JPH09306833A

JPH09306833A - 露光方法

Info

Publication number: JPH09306833A
Application number: JP9008222A
Authority: JP
Inventors: Kazuaki Suzuki; 一明鈴木
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-03-14
Filing date: 1997-01-21
Publication date: 1997-11-28

Abstract

(57)【要約】【課題】一ショット領域毎に交互に走査方向を切り換
えてウエハ全体の露光を行う際、欠けショット領域のデ
フォーカスをなくす。【解決手段】所定形状の照明領域に対して転写用のパ
ターンが形成されたマスクを所定方向に走査し、照明領
域に対して所定方向に感応基板を走査することにより、
マスクのパターンの像を感応基板上に露光する方法であ
って、マスクを載置したマスクステージと感応基板を載
置した基板ステージとを所定の位置関係に整合した後、
感応基板の外側から内側に向けて走査露光する露光ステ
ップと、露光ステップ中、非走査方向に配列した複数の
検出点の各々で感応基板のフォーカスの位置を検出する
検出ステップとを有し、前記検出ステップは、走査方向
と交差する感応基板の周縁部の位置情報と基板ステージ
の移動位置情報とに基づいて複数の検出点を選択する選
択するステップを含む構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば矩形、また
は円弧上等の照明領域に対して、マスクおよび感光基板
（感応基板）を同期して走査することにより、マスク上
のパターンを逐次感光基板上に露光するいわゆるステッ
プ・アンド・スキャン方式の露光装置に好適な露光方法
および露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、ステップ・アンド・スキャン
方式の露光においては感光基板（以下ウエハと表現す
る。）の外周部分の露光領域に対しては、光軸方向の位
置制御の応答遅れを避けるため、感光基板の内側から外
側に向かって走査露光するような露光シーケンスが提案
されていた（特開平7-161614号公報）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のような露光シー
ケンスにおいては、ウエハの外周部分の露光領域（以
下、適宜欠けショット領域と表現する。）の全てに対し
て感光基板の内側から外側への一定方向という走査露光
の方向に制限があるため、露光シーケンスの工夫から発
生するウエハ・ステージの移動距離の拡大や、マスクス
テージを一度戻すための走査（マスクステージの空スキ
ャン）が必要となり、スループットが低下するといった
欠点があった。また、スループットの低下を防ぐために
欠けショット領域においてウエハの外側から内側に向け
て走査露光する露光シーケンスを用いると、ウエハの光
軸方向の位置を検出する検出点がウエハの外側からウエ
ハの周縁部（エッジ）に達した際に、光軸方向の追従性
が追いつかずに位置制御の応答遅れが発生してしまう。
このため、その欠けショット領域はデフォーカス状態と
なり無駄な露光を行うことになってしまう。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記本題の解決のため
に、本発明では感光基板としてのウエハ上の欠けショッ
ト領域をウエハのの外側から内側に向けて走査露光でき
るようにするために、非走査方向に配列された複数の検
出点でウエハのフォーカス位置（光軸方向の位置）を検
出する多点フォーカスセンサを設け、ウエハの周縁部の
位置情報とウエハステージの移動位置情報とに基づいて
多点フォーカスセンサー中の複数の検出点を選択的に使
用することとした。

【０００５】

【発明の実施の形態】本発明では、感光基板としてのウ
エハのフォーカスの位置（光軸方向の位置）を検出する
複数の検出点をウエハの周縁部の位置情報とウエハステ
ージの移動位置情報とに基づいて選択的に使用するの
で、ウエハの外側から内側に向けて走査する露光シーケ
ンスをスループットを落とすことなく可能とした。これ
により、デフォーカスすることなく欠けショット領域を
露光することができ、ウエハ全体の露光を一ショット領
域毎に交互に走査方向を切り替えながら光軸方向の位置
制御を行うことができる。従ってウエハ・ステージまた
はマスク・ステージの動きを最小化でき、高いスループ
ットを達成できる。

【０００６】そこで以下に、本発明の好適な実施形態に
ついて添付の図面を参照して説明するが、本実施例では
投影光学系として複数枚の屈折レンズ素子よりなる屈折
系型投影光学系の使用を前提とする。しかしながら本発
明はそれに限定されることなく、屈折レンズ素子と反射
素子（凹面鏡等）とを組み合わせた反射−屈折型の投影
光学系を使用できることは言うまでもない。

【０００７】図１は本実施例の投影露光装置を示し、こ
の図１において不図示の露光光源と照明光学系からの露
光光ＩＬにより、レチクルＲのパターン面（下面）上の
スリット状の照明領域１がほぼ均一な照度で照明されて
いる。レチクルＲはレチクルホルダー２の上面に真空チ
ャックにより保持され、レチクルホルダー２はレチクル
ステージ３上に固定され、そしてレチクルステージ３は
レチクルガイド４上にエアーガイド等により支持されて
Ｘ方向に移動自在に載置されている。

【０００８】そのレチクルステージ３は、走査露光時に
リニアモータ方式等によりレチクルガイド４上を＋Ｘ方
向又は−Ｘ方向に一定速度で走査される。即ち、レチク
ルＲの走査方向は図１中の紙面内で左右方向の±Ｘ方向
である。さて、レチクルステージ３のＸ方向の一端には
移動鏡５が固定され、そこにはレチクル干渉計モニタ部
１３からの計測用レーザビームＬｂｒが投射される。そ
してレチクル干渉計モニタ部１３は移動鏡５で反射され
たビームを受光して、レチクルステージ３のＸ方向の位
置変化を逐次計測している。レチクル干渉計モニタ部１
３の位置計測結果は、装置全体の動作を制御する主制御
系２０に供給され、主制御系２０はレチクルステージ駆
動部１４を介してレチクルステージ３の移動速度及び移
動位置を制御する。

【０００９】尚、図１中のレチクル干渉計モニタ部１３
は、Ｘ方向の１軸のみしか示していないが、図１中の紙
面と垂直なＹ軸に関しても同様の干渉計モニタ部が設け
られ、レチクルステージ３のＹ方向の位置変化も逐次計
測している。さらにレチクルステージ駆動部１４は、走
査露光中に生じるレチクルステージ３のＹ方向の位置を
Ｙ軸方向の干渉計モニタ部からの計測結果に基づいて制
御する。

【００１０】また、照明領域１内のレチクルＲ上に形成
された回路パターンの一部の像は投影光学系ＰＬを介し
てウエハＷ上にスリット状の露光領域６として結像され
る。ここで投影光学系ＰＬの光軸は、Ｘ軸とＹ軸で規定
される面（レチクルＲのパターン面とウェハＷの表面）
と垂直なＺ軸と平行になっているものとする。そしてウ
エハＷはウエハホルダ８上に真空チャックにより保持さ
れ、ウエハホルダ８は、ウエハＷの露光面の補正機構と
してのＺレベリングステージ（駆動部を含む）１０上に
載置され、Ｚレベリングステージ１０がＸＹステージ１
１上に載置されている。

【００１１】Ｚレベリングステージ１０は、投影光学系
ＰＬの光軸に平行なＺ方向に粗くウエハＷを位置決めす
るＺステージと、例えば３個のアクチュエータの伸縮量
を調整して、ウエハＷのＺ方向の位置（フォーカス位
置）及び傾斜角を微調整するレベリングテーブル等で構
成され、ＸＹステージ１１はＺレベリングステージ１０
（ひいてはウエハＷ）を投影光学系ＰＬの光軸に垂直な
２次元平面（ＸＹ平面）内で位置決めすると共に、±Ｘ
方向にＺレベリングステージ１０を走査する機能を有す
る。

【００１２】Ｚレベリングステージ１０上には移動鏡１
２が固定され、その移動鏡１２にはウエハ干渉計モニタ
部１５からの計測用レーザビームＬＢｗがＸ方向とＹ方
向の各々に沿って投射される。そして移動鏡１２で反射
されたビームはウエハ干渉計モニタ部１５内のレシーバ
で受光され、ウエハ干渉計モニタ部１５はＺレベリング
ステージ１０（ウエハＷ）のＸＹ平面内での座標位置を
逐次計測している。その計測結果は主制御系２０に供給
され、主制御系２０はウエハステージ駆動部１６を介し
てＸＹステージ１１とＺレベリングステージ１０の各動
作を制御する。

【００１３】また主制御系２０は、走査露光時にウエハ
ステージ駆動部１６を介してＸＹステージ１１の動作を
制御し、ウエハＷをＸ方向（又は−Ｘ方向）に一定速度
で走査移動させる。この場合、投影光学系ＰＬの投影倍
率をβとすると、レチクルＲが−Ｘ方向（又はＸ方向）
に速度ＶＲ０で走査されるのに同期して、ウエハＷはＸ
方向（又は−Ｘ方向）に速度ＶＷ０（＝β・ＶＲ０）で
走査される。

【００１４】さて本実施例では、ウエハＷの露光面の状
態を検出するセンサとして、オートフォーカス用の光学
式の焦点位置検出系（以下、「ＡＦセンサー」という）
を使用する。そのＡＦセンサーは送光系７ａ及び受光系
７ｂより構成され、送光系７ａからの検出用照明光ＡＬ
（ウエハ上のレジストを実質的に感光させ難い波長域）
は投影光学系ＰＬの光軸及びウエハ面に対して斜め（例
えばウエハ面に対して１０°以下）に露光領域６内のウ
エハＷの露光面上にスリット像として投影される。

【００１５】このスリット像からの反射光は受光系７ｂ
内で振動スリット板のスリット部にスリット像として再
結像され、その振動スリット板のスリットを通過したウ
エハからの反射光は光電変換器で光電変換される。この
光電変換信号は受光系７ｂ内で振動スリット板の駆動信
号よって同期検波され、受光系７ｂはウエハＷ上の露光
領域６の表面のＺ方向の位置ずれ、すなわち投影光学系
ＰＬの最良結像面（フォーカス位置）を基準とした所定
のＺ範囲内でのウエハ表面の位置ずれとリニアに対応し
たフォーカス信号を生成する。

【００１６】このフォーカス信号は主制御系２０に供給
されて、Ｚレベリングステージ１０の光軸方向（Ｚ方
向）の位置調整、或は傾斜状態の調整に使われる。この
場合フォーカス信号は、ウエハＷの露光面が投影光学系
ＰＬの最良結像面に対して、例えば±０．１μｍの許容
範囲内で合致しているときに、所定の基準値（例えば
零）になるように予めキャリブレーションされているも
のとする。

【００１７】ところで、ＡＦセンサーの詳細な構成の一
例は、例えば本出願人による特開昭60-168112号公報に
開示されている。また本発明では、走査露光時のウエハ
露光面に対する合焦制御性を高めるために、ＡＦセンサ
ー（７ａ，７ｂ）が露光領域６に対して走査方向の手前
側の一部分を含む局所領域内の多数の計測点（検出点）
の各々でＺ方向の位置ずれ（フォーカス位置）を検出す
るいわゆる多点型先読み検出方式（例えば本出願人によ
る特開平6-283403号公報）のＡＦセンサーを用いること
とする。

【００１８】また主制御系２０には入出力装置（キーボ
ードやディスプレー等）１８が接続され、これを介して
オペレータが種々の情報を入力できるようになってい
る。ここで入力する情報としては、例えばテストプリン
ト等により判明したＡＦセンサーのフォーカス信号のオ
フセット情報等がある。また、主制御系２０にはレンズ
制御部１９が接続されている。レンズ制御部１９は、特
開昭５８−１７９８３４号公報、本出願人による特開昭
61-183928号公報、特開昭62-183522号公報、特開昭62-2
29838号公報などにより開示されているように、大気圧
の変化や露光中に投影光学系ＰＬ内に吸収される露光光
のエネルギー変化等によって引き起こされる投影光学系
ＰＬの結像面の位置の変化を随時算出し、この算出結果
を主制御系２０に供給する。

【００１９】次に図２により、多点のオートフォーカス
センサーを用いた制御系について説明する。図２におい
て、露光領域６内には非走査方向（Ｙ方向）に８個の検
出点が並んだ検出列を走査方向（Ｘ方向）に関して２列
（Ｌ０ａ，Ｌ０ｂ）分並べたサーボ制御用のフォーカス
センサーＡＤ０が配置されている。また、走査方向に関
する露光領域６の外側の両方には、それぞれＹ方向に８
個の検出点を並べた検出列Ｌ１ａとＬ１ｂとを有する先
読み用のフォーカスセンサーＡＤ１ａ，ＡＤ１ｂが配置
されている。尚、図２中において、ウェハＷ上に図示さ
れた短い斜線の各々がフォーカスセンサーの各検出点を
構成するスリット像を表している。

【００２０】今、走査露光方向を図２中の矢印の方向
（Ｘ方向）とすると、先読み用センサーとしては図２内
で露光領域６の上側に位置するセンサーＡＤ１ａが選択
されている。ところで本実施例ではフォーカス制御（Ｚ
位置調整）のみならず、非走査方向および走査方向の両
方向に関する傾斜（チルト）制御も行うこととする。実
際にこれらのフォーカス制御やチルト制御を行う場合に
おいては、上記の各センサーＡＤ０，ＡＤ１ａ，ＡＤ１
ｂの各々が有する各検出列Ｌ０ａ，Ｌ０ｂ，Ｌ１ａ，Ｌ
１ｂの中から予め設定された複数の検出点で検出される
フォーカス信号のみを選択して使用しても構わない。

【００２１】本実施例ではフォーカス制御と２方向（Ｘ
軸回りとＹ軸回り）のチルト制御とを行うため、図２に
示した露光領域６内の２つの検出列Ｌ０ａ，Ｌ０ｂから
成るサーボ制御用のフォーカスセンサーＡＤ０のみなら
ず、別の検出列（Ｌ１ａ，Ｌ１ｂ等）からも最低１つの
検出列、或は別の検出列内の最低１つの検出点を選択し
て使用するのが望ましい。

【００２２】そのサーボ制御用のセンサーＡＤ０からの
各フォーカス信号は算出回路１００に入力し、その算出
回路１００は制御目標面Ｚｔと実際のウエハの表面Ｚｐ
とのＺ方向の位置の差ΔＺｆを演算によって求め、その
結果を主制御系２０に送出する。また一般に、ウエハに
は凹凸があるため、算出回路１００としてはサーボ制御
用のセンサーＡＤ０内の複数の検出点の各々で検出され
るフォーカス情報に基づいて最小二乗法の適用によりウ
ェハ表面の近似平面を求め、その近似平面と制御目標面
Ｚｔとの差ΔＺｆを求めるような演算処理を行うのが効
果的である。

【００２３】また、先読み用のフォーカスセンサーＡＤ
１ａ（ＡＤ１ｂ）からも図示されている２つの検出列Ｌ
１ａ（Ｌ２ａ），Ｌ１ｂ（Ｌ２ｂ）、あるいはそれ以上
のセンサを選択して使用する。これら先読み用のフォー
カスセンサーＡＤ１ａ（ＡＤ１ｂ）からの各検出点の各
々で検出されたフォーカス信号は、図２の算出回路１１
０に入力される。そして算出回路１１０はウエハフラッ
トネスに関する情報を露光に先立って主制御系２０に送
出する。これによって、主制御系２０が算出回路１１０
からの信号（ΔＺｆ）に応答してＺレベリングステージ
を駆動する（図ではウエハそのものを駆動するように表
現されているが）３点のアクチュエータ２２の各々を制
御する際の応答遅れを、算出回路１１０からのウエハフ
ラットネス情報に基づいて容易に回避できる。

【００２４】そして、ウエハＷ上の１つのショット領域
に対して露光領域６による走査露光が終了すると、図１
中のレチクルステージ３はＸ方向の移動ストロークのほ
ぼ一端側に達しており、ＸＹステージ１１は隣（又は
次）のショット領域に対する露光のために、ステッピン
グを行う。その際、次のショット領域に対してはＸＹス
テージ１１の走査移動の方向が先のショット領域とは逆
向きになるので、先読み用のセンサーを図２中の上側の
検出列Ｌ１ａのセンサーＡＤ１ａから、露光領域６の下
側の検出列Ｌ１ｂのセンサーＡＤ１ｂを選択するように
切り換えておく。

【００２５】このように、走査露光時のウエハＷの移動
方向（＋Ｘ方向か−Ｘ方向）に応じて露光前にウエハＷ
の表面位置を検出できる側を先読み用のセンサーとして
使用することにより、ウエハＷ上の全てのショット領域
を交互に走査方向を切り換えながら露光して行くことが
可能となる。図３はその時の露光シーケンスの一例を示
し、同図のウエハＷ上に示した複数のショット領域ＳＡ
ｎの各々は、矢印で表したように走査方向を全て交互に
設定することが可能となる。このことは、換言すると、
１枚のウェハＷを露光処理する間、レチクルステージ３
のＸ方向の移動に空走査が不要になることを意味してい
る。すなわち、走査露光処理の間、レチクルステージ３
が＋Ｘ方向へ１回走査移動すると必ず１つのショット領
域が露光され、−Ｘ方向へ１回走査移動すると必ず隣の
（次の）ショット領域が露光されることになる。このた
め、レチクルステージ３の無駄な空走査が無くなり、１
枚のウェハＷを露光処理する時間が短縮され、スループ
ットが向上することになる。

【００２６】さて、上記露光装置では、先読みセンサー
ＡＤ１ａ、ＡＤ１ｂを交互に切り換えてウエハＷの全て
のショット領域に対して交互に走査方向を切り換えなが
ら露光していくため、ウエハＷの外側から内側に向けて
走査露光する露光シーケンスが必須となる。以下に、ウ
エハＷの外側から内側に向けて走査露光する際のフォー
カス制御（Ｚ位置調整）について図３を用いて説明す
る。

【００２７】図３の状態から明らかなように、ショット
領域ＳＡ１〜ＳＡ５等はウエハＷの円形のエッジによっ
て部分的に欠損されるショット領域、すなわち欠けショ
ット領域である。その欠けショット領域であるショット
領域をウエハＷの外側から内側に向けて走査露光する
際、先読みセンサの複数の検出点のうち、ウエハＷのエ
ッジに到達してウエハＷ上に載った検出点のみを選択し
て使用する。例えば、図３に示すようにショット領域Ｓ
Ａ１を図中の矢印方向に走査露光する際、先読みセンサ
の検出点ＦＰ１〜ＦＰ８のうちウエハＷ上に載ったＦＰ
７とＦＰ８を選択しフォーカス制御を行う。そして、走
査露光中ウエハＷ上に載る検出点の数が増加するにつ
れ、選択される検出点も増えていく。同様にして、ショ
ット領域ＳＡ５においては、ウエハＷ上に載ったＦＰ１
とＦＰ２を選択しフォーカス制御を行う。なお、図３に
図示された検出点ＦＰ１〜ＦＰ８の各々は、図２中にお
いてウエハＷ上に図示された短い斜線の検出点から構成
される検出列の一つに対応している。従って、図３に示
された検出点ＦＰ１〜ＦＰ８が先読み用の検出点として
使用される場合、それは図２において検出列Ｌ１ａ或い
はＬ１ｂに相当する。

【００２８】ここで、図４に示した先読みセンサの検出
点の選択を説明するための概念図を用いて更に詳しく説
明すると、メモリ１７はウエハＷのエッジ（周縁部）の
位置情報と、ＸＹステージ１１の移動位置情報を予め記
憶している。従って、主制御系２０は、図４に示すよう
にメモリ１７に記憶されたウエハＷのエッジの位置情報
とＸＹステージ１１の位置情報とにより、ウエハＷ上に
載った先読みセンサの検出点ＦＰ１〜ＦＰ８を順次選択
する。すなわち、走査露光中ウエハＷ上に位置する検出
点の数が増えていき、このウエハＷ上に位置する検出点
の全てを順次選択する。これにより、より信頼性の高い
高精度のフォーカス制御を実現することができる。そし
て、この選択された検出点（図３に示す先読みセンサの
検出列とウエハＷの位置関係においては、ＦＰ７及びＦ
Ｐ８）を用いて、ウエハＷのフォーカス位置（光軸方向
の位置）或いは傾斜状態を検出する。主制御系２０は、
この検出結果に基づいてＺレベリングステージ１０の光
軸方向の位置調整或いは傾斜状態の調整を行う。つま
り、ウエハＷのエッジと交差する位置にまで達していな
い検出点は、選択されることなくフォーカス制御が行わ
れる。これにより、欠けショット領域に対してウエハＷ
の外側から内側に向けて走査露光する場合でもデフォー
カスさせることなく露光することができ、欠けショット
領域を有効活用することができる。

【００２９】なお、先読みセンサの全ての検出点がウエ
ハＷ上に載る位置も予め判るので、主制御系２０は、検
出点の全てが載ってから先読みによるウエハフラットネ
ス計測のためのフォーカス信号の取り込みを開始し、フ
ォーカス制御及びチルト制御を行ってもよい。ところ
で、上述の実施例では投影光学系として屈折系を用いた
場合について述べて来たが、投影光学系として、反射型
投影光学系、反射屈折型投影光学系を用いた場合でも本
発明は同様に適応できる。また、投影光学系を要しない
コンタクト露光やプロキシミティ露光においても、走査
露光であれば適応できる。更に、上述の実施例ではフォ
ーカス制御のみならず、２方向の傾斜制御も行うことと
したが、フォーカス制御のみでも本発明は適応できる。
この場合使用するセンサの数も少なくて済む。また、サ
ーボ制御用のセンサーＡＤ０を用いず、先読み用のセン
サーＡＤ１ａ，ＡＤ１ｂからのウエハフラットネス情報
のみを使って、オープンにＺレベリングテーブル１０の
姿勢を制御することも可能である。

【００３０】

【発明の効果】本発明によれば、ウエハ等の感光基板の
光軸方向の位置、すなわち表面と垂直なＺ方向の位置を
検出する複数の検出点をウエハの周縁部の位置情報とウ
エハステージの移動位置情報とに基づいて選択的に使用
し、正確なウエハＷの光軸方向の位置或いは傾斜状態を
検出することができるので、ウエハの外側から内側に向
けて走査する露光シーケンスを可能とした。これによ
り、ウエハ全体の露光を一ショット領域毎に交互に走査
方向を切り替えながら光軸方向の位置制御又は傾斜制御
を行うことができ、ウエハステージまたはマスクステー
ジの１枚の感光基板に対する総移動量を最小化でき、高
いスループットを達成できる。さらに、各ステージの空
走査（ダミースキャン）が皆無であるので、露光装置内
に生じる反力に不要な挙動が生じることも抑えられると
ともに、各ステージを駆動するための駆動モータ等の発
熱も最小にすることが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例による露光装置の構成を示す
図。

【図２】本発明の一実施例によるフォーカス・傾斜制御
の一例を示す図。

【図３】本発明による露光シーケンスの一例を示す図

【図４】先読みセンサの検出点の選択を説明するための
概念図

【符号の説明】

１…スリット状の照明領域Ｒ…レチクルＷ…ウエハＰＬ…投影光学系３…レチクルステージ７ａ…ＡＦセンサの送光系７ｂ…ＡＦセンサの受光系１０…Ｚレベリングステージ１１…ＸＹステージ２０…主制御系２２…アクチュエータ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｌ 21/30 ５２０Ａ５２５Ｘ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】所定形状の照明領域に対して転写用のパ
ターンが形成されたマスクを所定方向に走査し、前記照
明領域に対して所定方向に感応基板を走査することによ
り、前記マスクのパターンの像を前記感応基板上に露光
する方法であって、前記マスクを載置したマスクステージと前記感応基板を
載置した基板ステージとを所定の位置関係に整合した
後、前記感応基板の外側から内側に向けて走査露光する
露光ステップと、前記露光ステップ中、非走査方向に配列した複数の検出
点の各々で前記感応基板のフォーカスの位置を検出する
検出ステップとを有し、前記検出ステップは、前記走査方向と交差する前記感応
基板の周縁部の位置情報と前記基板ステージの移動位置
情報とに基づいて前記複数の検出点を選択する選択する
ステップを含むことを特徴とする露光方法。
【請求項２】前記選択ステップは、前記複数の検出点
の中から前記感応基板上に位置する検出点を選択するこ
とを特徴とする請求項１記載の露光方法。
【請求項３】前記複数の検出点は、走査方向に対して
前記照明領域の前後に位置することを特徴とする請求項
１又は２記載の露光方法。
【請求項４】所定形状の照明領域に対して転写用のパ
ターンが形成されたマスクを所定方向に走査し、前記照
明領域に対して所定方向に感応基板を走査することによ
り、前記マスクのパターンの像を前記感応基板上に露光
する方法であって、前記マスクと前記感応基板とを所定の位置関係に整合し
た後、前記感応基板の外側から内側に向けて走査露光す
る露光ステップと、前記露光ステップ中、非走査方向に配列した複数の検出
点で前記感応基板のフォーカスの位置を検出し、その検
出結果に基づいて感応基板に対するパターン像のフォー
カス状態を制御する制御ステップとを有し、前記制御ステップは、前記複数の検出点の少なくとも一
つ以上が前記感応基板の周縁部の内側に到達したときに
前記検出動作又は制御動作を開始することを特徴とする
露光方法。
【請求項５】前記検出ステップは、前記感応基板の傾
斜状態をも検出するステップであることを特徴とする請
求項１又は４記載の露光方法。