JPH09304875A - Heat developable photosensitive material - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 42
- -1 silver halide Chemical class 0.000 claims abstract description 157
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 90
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 90
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 46
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 18
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 13
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 83
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 47
- 125000003277 amino group Chemical class 0.000 claims description 29
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 25
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 21
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 claims description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 15
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 claims description 14
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 claims description 12
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 claims description 11
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 claims description 10
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 10
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 10
- PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid amide group Chemical group P(N)(O)(O)=O PTMHPRAIXMAOOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 claims description 9
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 claims description 6
- 125000002349 hydroxyamino group Chemical group [H]ON([H])[*] 0.000 claims description 4
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 abstract description 37
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 abstract description 12
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 abstract description 9
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 abstract description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 abstract description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N phosphoric acid Substances OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 description 61
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 49
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 47
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 30
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 30
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 19
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000011161 development Methods 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 17
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 17
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 17
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 16
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 16
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 15
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 12
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 11
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 11
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 10
- PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N tellurium atom Chemical compound [Te] PORWMNRCUJJQNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 9
- 125000000717 hydrazino group Chemical group [H]N([*])N([H])[H] 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 8
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 8
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 8
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 7
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 6
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 6
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 6
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 6
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 6
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 6
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 6
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 230000005070 ripening Effects 0.000 description 6
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 6
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 6
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 6
- 150000004772 tellurides Chemical class 0.000 description 6
- URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N triacetin Chemical compound CC(=O)OCC(OC(C)=O)COC(C)=O URAYPUMNDPQOKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N Glucosereductone Chemical compound O=CC(O)C=O NVXLIZQNSVLKPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 5
- DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M merocyanine Chemical compound [Na+].O=C1N(CCCC)C(=O)N(CCCC)C(=O)C1=C\C=C\C=C/1N(CCCS([O-])(=O)=O)C2=CC=CC=C2O\1 DZVCFNFOPIZQKX-LTHRDKTGSA-M 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 5
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 5
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 5
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 5
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 5
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 4
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 4
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 4
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 4
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical class C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 4
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium group Chemical group [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 125000004149 thio group Chemical group *S* 0.000 description 4
- 125000002813 thiocarbonyl group Chemical group *C(*)=S 0.000 description 4
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 2-azaniumyl-2-(4-fluorophenyl)acetate Chemical compound OC(=O)C(N)C1=CC=C(F)C=C1 JKFYKCYQEWQPTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 4-methylphthalic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 CWJJAFQCTXFSTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 3
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical compound CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 3
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021612 Silver iodide Inorganic materials 0.000 description 3
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004423 acyloxy group Chemical group 0.000 description 3
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 3
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Chemical class N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 125000005521 carbonamide group Chemical group 0.000 description 3
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 3
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 3
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 3
- 239000001087 glyceryl triacetate Substances 0.000 description 3
- 235000013773 glyceryl triacetate Nutrition 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N phthalazin-1(2H)-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)NN=CC2=C1 IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 3
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 3
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 3
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229940045105 silver iodide Drugs 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 3
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 3
- VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N thiadiazole Chemical compound C1=CSN=N1.C1=CSN=N1 VLLMWSRANPNYQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- 229960002622 triacetin Drugs 0.000 description 3
- XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 1,2-dihydropyrazol-3-one Chemical compound OC=1C=CNN=1 XBYRMPXUBGMOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical compound C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 1h-1,2,4-triazol-1-ium-3-thiolate Chemical compound SC=1N=CNN=1 AFBBKYQYNPNMAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 1h-quinazolin-2-one Chemical compound C1=CC=CC2=NC(O)=NC=C21 AVRPFRMDMNDIDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SULYEHHGGXARJS-UHFFFAOYSA-N 2',4'-dihydroxyacetophenone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O SULYEHHGGXARJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical class C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1O MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006290 2-hydroxybenzyl group Chemical group [H]OC1=C(C([H])=C([H])C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 VSKJLJHPAFKHBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 3-hydroxypropyl prop-2-enoate Chemical compound OCCCOC(=O)C=C QZPSOSOOLFHYRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical compound C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLBQXWXKPNIVSQ-UHFFFAOYSA-N 4-nitrophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1C(O)=O SLBQXWXKPNIVSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 4H-1,2,4-triazole Chemical class C=1N=CNN=1 NSPMIYGKQJPBQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound CC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 2
- JZFICWYCTCCINF-UHFFFAOYSA-N Thiadiazin Chemical compound S=C1SC(C)NC(C)N1CCN1C(=S)SC(C)NC1C JZFICWYCTCCINF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 2
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 2
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical class C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 2
- 125000002619 bicyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 2
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000006870 function Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N icosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O VKOBVWXKNCXXDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000001841 imino group Chemical group [H]N=* 0.000 description 2
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N phencyclidine Chemical compound C1CCCCN1C1(C=2C=CC=CC=2)CCCCC1 JTJMJGYZQZDUJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 150000003021 phthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 2
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 2
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000002943 quinolinyl group Chemical group N1=C(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N semicarbazide group Chemical group NNC(=O)N DUIOPKIIICUYRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M silver;octadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 2
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000475 sulfinyl group Chemical group [*:2]S([*:1])=O 0.000 description 2
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 150000003498 tellurium compounds Chemical class 0.000 description 2
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N thioglycolic acid Chemical compound OC(=O)CS CWERGRDVMFNCDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N thiosemicarbazide group Chemical group NNC(=S)N BRWIZMBXBAOCCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea group Chemical group NC(=S)N UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 description 2
- TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N (1,10,13-trimethyl-3-oxo-4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydrocyclopenta[a]phenanthren-17-yl) heptanoate Chemical class C1CC2CC(=O)C=C(C)C2(C)C2C1C1CCC(OC(=O)CCCCCC)C1(C)CC2 TXUICONDJPYNPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUHDZBHELIKKKH-UHFFFAOYSA-N (2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)-diphenyl-selanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1P(=[Se])(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZUHDZBHELIKKKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002818 (Hydroxyethyl)methacrylate Polymers 0.000 description 1
- PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N (S)-(-)-1,1'-Bi-2-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(C3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 PPTXVXKCQZKFBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 1,3,4-thiadiazolidine-2,5-dithione Chemical compound S=C1NNC(=S)S1 BIGYLAKFCGVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoselenazole Chemical compound C1=CC=C2[se]C=NC2=C1 AIGNCQCMONAWOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound SC1=NC=CN1 OXFSTTJBVAAALW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005207 1,3-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 1,3-indandione Chemical class C1=CC=C2C(=O)CC(=O)C2=C1 UHKAJLSKXBADFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 1,3-selenazole Chemical compound C1=C[se]C=N1 ODIRBFFBCSTPTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSINTYZGAWHRBE-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-4,5-dione Chemical class O=C1SC=NC1=O RSINTYZGAWHRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDWVOYRAWVKGHA-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSC=N1 ZDWVOYRAWVKGHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine-2,4-dione Chemical compound O=C1CSC(=O)N1 ZOBPZXTWZATXDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dihydropyridine Chemical compound C1C=CNC=C1 YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOSDBXAKEXJUBU-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydro-[1,2,4]triazolo[1,2-a][1,2,4]triazole Chemical compound C1N=CN2CN=CN21 BOSDBXAKEXJUBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCOVESIAFFGEOR-UHFFFAOYSA-N 1-chlorophthalazine Chemical compound C1=CC=C2C(Cl)=NN=CC2=C1 UCOVESIAFFGEOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDPWHFLTRDUOHM-UHFFFAOYSA-N 1-naphthalen-1-ylphthalazine Chemical compound C1=CC=C2C(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=NN=CC2=C1 HDPWHFLTRDUOHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound O=C1NC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 WFYLHMAYBQLBEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Chemical class C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USYCQABRSUEURP-UHFFFAOYSA-N 1h-benzo[f]benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2C=C(NC=N3)C3=CC2=C1 USYCQABRSUEURP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 1h-pyrimidine-2,4-dithione Chemical compound S=C1C=CNC(=S)N1 ZEQIWKHCJWRNTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 1h-quinoline-2-thione Chemical compound C1=CC=CC2=NC(S)=CC=C21 KXZSVYHFYHTNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,2-thiazole Chemical compound C1NSC=C1 YTQQIHUQLOZOJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZQQXRVPPOOCQR-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydro-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1NN=CO1 RZQQXRVPPOOCQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEIZZTOCUDUQNV-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydrophthalazine Chemical compound C1=CC=CC2=CNNC=C21 SEIZZTOCUDUQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZYDKJOUEPFKMW-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxybenzenesulfonic acid Chemical compound OC1=CC=CC(S(O)(=O)=O)=C1O VZYDKJOUEPFKMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 2,5-dihydroxy-5-methyl-3-(piperidin-1-ylamino)cyclopent-2-en-1-one Chemical compound O=C1C(C)(O)CC(NN2CCCCC2)=C1O ZKEGGSPWBGCPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAQJMLQRFWZOBN-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dihydroxy-5-oxo-2,5-dihydrofuran-2-yl)-2-hydroxyethyl hexadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)C1OC(=O)C(O)=C1O QAQJMLQRFWZOBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NREKJIIPVVKRNO-UHFFFAOYSA-N 2-(tribromomethylsulfonyl)-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br)=NC2=C1 NREKJIIPVVKRNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSQZJBAYJAPBKJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(dimethylamino)methyl]benzo[f]isoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C=C(C(N(CN(C)C)C3=O)=O)C3=CC2=C1 RSQZJBAYJAPBKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3,5,5-trimethylhexyl]-4,6-dimethylphenol Chemical compound C=1C(C)=CC(C)=C(O)C=1C(CC(C)CC(C)(C)C)C1=CC(C)=CC(C)=C1O RPWDFMGIRPZGTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004182 2-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(Cl)=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(N(O)C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 2-mercapto-1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 FLFWJIBUZQARMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCAGFVLGBKOYBM-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-(tribromomethylsulfonyl)-3h-thiadiazole Chemical compound CN1NC=C(S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br)S1 DCAGFVLGBKOYBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEYDGUUYUAMPNZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1h-triazine Chemical compound N1C(C(Cl)(Cl)Cl)=CC(C(Cl)(Cl)Cl)=NN1C1=CC=CC=C1 OEYDGUUYUAMPNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCNKFUNWPYDBQX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanyl-3h-thiadiazol-5-amine Chemical compound NC1=CNN(S)S1 SCNKFUNWPYDBQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUPFOFVEHDNUJU-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-1h-quinazolin-4-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(S)=NC2=C1 PUPFOFVEHDNUJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylideneimidazolidin-4-one Chemical class O=C1CNC(=S)N1 UGWULZWUXSCWPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbisphenol A Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6-tetrachlorophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1C(O)=O WZHHYIOUKQNLQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKRDSDDYNMVKCX-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylpyrazole-1-carboxamide Chemical compound CC=1C=C(C)N(C(N)=O)N=1 AKRDSDDYNMVKCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLRGXXKFHVJQOL-UHFFFAOYSA-N 3-chloropentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(Cl)C(C)=O VLRGXXKFHVJQOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZUVGRMMRWJVKU-UHFFFAOYSA-N 3-ethoxycarbonylbut-3-enoic acid Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CC(O)=O IZUVGRMMRWJVKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAVKJJWZLWPSMK-UHFFFAOYSA-N 3-ethyl-1h-benzimidazole-2-thione Chemical compound C1=CC=C2NC(=S)N(CC)C2=C1 UAVKJJWZLWPSMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 3-methoxy-1-butanol Chemical compound COC(C)CCO JSGVZVOGOQILFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropan-1-ol Chemical compound COCCCO JDFDHBSESGTDAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMHVHKFKFDBCTE-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-benzoxazole-2-thione;silver Chemical compound [Ag].C1=CC=C2OC(S)=NC2=C1 AMHVHKFKFDBCTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQVCPKISCKMOQ-UHFFFAOYSA-N 3h-benzo[f][1,2]benzoxazine Chemical class C1=CC=CC2=C(C=CNO3)C3=CC=C21 QEQVCPKISCKMOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 4,5,6,7-tetrahydro-1,3-benzothiazole-2,6-diamine;dihydrochloride Chemical class Cl.Cl.C1C(N)CCC2=C1SC(N)=N2 RYYXDZDBXNUPOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WEDKTMOIKOKBSH-UHFFFAOYSA-N 4,5-dihydrothiadiazole Chemical compound C1CN=NS1 WEDKTMOIKOKBSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMTAWLUJHGIUPU-UHFFFAOYSA-N 4,5-diphenyl-1,3-dihydroimidazole-2-thione Chemical compound N1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 GMTAWLUJHGIUPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAWOHUJKPKOMD-UHFFFAOYSA-N 4,6-diamino-1h-pyrimidine-2-thione Chemical compound NC1=CC(N)=NC(S)=N1 QCAWOHUJKPKOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FKYNOIQBWUANOM-UHFFFAOYSA-N 4-[(dimethylamino)methyl]isoindole-1,3-dione Chemical compound CN(C)CC1=CC=CC2=C1C(=O)NC2=O FKYNOIQBWUANOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YARKTHNUMGKMGS-UHFFFAOYSA-N 4-[[(4-hydroxy-3,5-dimethoxyphenyl)methylidenehydrazinylidene]methyl]-2,6-dimethoxyphenol Chemical compound COc1cc(C=NN=Cc2cc(OC)c(O)c(OC)c2)cc(OC)c1O YARKTHNUMGKMGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004801 4-cyanophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(C#N)=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- MLCZOHLVCQVKPI-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2h-benzotriazole;silver Chemical compound [Ag].CC1=CC=CC2=C1N=NN2 MLCZOHLVCQVKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YJDBSVXTFRQNAC-UHFFFAOYSA-N 4-methylpyrimidine;hydrochloride Chemical compound Cl.CC1=CC=NC=N1 YJDBSVXTFRQNAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXFRSVCWEHBKQT-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-1-yl-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)NN=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 KXFRSVCWEHBKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PUGUFBAPNSPHHY-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-1h-1,2,4-triazole-5-thione Chemical class SC1=NN=CN1C1=CC=CC=C1 PUGUFBAPNSPHHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADWVAVYROMEPCK-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-3h-1,3-oxazole-2-thione Chemical compound O1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=C1 ADWVAVYROMEPCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFIUCOKDVARZGF-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxy-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C1=NNC(=O)C2=CC(OC)=CC(OC)=C21 CFIUCOKDVARZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCWOGOMMXQGTDA-UHFFFAOYSA-N 5,7-dimethoxyphthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC(OC)=CC(OC)=C21 JCWOGOMMXQGTDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WZUUZPAYWFIBDF-UHFFFAOYSA-N 5-amino-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound NC1=NNC(S)=N1 WZUUZPAYWFIBDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 5-amino-3h-1,3,4-thiadiazole-2-thione Chemical compound NC1=NN=C(S)S1 GDGIVSREGUOIJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFQMMWNCTDMSBG-UHFFFAOYSA-N 5-chloro-2h-benzotriazole;silver Chemical compound [Ag].ClC1=CC=C2NN=NC2=C1 AFQMMWNCTDMSBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRLMMJNORORYPO-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-1,2-dihydro-1,2,4-triazole-3-thione Chemical compound N1C(S)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 JRLMMJNORORYPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWYGMIYEADAIGW-UHFFFAOYSA-N 6-amino-2-sulfanylidene-1h-pyrimidin-4-one;hydrate Chemical compound O.NC1=CC(=O)NC(=S)N1 BWYGMIYEADAIGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSPYSWLZOPCOLO-UHFFFAOYSA-N 6-azauracil Chemical compound O=C1C=NNC(=O)N1 SSPYSWLZOPCOLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDECIMXTYLBMFQ-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2h-phthalazin-1-one Chemical compound C1=NNC(=O)C=2C1=CC(Cl)=CC=2 XDECIMXTYLBMFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOASVNMVYBSLSU-UHFFFAOYSA-N 6-ethoxy-3h-1,3-benzothiazole-2-thione Chemical compound CCOC1=CC=C2N=C(S)SC2=C1 HOASVNMVYBSLSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBAMYDGWXQMALO-UHFFFAOYSA-N 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione Chemical compound O1C(=O)NC(=O)C2=CC([N+](=O)[O-])=CC=C21 SBAMYDGWXQMALO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VABISHCLVYMGAU-UHFFFAOYSA-N 7,9-dihydropurine-8-thione Chemical compound N1=CN=C2NC(S)=NC2=C1 VABISHCLVYMGAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBWDEWRMEKXOFI-UHFFFAOYSA-N 7-(trifluoromethyl)-1h-quinoline-4-thione Chemical compound SC1=CC=NC2=CC(C(F)(F)F)=CC=C21 DBWDEWRMEKXOFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFRDROUPIRHZFD-UHFFFAOYSA-N 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione Chemical compound O1C(=O)NC(=O)C2=C1C(C)=CC=C2 GFRDROUPIRHZFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000215068 Acacia senegal Species 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N Angelic acid Natural products CC=C(C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LITUBCVUXPBCGA-WMZHIEFXSA-N Ascorbyl stearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O LITUBCVUXPBCGA-WMZHIEFXSA-N 0.000 description 1
- 239000004261 Ascorbyl stearate Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- BKGOEKOJWMSNRX-UHFFFAOYSA-L C(C1(C)C(C)(C)C(C(=O)[O-])CC1)(=O)[O-].[Ag+2] Chemical compound C(C1(C)C(C)(C)C(C(=O)[O-])CC1)(=O)[O-].[Ag+2] BKGOEKOJWMSNRX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GJSIHEMRZHUVDA-UHFFFAOYSA-N C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1.C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1.C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 GJSIHEMRZHUVDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical group O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011786 L-ascorbyl-6-palmitate Substances 0.000 description 1
- 235000000072 L-ascorbyl-6-palmitate Nutrition 0.000 description 1
- OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N Linoleic acid Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O OYHQOLUKZRVURQ-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- SPAGIJMPHSUYSE-UHFFFAOYSA-N Magnesium peroxide Chemical compound [Mg+2].[O-][O-] SPAGIJMPHSUYSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N N,N'-diethylethylenediamine Chemical compound CCNCCNCC CJKRXEBLWJVYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007945 N-acyl ureas Chemical group 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000020 Nitrocellulose Substances 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920002319 Poly(methyl acrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 229910021626 Tin(II) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N Trifluoroethanol Chemical compound OCC(F)(F)F RHQDFWAXVIIEBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N Uracil Chemical compound O=C1C=CNC(=O)N1 ISAKRJDGNUQOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N [(2s,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-dinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-trinitrooxy-2-(nitrooxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-3-yl]oxy-3,5-dinitrooxy-6-(nitrooxymethyl)oxan-4-yl] nitrate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O1)O[N+]([O-])=O)CO[N+](=O)[O-])[C@@H]1[C@@H](CO[N+]([O-])=O)O[C@@H](O[N+]([O-])=O)[C@H](O[N+]([O-])=O)[C@H]1O[N+]([O-])=O FJWGYAHXMCUOOM-QHOUIDNNSA-N 0.000 description 1
- VXJUUVKQTUQXIB-UHFFFAOYSA-N [Ag+2].[C-]#[C-] Chemical class [Ag+2].[C-]#[C-] VXJUUVKQTUQXIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXFDPVZHNNCRKT-TYYBGVCCSA-L [Ag+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O Chemical compound [Ag+2].[O-]C(=O)\C=C\C([O-])=O JXFDPVZHNNCRKT-TYYBGVCCSA-L 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N [Au]=S Chemical compound [Au]=S XEIPQVVAVOUIOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWEGYAQDWBZXMX-UHFFFAOYSA-N [Au]=[Se] Chemical compound [Au]=[Se] KWEGYAQDWBZXMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LELDAEVDVCNEGF-UHFFFAOYSA-N [Fe]C#N Chemical compound [Fe]C#N LELDAEVDVCNEGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVJMTMRFKLJYEC-UHFFFAOYSA-N [amino(sulfanyl)methylidene]azanium;2,2,2-trifluoroacetate Chemical compound NC(S)=[NH2+].[O-]C(=O)C(F)(F)F UVJMTMRFKLJYEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004202 aminomethyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 235000019276 ascorbyl stearate Nutrition 0.000 description 1
- 125000000656 azaniumyl group Chemical group [H][N+]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 238000007611 bar coating method Methods 0.000 description 1
- 150000007656 barbituric acids Chemical class 0.000 description 1
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001864 baryta Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N benzhydroxamic acid Chemical compound ONC(=O)C1=CC=CC=C1 VDEUYMSGMPQMIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N benzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical class C1=CC(C(=O)NC2=O)=C3C2=CC=CC3=C1 XJHABGPPCLHLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CS3)=C3C=CC2=C1 KXNQKOAQSGJCQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N benzo[e][1,3]benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2C(N=CO3)=C3C=CC2=C1 WMUIZUWOEIQJEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000005130 benzoxazines Chemical class 0.000 description 1
- ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N binaphthyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 ZDZHCHYQNPQSGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N borane Chemical class [10BH3] UORVGPXVDQYIDP-BJUDXGSMSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L calcium dibromide Chemical compound [Ca+2].[Br-].[Br-] WGEFECGEFUFIQW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- OAYRYNVEFFWSHK-UHFFFAOYSA-N carsalam Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)NC(=O)C2=C1 OAYRYNVEFFWSHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 150000004700 cobalt complex Chemical class 0.000 description 1
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000007771 core particle Substances 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N cytosine Chemical compound NC=1C=CNC(=O)N=1 OPTASPLRGRRNAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010612 desalination reaction Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- DOVUCQDMJHKBFO-UHFFFAOYSA-N diethyl 2,6-dimethoxy-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylate Chemical class CCOC(=O)C1=C(OC)NC(OC)=C(C(=O)OCC)C1 DOVUCQDMJHKBFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001028 difluoromethyl group Chemical group [H]C(F)(F)* 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- KCIDZIIHRGYJAE-YGFYJFDDSA-L dipotassium;[(2r,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl] phosphate Chemical compound [K+].[K+].OC[C@H]1O[C@H](OP([O-])([O-])=O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H]1O KCIDZIIHRGYJAE-YGFYJFDDSA-L 0.000 description 1
- ZUVOYUDQAUHLLG-OLXYHTOASA-L disilver;(2r,3r)-2,3-dihydroxybutanedioate Chemical compound [Ag+].[Ag+].[O-]C(=O)[C@H](O)[C@@H](O)C([O-])=O ZUVOYUDQAUHLLG-OLXYHTOASA-L 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N edaravone Chemical compound O=C1CC(C)=NN1C1=CC=CC=C1 QELUYTUMUWHWMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- ZEUUVJSRINKECZ-UHFFFAOYSA-N ethanedithioic acid Chemical compound CC(S)=S ZEUUVJSRINKECZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N ethionamide Chemical compound CCC1=CC(C(N)=S)=CC=N1 AEOCXXJPGCBFJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLVFCYRZVOKCDP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-2-(2-methylphenyl)acetate Chemical compound CCOC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1C CLVFCYRZVOKCDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- SXIRJEDGTAKGKU-UHFFFAOYSA-N ethyl phenylcyanoacetate Chemical compound CCOC(=O)C(C#N)C1=CC=CC=C1 SXIRJEDGTAKGKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 238000005189 flocculation Methods 0.000 description 1
- 230000016615 flocculation Effects 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229920002313 fluoropolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004811 fluoropolymer Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000002390 heteroarenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 1
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 1
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002402 hexoses Chemical class 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 150000002473 indoazoles Chemical class 0.000 description 1
- 208000015181 infectious disease Diseases 0.000 description 1
- 230000002458 infectious effect Effects 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940079865 intestinal antiinfectives imidazole derivative Drugs 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002504 iridium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002506 iron compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000002183 isoquinolinyl group Chemical group C1(=NC=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 229940049918 linoleate Drugs 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N malononitrile Chemical compound N#CCC#N CUONGYYJJVDODC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002730 mercury Chemical class 0.000 description 1
- WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N methanedithioic acid Chemical compound SC=S WREDNSAXDZCLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical group CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- SURZCVYFPAXNGN-UHFFFAOYSA-N methyl-carbamic acid ethyl ester Chemical group CCOC(=O)NC SURZCVYFPAXNGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 239000003094 microcapsule Substances 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- ZHFBNFIXRMDULI-UHFFFAOYSA-N n,n-bis(2-ethoxyethyl)hydroxylamine Chemical compound CCOCCN(O)CCOCC ZHFBNFIXRMDULI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPGGNTDTBCRPCE-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-yl)-2-hydroxybutanamide Chemical compound C1=CC=C2SC(NC(=O)C(O)CC)=NC2=C1 WPGGNTDTBCRPCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHZPMLXZOSFAKY-UHFFFAOYSA-N n-(4-hydroxyphenyl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 WHZPMLXZOSFAKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJFEONZAZSPSG-UHFFFAOYSA-N n-amino-n-(4-methylphenyl)formamide Chemical compound CC1=CC=C(N(N)C=O)C=C1 BWJFEONZAZSPSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N n-methylidenehydroxylamine Chemical compound ON=C SQDFHQJTAWCFIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005615 natural polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229920001220 nitrocellulos Polymers 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000012149 noodles Nutrition 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001475 oxazolidinediones Chemical class 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N pentan-1-amine Chemical group CCCCCN DPBLXKKOBLCELK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L persulfate group Chemical group S(=O)(=O)([O-])OOS(=O)(=O)[O-] JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFBAXHOPROOJAW-UHFFFAOYSA-N phenindione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C1C1=CC=CC=C1 NFBAXHOPROOJAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 229960005323 phenoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- 229940067157 phenylhydrazine Drugs 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- YSZIOXAEADAJLX-UHFFFAOYSA-N phthalazine-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N=NC(=O)C2=C1 YSZIOXAEADAJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000233 poly(alkylene oxides) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Chemical class 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 125000006308 propyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical compound SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N pyrroline Natural products C1CC=NC1 ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEIQICVPDMCDHG-UHFFFAOYSA-N pyrrolo[2,3-d]triazole Chemical class N1=NC2=CC=NC2=N1 QEIQICVPDMCDHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N quinazoline Chemical compound N1=CN=CC2=CC=CC=C21 JWVCLYRUEFBMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008515 quinazolinediones Chemical class 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N rhodanine Chemical class O=C1CSC(=S)N1 KIWUVOGUEXMXSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K rhodium(3+);tribromide Chemical compound [Br-].[Br-].[Br-].[Rh+3] MMRXYMKDBFSWJR-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N rhodium(3+);trinitrate Chemical compound [Rh+3].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O VXNYVYJABGOSBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000010420 shell particle Substances 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- IZXSLAZMYLIILP-ODZAUARKSA-M silver (Z)-4-hydroxy-4-oxobut-2-enoate Chemical compound [Ag+].OC(=O)\C=C/C([O-])=O IZXSLAZMYLIILP-ODZAUARKSA-M 0.000 description 1
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M silver;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- JLGNJRRXZNEIFK-UHFFFAOYSA-N silver;1h-triazine-6-thione Chemical compound [Ag].S=C1C=CN=NN1 JLGNJRRXZNEIFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKOCEVIXVMBKJA-UHFFFAOYSA-M silver;butanoate Chemical compound [Ag+].CCCC([O-])=O JKOCEVIXVMBKJA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M silver;dodecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M silver;hexadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M silver;tetradecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCC([O-])=O OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;sulfidosulfonylbenzene Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=S)C1=CC=CC=C1 BZHOWMPPNDKQSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000010129 solution processing Methods 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000001119 stannous chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 125000006337 tetrafluoro ethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001391 thioamide group Chemical group 0.000 description 1
- ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N thiouracil Chemical compound O=C1C=CNC(=S)N1 ZEMGGZBWXRYJHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000329 thiouracil Drugs 0.000 description 1
- FYOWZTWVYZOZSI-UHFFFAOYSA-N thiourea dioxide Chemical class NC(=N)S(O)=O FYOWZTWVYZOZSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N tiglic acid Chemical compound C\C=C(/C)C(O)=O UIERETOOQGIECD-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- OTOHACXAQUCHJO-UHFFFAOYSA-H tripotassium;hexachlororhodium(3-) Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Cl-].[K+].[K+].[K+].[Rh+3] OTOHACXAQUCHJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000001018 xanthene dye Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は熱現像感光材料に関
するものであり、特に、超硬調で、かつ、画像が拡大が
小さく、現像条件安定性に優れた画像を提供できる印刷
製版用に適した熱現像超硬調感光材料に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photothermographic material, and more particularly, it is suitable for a printing plate making which can provide an image having super-high contrast, small image enlargement and excellent stability under developing conditions. The present invention relates to a heat-development ultrahigh contrast photosensitive material.
【0002】[0002]
【従来の技術】印刷分野においては、網点画像による連
続階調の画像の再生あるいは線画像の再生を良好にする
ために、超硬調(特にガンマ10以上)の写真特性を示
す画像形成システムが提供されているが、環境保全、省
スペースの観点から処理廃液の減少が強く望まれてお
り、検討がなされ近年かなりの廃液減少がされてきてい
るが溶液系処理化学薬品使用においては、廃液を全く出
さないことは不可能である。そこで、本分野においても
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムが望まれる。2. Description of the Related Art In the field of printing, an image forming system showing a photographic characteristic of ultra-high contrast (especially gamma of 10 or more) has been developed in order to improve reproduction of continuous tone images or halftone images by halftone dot images. Although it is provided, it is strongly desired to reduce the treatment waste liquid from the viewpoint of environmental protection and space saving, and it has been studied and the waste liquid has been considerably reduced in recent years. It is impossible not to issue it at all. Therefore, even in this field, there is a demand for a thermal development processing system which eliminates the use of solution processing chemicals and is simpler and does not damage the environment.
【0003】現像工程を熱処理で行う熱現像性感光材料
を用いた画像形成方法が提案されている。例えば、特公
昭43−4924号、特公昭44−6582号、特開昭
46−6074号、特開昭48−97523号、特開平
7−2781号、USP5468603号などに開示さ
れているが、ガンマ(階調)が軟調で印刷製版用に供し
うるものではない。An image forming method using a photothermographic material in which a developing step is performed by heat treatment has been proposed. For example, as disclosed in JP-B-43-4924, JP-B-44-6582, JP-A-46-6074, JP-A-48-97523, JP-A-7-2781, U.S. Pat. (Gradation) is soft and cannot be used for printing plate making.
【0004】印刷分野においては、前述の様に超硬調な
写真特性が望まれ、ヒドラジン誘導体の使用により超硬
調な性能を得ることが例えば、USP5496695号
で提案されている。しかし、ヒドラジン誘導体を用いた
場合に伝染現像により画像が太ってしまう、いわゆる画
像拡大が大きくなり画像再現性が悪くなってしまうこと
があり改良が望まれる。In the printing field, ultra-high contrast photographic characteristics are desired as described above, and it is proposed, for example, in US Pat. No. 5,496,695 to obtain ultra-high contrast performance by using a hydrazine derivative. However, when a hydrazine derivative is used, an image becomes thicker due to infectious development, that is, so-called image enlargement becomes large and image reproducibility is deteriorated, and thus improvement is desired.
【0005】熱現像性感光材料において複素環メルカプ
ト化合物を超増感剤として用いることは、例えば、特公
昭63−35008号の一般式(I)および一般式(I
I)、特開平5−341432号の(I)および(II)
などに開示されている。The use of a heterocyclic mercapto compound as a supersensitizer in a heat-developable light-sensitive material is disclosed, for example, in the formula (I) and the formula (I) of JP-B-63-35008.
I), (I) and (II) of JP-A-5-341432
And so on.
【0006】また、ヒドラジン誘導体を用いた超硬調性
能を有する熱現像性感光材料に関しては、例えば、US
P5496695号に開示されているヒドラジン誘導体
を用いて超硬調性能が得られるが感度や網点画像の現像
時間や現像温度の変動による変化がヒドラジン誘導体を
用いない場合に較べ大きくなり現像条件の変動に伴う性
能変動が大きくなってしまう。本号において超増感剤と
してAr−S−M、Ar−S−S−Arで表わされる複
素環メルカプト化合物を用いることが示されているが、
これらのものでは、性能変動が大きく改良が望まれてい
る。Further, regarding the heat-developable photosensitive material having super-high contrast performance using a hydrazine derivative, for example, US Pat.
Although super-high contrast performance can be obtained by using the hydrazine derivative disclosed in P54969695, changes due to variations in sensitivity and development time of halftone image and development temperature are greater than those when no hydrazine derivative is used, resulting in variation in development conditions. As a result, performance fluctuations increase. Although it is shown in this issue that a heterocyclic mercapto compound represented by Ar-SM or Ar-SS-Ar is used as a supersensitizer,
These products have large performance fluctuations and are desired to be improved.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、超硬調でかつ画像拡大小さいなど安定した画像が得
られる印刷製版用に適した熱現像感光材料を提供するこ
とにある。SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a photothermographic material suitable for printing plate making which can obtain a stable image such as ultra-high contrast and small image enlargement.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的は、下記の本発
明によって達成された。 (1)支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀感光層
を有し、該層および/または隣接する層に有機銀塩を含
有するハロゲン化銀感光材料において、該ハロゲン化銀
感光層および/または隣接する層に、還元剤と、ヒドラ
ジン誘導体と、一般式(1)および一般式(2)で表わ
される化合物の少なくとも1種とを含有することを特徴
とする熱現像感光材料。The above object was achieved by the present invention described below. (1) In a silver halide light-sensitive material having at least one silver halide light-sensitive layer on a support and containing an organic silver salt in the layer and / or an adjacent layer, the silver halide light-sensitive layer and / or Alternatively, a photothermographic material comprising an adjacent layer containing a reducing agent, a hydrazine derivative, and at least one compound represented by the general formula (1) and the general formula (2).
【0009】[0009]
【化3】 Embedded image
【0010】一般式(1)および一般式(2)におい
て、Zは、窒素原子を少なくとも2つ以上含む5員また
は6員の複素芳香族環を完成させるための原子群を表
す。Rは、水素原子、アルキル基、アラルキル基、アル
コキシ基、アルキルもしくはアリール置換アミノ基、ア
ミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン基、
アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバモイル
基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヒ
ドロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、カルボキシ基も
しくはその塩、スルホ基もしくはその塩またはリン酸ア
ミド基を表わす。 (2)支持体上に少なくとも1層のハロゲン化銀感光層
を有し、該層および/または隣接する層に有機銀塩を含
有するハロゲン化銀感光材料において、該ハロゲン化銀
感光層および/または隣接する層に、還元剤と、ヒドラ
ジン誘導体と、一般式(3)で表わされる化合物とを含
有することを特徴とする熱現像感光材料。In the general formulas (1) and (2), Z represents an atomic group for completing a 5- or 6-membered heteroaromatic ring containing at least two nitrogen atoms. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkyl- or aryl-substituted amino group, an amide group, a sulfonamide group, a ureido group, a urethane group,
It represents an aryloxy group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an aryl group, an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, or a phosphoric acid amide group. (2) In a silver halide light-sensitive material having at least one silver halide light-sensitive layer on a support and containing an organic silver salt in the layer and / or an adjacent layer, the silver halide light-sensitive layer and / or Alternatively, a photothermographic material comprising an adjacent layer containing a reducing agent, a hydrazine derivative, and a compound represented by the general formula (3).
【0011】[0011]
【化4】 Embedded image
【0012】一般式(3)において、R1 、R2 、R3
およびR4 は、それぞれ水素原子、ヒドロキシ基、メル
カプト基、ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、ヒドロ
キシカルボニル基、ヒドロキシアミノ基、アルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、アルキルもしくはアリー
ル置換アミノ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイ
ド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スルファモイル
基、カルバモイル基、アリール基、アルキルチオ基、ア
リールチオ基、リン酸アミド基を表わす。R3とR4 を
互いに結合して環を形成してもよい。In the general formula (3), R 1 , R 2 , R 3
And R 4 are each a hydrogen atom, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom, a cyano group, a sulfo group, a hydroxycarbonyl group, a hydroxyamino group, an alkyl group,
Aralkyl group, alkoxy group, alkyl or aryl substituted amino group, amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, aryloxy group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group, alkylthio group, arylthio group, phosphoramide group Represent. R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を詳細
に説明する。Embodiments of the present invention will be described below in detail.
【0014】まず、本発明に用いられる一般式(1)お
よび一般式(2)で表わされる化合物について以下詳細
に説明する。First, the compounds represented by the general formulas (1) and (2) used in the present invention will be described in detail below.
【0015】[0015]
【化5】 Embedded image
【0016】一般式(1)および一般式(2)におい
て、Zは、窒素原子を少なくとも2つ以上含み、炭素、
酸素、硫黄、セレンニウム、テルリウムから選ばれる原
子からなる5員および6員の複素芳香族環を完成させる
ための原子群を表わす。Zは、さらに置換基を有してい
てもよい。Rは、水素原子、アルキル基、アラルキル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルもしく
はアリール置換アミノ基、アミド基、スルホンアミド
基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ基、スル
ファモイル基、カルバモイル基、アリール基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原
子、シアノ基、カルボキシ基もしくはその塩、スルホ基
もしくはその塩、リン酸アミド基などである。これらの
基はさらに置換基を有していてもよい。In the general formulas (1) and (2), Z contains at least two nitrogen atoms, carbon,
It represents an atomic group for completing a 5-membered and 6-membered heteroaromatic ring consisting of atoms selected from oxygen, sulfur, selenium, and tellurium. Z may further have a substituent. R is a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an alkyl- or aryl-substituted amino group, an amide group, a sulfonamide group, a ureido group, a urethane group, an aryloxy group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an aryl group. Groups, alkylthio groups, arylthio groups, hydroxy groups, halogen atoms, cyano groups, carboxy groups or salts thereof, sulfo groups or salts thereof, phosphoric acid amide groups and the like. These groups may further have a substituent.
【0017】一般式(1)および一般式(2)で表わさ
れる化合物について、さらに詳細に説明する。The compounds represented by formulas (1) and (2) will be described in more detail.
【0018】一般式(1)および一般式(2)中、Zが
炭素原子とともに完成させる環は、窒素原子を少なくと
も2つ以上含み、炭素、酸素、硫黄、セレニウム、テル
リウムから選ばれる原子からなる5員および6員の複素
芳香族環である。複素芳香族環の具体例としては、イミ
ダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、
チアジアゾール、チアジアジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジンなどが挙げられる。In the general formulas (1) and (2), the ring which Z completes together with the carbon atom contains at least two nitrogen atoms and is composed of atoms selected from carbon, oxygen, sulfur, selenium and tellurium. It is a 5- and 6-membered heteroaromatic ring. Specific examples of the heteroaromatic ring include imidazole, pyrazole, triazole, tetrazole,
Examples thereof include thiadiazole, thiadiazine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine and triazine.
【0019】一般式(1)および一般式(2)中、R
は、水素原子、アルキル基(メチル、エチル、プロピ
ル、シクロヘキシル基など)、アラルキル基(ベンジル
基など)、アルコキシ基(メトキシ、エトキシ基な
ど)、アルキルまたはアリール置換アミノ基(ジメチル
アミノ基など)、アミド基(ペンチルアミド基など)、
スルホンアミド基(メチルスルホンアミド基など)、ウ
レイド基、ウレタン基(メチルウレタン基、エチルウレ
タン基など)、アリールオキシ基(フェノキシ、ナフト
キシ基など)、スルファモイル基(スルファモイル基な
ど)、カルバモイル基(エチルカルバモイル基、フェニ
ルカルバモイル基など)、アリール基(フェニル、ナフ
チル基など)、アルキルチオ基(メチルチオ、ヘキシル
チオ基など)、アリールチオ基(フェニルチオ基な
ど)、ヒドロキシ基、ハロゲン原子(フッ素、塩素、臭
素、沃素など)、シアノ基、カルボキシ基(その塩であ
ってもよい)、スルホ基(その塩であってもよい)、リ
ン酸アミド基などである。これらの基はさらに置換基を
有していてもよく、上記のRとして挙げた基などが挙げ
られる。Rの総炭素数は0〜20が好ましい。In the general formulas (1) and (2), R
Is a hydrogen atom, an alkyl group (methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl group, etc.), an aralkyl group (benzyl group, etc.), an alkoxy group (methoxy, ethoxy group, etc.), an alkyl- or aryl-substituted amino group (dimethylamino group, etc.), Amide group (such as pentylamide group),
Sulfonamide group (methyl sulfonamide group, etc.), ureido group, urethane group (methyl urethane group, ethyl urethane group, etc.), aryloxy group (phenoxy, naphthoxy group, etc.), sulfamoyl group (sulfamoyl group, etc.), carbamoyl group (ethyl) Carbamoyl group, phenylcarbamoyl group, etc.), aryl group (phenyl, naphthyl group, etc.), alkylthio group (methylthio, hexylthio group, etc.), arylthio group (phenylthio group, etc.), hydroxy group, halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine) Etc.), cyano group, carboxy group (may be a salt thereof), sulfo group (may be a salt thereof), phosphoric acid amide group and the like. These groups may further have a substituent, and examples thereof include the groups mentioned as R above. The total carbon number of R is preferably 0 to 20.
【0020】以下に一般式(1)および一般式(2)で
表わされる化合物の具体例を示すが本発明はこれに限定
されるものではない。Specific examples of the compounds represented by the general formulas (1) and (2) are shown below, but the invention is not limited thereto.
【0021】[0021]
【表1】 [Table 1]
【0022】本発明の一般式(1)および一般式(2)
の化合物は、水あるいは適当な有機溶媒、例えばアルコ
ール類(メタノール、エタノール、プロパノール、フッ
素化アルコール)、ケトン類(アセトン、メチルエチル
ケトン)、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ド、メチルセルソルブなどに溶解して用いることができ
る。General formula (1) and general formula (2) of the present invention
The compound of (1) is dissolved in water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve, etc. You can
【0023】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散し用いることができる。Further, by a well-known emulsification and dispersion method, oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are used to dissolve and mechanically dissolve them. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, a powder of a hydrazine derivative can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method and used.
【0024】本発明の一般式(1)および一般式(2)
の化合物は、支持体に対してハロゲン化銀乳剤層側の該
ハロゲン化銀乳剤層あるいは他層のどの層に添加しても
よいが、該ハロゲン化銀乳剤層あるいはそれに隣接する
層に添加することが好ましい。General formula (1) and general formula (2) of the present invention
The compound may be added to any of the silver halide emulsion layer or other layers on the silver halide emulsion layer side with respect to the support, but it is added to the silver halide emulsion layer or a layer adjacent thereto. It is preferable.
【0025】本発明の一般式(1)および一般式(2)
の添加量はハロゲン化銀1モル当たり好ましくは、1×
10-4〜5×10-2モル、より好ましくは5×10-4〜
1×10-2モルである。General formula (1) and general formula (2) of the present invention
Is preferably 1 × per mol of silver halide.
10 −4 to 5 × 10 −2 mol, more preferably 5 × 10 −4 to
It is 1 × 10 -2 mol.
【0026】次に一般式(3)のテトラザインデン化合
物(ネーミングして下さい)について説明する。Next, the tetrazaindene compound of the general formula (3) (please name) will be described.
【0027】[0027]
【化6】 [Chemical 6]
【0028】一般式(3)において、R1 〜R4 は、そ
れぞれ水素原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲ
ン原子(フッ素、塩素、臭素、沃素など)、シアノ基、
スルホ基、ヒドロキシカルボニル基、ヒドロキシアミノ
基、アルキル基(メチル、エチル、プロピル、シクロヘ
キシル基など)、アラルキル基(ベンジル基など)、ア
ルコキシ基(メトキシ、エトキシ基など)、アリールオ
キシ基(フェノキシ、ナフトキシ基など)、アルキルま
たはアリール置換アミノ基(ジメチルアミノ基など)、
アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレタン
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基
(フェニル、ナフチル基など)、アルキルチオ基(メチ
ルチオ、ヘキシルチオ基など)、アリールチオ基(フェ
ニルチオ基など)、リン酸アミド基を表わす。これらの
基は、さらに置換基を有していてもよく、上記R1 〜R
4 として挙げた基やアルキルオキシカルボニル基などが
挙げられる。R3 とR4 が特にアルキル基である場合、
これらは互いに結合して環を形成することもできる。In the general formula (3), R 1 to R 4 are each a hydrogen atom, a hydroxy group, a mercapto group, a halogen atom (fluorine, chlorine, bromine, iodine, etc.), a cyano group,
Sulfo group, hydroxycarbonyl group, hydroxyamino group, alkyl group (methyl, ethyl, propyl, cyclohexyl group, etc.), aralkyl group (benzyl group, etc.), alkoxy group (methoxy, ethoxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy, naphthoxy group) Groups), alkyl- or aryl-substituted amino groups (such as dimethylamino groups),
Amido group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, sulfamoyl group, carbamoyl group, aryl group (phenyl, naphthyl group, etc.), alkylthio group (methylthio, hexylthio group, etc.), arylthio group (phenylthio group, etc.), phosphoric acid amide Represents a group. These groups may further have a substituent, and are the above R 1 to R 1.
Examples thereof include the groups mentioned as 4 and alkyloxycarbonyl groups. When R 3 and R 4 are especially alkyl groups,
These can also be bonded to each other to form a ring.
【0029】これらのうち、分子中には、R1 〜R4 と
してメルカプト基、ヒドロキシ基、ヒドロキシアミノ
基、アルコキシ基、アルキルチオ基が1〜3個、特に1
または2個含まれることが好ましい。R1 、R2 あるい
はR3 中には、OH、SH等が含まれることが好まし
く、特にRがOH、SH、NHOHであることが好まし
い。Of these, 1 to 3 mercapto groups, hydroxy groups, hydroxyamino groups, alkoxy groups, and alkylthio groups as R 1 to R 4 in the molecule, especially 1
Alternatively, it is preferable that two of them be included. OH, SH and the like are preferably contained in R 1 , R 2 and R 3 , and it is particularly preferable that R is OH, SH and NHOH.
【0030】一般式(3)で表わされる化合物の具体例
を示すが本発明は、これに限定されるものではない。Specific examples of the compound represented by the general formula (3) are shown below, but the invention is not limited thereto.
【0031】[0031]
【表2】 [Table 2]
【0032】[0032]
【表3】 [Table 3]
【0033】本発明の一般式(3)の化合物は、水ある
いは適当な有機溶媒、例えばアルコール類(メタノー
ル、エタノール、プロパノール、フッ素化アルコー
ル)、ケトン類(アセトン、メチルエチルケトン)、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルセ
ルソルブなどに溶解して用いることができる。The compound of the general formula (3) of the present invention is water or a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol, propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide, dimethyl sulfoxide. , Dissolved in methyl cellosolve, etc.
【0034】また、既によく知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散し用いることができる。By a well-known emulsification and dispersion method, oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are used to dissolve and mechanically dissolve them. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, a powder of a hydrazine derivative can be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or an ultrasonic wave by a method known as a solid dispersion method and used.
【0035】本発明の一般式(3)の化合物は、支持体
に対してハロゲン化銀乳剤層側の該ハロゲン化銀乳剤層
あるいは他層のどの層に添加してもよいが、該ハロゲン
化銀乳剤層あるいはそれに隣接する層に添加することが
好ましい。The compound of the general formula (3) of the present invention may be added to any of the silver halide emulsion layer on the silver halide emulsion layer side of the support or any other layer. It is preferably added to the silver emulsion layer or a layer adjacent thereto.
【0036】本発明の一般式(3)の添加量はハロゲン
化銀1モル当たり好ましくは、1×10-4〜5×10-2
モル、より好ましくは5×10-4〜1×10-2モルであ
る。The addition amount of the general formula (3) of the present invention is preferably 1 × 10 −4 to 5 × 10 −2 per mol of silver halide.
The molar amount is more preferably 5 × 10 −4 to 1 × 10 −2 mol.
【0037】本発明に用いられるヒドラジン誘導体は、
下記一般式(H)によって表わされる化合物が好まし
い。 一般式(H)The hydrazine derivative used in the present invention is
A compound represented by the following general formula (H) is preferable. General formula (H)
【0038】[0038]
【化7】 [Chemical 7]
【0039】式中、R1 は脂肪族基、芳香族基、または
ヘテロ環基を表わし、R2 は水素原子、アルキル基、ア
リール基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミノ基またはヒドラジノ基を表わし、G1 は−C
O−基、−SO2 −基、−SO−基、In the formula, R 1 represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group, and R 2 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a heterocyclic group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group or Represents a hydrazino group, G 1 is -C
O- group, -SO 2 - group, -SO- group,
【0040】[0040]
【化8】 Embedded image
【0041】−CO−CO−基、チオカルボニル基、又
はイミノメチレン基を表わし、A1 ,A2 はともに水素
原子、あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無
置換のアルキルスルホニル基、又は置換もしくは無置換
のアリールスルホニル基、又は置換もしくは無置換のア
シル基を表わす。R3 はR2 に定義した基と同じ範囲内
より選ばれ、R2 と異なってもよい。Represents a --CO--CO-- group, a thiocarbonyl group, or an iminomethylene group, wherein both A 1 and A 2 are hydrogen atoms, or one is a hydrogen atom and the other is a substituted or unsubstituted alkylsulfonyl group, or a substituted Alternatively, it represents an unsubstituted arylsulfonyl group, or a substituted or unsubstituted acyl group. R 3 is selected from the same range as the groups defined in R 2, may be different from R 2.
【0042】一般式(H)において、R1 で表わされる
脂肪族基は好ましくは炭素数1〜30の置換もしくは無
置換の、直鎖、分岐または環状のアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基である。In the general formula (H), the aliphatic group represented by R 1 is preferably a substituted or unsubstituted linear, branched or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group having 1 to 30 carbon atoms. .
【0043】一般式(H)において、R1 で表わされる
芳香族基は単環もしくは2環のアリール基で、例えばベ
ンゼン環、ナフタレン環である。R1 で表わされる芳香
族基のうちヘテロ環基としては、単環または2環の、芳
香族または非芳香族のヘテロ環で、アリール基と縮環し
てヘテロアリール基を形成してもよい。例えばピリジン
環、ピリミジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、キ
ノリン環、イソキノリン環、ベンズイミダゾール環、チ
アゾール環、ベンゾチアゾール環等が挙げられる。R1
として好ましいものはアリール基、特にフェニル基であ
る。In the general formula (H), the aromatic group represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aryl group, for example, a benzene ring or a naphthalene ring. The heterocyclic group among the aromatic groups represented by R 1 is a monocyclic or bicyclic aromatic or non-aromatic heterocycle, which may be condensed with an aryl group to form a heteroaryl group. . Examples thereof include a pyridine ring, a pyrimidine ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a benzimidazole ring, a thiazole ring and a benzothiazole ring. R 1
Preferred as is an aryl group, particularly a phenyl group.
【0044】R1 は置換されていてもよく、代表的な置
換基としては例えばアルキル基(活性メチン基を含
む)、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素
環を含む基、4級化された窒素原子を含むヘテロ環(例
えばピリジニオ基)を含む基、ヒドロキシ基、アルコキ
シ基(エチレンオキシ基もしくはプロピレンオキシ基単
位を繰り返し含む基を含む)、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基、ウレタン
基、カルボキシル基、イミド基、アミノ基、カルボンア
ミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、チオウレイド
基、スルファモイルアミノ基、セミカルバジド基、チオ
セミカルバジド基、ヒドラジノ基を含む基、4級のアン
モニオ基を含む基、メルカプト基、(アルキル、アリー
ル、またはヘテロ基)チオ基、(アルキルまたはアリー
ル)スルホニル基、(アルキルまたはアリール)スルフ
ィニル基、スルホ基、スルファモイル基、アシルスルフ
ァモイル基、(アルキルもしくはアリール)スルホニル
ウレイド基、(アルキルもしくはアリール)スルホニル
カルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、
リン酸アミド基、燐酸エステル構造を含む基、アシルウ
レア構造を持つ基、セレン原子またはテルル原子を含む
基、3級スルホニウム構造または4級スルホニウム構造
を持つ基などが挙げられる。R 1 may be substituted, and typical examples of the substituent include, for example, an alkyl group (including an active methine group), an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a group containing a heterocycle and a quaternized group. A group containing a heterocycle containing a nitrogen atom (for example, a pyridinio group), a hydroxy group, an alkoxy group (including a group containing a repeating ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl Group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, urethane group, carboxyl group, imide group, amino group, carbonamide group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group, hydrazino Group containing a group, group containing a quaternary ammonio group, mel Group, (alkyl, aryl, or hetero group) thio group, (alkyl or aryl) sulfonyl group, (alkyl or aryl) sulfinyl group, sulfo group, sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group Group, (alkyl or aryl) sulfonylcarbamoyl group, halogen atom, cyano group, nitro group,
Examples include a phosphoric acid amide group, a group having a phosphate ester structure, a group having an acylurea structure, a group having a selenium atom or a tellurium atom, and a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure.
【0045】好ましい置換基としては直鎖、分岐または
環状のアルキル基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、アラルキル基(好ましくは炭素数が1〜20のも
の)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20のも
の)、置換アミノ基(好ましくは炭素数1〜20の置換
アミノ基)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜3
0を持つもの)、スルホンアミド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、ウレイド基(好ましくは炭素数
1〜30を持つもの)、カルバモイル基(好ましくは炭
素数1〜30のもの)、リン酸アミド基(好ましくは炭
素数1〜30のもの)などである。Preferred substituents are linear, branched or cyclic alkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms), aralkyl groups (preferably having 1 to 20 carbon atoms) and alkoxy groups (preferably carbon atoms). C1-20), substituted amino groups (preferably C1-20 substituted amino groups), acylamino groups (preferably C2-3)
0), sulfonamide group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), ureido group (preferably having 1 to 30 carbon atoms), carbamoyl group (preferably having 1 to 30 carbon atoms) , A phosphoric acid amide group (preferably having a carbon number of 1 to 30) and the like.
【0046】一般式(H)において、R2 で表わされる
アルキル基として好ましくは、炭素数1〜10のアルキ
ル基であり、アリール基としては単環または2環のアリ
ール基が好ましく、例えばベンゼン環を含むものであ
る。In formula (H), the alkyl group represented by R 2 is preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and the aryl group is preferably a monocyclic or bicyclic aryl group, for example, a benzene ring. Is included.
【0047】ヘテロ環基としては少なくとも1つの窒
素、酸素、および硫黄原子を含む5〜6員環の化合物
で、例えばイミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリ
ル基、テトラゾリル基、ピリジル基、ピリジニオ基、キ
ノリニオ基、キノリニル基などがある。ピリジル基また
はピリジニオ基が特に好ましい。The heterocyclic group is a 5- or 6-membered ring compound containing at least one nitrogen, oxygen and sulfur atom, and examples thereof include imidazolyl group, pyrazolyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyridyl group, pyridinio group and quinolinio group. , Quinolinyl group, etc. Pyridyl or pyridinio groups are particularly preferred.
【0048】アルコキシ基としては炭素数1〜8のアル
コキシ基のものが好ましく、アリールオキシ基としては
単環のものが好ましく、アミノ基としては無置換アミノ
基、および炭素数1〜10のアルキルアミノ基、アリー
ルアミノ基、ヘテロ環アミノ基が好ましい。The alkoxy group is preferably an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, the aryloxy group is preferably a monocyclic group, the unsubstituted amino group is an amino group, and the alkylamino group having 1 to 10 carbon atoms. A group, an arylamino group and a heterocyclic amino group are preferable.
【0049】R2 は置換されていても良く、好ましい置
換基としてはR1 の置換基として例示したものがあては
まる。R 2 may be substituted, and as the preferable substituent, those exemplified as the substituent of R 1 are applicable.
【0050】R2 で表わされる基のうち好ましいもの
は、G1 が−CO−基の場合には、水素原子、アルキル
基(例えば、メチル基、トリフルオロメチル基、ジフル
オロメチル基、2−カルボキシテトラフルオロエチル
基、ピリジニオメチル基、3−ヒドロキシプロピル基、
3−メタンスルホンアミドプロピル基、フェニルスルホ
ニルメチル基など)、アラルキル基(例えば、o−ヒド
ロキシベンジル基など)、アリール基(例えば、フェニ
ル基、3,5−ジクロロフェニル基、o−メタンスルホ
ンアミドフェニル基、o−カルバモイルフェニル基、4
−シアノフェニル基、2−ヒドロキシメチルフェニル基
など)などであり、特に水素原子、アルキル基が好まし
い。Preferred among the groups represented by R 2 are hydrogen atom, alkyl group (eg, methyl group, trifluoromethyl group, difluoromethyl group, 2-carboxy group) when G 1 is --CO-- group. Tetrafluoroethyl group, pyridiniomethyl group, 3-hydroxypropyl group,
3-methanesulfonamidopropyl group, phenylsulfonylmethyl group, etc., aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group), aryl group (eg, phenyl group, 3,5-dichlorophenyl group, o-methanesulfonamidophenyl group) , O-carbamoylphenyl group, 4
-Cyanophenyl group, 2-hydroxymethylphenyl group, etc.), and particularly preferably a hydrogen atom and an alkyl group.
【0051】また、G1 が−SO2 −基の場合には、R
2 はアルキル基(例えば、メチル基など)、アラルキル
基(例えば、o−ヒドロキシベンジル基など)、アリー
ル基(例えば、フェニル基など)または置換アミノ基
(例えば、ジメチルアミノ基など)などが好ましい。When G 1 is a --SO 2 --group, R 1
2 is preferably an alkyl group (eg, methyl group), an aralkyl group (eg, o-hydroxybenzyl group), an aryl group (eg, phenyl group) or a substituted amino group (eg, dimethylamino group).
【0052】G1 が−COCO−基の場合にはアルコキ
シ基、アリールオキシ基、アミノ基が好ましく、特に置
換アミノ基(例えば、2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イルアミノ基、プロピルアミノ基、アニ
リノ基、o−ヒドロキシアニリノ基、5−ベンゾトリア
ゾリルアミノ基、N−ベンジル−3−ピリジニオアミノ
基等)が好ましい。When G 1 is a --COCO-- group, it is preferably an alkoxy group, an aryloxy group or an amino group, particularly a substituted amino group (eg 2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-ylamino group, Propylamino group, anilino group, o-hydroxyanilino group, 5-benzotriazolylamino group, N-benzyl-3-pyridinioamino group and the like) are preferable.
【0053】又、R2 はG1 −R2 の部分を残余分子か
ら分裂させ、−G1 −R2 部分の原子を含む環式構造を
生成させる環化反応を生起するようなものであってもよ
く、その例としては、例えば特開昭63−29751号
などに記載のものが挙げられる。[0053] Also, R 2 is be as occurring cyclization reaction to form a cyclic structure containing disrupts portion of G 1 -R 2 from the remainder molecule, -G 1 -R 2 moiety of atoms Examples thereof include those described in JP-A-63-29751.
【0054】A1 ,A2 は水素原子、炭素数20以下の
アルキルまたはアリールスルホニル基(好ましくはフェ
ニルスルホニル基、またはハメットの置換基定数の和が
−0.5以上となるように置換されたフェニルスルホニ
ル基)、炭素数20以下のアシル基(好ましくはベンゾ
イル基、またはハメットの置換基定数の和が−0.5以
上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは直鎖
または分岐状、または環状の無置換及び置換脂肪族アシ
ル基(置換基としては、例えばハロゲン原子、エーテル
基、スルホンアミド基、カルボンアミド基、水酸基、カ
ルボキシ基、スルホン酸基が挙げられる))である。A
1 ,A2 としては水素原子が最も好ましい。A 1 and A 2 are hydrogen atoms, alkyl or arylsulfonyl groups having 20 or less carbon atoms (preferably phenylsulfonyl groups, or substituted so that the sum of Hammett's substituent constants is -0.5 or more). A phenylsulfonyl group), an acyl group having 20 or less carbon atoms (preferably a benzoyl group, or a benzoyl group substituted such that the sum of Hammett's substituent constants is −0.5 or more, or a linear or branched group, or Cyclic unsubstituted and substituted aliphatic acyl groups (substituents include, for example, halogen atoms, ether groups, sulfonamide groups, carbonamide groups, hydroxyl groups, carboxy groups, sulfonic acid groups). A
Most preferably, hydrogen atoms are used as 1 and A 2 .
【0055】一般式(H)のR1 ,R2 の置換基はさら
に置換されていても良く、好ましい例としてはR1 の置
換基として例示したものが挙げられる。さらにその置換
基、その置換基の置換基、置換基の置換基の置換基・・
・、というように多重に置換されていても良く、好まし
い例はやはりR1 の置換基として例示したものがあては
まる。The substituents of R 1 and R 2 in the general formula (H) may be further substituted, and preferable examples thereof include those exemplified as the substituent of R 1 . Furthermore, the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent, ...
, Etc. may be substituted multiple times, and preferred examples also include those exemplified as the substituent of R 1 .
【0056】一般式(H)のR1 またはR2 はその中に
カプラー等の不動性写真用添加剤において常用されてい
るバラスト基またはポリマーが組み込まれているもので
もよい。バラスト基は8以上の炭素数を有する、写真性
に対して比較的不活性な基であり、例えばアルキル基、
アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキルフ
ェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基などの
中から選ぶことができる。またポリマーとしては、例え
ば特開平1−100530号に記載のものが挙げられ
る。R 1 or R 2 in the general formula (H) may have a ballast group or a polymer incorporated therein which is commonly used in a non-moving photographic additive such as a coupler. A ballast group is a group having a carbon number of 8 or more and relatively inert to photographic properties, for example, an alkyl group,
It can be selected from aralkyl group, alkoxy group, phenyl group, alkylphenyl group, phenoxy group, alkylphenoxy group and the like. Examples of the polymer include those described in JP-A-1-100530.
【0057】一般式(H)のR1 またはR2 はその中に
ハロゲン化銀に対して吸着する吸着性の基が組み込まれ
ているものでもよい。かかる吸着基としては、アルキル
チオ基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、
メルカプト複素環基、トリアゾール基などの米国特許第
4385108号、同4459347号、特開昭59−
195233号、同59−200231号、同59−2
01045号、同59−201046号、同59−20
1047号、同59−201048号、同59−201
049号、特開昭61−170733号、同61−27
0744号、同62−948号、同63−234244
号、同63−234245号、同63−234246号
に記載された基が挙げられる。またこれらハロゲン化銀
への吸着基は、プレカーサー化されていてもよい。その
様なプレカーサーとしては、特開平2−285344号
に記載された基が挙げられる。R 1 or R 2 in the general formula (H) may have an adsorptive group adsorbing to silver halide incorporated therein. Examples of the adsorptive group include an alkylthio group, an arylthio group, a thiourea group, a thioamide group,
U.S. Pat. Nos. 4,385,108 and 4,459,347, such as mercapto heterocyclic groups and triazole groups, JP-A-59-
Nos. 195233, 59-200231 and 59-2
No. 01045, No. 59-201046, No. 59-20
No. 1047, No. 59-201048, No. 59-201
No. 049, JP-A-61-170733 and 61-27.
Nos. 0744, 62-948 and 63-234244
And groups described in JP-A-63-234245 and JP-A-63-234246. These adsorbing groups to silver halide may be precursors. Examples of such a precursor include groups described in JP-A-2-285344.
【0058】一般式(H)のR1 またはR2 は、置換基
としてヒドラジノ基を複数個含んでいてもよく、この時
一般式(I)で表される化合物は、ヒドラジノ基に関し
ての多重体を表し、具体的には例えば特開昭64−86
134号、特開平4−16938号、特開平5−197
091号に記載された化合物が挙げられる。R 1 or R 2 in the general formula (H) may contain a plurality of hydrazino groups as a substituent, and in this case, the compound represented by the general formula (I) is a multimeric compound with respect to the hydrazino group. And specifically, for example, JP-A-64-86
134, JP-A-4-16938, JP-A-5-197.
No. 091.
【0059】本発明で用いられるヒドラジン誘導体のう
ち、さらに好ましいものは、次の一般式(H1)〜一般
式(H4)で表される。Among the hydrazine derivatives used in the present invention, more preferable ones are represented by the following general formulas (H1) to (H4).
【0060】[0060]
【化9】 Embedded image
【0061】一般式(H1)、一般式(H2)、一般式
(H3)および一般式(H4)において、R10,R11,
R12,R13は芳香族基、具体的にはアリール基もしくは
不飽和ヘテロ環基を表し、A10,A20,A11,A21,A
12,A22,A13,A23は一般式(H)に於けるA1 ,A
2 と同義の基を表す。In the general formula (H1), general formula (H2), general formula (H3) and general formula (H4), R 10 , R 11 ,
R 12 and R 13 each represent an aromatic group, specifically, an aryl group or an unsaturated heterocyclic group, and include A 10 , A 20 , A 11 , A 21 , and A
12 , A 22 , A 13 , and A 23 are A 1 and A in the general formula (H).
Represents a group having the same meaning as 2 .
【0062】一般式(H2)においてR21は、少なくと
も1つの電子吸引性基で置換されたアルキル基、少なく
とも1つの電子吸引性基で置換されたアリール基、ヘテ
ロ環基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、ヘテロ環アミノ基、ヒドラジノ基、アルコキシ基、
またはアリールオキシ基を表す。In the general formula (H2), R 21 is an alkyl group substituted with at least one electron-withdrawing group, an aryl group substituted with at least one electron-withdrawing group, a heterocyclic group, an amino group or an alkylamino group. Group, arylamino group, heterocyclic amino group, hydrazino group, alkoxy group,
Or an aryloxy group.
【0063】一般式(H3)においてR22はアミノ基、
アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ
基、ヒドラジノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルキル基、アリール基を表す。In the general formula (H3), R 22 is an amino group,
Alkylamino group, arylamino group, heterocyclic amino group, hydrazino group, alkoxy group, aryloxy group,
Represents an alkyl group or an aryl group.
【0064】一般式(H4)においてG13は、−SO2
−基、−SO−基、下記の基In the general formula (H4), G 13 is —SO 2
-Group, -SO- group, the following groups
【0065】[0065]
【化10】 Embedded image
【0066】(R30は(化4)のR3 と同義の基)、チ
オカルボニル基、またはイミノメチレン基を表し、R23
はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ
基、ヘテロ環アミノ基、またはヒドラジノ基を表す。(R 30 is a group having the same meaning as R 3 in (Formula 4)), a thiocarbonyl group, or an iminomethylene group, and R 23
Represents an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, an aryloxy group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group, or a hydrazino group.
【0067】一般式(H1)で表される本発明の化合物
のうち、さらに好ましいものは、次の一般式(H−1)
で表される。Among the compounds of the present invention represented by the general formula (H1), more preferred ones are those represented by the following general formula (H-1).
It is represented by
【0068】[0068]
【化11】 Embedded image
【0069】式中X10は、スルホンアミド基、ウレイド
基、チオウレイド基、オキシカルボニル基、スルホンア
ミド基、ホスホンアミド基、アルキルアミノ基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、総炭素数2以上のアルコキシ基、ア
リールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘ
テロ環チオ基、総炭素数3以上のアシルアミノ基、カル
バモイル基、スルファモイル基、または(アルキルもし
くはアリール)スルホニル基を表し、m10は0から5の
整数を表す。Y10はX10で表される基、またはニトロ
基、メトキシ基、アルキル基、あるいはアセトアミド基
を表し、n10は0から4の整数を表す。但しm10とn10
との和が5を越える事はなく、またm10が0の時、A
100 かA200 のいずれかは水素原子ではない。In the formula, X 10 is a sulfonamide group, a ureido group, a thioureido group, an oxycarbonyl group, a sulfonamide group, a phosphonamido group, an alkylamino group, a halogen atom, a cyano group, an alkoxy group having a total carbon number of 2 or more, Represents an aryloxy group, an alkylthio group, an arylthio group, a heterocyclic thio group, an acylamino group having a total carbon number of 3 or more, a carbamoyl group, a sulfamoyl group, or an (alkyl or aryl) sulfonyl group, and m 10 represents an integer of 0 to 5. Represent Y 10 represents a group represented by X 10 , a nitro group, a methoxy group, an alkyl group, or an acetamido group, and n 10 represents an integer of 0 to 4. However m 10 and n 10
When the sum is not possible to exceed 5, also m 10 is 0 and, A
Neither 100 nor A 200 is a hydrogen atom.
【0070】A100 ,A200 は一般式(H)におけるA
1 ,A2 と同義の基を表す。m10は好ましくは1または
2、n10は好ましくは0または1であり、最も好ましく
はm10は1、n10は0である。A 100 and A 200 are A in the general formula (H).
1 represents a group having the same meaning as A 2 m 10 is preferably 1 or 2, n 10 is preferably 0 or 1, and most preferably m 10 is 1 and n 10 is 0.
【0071】一般式(H2)においてR21は、好ましく
は少なくとも1つの電子吸引性基で置換されたアルキル
基、または少なくとも1つの電子吸引性基で置換された
アリール基を表す時である。ここに電子吸引性基とはハ
メットの置換基定数σm が正の値を取る置換基のことで
あり、具体的には、ハロゲン原子、ニトロ原子、シアノ
基、アシル基、オキシカルボニル基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アシルオキシ
基、(アルキルもしくはアリール)スルホニル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、(アルキルもしくはアリ
ール)チオ基またはイミド基を表す。R21はさらに好ま
しくは少なくとも1つの電子吸引性基で置換されたアル
キル基であり、その電子吸引性基としてはフッ素原子、
アルコキシ基、アリールオキシ基が好ましい。In the general formula (H2), R 21 is preferably an alkyl group substituted with at least one electron withdrawing group or an aryl group substituted with at least one electron withdrawing group. Here, the electron-withdrawing group is a substituent having a positive Hammett's substituent constant σ m , specifically, a halogen atom, a nitro atom, a cyano group, an acyl group, an oxycarbonyl group, and a sulfone group. It represents an amide group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an acyloxy group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, an alkoxy group, an aryloxy group, a (alkyl or aryl) thio group or an imide group. R 21 is more preferably an alkyl group substituted with at least one electron withdrawing group, and the electron withdrawing group is a fluorine atom,
Alkoxy groups and aryloxy groups are preferred.
【0072】一般式(H3)においてR22は、好ましく
はアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘ
テロ環アミノ基、またはアルコキシ基である。In the general formula (H3), R 22 is preferably an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a heterocyclic amino group or an alkoxy group.
【0073】一般式(H4)においてG13は好ましくは
−SO2 −基、チオカルボニル基、In the general formula (H4), G 13 is preferably —SO 2 — group, thiocarbonyl group,
【0074】[0074]
【化12】 [Chemical 12]
【0075】(R30は(化8)のR3 と同義の基)であ
る。R23は、G13が−SO2 −の時、好ましくはアルキ
ル基、アリール基であり、またG13が(化8)の時、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、(アルキルもしくはア
リール)アミノ基が、またチオカルボニル基の時、(ア
ルキルもしくはアリール)アミノ基、ヒドラジノ基が好
ましい。(R 30 is a group having the same meaning as R 3 in Chemical formula 8). R 23 is preferably an alkyl group or an aryl group when G 13 is —SO 2 —, and is an alkoxy group, an aryloxy group or an (alkyl or aryl) amino group when G 13 is (formula 8). In the case of a thiocarbonyl group, an (alkyl or aryl) amino group and a hydrazino group are preferable.
【0076】一般式(H1)〜一般式(H4)で表され
る化合物の具体例を以下に示す。但し本発明はこれらに
限定されるものではない。Specific examples of the compounds represented by formulas (H1) to (H4) are shown below. However, the present invention is not limited to these.
【0077】[0077]
【化13】 Embedded image
【0078】[0078]
【化14】 Embedded image
【0079】[0079]
【化15】 Embedded image
【0080】[0080]
【化16】 Embedded image
【0081】[0081]
【化17】 Embedded image
【0082】[0082]
【化18】 Embedded image
【0083】[0083]
【化19】 Embedded image
【0084】[0084]
【化20】 Embedded image
【0085】[0085]
【化21】 [Chemical 21]
【0086】[0086]
【化22】 Embedded image
【0087】[0087]
【化23】 Embedded image
【0088】[0088]
【化24】 Embedded image
【0089】[0089]
【化25】 Embedded image
【0090】[0090]
【化26】 [Chemical formula 26]
【0091】[0091]
【化27】 Embedded image
【0092】[0092]
【化28】 Embedded image
【0093】[0093]
【化29】 [Chemical 29]
【0094】式(F3)において、mは2から5の整数
である。mは2、3または4であることが好ましい。In the formula (F3), m is an integer of 2 to 5. m is preferably 2, 3 or 4.
【0095】式(F3)において、nは電荷バランスに
必要な1から5の整数である。nは一般に1、2または
3である。In the formula (F3), n is an integer of 1 to 5 required for charge balance. n is generally 1, 2 or 3.
【0096】レーキシアニン染料は、複塩の状態であっ
てもよい。The lake cyanine dye may be in the form of a double salt.
【0097】好ましいレーキシアニン染料の例を以下に
示す。Examples of preferred lake cyanine dyes are shown below.
【0098】本発明に用いられるヒドラジン誘導体とし
ては、上記のものの他に、RESEARCHDISCLOSURE Item2
3516(1983年11月号、P.346)およびそ
こに引用された文献の他、米国特許第4080207
号、同4269929号、同4276364号、同42
78748号、同4385108号、同4459347
号、同4478928号、同4560638号、同46
86167号、同4912016号、同4988604
号、同4994365号、同5041355号、同51
04769号、英国特許第2011391B号、欧州特
許第217310号、同301799号、同35689
8号、特開昭60−179734号、同61−1707
33号、同61−270744号、同62−17824
6号、同62−270948号、同63−29751
号、同63−32538号、同63−104047号、
同63−121838号、同63−129337号、同
63−223744号、同63−234244号、同6
3−234245号、同63−234246号、同63
−294552号、同63−306438号、同64−
10233号、特開平1−90439号、同1−100
530号、同1−105941号、同1−105943
号、同1−276128号、同1−280747号、同
1−283548号、同1−283549号、同1−2
85940号、同2−2541号、同2−77057
号、同2−139538号、同2−196234号、同
2−196235号、同2−198440号、同2−1
98441号、同2−198442号、同2−2200
42号、同2−221953号、同2−221954
号、同2−285342号、同2−285343号、同
2−289843号、同2−302750号、同2−3
04550号、同3−37642号、同3−54549
号、同3−125134号、同3−184039号、同
3−240036号、同3−240037号、同3−2
59240号、同3−280038号、同3−2825
36号、同4−51143号、同4−56842号、同
4−84134号、同2−230233号、同4−96
053号、同4−216544号、同5−45761
号、同5−45762号、同5−45763号、同5−
45764号、同5−45765号、特願平5−949
25号に記載されたものを用いることができる。As the hydrazine derivative used in the present invention, in addition to the above, RESEARCH DISCLOSURE Item 2
3516 (November 1983, p. 346) and references cited therein, as well as U.S. Pat. No. 4,080,207.
No. 4269929, No. 4276364, No. 42
No. 78748, No. 4385108, No. 4459347.
No. 4,478,928, 4560638, 46.
86167, 4912016, 4988604
No. 4,994,365, 5041355, 51
04769, British Patent No. 2011391B, European Patent Nos. 217310, No. 301799, and No. 35689.
No. 8, JP-A-60-179734 and JP-A-61-1707.
No. 33, No. 61-270744, No. 62-17824.
No. 6, No. 62-270948, No. 63-29751.
No. 63-32538, No. 63-104047,
63-121838, 63-129337, 63-223744, 63-234244, 6
3-234245, 63-234246, 63
-294552, 63-306438, 64-
10233, JP-A-1-90439, 1-100
No. 530, No. 1-105941, No. 1-105943
No. 1, No. 1-276128, No. 1-280747, No. 1-283548, No. 1-283549, No. 1-2.
No. 85940, No. 2-2541, No. 2-77057.
No. 2, No. 2-139538, No. 2-196234, No. 2-196235, No. 2-198440, No. 2-1.
No. 98441, No. 2-198442, No. 2-2200.
42, 2-221953, 2-221954.
No. 2-285342, 2-285343, 2-289843, 2-302750, 2-3.
04550, 3-37642, 3-54549.
No. 3, No. 3-125134, No. 3-184039, No. 3-240036, No. 3-240037, No. 3-2.
59240, 3-280038, 3-2825.
No. 36, No. 4-51143, No. 4-56842, No. 4-84134, No. 2-230233, No. 4-96.
053, 4-216544, 5-45761.
No. 5, No. 5-45762, No. 5-45763, No. 5-
455764, 5-45765, and Japanese Patent Application No. 5-949.
Those described in No. 25 can be used.
【0099】またこの他にも特公平6−77138号に
記載の(化1)で表される化合物で、具体的には同公報
3頁、4頁に記載の化合物。特公平6−93082号に
記載の一般式(I)で表される化合物で、具体的には同
公報8頁〜18頁に記載の1〜38の化合物。特開平6
−230497号に記載の一般式(4)、一般式(5)
および一般式(6)で表される化合物で、具体的には同
公報25頁、26頁に記載の化合物4−1〜化合物4−
10、28頁〜36頁に記載の化合物5−1〜5−4
2、および39頁、40頁に記載の化合物6−1〜化合
物6−7。特開平6−289520号に記載の一般式
(I)および一般式(2)で表される化合物で、具体的
には同公報5頁〜7頁に記載の化合物1−1)〜1−1
7)および2−1)。特開平6−313936号に記載
の(化2)および(化3)で表される化合物で、具体的
には同公報6頁〜19頁に記載の化合物。特開平6−3
13951号に記載の(化1)で表される化合物で、具
体的には同公報3頁〜5頁に記載の化合物。特開平7−
5610号に記載の一般式(I)で表される化合物で、
具体的には同公報5頁〜10頁に記載の化合物I−1〜
I−38。特開平7−77783号に記載の一般式(I
I)で表される化合物で、具体的には同公報10頁〜2
7頁に記載の化合物II−1〜II−102。特開平7−1
04426号に記載の一般式(H)および一般式(H
a)で表される化合物で、具体的には同公報8頁〜15
頁に記載の化合物H−1〜H−44。に記載されたもの
を用いることができる。In addition to these, the compounds represented by (Chemical formula 1) described in JP-B-6-77138, specifically the compounds described on pages 3 and 4 of the publication. Compounds represented by the general formula (I) described in JP-B-6-93082, specifically, compounds 1 to 38 described on pages 8 to 18 of the publication. JP 6
General formulas (4) and (5) described in JP-A-230497
And compounds represented by the general formula (6), specifically, Compounds 4-1 to 4- described on pages 25 and 26 of the publication.
Compounds 5-1 to 5-4 described on page 10, pages 28 to 36
2, and compounds 6-1 to 6-7 described on pages 39 and 40. Compounds represented by formulas (I) and (2) described in JP-A-6-289520, specifically, compounds 1-1) to 1-1 described on pages 5 to 7 of the same publication
7) and 2-1). Compounds represented by (Chemical Formula 2) and (Chemical Formula 3) described in JP-A-6-313936, specifically, compounds described on pages 6 to 19 of the same. JP-A-6-3
A compound represented by (Chemical Formula 1) described in No. 13951, specifically, a compound described on pages 3 to 5 of the same publication. JP-A-7-
A compound represented by the general formula (I) described in 5610,
Specifically, Compounds I-1 to I-5 described on pages 5 to 10 of the publication are described.
I-38. The general formula (I described in JP-A-7-77783)
The compound represented by I), specifically, pages 10 to 2 of the same publication.
Compounds II-1 to II-102 described on page 7. JP-A-7-1
General formula (H) and general formula (H
compounds represented by a), specifically, pages 8 to 15 of the same publication.
Compounds H-1 to H-44 described on page. It is possible to use those described in.
【0100】本発明におけるヒドラジン誘導体の添加量
としては銀1モルあたり1×10-6モルないし1×10
-1モル含有されるのが好ましく、特に1×10-5モルな
いし5×10-2モルの範囲が好ましい添加量である。The addition amount of the hydrazine derivative in the present invention is 1 × 10 −6 to 1 × 10 6 mol per mol of silver.
-1 mol is preferable, and a range of 1 × 10 −5 mol to 5 × 10 −2 mol is particularly preferable.
【0101】本発明のヒドラジン誘導体は、適当な有機
溶媒、例えばアルコール類(メタノール、エタノール、
プロパノール、フッ素化アルコール)、ケトン類(アセ
トン、メチルエチルケトン)、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキシド、メチルセルソルブなどに溶解し
て用いることができる。The hydrazine derivative of the present invention is a suitable organic solvent such as alcohols (methanol, ethanol,
Propanol, fluorinated alcohol), ketones (acetone, methyl ethyl ketone), dimethylformamide,
It can be used by dissolving it in dimethyl sulfoxide, methyl cellosolve or the like.
【0102】また、既に良く知られている乳化分散法に
よって、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、グリセリルトリアセテートあるいはジエチルフタ
レートなどのオイル、酢酸エチルやシクロヘキサノンな
どの補助溶媒を用いて溶解し、機械的に乳化分散物を作
製して用いることができる。あるいは固体分散法として
知られている方法によって、ヒドラジン誘導体の粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、あるいは超音波に
よって分散して用いることもできる。Further, by well-known emulsification-dispersion method, oils such as dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, glyceryl triacetate or diethyl phthalate, and an auxiliary solvent such as ethyl acetate or cyclohexanone are used to dissolve and mechanically dissolve them. An emulsified dispersion can be prepared and used. Alternatively, the hydrazine derivative powder may be dispersed in water by a ball mill, a colloid mill, or ultrasonic waves according to a method known as a solid dispersion method.
【0103】本発明ではヒドラジン誘導体と併用して、
カブリ防止剤としてインダゾール類(例えばニトロイン
ダゾール)を使用することが好ましい。In the present invention, in combination with a hydrazine derivative,
It is preferable to use indazoles (for example, nitroindazole) as an antifoggant.
【0104】有機銀塩のための還元剤は、銀イオンを金
属銀に還元する任意の物質、好ましくは有機物質であっ
てよい。フェニドン、ハイドロキノンおよびカテコール
などの従来の写真現像剤は有用であるが、ヒンダードフ
ェノール還元剤が好ましい。還元剤は、画像形成層の1
〜10重量%として存在すべきである。多層構成におい
て、還元剤をエマルジョン層以外の層に加える場合は、
わずかに高い割合である約2〜15重量%がより望まし
い傾向がある。The reducing agent for the organic silver salt may be any substance that reduces silver ions to metallic silver, preferably an organic substance. Conventional photographic developers such as phenidone, hydroquinone and catechol are useful, but hindered phenol reducing agents are preferred. The reducing agent is used in one of the image forming layers.
It should be present as .about.10% by weight. When a reducing agent is added to a layer other than the emulsion layer in a multilayer structure,
A slightly higher percentage, about 2-15% by weight, tends to be more desirable.
【0105】有機銀塩を利用した熱現像写真感光材料に
おいては広範囲の還元剤が開示されている。例えば、フ
ェニルアミドオキシム、2−チエニルアミドオキシムお
よびp−フエノキシフェニルアミドオキシムなどのアミ
ドオキシム;例えば4−ヒドロキシ−3,5−ジメトキ
シベンズアルデヒドアジンなどのアジン;2,2′−ビ
ス(ヒドロキシメチル)プロピオニル−β−フェニルヒ
ドラジンとアスコルビン酸との組合せのような脂肪族カ
ルボン酸アリールヒドラジドとアスコルビン酸との組合
せ;ポリヒドロキシベンゼンと、ヒドロキシルアミン、
レダクトンおよび/またはヒドラジンの組合せ(例えば
ハイドロキノンと、ビス(エトキシエチル)ヒドロキシ
ルアミン、ピペリジノヘキソースレダクトンまたはホル
ミル−4−メチルフェニルヒドラジンの組合せなど);
フェニルヒドロキサム酸、p−ヒドロキシフェニルヒド
ロキサム酸およびβ−アリニンヒドロキサム酸などのヒ
ドロキサム酸;アジンとスルホンアミドフェノールとの
組合せ(例えば、フェノチアジンと2,6−ジクロロ−
4−ベンゼンスルホンアミドフェノールなど);エチル
−α−シアノ−2−メチルフェニルアセテート、エチル
−α−シアノフェニルアセテートなどのα−シアノフェ
ニル酢酸誘導体;2,2′−ジヒドロキシ−1,1′−
ビナフチル、6,6′−ビブロモ−2,2′−ジヒドロ
キシ−1,1′−ビナフチルおよびビス(2−ヒドロキ
シ−1−ナフチル)メタンに例示されるようなビス−β
−ナフトール;ビス−β−ナフトールと1,3−ジヒド
ロキシベンゼン誘導体(例えば、2,4−ジヒドロキシ
ベンゾフェノンまたは2′,4′−ジヒドロキシアセト
フェノンなど)の組合せ;3−メチル−1−フェニル−
5−ピラゾロンなどの、5−ピラゾロン;ジメチルアミ
ノヘキソースレダクトン、アンヒドロジヒドロアミノヘ
キソースレダクトンおよびアンヒドロジヒドロピペリド
ンヘキソースレダクトンに例示されるようなレダクト
ン;2,6−ジクロロ−4−ベンゼンスルホンアミドフ
ェノールおよびp−ベンゼンスルホンアミドフェノール
などのスルホンアミドフェノール還元剤;2−フェニル
インダン−1,3−ジオンなど;2,2−ジメチル−7
−t−ブチル−6−ヒドロキシクロマンなどのクロマ
ン;2,6−ジメトキシ−3,5−ジカルボエトキシ−
1,4−ジヒドロピリジンなどの1,4−ジヒドロピリ
ジン;ビスフェノール(例えば、ビス(2−ヒドロキシ
−3−t−ブチル−5−メチルフェニル)メタン、2,
2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)プロ
パン、4,4−エチリデン−ビス(2−t−ブチル−6
−メチルフェノール)、1,1−ビス(2−ヒドロキシ
−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,5−トリメチ
ルヘキサンおよび2,2−ビス(3,5−ジメチル−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンなど);アスコルビン
酸誘導体(例えば、パルミチン酸1−アスコルビル、ス
テアリン酸アスコルビルなど);ならびにベンジルおよ
びビアセチルなどのアルデヒドおよびケトン;3−ピラ
ゾリドンおよびある種のインダン−1,3−ジオンなど
がある。A wide range of reducing agents have been disclosed in the photothermographic material using an organic silver salt. For example, amide oximes such as phenylamidooxime, 2-thienylamidooxime and p-phenoxyphenylamidooxime; azines such as 4-hydroxy-3,5-dimethoxybenzaldehydeazine; 2,2'-bis (hydroxymethyl A) a combination of an aliphatic carboxylic acid arylhydrazide and ascorbic acid, such as a combination of propionyl-β-phenylhydrazine and ascorbic acid; polyhydroxybenzene, hydroxylamine,
A combination of reductone and / or hydrazine, such as a combination of hydroquinone with bis (ethoxyethyl) hydroxylamine, piperidinohexose reductone or formyl-4-methylphenylhydrazine;
Hydroxamic acids such as phenylhydroxamic acid, p-hydroxyphenylhydroxamic acid and β-alinine hydroxamic acid; combinations of azine and sulfonamidophenol (e.g., phenothiazine and 2,6-dichloro-
Α-cyanophenylacetic acid derivatives such as ethyl-α-cyano-2-methylphenylacetate and ethyl-α-cyanophenylacetate; 2,2′-dihydroxy-1,1′-
Bis-β as exemplified by binaphthyl, 6,6′-bibromo-2,2′-dihydroxy-1,1′-binaphthyl and bis (2-hydroxy-1-naphthyl) methane
-Naphthol; a combination of bis-β-naphthol and a 1,3-dihydroxybenzene derivative (eg, 2,4-dihydroxybenzophenone or 2 ', 4'-dihydroxyacetophenone); 3-methyl-1-phenyl-
5-pyrazolone, such as 5-pyrazolone; reductone as exemplified by dimethylaminohexose reductone, anhydrodihydroaminohexose reductone and anhydrodihydropiperidone hexose reductone; 2,6-dichloro-4 Sulfonamidophenol reducing agents such as -benzenesulfonamidophenol and p-benzenesulfonamidophenol; 2-phenylindane-1,3-dione and the like; 2,2-dimethyl-7
Chromans such as -t-butyl-6-hydroxychroman; 2,6-dimethoxy-3,5-dicarboethoxy-
1,4-dihydropyridines such as 1,4-dihydropyridine; bisphenols (for example, bis (2-hydroxy-3-tert-butyl-5-methylphenyl) methane, 2,
2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, 4,4-ethylidene-bis (2-t-butyl-6)
-Methylphenol), 1,1-bis (2-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) -3,5,5-trimethylhexane and 2,2-bis (3,5-dimethyl-4)
Ascorbic acid derivatives (e.g., 1-ascorbyl palmitate, ascorbyl stearate, etc.); and aldehydes and ketones such as benzyl and biacetyl; 3-pyrazolidone and certain indan-1,3-diones. and so on.
【0106】本発明で特に好ましい還元剤として下記一
般式(R−I)、一般式(R−II)、一般式(R−II
I)、一般式(R−IV)で表される化合物が挙げられる。Particularly preferred reducing agents in the present invention are the following general formula (R-I), general formula (R-II) and general formula (R-II).
I) and compounds represented by the general formula (R-IV).
【0107】[0107]
【化30】 Embedded image
【0108】なお、一般式(R−III)においてZが形成
する環構造は下記のものである。The ring structure formed by Z in the general formula (R-III) is as follows.
【0109】[0109]
【化31】 [Chemical 31]
【0110】また、一般式(R−IV)においてZが形成
する環構造は下記のものである。The ring structure formed by Z in the general formula (R-IV) is as follows.
【0111】[0111]
【化32】 Embedded image
【0112】式中、L1 、L2 は、CH−R6 で表され
る基もしくは硫黄原子である。nは自然数を表す。In the formula, L 1 and L 2 are a group represented by CH-R 6 or a sulfur atom. n represents a natural number.
【0113】R(R1 〜R10、R1 ′〜R5 ′、R11〜
R13、R11′〜R13′、R21〜R26、R21′〜R24′を
含む)は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜30)、
アリール基、アラルキル基、ハロゲン原子、アミノ基も
しくは−O−Aで表される置換基である。ただし、R1
〜R5 の少なくとも一つおよびR1 ′〜R5 ′の少なく
とも一つおよびR7 〜R10の少なくとも一つは−O−A
で表される基である。また、R同士で環を形成しても良
い。A,A′は、水素原子、アルキル基(炭素数1〜3
0)、アシル基(炭素数1〜30)、アリール基、リン
酸基、スルホニル基を表す。R,A,A′は置換されて
いてもよく、代表的な置換基としては例えばアルキル基
(活性メチン基を含む)、ニトロ基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、複素環を含む基、4級化され
た窒素原子を含むヘテロ環(例えばピリジニオ基)を含
む基、ヒドロキシ基、アルコキシ基(エチレンオキシ基
もしくはプロピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含
む)、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、
アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル
基、カルバモイル基、ウレタン基、カルボキシル基、イ
ミド基、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド
基、ウレイド基、チオウレイド基、スルファモイルアミ
ノ基、セミカルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒド
ラジノ基を含む基、4級のアンモニオ基を含む基、メル
カプト基、(アルキル、アリール、またはヘテロ環)チ
オ基、(アルキルまたはアリール)スルホニル基、(ア
ルキルまたはアリール)スルフィニル基、スルホ基、ス
ルファモイル基、アシルスルファモイル基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルウレイド基、(アルキル
もしくはアリール)スルホニルカルバモイル基、ハロゲ
ン原子、シアノ基、リン酸アミド基、リン酸エステル構
造を含む基、アシルウレア構造を持つ基、セレン原子ま
たはテルル原子を含む基、3級スルホニウム構造または
4級スルホニウム構造を持つ基などが挙げられる。R,
A,A′の置換基はさらに置換されていても良く、好ま
しい例としてはRの置換基として例示したものが挙げら
れる。さらにその置換基、その置換基の置換基、置換基
の置換基の置換基・・・、というように多重に置換され
ていても良く、好ましい例はやはりR,A,A′の置換
基として例示したものがあてはまる。R (R 1 to R 10 , R 1 ′ to R 5 ′, R 11 to
Including R 13, R 11 '~R 13 ', R 21 ~R 26, R 21 '~R 24') is a hydrogen atom, an alkyl group (having 1 to 30 carbon atoms),
An aryl group, an aralkyl group, a halogen atom, an amino group, or a substituent represented by -OA. However, R 1
To R 5 and at least one of R 1 ′ to R 5 ′ and at least one of R 7 to R 10 are —OA
Is a group represented by Further, R may form a ring with each other. A and A'are hydrogen atoms and alkyl groups (having 1 to 3 carbon atoms).
0), an acyl group (1 to 30 carbon atoms), an aryl group, a phosphate group, and a sulfonyl group. R, A, and A 'may be substituted, and typical substituents include, for example, an alkyl group (including an active methine group), a nitro group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, a group containing a heterocyclic ring, A group containing a quaternary heterocycle containing a nitrogen atom (for example, a pyridinio group), a hydroxy group, an alkoxy group (including a group repeatedly containing an ethyleneoxy group or a propyleneoxy group unit), an aryloxy group, an acyloxy group, an acyl group Group,
Alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, carbamoyl group, urethane group, carboxyl group, imide group, amino group, carbonamide group, sulfonamide group, ureido group, thioureido group, sulfamoylamino group, semicarbazide group, thiosemicarbazide group A hydrazino group, a quaternary ammonium group, a mercapto group, an (alkyl, aryl, or heterocycle) thio group, an (alkyl or aryl) sulfonyl group, an (alkyl or aryl) sulfinyl group, a sulfo group, Sulfamoyl group, acylsulfamoyl group, (alkyl or aryl) sulfonylureido group, (alkyl or aryl) sulfonylcarbamoyl group, halogen atom, cyano group, phosphoric amide group, group containing a phosphoric ester structure, acyl Group having a rare structure, a group containing a selenium atom or a tellurium atom, and a group having a tertiary sulfonium structure or a quaternary sulfonium structure. R,
The substituents of A and A 'may be further substituted, and preferred examples include those exemplified as the substituent of R. Further, the substituent may be substituted multiple times such as the substituent, the substituent of the substituent, the substituent of the substituent of the substituent,... The illustrations apply.
【0114】以下に、一般式(R−I)、一般式(R−
II)、一般式(R−III )、一般式(R−IV)で表され
る化合物の具体例を示す。ただし、本発明は以下の化合
物に限定されるものではない。In the following, the general formula (R-I) and the general formula (R-
Illustrative examples of compounds represented by II), general formula (R-III) and general formula (R-IV) are shown below. However, the present invention is not limited to the following compounds.
【0115】[0115]
【表4】 [Table 4]
【0116】[0116]
【表5】 [Table 5]
【0117】[0117]
【表6】 [Table 6]
【0118】[0118]
【表7】 [Table 7]
【0119】[0119]
【表8】 [Table 8]
【0120】[0120]
【表9】 [Table 9]
【0121】[0121]
【表10】 [Table 10]
【0122】[0122]
【表11】 [Table 11]
【0123】本発明で使用される還元剤の使用量は、好
ましくは銀1モル当たり1×10-3〜10モルであり、
より好ましくは1×10-2〜1.5モルである。The amount of the reducing agent used in the present invention is preferably 1 × 10 −3 to 10 mol per mol of silver,
More preferably, it is 1 × 10 -2 to 1.5 mol.
【0124】また本発明では、還元剤とヒドラジン誘導
体のモル比を1:10-3〜1:10-1の範囲に設定する
ことが好ましい。Further, in the present invention, it is preferable to set the molar ratio of the reducing agent to the hydrazine derivative in the range of 1:10 -3 to 1:10 -1 .
【0125】本発明における感光性ハロゲン化銀の形成
方法は当業界ではよく知られており、例えば、リサーチ
ディスクロージャー1978年6月の第17029号、
および米国特許第3700458号に記載されている方
法を用いることができる。本発明で用いることのできる
具体的な方法としては、調製された有機銀塩中にハロゲ
ン含有化合物を添加することにより有機銀塩の銀の一部
を感光性ハロゲン化銀に変換する方法、ゼラチンあるい
は他のポリマー溶液の中に銀供給化合物及びハロゲン供
給化合物を添加することにより感光性ハロゲン化銀粒子
を調製し有機銀塩と混合する方法を用いることができ
る。本発明において好ましくは後者の方法を用いること
ができる。感光性ハロゲン化銀の粒子サイズは、画像形
成後の白濁を低く抑える目的のために小さいことが好ま
しく具体的には0.20μm以下、より好ましくは0.
01μm以上0.15μm以下、更に好ましくは0.0
2μm以上0.12μm以下がよい。ここでいう粒子サ
イズとは、ハロゲン化銀粒子が立方体あるいは八面体の
いわゆる正常晶である場合にはハロゲン化銀粒子の稜の
長さをいう。また、ハロゲン化銀粒子が平板状粒子であ
る場合には主表面の投影面積と同面積の円像に換算した
ときの直径をいう。その他正常晶でない場合、たとえば
球状粒子、棒状粒子等の場合には、ハロゲン化銀粒子の
体積と同等な球を考えたときの直径をいう。The method of forming the photosensitive silver halide in the present invention is well known in the art, for example, Research Disclosure, June 1978, No. 17029,
And the method described in US Pat. No. 3,700,458 can be used. As a specific method that can be used in the present invention, a method of converting a part of silver of the organic silver salt into a photosensitive silver halide by adding a halogen-containing compound to the prepared organic silver salt, gelatin, Alternatively, a method in which a photosensitive silver halide grain is prepared by adding a silver-supplying compound and a halogen-supplying compound to another polymer solution and mixed with an organic silver salt can be used. In the present invention, the latter method can be preferably used. The grain size of the photosensitive silver halide is preferably small for the purpose of suppressing the white turbidity after image formation to be low, specifically 0.20 μm or less, more preferably 0.1 μm or less.
01 μm or more and 0.15 μm or less, more preferably 0.01 μm or less
The thickness is preferably 2 μm or more and 0.12 μm or less. Here, the grain size means the length of the edge of the silver halide grain when the silver halide grain is a cubic or octahedral so-called normal crystal. In the case where the silver halide grains are tabular grains, the diameter refers to a diameter when converted into a circular image having the same area as the projected area of the main surface. In the case of other than normal crystals, for example, in the case of spherical grains, rod-shaped grains, etc., it refers to the diameter of a sphere equivalent to the volume of silver halide grains.
【0126】ハロゲン化銀粒子の形状としては立方体、
八面体、平板状粒子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ
状粒子等を挙げることができるが、本発明においては特
に立方体状粒子、平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲ
ン化銀粒子を用いる場合の平均アスペクト比は好ましく
は100:1〜2:1、より好ましは50:1〜3:1
がよい。更に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった
粒子も好ましく用いることができる。感光性ハロゲン化
銀粒子の外表面の面指数(ミラー指数)については特に
制限はないが、分光増感色素が吸着した場合の分光増感
効率が高い{100}面の占める割合が高いことが好ま
しい。その割合としては50%以上が好ましく、65%
以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。ミラ
ー指数{100}面の比率は増感色素の吸着における
{111}面と{100}面との吸着依存性を利用した
T. Tani ; J. Imaging Sci.,29、165(1985
年)に記載の方法により求めることができる。感光性ハ
ロゲン化銀のハロゲン組成としては特に制限はなく、塩
化銀、塩臭化銀、臭化銀、ヨウ臭化銀、ヨウ塩臭化銀、
ヨウ化銀のいずれであっても良いが、本発明においては
臭化銀、あるいはヨウ臭化銀を好ましく用いることがで
きる。特に好ましくはヨウ臭化銀であり、ヨウ化銀含有
率は0.1モル%以上40モル%以下が好ましく、0.
1モル%以上20モル%以下がより好ましい。粒子内に
おけるハロゲン組成の分布は均一であってもよく、ハロ
ゲン組成がステップ状に変化したものでもよく、或いは
連続的に変化したものでもよいが、好ましい例として粒
子内部のヨウ化銀含有率の高いヨウ臭化銀粒子を使用す
ることができる。また、好ましくはコア/シェル構造を
有するハロゲン化銀粒子を用いることができる。構造と
しては好ましくは2〜5重構造、より好ましくは2〜4
重構造のコア/シェル粒子を用いることができる。The shape of the silver halide grains is cubic,
Octahedral, tabular particles, spherical particles, rod-like particles, potato-like particles and the like can be mentioned. In the present invention, cubic particles and tabular particles are particularly preferable. When tabular silver halide grains are used, the average aspect ratio is preferably 100: 1 to 2: 1, more preferably 50: 1 to 3: 1.
Is good. Further, grains having rounded corners of silver halide grains can also be preferably used. The surface index (mirror index) of the outer surface of the photosensitive silver halide grains is not particularly limited. However, the spectral sensitization efficiency when the spectral sensitizing dye is adsorbed is high. preferable. The ratio is preferably 50% or more, and 65%
The above is more preferable, and 80% or more is further preferable. The ratio of Miller index {100} planes is based on the adsorption dependence of {111} planes and {100} planes in the adsorption of sensitizing dyes.
T. Tani; J. Imaging Sci., 29, 165 (1985)
Year). The halogen composition of the photosensitive silver halide is not particularly limited, and silver chloride, silver chlorobromide, silver bromide, silver iodobromide, silver iodochlorobromide,
Although any of silver iodide may be used, in the present invention, silver bromide or silver iodobromide can be preferably used. Particularly preferred is silver iodobromide, and the silver iodide content is preferably 0.1 mol% or more and 40 mol% or less.
More preferably, it is 1 mol% or more and 20 mol% or less. The distribution of the halogen composition in the grains may be uniform, the halogen composition may be changed stepwise, or may be changed continuously, but as a preferable example, the silver iodide content inside the grains is High silver iodobromide grains can be used. Preferably, silver halide grains having a core / shell structure can be used. The structure is preferably a two- to five-fold structure, more preferably a two to four-fold structure.
Heavy core / shell particles can be used.
【0127】本発明の感光性ハロゲン化銀粒子は、ロジ
ウム、レニウム、ルテニウム、オスミウム、イリジウ
ム、コバルトまたは鉄から選ばれる金属の錯体を少なく
とも一種含有することが好ましい。これら金属錯体は1
種類でもよいし、同種金属及び異種金属の錯体を二種以
上併用してもよい。好ましい含有率は銀1モルに対し1
nモルから10mモルの範囲が好ましく、10nモルか
ら100μモルの範囲がより好ましい。具体的な金属錯
体の構造としては特願平7−225449号等に記載さ
れた構造の金属錯体を用いることができる。コバルト、
鉄の化合物については六シアノ金属錯体を好ましく用い
ることができる。以下に具体例としては、フェリシアノ
酸イオン、フェロシアン酸イオン、ヘキサシアノコバル
ト酸イオンなどが挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。ハロゲン化銀中の金属醋体の含有層は均一
でも、コア部に高濃度に含有させてもよく、あるいはシ
ェル部に高濃度に含有させてもよく特に制限はない。The photosensitive silver halide grain of the present invention preferably contains at least one metal complex selected from rhodium, rhenium, ruthenium, osmium, iridium, cobalt or iron. These metal complexes are 1
One kind may be used, or two or more kinds of same metal and different metal complexes may be used in combination. The preferred content is 1 per mol of silver
The range is preferably from nmol to 10 mmol, more preferably from 10 nmol to 100 μmol. As a specific metal complex structure, a metal complex having a structure described in Japanese Patent Application No. 7-225449 can be used. cobalt,
For the iron compound, a hexacyano metal complex can be preferably used. Specific examples thereof include, but are not limited to, ferricyanate ion, ferrocyanate ion, and hexacyanocobaltate ion. The layer containing the metal skeleton in the silver halide may be uniform, may be contained at a high concentration in the core portion, or may be contained at a high concentration in the shell portion, and there is no particular limitation.
【0128】感光性ハロゲン化銀粒子はヌードル法、フ
ロキュレーション法等、当業界で知られている方法の水
洗により脱塩することができるが本発明においては脱塩
してもしなくてもよい。The photosensitive silver halide grains can be desalted by washing with water by a method known in the art such as a noodle method and a flocculation method. In the present invention, it may or may not be desalted. .
【0129】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されていることが好ましい。好ましい化学増感
法としては当業界でよく知られているように硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることができ
る。また金化合物や白金、パラジウム、イリジウム化合
物等の貴金属増感法や還元増感法を用いることができ
る。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法に好まし
く用いられる化合物としては公知の化合物を用いること
ができるが、特開平7−128768号等に記載の化合
物を使用することができる。テルル増感剤としては例え
ばジアシルテルリド類、ビス( オキシカルボニル) テル
リド類、ビス( カルバモイル) テルリド類、ジアシルテ
ルリド類、ビス( オキシカルボニル) ジテルリド類、ビ
ス( カルバモイル) ジテルリド類、P=Te結合を有す
る化合物、テルロカルボン酸塩類、Te−オルガニルテ
ルロカルボン酸エステル類、ジ( ポリ) テルリド類、テ
ルリド類、テルロール類、テルロアセタール類、テルロ
スルホナート類、P−Te結合を有する化合物、含Te
ヘテロ環類、テルロカルボニル化合物、無機テルル化合
物、コロイド状テルルなどを用いることができる。貴金
属増感法に好ましく用いられる化合物としては例えば塩
化金酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチ
オシアネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特
許2448060号、英国特許618061号などに記
載されている化合物を好ましく用いることができる。還
元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン酸、二
酸化チオ尿素の他に例えば、塩化第一スズ、アミノイミ
ノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合
物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることが
できる。また、乳剤のpHを7以上またはpAg を8.3以
下に保持して熟成することにより還元増感することがで
きる。また、粒子形成中に銀イオンのシングルアディシ
ョン部分を導入することにより還元増感することができ
る。The photosensitive silver halide grain in the invention is preferably chemically sensitized. As a preferred chemical sensitization method, a sulfur sensitization method, a selenium sensitization method, and a tellurium sensitization method are well known in the art. Further, a noble metal sensitization method or a reduction sensitization method of a gold compound, platinum, palladium, an iridium compound or the like can be used. As the compound preferably used in the sulfur sensitization method, the selenium sensitization method, and the tellurium sensitization method, known compounds can be used, and the compounds described in JP-A-7-128768 can be used. Examples of tellurium sensitizers include diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) tellurides, bis (carbamoyl) tellurides, diacyl tellurides, bis (oxycarbonyl) ditellurides, bis (carbamoyl) ditellurides, P = Te Compounds having a bond, tellurocarboxylates, Te-organyl tellurocarboxylic acid esters, di (poly) tellurides, tellurides, tellurols, telluroacetals, tellurosulfonates, compounds having a P-Te bond, and Te
Heterocycles, tellurocarbonyl compounds, inorganic tellurium compounds, colloidal tellurium, etc. can be used. As the compound preferably used in the noble metal sensitization method, for example, chloroauric acid, potassium chloroaurate, potassium aurithiocyanate, gold sulfide, gold selenide, or compounds described in US Pat. No. 2,448,060 and British Patent No. 618061 are preferable. Can be used. As specific compounds of the reduction sensitization method, in addition to ascorbic acid and thiourea dioxide, for example, stannous chloride, aminoiminomethanesulfinic acid, hydrazine derivatives, borane compounds, silane compounds, polyamine compounds and the like can be used. . Reduction sensitization can be achieved by ripening the emulsion while maintaining the pH of the emulsion at 7 or more or the pAg at 8.3 or less. Further, reduction sensitization can be performed by introducing a single addition portion of silver ions during grain formation.
【0130】本発明の感光性ハロゲン化銀の使用量とし
ては有機銀塩1モルに対して感光性ハロゲン化銀0.0
1モル以上0.5モル以下が好ましく、0.02モル以
上0.3モル以下がより好ましく、0.03モル以上
0.25モル以下が特に好ましい。ハロゲン化銀乳剤層
に有機銀塩を含有させる方が好ましい。ハロゲン化銀乳
剤層に有機銀塩を含有させる場合において、別々に調製
した感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の混合方法および混
合条件については、それぞれ調製終了したハロゲン化銀
粒子と有機銀塩を高速攪拌機やボールミル、サンドミ
ル、コロイドミル、振動ミル、ホモジナイザー等で混合
する方法や、あるいは有機銀塩の調製中のいずれかのタ
イミングで調製終了した感光性ハロゲン化銀を混合して
有機銀塩を調製する方法等があるが、本発明の効果が十
分に現れる限りにおいては特に制限はない。The photosensitive silver halide of the present invention is used in an amount of 0.0 mol of photosensitive silver halide per mol of organic silver salt.
The amount is preferably 1 mol or more and 0.5 mol or less, more preferably 0.02 mol or more and 0.3 mol or less, and particularly preferably 0.03 mol or more and 0.25 mol or less. It is preferable that the silver halide emulsion layer contains an organic silver salt. When the organic silver salt is contained in the silver halide emulsion layer, regarding the mixing method and the mixing conditions of the separately prepared photosensitive silver halide and the organic silver salt, the prepared silver halide grains and the organic silver salt are respectively prepared. A method of mixing with a high-speed stirrer, a ball mill, a sand mill, a colloid mill, a vibration mill, a homogenizer, or the like, or mixing the photosensitive silver halide prepared at any timing during the preparation of the organic silver salt to form an organic silver salt. Although there is a method of preparation, there is no particular limitation as long as the effects of the present invention are sufficiently exhibited.
【0131】本発明に用いることのできる有機銀塩は、
光に対して比較的安定であるが、露光された光触媒(感
光性ハロゲン化銀の潜像など)および還元剤の存在下
で、80℃あるいはそれ以上に加熱された場合に銀画像
を形成する銀塩である。有機銀塩は銀イオンを還元でき
る源を含む任意の有機物質であってよい。有機酸の銀
塩、特に( 炭素数が10〜30、好ましくは15〜28
の) 長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好ましい。配位子が
4.0〜10.0の範囲の錯安定定数を有する有機また
は無機銀塩の錯体も好ましい。銀供給物質は、好ましく
は画像形成層の約5〜30重量% を構成することができ
る。好ましい有機銀塩はカルボキシル基を有する有機化
合物の銀塩を含む。これらの例は、脂肪族カルボン酸の
銀塩および芳香族カルボン酸の銀塩を含むがこれらに限
定されることはない。脂肪族カルボン酸の銀塩の好まし
い例としては、ベヘン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン
酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、
パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸
銀、リノール酸銀、酪酸銀および樟脳酸銀、これらの混
合物などを含む。The organic silver salt that can be used in the present invention is
Relatively stable to light, but forms a silver image when heated to 80 ° C. or higher in the presence of an exposed photocatalyst (such as a latent image of photosensitive silver halide) and a reducing agent It is a silver salt. The organic silver salt can be any organic substance including a source capable of reducing silver ions. Silver salts of organic acids, especially (having 10 to 30, preferably 15 to 28 carbon atoms)
Silver salts of long-chain fatty carboxylic acids are preferred. Also preferred are organic or inorganic silver salt complexes in which the ligand has a complex stability constant in the range of 4.0 to 10.0. The silver-providing substance can preferably constitute about 5 to 30% by weight of the image forming layer. Preferred organic silver salts include silver salts of organic compounds having a carboxyl group. Examples of these include, but are not limited to, silver salts of aliphatic carboxylic acids and silver salts of aromatic carboxylic acids. Preferred examples of the silver salt of an aliphatic carboxylic acid include silver behenate, silver stearate, silver oleate, silver laurate, silver caproate, silver myristate,
It includes silver palmitate, silver maleate, silver fumarate, silver tartrate, silver linoleate, silver butyrate and silver camphorate, mixtures thereof and the like.
【0132】メルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
これらの化合物の好ましい例としては、3−メルカプト
−4−フェニル−1,2,4−トリアゾールの銀塩、2
−メルカプトベンズイミダゾールの銀塩、2−メルカプ
ト−5−アミノチアジアゾールの銀塩、2−(エチルグ
リコールアミド)ベンゾチアゾールの銀塩、S-アルキル
チオグリコール酸( ここでアルキル基の炭素数は12〜
22である) の銀塩などのチオグリコール酸の銀塩、ジ
チオ酢酸の銀塩などのジチオカルボン酸の銀塩、チオア
ミドの銀塩、5−カルボキシル−1−メチル−2−フェ
ニル−4−チオピリジンの銀塩、メルカプトトリアジン
の銀塩、2−メルカプトベンズオキサゾールの銀塩、米
国特許第4123274号に記載の銀塩、例えば3−ア
ミノ−5−ベンジルチオ−1,2,4−チアゾールの銀
塩などの1,2,4−メルカプトチアゾール誘導体の銀
塩、米国特許第3301678号に記載の3−(3−カ
ルボキシエチル)−4−メチル−4−チアゾリン−2−
チオンの銀塩などのチオン化合物の銀塩を含む。さら
に、イミノ基を含む化合物を使用することができる。こ
れらの化合物の好ましい例としては、ベンゾトリアゾー
ルの銀塩およびそれらの誘導体、例えばメチルベンゾト
リアゾール銀などのベンゾトリアゾールの銀塩、5−ク
ロロベンゾトリアゾール銀などのハロゲン置換ベンゾト
リアゾールの銀塩、米国特許第4220709号に記載
のような1,2,4−トリアゾールまたは1−H−テト
ラゾールの銀塩、イミダゾールおよびイミダゾール誘導
体の銀塩などを含む。例えば、米国特許第476136
1号および同第4775613号に記載のような種々の
銀アセチリド化合物を使用することもできる。It is also possible to use silver salts of compounds containing a mercapto group or a thione group and their derivatives.
Preferred examples of these compounds include silver salts of 3-mercapto-4-phenyl-1,2,4-triazole,
-Silver salt of mercaptobenzimidazole, silver salt of 2-mercapto-5-aminothiadiazole, silver salt of 2- (ethylglycolamido) benzothiazole, S-alkylthioglycolic acid (wherein the alkyl group has 12 to 12 carbon atoms).
22) silver salt of thioglycolic acid, silver salt of dithioacetic acid such as dithiocarboxylic acid, silver salt of thioamide, 5-carboxyl-1-methyl-2-phenyl-4-thiopyridine. Silver salt, mercaptotriazine silver salt, 2-mercaptobenzoxazole silver salt, the silver salt described in U.S. Pat. No. 4,123,274, such as 3-amino-5-benzylthio-1,2,4-thiazole silver salt. 1,2,4-mercaptothiazole derivative silver salt, 3- (3-carboxyethyl) -4-methyl-4-thiazoline-2-described in U.S. Pat. No. 3,301,678.
Includes silver salts of thione compounds such as silver salts of thione. Furthermore, compounds containing an imino group can be used. Preferred examples of these compounds include silver salts of benzotriazole and derivatives thereof, for example, silver salts of benzotriazole such as silver methylbenzotriazole, silver salts of halogen-substituted benzotriazole such as silver 5-chlorobenzotriazole, and US Pat. No. 4,220,709, and silver salts of 1,2,4-triazole or 1-H-tetrazole, silver salts of imidazole and imidazole derivatives, and the like. For example, US Pat. No. 476136.
Various silver acetylide compounds as described in No. 1 and No. 4775613 can also be used.
【0133】本発明に用いることができる有機銀塩の形
状としては特に制限はないが、短軸と長軸を有する針状
結晶が好ましい。感光性ハロゲン化銀感光材料でよく知
られているように銀塩結晶粒子のサイズとその被覆力の
間の反比例の関係は本発明における熱現像感光材料にお
いても成立し、すなわち熱現像感光材料の画像形成部で
ある有機銀塩粒子が大きいと被覆力が小さく画像濃度が
低くなることを意味することから有機銀塩のサイズを小
さくすることが必要である。本発明においては短軸0.
01μm 以上0.20μm 以下、長軸0.10μm 以上
5.0μm 以下が好ましく、短軸0.01μm 以上0.
15μm 以下、長軸0.10μm 以上4.0μm 以下が
より好ましい。有機銀塩の粒子サイズ分布は単分散であ
ることが好ましい。単分散とは短軸、長軸それぞれの長
さの標準偏差を短軸、長軸それぞれで割った値の百分率
が好ましくは100%以下、より好ましくは、80%以
下、さらに好ましくは50%以下である。有機銀塩の形
状の測定方法としては有機銀塩分散物の透過型電子顕微
鏡像より求めることができる。単分散性を測定する別の
方法として、有機銀塩の体積荷重平均直径の標準偏差を
求める方法があり、体積荷重平均直径で割った値の百分
率変動係数が好ましくは100%以下、より好ましくは
80%以下、さらに好ましくは50%以下である。測定
方法としては例えば液中に分散した有機銀塩にレーザー
光を照射し、その散乱光のゆらぎの時間変化に対する自
己相関係数を求めることにより得られた粒子サイズ(体
積荷重平均直径)から求めることができる。The shape of the organic silver salt that can be used in the present invention is not particularly limited, but needle crystals having a short axis and a long axis are preferable. As is well known in the light-sensitive silver halide light-sensitive material, the inversely proportional relationship between the size of silver salt crystal grains and the covering power is also established in the heat-developable light-sensitive material of the present invention. It is necessary to reduce the size of the organic silver salt, because a large organic silver salt particle in the image forming portion means a small covering power and a low image density. In the present invention, the minor axis 0.
It is preferably from 01 μm to 0.20 μm, the major axis is from 0.10 μm to 5.0 μm, and the minor axis is from 0.01 μm to 0.1 μm.
15 μm or less, more preferably 0.10 μm or more and 4.0 μm or less on the major axis. The particle size distribution of the organic silver salt is preferably monodispersed. Monodispersion means the percentage of the value obtained by dividing the standard deviation of the lengths of the minor axis and major axis by the minor axis and major axis, respectively, is preferably 100% or less, more preferably 80% or less, and even more preferably 50% or less. It is. The shape of the organic silver salt can be measured from a transmission electron microscope image of the organic silver salt dispersion. As another method for measuring the monodispersity, there is a method of obtaining the standard deviation of the volume-weighted average diameter of the organic silver salt, and the percentage variation coefficient of the value divided by the volume-weighted average diameter is preferably 100% or less, more preferably It is 80% or less, more preferably 50% or less. As a measuring method, for example, an organic silver salt dispersed in a liquid is irradiated with a laser beam, and the autocorrelation coefficient with respect to the time change of the fluctuation of the scattered light is obtained from the particle size (volume weight average diameter) obtained. be able to.
【0134】本発明における増感色素としてはハロゲン
化銀粒子に吸着した際、所望の波長領域でハロゲン化銀
粒子を分光増感できるものであればいかなるものでもよ
い。増感色素としては、シアニン色素、メロシアニン色
素、コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロ
シアニン色素、ホロホーラーシアニン色素、スチリル色
素、ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソ
ノール色素等を用いることができる。本発明に使用され
る有用な増感色素は例えばRESEARCH DISCLOSURE Item 1
7643IV-A項 (1978年12月p.23) 、同Item 1831X項 (1979
年 8月p.437)に記載もしくは引用された文献に記載され
ている。特に各種レーザーイメージャー、スキャナー、
イメージセッターや製版カメラの光源の分光特性に適し
た分光感度を有する増感色素を有利に選択することがで
きる。The sensitizing dye in the present invention may be any one as long as it can spectrally sensitize silver halide grains in a desired wavelength region when adsorbed on silver halide grains. As the sensitizing dye, a cyanine dye, a merocyanine dye, a complex cyanine dye, a complex merocyanine dye, a holo-holerocyanine dye, a styryl dye, a hemicyanine dye, an oxonol dye, a hemioxonol dye, and the like can be used. Useful sensitizing dyes for use in the present invention include, for example, RESEARCH DISCLOSURE Item 1
7643IV-A (December 1978 p.23) Item 1831X (1979)
, P.437), or in the literature cited. Especially various laser imagers, scanners,
A sensitizing dye having a spectral sensitivity suitable for the spectral characteristics of a light source of an image setter or a plate making camera can be advantageously selected.
【0135】赤色光への分光増感の例としては、He−
Neレーザー光源に対しては、特開昭54−18726
号に記載のI−1からI−38の化合物、特開平6−7
5322号に記載のI−1からI−35の化合物および
特開平7−287338号に記載のI−1からI−34
の化合物、LED光源に対しては特公昭55−3981
8号に記載の色素1から20、特開昭62−28434
3号に記載のI−1からI−37号の化合物および特開
平7−287338号に記載のI−1からI−34の化
合物などが有利に選択される。As an example of spectral sensitization to red light, He-
Japanese Patent Laid-Open No. 54-18726 discloses a Ne laser light source.
Compounds I-1 to I-38 described in JP-A-6-7
Compounds I-1 to I-35 described in JP-A-5322 and I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338.
JP-B-55-3981 for the compound and LED light source
Dyes 1 to 20 described in JP-A-62-28434
Compounds I-1 to I-37 described in No. 3 and compounds I-1 to I-34 described in JP-A-7-287338 are advantageously selected.
【0136】750〜1400nmの範囲のいずれかの波
長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感する。具体的に
は、感光性ハロゲン化銀を、シアニン、メロシアニン、
スチリル、ヘミシアニン、オキソノール、ヘミオキソノ
ールおよびキサンテン色素を含む種々の既知の色素によ
り、スペクトル的に有利に増感させることができる。有
用なシアニン色素は、例えば、チアゾリン核、オキサゾ
リン核、ピロリン核、ピリジン核、オキサゾール核、チ
アゾール核、セレナゾール核およびイミダゾール核など
の塩基性核を有するシアニン色素である。有用なメロシ
アニン染料で好ましいものは、上記の塩基性核に加え
て、チオヒダントイン核、ローダニン核、オキサゾリジ
ンジオン核、チアゾリンジオン核、バルビツール酸核、
チアゾリノン核、マロノニトリル核およびピラゾロン核
などの酸性核も含む。上記のシアニンおよびメロシアン
色素において、イミノ基またはカルボキシル基を有する
ものが特に効果的である。例えば、米国特許第3761
279号、同第3719495号、同第3877943
号、英国特許第1466201号、同第1469117
号、同第1422057号、特公平3−10391号、
特公平6−52387号、特開平5−341432号、
特開平6−194781号、特開平6−301141号
に記載されたような既知の色素から適当に選択してよ
い。特に好ましい色素の構造としてはチオエーテル結合
を有するシアニン色素であり、その例としては特開昭6
2−58239号、同3−138638号、同3−13
8642号、同4−255840号、同5−72659
号、同5−72661号、同6−222491号、同2
−230506号、同6−258757号、同6−31
7868号、同6−324425号、特表平7−500
926号に記載されたシアニン色素が挙げられる。The silver halide grains are spectrally sensitized in any wavelength range from 750 to 1400 nm. Specifically, a photosensitive silver halide is replaced with cyanine, merocyanine,
A variety of known dyes, including styryl, hemicyanine, oxonol, hemioxonol and xanthene dyes, can be spectrally advantageously sensitized. Useful cyanine dyes are, for example, cyanine dyes having basic nuclei such as thiazoline nuclei, oxazoline nuclei, pyrroline nuclei, pyridine nuclei, oxazole nuclei, thiazole nuclei, selenazole nuclei and imidazole nuclei. Preferred useful merocyanine dyes are, in addition to the basic nucleus described above, a thiohydantoin nucleus, a rhodanine nucleus, an oxazolidinedione nucleus, a thiazolinedione nucleus, a barbituric acid nucleus,
It also includes acidic nuclei such as thiazolinone nuclei, malononitrile nuclei and pyrazolone nuclei. Among the above cyanine and merocyanine dyes, those having an imino group or a carboxyl group are particularly effective. For example, US Pat. No. 3,761,
No. 279, No. 3719495, No. 3877943
No., British Patent Nos. 1466201 and 1469117
No. 14222057, Japanese Examined Patent Publication No. 3-10391,
JP-B-6-52387, JP-A-5-341432,
It may be appropriately selected from known dyes described in JP-A-6-194781 and JP-A-6-301141. A particularly preferable dye structure is a cyanine dye having a thioether bond.
2-58239, 3-138638, 3-13
No. 8642, No. 4-255840, No. 5-72659
No. 5, No. 5-72661, No. 6-222491, No. 2
-230506, 6-258757, 6-31
No. 7868, No. 6-324425, Tokuyohei 7-500
The cyanine dyes described in No. 926 are mentioned.
【0137】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は、特に強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色
素、強色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す
物質はリサーチ・ディスクロージャ(Research Disclos
ure) 176巻 17643 (1978年12月発行)第23頁IVのJ
項、あるいは前述の特公昭49−25500号、同43
−4933号、特開昭59−19032号、同59−1
92242号等に記載されている。These sensitizing dyes may be used alone or in combination, and the combination of sensitizing dyes is often used for the purpose of supersensitization. Along with the sensitizing dye, the emulsion may contain a dye which does not itself have a spectral sensitizing effect or a substance which does not substantially absorb visible light and exhibits supersensitization. Useful sensitizing dyes, combinations of dyes exhibiting supersensitization, and substances exhibiting supersensitization are described in Research Disclos
ure) Volume 176 17643 (issued in December 1978) Page 23, IV, J
Or the aforementioned Japanese Examined Patent Publication Nos. 49-25500 and 43.
-4933, JP-A-59-19032 and 59-1.
92242 and the like.
【0138】本発明に用いられる増感色素は2種以上を
併用してもよい。増感色素をハロゲン化銀乳剤中に添加
させるには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、
あるいは水、メタノール、エタノール、プロパノール、
アセトン、メチルセロソルブ、2,2,3,3−テトラ
フルオロプロパノール、2,2,2−トリフルオロエタ
ノール、3−メトキシ−1−プロパノール、3−メトキ
シ−1−ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、N,N−ジメチルホルムアミド等の溶媒の単独もし
くは混合溶媒に溶解して乳剤に添加してもよい。The sensitizing dyes used in the present invention may be used in combination of two or more kinds. To add sensitizing dyes to a silver halide emulsion, they may be directly dispersed in the emulsion,
Or water, methanol, ethanol, propanol,
Acetone, methyl cellosolve, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 3-methoxy-1-propanol, 3-methoxy-1-butanol, 1-methoxy-2-propanol , N, N-dimethylformamide, etc. may be added to the emulsion by dissolving them in a single solvent or in a mixed solvent.
【0139】また、米国特許第3469987号明細書
等に開示されているように、色素を揮発性の有機溶剤に
溶解し、この溶液を水または親水性コロイド中に分散
し、この分散物を乳剤中へ添加する方法、特公昭44−
23389号、同44−27555号、同57−220
91号等に開示されているように、色素を酸に溶解し、
この溶液を乳剤中に添加したり、酸または塩基を共存さ
せて水溶液として乳剤中へ添加する方法、米国特許第3
822135号、同第4006025号明細書等に開示
されているように界面活性剤を共存させて水溶液あるい
はコロイド分散物としたものを乳剤中に添加する方法、
特開昭53−102733号、同58−105141号
に開示されているように親水性コロイド中に色素を直接
分散させ、その分散物を乳剤中に添加する方法、特開昭
51−74624号に開示されているように、レッドシ
フトさせる化合物を用いて色素を溶解し、この溶液を乳
剤中へ添加する方法を用いることもできる。また、溶液
に超音波を用いることもできる。Further, as disclosed in US Pat. No. 3,469,987, etc., a dye is dissolved in a volatile organic solvent, this solution is dispersed in water or a hydrophilic colloid, and this dispersion is used as an emulsion. Method of adding to the inside, Japanese Patent Publication No.44-
23389, 44-25555, 57-220.
As disclosed in No. 91, etc., the dye is dissolved in an acid,
A method in which this solution is added to an emulsion or an aqueous solution is added to the emulsion in the presence of an acid or a base, US Pat.
A method of adding an aqueous solution or colloidal dispersion in the presence of a surfactant to the emulsion as disclosed in, for example, No. 822135 and No. 4006025.
As disclosed in JP-A-53-102733 and JP-A-58-105141, a method in which a dye is directly dispersed in a hydrophilic colloid and the dispersion is added to an emulsion is disclosed in JP-A-51-74624. As disclosed, it is also possible to use a method in which a dye is dissolved using a red-shifting compound and this solution is added to the emulsion. Also, ultrasonic waves can be used for the solution.
【0140】本発明に用いる増感色素を本発明のハロゲ
ン化銀乳剤中に添加する時期は、これまで有用であるこ
とが認められている乳剤調製のいかなる工程中であって
もよい。例えば米国特許第2735766号、同第36
28960号、同第4183756号、同第42256
66号、特開昭58−184142号、同60−196
749号等の明細書に開示されているように、ハロゲン
化銀の粒子形成工程および/または脱塩前の時期、脱銀
工程中および/または脱塩後から化学熟成の開始前まで
の時期、特開昭58−113920号等の明細書に開示
されているように、化学熟成の直前または工程中の時
期、化学熟成後、塗布までの時期の乳剤が塗布される前
ならばいかなる時期、工程において添加されてもよい。
また、米国特許第4225666号、特開昭58−76
29号等の明細書に開示されているように、同一化合物
を単独で、または異種構造の化合物と組み合わせて、例
えば粒子形成工程中と化学熟成工程中または化学熟成完
了後とに分けたり、化学熟成の前または工程中と完了後
とに分けるなどして分割して添加してもよく、分割して
添加する化合物および化合物の組合せの種類を変えて添
加してもよい。The sensitizing dye used in the present invention may be added to the silver halide emulsion of the present invention at any step in the preparation of emulsions which has heretofore been found to be useful. For example, US Pat. Nos. 2,735,766 and 3635.
No. 28960, No. 4183756, No. 42256
66, JP-A-58-184142 and 60-196.
No. 749, etc., the period before the grain formation step and / or desalting of the silver halide, the period during the desilvering step and / or after the desalination to the start of chemical ripening, As disclosed in the specification of JP-A-58-113920 and the like, immediately before or during the chemical ripening, at any time and after the chemical ripening and before the coating until the emulsion is coated. May be added at.
Also, U.S. Pat. No. 4,225,666 and JP-A-58-76.
29, etc., the same compound alone or in combination with a compound having a different structure, for example, divided into a grain formation step and a chemical ripening step or after chemical ripening, The compound may be added in divided portions, such as before aging or during the process and after completion, or the compound and the combination of compounds may be added in different types.
【0141】本発明には現像を抑制あるいは促進させ現
像を制御するため、分光増感効率を向上させるため、現
像前後の保存性を向上させるためなどにメルカプト化合
物、ジスルフィド化合物、チオン化合物を含有させるこ
とができる。In the present invention, a mercapto compound, a disulfide compound, and a thione compound are contained in order to suppress or accelerate development and control development, to improve spectral sensitization efficiency, to improve storage stability before and after development. be able to.
【0142】本発明にメルカプト化合物を使用する場
合、いかなる構造のものでもよいが、Ar−SM、Ar
−S−S−Arで表されるものが好ましい。式中、Mは
水素原子またはアルカリ金属原子であり、Arは1個以
上の窒素、イオウ、酸素、セレニウムまたはテルリウム
原子を有する芳香環または縮合芳香環である。好ましく
は、複素芳香環はベンズイミダゾール、ナフトイミダゾ
ール、ベンゾチアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオ
キサゾール、ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾー
ル、ベンゾテルゾール、イミダゾール、オキサゾール、
ピラゾール、トリアゾール、チアジアゾール、テトラゾ
ール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、ピラジ
ン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリノンで
ある。この複素芳香環は、例えば、ハロゲン(例えば、
BrおよびCl)、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ、
アルキル(例えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1
〜4個の炭素原子を有するもの)およびアルコキシ(例
えば、1個以上の炭素原子、好ましくは1〜4個の炭素
原子を有するもの)からなる置換基群から選択されるも
のを有してもよい。メルカプト置換複素芳香族化合物を
としては、2−メルカプトベンズイミダゾール、2−メ
ルカプトベンズオキサゾール、2−メルカプトベンゾチ
アゾール、2−メルカプト−5−メチルベンズイミダゾ
ール、6−エトキシ−2−メルカプトベンゾチアゾー
ル、2,2’−ジチオビス−ベンゾチアゾール、3−メ
ルカプト−1,2,4−トリアゾール、4,5−ジフェ
ニル−2−イミダゾールチオール、2−メルカプトイミ
ダゾール、1−エチル−2−メルカプトベンズイミダゾ
ール、2−メルカプトキノリン、8−メルカプトプリ
ン、2−メルカプト−4(3H)−キナゾリノン、7−
トリフルオロメチル−4−キノリンチオール、2,3,
5,6−テトラクロロ−4−ピリジンチオール、4−ア
ミノ−6−ヒドロキシ−2−メルカプトピリミジンモノ
ヒドレート、2−アミノ−5−メルカプト−1,3,4
−チアジアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,
2,4−トリアゾール、4−ヒドロキシ−2−メルカプ
トピリミジン、2−メルカプトピリミジン、4,6−ジ
アミノ−2−メルカプトピリミジン、2−メルカプト−
4−メチルピリミジンヒドロクロリド、3−メルカプト
−5−フェニル−1,2,4−トリアゾール、2−メル
カプト−4−フェニルオキサゾールなどが挙げられる
が、本発明はこれらに限定されない。When a mercapto compound is used in the present invention, it may have any structure, but Ar-SM, Ar
Those represented by -SS-Ar are preferred. In the formula, M is a hydrogen atom or an alkali metal atom, and Ar is an aromatic ring or a condensed aromatic ring having one or more nitrogen, sulfur, oxygen, selenium or tellurium atoms. Preferably, the heteroaromatic ring is benzimidazole, naphthimidazole, benzothiazole, naphthothiazole, benzoxazole, naphthoxazole, benzoselenazole, benzoterzole, imidazole, oxazole,
Pyrazole, triazole, thiadiazole, tetrazole, triazine, pyrimidine, pyridazine, pyrazine, pyridine, purine, quinoline or quinazolinone. This heteroaromatic ring is, for example, a halogen (for example,
Br and Cl), hydroxy, amino, carboxy,
Alkyl (eg one or more carbon atoms, preferably 1
May also have a substituent selected from the group consisting of those having from 1 to 4 carbon atoms) and alkoxy (e.g., having at least one carbon atom, preferably having from 1 to 4 carbon atoms). Good. Examples of the mercapto-substituted heteroaromatic compound include 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole, 6-ethoxy-2-mercaptobenzothiazole, 2'-dithiobis-benzothiazole, 3-mercapto-1,2,4-triazole, 4,5-diphenyl-2-imidazolethiol, 2-mercaptoimidazole, 1-ethyl-2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptoquinoline , 8-mercaptopurine, 2-mercapto-4 (3H) -quinazolinone, 7-
Trifluoromethyl-4-quinolinethiol, 2,3
5,6-tetrachloro-4-pyridinethiol, 4-amino-6-hydroxy-2-mercaptopyrimidine monohydrate, 2-amino-5-mercapto-1,3,4
-Thiadiazole, 3-amino-5-mercapto-1,
2,4-triazole, 4-hydroxy-2-mercaptopyrimidine, 2-mercaptopyrimidine, 4,6-diamino-2-mercaptopyrimidine, 2-mercapto-
Examples include 4-methylpyrimidine hydrochloride, 3-mercapto-5-phenyl-1,2,4-triazole, 2-mercapto-4-phenyloxazole, and the like, but the invention is not limited thereto.
【0143】これらのメルカプト化合物の添加量として
は乳剤層中に銀1モル当たり0.001〜1.0モルの
範囲が好ましく、さらに好ましくは、銀の1モル当たり
0.01〜0.3モルの量である。The addition amount of these mercapto compounds is preferably in the range of 0.001 to 1.0 mol per mol of silver in the emulsion layer, and more preferably 0.01 to 0.3 mol per mol of silver. Is the amount of.
【0144】画像を向上させる「色調剤」として知られ
る添加剤を含むと有利になることがある。例えば色調剤
材料は、全銀保持成分の0.1〜10重量%の量で存在
してよい。色調剤は、米国特許第3080254号、同
第3847612号および同第4123282号に示さ
れるように、写真技術において周知の材料である。It may be advantageous to include additives known as "toning agents" to improve the image. For example, the toning material may be present in an amount of 0.1 to 10% by weight of the total silver carrying component. Toning agents are materials well known in the photographic art, as shown in U.S. Pat. Nos. 3,080,254, 3,847,612 and 4,123,282.
【0145】色調剤の例は、フタルイミドおよびN−ヒ
ドロキシフタルイミド;スクシンイミド、ピラゾリン−
5−オン、ならびにキナゾリノン、3−フェニル−2−
ピラゾリン−5−オン、1−フェニルウラゾール、キナ
ゾリンおよび2,4−チアゾリジンジオンのような環状
イミド;ナフタルイミド(例えば、N−ヒドロキシ−
1,8−ナフタルイミド);コバルト錯体(例えば、コ
バルトヘキサミントリフルオロアセテート);3−メル
カプト−1,2,4−トリアゾール、2,4−ジメルカ
プトピリミジン、3−メルカプト−4,5−ジフェニル
−1,2,4−トリアゾールおよび2,5−ジメルカプ
ト−1,3,4−チアジアゾールに例示されるメルカプ
タン;N−(アミノメチル)アリールジカルボキシイミ
ド[例えば、(N,N−ジメチルアミノメチル)フタル
イミドおよびN,N−(ジメチルアミノメチル)−ナフ
タレン−2,3−ジカルボキシイミド);ならびにブロ
ック化ピラゾール、イソチウロニウム誘導体およびある
種の光退色剤(例えば、N,N’−ヘキサメチレンビス
(1−カルバモイル−3,5−ジメチルピラゾール)、
1,8−(3,6−ジアザオクタン)ビス(イソチウロ
ニウムトリフルオロアセテート)および2−トリブロモ
メチルスルホニル)−(ベンゾチアゾール)];ならび
に3−エチル−5[(3−エチル−2−ベンゾチアゾリ
ニリデン)−1−メチルエチリデン]−2−チオ−2,
4−オキサゾリジンジオン;フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体もしくは金属塩、または4−(1−ナフチル)
フタラジノン、6−クロロフタラジノン、5,7−ジメ
トキシフタラジノンおよび2,3−ジヒドロ−1,4−
フタラジンジオンなどの誘導体;フタラジノンとフタル
酸誘導体(例えば、フタル酸、4−メチルフタル酸、4
−ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水フタル酸な
ど)との組合せ;フタラジン、フタラジン誘導体もしく
は金属塩、または4−(1−ナフチル)フタラジン、6
−クロロフタラジン、5,7−ジメトキシフタラジンお
よび2,3−ジヒドロフタラジンなどの誘導体;フタラ
ジンとフタル酸誘導体(例えば、フタル酸、4−メチル
フタル酸、4−ニトロフタル酸およびテトラクロロ無水
フタル酸など)との組合せ;キナゾリンジオン、ベンズ
オキサジンまたはナフトオキサジン誘導体;色調調節剤
としてだけでなくその場でハロゲン化銀生成のためのハ
ライドイオンの源としても機能するロジウム錯体、例え
ばヘキサクロロロジウム(III) 酸アンモニウム、臭化ロ
ジウム、硝酸ロジウムおよびヘキサクロロロジウム(II
I) 酸カリウムなど;無機過酸化物および過硫酸塩、例
えば、過酸化二硫化アンモニウムおよび過酸化水素;
1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオン、8−メチ
ル−1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオンおよび
6−ニトロ−1,3−ベンズオキサジン−2,4−ジオ
ンなどのベンズオキサジン−2,4−ジオン;ピリミジ
ンおよび不斉−トリアジン(例えば、2,4−ジヒドロ
キシピリミジン、2−ヒドロキシ−4−アミノピリミジ
ンなど)、アザウラシル、およびテトラアザペンタレン
誘導体(例えば、3,6−ジメルカプト−1,4−ジフ
ェニル−1H,4H−2,3a,5,6a−テトラアザ
ペンタレン、および1,4−ジ(o−クロロフェニル)
−3,6−ジメルカプト−1H,4H−2,3a,5,
6a−テトラアザペンタレン)などがある。Examples of toning agents are phthalimide and N-hydroxyphthalimide; succinimide, pyrazoline-
5-one, and quinazolinone, 3-phenyl-2-
Cyclic imides such as pyrazolin-5-one, 1-phenylurazole, quinazoline and 2,4-thiazolidinedione; naphthalimides (e.g. N-hydroxy-
1,8-naphthalimide); cobalt complex (for example, cobalt hexamine trifluoroacetate); 3-mercapto-1,2,4-triazole, 2,4-dimercaptopyrimidine, 3-mercapto-4,5-diphenyl- Mercaptans exemplified by 1,2,4-triazole and 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole; N- (aminomethyl) aryldicarboximide [eg, (N, N-dimethylaminomethyl) phthalimide And N, N- (dimethylaminomethyl) -naphthalene-2,3-dicarboximide); and blocked pyrazoles, isothiuronium derivatives and certain photobleaching agents (eg N, N'-hexamethylenebis (1- Carbamoyl-3,5-dimethylpyrazole),
1,8- (3,6-diazaoctane) bis (isothiuronium trifluoroacetate) and 2-tribromomethylsulfonyl)-(benzothiazole)]; and 3-ethyl-5 [(3-ethyl-2-benzo Thiazolinylidene) -1-methylethylidene] -2-thio-2,
4-oxazolidinedione; phthalazinone, phthalazinone derivative or metal salt, or 4- (1-naphthyl)
Phthalazinone, 6-chlorophthalazinone, 5,7-dimethoxyphthalazinone and 2,3-dihydro-1,4-
Derivatives such as phthalazinedione; phthalazinone and phthalic acid derivatives (eg, phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4
-Nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride, etc.); phthalazine, phthalazine derivatives or metal salts, or 4- (1-naphthyl) phthalazine, 6
-Derivatives such as chlorophthalazine, 5,7-dimethoxyphthalazine and 2,3-dihydrophthalazine; phthalazine and phthalic acid derivatives (eg phthalic acid, 4-methylphthalic acid, 4-nitrophthalic acid and tetrachlorophthalic anhydride) Etc.); quinazolinediones, benzoxazine or naphthoxazine derivatives; rhodium complexes that function not only as toning agents but also as a source of halide ions for silver halide formation in situ, eg hexachlororhodium (III) Ammonium acid, rhodium bromide, rhodium nitrate and hexachlororhodium (II
I) Potassium acid and the like; inorganic peroxides and persulfates, such as ammonium disulfide and hydrogen peroxide;
Benzoxazines such as 1,3-benzoxazine-2,4-dione, 8-methyl-1,3-benzoxazine-2,4-dione and 6-nitro-1,3-benzoxazine-2,4-dione -2,4-dione; pyrimidine and asymmetric-triazine (for example, 2,4-dihydroxypyrimidine, 2-hydroxy-4-aminopyrimidine, etc.), azauracil, and tetraazapentalene derivative (for example, 3,6-dimercapto) -1,4-diphenyl-1H, 4H-2,3a, 5,6a-tetraazapentalene, and 1,4-di (o-chlorophenyl)
-3,6-dimercapto-1H, 4H-2,3a, 5
6a-tetraazapentalene) and the like.
【0146】本発明における乳剤層のバインダーとして
は、よく知られている天然または合成樹脂、例えば、ゼ
ラチン、ポリビニルアセタール、ポリビニルクロリド、
ポリビニルアセテート、セルロースアセテート、ポリオ
レフィン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリアクリロ
ニトリル、ポリカーボネートなどから任意のものを選択
することができる。当然ながら、コポリマーおよびター
ポリマーも含まれる。好ましいポリマーは、ポリビニル
ブチラール、ブチルエチルセルロース、メタクリレート
コポリマー、無水マレイン酸エステルコポリマー、ポリ
スチレンおよびブタジエン- スチレンコポリマーであ
る。必要に応じて、これらのポリマーを2種またはそれ
以上組合せて使用することができる。そのようなポリマ
ーは、成分をその中に保持するのに十分な量で使用され
る。すなわち、バインダーとして機能するのに効果的な
範囲で使用される。効果的な範囲は、当業者が適切に決
定することができる。少なくとも有機銀塩を保持する場
合の目安として、バインダー対有機銀塩の割合は、1
5:1〜1:2、特に8:1〜1:1の範囲が好まし
い。As the binder for the emulsion layer in the present invention, well-known natural or synthetic resins such as gelatin, polyvinyl acetal, polyvinyl chloride,
Any one can be selected from polyvinyl acetate, cellulose acetate, polyolefin, polyester, polystyrene, polyacrylonitrile, polycarbonate and the like. Of course, copolymers and terpolymers are also included. Preferred polymers are polyvinyl butyral, butyl ethyl cellulose, methacrylate copolymers, maleic anhydride ester copolymers, polystyrene and butadiene-styrene copolymers. If necessary, two or more of these polymers can be used in combination. Such a polymer is used in an amount sufficient to hold the components therein. That is, it is used in a range effective to function as a binder. The effective range can be appropriately determined by those skilled in the art. As a guide when at least the organic silver salt is retained, the ratio of the binder to the organic silver salt is 1
The range of 5: 1 to 1: 2, particularly 8: 1 to 1: 1 is preferred.
【0147】本発明における感光材料は画像形成層の付
着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。
表面保護層としては、いかなる付着防止材料を使用して
もよい。付着防止材料の例としては、ワックス、シリカ
粒子、スチレン含有エラストマー性ブロックコポリマー
( 例えば、スチレン- ブタジエン- スチレン、スチレン
- イソプレン- スチレン) 、酢酸セルロース、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースプロピオネートや
これらの混合物などがある。The light-sensitive material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer.
Any anti-adhesion material may be used as the surface protective layer. Examples of anti-adhesion materials are wax, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers.
(For example, styrene-butadiene-styrene, styrene
-Isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and mixtures thereof.
【0148】本発明における乳剤層もしくは乳剤層の保
護層には米国特許第3253921号、同第22747
82号、同第2527583号および同第295687
9号に記載されているような光吸収物質およびフィルタ
ー染料を含む写真要素において使用することができる、
また、例えば、米国特許第3282699号に記載のよ
うに染料を媒染することができる。The emulsion layer or the protective layer for the emulsion layer in the present invention is described in US Pat. Nos. 3,253,921 and 22,747.
No. 82, No. 2527583 and No. 295687.
Can be used in photographic elements containing light absorbing materials and filter dyes as described in No. 9,
Further, for example, a dye can be mordanted as described in US Pat. No. 3,282,699.
【0149】本発明における乳剤層もしくは乳剤層の保
護層には、艶消剤、例えばデンプン、二酸化チタン、酸
化亜鉛、シリカ、米国特許第2992101号および同
2701245号に記載された種類のビーズを含むポリ
マービーズなどを含有することができる。また、乳剤面
のマット度は星屑故障が生じなければいかようでもよい
が、ベック平滑度が1000秒以上10000秒以下が
好ましく、特に2000秒以上10000秒以下が好ま
しい。The emulsion layer or the protective layer of the emulsion layer in the present invention contains a matting agent such as starch, titanium dioxide, zinc oxide, silica, beads of the type described in US Pat. Nos. 2,992,101 and 2,701,245. It may contain polymer beads and the like. The matteness of the emulsion surface may be anything as long as stardust failure does not occur, but the Beck's smoothness is preferably 1000 seconds or more and 10,000 seconds or less, and particularly preferably 2000 seconds or more and 10,000 seconds or less.
【0150】本発明におけるハロゲン化銀乳剤および/
または有機銀塩は、カブリ防止剤、安定剤および安定剤
前駆体によって、付加的なかぶりの生成に対して更に保
護され、在庫貯蔵中における感度の低下に対して安定化
することができる。単独または組合せて使用することが
できる適当なカブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
は、米国特許第2131038号および同第26947
16号に記載のチアゾニウム塩、米国特許第28864
37号および同第2444605号に記載のアザインデ
ン、米国特許第2728663号に記載の水銀塩、米国
特許第3287135号に記載のウラゾール、米国特許
第3235652号に記載のスルホカテコール、英国特
許第623448号に記載のオキシム、ニトロン、ニト
ロインダゾール、米国特許第2839405号に記載の
多価金属塩、米国特許第3220839号に記載のチウ
ロニウム塩、ならびに米国特許第2566263号およ
び同第2597915号に記載のパラジウム、白金およ
び金塩、米国特許第4108665号および同第444
2202号に記載のハロゲン置換有機化合物、米国特許
第4128557号および同第4137079号、第4
138365号および同第4459350号に記載のト
リアジンならびに米国特許第4411985号に記載の
リン化合物などがある。In the present invention, the silver halide emulsion and / or
Alternatively, the organic silver salt can be further protected against the formation of additional fog and stabilized against loss of sensitivity during inventory storage by antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors. Suitable antifoggants, stabilizers and stabilizer precursors that can be used alone or in combination are described in US Pat.
Thiazonium salt described in No. 16, US Patent No. 28864
Azaindene described in Nos. 37 and 2444605, mercury salts described in U.S. Pat. No. 2,728,663, urazoles described in U.S. Pat. No. 3,287,135, sulfocatechol described in U.S. Pat. No. 3,235,652, and British Patent No. 623448. Oxime, nitrone, nitroindazole, polyvalent metal salt described in U.S. Pat. No. 2,839,405, thyuronium salt described in U.S. Pat. No. 3,208,839, and palladium, platinum described in U.S. Pat. Nos. 2,566,263 and 2,597,915. And gold salts, U.S. Pat. Nos. 4,108,665 and 4,444.
No. 2202, halogen-substituted organic compounds described in U.S. Pat. Nos. 4,128,557 and 4,137,079;
And triazines described in US Pat. No. 4,441,1985 and the like.
【0151】本発明における感光性層には、可塑剤およ
び潤滑剤として多価アルコール( 例えば、米国特許第2
960404号に記載された種類のグリセリンおよびジ
オール) 、米国特許第2588765号および同第31
21060号に記載の脂肪酸またはエステル、英国特許
第955061号に記載のシリコーン樹脂などを用いる
ことができる。The photosensitive layer in the present invention contains a polyhydric alcohol as a plasticizer and a lubricant (see, for example, US Pat.
Glycerin and diols of the type described in U.S. Pat. No. 960404), U.S. Pat.
The fatty acid or ester described in No. 21060, the silicone resin described in British Patent No. 955061 and the like can be used.
【0152】本発明の感光性層、保護層、バック層など
各層には硬膜剤を用いても良い。硬膜剤の例としては、
米国特許4281060号、特開平6−208193号
などに記載されているポリイソシアネート類、米国特許
4791042号などに記載されているエポキシ化合物
類、特開昭62−89048号などに記載されているビ
ニルスルホン系化合物類などが用いられる。A hardener may be used in each of the layers such as the photosensitive layer, the protective layer and the back layer of the present invention. Examples of hardeners include:
Polyisocyanates described in U.S. Pat. No. 4,281,060 and JP-A-6-208193, epoxy compounds described in U.S. Pat. No. 4,791,042, vinyl sulfone described in JP-A-62-89048 and the like. Compounds and the like are used.
【0153】本発明には塗布性、帯電改良などを目的と
して界面活性剤を用いても良い。界面活性剤の例として
は、ノニオン系、アニオン系、カチオン系、フッ素系な
どいかなるものも適宜用いられる。具体的には、特開昭
62−170950号、米国特許5382504号など
に記載のフッ素系高分子界面活性剤、特開昭60−24
4945号、特開昭63−188135号などに記載の
フッ素系界面活性剤、米国特許3885965号などに
記載のポリシロキ酸系界面活性剤、特開平6−3011
40号などに記載のポリアルキレンオキサイドやアニオ
ン系界面活性剤などが挙げられる。In the present invention, a surfactant may be used for the purpose of improving coatability and charging. As the surfactant, any surfactant such as nonionic, anionic, cationic, and fluorine can be used as appropriate. Specifically, the fluoropolymer surfactants described in JP-A-62-170950, US Pat. No. 5,382,504 and the like, JP-A-60-24.
No. 4945, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-188135, and the like, Fluorine-based surfactants, polysiloxy acid-based surfactants, such as those described in US Pat. No. 3,885,965, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-3011.
Examples thereof include polyalkylene oxides described in No. 40 and anionic surfactants.
【0154】本発明における感光材料は画像形成層の付
着防止などの目的で表面保護層を設けることができる。
表面保護層としては、いかなる付着防止材料を使用して
もよい。付着防止材料の例としては、ワックス、シリカ
粒子、スチレン含有エラストマー性ブロックコポリマー
( 例えば、スチレン- ブタジエン- スチレン、スチレン
- イソプレン- スチレン) 、酢酸セルロース、セルロー
スアセテートブチレート、セルロースプロピオネートや
これらの混合物などがある。The light-sensitive material of the present invention may be provided with a surface protective layer for the purpose of preventing adhesion of the image forming layer.
Any anti-adhesion material may be used as the surface protective layer. Examples of anti-adhesion materials are wax, silica particles, styrene-containing elastomeric block copolymers.
(For example, styrene-butadiene-styrene, styrene
-Isoprene-styrene), cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, cellulose propionate and mixtures thereof.
【0155】本発明における乳剤層もしくは乳剤層の保
護層には、米国特許第3253921号、同第2274
782号、同第2527583号および同第29568
79号に記載されているような光吸収物質およびフィル
ター染料を含むことができる。また、例えば米国特許第
3282699号に記載のように染料を媒染することが
できる。The emulsion layer or the protective layer for the emulsion layer in the present invention is described in US Pat. Nos. 3,253,921 and 2274.
No. 782, No. 2527583 and No. 29568.
Light absorbing materials and filter dyes such as those described in No. 79 may be included. Further, a dye can be mordanted as described in US Pat. No. 3,282,699.
【0156】本発明における乳剤層もしくは乳剤層の保
護層には、艶消剤、例えばデンプン、二酸化チタン、酸
化亜鉛、シリカ、米国特許第2992101号および同
第2701245号に記載された種類のビーズを含むポ
リマービーズなどを含有することができる。また、乳剤
面のマット度は星屑故障が生じなければいかようでも良
いが、ベック平滑度が1000秒以上10000秒以下
がが好ましく、特に2000秒以上10000秒以下が
好ましい。Matting agents such as starch, titanium dioxide, zinc oxide, silica, beads of the type described in US Pat. Nos. 2,992,101 and 2,701,245 are used in the emulsion layer or protective layer of the emulsion layer in the present invention. It may contain polymer beads, etc. The matt degree of the emulsion surface may be any value as long as no stardust failure occurs, but the Beck smoothness is preferably from 1,000 seconds to 10,000 seconds, particularly preferably from 2,000 seconds to 10,000 seconds.
【0157】本発明における熱現像用写真乳剤は、種々
の支持体上に被覆させることができる。典型的な支持体
は、ポリエステルフィルム、下塗りポリエステルフィル
ム、ポリ(エチレンテレフタレート)フィルム、ポリエ
チレンナフタレートフィルム、硝酸セルロースフィル
ム、セルロースエステルフィルム、ポリ(ビニルアセタ
ール)フィルム、ポリカーボネートフィルムおよび関連
するまたは樹脂状の材料、ならびにガラス、紙、金属な
どを含む。可撓性基材、特に、部分的にアセチル化され
た、もしくはバライタおよび/またはα−オレフィンポ
リマー、特にポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン
- ブテンコポリマーなどの炭素数2〜10のα−オレフ
ィンのポリマーによりコートされた紙支持体が、典型的
に用いられる。支持体は透明であっても不透明であって
もよいが、透明であることが好ましい。The photographic emulsion for heat development in the present invention can be coated on various supports. Typical supports include polyester films, subbed polyester films, poly (ethylene terephthalate) films, polyethylene naphthalate films, cellulose nitrate films, cellulose ester films, poly (vinyl acetal) films, polycarbonate films and related or resinous. Including materials, as well as glass, paper, metal and the like. Flexible substrates, especially partially acetylated, or baryta and / or α-olefin polymers, especially polyethylene, polypropylene, ethylene
-Paper supports coated with polymers of C2-C10 alpha-olefins such as butene copolymers are typically used. The support may be transparent or opaque, but is preferably transparent.
【0158】本発明における感光材料は、帯電防止また
は導電性層、例えば、可溶性塩(例えば塩化物、硝酸塩
など) 、蒸着金属層、米国特許第2861056号およ
び同第3206312号に記載のようなイオン性ポリマ
ーまたは米国特許第3428451号に記載のような不
溶性無機塩などを含む層などを有してもよい。The light-sensitive material of the present invention comprises an antistatic or conductive layer such as a soluble salt (eg chloride, nitrate, etc.), a vapor-deposited metal layer, an ion as described in US Pat. Nos. 2861056 and 3206312. It may have a layer containing an organic polymer or an insoluble inorganic salt as described in US Pat. No. 3,428,451.
【0159】本発明における熱現像感光材料を用いてカ
ラー画像を得る方法としては特開平7−13295号1
0頁左欄43行目から11左欄40行目に記載の方法が
ある。また、カラー染料画像の安定剤としては英国特許
第1326889号、米国特許第3432300号、同
第3698909号、同第3574627号、同第35
73050号、同第3764337号および同第404
2394号に例示されている。A method for obtaining a color image using the photothermographic material of the present invention is described in JP-A-7-132951.
There is a method described on page 0, left column, line 43 to 11 left column, line 40. Further, examples of stabilizers for color dye images include British Patent No. 1326889, U.S. Pat. No. 3,432,300, No. 3698909, No. 3574627, and No. 35.
73050, 3764337 and 404.
2394.
【0160】本発明における熱現像写真乳剤は、浸漬コ
ーティング、エアナイフコーティング、フローコーティ
ングまたは、米国特許第2681294号に記載の種類
のホッパーを用いる押出コーティングを含む種々のコー
ティング操作により被覆することができる。所望によ
り、米国特許第2761791号および英国特許第83
7095号に記載の方法により2層またはそれ以上の層
を同時に被覆することができる。The photothermographic emulsions of this invention can be coated by a variety of coating operations including dip coating, air knife coating, flow coating or extrusion coating using a hopper of the type described in US Pat. No. 2,681,294. If desired, US Pat. No. 2,761,791 and British Patent No. 83
Two or more layers can be coated simultaneously by the method described in US Pat.
【0161】本発明における熱現像感光材料の中に追加
の層、例えば移動染料画像を受容するための染料受容
層、反射印刷が望まれる場合の不透明化層、保護トップ
コート層および光熱写真技術において既知のプライマー
層などを含むことができる。本発明の感光材料はその感
光材料一枚のみで画像形成できることが好ましく、受像
層等の画像形成に必要な機能性層が別の感光材料となら
ないことが好ましい。Additional layers in the photothermographic material of the present invention, such as a dye-receiving layer for receiving a moving dye image, an opaque layer if reflective printing is desired, a protective topcoat layer and photothermographic techniques It may include a known primer layer and the like. The light-sensitive material of the present invention is preferably capable of forming an image with only one light-sensitive material, and it is preferable that a functional layer necessary for image formation such as an image receiving layer does not serve as another light-sensitive material.
【0162】本発明における塩化ビニリデン共重合体と
しては、50〜99.9重量%、好ましくは70〜99
重量%の塩化ビニリデンを含有する共重合体で、例え
ば、特開昭51−135526号記載の塩化ビニリデン
/アクリル酸エステル/側鎖にアルコールを有するビニ
リデン単量体よりなる共重合体、米国特許第28523
78号記載の塩化ビニリデン/アルキルアクリレート/
アクリル酸よりなる共重合体、米国特許第269823
5号記載の塩化ビニリデン/アクリロニトリル/イタコ
ン酸よりなる共重合体、米国特許第3788856号記
載の塩化ビニリデン/アルキルアクリレート/イタコン
酸よりなる共重合体等が挙げられる。以下に具体的な化
合物例を示すが、本発明はこれらに限定されるわけでは
ない。なお、カッコ内の数字は全て重量比を表す。The vinylidene chloride copolymer in the present invention is 50 to 99.9% by weight, preferably 70 to 99% by weight.
A copolymer containing vinylidene chloride in a weight percentage, for example, a copolymer of vinylidene chloride / acrylic acid ester / a vinylidene monomer having an alcohol in a side chain described in JP-A-51-135526, U.S. Pat. 28523
No. 78 vinylidene chloride / alkyl acrylate /
A copolymer of acrylic acid, US Pat. No. 269823
Examples thereof include a copolymer of vinylidene chloride / acrylonitrile / itaconic acid described in No. 5, a copolymer of vinylidene chloride / alkyl acrylate / itaconic acid described in US Pat. No. 3,788,856, and the like. Specific examples of the compounds are shown below, but the present invention is not limited thereto. All numbers in parentheses are weight ratios.
【0163】塩化ビニリデン:メチルアクリレート:ヒ
ドロキシエチルアクリレート(83:12:5)の共重
合体 塩化ビニリデン:ヒドロキシエチルメタクリレート:ヒ
ドロキシプロピルアクリレート(82:10:8)の共
重合体 塩化ビニリデン:ヒドロキシジエチルメタクリレート
(92:8)の共重合体 塩化ビニリデン:ブチルアクリレート:アクリル酸(9
2:4:2)の共重合体 塩化ビニリデン:ブチルアクリレート:イタコン酸(7
5:20:5)の共重合体 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:イタコン酸(9
0:8:2)の共重合体 塩化ビニリデン:イタコン酸モノエチルエステル(9
6:4)の共重合体 塩化ビニリデン:アクリロニトリル:アクリル酸(9
6:3.5:1.5)の共重合体 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:アクリル酸(9
2:5:3)の共重合体 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:3−クロロ−2
−ヒドロキシプロピルアクリレート(84:9:7)の
共重合体 塩化ビニリデン:メチルアクリレート:N−エタノール
アクリルアミド(85:10:5)の共重合体Copolymer of vinylidene chloride: methyl acrylate: hydroxyethyl acrylate (83: 12: 5) Copolymer of vinylidene chloride: hydroxyethyl methacrylate: hydroxypropyl acrylate (82: 10: 8) Vinylidene chloride: hydroxydiethyl methacrylate (92: 8) copolymer vinylidene chloride: butyl acrylate: acrylic acid (9
2: 4: 2) copolymer vinylidene chloride: butyl acrylate: itaconic acid (7
5: 20: 5) copolymer vinylidene chloride: methyl acrylate: itaconic acid (9
0: 8: 2) copolymer vinylidene chloride: itaconic acid monoethyl ester (9
6: 4) copolymer vinylidene chloride: acrylonitrile: acrylic acid (9
6: 3.5: 1.5) copolymer vinylidene chloride: methyl acrylate: acrylic acid (9
2: 5: 3) copolymer vinylidene chloride: methyl acrylate: 3-chloro-2
-Copolymer of hydroxypropyl acrylate (84: 9: 7) Copolymer of vinylidene chloride: methyl acrylate: N-ethanol acrylamide (85: 10: 5)
【0164】本発明における塩化ビニリデン共重合体を
塗設する方法としては、これらポリマーを適当な有機溶
剤に溶かした液、または水に分散した液を一般によく知
られた、ディップコート法、エアーナイフコート法、カ
ーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコー
ト法、グラビアコート法、あるいは米国特許第2681
294号記載のホッパーを使用するエクストル−ジョン
コート法などにより塗布することができる。また、溶融
したポリマーを移動しつつある被塗布物に流下させ、冷
却と同時に圧力により張り合わせるいわゆる押し出しコ
ーティング法やあらかじめフィルム状にしたポリマーを
糊剤および熱で張り合わせるラミネート法などを用いて
もよい。As the method for coating the vinylidene chloride copolymer in the present invention, a solution prepared by dissolving these polymers in a suitable organic solvent or a solution prepared by dispersing these polymers in water is well known, and is generally known as a dip coating method or an air knife method. Coating method, curtain coating method, roller coating method, wire bar coating method, gravure coating method, or US Pat.
It can be applied by an extrusion-coating method using a hopper described in No. 294. Further, it is possible to use a so-called extrusion coating method in which a melted polymer is made to flow down to a moving object to be coated and is bonded by pressure at the same time as cooling, or a laminating method in which a polymer in a film form is bonded by a paste and heat. Good.
【0165】本発明における熱現像感光材料は、支持体
の一方の側に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤を含む
感光性層を有し、他方の側にバック層(バッキング層)
を有する、いわゆる片面感光材料であることが好まし
い。The photothermographic material of the present invention has a photosensitive layer containing at least one silver halide emulsion on one side of a support and a back layer (backing layer) on the other side.
A so-called single-sided photosensitive material having
【0166】本発明において片面感光材料は、搬送性改
良のためにマット剤を添加してもよい。マット剤は、一
般に水に不溶性の有機または無機化合物の微粒子であ
る。マット剤としては任意のものを使用でき、例えば米
国特許第1939213号、同第2701245号、同
第2322037号、同第32626782号、同第3
539344号、同第3767448号等の各明細書に
記載の有機マット剤、同第1260772号、同第21
92241号、同第3257206号、同第33709
51号、同第3523022号、同第3769020号
等の各明細書に記載の無機マット剤など当業界でよく知
られたものを用いることができる。例えば具体的にはマ
ット剤として用いることのできる有機化合物の例として
は、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチルアクリ
レート、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリロニト
リル、アクリロニトリル−α−メチルスチレン共重合
体、ポリスチレン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合
体、ポリビニルアセテート、ポリエチレンカーボネー
ト、ポリテトラフルオロエチレンなど、セルロース誘導
体の例としてはメチルセルロース、セルロースアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネートなど、澱粉誘
導体の例としてカルボキシ澱粉、カルボキシニトロフェ
ニル澱粉、尿素−ホルムアルデヒド−澱粉反応物など、
公知の硬化剤で硬化したゼラチンおよびコアセルベート
硬化して微小カプセル中空粒体とした硬化ゼラチンなど
を好ましく用いることができる。無機化合物の例として
は二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化マグネシウム、
酸化アルミニウム、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、公
知の方法で減感した塩化銀、同じく臭化銀、ガラス、珪
藻土などを好ましく用いることができる。上記のマット
剤は必要に応じて異なる種類の物質を混合して用いるこ
とができる。マット剤の大きさ、形状に特に限定はな
く、任意の粒径のものを用いることができる。本発明の
実施に際しては0.1μm〜30μm の粒径のものを用
いるのが好ましい。また、マット剤の粒径分布は狭くて
も広くてもよい。一方、マット剤は感光材料のヘイズ、
表面光沢に大きく影響することから、マット剤作製時あ
るいは複数のマット剤の混合により、粒径、形状および
粒径分布を必要に応じた状態にすることが好ましい。In the present invention, a matting agent may be added to the one-sided photosensitive material in order to improve transportability. The matting agent is generally fine particles of an organic or inorganic compound insoluble in water. As the matting agent, any matting agent can be used. For example, U.S. Pat. Nos. 1,939,213, 2,701,245, 2,322,037, 3,226,672, and 3
Organic matting agents described in the respective specifications, such as 593344 and 376,448, 1260772, 21st
No. 92241, No. 3257206, No. 33709
Inorganic matting agents well-known in the art such as inorganic matting agents described in the respective specifications such as No. 51, No. 3523022, and No. 3769020 can be used. For example, specifically, examples of organic compounds that can be used as a matting agent include, as examples of water-dispersible vinyl polymers, polymethyl acrylate, polymethyl methacrylate, polyacrylonitrile, acrylonitrile-α-methylstyrene copolymer, and polystyrene. , Styrene-divinylbenzene copolymer, polyvinyl acetate, polyethylene carbonate, polytetrafluoroethylene, etc., examples of cellulose derivatives such as methylcellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, etc., and starch derivatives such as carboxy starch, carboxynitrophenyl Starch, urea-formaldehyde-starch reactants, etc.
Gelatin hardened with a known hardener, hardened gelatin obtained by coacervate hardening to form hollow microcapsules, and the like can be preferably used. Examples of inorganic compounds include silicon dioxide, titanium dioxide, magnesium dioxide,
Aluminum oxide, barium sulfate, calcium carbonate, silver chloride desensitized by a known method, silver bromide, glass, diatomaceous earth and the like can be preferably used. The above matting agents can be used by mixing different types of substances as necessary. The size and shape of the matting agent are not particularly limited, and those having an arbitrary particle size can be used. In practicing the present invention, it is preferable to use one having a particle size of 0.1 μm to 30 μm. The particle size distribution of the matting agent may be narrow or wide. On the other hand, the matting agent is the haze of the photosensitive material,
Since it greatly affects the surface gloss, it is preferable that the particle size, the shape, and the particle size distribution are brought into a required state at the time of preparing the matting agent or by mixing a plurality of matting agents.
【0167】本発明においてバック層のマット度として
はベック平滑度が250秒以下10秒以上が好ましく、
さらに好ましくは180秒以下50秒以上である。In the present invention, the Beck's smoothness of the back layer is preferably 250 seconds or less and 10 seconds or more,
More preferably, it is 180 seconds or less and 50 seconds or more.
【0168】本発明において、マット剤は感光材料の最
外表面層もしくは最外表面層として機能する層、あるい
は外表面に近い層に含有されるのが好ましく、またいわ
ゆる保護層として作用する層に含有されることが好まし
い。In the present invention, the matting agent is preferably contained in the outermost surface layer of the light-sensitive material, a layer functioning as the outermost surface layer, or a layer close to the outer surface. It is preferable to be contained.
【0169】本発明においてバック層の好適なバインダ
ーは透明または半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマーおよびコポリマー、その他フィ
ルムを形成する媒体、例えば:ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポリ(ビニルアルコール)、ヒドロキシエチルセル
ロース、セルロースアセテート、セルロースアセテート
ブチレート、ポリ(ビニルピロリドン)、カゼイン、デ
ンプン、ポリ(アクリル酸)、ポリ(メチルメタクリル
酸)、ポリ(塩化ビニル)、ポリ(メタクリル酸)、コ
ポリ(スチレン−無水マレイン酸)、コポリ(スチレン
−アクリロニトリル)、コポリ(スチレン−ブタジエ
ン)、ポリ(ビニルアセタール)類[例えば、ポリ(ビ
ニルホルマール)およびポリ(ビニルブチラール)]、
ポリ(エステル)類、ポリ(ウレタン)類、フェノキシ
樹脂、ポリ(塩化ビニリデン)、ポリ(エポキシド)
類、ポリ(カーボネート)類、ポリ(ビニルアセテー
ト)、セルロースエステル類、ポリ(アミド)類があ
る。バインダーは水または有機溶媒またはエマルション
から被覆形成してもよい。Suitable binders for the back layer in the present invention are transparent or translucent, generally colorless, and include natural polymers such as synthetic resins, polymers and copolymers, and other film forming media such as: gelatin, gum arabic, poly (vinyl). Alcohol), hydroxyethyl cellulose, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate, poly (vinylpyrrolidone), casein, starch, poly (acrylic acid), poly (methylmethacrylic acid), poly (vinyl chloride), poly (methacrylic acid), copoly (Styrene-maleic anhydride), copoly (styrene-acrylonitrile), copoly (styrene-butadiene), poly (vinyl acetal) s [eg poly (vinyl formal) and poly (vinyl butyral)],
Poly (ester) s, poly (urethanes), phenoxy resin, poly (vinylidene chloride), poly (epoxide)
, Poly (carbonate) s, poly (vinyl acetate), cellulose esters, and poly (amide) s. The binder may be coated from water or an organic solvent or emulsion.
【0170】本発明においてバック層は、所望の波長範
囲での最大吸収が0.3以上2以下であることが好まし
く、さらに好ましくは0.5以上2以下の光学濃度を有
するハレーション防止層であることが好ましい。In the present invention, the back layer preferably has a maximum absorption in the desired wavelength range of 0.3 or more and 2 or less, and more preferably an antihalation layer having an optical density of 0.5 or more and 2 or less. It is preferable.
【0171】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、染料は所望の波長の範囲で目的の吸収を有し、可
視領域での吸収が十分少なく、上記バック層の好ましい
吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合物で
もよい。例えば、特開平7−13295号、米国特許第
5380635号記載の化合物、特開平2−68539
号公報第13頁左下欄1行目から同第14頁左下欄9行
目、同3−24539号公報第14頁左下欄から同第1
6頁右下欄記載の化合物が挙げられるが、本発明はこれ
らに限定されるものではない。When the antihalation dye is used in the present invention, the dye has a desired absorption in a desired wavelength range, has a sufficiently small absorption in the visible region, and has a preferable absorbance spectrum shape of the back layer. Any compound may be used. For example, compounds described in JP-A-7-13295 and US Pat. No. 5,380,635, JP-A-2-68539.
No. 1, page 13, lower left column, line 1 to page 14, lower left column, line 9 of the same, gazette 3-24539, page 14, lower left column to the same
The compounds described in the lower right column of page 6 are exemplified, but the present invention is not limited thereto.
【0172】米国特許第4460681号および同第4
374921号に示されるような裏面抵抗性加熱層(bac
kside resistive heatinng layer) を感光性熱現像写真
画像系に使用することもできる。US Pat. Nos. 4,460,681 and 4,
Backside resistive heating layer (bac
kside resistive heatinng layer) can also be used in the photothermographic image system.
【0173】[0173]
【実施例】以下に実施例を示し、本発明の具体的な態様
をさらに詳細に説明する。The present invention will be described below in more detail with reference to examples.
【0174】<ハロゲン化銀粒子の調製>水700mlに
フタル化ゼラチン22g および臭化カリウム30mgを溶
解して温度35℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀
18.6g を含む水溶液159mlと臭化カリウムと沃化
カリウムを92:8のモル比で含む水溶液をpAg 7.7
に保ちながらコントロールダブルジェット法で10分間
かけて添加した。ついで、硝酸銀55.4g を含む水溶
液476mlと六塩化イリジウム酸二カリウム(1.2×
10-5モル/リットル)6シアノ化鉄4カリウム(完成
ハロゲン化銀1モル当たり1×10-5になる量)と臭化
カリウム(1モル/リットル)を含む水溶液とをpAg
7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法で3
0分間かけて添加した。その後、pHを下げて凝集沈降さ
せ脱塩処理をし、フェノキシエタノール0.1g を加
え、pH5.9、pAg 8.2に調製し沃臭化銀粒子(沃素
含量コア8モル%、平均2モル%、平均サイズ0.05
μm 、投影面積変動係数8%、(100)面比率88%
の立方体粒子)の調製を終えた。<Preparation of silver halide grains> 22 g of phthalated gelatin and 30 mg of potassium bromide were dissolved in 700 ml of water and the pH was adjusted to 5.0 at 35 ° C., and then 159 ml of an aqueous solution containing 18.6 g of silver nitrate. And an aqueous solution containing potassium bromide and potassium iodide in a molar ratio of 92: 8, pAg 7.7.
While maintaining the above value, the control double jet method was added over 10 minutes. Then, 476 ml of an aqueous solution containing 55.4 g of silver nitrate and dipotassium hexachloroiridate (1.2 x
10 -5 mol / l) pAg and an aqueous solution containing 6 cyano iron 4 Potassium (finished silver halide a molar per 1 × 10 -5 amount) and potassium bromide (1 mol / liter)
Controlled by the control double jet method while keeping at 7.7
Added over 0 minutes. After that, the pH is lowered to cause coagulation sedimentation, desalting treatment, 0.1 g of phenoxyethanol is added to adjust the pH to 5.9 and pAg to 8.2, and silver iodobromide grains (iodine content core: 8 mol%, average: 2 mol%) are added. , Average size 0.05
μm, projected area variation coefficient 8%, (100) plane ratio 88%
Of cubic particles) was completed.
【0175】こうして得たハロゲン化銀粒子を60℃に
昇温して銀1モル当たりチオ硫酸ナトリウム85μモル
と2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニルジフェ
ニルフォスフィンセレニドを11μモル、15μモルの
テルル化合物1、塩化金酸4.0×10-6モル、チオシ
アン酸3.0×10-4モルを添加し、120分間熟成し
た後30℃に急冷してハロゲン化銀乳剤を得た。The silver halide grains thus obtained were heated to 60 ° C. and 85 μmol of sodium thiosulfate and 11 μmol of 2,3,4,5,6-pentafluorophenyldiphenylphosphine selenide were added per mol of silver. 15 μmol of tellurium compound 1, 4.0 × 10 −6 mol of chloroauric acid and 3.0 × 10 −4 mol of thiocyanic acid were added, ripened for 120 minutes and then rapidly cooled to 30 ° C. to obtain a silver halide emulsion. It was
【0176】<有機酸銀乳剤−Aの調製>ステアリン酸
1.3g 、アラキジン酸0.5g 、ベヘン酸8.5g 、
蒸留水300mlを90℃で15分間混合し、激しく攪拌
しながら1N−NaOH水溶液31.1mlを15分かけ
て添加した後、30℃に降温した。次に、1N−リン酸
水溶液7mlを添加し、より激しく攪拌しながらN−ブロ
モスクシンイミド0.012g を添加した後、上記のあ
らかじめ調製したハロゲン化銀粒子(ハロゲン化銀量
2.5mモル)を添加した。さらに、1N−硝酸銀水溶
液25mlを2分かけて添加し、そのまま90分間攪拌し
続けた。その後、吸引濾過で固形分を濾別し、固形分を
濾水の伝導度が30μS・cmになるまで水洗した。こう
して得た固形分にポリ酢酸ビニルの1.2重量%の酢酸
ブチル溶液37g を加え攪拌し、攪拌を止めて放置し油
層と水層に分離させ含まれる塩と共に水層を除去し油層
を得た。次に、この油層にポリビニルブチラール(電気
化学工業(株)製デンカブチラール#3000−K)の
2.5wt% 2−ブタノン溶液20g を添加し攪拌した。
さらに、過臭化ピリジニウム0.1m モルと臭化カルシ
ウム二水和物1.8×10-4モルを0.7g メタノール
とともに添加した後、2−ブタノン40g とポリビニル
ブチラール(モンサント社製PVB B−76)の7.
8g を添加しホモジナイザーで分散し、有機酸銀塩乳剤
(平均粒径0.04μm 、平均長径1μm 、変動係数3
0%の針状粒子)を得た。<Preparation of Organic Acid Silver Emulsion-A> 1.3 g of stearic acid, 0.5 g of arachidic acid, 8.5 g of behenic acid,
300 ml of distilled water was mixed at 90 ° C for 15 minutes, 31.1 ml of 1N-NaOH aqueous solution was added over 15 minutes with vigorous stirring, and then the temperature was lowered to 30 ° C. Next, 7 ml of 1N-phosphoric acid aqueous solution was added, and 0.012 g of N-bromosuccinimide was added with vigorous stirring, and then the above-prepared silver halide grains (silver halide amount 2.5 mmol) were added. Was added. Further, 25 ml of 1N-silver nitrate aqueous solution was added over 2 minutes, and stirring was continued for 90 minutes. Then, the solid content was separated by suction filtration, and the solid content was washed with water until the conductivity of the filtered water reached 30 μS · cm. 37 g of a 1.2% by weight solution of polyvinyl acetate in butyl acetate was added to the solid content thus obtained, and the mixture was stirred. The stirring was stopped and the mixture was allowed to stand to separate into an oil layer and an aqueous layer. Was. Next, 20 g of a 2.5 wt% 2-butanone solution of polyvinyl butyral (Denka Butyral # 3000-K manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) was added to this oil layer and stirred.
Further, 0.1 mmol of pyridinium perbromide and 1.8 × 10 −4 mol of calcium bromide dihydrate were added together with 0.7 g of methanol, and then 40 g of 2-butanone and polyvinyl butyral (PVB B- manufactured by Monsanto Co.) were added. 76) 7.
Add 8 g and disperse with a homogenizer to obtain an organic acid silver salt emulsion (average particle size 0.04 μm, average major axis 1 μm, coefficient of variation 3).
0% needle-shaped particles).
【0177】<有機酸銀乳剤−Bの調製>ベヘン酸84
0g 、ステアリン酸95g を12リットルの水に添加し
90℃に保ちながら、水酸化ナトリウム48g 、炭酸ナ
トリウム63g を1.5リットルの水に溶解したものを
添加した。30分攪拌した後50℃とし、N−ブロモス
クシンイミド1%水溶液1.1リットルを添加し、次い
で硝酸銀17%水溶液2.3リットルを攪拌しながら徐
々に添加した。さらに液温を35℃とし、攪拌しながら
臭化カリウム2%水溶液1.5リットルを2分間かけて
添加した後30分間攪拌し、N−ブロモスクシンイミド
1%水溶液2.4リットルを添加した。この水系混合物
に攪拌しながら1.2重量%ポリ酢酸ビニルの酢酸ブチ
ル溶液3300g を加えた後10分間静置し2層に分離
させ水層を取り除き、さらに残されたゲルを水で2回洗
浄した。こうして得られたゲル状のベヘン酸/ステアリ
ン酸銀および臭化銀の混合物をポリビニルブチラール
(電気化学工業(株)製デンカブチラール#3000−
K)の2.6%イソプロピルアルコール溶液1800g
で分散し、さらにポリビニルブチラール(電気化学工業
(株)製デンカブチラール#4000−2)600g 、
イソプロピルアルコール300g と共に分散し有機酸銀
塩乳剤(平均短径0.05μm 、平均長径1.2μm 、
変動係数25%の針状粒子)を得た。<Preparation of Organic Acid Silver Emulsion-B> Behenic Acid 84
While 0 g and 95 g of stearic acid were added to 12 liters of water and kept at 90 ° C, a solution of 48 g of sodium hydroxide and 63 g of sodium carbonate dissolved in 1.5 liter of water was added. After stirring for 30 minutes, the temperature was raised to 50 ° C., 1.1 liter of a 1% aqueous solution of N-bromosuccinimide was added, and then 2.3 liter of a 17% aqueous silver nitrate solution was gradually added with stirring. Further, the liquid temperature was adjusted to 35 ° C., 1.5 liter of potassium bromide 2% aqueous solution was added over 2 minutes while stirring, and then stirred for 30 minutes, and 2.4 liter of N-bromosuccinimide 1% aqueous solution was added. To this aqueous mixture was added 3300 g of a 1.2% by weight solution of polyvinyl acetate in butyl acetate while stirring, and the mixture was allowed to stand for 10 minutes to separate into two layers, the aqueous layer was removed, and the remaining gel was washed twice with water. did. The gel-like mixture of behenic acid / silver stearate and silver bromide thus obtained was used as polyvinyl butyral (Denka Butyral # 3000- manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK).
1800 g of 2.6% isopropyl alcohol solution of K)
600 g of polyvinyl butyral (Denka Butyral # 4000-2 manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.),
An organic acid silver salt emulsion dispersed with 300 g of isopropyl alcohol (average minor axis 0.05 μm, average major axis 1.2 μm,
Needle-like particles having a coefficient of variation of 25% were obtained.
【0178】実施例1 <感光層塗布液の調製>上記で得た有機酸銀乳剤−Aに
銀1モル当たり以下の量となるように各薬品を添加し
た。25℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウム10m
g、70mgの色素a、2−メルカプト−5−メチルベン
ゾイミダゾール2g 、4−クロロベンゾフェノン−2−
カルボン酸21.5g 、一般式(1)または一般式
(2)または一般式(3)の化合物(表12に示す)
0.0064モルと2−ブタノン580g 、ジメチルホ
ルムアミド220g を攪拌しながら添加し3時間放置し
た。ついで、5−トリブロモメチルスルフォニル−2−
メチルチアジアゾール8g 、2−トリブロモメチルスル
フォニルベンゾチアゾール6g 、4,6−ジトリクロロ
メチル−2−フェニルトリアジン5.2g 、ジスルフィ
ド化合物aを2g 、還元剤(表12に示す)0.35モ
ル、テトラクロロフタル酸5g 、ヒドラジン誘導体(表
12に示す)0.008モル、メガファックスF−17
6P(大日本インキ化学工業(株)製フッ素系界面活性
剤)1.1g 、2−ブタノン590g 、メチルイソブチ
ルケトン10g を攪拌しながら添加した。Example 1 <Preparation of Photosensitive Layer Coating Solution> Each chemical was added to the organic acid silver emulsion-A obtained above in the following amounts per mol of silver. 10m sodium phenylthiosulfonate at 25 ° C
g, 70 mg of dye a, 2-mercapto-5-methylbenzimidazole 2 g, 4-chlorobenzophenone-2-
21.5 g of carboxylic acid, compound of general formula (1) or general formula (2) or general formula (3) (shown in Table 12)
0.0064 mol, 580 g of 2-butanone and 220 g of dimethylformamide were added with stirring and the mixture was allowed to stand for 3 hours. Then, 5-tribromomethylsulfonyl-2-
Methyl thiadiazole 8 g, 2-tribromomethylsulfonylbenzothiazole 6 g, 4,6-ditrichloromethyl-2-phenyltriazine 5.2 g, disulfide compound a 2 g, reducing agent (shown in Table 12) 0.35 mol, tetra Chlorophthalic acid 5 g, hydrazine derivative (shown in Table 12) 0.008 mol, Megafax F-17
1.1 g of 6P (fluorine-based surfactant manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.), 590 g of 2-butanone, and 10 g of methyl isobutyl ketone were added with stirring.
【0179】[0179]
【化33】 [Chemical 33]
【0180】<乳剤面保護層塗布液>CAB171−1
5S(イーストマンケミカル(株)製酢酸酪酸セルロー
ス)75g 、4−メチルフタル酸5.7g 、テトラクロ
ロフタル酸無水物1.5g 、フタラジン15g 、0.3
g のメガファックスF−176P、シルデックスH31
(洞海化学社製真球状シリカ平均サイズ3μm )2g 、
sumidur N3500 (住友バイエルウレタン社製ポリイソシ
アネート)7.5g を2−ブタノン3070gと酢酸エ
チル30g に溶解したものを調製した。<Emulsion side protective layer coating solution> CAB171-1
5S (Cellulose acetate butyrate manufactured by Eastman Chemical Co., Ltd.) 75 g, 4-methylphthalic acid 5.7 g, tetrachlorophthalic anhydride 1.5 g, phthalazine 15 g, 0.3
g Megafax F-176P, Syldex H31
(Doikai Chemical Co., Ltd. spherical silica average size 3 μm) 2 g,
A solution prepared by dissolving 7.5 g of sumidur N3500 (polyisocyanate manufactured by Sumitomo Bayer Urethane Co., Ltd.) in 3070 g of 2-butanone and 30 g of ethyl acetate was prepared.
【0181】<バック面を有した支持体の作成>両面が
塩化ビニリデン共重合体の防湿下塗り層を有するポリエ
チレンテレフタレートフィルム(100μm )の支持体
に下記処方の溶液を乾膜厚が15μm になるように塗布
し乾燥させた。(乾燥;50℃10分)<Preparation of Support Having Back Surface> A support of polyethylene terephthalate film (100 μm) having a moisture-proof undercoat layer of vinylidene chloride copolymer on both surfaces was applied with a solution having the following formulation so that the dry film thickness would be 15 μm. And then dried. (Dry; 50 ° C for 10 minutes)
【0182】<バック面塗布液の調製>ポリビニルブチ
ラール#4000−2(電気化学工業(株)社製)イソ
プロピルアルコール10%溶液60g 、イソプロピルア
ルコール10g 、3−イソシアン−トメチル−3,5,
5−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート(和光純
薬(株)社製)酢酸エチル8%溶液8g 、および染料D
−1 0.2g をメタノール10g とアセトン20g に
溶解したものを露光波長の吸収が0.8になるように添
加した。<Preparation of Back Surface Coating Liquid> Polyvinyl butyral # 4000-2 (manufactured by Denki Kagaku Kogyo KK) 60% isopropyl alcohol 10% solution, 10 g isopropyl alcohol, 3-isocyanatomethyl-3,5,5.
5-trimethylcyclohexyl isocyanate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 8 g ethyl acetate 8% solution, and Dye D
A solution obtained by dissolving 0.2 g of -1 in 10 g of methanol and 20 g of acetone was added so that the absorption at the exposure wavelength was 0.8.
【0183】上記のごとく作製した支持体上のバック面
とは逆側に乳剤層塗布液を銀が1.8g/m2となるように
塗布した後、乳剤面上に乳剤面保護層塗布液を乾燥厚さ
2μm となるように塗布した。After coating the emulsion layer coating liquid on the side opposite to the back surface on the support prepared as described above so that the silver content was 1.8 g / m 2 , the emulsion surface protective layer coating liquid was applied on the emulsion surface. Was applied to give a dry thickness of 2 μm.
【0184】(露光、現像処理)このようにして作製し
た試料を633nmにピークをもつ干渉フィルターおよ
びテップウェッジを介して発光時間10-6secのキセ
ノンフラッシュ光で露光した。また、別試料を633
nmにピークをもつ干渉フィルターおよびテップウェッジ
およびそれぞれ50%のチント網を介して同様に露光し
た。その後、110℃で20秒、30秒、40秒間熱現
像処理した。(Exposure and Development Treatment) The sample thus prepared was exposed to xenon flash light having an emission time of 10 −6 sec through an interference filter having a peak at 633 nm and a Tep wedge. Also, another sample is 633
Similarly exposed through an interference filter with a peak at nm and a Tep wedge and a 50% tint screen, respectively. Then, heat development treatment was performed at 110 ° C. for 20 seconds, 30 seconds, and 40 seconds.
【0185】(写真特性の評価)得られた画像の濃度測
定および網点の面積率測定を行った。(Evaluation of Photographic Properties) The density and halftone dot area ratio of the obtained image were measured.
【0186】写真特性評価 については、30秒現像でのガンマ(G0330)お
よび40秒現像でのDminを評価した。 G0330;特性曲線で濃度0.3と3.0の点を結ぶ
直線の傾き については、画像拡大(ΔD50)を評価した。Regarding the evaluation of photographic characteristics, gamma (G0330) in 30 second development and Dmin in 40 second development were evaluated. G0330: The image enlargement (ΔD50) was evaluated for the slope of the straight line connecting the points of density 0.3 and 3.0 in the characteristic curve.
【0187】ΔD50;20秒現像で網点面積率が50
%になったステップの、20秒現像と40秒現像での網
点面積率の差。従って、数値が大きいほど画像拡大が大
きいことを意味する。ΔD50; halftone dot area ratio of 50 after development for 20 seconds
The difference in halftone dot area ratio between the development for 20 seconds and the development for 40 seconds in the step which became%. Therefore, the larger the value, the larger the image enlargement.
【0188】[0188]
【表12】 [Table 12]
【0189】[0189]
【化34】 Embedded image
【0190】表12の結果から、本発明の化合物を含有
しない試料No.101、110、112、114、1
16、118、120、126では、Dminが高く、
画像拡大も大きい。また、比較化合物を含有する試料N
o.105〜109では、被り抑制効果が小さく画像拡
大も大きい。これらに対して本発明の試料では、いずれ
も硬調性を損なわずDminが低く、かつ画像拡大が小
さく良好な写真性能が得られる。From the results of Table 12, sample No. containing no compound of the present invention. 101, 110, 112, 114, 1
In 16, 118, 120, 126, Dmin is high,
Image enlargement is also large. Also, a sample N containing a comparative compound
o. In 105 to 109, the fog suppressing effect is small and the image enlargement is large. On the other hand, the samples of the present invention do not impair the high-contrast property, have a low Dmin, have a small image enlargement, and obtain good photographic performance.
【0191】実施例2 実施例1の乳剤層の有機酸銀乳剤−Aを有機酸銀乳剤−
Bに替えて本発明の態様をテストした結果、実施例1と
同様な結果が得られた。なお、このような効果は、ヒド
ラジン化合物として、H−20、H−23、H−27、
H−32、H−33、H−37、H−44、H−53、
H−67、H−69、H−71、H−76、H−79、
還元剤としてR−I−3、R−I−11、R−I−3
7、R−II−9、R−III −1、一般式(1)、
(2)、(3)の化合物として1−10、1−13、3
−10、3−26、3−46を用いても同様に実現し
た。Example 2 Organic acid silver emulsion-A in the emulsion layer of Example 1 was replaced with organic acid silver emulsion-
As a result of testing the embodiment of the present invention in place of B, the same result as in Example 1 was obtained. It should be noted that such effects can be obtained by using H-20, H-23, H-27,
H-32, H-33, H-37, H-44, H-53,
H-67, H-69, H-71, H-76, H-79,
R-I-3, R-I-11, R-I-3 as reducing agents
7, R-II-9, R-III-1, general formula (1),
1-10, 1-13, 3 as compounds of (2) and (3)
It was also realized by using -10, 3-26 and 3-46.
【0192】以上の結果から、本発明によれば、超硬調
な性能を有し、被り濃度が低く、現像処理時間の変動な
どに対して画像拡大の変化が小さく安定した画像が得ら
れる印刷製版用に適した完全ドライの熱現像感光材料を
提供することができる。From the above results, according to the present invention, a printing plate having super-high contrast performance, a low fog density, a small change in image enlargement due to variations in development processing time, and a stable image can be obtained. A completely dry photothermographic material suitable for use can be provided.
【0193】[0193]
【発明の効果】本発明によれば、超硬調で、なおかつ現
像条件の変動などに対して画像拡大などがきわめて小さ
いなど、性能変動がきわめて少なく、きわめて安定した
画像が得られる印刷製版用に適した熱現像感光材料が実
現する。INDUSTRIAL APPLICABILITY According to the present invention, it is suitable for a printing plate making which can obtain an extremely stable image because it has an ultra-high contrast and has a very small image enlargement due to a change in developing conditions. A heat-developable photosensitive material is realized.
─────────────────────────────────────────────────────
─────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成9年2月25日[Submission date] February 25, 1997
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0018】一般式(1)および一般式(2)中、Zが
炭素原子とともに完成させる環は、窒素原子を少なくと
も2つ以上含み、炭素、酸素、硫黄、セレニウム、テル
リウムから選ばれる原子からなる5員および6員の複素
芳香族環である。複素芳香族環の具体例としては、イミ
ダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、
チアジアゾール、チアジアジン、ピリダジン、ピリミジ
ン、ピラジン、トリアジンなどが挙げられる。その他の
複素環としては、オキサジアゾリン、チアジアゾリンな
どが挙げられる。In the general formulas (1) and (2), the ring which Z completes together with the carbon atom contains at least two nitrogen atoms and is composed of atoms selected from carbon, oxygen, sulfur, selenium and tellurium. It is a 5- and 6-membered heteroaromatic ring. Specific examples of the heteroaromatic ring include imidazole, pyrazole, triazole, tetrazole,
Examples thereof include thiadiazole, thiadiazine, pyridazine, pyrimidine, pyrazine and triazine. Examples of other heterocycles include oxadiazoline and thiadiazoline.
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0026[Correction target item name] 0026
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0026】次に一般式(3)のテトラザインデン化合
物について説明する。Next, the tetrazaindene compound represented by the general formula (3) will be described.
Claims (2)
銀感光層を有し、該層および/または隣接する層に有機
銀塩を含有するハロゲン化銀感光材料において、 該ハロゲン化銀感光層および/または隣接する層に、還
元剤と、ヒドラジン誘導体と、一般式(1)および一般
式(2)で表わされる化合物の少なくとも1種とを含有
することを特徴とする熱現像感光材料。 【化1】 一般式(1)および一般式(2)において、Zは、窒素
原子を少なくとも2つ以上含む5員または6員の複素芳
香族環を完成させるための原子群を表す。Rは、水素原
子、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキ
ルもしくはアリール置換アミノ基、アミド基、スルホン
アミド基、ウレイド基、ウレタン基、アリールオキシ
基、スルファモイル基、カルバモイル基、アリール基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ヒドロキシ基、ハロ
ゲン原子、シアノ基、カルボキシ基もしくはその塩、ス
ルホ基もしくはその塩またはリン酸アミド基を表わす。1. A silver halide light-sensitive material having at least one silver halide light-sensitive layer on a support and containing an organic silver salt in the layer and / or an adjacent layer, wherein the silver halide light-sensitive layer. And / or a layer adjacent to the photothermographic material, which contains a reducing agent, a hydrazine derivative, and at least one compound represented by the general formula (1) or (2). Embedded image In the general formulas (1) and (2), Z represents an atomic group for completing a 5- or 6-membered heteroaromatic ring containing at least two nitrogen atoms. R represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aralkyl group, an alkoxy group, an alkyl- or aryl-substituted amino group, an amide group, a sulfonamide group, a ureido group, a urethane group, an aryloxy group, a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an aryl group,
It represents an alkylthio group, an arylthio group, a hydroxy group, a halogen atom, a cyano group, a carboxy group or a salt thereof, a sulfo group or a salt thereof, or a phosphoric acid amide group.
銀感光層を有し、該層および/または隣接する層に有機
銀塩を含有するハロゲン化銀感光材料において、 該ハロゲン化銀感光層および/または隣接する層に、還
元剤と、ヒドラジン誘導体と、一般式(3)で表わされ
る化合物とを含有することを特徴とする熱現像感光材
料。 【化2】 一般式(3)において、R1 、R2 、R3 およびR4
は、それぞれ水素原子、ヒドロキシ基、メルカプト基、
ハロゲン原子、シアノ基、スルホ基、ヒドロキシカルボ
ニル基、ヒドロキシアミノ基、アルキル基、アラルキル
基、アルコキシ基、アルキルもしくはアリール置換アミ
ノ基、アミド基、スルホンアミド基、ウレイド基、ウレ
タン基、アリールオキシ基、スルファモイル基、カルバ
モイル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、リン酸アミド基を表わす。R3とR4 を互いに結合
して環を形成してもよい。2. A silver halide light-sensitive material having at least one silver halide light-sensitive layer on a support and containing an organic silver salt in the layer and / or an adjacent layer, the silver halide light-sensitive layer. And / or a layer adjacent to the photothermographic material, which contains a reducing agent, a hydrazine derivative, and a compound represented by the general formula (3). Embedded image In the general formula (3), R 1 , R 2 , R 3 and R 4
Are a hydrogen atom, a hydroxy group, a mercapto group,
Halogen atom, cyano group, sulfo group, hydroxycarbonyl group, hydroxyamino group, alkyl group, aralkyl group, alkoxy group, alkyl- or aryl-substituted amino group, amide group, sulfonamide group, ureido group, urethane group, aryloxy group, It represents a sulfamoyl group, a carbamoyl group, an aryl group, an alkylthio group, an arylthio group or a phosphoric acid amide group. R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14811496A JP3722910B2 (en) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | Photothermographic material |
| US08/845,371 US5968725A (en) | 1996-04-26 | 1997-04-24 | Photothermographic photosensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14811496A JP3722910B2 (en) | 1996-05-17 | 1996-05-17 | Photothermographic material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09304875A true JPH09304875A (en) | 1997-11-28 |
| JP3722910B2 JP3722910B2 (en) | 2005-11-30 |
Family
ID=15445574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14811496A Expired - Lifetime JP3722910B2 (en) | 1996-04-26 | 1996-05-17 | Photothermographic material |
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|---|---|
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Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6924089B2 (en) | 2001-08-24 | 2005-08-02 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-developable photosensitive material and image forming method |
| EP1582919A1 (en) | 2004-03-23 | 2005-10-05 | Fuji Photo Film Co. Ltd. | Silver halide photosensitive material and photothermographic material |
| EP1635216A1 (en) | 2004-09-14 | 2006-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photothermographic material |
| US7148000B2 (en) | 2001-04-23 | 2006-12-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Heat-developable photosensitive material and image-forming process |
-
1996
- 1996-05-17 JP JP14811496A patent/JP3722910B2/en not_active Expired - Lifetime
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20040618 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041222 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050221 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050511 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050708 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20050722 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050907 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050914 |
|
| R150 | Certificate of patent (=grant) or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080922 Year of fee payment: 3 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080922 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090922 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100922 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110922 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120922 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130922 Year of fee payment: 8 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |