JPH09307697A - Microlens array, image sensor and optical image transmission element - Google Patents

Microlens array, image sensor and optical image transmission element

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JPH09307697A
JPH09307697A JP8118920A JP11892096A JPH09307697A JP H09307697 A JPH09307697 A JP H09307697A JP 8118920 A JP8118920 A JP 8118920A JP 11892096 A JP11892096 A JP 11892096A JP H09307697 A JPH09307697 A JP H09307697A
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JP
Japan
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microlens
light
microlens array
array
holding member
Prior art date
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Application number
JP8118920A
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Japanese (ja)
Inventor
Toshimichi Nasukawa
利通 名須川
Kazuhiro Umeki
和博 梅木
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Ricoh Optical Industries Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Optical Industries Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the depth of field of a micro lens array by supporting fixedly a flat support member having holes at prescribed pitches to a support hole of the support member so as to provide a function of limiting or preventing mutual overlap of images by a plurality of identical micro lenses. SOLUTION: A luminous flux made incident from an upper part of each micro lens 1-1 of a micro lens array is refracted at a refraction plane of the incident side, collected once in each micro lens, part of the light is reflected in a light reflection film 1-3 of a support hole wall face, refracted at a lower refraction plane and outputted from each micro lens 1-1. In the micro lens array, a support member 1-2 is of light shut-off property and the size of support holes is selected depending on a pitch of the support hole arrangement so that the overlap of images by the micro lenses 1-1 is limited or prevented. Thus, the support member 1-2 limits or prevents overlapped images by the micro lenses 1-1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明はマイクロレンズお
よびイメージセンサおよび光画像伝送素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a microlens, an image sensor and an optical image transmission device.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から知られたマイクロレンズアレイ
では、個々のマイクロレンズによる像が互いに周辺にお
いて重なりあって合成的に像を形成するので、合成開口
角が大きくなり被写界深度が浅くなる問題があった。
2. Description of the Related Art In a conventionally known microlens array, images formed by individual microlenses overlap each other at their periphery to form a synthetic image, so that the synthetic aperture angle becomes large and the depth of field becomes shallow. There was a problem.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】この発明は上述した事
情に鑑み、被写界深度を改善した新規なマイクロレンズ
アレイの実現を課題とする。この発明の別の課題は、ク
ロストークの少ない新規なイメージセンサの実現にあ
る。また、この発明の他の課題は、上記新規なマイクロ
レンズアレイを使用した新規な光画像伝送素子の実現に
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above-mentioned circumstances, an object of the present invention is to realize a novel microlens array with an improved depth of field. Another object of the present invention is to realize a novel image sensor with less crosstalk. Another object of the present invention is to realize a novel optical image transmission device using the novel microlens array.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】この発明の「マイクロレ
ンズアレイ」は、保持部材と、複数のマイクロレンズと
を有する(請求項1)。
The "microlens array" of the present invention has a holding member and a plurality of microlenses (claim 1).

【0005】「保持部材」は、平板状であって、同一形
状で互いに独立した複数の保持孔を所定のピッチで穿設
されている。即ち、隣接する保持孔は互いに連結するこ
とがない。複数の「マイクロレンズ」は互いに等価であ
り、保持部材の各保持孔に1つずつ固定的に保持され
る。保持部材は、マイクロレンズによる像の相互の重な
りを制限もしくは防止する機能を有する。このように、
保持部材が各マイクロレンズの像相互の重なりを制限も
しくは防止するので、合成開口角が有効に小さくなって
被写界深度が改善される。
The "holding member" has a flat plate shape, and has a plurality of holding holes having the same shape and independent from each other, which are formed at a predetermined pitch. That is, adjacent holding holes are not connected to each other. The plurality of “microlenses” are equivalent to each other and are fixedly held one by one in each holding hole of the holding member. The holding member has a function of limiting or preventing overlapping of images by the microlenses. in this way,
Since the holding member limits or prevents the images of the respective microlenses from overlapping with each other, the synthetic aperture angle is effectively reduced and the depth of field is improved.

【0006】保持部材は「光遮断性」とすることがで
き、穿設された保持孔の大きさを、マイクロレンズによ
る像の相互の重なりを制限もしくは防止するように、保
持孔配列のピッチに応じて設定することができる(請求
項2)。保持部材を光遮断性とするには、保持部材の材
質自体を金属等の遮光性材質としてもよいし、ガラスや
プラスチック等の透光性の材質の表面に光吸収性の反射
防止膜を形成し、この反射防止膜により光遮断性を実現
してもよい。反射防止膜を設ける場合には、反射防止膜
の側がマイクロレンズにおける光入射側になるようにす
る(請求項3)。反射防止膜は勿論、遮光性材質による
保持部材に於ける入射側表面に形成しても良い。マイク
ロレンズの入射側における光吸収性の反射防止膜は、個
々のマイクロレンズによる結像作用に対する迷光の影響
を除去する意義がある。
The holding member may be "light-blocking" and the holding holes may be sized to a pitch of the holding holes array so as to limit or prevent mutual overlapping of images by the microlenses. It can be set accordingly (claim 2). To make the holding member light-shielding, the material itself of the holding member may be a light-shielding material such as metal, or a light-absorbing antireflection film is formed on the surface of a light-transmitting material such as glass or plastic. However, a light blocking property may be realized by this antireflection film. When the antireflection film is provided, the side of the antireflection film is the light incident side of the microlens (claim 3). Of course, the antireflection film may be formed on the incident side surface of the holding member made of a light shielding material. The light-absorptive antireflection film on the incident side of the microlens has the meaning of eliminating the effect of stray light on the image forming action of the individual microlenses.

【0007】請求項1または2または3記載のマイクロ
レンズアレイにおいて「保持部材における保持孔の壁面
を光反射性とし、各マイクロレンズに入射した光を反射
するようにする」ことができる(請求項4)。このよう
に保持孔の壁面を光反射性とし、マイクロレンズに入射
した光を上記壁面で反射させることにより、マイクロレ
ンズにより伝送される光の伝送効率を高めることができ
る。保持孔の壁面を光反射性とするには、保持部材の材
質を金属等とし、その表面の反射性を利用しても良い
し、上記壁面に光反射膜を形成してもよい。
In the microlens array according to claim 1, 2 or 3, "the wall surface of the holding hole in the holding member is made to be light-reflecting so that the light incident on each microlens is reflected". 4). As described above, the wall surface of the holding hole is made light-reflecting and the light incident on the microlens is reflected by the wall surface, whereby the transmission efficiency of the light transmitted by the microlens can be improved. In order to make the wall surface of the holding hole light-reflective, the material of the holding member may be metal or the like, and the reflectivity of the surface may be used, or a light-reflecting film may be formed on the wall surface.

【0008】保持部材の材料としては、前述の金属やプ
ラスチック、ガラスの他に、セラミックスやシリコン等
を用いることができる。金属やガラス、セラミックスや
シリコンによる保持部材は、温度・湿度等の環境の変化
に対する耐性に優れている。
As the material of the holding member, ceramics, silicon or the like can be used in addition to the above-mentioned metals, plastics and glass. A holding member made of metal, glass, ceramics, or silicon has excellent resistance to environmental changes such as temperature and humidity.

【0009】保持部材に固定的に保持されるマイクロレ
ンズは、これを「光硬化性樹脂」を材料として形成し、
光照射により保持部材に固定することができ(請求項
6)、あるいは「光学ガラスによるボールレンズ」とし
て構成することもできる(請求項7)。ボールレンズを
用いる場合、保持部材の一つの保持孔に2以上のボール
レンズを保持させて、複数のボールレンズにより、1つ
のマイクロレンズが構成されるようにしてもよい。ま
た、上記光硬化性樹脂の硬化の際には、光照射に加え、
加熱(ポストキュア)を行うことができる。
The microlens fixedly held by the holding member is formed by using "photocurable resin" as a material,
It can be fixed to the holding member by light irradiation (Claim 6), or can be configured as a "ball lens made of optical glass" (Claim 7). When using a ball lens, two or more ball lenses may be held in one holding hole of the holding member, and one microlens may be configured by a plurality of ball lenses. Further, when curing the photocurable resin, in addition to light irradiation,
Heating (post cure) can be performed.

【0010】これらマイクロレンズアレイに於ける個々
のマイクロレンズの平面形状(光軸方向から見た形状)
は円形や楕円形、4辺形等の多角形等とすることがで
き、レンズ面の形状も、球面やシリンダ面、トロイダル
面、被球面等が可能であり、レンズ機能をアナモフィッ
クとすることも可能である。
Planar shapes of individual microlenses in these microlens arrays (shapes viewed from the optical axis direction)
Can be a circle, an ellipse, a polygon such as a quadrangle, etc., and the shape of the lens surface can be a spherical surface, a cylinder surface, a toroidal surface, a spherical surface, etc., and the lens function can be anamorphic. It is possible.

【0011】上記請求項1〜7の任意の1に記載のマイ
クロレンズアレイにおいて、マイクロレンズのアレイ配
列は、1列直線状もしくは2列千鳥状、あるいは2次元
マトリックス状または2次元千鳥状とすることができ
る。上記2次元マトリックス状とは、マイクロレンズが
縦・横両方向に所定のピッチ(縦方向のピッチと横方向
のピッチとは、同一でも異なってもよい)で配列するこ
とを意味し、2次元千鳥状とは、マイクロレンズの配列
が縦・横方向とも3列以上の配列で、縦・横方向とも、
隣接する2列においてマイクロレンズの配列が千鳥状で
あることを意味する。
In the microlens array according to any one of claims 1 to 7, the array of microlenses is one-row linear or two-row staggered, or two-dimensional matrix or two-dimensional staggered. be able to. The two-dimensional matrix shape means that the microlenses are arranged in a predetermined pitch in both the vertical and horizontal directions (the vertical pitch and the horizontal pitch may be the same or different), and the two-dimensional staggered pattern is formed. The shape means that the array of microlenses has three or more rows in both the vertical and horizontal directions.
This means that the arrangement of microlenses in two adjacent rows is staggered.

【0012】請求項1〜7に記載したようなマイクロレ
ンズアレイは、これらと光電変換素子アレイと組み合わ
せることにより、1次元あるいは2次元のイメージセン
サを構成することができ、発光素子アレイと組み合わせ
ることにより光画像伝送素子を構成することもできる。
By combining the microlens array as described in any one of claims 1 to 7 with these and a photoelectric conversion element array, a one-dimensional or two-dimensional image sensor can be constructed and combined with a light emitting element array. The optical image transmission device can also be configured by the above.

【0013】即ち、この発明の「イメージセンサ」は、
複数の微小な光電変換素子が1次元もしくは2次元的に
所定のパターンで配列した光電変換素子アレイと、この
光電変換素子アレイにおける光電変換素子の配列と同パ
ターンで配列された複数のマイクロレンズを有する上記
マイクロレンズアレイとを、各光電変換素子と各マイク
ロレンズとが1:1に対応するように、且つ、個々のマ
イクロレンズに入射する画像光束が対応する光電変換素
子上に集光するように一体化して構成される。
That is, the "image sensor" of the present invention is
A photoelectric conversion element array in which a plurality of minute photoelectric conversion elements are one-dimensionally or two-dimensionally arranged in a predetermined pattern, and a plurality of microlenses arranged in the same pattern as the arrangement of photoelectric conversion elements in this photoelectric conversion element array are provided. The above-mentioned microlens array having the photoelectric conversion elements and the microlenses correspond to each other at a ratio of 1: 1 and the image light flux incident on each microlens is condensed on the corresponding photoelectric conversion elements. It is configured to be integrated with.

【0014】また、この発明の「光画像伝送素子」は、
複数の微小な発光素子が、1次元もしくは2次元的に所
定のパターンで配列した発光素子アレイと、この発光素
子アレイにおける発光素子の配列と同パターンで配列さ
れた複数のマイクロレンズを有する上記マイクロレンズ
アレイとを、各発光素子と各マイクロレンズとが1:1
に対応するように、且つ、個々の発光素子から放射され
る光束が、対応するマイクロレンズに入射するように一
体化して構成される。
The "optical image transmission device" of the present invention is
The above micro having a light emitting element array in which a plurality of minute light emitting elements are arranged in a predetermined pattern one-dimensionally or two-dimensionally, and a plurality of microlenses arranged in the same pattern as the arrangement of the light emitting elements in the light emitting element array. The lens array is such that each light emitting element and each microlens are 1: 1.
And the light fluxes emitted from the individual light emitting elements are integrally formed so as to enter the corresponding microlenses.

【0015】また前述の、マイクロレンズアレイを2次
元マトリックス状もしくは2次元千鳥状に配列したマイ
クロレンズアレイは、光源アレイからの光に指向性を与
えるようにすることもでき、例えば、液晶表示用のバッ
クライトパネルの光学素子として有効に利用することが
できる。
Further, the above-mentioned microlens array in which the microlens arrays are arranged in a two-dimensional matrix or a two-dimensional staggered pattern can give directivity to the light from the light source array, for example, for liquid crystal display. Can be effectively used as an optical element of a backlight panel.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】図1は、請求項1,2,3,4記
載のマイクロレンズアレイの実施の1形態を説明図的に
示している。符号1−2は保持部材を示す。保持部材1
ー2は平板状であって、独立した複数の保持孔を所定の
ピッチで穿設されている。各保持孔は同一形状であり、
その内部は光反射膜1−3を形成されて壁面が光反射性
となっており(請求項4)、個々の保持孔には1つずつ
正立等倍像結像用のマイクロレンズ1−1が固定的に保
持されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 schematically shows one embodiment of a microlens array according to claims 1, 2, 3, and 4. Reference numeral 1-2 indicates a holding member. Holding member 1
Reference numeral 2 is a flat plate, and a plurality of independent holding holes are formed at a predetermined pitch. Each holding hole has the same shape,
A light-reflecting film 1-3 is formed in the interior thereof so that the wall surface is light-reflecting (claim 4), and each of the holding holes has a microlens 1 for forming an erecting equal-magnification image. 1 is fixedly held.

【0017】図1において、上側の面がマイクロレンズ
1−1への光入射側であり、この光入射側において、保
持部材1−2の表面に光吸収性の反射防止膜1−4が形
成されている(請求項3)。
In FIG. 1, the upper surface is the light incident side to the microlens 1-1, and the light absorbing antireflection film 1-4 is formed on the surface of the holding member 1-2 at this light incident side. (Claim 3).

【0018】図1のマイクロレンズアレイの各マイクロ
レンズ1−1に、図の上方から入射する光束は、入射側
の屈折面で屈折され、例えばマイクロレンズ内で一旦集
光したのち、一部が保持孔壁面の光反射膜1−3により
反射され、下側の屈折面で屈折されて各マイクロレンズ
1−1から射出する。上記とは逆に、入射側の屈折面か
ら入射した光束が屈折されるとともに、その一部が光反
射膜1−3で反射されて集光し、その後射出側の屈折面
で屈折されつつ射出するようにすることもできる。
A light beam incident on each microlens 1-1 of the microlens array of FIG. 1 from the upper side of the drawing is refracted by a refracting surface on the incident side, and is once condensed within the microlens, for example, and then a part thereof is collected. The light is reflected by the light reflection film 1-3 on the wall surface of the holding hole, refracted by the lower refraction surface, and emitted from each microlens 1-1. Contrary to the above, while the light flux incident from the refracting surface on the incident side is refracted, a part of the light flux is reflected by the light reflecting film 1-3 to be condensed and then emitted while being refracted on the refracting surface on the exit side. You can also choose to do so.

【0019】この実施の形態において、保持部材は光遮
断性であり、穿設された保持孔の大きさを、各マイクロ
レンズ1−1による像の相互の重なりを制限もしくは防
止するように、保持孔配列のピッチに応じて設定されて
おり(請求項2)、このようにして、保持部材1−2
は、マイクロレンズによる像の相互の重なりを制限もし
くは防止する機能を有する。
In this embodiment, the holding member is light-blocking and holds the size of the holding holes formed so as to limit or prevent mutual overlapping of images by the microlenses 1-1. The holding member 1-2 is set according to the pitch of the hole arrangement (claim 2).
Has a function of limiting or preventing mutual overlapping of images by the microlenses.

【0020】図2は、請求項1,2,3,4,6記載の
マイクロレンズアレイの実施の1形態を説明図的に示し
ている。符号2−2は保持部材を示す。保持部材2ー2
は平板状であって、独立した複数の保持孔を所定のピッ
チで穿設されている。各保持孔の内部は光反射膜2−3
を形成されて壁面が光反射性となっており(請求項
4)、個々の保持孔には1つずつマイクロレンズ2−1
が固定的に保持されている。この実施の形態において各
々のマイクロレンズ2−1は「光学ガラスによるボール
レンズ」である(請求項6)。
FIG. 2 is an explanatory view showing one embodiment of the microlens array according to claims 1, 2, 3, 4, and 6. Reference numeral 2-2 indicates a holding member. Holding member 2-2
Has a flat plate shape and has a plurality of independent holding holes formed at a predetermined pitch. The inside of each holding hole is a light reflecting film 2-3.
And the wall surface is light-reflecting (claim 4), and one microlens 2-1 is provided in each holding hole.
Is fixedly held. In this embodiment, each microlens 2-1 is a "ball lens made of optical glass" (claim 6).

【0021】図2において、上側の面がマイクロレンズ
2−1への光入射側であり、この光入射側において、保
持部材2−2の表面に光吸収性の反射防止膜2−4が形
成されている(請求項3)。
In FIG. 2, the upper surface is the light incident side to the microlens 2-1, and on this light incident side, a light absorbing antireflection film 2-4 is formed on the surface of the holding member 2-2. (Claim 3).

【0022】図2のマイクロレンズアレイの各マイクロ
レンズ2−1に図の上方から入射する光束は、入射側の
屈折面で屈折され、一部が保持孔壁面の光反射膜2−3
により反射され、下側の屈折面で屈折されて各マイクロ
レンズ2−1から射出する。
A light beam incident on each microlens 2-1 of the microlens array of FIG. 2 from the upper side of the drawing is refracted by the refracting surface on the incident side, and a part of the light reflecting film 2-3 on the wall surface of the holding hole.
And is refracted by the lower refracting surface and emitted from each microlens 2-1.

【0023】図2に示す実施の形態においても、保持部
材2−2は光遮断性であり、穿設された保持孔の大きさ
は、各マイクロレンズによる像の相互の重なりを制限も
しくは防止するように、保持孔配列のピッチに応じて設
定されており(請求項2)、このようにして、保持部材
2−2はマイクロレンズによる像の相互の重なりを制限
もしくは防止する機能を有する。
Also in the embodiment shown in FIG. 2, the holding member 2-2 is light-shielding, and the size of the holding holes formed limits or prevents mutual overlapping of images by the microlenses. Thus, the holding holes are set according to the pitch of the holding hole arrangement (claim 2), and thus the holding member 2-2 has a function of limiting or preventing mutual overlapping of images by the microlenses.

【0024】図3は、この発明のイメージセンサを、図
1に示すタイプのマイクロレンズアレイを用いて構成し
た実施の1形態を説明図的に示している。光電変換素子
アレイ41においては、複数の微小な光電変換素子40
が図面に直交する方向へ1列に所定のピッチで配列して
いる。マイクロレンズアレイ10は、光電変換素子アレ
イ41における光電変換素子40の配列と同パターン
(光電変換素子40の配列ピッチと同ピッチ)で、図面
に直交する方向へ1列に配列された複数のマイクロレン
ズ11を有する。
FIG. 3 is an explanatory view showing one embodiment of the image sensor of the present invention constructed by using the microlens array of the type shown in FIG. In the photoelectric conversion element array 41, a plurality of minute photoelectric conversion elements 40
Are arranged in a row at a predetermined pitch in a direction orthogonal to the drawing. The microlens array 10 has a plurality of microarrays arranged in one row in the direction orthogonal to the drawing in the same pattern as the arrangement of the photoelectric conversion elements 40 in the photoelectric conversion element array 41 (the same pitch as the arrangement pitch of the photoelectric conversion elements 40). It has a lens 11.

【0025】マイクロレンズアレイ10と光電変換素子
アレイ41とは、各光電変換素子40と各マイクロレン
ズ11とが1:1に対応するように、且つ、個々のマイ
クロレンズに入射する画像光束が対応する光電変換素子
上に集光するように、ケーシング等、適宜の一体化手段
42により一体化されている。個々のマイクロレンズ1
1の光軸は、対応する光電変換素子40の中央部を通る
ようになっている。
The microlens array 10 and the photoelectric conversion element array 41 correspond to each photoelectric conversion element 40 and each microlens 11 at a ratio of 1: 1, and the image light flux incident on each microlens corresponds thereto. It is integrated by an appropriate integration means 42 such as a casing so as to collect light on the photoelectric conversion element. Individual microlens 1
The optical axis of 1 passes through the central portion of the corresponding photoelectric conversion element 40.

【0026】図3に示すように、コンタクトガラス30
上に原稿面を当て、原稿0を矢印Aの方向へ移動させつ
つ、マイクロレンズアレイ10の上にある原稿面部分を
図示されない照明手段で照明すれば、原稿は個々のマイ
クロレンズ11により画素化されて対応する光電変換素
子40上に結像し、光電変換素子40により光電変換さ
れて読み取られる。
As shown in FIG. 3, contact glass 30
If the original surface is placed on the original surface and the original 0 is moved in the direction of arrow A while the original surface portion on the microlens array 10 is illuminated by an illumination means (not shown), the original is pixelated by the individual microlenses 11. Then, an image is formed on the corresponding photoelectric conversion element 40, photoelectrically converted by the photoelectric conversion element 40, and read.

【0027】図4は、この発明の光画像伝送素子を図1
に示すタイプのマイクロレンズアレイ(煩雑をさけるた
め、図3におけると同一の符号を用いている)を用いて
構成した実施の1形態を説明図的に示している。
FIG. 4 shows the optical image transmission device of the present invention.
1 is an explanatory view showing an embodiment of the present invention configured by using a microlens array of the type shown in FIG. 1 (in order to avoid complication, the same reference numerals are used as in FIG. 3).

【0028】発光素子アレイ50においては、複数の微
小な発光素子51が1次元的に所定のピッチで1列に配
列しており、マイクロレンズアレイ10は、発光素子ア
レイ50における発光素子51の配列と同パターン(発
光素子51の配列ピッチと同ピッチ)で配列された複数
のマイクロレンズ11を有する。
In the light emitting element array 50, a plurality of minute light emitting elements 51 are one-dimensionally arranged in one row at a predetermined pitch, and in the microlens array 10, the light emitting elements 51 in the light emitting element array 50 are arranged. And a plurality of microlenses 11 arranged in the same pattern (the same pitch as the arrangement pitch of the light emitting elements 51).

【0029】発光素子アレイ50とマイクロレンズアレ
イ10とは、発光素子51と各マイクロレンズ11とが
1:1に対応するように、且つ、個々の発光素子から放
射される光束が、対応するマイクロレンズに入射し、結
像面60(一般に感光体の表面である)に対応する発光
素子の像を結像するように、図示されない適宜の一体化
手段(ケーシング等)により一体化されている。個々の
マイクロレンズ11の光軸は、対応する発光素子の中央
部を通るようになっている。
The light emitting element array 50 and the microlens array 10 are arranged such that the light emitting elements 51 and the respective microlenses 11 correspond to each other in a ratio of 1: 1 and the luminous flux emitted from each light emitting element corresponds to the corresponding microlens. It is integrated by an appropriate unifying means (casing or the like) not shown so as to enter the lens and form an image of the light emitting element corresponding to the image forming surface 60 (generally the surface of the photoconductor). The optical axis of each microlens 11 passes through the center of the corresponding light emitting element.

【0030】点灯した発光素子51の組み合わせにより
表現される「1次元の画像」は、マイクロレンズアレイ
10により伝送されて結像面60上に結像される。結像
面60を図面に直交する方向へ移動させつつ、このよう
な光画像伝送を繰り返すことにより、2次元の光画像を
結像面60に伝送(露光)することができる。
The "one-dimensional image" represented by the combination of the light-emitting elements 51 that are turned on is transmitted by the microlens array 10 and imaged on the image plane 60. By repeating such optical image transmission while moving the image plane 60 in the direction orthogonal to the drawing, a two-dimensional optical image can be transmitted (exposed) to the image plane 60.

【0031】図1に示す実施の形態において、マイクロ
レンズ1−1の「光軸方向からみた形状」は図5(a)
に示すように円形であるが、これに限らず、図5(b)
に示すマイクロレンズ1−11のように多角形(図では
6角形)や、図5(c)に示すマイクロレンズ1−12
のように楕円形でもよい。
In the embodiment shown in FIG. 1, the "shape seen from the optical axis direction" of the microlens 1-1 is shown in FIG.
Although the shape is circular as shown in FIG.
A polygon (such as a hexagon in the figure) like the microlens 1-11 shown in FIG. 5 or a microlens 1-12 shown in FIG.
It may be oval like.

【0032】また、マイクロレンズアレイにおけるマイ
クロレンズの配列パターンも、上に説明した1次元の直
線状の配列に限らず、図6に示すマイクロレンズ6−1
のように2列千鳥状の配列でもよく、さらには前述の2
次元マトリックス状や2次元千鳥状でもよい。
The array pattern of the microlenses in the microlens array is not limited to the one-dimensional linear array described above, and the microlenses 6-1 shown in FIG.
It may be a two-row zigzag array as shown in FIG.
It may be a three-dimensional matrix or a two-dimensional staggered pattern.

【0033】[0033]

【実施例】以下、具体的な実施例を説明する。以下に説
明する実施例1〜5のうち、実施例1〜4は、図1に即
して説明した実施の形態に関連し、実施例5は、図2に
即して説明した実施の形態に関連する。
EXAMPLES Specific examples will be described below. Among Examples 1 to 5 described below, Examples 1 to 4 relate to the embodiment described with reference to FIG. 1, and Example 5 relates to the embodiment described with reference to FIG. is connected with.

【0034】実施例1 実施例1のマイクロレンズアレイは、イメージセンサ
(請求項8)用のものであり、マイクロレンズアレイと
組み合わせて一体化されるべき光電変換素子アレイは、
受光部径:70μmの光電変換素子がピッチ:125μ
mで1列直線状に配列されたものである。
Example 1 The microlens array of Example 1 is for an image sensor (claim 8), and the photoelectric conversion element array to be integrated with the microlens array is:
Photoelectric conversion element with light receiving part diameter: 70 μm pitch: 125 μ
m are arranged in a straight line in one column.

【0035】マイクロレンズアレイは、以下のごとき手
順で製造された。幅:12mm、長さ:300mm、厚
さ:500μmのアルミニウムの基板(予め、位置決め
用の孔を複数個明けてある)に、目的の数値を入力した
コンピュータによりプログラム制御されたプレス機で、
径:100μmの「円形の孔」を、保持孔用にピッチ:
125μmで1列に1700個(長さ:21.25m
m)穿設した。
The microlens array was manufactured by the following procedure. Width: 12 mm, length: 300 mm, thickness: 500 μm Aluminum substrate (previously formed with a plurality of positioning holes) A computer-controlled press machine that inputs the desired numerical values,
Diameter: 100 μm “Circular holes”, pitch for holding holes:
125μm 1700 pieces per line (length: 21.25m
m) Drilled.

【0036】次いで、この板にアルミニウムを真空蒸着
した。このとき必要に応じて真空蒸着の前処理として
「プラズマ処理」を行うことができる。蒸着されたアル
ミニウム膜は、アルミニウム基板に穿設された孔の壁面
に光反射膜として光反射性を与える。この実施例で「保
持孔用の孔」は機械的に穿設されるので、孔の壁面は鏡
面でない。このため、この部分を鏡面化するためにアル
ミニウムを蒸着したのである。このようにして壁面が光
反射性である1連の「保持用孔」が得られた。
Next, aluminum was vacuum-deposited on this plate. At this time, if necessary, a "plasma treatment" can be performed as a pretreatment for vacuum vapor deposition. The vapor-deposited aluminum film imparts light reflectivity as a light reflection film to the wall surface of the hole formed in the aluminum substrate. In this embodiment, the "holding hole hole" is mechanically drilled, so the wall surface of the hole is not a mirror surface. Therefore, aluminum was vapor-deposited to make this portion a mirror surface. In this way, a series of "holding holes" having a light-reflecting wall surface was obtained.

【0037】次に、粘度:2000cpsの紫外光硬化
性の樹脂(共立化学産業(株)製、高屈折率接着剤とし
て市販されている)を、前記アルミニウム基板上に均一
に塗布し、硬質ウレタン製(フッ素樹脂製でもよい)の
スキージで保持用孔に押し込んだ。押し込まれた樹脂
は、基板の各保持用孔から反対側の面に押し出され、個
々の保持用孔の部分から凸面状に盛り上がった。
Next, an ultraviolet light curable resin having a viscosity of 2000 cps (manufactured by Kyoritsu Chemical Industry Co., Ltd., which is commercially available as a high refractive index adhesive) is uniformly applied onto the aluminum substrate to form a hard urethane. It was pushed into the holding hole with a squeegee (made of fluororesin). The pushed resin was extruded from the respective holding holes of the substrate to the surface on the opposite side, and bulged in a convex shape from the respective holding hole portions.

【0038】このとき樹脂は、基板の保持用孔径、押出
し圧力、スキ−ジの硬度、基板のタワミ量、樹脂の表面
張力、樹脂のチキソ性によって、基板裏面からのはみ出
し量が異なり、また、はみ出し量と重力の釣合いにより
裏面に於ける「盛り上がりの凸面形状」が異なる。従っ
て上記諸量を制御することにより、基板裏面に盛り上が
った凸面の形状を「所望の球面形状」とすることが可能
となる。
At this time, the amount of resin protruding from the back surface of the substrate differs depending on the hole diameter for holding the substrate, the extrusion pressure, the hardness of squeegee, the amount of deflection of the substrate, the surface tension of the resin, and the thixotropy of the resin. The "bulge convex shape" on the back side differs depending on the balance between the amount of protrusion and gravity. Therefore, by controlling the above-mentioned various amounts, it becomes possible to make the shape of the convex surface raised on the back surface of the substrate a "desired spherical shape".

【0039】各保持用孔から盛り上がった樹脂の凸面形
状が所望の球面形状となった時点で紫外光を照射して樹
脂を硬化させ、更に完全硬化させるためにポストベ−ク
として加熱を行った。スキ−ジを押し当てた側の面は、
基板表面と同じ高さの平面となった。
When the convex shape of the resin raised from each holding hole became a desired spherical shape, the resin was cured by irradiating it with ultraviolet light, and heating was performed as a post-baking for complete curing. The surface on the side where the squeegee is pressed is
It became a flat surface with the same height as the substrate surface.

【0040】このようにして得られた光学部品を、図7
に符号1aで示す。符号1−2aはアルミニウム基板、
符号1−3aはアルミニウムの蒸着膜を示し。符号1−
1aは、硬化した紫外光硬化性の樹脂を示している。
The optical component thus obtained is shown in FIG.
Is indicated by reference numeral 1a. Reference numeral 1-2a is an aluminum substrate,
Reference numeral 1-3a indicates a vapor deposited film of aluminum. Code 1-
Reference numeral 1a represents a cured ultraviolet light curable resin.

【0041】光学部品1aの、図7で上方の面にフォト
レジストを塗布し、フォトリソグラフィ−法によって樹
脂1−1aの凸面部にのみフォトレジストを残し、その
上から全面にクロム多層膜を形成し、リフトオフ法によ
ってレジストを除去し、樹脂の凸面以外の部分に残るク
ロム多層膜を光吸収性の反射防止膜1−4とした。
A photoresist is applied to the upper surface of the optical component 1a in FIG. 7, and the photoresist is left only on the convex portion of the resin 1-1a by a photolithography method, and a chromium multilayer film is formed on the entire surface from above. Then, the resist was removed by the lift-off method, and the chromium multilayer film remaining on the portion other than the convex surface of the resin was used as the light absorbing antireflection film 1-4.

【0042】上記と同様にして、図7に符号1bで示す
如き光学部品を作製した。符号1−2bはアルミニウム
の基板、符号1−3bはアルミニウムの蒸着膜を示し。
符号1−1bは硬化した紫外光硬化性の樹脂を示してい
る。
In the same manner as above, an optical component shown by reference numeral 1b in FIG. 7 was produced. Reference numeral 1-2b indicates an aluminum substrate, and reference numeral 1-3b indicates an aluminum vapor deposition film.
Reference numeral 1-1b indicates a cured ultraviolet light curable resin.

【0043】これら2つの光学部品1a,1bを、予め
形成しておいた位置合わせ用の孔を利用して互いに位置
合わせし、上記と同様の樹脂を用いて接合し、図1に示
すタイプのマイクロレンズアレイを得た。このマイクロ
レンズアレイにおいて、アルミニウムの基板1−2a,
1−2bが保持部材(図1の符号1−2)を構成し、樹
脂1−1a,1−1bは一体となって個々のマイクロレ
ンズ(図1の符号1−1)をなし、蒸着膜1−3a,1
−3bは、保持部材の保持孔の壁面に光反射性を与える
光反射膜(図1の符号1−3)をなす。
These two optical components 1a and 1b are aligned with each other by utilizing the previously formed alignment holes, and they are joined using the same resin as described above. A microlens array was obtained. In this microlens array, the aluminum substrate 1-2a,
1-2b constitutes a holding member (reference numeral 1-2 in FIG. 1), and the resins 1-1a and 1-1b integrally form individual microlenses (reference numeral 1-1 in FIG. 1). 1-3a, 1
-3b forms a light reflecting film (reference numeral 1-3 in FIG. 1) that imparts light reflectivity to the wall surface of the holding hole of the holding member.

【0044】このように作製されたマイクロレンズアレ
イと前記光電変換素子アレイ(密着型センサ)とを位置
合わせし、各マイクロレンズと各受光部が1:1対応に
なるように組み付けて一体化した。
The microlens array thus manufactured and the photoelectric conversion element array (contact type sensor) are aligned with each other, and each microlens and each light receiving portion are assembled and integrated so as to have a 1: 1 correspondence. .

【0045】このようにして作製したイメージセンサ
は、200dpiの「低密度イメージセンサ」として十
分な性能を得ることができた。マイクロレンズは125
μmのピッチで配列され、マイクロレンズ径(保持孔
径)が100μmであるので、隣接するマイクロレンズ
間は、保持部材により間隔:12.5μmだけ離れてい
るため、隣接するマイクロレンズによる原稿像の重なり
合いが実質的に防止されるため被写界深度が大きく、こ
のため、マイクロレンズアレイと原稿面との距離調整の
精度が大きく緩和された。また、反射防止膜の作用で迷
光の影響も無く、光反射膜により読取用の光束の光伝送
効率が向上した。
The image sensor thus manufactured was able to obtain sufficient performance as a "low density image sensor" of 200 dpi. 125 micro lenses
Since the microlenses are arranged at a pitch of μm and the diameter of the microlenses (holding hole diameter) is 100 μm, the distance between adjacent microlenses is 12.5 μm due to the holding member. Since this is substantially prevented, the depth of field is large. Therefore, the accuracy of adjusting the distance between the microlens array and the document surface is greatly eased. Further, the action of the antireflection film has no influence of stray light, and the light reflection film improves the light transmission efficiency of the light flux for reading.

【0046】なお、上記の基板よりもサイズの大きい基
板を用いて、部品を形成し、その後に上記のサイズに切
断しても良い。
It should be noted that components may be formed using a substrate having a size larger than that of the above substrate, and then cut into the above size.

【0047】実施例1で説明したのと同様の製造方法
で、同様のマイクロレンズを図6に示すように2列千鳥
状に配列し、同様な配列構造を持つ光電変換素子アレイ
と組み合わせることによって、400dpiの中密度セ
ンサとして十分な性能を得ることができた。
By the same manufacturing method as described in the first embodiment, similar microlenses are arranged in a zigzag in two rows as shown in FIG. 6 and combined with a photoelectric conversion element array having a similar arrangement structure. , 400 dpi, it was possible to obtain sufficient performance as a medium density sensor.

【0048】実施例2 実施例2のマイクロレンズアレイは、イメージセンサ
(請求項8)用のものであり、マイクロレンズアレイと
組み合わせて一体化されるべき光電変換素子アレイは、
受光部径:35μmの光電変換素子がピッチ:62.5
μmで1列直線状に配列されたものである。
Example 2 The microlens array of Example 2 is for an image sensor (claim 8), and the photoelectric conversion element array to be integrated with the microlens array is:
Photoelectric conversion element with light receiving part diameter: 35 μm pitch: 62.5
It is arranged in a straight line in one column with a size of μm.

【0049】マイクロレンズアレイは、実施例1と同様
の方法で製造された。即ち、幅:12mm、長さ:30
0mm、厚さ:500μmのアルミニウム板に予め位置
決め用の孔を複数個明け、これらの孔を基準にして、目
的の数値を入力したコンピュータによりプログラム制御
されるプレス機で、口径:57.7μmの円形の孔を、
上記光電変換素子アレイの光電変換素子の配列ピッチと
同ピッチ:62.5μmで1列直線状に3400個(長
さ:21.25mm)保持孔用に穿設し、プラズマ処理
した後、アルミニウムを真空蒸着した。
The microlens array was manufactured in the same manner as in Example 1. That is, width: 12 mm, length: 30
0mm, thickness: 500μm a plurality of positioning holes in the aluminum plate in advance, based on these holes, the press program controlled by the computer entered the desired numerical value, the diameter of 57.7μm Circular holes,
After the photoelectric conversion elements of the photoelectric conversion element array were arranged at the same pitch: 62.5 μm, 3400 pieces (length: 21.25 mm) for holding holes were linearly arranged in one row, and after plasma treatment, aluminum was formed. It was vacuum deposited.

【0050】マイクロレンズの材料として粘度:120
0cpsの紫外光硬化性の樹脂(協立化学産業(株)
製、高屈折率接着剤として市販されている)を用い、以
下、実施例1と同様の方法で、図7に符号1aで示すご
とき光学部品を得、また、この部品と同様にして、図7
に符号1bで示すごとき光学部品を得た。以上のように
して作製した2つの光学部品を、予め形成しておいた位
置合わせ用の孔を利用して位置合わせし、上記と同様の
樹脂を用いて接合した。かくして図1に示すタイプのマ
イクロレンズアレイが得られた。
Viscosity as material for microlens: 120
UV-curable resin of 0 cps (Kyoritsu Chemical Industry Co., Ltd.)
Manufactured and sold as a high-refractive-index adhesive) in the same manner as in Example 1 below, to obtain an optical component as indicated by reference numeral 1a in FIG. 7
An optical component as indicated by reference numeral 1b was obtained. The two optical components produced as described above were aligned using the previously formed alignment holes, and were joined using the same resin as described above. Thus, a microlens array of the type shown in FIG. 1 was obtained.

【0051】これを前述の、受光部径:35μmの光電
変換素子がピッチ:62.5μmで1列直線状に配列さ
れた光電変換素子アレイ(密着型センサ)に位置合わせ
し、各マイクロレンズと光電変素子の受光部が1:1対
応になるように組み付けて一体化した。実施例2で製作
したイメージセンサは、400dpiの「中密度イメー
ジセンサ」として十分な性能を得ることができた。
This is aligned with the above-mentioned photoelectric conversion element array (contact type sensor) in which the photoelectric conversion elements having a light receiving portion diameter of 35 μm are linearly arranged in one row with a pitch of 62.5 μm, and each microlens The photoelectric conversion elements were assembled and integrated so that the light-receiving parts had a 1: 1 correspondence. The image sensor manufactured in Example 2 was able to obtain sufficient performance as a "medium density image sensor" of 400 dpi.

【0052】上記基板は上記よりもサイズの大きいもの
を用い、最後に上記サイズに切り揃えてもよい。
It is also possible to use a substrate having a size larger than that described above, and finally cut and align it to the size described above.

【0053】実施例3 実施例3のマイクロレンズアレイは光画像伝送素子(請
求項9)用のものであり、図1に示すタイプのものであ
る。マイクロレンズアレイと組み合わせられる発光素子
アレイは600dpiのLEDアレイである。マイクロ
レンズアレイは上述の如く図1に示すタイプのもので、
各マイクロレンズはLEDの倒立等倍像を結像する。
Example 3 The microlens array of Example 3 is for an optical image transmission device (claim 9) and is of the type shown in FIG. The light emitting element array combined with the microlens array is a 600 dpi LED array. The microlens array is of the type shown in FIG. 1 as described above,
Each microlens forms an inverted equal-magnification image of the LED.

【0054】マイクロレンズアレイは、以下の手順で作
製された。図8に示すように、厚さ:2mmのSUSの
基板80によってポジのフォトレジスト81を塗布し、
フォトリソグラフィの常法によって目的とするマイクロ
レンズ部と位置合わせ用のパターンにのみフォトレジス
ト81を残して他の部分を除去した。
The microlens array was manufactured by the following procedure. As shown in FIG. 8, a positive photoresist 81 is coated on a SUS substrate 80 having a thickness of 2 mm,
By a conventional method of photolithography, the photoresist 81 was left only in the pattern for alignment with the target microlens portion, and the other portions were removed.

【0055】即ち、図8(a)に示すように、マイクロ
レンズアレイにおける保持孔の配列を光遮光部82aの
パターンとして有するマスク82(径:38.0μmの
円形のパターン82aをピッチ:42.0μmで1列直
線状に配列したもの)を介して紫外光U.Vにより露光
し、現像・リンスして、マスク82のパターンに従うフ
ォトレジスト81のパターンを基板80上に残した(図
8(b))。
That is, as shown in FIG. 8A, a mask 82 (having a circular pattern 82a with a diameter of 38.0 μm and a pitch of 42. UV light U.V. The substrate was exposed by V, developed and rinsed, and the pattern of the photoresist 81 following the pattern of the mask 82 was left on the substrate 80 (FIG. 8B).

【0056】次いで、基板80を電解ニッケル鍍金槽に
浸積して高速度鍍金を行った(図8(c))。その後、レ
ジストを除去し(図8(d))、SUSの基板80からニ
ッケル鍍金による鍍金板90を剥離した。
Next, the substrate 80 was immersed in an electrolytic nickel plating bath for high speed plating (FIG. 8 (c)). After that, the resist was removed (FIG. 8D), and the plating plate 90 formed by nickel plating was peeled from the SUS substrate 80.

【0057】図8(e)に示すように、鍍金板90に
は、マイクロレンズの配列に応じて孔91が開口してお
り、この孔は保持孔と成る。即ち、鍍金板90は保持部
材となるのである。鍍金板90は鍍金で作製されたため
表面が「鏡面状」であり、保持孔91の壁面は光反射性
である。
As shown in FIG. 8E, holes 91 are opened in the plating plate 90 according to the arrangement of the microlenses, and these holes serve as holding holes. That is, the plating plate 90 serves as a holding member. Since the plating plate 90 is made by plating, the surface thereof is "mirror-like", and the wall surface of the holding hole 91 is light reflective.

【0058】なお、保持孔91は、鍍金の成長方向(図
8(e)の上方向)に向かって孔径が僅かに小さくな
り、壁面は僅かにテ−パ−をなしている。また、鍍金板
90の厚さは25μmである。
The holding hole 91 has a slightly smaller hole diameter in the growth direction of the plating (upward direction in FIG. 8 (e)), and the wall surface is slightly tapered. The thickness of the plating plate 90 is 25 μm.

【0059】次いで、モリブデン板にポジのフォトレジ
ストを塗布し、濃度が中心から周辺部へ向かって次第に
濃くなるマイクロレンズ用の円形の濃度分布(径:3
8.0μm)をマイクロレンズの配列(ピッチ:42.
0μmの1列直線状)に従って有する「濃度分布型フォ
トリソマスク」を用いてフォトレジストを露光し、現像
・リンスして目的とするマイクロレンズの凸のレンズ面
形状に対応する凹金型形状を創成した。
Next, a positive photoresist is applied to the molybdenum plate, and the density is gradually increased from the center toward the periphery, so that a circular density distribution for a microlens (diameter: 3) is obtained.
Array of microlenses (pitch: 42.
A photoresist is exposed using a "density distribution type photolithographic mask" having a linear pattern of 0 μm), and developed and rinsed to create a concave mold shape corresponding to the convex lens surface shape of the target microlens. did.

【0060】このフォトレジストを持つモリブデン板
を、フッ素系のガスを導入したドライエッチング装置で
エッチングし、フォトレジストの表面形状をモリブデン
の板に転写した。このようにして目的とするマイクロレ
ンズの凸のレンズ面形状に対応する凹金型形状を形成さ
れたモリブデン板は、第1の金型となる。
The molybdenum plate having this photoresist was etched by a dry etching apparatus in which a fluorine-based gas was introduced, and the surface shape of the photoresist was transferred to the molybdenum plate. The molybdenum plate having the concave mold shape corresponding to the convex lens surface shape of the target microlens in this manner becomes the first mold.

【0061】この第1の金型と同様の作製方法で、第2
の金型をモリブデン板で作製した。この第2の金型を作
製するにあたって使用した濃度分布型フォトリソマスク
では、円形の濃度分布の径は41.5μm、ピッチは4
2.0μmである。第1および第2の金型の表面は、フ
ッ素プラズマ処理して金型としての離型性能を向上させ
た。
A second manufacturing method similar to that of the first mold is used.
The mold was made of a molybdenum plate. In the concentration distribution type photolithographic mask used for manufacturing this second mold, the circular concentration distribution has a diameter of 41.5 μm and a pitch of 4
2.0 μm. The surfaces of the first and second molds were treated with fluorine plasma to improve the mold release performance as the mold.

【0062】このように、第1第2の金型はピッチ:4
2.0μmは同じであるが、個々のマイクロレンズ面用
の凹面形状の口径は異なっている。これは、保持部材と
して用いるニッケルによる鍍金板90における保持孔の
壁面が僅かなテ−パ−を有するためである。
Thus, the first and second molds have a pitch of 4
2.0 μm is the same, but the diameter of the concave shape for each microlens surface is different. This is because the wall surface of the holding hole in the plating plate 90 made of nickel used as the holding member has a slight taper.

【0063】図9(a)に示すように、モリブデンによ
る第1の金型93の上にニッケルによる鍍金板90を固
定し、協立化学産業(株)製の紫外光硬化型の樹脂10
0(高屈折率接着剤、粘度:1000cps)を鍍金板
90上に均一に塗布し、硬質ウレタンのスキ−ジで保持
孔に押し込んだ。比較的高粘度の樹脂100は保持孔か
ら押し出されて第1の金型93の凹面形状を満たした。
この状態で紫外線を照射して樹脂100を硬化させた。
このとき完全に硬化させるためにポストベ−クとして加
熱を行った。スキ−ジを押し当てた側の面は、鍍金板9
0の表面と同じ高さの平面となった。このようにして、
第1の屈折面が得られた。
As shown in FIG. 9 (a), a plating plate 90 made of nickel is fixed on a first mold 93 made of molybdenum, and an ultraviolet light curing resin 10 manufactured by Kyoritsu Chemical Industry Co., Ltd. is used.
0 (high-refractive-index adhesive, viscosity: 1000 cps) was uniformly applied on the plated plate 90, and was pushed into the holding hole by a squeegee of hard urethane. The resin 100 having a relatively high viscosity was extruded from the holding hole to fill the concave shape of the first mold 93.
In this state, the resin 100 was cured by irradiation with ultraviolet rays.
At this time, heating was performed as a post-baking in order to completely cure. The surface on the side where the squeegee is pressed is the plated plate 9
It became a flat surface with the same height as the 0 surface. In this way,
A first refracting surface was obtained.

【0064】次いで第2の金型を用い、高屈折率接着剤
の上記樹脂で第2の屈折面を得た。即ち、第2の金型上
に前記樹脂を塗布し、紫外光を照射して硬化させて第2
の屈折面を形成した後、鍍金板93の、第1の屈折面が
形成されたのと逆側の面に上記樹脂を塗布し、第2の金
型と位置合わせして加熱し、上記第2の金型で形成され
た第2の屈折面を持つ樹脂を鍍金板93に接着固定し
た。
Then, using a second mold, a second refraction surface was obtained with the above resin of high refractive index adhesive. That is, the resin is applied on the second mold and irradiated with ultraviolet light to cure the resin,
After forming the refracting surface of No. 1, the above resin is applied to the surface of the plating plate 93 opposite to the side on which the first refracting surface is formed, and the resin is heated in alignment with the second mold. The resin having the second refraction surface formed by the second mold was adhered and fixed to the plating plate 93.

【0065】上記第2の屈折面側の面のレンズ面部部分
をフォトリソグラフィ−法によりフォトレジストで覆っ
た後にクロム多層膜を光吸収性の反射防止膜101とし
て形成し、リフトオフ法によってフォトレジストを除去
した(図9(b))。このようにして、図1に示すタイプ
のマイクロレンズアレイを得た。
The lens surface portion on the second refraction surface side is covered with a photoresist by a photolithography method, and then a chromium multilayer film is formed as a light absorbing antireflection film 101, and the photoresist is removed by a lift-off method. It was removed (FIG. 9 (b)). In this way, a microlens array of the type shown in FIG. 1 was obtained.

【0066】このマイクロレンズアレイを発光素子アレ
イであるLEDアレイに位置合わせして、各マイクロレ
ンズと各発光部が1:1対応になるように組み付けて一
体化した。LEDアレイは、径:20μmの発光部をピ
ッチ:42.0μmで1列直線状に配列したものであ
る。
This microlens array was aligned with the LED array which is a light emitting element array, and each microlens and each light emitting portion were assembled and integrated so as to have a 1: 1 correspondence. The LED array is formed by arranging light emitting portions having a diameter of 20 μm in a straight line with a pitch of 42.0 μm.

【0067】このようにして得た光画像伝送素子は、6
00dpiの高密度書き込み光学系として十分な性能を
得ることができた。
The optical image transmission device thus obtained is composed of 6
It was possible to obtain sufficient performance as a high-density writing optical system of 00 dpi.

【0068】また、実施例3と同様の方法で、上記ピッ
チのレンズを2列千鳥状に配列し、同様な配列構造を持
つLEDアレイと組み合わせることによって1200d
piの高密度書き込み光学系として十分な性能を得るこ
とができた。
In the same manner as in Example 3, the lenses having the above pitch are arranged in a zigzag pattern in two rows, and combined with an LED array having a similar arrangement structure to obtain 1200d.
Sufficient performance could be obtained as a high density writing optical system for pi.

【0069】実施例4 実施例4のマイクロレンズアレイも光画像伝送素子(請
求項9)用のものであり、図1に示すタイプのものであ
る。マイクロレンズアレイと組み合わせられる発光素子
アレイは、600dpiのLEDアレイである。マイク
ロレンズアレイは上述のごとく、図1に示すタイプのも
ので、各マイクロレンズはLEDの倒立等倍像を結像す
る。
Example 4 The microlens array of Example 4 is also for an optical image transmission device (claim 9) and is of the type shown in FIG. The light emitting element array combined with the microlens array is a 600 dpi LED array. As described above, the microlens array is of the type shown in FIG. 1, and each microlens forms an inverted equal-magnification image of the LED.

【0070】マイクロレンズアレイは、以下の手順で作
製した。実施例3におけると同じ保持部材を、実施例3
と同じ方法で、厚さ:25μmの鍍金板として作製し
た。
The microlens array was manufactured by the following procedure. The same holding member as in Example 3 is used in Example 3
A plated plate having a thickness of 25 μm was produced by the same method as described above.

【0071】第1屈折面および第2屈折面用の各金型
を、何れもモリブデン板を用いて作製した。型の作製方
法は、実施例3におけるのと同じであるが、図10
(a)に示すように、第2の金型95には、樹脂が流れ
るためのゲ−ト部97を別途製作して個々のマイクロレ
ンズ面形aを繋いだ。
Each mold for the first refracting surface and the second refracting surface was manufactured using a molybdenum plate. The method of making the mold is the same as in Example 3, except that FIG.
As shown in (a), a gate part 97 for resin flow was separately manufactured in the second mold 95 to connect the individual microlens surface shapes a.

【0072】ゲ−ト部はレンズ有効径外に設けても良い
し、図10(a)の例のようにレンズ個々を直接結ぶよ
うに設けても良い。また、ゲ−ト部を設けなくても、図
10(b)に示す金型95’のように、必要とするマイ
クロレンズ有効径よりも大きなレンズ面形口径を有する
型面部96を製作し、隣合う型面部内を樹脂が流れる様
にしても良い。即ち、金型の型面部は、マイクロレンズ
有効径部が目的の曲率を有していれば良い。第1および
第2の金型の型面部には、離型性を高めるためトリアジ
ンのフッ素化合物による「表面処理」を施した。
The gate portion may be provided outside the effective diameter of the lens, or may be provided so as to directly connect the individual lenses as in the example of FIG. Further, even without providing a gate portion, a mold surface portion 96 having a lens surface shape aperture larger than a required microlens effective diameter is manufactured like a mold 95 ′ shown in FIG. 10B. The resin may flow in the adjacent mold surface portions. That is, in the die surface portion of the die, the microlens effective diameter portion may have a desired curvature. The surface portions of the first and second molds were subjected to “surface treatment” with a fluorine compound of triazine in order to enhance releasability.

【0073】以上のようにして製作した2つの金型を、
予め製作しておいた位置合わせ用の孔を利用して位置合
わせし、これらの金型の間に上記ニッケルによる鍍金板
を挟み、高屈折率接着剤の樹脂により通常の成形プロセ
スでマイクロレンズを成形した。
The two molds produced as described above are
Align the holes using the pre-made alignment holes, sandwich the nickel plating plate between these molds, and use the resin of the high-refractive-index adhesive to form the microlenses by a normal molding process. Molded.

【0074】第1の屈折面側に、実施例3におけると同
様にして光吸収性の反射防止膜をクロム多層膜として形
成して、図1に示すのと同タイプのマイクロレンズアレ
イを得た。
A light absorbing antireflection film was formed as a chromium multilayer film on the first refracting surface side in the same manner as in Example 3 to obtain a microlens array of the same type as shown in FIG. .

【0075】このマイクロレンズアレイをLEDアレイ
に位置合わせし、各マイクロレンズと各発光部が1:1
対応になるように組み付けて一体化した。LEDアレイ
は径:20μmの発光部をピッチ:42.0μmで1列
直線状に配列したものである。この光画像伝送素子は6
00dpiの「高密度書き込み光学系」として十分な性
能を得ることができた。
This microlens array is aligned with the LED array, and each microlens and each light emitting portion have a 1: 1 ratio.
Assembled and integrated so as to be compatible. The LED array is formed by arranging light emitting portions having a diameter of 20 μm in a straight line with a pitch of 42.0 μm. This optical image transmission device has 6
It was possible to obtain sufficient performance as a "high-density writing optical system" of 00 dpi.

【0076】また、実施例4で製作した方法と全く同様
の方法で、同様のピッチのマイクロレンズを2列千鳥状
に配列し、同様な配列構造を持つLEDアレイと組み合
わせることによって1200dpiの高密度書き込み光
学系として十分な性能を得ることができた。
In addition, by arranging microlenses having the same pitch in a zigzag pattern in two rows and combining with an LED array having a similar arrangement structure, a high density of 1200 dpi is obtained by the same method as that of the fourth embodiment. It was possible to obtain sufficient performance as a writing optical system.

【0077】実施例3,4のようにマイクロレンズのレ
ンズ面を型を用いて成型するようにすれば、マイクロレ
ンズ面の形状として、シリンダ面やアナモフィック面、
被球面等を容易に形成できる。
When the lens surface of the microlens is molded by using a mold as in the third and fourth embodiments, the shape of the microlens surface can be a cylinder surface or an anamorphic surface.
A spherical surface and the like can be easily formed.

【0078】実施例5 実施例5のマイクロレンズアレイ、光画像伝送素子用で
あり、図2に示すタイプのものである。
Example 5 The microlens array of Example 5 is for an optical image transmission device and is of the type shown in FIG.

【0079】マイクロレンズアレイを以下のように作製
した。先ず、以下の如き方法で保持部材を形成した。
A microlens array was manufactured as follows. First, the holding member was formed by the following method.

【0080】図11(a)に示すように、厚さ:100
μmのシリコンの基板70にポジのフォトレジスト71
を塗布し、保持孔の配列パターンに従う遮光部85a
(径:120μm,ピッチ:127μm)を有するマス
ク85を介して紫外光U.Vを照射して露光を行い、現
像・リンスした(図11(b))。
As shown in FIG. 11A, thickness: 100
Positive photoresist 71 on μm silicon substrate 70
And a light-shielding portion 85a according to the arrangement pattern of the holding holes.
UV light U.S.P. is transmitted through a mask 85 having a diameter of 120 μm and a pitch of 127 μm. Exposure was performed by irradiating V, followed by development and rinsing (FIG. 11 (b)).

【0081】次いで、基板70をシリコン用のウエット
エッチング液に浸積してウエットエッチングを行い(図
11(c))、その後、フォトレジスト71を除去した。
シリコンの基板70にウエットエッチングにより穿設さ
れた保持孔の断面形状は、図11(d)に示すように、
エッチングの進行方向に向かって孔径が小さくなり、僅
かにテ−パ−状の形状(図は誇張して描いてある)とな
った。
Next, the substrate 70 was immersed in a wet etching solution for silicon to perform wet etching (FIG. 11C), and then the photoresist 71 was removed.
The cross-sectional shape of the holding hole formed by wet etching in the silicon substrate 70 is as shown in FIG.
The hole diameter decreased in the direction of etching, and the shape was slightly tapered (the figure is exaggerated).

【0082】次に、基板70にアルミニウムを真空蒸着
して保持孔壁面を光反射性とした後、光学ガラスで製作
した直径:120μmのボ−ルレンズを各保持孔に固定
し、紫外光硬化型接着剤を用いて固定した。光入射側と
なるべき面に、実施例1〜4に於けると同様にして、ク
ロム多層膜による反射防止膜を形成した。
Then, aluminum is vacuum-deposited on the substrate 70 to make the wall surface of the holding hole light-reflective, and then a ball lens having a diameter of 120 μm made of optical glass is fixed to each holding hole to cure the ultraviolet light. It was fixed using an adhesive. An antireflection film made of a chromium multilayer film was formed on the surface to be the light incident side in the same manner as in Examples 1 to 4.

【0083】このようにして、図2に示すタイプのマイ
クロレンズアレイを得た。このマイクロレンズアレイで
は、個々のマイクロレンズは入射した光束を内部で結像
させること無く射出させて結像させる機能を持つ。
In this way, a microlens array of the type shown in FIG. 2 was obtained. In this microlens array, each microlens has a function of emitting an incident light beam without forming an image inside and forming an image.

【0084】このようにして得られたマイクロレンズア
レイを、発光素子アレイであるLEDアレイ(径:20
μmの発光部をピッチ:127μmで1列直線状に配列
したもの)に位置合わせし、各マイクロレンズと各発光
部が1:1対応になるように組み付けて一体化した。
The microlens array thus obtained is used as an LED array (diameter: 20) which is a light emitting element array.
The light emitting parts of μm were aligned in a straight line with a pitch of 127 μm), and each microlens and each light emitting part were assembled so as to have a 1: 1 correspondence and integrated.

【0085】実施例5で製作した光画像伝送素子は、2
00dpiの「低密度書き込み光学系」として十分な性
能を得ることができた。また実施例5で製作した方法と
全く同様の方法で、同様のピッチのマイクロレンズを2
列千鳥状に配列し、同様な配列構造を持つLEDアレイ
と組み合わせることによって400dpiの「中密度書
き込み光学系」として十分な性能を得ることができた。
The optical image transmission device manufactured in Example 5 has 2
It was possible to obtain sufficient performance as a "low-density writing optical system" of 00 dpi. In addition, a microlens having the same pitch is formed by the same method as that of the fifth embodiment.
By arranging them in a staggered array and combining them with an LED array having a similar arrangement structure, sufficient performance as a "medium density writing optical system" of 400 dpi could be obtained.

【0086】[0086]

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規なマイクロレンズアレイ及びイメージセンサ及び
光画像伝送素子を提供できる。この発明のマイクロレン
ズアレイは、マイクロレンズを保持する保持部材が、隣
接するマイクロレンズによる像の相互の重なりを制限も
しくは防止する機能を有するので、合成開口角が有効に
小さくなり被写界深度が有効に深くなる。
As described above, according to the present invention, a novel microlens array, image sensor and optical image transmission device can be provided. In the microlens array of the present invention, since the holding member that holds the microlenses has a function of limiting or preventing mutual overlapping of images by the adjacent microlenses, the synthetic aperture angle is effectively reduced and the depth of field is reduced. Effectively deepen.

【0087】請求項3記載のマイクロレンズアレイは、
保持部材における光入射側の面に光吸収性の反射防止膜
が形成されているので、マイクロレンズアレイにおける
結像作用における迷光の影響を除去することができる。
請求項4記載のマイクロレンズアレイは、保持部材にお
いてマイクロレンズを保持する保持孔の壁面が光反射性
であるので、マイクロレンズアレイの光伝達の効率が良
く、光利用効率が高い。
The microlens array according to claim 3 is
Since the light-absorbing antireflection film is formed on the surface of the holding member on the light incident side, it is possible to eliminate the influence of stray light on the imaging action of the microlens array.
In the microlens array according to the fourth aspect, since the wall surface of the holding hole for holding the microlens in the holding member is light reflective, the light transmission efficiency of the microlens array is good and the light utilization efficiency is high.

【0088】この発明のイメージセンサは上記マイクロ
レンズアレイを用い、光電変換素子とマイクロレンズア
レイが1:1に対応するので、所謂クロストークを有効
に防止して良好な画像読取を可能にできる。
The image sensor of the present invention uses the above-mentioned microlens array and the photoelectric conversion element and the microlens array correspond to each other in a ratio of 1: 1, so that so-called crosstalk can be effectively prevented and good image reading can be performed.

【0089】この発明の光画像伝送素子は上記マイクロ
レンズアレイを用い、発光素子とマイクロレンズとが
1:1に対応するので、各マイクロレンズが伝送する画
像間のクロストークを防止して良好な光画像伝送を行う
ことができる。
The optical image transmission device of the present invention uses the above microlens array, and the light emitting device and the microlenses correspond to each other in a ratio of 1: 1, so that crosstalk between images transmitted by each microlens is prevented, which is preferable. Optical image transmission can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明のマイクロレンズアレイの実施の1形
態を説明するための図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining one embodiment of a microlens array of the present invention.

【図2】この発明のマイクロレンズアレイの実施の別形
態を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining another embodiment of the microlens array of the present invention.

【図3】この発明のイメージセンサの実施の1形態を説
明するための図である。
FIG. 3 is a diagram for explaining one embodiment of the image sensor of the present invention.

【図4】この発明の光画像伝送素子の実施の1形態を説
明するための図である。
FIG. 4 is a diagram for explaining one embodiment of the optical image transmission device of the present invention.

【図5】保持部材に保持されたマイクロレンズを光軸方
向から見たレンズ形態を3例示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing three examples of lens configurations of a microlens held by a holding member as seen from the optical axis direction.

【図6】マイクロレンズアレイの配列の1例である2列
千鳥状配列を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a two-row zigzag arrangement, which is an example of an arrangement of microlens arrays.

【図7】実施例1におけるマイクロレンズアレイの製造
を説明するための図である。
FIG. 7 is a drawing for explaining the manufacture of the microlens array in Example 1.

【図8】実施例3における保持部材の製造を説明するた
めの図である。
FIG. 8 is a drawing for explaining the manufacture of the holding member in the third embodiment.

【図9】実施例3に於ける保持部材にマイクロレンズを
保持させる方法の1例を説明するための図である。
FIG. 9 is a diagram illustrating an example of a method of holding a microlens on a holding member according to a third embodiment.

【図10】実施例4に関連したマイクロレンズのレンズ
面用の型を2例説明するための図である。
FIG. 10 is a diagram for explaining two molds for lens surfaces of microlenses related to Example 4;

【図11】実施例5に関連した保持部材の作製を説明す
るための図である。
FIG. 11 is a drawing for explaining the production of the holding member related to Example 5;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1−1 マイクロレンズ 1−2 保持部材 1−3 光反射膜 4−4 反射防止膜 1-1 Microlens 1-2 Holding member 1-3 Light reflection film 4-4 Antireflection film

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】同一形状で互いに独立した複数の保持孔
を、所定のピッチで穿設された平板状の保持部材と、 この保持部材の上記保持孔に固定的に保持され、互いに
等価な複数のマイクロレンズとを有し、 上記保持部材は、各マイクロレンズによる像の相互の重
なりを制限もしくは防止する機能を有することを特徴と
するマイクロレンズアレイ。
1. A flat plate-shaped holding member having a plurality of holding holes of the same shape and independent from each other, and a plurality of holding members that are fixedly held in the holding holes of the holding member and are equivalent to each other. The microlens array according to claim 1, wherein the holding member has a function of limiting or preventing overlapping of images by the microlenses.
【請求項2】請求項1記載のマイクロレンズアレイにお
いて、 保持部材は光遮断性であり、穿設された保持孔の大きさ
を、マイクロレンズによる像の相互の重なりを制限もし
くは防止するように、保持孔配列のピッチに応じて設定
されていることを特徴とするマイクロレンズアレイ。
2. The microlens array according to claim 1, wherein the holding member is light-blocking so that the size of the holding holes formed can limit or prevent mutual overlapping of images by the microlenses. , A microlens array characterized by being set according to the pitch of the holding hole array.
【請求項3】請求項1または2記載のマイクロレンズア
レイにおいて、 保持部材における光入射側の面に、光吸収性の反射防止
膜が形成されていることを特徴とするマイクロレンズア
レイ。
3. The microlens array according to claim 1 or 2, wherein a light-absorptive antireflection film is formed on the light-incident side of the holding member.
【請求項4】請求項1または2または3記載のマイクロ
レンズアレイにおいて、 保持部材における保持孔の壁面が光反射性で、各マイク
ロレンズに入射した光を反射することを特徴とするマイ
クロレンズアレイ。
4. The microlens array according to claim 1, 2 or 3, wherein the wall surface of the holding hole in the holding member is light-reflecting and reflects the light incident on each microlens. .
【請求項5】請求項1または2または3または4記載の
マイクロレンズアレイにおいて、 個々のマイクロレンズが光硬化性樹脂を材料として形成
され、光照射により保持部材に固定されることを特徴と
するマイクロレンズアレイ。
5. The microlens array according to claim 1, 2 or 3 or 4, wherein each microlens is formed of a photocurable resin and is fixed to a holding member by light irradiation. Micro lens array.
【請求項6】請求項1または2または3または4記載の
マイクロレンズアレイにおいて、 個々のマイクロレンズが光学ガラスによるボールレンズ
であることを特徴とするマイクロレンズアレイ。
6. The microlens array according to claim 1, 2 or 3 or 4, wherein each microlens is a ball lens made of optical glass.
【請求項7】請求項1または2または3または4または
5または6記載のマイクロレンズアレイにおいて、 マイクロレンズのアレイ配列が1列直線状もしくは2列
千鳥状、あるいは2次元マトリックス状または2次元千
鳥状であることを特徴とするマイクロレンズアレイ。
7. The microlens array according to claim 1, 2 or 3 or 4 or 5 or 6, wherein the array of microlenses is one-row linear or two-row staggered, or two-dimensional matrix or two-dimensional staggered. A microlens array characterized by having a shape.
【請求項8】複数の微小な光電変換素子が、1次元もし
くは2次元的に所定のパターンで配列した光電変換素子
アレイと、この光電変換素子アレイにおける光電変換素
子の配列と同パターンで配列された複数のマイクロレン
ズを有するマイクロレンズアレイとを、 各光電変換素子と各マイクロレンズとが1:1に対応す
るように、且つ、個々のマイクロレンズに入射する画像
光束が、対応する光電変換素子上に集光するように一体
化してなり、 上記マイクロレンズアレイが、請求項1〜7の任意の1
に記載のマイクロレンズアレイであることを特徴とする
イメージセンサ。
8. A photoelectric conversion element array in which a plurality of minute photoelectric conversion elements are arranged one-dimensionally or two-dimensionally in a predetermined pattern, and arranged in the same pattern as the arrangement of photoelectric conversion elements in this photoelectric conversion element array. And a microlens array having a plurality of microlenses, such that each photoelectric conversion element and each microlens have a 1: 1 correspondence, and the image light flux incident on each microlens corresponds to the corresponding photoelectric conversion element. The microlens array is integrated so as to collect light on the upper surface, and the microlens array according to any one of claims 1 to 7.
An image sensor, which is the microlens array described in 1.
【請求項9】複数の微小な発光素子が、1次元もしくは
2次元的に所定のパターンで配列した発光素子アレイ
と、この発光素子アレイにおける発光素子の配列と同パ
ターンで配列された複数のマイクロレンズを有するマイ
クロレンズアレイとを、 各発光素子と各マイクロレンズとが1:1に対応するよ
うに、且つ、個々の発光素子から放射される光束が、対
応するマイクロレンズに入射するように一体化してな
り、 上記マイクロレンズアレイが、請求項1〜7の任意の1
に記載のマイクロレンズアレイであることを特徴とする
光画像伝送素子。
9. A light emitting element array in which a plurality of minute light emitting elements are arranged one-dimensionally or two-dimensionally in a predetermined pattern, and a plurality of micros arranged in the same pattern as the arrangement of the light emitting elements in the light emitting element array. A microlens array having a lens is integrated so that each light emitting element and each microlens have a 1: 1 correspondence, and the luminous flux emitted from each light emitting element is incident on the corresponding microlens. And the microlens array is any one of claims 1 to 7.
An optical image transmission device, which is the microlens array described in 1.
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Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001024177A (en) * 1999-07-07 2001-01-26 Citizen Electronics Co Ltd Read lens for contact image scanner
WO2002016975A3 (en) * 2000-08-21 2003-02-06 Siwave Inc Lens arrays and methods of making the lens array
KR100449951B1 (en) * 2001-11-14 2004-09-30 주식회사 하이닉스반도체 Image sensor and method of fabricating the same
WO2005107243A1 (en) * 2004-04-28 2005-11-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Image pickup device and method for manufacturing fine lens array
JP2006032705A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Sony Corp Solid-state imaging device, manufacturing method thereof, and position detection sensor
JP2006259328A (en) * 2005-03-17 2006-09-28 Mitsutoyo Corp Lens system and photoelectric encoder using the same
JP2007079325A (en) * 2005-09-16 2007-03-29 Hitachi Ltd Micro lens array
JP2009029140A (en) * 2008-09-19 2009-02-12 Citizen Electronics Co Ltd Method of manufacturing plastic lens
US7835082B2 (en) 2007-03-16 2010-11-16 Seiko Epson Corporation Line head and image forming apparatus
EP2362245A1 (en) * 2010-02-25 2011-08-31 Pixon Technologies Corp. Symetrical lens array with improved depth of field, enhanced uniformity, and brightness
JP2012128225A (en) * 2010-12-16 2012-07-05 Kyocera Corp Optical transmission substrate and optical transmission module
JP2013143480A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Seiko Epson Corp Light-emitting device, manufacturing method of the same and projector
JP2013232875A (en) * 2011-08-31 2013-11-14 Rohm Co Ltd Image sensor module
US9153614B2 (en) 2007-08-15 2015-10-06 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for lens alignment for optically sensitive devices and systems implementing same
JP2016031386A (en) * 2014-07-25 2016-03-07 富士ゼロックス株式会社 Heating device, fixing device, and image forming apparatus
CN108140647A (en) * 2015-09-29 2018-06-08 大日本印刷株式会社 Lens sheet, lens sheet unit, camera module, camera device
JP2019158393A (en) * 2018-03-08 2019-09-19 オムロン株式会社 Image inspection device
JPWO2022163157A1 (en) * 2021-01-29 2022-08-04
US12126337B2 (en) 2019-01-31 2024-10-22 Ams International Ag Optical proximity sensor system

Cited By (27)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001024177A (en) * 1999-07-07 2001-01-26 Citizen Electronics Co Ltd Read lens for contact image scanner
WO2002016975A3 (en) * 2000-08-21 2003-02-06 Siwave Inc Lens arrays and methods of making the lens array
KR100449951B1 (en) * 2001-11-14 2004-09-30 주식회사 하이닉스반도체 Image sensor and method of fabricating the same
US7894139B2 (en) 2004-04-28 2011-02-22 Panasonic Corporation Imaging apparatus and method for manufacturing microlens array
WO2005107243A1 (en) * 2004-04-28 2005-11-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Image pickup device and method for manufacturing fine lens array
JP2006032705A (en) * 2004-07-16 2006-02-02 Sony Corp Solid-state imaging device, manufacturing method thereof, and position detection sensor
JP2006259328A (en) * 2005-03-17 2006-09-28 Mitsutoyo Corp Lens system and photoelectric encoder using the same
JP2007079325A (en) * 2005-09-16 2007-03-29 Hitachi Ltd Micro lens array
US7835082B2 (en) 2007-03-16 2010-11-16 Seiko Epson Corporation Line head and image forming apparatus
US9153614B2 (en) 2007-08-15 2015-10-06 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for lens alignment for optically sensitive devices and systems implementing same
JP2009029140A (en) * 2008-09-19 2009-02-12 Citizen Electronics Co Ltd Method of manufacturing plastic lens
EP2362245A1 (en) * 2010-02-25 2011-08-31 Pixon Technologies Corp. Symetrical lens array with improved depth of field, enhanced uniformity, and brightness
JP2012128225A (en) * 2010-12-16 2012-07-05 Kyocera Corp Optical transmission substrate and optical transmission module
US9784611B2 (en) 2011-08-31 2017-10-10 Rohm Co., Ltd. Image sensor module
JP2013232875A (en) * 2011-08-31 2013-11-14 Rohm Co Ltd Image sensor module
JP2013143480A (en) * 2012-01-11 2013-07-22 Seiko Epson Corp Light-emitting device, manufacturing method of the same and projector
JP2016031386A (en) * 2014-07-25 2016-03-07 富士ゼロックス株式会社 Heating device, fixing device, and image forming apparatus
CN108140647A (en) * 2015-09-29 2018-06-08 大日本印刷株式会社 Lens sheet, lens sheet unit, camera module, camera device
EP3358618A4 (en) * 2015-09-29 2019-09-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. LENTICULAR SHEET, LENTICULAR SHEET UNIT, IMAGEUR MODULE, IMAGEUR DEVICE
EP3937246A3 (en) * 2015-09-29 2022-04-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lens sheet, lens sheet unit, imaging module, imaging device
US11333802B2 (en) 2015-09-29 2022-05-17 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Lens sheet, lens sheet unit, imaging module, imaging device
CN108140647B (en) * 2015-09-29 2022-08-02 大日本印刷株式会社 Lens sheet, lens sheet unit, image pickup module, and image pickup apparatus
JP2019158393A (en) * 2018-03-08 2019-09-19 オムロン株式会社 Image inspection device
US11022560B2 (en) 2018-03-08 2021-06-01 Omron Corporation Image inspection device
US12126337B2 (en) 2019-01-31 2024-10-22 Ams International Ag Optical proximity sensor system
JPWO2022163157A1 (en) * 2021-01-29 2022-08-04
US12519896B2 (en) 2021-01-29 2026-01-06 Mitsubishi Electric Corporation Image reading device comprising a lens array including first lens bodies and second lens bodies, a light receiver and light blocking plates that are between the light receiver and second lens bodies, the thickness of the light blocking plates equal to or greater than the second lens bodies thickness

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