ポリカーバメート、イプロベンホス、エジフェンホス、
フサライド、プロベナゾール、イソプロチオラン、クロ
ロタロニル、キャプタン、ポリオキシン、ブラストサイ
ジンＳ、カスガマイシン、ストレプトマイシン、バリダ
マイシン、トリシクラゾール、ピロキロン、フェナジン
オキシド、メプロニル、フルトラニル、ペンシクロン、
イプロジオン、ヒメキサゾール、メタラキシル、トリフ
ルミゾール、トリホリン、トリアジメホン、ビテルタノ
ール、フェナリモル、プロピコナゾール、シモキサニ
ル、プロクロラズ、ペフラゾエート、ヘキサコナゾー
ル、ミクロブタニル、ジクロメジン、テクロフタラム、
プロピネブ、ジチアノン、ホセチル、ビンクロゾリン、
プロシミドン、オキサジキシル、グアザチン、プロパモ
カルブ塩酸塩、フルアジナム、オキソリニック酸、ヒド
ロキシイソキサゾール、イミベンコナゾール、ジフェノ
コナゾール、メパニピリム等。

【０２４３】本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目害
虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害
虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植
物寄生性線虫類等の害虫に対して、優れた防除効果を示
す。そのような害虫の例としては、以下の如き害虫類を
例示することができる。

【０２４４】半翅目害虫、例えばホソヘリカメムシ（Ｒ
ｉｐｔｏｒｔｕｓ ｃｌａｖａｔｕｓ）、ミナミアオカ
メムシ（Ｎｅｚａｒａ ｖｉｒｉｄｕｌａ）、メクラカ
メムシ類（Ｌｙｇｕｓ ｓｐ．）、アメリカコバネナガ
カメムシ（Ｂｌｉｓｓｕｓｌｅｕｃｏｐｔｅｒｕｓ）、
ナシグンバイ（Ｓｔｅｐｈａｎｉｔｉｓ ｎａｓｈｉ）
等のカメムシ類（異翅類；ＨＥＴＥＲＯＰＴＥＲＡ）、
ツマグロヨコバイ（Ｎｅｐｈｏｔｅｔｔｉｘ ｃｉｎｃ
ｔｉｃｅｐｓ）、ヒメヨコバイ類（Ｅｍｐｏａｓｃａ
ｓｐ．， Ｅｒｙｔｈｒｏｎｅｕｒａ ｓｐ．，Ｃｉｒ
ｃｕｌｉｆｅｒ ｓｐ．）等のヨコバイ類、トビイロウ
ンカ（Ｎｉｌａｐａｒｖａｔａ ｌｕｇｅｎｓ）、セジ
ロウンカ（Ｓｏｇａｔｅｌｌａ ｆｕｒｃｉｆｅｒ
ａ）、ヒメトビウンカ（Ｌａｏｄｅｌｐｈａｘ ｓｔｒ
ｉａｔｅｌｌｕｓ）等のウンカ類、Ｐｓｙｌｌａ ｓ
ｐ．等のキジラミ類、タバココナジラミ（Ｂｅｍｉｓｉ
ａｔａｂａｃｉ）、オンシツコナジラミ（Ｔｒｉａｌｅ
ｕｒｏｄｅｓ ｖａｐｏｒａｒｉｏｒｕｍ）等のコナジ
ラミ類、ブドウネアブラムシ（Ｖｉｔｅｕｓ ｖｉｔｉ
ｆｏｌｉｉ）、モモアカアブラムシ（Ｍｙｚｕｓ ｐｅ
ｒｓｉｃａｅ）、リンゴアブラムシ（Ａｐｈｉｓ ｐｏ
ｍｉ）、ワタアブラムシ（Ａｐｈｉｓ ｇｏｓｓｙｐｉ
ｉ）、Ａｐｈｉｓ ｆａｂａｅ、ニセダイコンアブラム
シ（Ｒｈｏｐａｌｏｓｉｐｈｕｍ ｐｓｅｄｏｂｒａｓ
ｓｉｃａｓ）、ジャガイモヒゲナガアブラムシ（Ａｕｌ
ａｃｏｒｔｈｕｍ ｓｏｌａｎｉ）、ムギミドリアブラ
ムシ（Ｓｃｈｉｚａｐｈｉｓ ｇｒａｍｉｎｕｍ）等の
アブラムシ類、クワコナカイガラムシ（Ｐｓｅｕｄｏｃ
ｏｃｃｕｓ ｃｏｍｓｔｏｃｋｉ）、ルビーロウムシ
（Ｃｅｒｏｐｌａｓｔｅｓ ｒｕｂｅｎｓ）、サンホー
ゼカイガラムシ（Ｃｏｍｓｔｏｃｋａｓｐｉｓ ｐｅｒ
ｎｉｃｉｏｓａ）、ヤノネカイガラムシ（Ｕｎａｓｐｉ
ｓ ｙａｎｏｎｅｎｓｉｓ）等のカイガラムシ類、サシ
ガメ（Ｒｈｏｄｎｉｕｓ ｓｐ．）等。

【０２４５】鱗翅目害虫、例えばチャハマキ（Ｈｏｍｏ
ｎａ ｍａｇｎａｎｉｍａ）、コカクモンハマキ（Ａｄ
ｏｘｏｐｈｙｅｓ ｏｒａｎａ）、テングハマキ（Ｓｐ
ａｒｇａｎｏｔｈｉｓ ｐｉｌｌｅｒｉａｎａ）、ナシ
ヒメシンクイ（Ｇｒａｐｈｏｌｉｔｈａ ｍｏｌｅｓｔ
ａ）、マメシンクイガ（Ｌｅｇｕｍｉｎｉｖｏｒａｇｌ
ｙｃｉｎｉｖｏｒｅｌｌａ）、コドリンガ（Ｌａｓｐｅ
ｙｒｅｓｉａ ｐｏｍｏｎｅｌｌａ）、Ｅｕｃｏｓｍａ
ｓｐ．、Ｌｏｂｅｓｉａ ｂｏｔｒａｎａ等のハマキ
ガ類、ブドウホソハマキ（Ｅｕｐｏｅｃｉｌｌｉａ ａ
ｍｂｉｇｕｅｌｌａ）等のホソハマキガ類、Ｂａｍｂａ
ｌｉｎａ ｓｐ．等のミノガ類、コクガ（Ｎｅｍａｐｏ
ｇｏｎ ｇｒａｎｅｌｌｕｓ）、イガ（Ｔｉｎｅａ ｔ
ｒａｎｓｌｕｃｅｎｓ）等のヒロズコガ類、ギンモンハ
モグリガ（Ｌｙｏｎｅｔｉａｐｒｕｎｉｆｏｌｉｅｌｌ
ａ）等のハモグリガ類、キンモンホソガ（Ｐｈｙｌｌｏ
ｎｏｒｙｃｔｅｒ ｒｉｇｏｎｉｅｌｌａ）等のホソガ
類、ミカンハモグリガ（Ｐｈｙｌｌｏｃｎｉｓｔｉｓ
ｃｉｔｒｅｌｌａ）等のコハモグリガ類、コナガ（Ｐｌ
ｕｔｅｌｌａ ｘｙｌｏｓｔｅｌｌａ）、Ｐｒａｙｓ
ｃｉｔｒｉ等のスガ類、ブドウスカシバ（Ｐａｒａｎｔ
ｈｒｅｎｅ ｒｅｇａｌｉｓ）、Ｓｙｎａｎｔｈｅｄｏ
ｎ ｓｐ．等のスカシバガ類、ワタアカミムシ（Ｐｅｃ
ｔｉｎｏｐｈｏｒａ ｇｏｓｓｙｐｉｅｌｌａ）、ジャ
ガイモガ（Ｐｈｔｈｏｒｉｍａｅａ ｏｐｅｒｃｕｌｅ
ｌｌａ）、Ｓｔｏｍｏｐｔｅｒｙｘ ｓｐ．等のキバガ
類、モモシンクイガ（Ｃａｒｐｏｓｉｎａ ｎｉｐｏｎ
ｅｎｓｉｓ）等のシンクイガ類、イラガ（Ｍｏｎｅｍａ
ｆｌａｖｅｓｃｅｎｓ）等のイラガ類、ニカメイガ
（Ｃｈｉｌｏ ｓｕｐｐｒｅｓｓａｌｉｓ）、コブノメ
イガ（Ｃｎａｐｈａｌｏｃｒｏｃｉｓ ｍｅｄｉｎａｌ
ｉｓ）、Ｏｓｔｒｉｎｉａ ｎｕｂｉｌａｌｉｓ、アワ
ノメイガ（Ｏｓｔｒｉｎｉａ ｆｕｒｎａｃａｌｉｓ）
、ハイマダラノメイガ（Ｈｅｌｌｕｌａ ｕｎｄａｌ
ｉｓ）、ハチミツガ（Ｇａｌｌｅｒｉａｍｅｌｌｏｎｅ
ｌｌａ）、Ｅｌａｓｍｏｐａｌｐｕｓ ｌｉｇｎｏｓｅ
ｌｌｕｓ、Ｌｏｘｏｓｔｅｇｅ ｓｔｉｃｔｉｃａｌｉ
ｓ等のメイガ類、モンシロチョウ（Ｐｉｅｒｉｓ ｒａ
ｐａｅ）等のシロチョウ類、ヨモギエダシャク（Ａｓｃ
ｏｔｉｓ ｓｅｌｅｎａｒｉａ）等のシャクガ類、オビ
カレハ（Ｍａｌａｃｏｓｏｍａ ｎｅｕｓｔｒｉａ）等
のカレハガ類、Ｍａｎｄｕｃａ ｓｅｘｔａ等のスズメ
ガ類、チャドクガ（Ｅｕｐｒｏｃｔｉｓ ｐｓｅｕｄｏ
ｃｏｎｓｐｅｒｓａ）、マイマイガ（Ｌｙｍａｎｔｒｉ
ａ ｄｉｓｐａｒ）等のドクガ類、アメリカシロヒトリ
（Ｈｙｐｈａｎｔｒｉａ ｃｕｎｅａ）等のヒトリガ
類、タバコバッドワーム（Ｈｅｌｉｏｔｈｉｓ ｖｉｒ
ｅｓｃｅｎｓ）、ボールワーム（Ｈｅｌｉｃｏｖｅｒｐ
ａ ｚｅａ）、シロイチモジヨトウ（Ｓｐｏｄｏｐｔｅ
ｒａｅｘｉｇｕａ）、オオタバコガ（Ｈｅｌｉｃｏｖｅ
ｒｐａ ａｒｍｉｇｅｒａ）、ハスモンヨトウ（Ｓｐｏ
ｄｏｐｔｅｒａ ｌｉｔｕｒａ）、ヨトウガ（Ｍａｍｅ
ｓｔｒａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、タマナヤガ（Ａｇｒ
ｏｔｉｓ ｉｐｓｉｒｏｎ）、アワヨトウ（Ｐｓｅｕｄ
ａｌｅｔｉａ ｓｅｐａｒａｔａ）、イラクサキンウワ
バ（Ｔｒｉｃｈｏｐｌｕｓｉａ ｎｉ）等のヤガ類等。

【０２４６】鞘翅目害虫、例えばドウガネブイブイ（Ａ
ｎｏｍａｌａ ｃｕｐｒｅａ）、マメコガネ（Ｐｏｐｉ
ｌｌｉａ ｊａｐｏｎｉｃａ）、ヒメコガネ（Ａｎｏｍ
ａｌａ ｒｕｆｏｃｕｐｒｅａ）、Ｅｕｔｈｅｏｌａ
ｒｕｇｉｃｅｐｓ等のコガネムシ類、ワイヤーワーム
（Ａｇｒｉｏｔｅｓ ｓｐ．）、Ｃｏｎｏｄｅｕｓ ｓ
ｐ．等のコメツキムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Ｅ
ｐｉｌａｃｈｎａ ｖｉｇｉｎｔｉｏｃｔｏｐｕｎｃｔ
ａｔａ）、インゲンテントウムシ（Ｅｐｉｌａｃｈｎａ
ｖａｒｉｖｅｓｔｉｓ）等のテントウムシ類、コクヌ
ストモドキ（Ｔｒｉｂｏｌｉｕｍ ｃａｓｔａｎｅｕ
ｍ）等のゴミムシダマシ類、ゴマダラカミキリ（Ａｎｏ
ｐｌｏｐｈｏｒａ ｍａｌａｓｉａｃａ）、マツノマダ
ラカミキリ（Ｍｏｎｏｃｈａｍｕｓ ａｌｔｅｒｎａｔ
ｕｓ）等のカミキリムシ類、インゲンマメゾウムシ（Ａ
ｃａｎｔｈｏｓｃｅｌｉｄｅｓ ｏｂｔｅｃｔｕｓ）、
アズキゾウムシ（Ｃａｌｌｏｓｏｂｒｕｃｈｕｓ ｃｈ
ｉｎｅｎｓｉｓ）等のマメゾウムシ類、コロラドハムシ
（Ｌｅｐｔｉｎｏｔａｒｓａ ｄｅｃｅｍｌｉｎｅａｔ
ａ）、コーンルートワーム（Ｄｉａｂｒｏｔｉｃａ ｓ
ｐ．）、イネドロオイムシ（Ｏｕｌｅｍａ ｏｒｙｚａ
ｅ）、テンサイトビハムシ（Ｃｈａｅｔｏｃｎｅｍａ
ｃｏｎｃｉｎｎａ）、Ｐｈａｅｄｏｎ ｃｏｃｈｌｅａ
ｒｉａｓ、Ｏｕｌｅｍａ ｍｅｌａｎｏｐｕｓ、Ｄｉｃ
ｌａｄｉｓｐａ ａｒｍｉｇｅｒａ等のハムシ類、Ａｐ
ｉｏｎ ｇｏｄｍａｎｉ等のホソクチゾウムシ類、イネ
ミズゾウムシ（Ｌｉｓｓｏｒｈｏｐｔｒｕｓ ｏｒｙｚ
ｏｐｈｉｌｕｓ）、ワタミゾウムシ（Ａｎｔｈｏｎｏｍ
ｕｓ ｇｒａｎｄｉｓ）等のゾウムシ類、コクゾウムシ
（Ｓｉｔｏｐｈｉｌｕｓ ｚｅａｍａｉｓ）等のオサゾ
ウムシ類、キクイムシ類、カツオブシムシ類、シバンム
シ類等。

【０２４７】双翅目害虫、例えばキリウジガガンボ（Ｔ
ｉｐｒａ ａｎｏ）、イネユスリカ（Ｔａｎｙｔａｒｓ
ｕｓ ｏｒｙｚａｅ）、イネシントメタマバエ（Ｏｒｓ
ｅｏｌｉａ ｏｒｙｚａｅ）、チチュウカイミバエ（Ｃ
ｅｒａｔｉｔｉｓ ｃａｐｉｔａｔａ）、イネミギワバ
エ（Ｈｙｄｒｅｌｌｉａ ｇｒｉｓｅｏｌａ）、オウト
ウショウジョウバエ（Ｄｒｏｓｏｐｈｉｌａ ｓｕｚｕ
ｋｉｉ）、フリッツフライ（Ｏｓｃｉｎｅｌｌａ ｆｒ
ｉｔ）、イネカラバエ（Ｃｈｌｏｒｏｐｓ ｏｒｙｚａ
ｅ）、インゲンモグリバエ（Ｏｐｈｉｏｍｙｉａ ｐｈ
ａｓｅｏｌｉ）、マメハモグリバエ（Ｌｉｒｉｏｍｙｚ
ａ ｔｒｉｆｏｌｉｉ）、アカザモグリハナバエ（Ｐｅ
ｇｏｍｙａ ｈｙｏｓｃｙａｍｉ）、タネバエ（Ｈｙｌ
ｅｍｉａｐｌａｔｕｒａ）、ソルガムフライ（Ａｔｈｅ
ｒｉｇｏｎａ ｓｏｃｃａｔａ）、イエバエ（Ｍｕｓｃ
ａ ｄｏｍｅｓｔｉｃａ）、ウマバエ（Ｇａｓｔｒｏｐ
ｈｉｌｕｓ ｓｐ．）、サシバエ（Ｓｔｏｍｏｘｙｓ
ｓｐ．）、ネッタイシマカ（Ａｅｄｅｓ ａｅｇｙｐｔ
ｉ）、アカイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｐｉｐｉｅｎｓ）、シ
ナハマダラカ（Ａｎｏｐｈｅｌｅｓ ｓｌｎｅｎｓｉ
ｓ）、コガタアカイエカ（Ｃｕｌｅｘ ｔｒｉｔａｅｎ
ｉｏｒｈｙｎｃｈｕｓ）等。

【０２４８】膜翅目害虫、例えばクキバチ類（Ｃｅｐｈ
ｕｓ ｓｐ．）、カタビロコバチ類（Ｈａｒｍｏｌｉｔ
ａ ｓｐ．）、カブラハバチ類（Ａｔｈａｌｉａ ｓ
ｐ．）、スズメバチ類（Ｖｅｓｐａ ｓｐ．）、ファイ
アーアント類等。

【０２４９】直翅目害虫、例えばチャバネゴキブリ（Ｂ
ｌａｔｅｌｌａ ｇｅｒｍａｎｉｃａ）、ワモンゴキブ
リ（Ｐｅｒｉｐｌａｎｅｔａ ａｍｅｒｉｃａｎａ
）、ケラ（Ｇｒｙｌｌｏｔａｌｐａ ａｆｒｉｃａｎ
ａ）、バッタ（Ｌｏｃｕｓｔａｍｉｇｒａｔｏｒｉａ
ｍｉｇｒａｔｏｒｉｏｄｅｓ）、Ｍｅｌａｎｏｐｌｕｓ
ｓａｎｇｕｉｎｉｐｅｓ等。

【０２５０】シロアリ目害虫、例えば、ヤマトシロアリ
（Ｒｅｔｉｃｕｌｉｔｅｒｍｅｓｓｐｅｒａｔｕｓ）、
イエシロアリ（Ｃｏｐｔｏｔｅｒｍｅｓ ｆｏｒｍｏｓ
ａｎｕｓ）等。

【０２５１】アザミウマ目害虫、例えば、チャノキイロ
アザミウマ（Ｓｃｉｒｔｏｔｈｒｉｐｓ ｄｏｒｓａｌ
ｉｓ）、ミナミキイロアザミウマ（Ｔｈｒｉｐｓ ｐａ
ｌｍｉ）、クロトンアザミウマ（Ｈｅｌｉｏｔｈｒｉｐ
ｓ ｈａｅｍｏｒｒｈｏｉｄａｌｉｓ）、ミカンキイロ
アザミウマ（Ｆｒａｎｋｌｉｎｉｅｌｌａ ｏｃｃｉｄ
ｅｎｔａｌｉｓ）、イネクダアザミウマ（Ｈａｐｌｏｔ
ｈｒｉｐｓ ａｃｕｌｅａｔｕｓ）等。

【０２５２】ハダニ類、例えばナミハダニ（Ｔｅｔｒａ
ｎｙｃｈｕｓ ｕｒｔｉｃａｅ）、カンザワハダニ（Ｔ
ｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｋａｎｚａｗａｉ）、ミカンハ
ダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓ ｃｉｔｒｉ）、リンゴハ
ダニ（Ｐａｎｏｎｙｃｈｕｓｕｌｍｉ）、イエローマイ
ト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ ｃａｒｐｉｎｉ）、
テキサスシトラスマイト（Ｅｏｔｅｔｒａｎｙｃｈｕｓ
ｂａｎｋｓｉ）、ミカンサビダニ（Ｐｈｙｌｌｏｃｏ
ｐｔｒｕｔａ ｏｌｅｉｖｏｒａ）、チャノホコリダニ
（Ｐｏｌｙｐｈａｇｏｔａｒｓｏｎｅｍｕｓ ｌａｔｕ
ｓ）、ヒメハダニ（Ｂｒｅｖｉｐａｌｐｕｓ ｓ
ｐ．）、ロビンネダニ（Ｒｈｉｚｏｇｌｙｐｈｕｓ ｒ
ｏｂｉｎｉ）、ケナガコナダニ（Ｔｙｒｏｐｈａｇｕｓ
ｐｕｔｒｅｓｃｅｎｔｉａｅ）等。

【０２５３】植物寄生性線虫類、例えばサツマイモネコ
ブセンチュウ（Ｍｅｌｏｉｄｏｇｙｎｅ ｉｎｃｏｇｎ
ｉｔａ）、ネグサレセンチュウ（Ｐｒａｔｙｌｅｎｃｈ
ｕｓｓｐ．）、ダイズシストセンチュウ（Ｈｅｔｅｒｏ
ｄｅｒａ ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、イネシンガレセンチュ
ウ（Ａｐｈｅｌｅｎｃｈｏｉｄｅｓ ｂｅｓｓｅｙ
ｉ）、マツノザイセンチュウ（Ｂｕｒｓａｐｈｅｌｅｎ
ｃｈｕｓ ｘｙｌｏｐｈｉｌｕｓ）等。

【０２５４】その他有害動物、不快動物、衛生害虫、寄
生虫、例えばスクミリンゴガイ（Ｐｏｍａｃｅａ ｃａ
ｎａｌｉｃｕｌａｔａ）、ナメクジ（Ｉｎｃｉｌａｒｉ
ａｓｐ．）、アフリカマイマイ（Ａｃｈａｔｉｎａ ｆ
ｕｌｉｃａ）等の腹足綱類（Ｇａｓｔｒｏｐｏｄａ）、
ダンゴムシ（Ａｒｍａｄｉｌｌｉｄｉｕｍ ｓｐ．）、
ワラジムシ、ムカデ等の等脚目類（Ｉｓｏｐｏｄａ）、
Ｌｉｐｏｓｃｅｌｉｓ ｓｐ．等のチャタテムシ類、Ｃ
ｔｅｎｏｌｅｐｉｓｍａ ｓｐ．等のシミ類、Ｐｕｌｅ
ｘ ｓｐ．、Ｃｔｅｎｏｃｅｐｈａｌｉｄｅｓ ｓｐ．
等のノミ類、Ｔｒｉｃｈｏｄｅｃｔｅｓ ｓｐ．等のハ
ジラミ類、Ｃｉｍｅｘ ｓｐ．等のトコジラミ類、オウ
シマダニ（Ｂｏｏｐｈｉｌｕｓ ｍｉｃｒｏｐｌｕ
ｓ）、フタトゲチマダニ（Ｈａｅｍａｐｈｙｓａｌｉｓ
ｌｏｎｇｉｃｏｒｎｉｓ）等の動物寄生性ダニ類、ヒ
ョウヒダニ類等を挙げることができる。

【０２５５】更に、有機リン系化合物、カーバメート系
化合物、合成ピレスロイド系化合物、アシルウレア系化
合物あるいは既存の殺虫剤に抵抗性を示す害虫に対して
も有効である。

【０２５６】次に、代表的な製剤例をあげて製剤方法を
具体的に説明する。化合物、補助剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において、％は重量百分率を示す。

【０２５７】製剤例１ 乳剤 化合物（Ｉ−２２）３０％、シクロヘキサノン２０％、
ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル１１％、
アルキルベンゼンスルホン酸カルシウム４％及びメチル
ナフタリン３５％を均一に溶解して乳剤とした。

【０２５８】製剤例２ 水和剤 化合物（Ｉ−２２）１０％、ナフタレンスルホン酸ホル
マリン縮合物ナトリウム塩０．５％、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリール０．５％、珪藻土２４％、クレー６
５％を均一に混合粉砕して水和剤とした。

【０２５９】製剤例３ 粉剤 化合物（Ｉ−２２）２％、珪藻土５％及びクレー９３％
を均一に混合粉砕して粉剤とした。

【０２６０】製剤例４ 粒剤 化合物（Ｉ−２２）５％、ラウリルアルコール硫酸エス
テルのナトリウム塩２％、リグニンスルホン酸ナトリウ
ム５％、カルボキシメチルセルロース２％及びクレー８
６％を均一に混合粉砕した。この混合物１００重量部に
水２０重量部を加えて練合し、押出式造粒機を用いて１
４〜３２メッシュの粒状に加工したのち、乾燥して粒剤
とした。

【０２６１】次に本発明化合物を有効成分とする有害生
物防除剤の奏する効果について試験例をもって説明す
る。尚、使用した比較薬剤ａおよびｂは、特開昭５４−
１２２２６１号公報明細書に例示された［例１６５］お
よび［例６］の化合物であり、比較薬剤ｃは、特開昭５
６−４５４５２号公報明細書に例示された［例８８］の
化合物であり、また比較薬剤ｄは、ＵＳＰ３，７３２，
３０７に例示された［例６］の化合物である。これら
は、本発明化合物と同様に製剤して使用した。

【０２６２】比較薬剤ａ：４−クロロ−４’−イソプロ
ピルチオベンゾフェノン−Ｎ’−エトキシカルボニルヒ
ドラゾン 比較薬剤ｂ：４−クロロ−４’−プロピルスルホニルベ
ンゾフェノン−Ｎ’−プロピオニルヒドラゾン 比較薬剤ｃ：４−クロロ−４’−メチルスルフィニルベ
ンゾフェノン−Ｎ’−エトキシカルボニルヒドラゾン 比較薬剤ｄ：４−トリフルオロメチルチオベンゾフェノ
ンヒドラゾン

【０２６３】試験例１ コナガ殺虫試験 製剤例２に準じて調製した水和剤を５００ｐｐｍの濃度
に水で希釈した。その薬液にキャベツ葉を浸漬し、風乾
後、容量６０ｍｌの塩化ビニル製のカップに入れた。そ
の中にコナガ３齢幼虫１０頭を放ち蓋をした。その後、
２５℃の恒温室に置き、６日後に死虫数を調査し、以下
の数１により死虫率を求めた。結果を表３６〜表４３に
示した。尚、試験は２連制で行った。

【０２６４】

【数１】

【０２６５】

【表３６】

【０２６６】

【表３７】

【０２６７】

【表３８】

【０２６８】

【表３９】

【０２６９】

【表４０】

【０２７０】

【表４１】

【０２７１】

【表４２】

【０２７２】

【表４３】

【０２７３】試験例２ トビイロウンカ殺虫試験 製剤例２に準じて調製した水和剤を５００ｐｐｍの濃度
に水で希釈した。その薬液にイネ茎葉を浸漬し、風乾
後、試験管に静置した。その中にトビイロウンカ幼虫５
頭を放ち、脱脂綿で栓をした。その後、２５℃の恒温室
に置き、６日後に死虫数を調査し、数１により死虫率を
算出した。試験は２連制で行った。結果を表４４〜表４
８に示す。

【０２７４】

【表４４】

【０２７５】

【表４５】

【０２７６】

【表４６】

【０２７７】

【表４７】

【０２７８】

【表４８】

【０２７９】試験例３ アズキゾウムシ殺虫試験 製剤例２に準じて調製した水和剤を１００ｐｐｍの濃度
に水で希釈した。その薬液０．７５ｍｌを容量６０ｍｌ
の塩化ビニル製カップに入れた直径６ｃｍのろ紙に滴下
した。その中にアズキゾウムシ雌成虫５頭を放ち蓋をし
た。その後、２５℃の恒温室に置き、４日後に死虫数を
調査し、数１により死虫率を算出した。試験は２連制で
行った。結果を表４９〜表５０に示す。

【０２８０】

【表４９】

【０２８１】

【表５０】

【０２８２】

【発明の効果】本発明の化合物は、半翅目害虫、鱗翅目
害虫、鞘翅目害虫、双翅目害虫、膜翅目害虫、直翅目害
虫、シロアリ目害虫、アザミウマ目害虫、ハダニ類、植
物寄生性線虫類等の広範囲の有害生物に対して優れた防
除効果を示し、また、抵抗性を帯びた有害生物をも防除
できる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 303/34 Ｃ０７Ｃ 303/34 311/27 311/27 311/30 311/30 311/35 311/35 315/04 315/04 317/16 317/16 317/24 317/24 319/20 319/20 323/16 323/16 323/22 323/22 323/29 323/29 (72)発明者 益山 直 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 永井 昭英 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 矢野 祐幸 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 川島 三枝子 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地 (72)発明者 栗原 浩 愛知県名古屋市天白区中平五丁目1205番地 (72)発明者 嶋津 朋徳 静岡県浜松市佐鳴台６丁目10番地の48

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式［Ｉ］、 【化１】 ｛式中、Ｒ^１は炭素数１から６のアルキル基、炭素数１
   から４のシアノアルキル基、炭素数１から４のヒドロキ
   シアルキル基、炭素数３から６のシクロアルキル基、炭
   素数１から６のハロアルキル基、炭素数２から４のアル
   ケニル基、炭素数２から４のアルキニル基、フェニル基
   ［該基はハロゲン原子又は炭素数１から４のアルキル基
   で置換されてもよい］、シアノ基、ベンジル基［該基は
   ハロゲン原子で置換されてもよい］、チアゾリル基、炭
   素数１から４のアルキルカルバモイル基又は−Ｎ
   （Ｒ^５）Ｒ^６基を示し、Ｒ^２及びＲ^３は各々独立して水
   素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１から４のア
   ルキル基、炭素数１から３のハロアルキル基、炭素数１
   から４のアルキルチオ基、炭素数１から４のアルキルカ
   ルボニル基、カルボキシル基又は炭素数１から４のアル
   コキシカルボニル基を示す。Ｒ^２及びＲ^３はこれらの結
   合した炭素原子と共に３から６員環を形成してもよい。
   又、Ｒ^１及びＲ^２はこれらの結合した硫黄原子及び炭素
   原子と共に一つ又はそれ以上のヘテロ原子を有する３か
   ら８員環を形成してもよい。Ｒ^４は水素原子、ハロゲン
   原子、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から４の
   ハロアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ基又は炭
   素数１から４のハロアルコキシ基を示し、Ｒ^５及びＲ^６
   は各々独立して水素原子、炭素数１から６のアルキル基
   又は炭素数１から４のハロアルキル基を示す。又、Ｒ^５
   及びＲ^６は一緒になって基＝ＣＲ^７Ｒ^８を形成又はＲ^５
   及びＲ^６はこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ
   又はそれ以上のヘテロ原子を有する４から８員環を形成
   してもよい。Ｒ^７は水素原子、炭素数１から３のアルキ
   ル基又は炭素数１から３のアルキルチオ基を示し、Ｒ^８
   は炭素数１から３のアルキルチオ基又は炭素数１から３
   のアルキルアミノ基を示す。又、Ｒ^７及びＲ^８はこれら
   の結合した炭素原子と合わせて飽和または不飽和の４か
   ら８員環を形成してもよい。Ａは式［Ａ１］または式
   ［Ａ２］ 【化２】 で表されるヒドラジノアラルキル基又はヒドラゾノアラ
   ルキル基を示し、Ｒ^９は水素原子、ハロゲン原子、ニト
   ロ基、シアノ基、炭素数１から４のアルキル基、炭素数
   １から４のハロアルキル基、炭素数１から４のアルコキ
   シ基、炭素数１から４のハロアルコキシ基、炭素数１か
   ら４のアルキルチオ基、炭素数１から４のハロアルキル
   チオ基、炭素数１から４のアルキルスルホニル基、炭素
   数２から４のアルキルスルホニルメチル基、炭素数１か
   ら４のハロアルキルスルホニルオキシ基、フェニル基
   ［該基はハロゲン原子で置換されてもよい］又はフェノ
   キシ基［該基はハロゲン原子で置換されてもよい］を示
   す。又、２つのＲ^９を合わせて５から６員環を形成して
   もよい。Ｒ^１０は水素原子または炭素数１から４のアル
   キル基を示し、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３は各々独立し
   て水素原子、シアノ基、炭素数１から６のアルキル基、
   炭素数１から４のハロアルキル基、炭素数２から１０の
   アルコキシアルキル基、炭素数３から８のアルコキシア
   ルコキシアルキル基、炭素数２から６のアルキルチオア
   ルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数２か
   ら４のアルキニル基、炭素数１から４のシアノアルキル
   基、ベンジル基［該基はハロゲン原子、炭素数１から４
   のハロアルキル基又は炭素数１から４のアルキル基で置
   換されてもよい］、基−ＣＯＲ^１４、基−ＣＳＲ^１４、
   基−ＣＯＯＲ^１５、基−ＣＯＳＲ^１５、基−ＣＯＮ（Ｒ
   ^１６）Ｒ^１７、基−ＣＳＮ（Ｒ^１６）Ｒ^１７、基−ＳＮ
   （Ｒ^１８）Ｒ^１９、基−ＳＯ_２Ｒ^２０又は基−Ｃ（Ｒ
   ^２１）＝ＣＨＲ^２２を示す。又、Ｒ^１２及びＲ^１３は一
   緒になって基＝ＣＲ^２３Ｒ^２４を形成、又はＲ^１２及び
   Ｒ１３はこれらの結合した窒素原子と合わせてひとつ又
   はそれ以上のヘテロ原子を有する４から８員環を形成し
   てもよい。Ｒ^１４は水素原子、炭素数１から２０のアル
   キル基、炭素数１から８のハロアルキル基、炭素数２か
   ら１２のアルコキシアルキル基、炭素数２から１０のハ
   ロアルコキシアルキル基、炭素数３から１６のアルコキ
   シアルコキシアルキル基、炭素数４から２２のアルコキ
   シアルコキシアルコキシアルキル基、炭素数３から６の
   シクロアルキル基、炭素数１から６のヒドロキシアルキ
   ル基、炭素数１から６のアミノアルキル基、炭素数１か
   ら６のアミドアルキル基、炭素数１から８のシアノアル
   キル基、炭素数３から１２のアルコキシカルボニルアル
   キル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭素数２から
   ４のアルキニル基、フェニル基［該基はハロゲン原子、
   ニトロ基、炭素数１から４のアルキル基、炭素数１から
   ４のハロアルキル基、フェノキシ基又は炭素数１から４
   のアルコキシ基で置換されてもよい］、ナフチル基［該
   基はハロゲン原子、炭素数１から４のアルキル基で置換
   されてもよい］又はヘテロ芳香環基［該基はハロゲン原
   子、炭素数１から４のアルキル基で置換されてもよい］
   を示し、Ｒ^１５は炭素数１から２０のアルキル基、炭素
   数２から８のハロアルキル基、炭素数２から１２のアル
   コキシアルキル基、炭素数２から６のアルケニル基、炭
   素数２から４のアルキニル基、ベンジル基［該基はハロ
   ゲン原子、炭素数１から４のアルコキシ基又は炭素数１
   から４のアルキル基で置換されてもよい］又はフェニル
   基［該基はハロゲン原子で置換されてもよい］を示し、
   Ｒ^１６は水素原子又は炭素数１から４のアルキル基を示
   し、Ｒ^１７は水素原子、炭素数１から６のアルキル基又
   はフェニル基［該基はハロゲン原子、炭素数１から４の
   ハロアルコキシ基又は炭素数１から４のアルキル基で置
   換されてもよい）を示し、Ｒ^１８及びＲ^１９は各々独立
   して炭素数１から４のアルキル基（該基は炭素数１から
   ４のアルコキシカルボニル基で置換されてもよい］、炭
   素数２から５のアルコキシアルキル基を示す。又、Ｒ
   ^１８及びＲ^１９はこれらの結合した窒素原子と合わせて
   ５から６員環を形成してもよい。Ｒ^２０は炭素数１から
   ４のアルキル基、炭素数１から４のハロアルキル基又は
   炭素数２から４のジアルキルアミノ基を示し、Ｒ^２１は
   水素原子又は炭素数１から６のアルキル基を示し、Ｒ
   ^２２は炭素数２から４のアルカノイル基又は炭素数２か
   ら６のアルコキシカルボニル基を示し、Ｒ^２３及びＲ
   ^２４は各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数
   １から６のアルキル基又は基−Ｎ（Ｒ^２５）Ｒ^２６を示
   し、Ｒ^２５及びＲ^２６は各々独立して、水素原子、炭素
   数１から４のアルキル基、炭素数１から４のアルコキシ
   基、炭素数２から１２のアルコキシアルキル基又は基−
   ＳＯ_２Ｒ^２７を示す。又、Ｒ^２５及びＲ^２６はこれらの
   結合した窒素原子と合わせて５から６員環を形成しても
   よい。Ｒ^２７は炭素数１から８のアルキル基又はフェニ
   ル基［該基はハロゲン原子又は炭素数１から４のアルキ
   ル基で置換されてもよい］を示し、Ｑ^１及びＱ^２は窒素
   原子又は基−ＣＲ^９を示し、ｍは１又は２〜３の整数を
   示し、ｎは０、１又は２を示す。｝にて表されるベンジ
   ルスルフィド誘導体及びその塩。
2. 【請求項２】一般式［ＩＩ］、 【化３】 ｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、及びｎは請求項１に
   記載と同じ意味を示し、Ｂは式［Ｂ１］または式［Ｂ
   ２］ 【化４】 で表されるアラルキル基又はアリールカルボニル基を示
   し、Ｒ^９、Ｒ^１０、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は請求項１に記載
   と同じ意味を示し、Ｒ^２８はハロゲン原子又はヒドロキ
   シル基を示す。｝にて表されるベンジルスルフィド誘導
   体。
3. 【請求項３】一般式［ＩＩＩ］、 【化５】 ｛式中、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ^１３、ｍ、Ｑ^１及びＱ
   ^２は請求項１に記載と同じ意味を示し、Ｒ^２及びＲ^３は
   各々独立して水素原子又は炭素数１から４のアルキル基
   を示し、Ｒ^２９はハロゲン原子、メルカプト基またはヒ
   ドロキシル基を示す。｝にて表されるベンゾフェノンヒ
   ドラゾン誘導体。
4. 【請求項４】一般式［ＩＶ］、 【化６】 ｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、ｍ、ｎ、Ｑ^１
   及びＱ^２は請求項１に記載と同じ意味を示す。｝で示さ
   れる化合物と一般式［Ｖ１］、 【化７】 ｛式中、Ｒ^１２及びＲ^１３は請求項１に記載と同じ意味
   を示す。｝で示される化合物とを反応させることを特徴
   とする請求項１記載のＡが式［Ａ２］であるベンジルス
   ルフィド誘導体の製造法。
5. 【請求項５】一般式［ＩＩＩ］、 【化８】 ｛式中、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ
   ^２９、ｍ、Ｑ^１及びＱ^２は請求項３に記載と同じ意味を
   示す。｝で示される化合物と一般式［Ｖ２］、 【化９】Ｚ−Ｒ^１ ［Ｖ２］ ｛式中、Ｚは、Ｒ^２９がメルカプト基の時はハロゲン原
   子、炭素数１〜４のアルキルスルホニルオキシ基又はベ
   ンゼンスルホニルオキシ基［該基はメチル基で置換され
   てもよい。］を示し、Ｒ^２９がハロゲン原子の時は基−
   Ｓ（Ｏ）ｎＭを示し、Ｒ^２９がヒドロキシル基の時は基
   −ＳＳＲ^１を示す。Ｒ^１は炭素数１から６のアルキル
   基、炭素数１から４のシアノアルキル基、炭素数３から
   ６のシクロアルキル基、炭素数１から６のハロアルキル
   基、炭素数２から４のアルケニル基又はベンジル基（該
   基はハロゲン原子で置換されてもよい）を示し、Ｍはア
   ルカリ金属を示し、ｎは０又は２を示す。｝で示される
   化合物とを反応させることを特徴とする請求項１記載の
   Ａが式［Ａ２］であるベンジルスルフィド誘導体の製造
   法。
6. 【請求項６】一般式［ＶＩ］、 【化１０】 ｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^９、Ｒ^１０、ｍ、
   ｎ，Ｑ^１及びＱ^２は請求項１に記載と同じ意味を示し、
   Ｒ^２８はハロゲン原子を示す。｝で示される化合物と一
   般式［Ｖ１］、 【化１１】 ｛式中、Ｒ^１２及びＲ^１３は請求項１に記載と同じ意味
   を示す。｝で示される化合物とを反応させることを特徴
   とする請求項１記載のＡが式［Ａ１］であるベンジルス
   ルフィド誘導体の製造法。
7. 【請求項７】請求項１記載のベンジルスルフィド誘導体
   を有効成分として含有する有害生物防除剤。