JPH09308523A - スェード調シート及びその製造方法 - Google Patents
スェード調シート及びその製造方法Info
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- JPH09308523A JPH09308523A JP15312896A JP15312896A JPH09308523A JP H09308523 A JPH09308523 A JP H09308523A JP 15312896 A JP15312896 A JP 15312896A JP 15312896 A JP15312896 A JP 15312896A JP H09308523 A JPH09308523 A JP H09308523A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】目詰まりがなく、かつ化粧料の保持能力が優
れ、しかも表面が均一なスェード調シートを提供するこ
と、およびそのようなスェード調シートであって、かつ
極薄のものの取得を可能とするスェード調シートの製造
方法を提供すること。 【解決手段】基材上に形成せしめた孔径が５μ〜１００
μの無数の細孔を有するポリウレタン湿式凝固膜層をそ
の一部を基材上に残し、かつ層破壊を伴って剥離せしめ
てなるスェード調シートである。また、基材上に、粒子
径が５μ〜１００μであって水に可溶でポリウレタンの
使用溶媒に不溶の物質をポリウレタン１００重量部に対
して１〜６０重量部添加してなるポリウレタン溶液を塗
布し、湿式凝固した後、生成した湿式凝固膜を基材表面
上に薄膜を残した状態で剥離することを特徴とするスェ
ード調シートの製造方法である。
れ、しかも表面が均一なスェード調シートを提供するこ
と、およびそのようなスェード調シートであって、かつ
極薄のものの取得を可能とするスェード調シートの製造
方法を提供すること。 【解決手段】基材上に形成せしめた孔径が５μ〜１００
μの無数の細孔を有するポリウレタン湿式凝固膜層をそ
の一部を基材上に残し、かつ層破壊を伴って剥離せしめ
てなるスェード調シートである。また、基材上に、粒子
径が５μ〜１００μであって水に可溶でポリウレタンの
使用溶媒に不溶の物質をポリウレタン１００重量部に対
して１〜６０重量部添加してなるポリウレタン溶液を塗
布し、湿式凝固した後、生成した湿式凝固膜を基材表面
上に薄膜を残した状態で剥離することを特徴とするスェ
ード調シートの製造方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スェード調シート
及びその製造方法に関し、詳しくは化粧用パフ素材とし
て好適に使用され得る、ポリウレタンからなり、好まし
くは厚さが１５０μ〜６００μであるスェード調シート
及びその製造方法に関する。
及びその製造方法に関し、詳しくは化粧用パフ素材とし
て好適に使用され得る、ポリウレタンからなり、好まし
くは厚さが１５０μ〜６００μであるスェード調シート
及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、化粧用パフ素材として使用される
スェード調シートの製造方法として、ポリウレタン溶液
を湿式凝固せしめて得たポリウレタンシートの表皮層を
研磨してその表面をスェード調にする方法が知られてい
る。しかしながら、この方法は、研磨の際研磨屑がポリ
ウレタンシートの表面の多孔層に詰まってしまうという
欠点を有する。また、化粧料の保持能力にも問題があ
る。さらには、研磨作業のために、一定以上の厚さが必
要なため薄いスェード調シートを得ることが難しいとい
う欠点も有する。
スェード調シートの製造方法として、ポリウレタン溶液
を湿式凝固せしめて得たポリウレタンシートの表皮層を
研磨してその表面をスェード調にする方法が知られてい
る。しかしながら、この方法は、研磨の際研磨屑がポリ
ウレタンシートの表面の多孔層に詰まってしまうという
欠点を有する。また、化粧料の保持能力にも問題があ
る。さらには、研磨作業のために、一定以上の厚さが必
要なため薄いスェード調シートを得ることが難しいとい
う欠点も有する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、従来品及び従来方法の欠点のないスェード調シート
及びその製造方法を提供せんするものである。さらに詳
しくは、本発明の課題は、目詰まりがなく、かつ化粧料
の保持能力が優れ、しかも表面が均一なスェード調シー
トを提供せんとするものであり、そのようなスェード調
シートであって、かつ極薄のものの取得を可能とするス
ェード調シートの製造方法を提供せんするものである。
は、従来品及び従来方法の欠点のないスェード調シート
及びその製造方法を提供せんするものである。さらに詳
しくは、本発明の課題は、目詰まりがなく、かつ化粧料
の保持能力が優れ、しかも表面が均一なスェード調シー
トを提供せんとするものであり、そのようなスェード調
シートであって、かつ極薄のものの取得を可能とするス
ェード調シートの製造方法を提供せんするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らの検討によれ
ば、かかる本発明の課題は、下記の構成による本発明に
よって工業的に有利に達成された。
ば、かかる本発明の課題は、下記の構成による本発明に
よって工業的に有利に達成された。
【０００５】［１］基材上に形成せしめた孔径が５μ〜
１００μの無数の細孔を有するポリウレタン湿式凝固膜
層をその一部を基材上に残し、かつ層破壊を伴って剥離
せしめてなるスェード調シート。
１００μの無数の細孔を有するポリウレタン湿式凝固膜
層をその一部を基材上に残し、かつ層破壊を伴って剥離
せしめてなるスェード調シート。
【０００６】［２］厚さが１５０μ〜６００μであるこ
とを特徴とする上記［１］記載のスェード調シート。
とを特徴とする上記［１］記載のスェード調シート。
【０００７】［３］基材がポリエステルフィルムである
ことを特徴とする上記［１］および［２］記載のスェー
ド調シート。
ことを特徴とする上記［１］および［２］記載のスェー
ド調シート。
【０００８】［４］基材上に、粒子径が５μ〜１００μ
であって水に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物
質をポリウレタン１００重量部に対して１〜６０重量部
添加してなるポリウレタン溶液を塗布し、湿式凝固した
後、生成した湿式凝固膜を基材表面上に薄膜を残した状
態で剥離することを特徴とするスェード調シートの製造
方法。
であって水に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物
質をポリウレタン１００重量部に対して１〜６０重量部
添加してなるポリウレタン溶液を塗布し、湿式凝固した
後、生成した湿式凝固膜を基材表面上に薄膜を残した状
態で剥離することを特徴とするスェード調シートの製造
方法。
【０００９】［５］粒子径が５μ〜１００μであって水
に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物質が水溶性
高分子、無機塩および多糖類から選ばれたものであるこ
とを特徴とする上記［４］のスェード調シートの製造方
法。
に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物質が水溶性
高分子、無機塩および多糖類から選ばれたものであるこ
とを特徴とする上記［４］のスェード調シートの製造方
法。
【００１０】［６］水溶性高分子がポリビニルアルコー
ルもしくはカルボキシメチルセルロースであることを特
徴とする上記［５］のスェード調シートの製造方法。
ルもしくはカルボキシメチルセルロースであることを特
徴とする上記［５］のスェード調シートの製造方法。
【００１１】［７］無機塩がボウ硝、重曹および食塩か
ら選ばれたものであることを特徴とする上記［５］のス
ェード調シートの製造方法。
ら選ばれたものであることを特徴とする上記［５］のス
ェード調シートの製造方法。
【００１２】［８］多糖類がショ糖であることを特徴と
する上記［５］のスェード調シートの製造方法。
する上記［５］のスェード調シートの製造方法。
【００１３】［９］基材がポリエステルフィルム、ポリ
エステル繊維からなる織物もしくは不織布であることを
特徴とする上記［４］〜［８］に記載のスェード調シー
トの製造方法。
エステル繊維からなる織物もしくは不織布であることを
特徴とする上記［４］〜［８］に記載のスェード調シー
トの製造方法。
【００１４】［１０］表面部分に上記［１］〜［３］の
スェード調シートを用いてなる化粧用パフ。
スェード調シートを用いてなる化粧用パフ。
【００１５】本発明によれば、スェード面を有するシー
トをポリウレタンの湿式凝固法で製造するに当たり、基
材上に塗布するポリウレタン溶液に無機塩、水溶性高分
子、及び多糖類等の粒子径が５μ〜１００μであって水
に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物質を分散さ
せることによって、得られるポリウレタン微多孔層に大
きな空間が空き、基材に接する微多孔層の層壁が薄く、
細くなり、その部分が破壊されやすくなるので、シート
を基材から剥がすときに基材にポリウレタンの薄膜が残
り易くなると同時に剥がし易くなる。かくして、本発明
によれば、目詰まりがなく、かつ化粧料の保持能力が優
れ、しかも表面が均一なスェード調シートが提供される
のである。
トをポリウレタンの湿式凝固法で製造するに当たり、基
材上に塗布するポリウレタン溶液に無機塩、水溶性高分
子、及び多糖類等の粒子径が５μ〜１００μであって水
に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物質を分散さ
せることによって、得られるポリウレタン微多孔層に大
きな空間が空き、基材に接する微多孔層の層壁が薄く、
細くなり、その部分が破壊されやすくなるので、シート
を基材から剥がすときに基材にポリウレタンの薄膜が残
り易くなると同時に剥がし易くなる。かくして、本発明
によれば、目詰まりがなく、かつ化粧料の保持能力が優
れ、しかも表面が均一なスェード調シートが提供される
のである。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明で使用されるポリウレタン
は、その種類を問わない。たとえば、ポリエーテル系ポ
リウレタン、ポリエステル系ポリウレタンおよびポリカ
ーボネート系ポリウレタン等が挙げられる。勿論、共重
合ポリウレタンおよび２種以上のポリウレタンの混合物
も使用可能である。ポリウレタン溶液を調整するための
溶媒も特に制限はないが、ジメチルホルムアミドが好ま
しく用いられる。
は、その種類を問わない。たとえば、ポリエーテル系ポ
リウレタン、ポリエステル系ポリウレタンおよびポリカ
ーボネート系ポリウレタン等が挙げられる。勿論、共重
合ポリウレタンおよび２種以上のポリウレタンの混合物
も使用可能である。ポリウレタン溶液を調整するための
溶媒も特に制限はないが、ジメチルホルムアミドが好ま
しく用いられる。
【００１７】本発明において、基材としては、各種のフ
ィルム、織物、編物および不織布が使用される。なかで
も、ポリエステルフィルム特にポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエステル繊維特にポリエチレンテレ
フタレート繊維からなる織物、編物および不織布が好ま
しく使用される。
ィルム、織物、編物および不織布が使用される。なかで
も、ポリエステルフィルム特にポリエチレンテレフタレ
ートフィルム、ポリエステル繊維特にポリエチレンテレ
フタレート繊維からなる織物、編物および不織布が好ま
しく使用される。
【００１８】本発明において、水に可溶でポリウレタン
の使用溶媒に不溶の物質としては、ボウ硝、重曹、及び
食塩等の無機塩、ポリビニルアルコール、カルボキシメ
チルセルロース等の水溶性高分子、及びショ糖等の多糖
類が使用出来る。水溶性高分子が好ましく使用される。
この物質は、粒子径が５μ〜１００μである必要があ
る。この粒子径が５μ未満であると、本発明の所望の効
果を期待し難くなるので好ましくない。また、この粒子
径が１００μを超えると得られるシートに大きすぎる空
孔が生じシートの形態安定性が悪くなり好ましくない。
の使用溶媒に不溶の物質としては、ボウ硝、重曹、及び
食塩等の無機塩、ポリビニルアルコール、カルボキシメ
チルセルロース等の水溶性高分子、及びショ糖等の多糖
類が使用出来る。水溶性高分子が好ましく使用される。
この物質は、粒子径が５μ〜１００μである必要があ
る。この粒子径が５μ未満であると、本発明の所望の効
果を期待し難くなるので好ましくない。また、この粒子
径が１００μを超えると得られるシートに大きすぎる空
孔が生じシートの形態安定性が悪くなり好ましくない。
【００１９】本発明において、かかる物質の添加量は、
ポリウレタン１００重量部に対して１〜６０重量部であ
る必要がある。この添加量が１重量部未満である場合
は、ポリウレタン微多孔層に大きな空間が空かないため
基材に接する微多孔層の層壁が厚くなり基材からシート
が均一に剥がれず、また剥がしにくくなるので、好まし
くない。反対にこの添加量が６０重量部を超えた場合
は、ポリウレタン微多孔層に大きな空間が多く空き過ぎ
る結果、ポリウレタン樹脂の基材に対する接着力が低下
し湿式凝固中にポリウレタン樹脂が剥がれ落ちてしまう
ので、好ましくない。
ポリウレタン１００重量部に対して１〜６０重量部であ
る必要がある。この添加量が１重量部未満である場合
は、ポリウレタン微多孔層に大きな空間が空かないため
基材に接する微多孔層の層壁が厚くなり基材からシート
が均一に剥がれず、また剥がしにくくなるので、好まし
くない。反対にこの添加量が６０重量部を超えた場合
は、ポリウレタン微多孔層に大きな空間が多く空き過ぎ
る結果、ポリウレタン樹脂の基材に対する接着力が低下
し湿式凝固中にポリウレタン樹脂が剥がれ落ちてしまう
ので、好ましくない。
【００２０】
【実施例】以下に実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２１】［実施例１］〜［実施例３］及び［比較
例］ ポリエチレンテレフタレートフィルムに表１に示した４
種類の配合のポリウレタン溶液を各６４０ｇ／ｍ2 の割
合でコーティングし、ジメチルホルムアミドを１０重量
％含有した水溶液を凝固液とする浴槽中に３０℃にて５
分間浸漬してポリウレタン塗布液を湿式凝固させ、さら
に１０分間水洗し、１４０℃にて熱風乾燥した。得られ
たポリウレタンシートをポリエチレンテレフタレートフ
ィルムから剥がして４種類のポリウレタンシートを作っ
た。（それぞれ比較例、実施例１〜３に対応する。） ポリエチレンテレフタレートフィルム及び配合に使用し
た化合物の具体的な品名は、次のとおりである。なお、
表１中の添加剤とあるのは、整泡剤、発泡剤、沈降防止
剤、酸化防止剤および顔料からなる。
例］ ポリエチレンテレフタレートフィルムに表１に示した４
種類の配合のポリウレタン溶液を各６４０ｇ／ｍ2 の割
合でコーティングし、ジメチルホルムアミドを１０重量
％含有した水溶液を凝固液とする浴槽中に３０℃にて５
分間浸漬してポリウレタン塗布液を湿式凝固させ、さら
に１０分間水洗し、１４０℃にて熱風乾燥した。得られ
たポリウレタンシートをポリエチレンテレフタレートフ
ィルムから剥がして４種類のポリウレタンシートを作っ
た。（それぞれ比較例、実施例１〜３に対応する。） ポリエチレンテレフタレートフィルム及び配合に使用し
た化合物の具体的な品名は、次のとおりである。なお、
表１中の添加剤とあるのは、整泡剤、発泡剤、沈降防止
剤、酸化防止剤および顔料からなる。
【００２２】ポリウレタンエレストマー：大日本インキ
化学工業株式会社製の“ＣＲＩＳＶＯＮ” ＭＰ−１０
５ 水溶性高分子Ａ（ＰＶＡ）：クラレ株式会社製の“クラ
レボール” ＰＶＡ−２０５Ｓ 水溶性高分子Ａ（ＣＭＣ）：第一工業製薬株式会社製の
“セロゲン”ＰＲ ポリエチレンテレフタレートフィルム：ユニチカ株式会
社製の厚み１２５μのもの これら実施例１〜３及び比較例のポリウレタンシートの
剥離状況を表２に示した。
化学工業株式会社製の“ＣＲＩＳＶＯＮ” ＭＰ−１０
５ 水溶性高分子Ａ（ＰＶＡ）：クラレ株式会社製の“クラ
レボール” ＰＶＡ−２０５Ｓ 水溶性高分子Ａ（ＣＭＣ）：第一工業製薬株式会社製の
“セロゲン”ＰＲ ポリエチレンテレフタレートフィルム：ユニチカ株式会
社製の厚み１２５μのもの これら実施例１〜３及び比較例のポリウレタンシートの
剥離状況を表２に示した。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【表２】
【００２５】表２から明らかなように、実施例１〜３に
よって得られたポリウレタンシートは、剥離面が平滑性
良好である。しかもスェード調表面を有していた。一
方、比較例のポリウレタンシートは剥離具合が不良であ
って、剥離面の平滑性も劣っていた。
よって得られたポリウレタンシートは、剥離面が平滑性
良好である。しかもスェード調表面を有していた。一
方、比較例のポリウレタンシートは剥離具合が不良であ
って、剥離面の平滑性も劣っていた。
【００２６】［実施例４］基材をポリエチレンテレフタ
レートフィルムからポリエチレンテレフタレート繊維の
不織布に変更した以外は実施例１と全く同様にして、ポ
リウレタンシートを作った。これは、平滑なスェード調
表面を持ったポリウレタンシートであった。
レートフィルムからポリエチレンテレフタレート繊維の
不織布に変更した以外は実施例１と全く同様にして、ポ
リウレタンシートを作った。これは、平滑なスェード調
表面を持ったポリウレタンシートであった。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、目詰まりがなく、かつ
化粧料の保持能力が優れ、しかも表面が均一なスェード
調シートが提供された。したがって、このスェード調シ
ートは、たとえば、化粧用パフ素材として極めて優れた
有用性を発揮するものである。また、本発明によれば、
かかるスェード調シートを取得するための新規で有用な
製造方法が提供された。
化粧料の保持能力が優れ、しかも表面が均一なスェード
調シートが提供された。したがって、このスェード調シ
ートは、たとえば、化粧用パフ素材として極めて優れた
有用性を発揮するものである。また、本発明によれば、
かかるスェード調シートを取得するための新規で有用な
製造方法が提供された。
Claims (10)
- 【請求項１】基材上に形成せしめた孔径が５μ〜１００
μの無数の細孔を有するポリウレタン湿式凝固膜層をそ
の一部を基材上に残し、かつ層破壊を伴って剥離せしめ
てなるスェード調シート。 - 【請求項２】厚さが１５０μ〜６００μであることを特
徴とする請求項１記載のスェード調シート。 - 【請求項３】基材がポリエステルフィルムであることを
特徴とする請求項１または２記載のスェード調シート。 - 【請求項４】基材上に、粒子径が５μ〜１００μであっ
て水に可溶でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物質をポ
リウレタン１００重量部に対して１〜６０重量部添加し
てなるポリウレタン溶液を塗布し、湿式凝固した後、生
成した湿式凝固膜を基材表面上に薄膜を残した状態で剥
離することを特徴とするスェード調シートの製造方法。 - 【請求項５】粒子径が５μ〜１００μであって水に可溶
でポリウレタンの使用溶媒に不溶の物質が水溶性高分
子、無機塩および多糖類から選ばれたものであることを
特徴とする請求項４記載のスェード調シートの製造方
法。 - 【請求項６】水溶性高分子がポリビニルアルコールもし
くはカルボキシメチルセルロースであることを特徴とす
る請求項５記載のスェード調シートの製造方法。 - 【請求項７】無機塩がボウ硝、重曹および食塩から選ば
れたものであることを特徴とする請求項５記載のスェー
ド調シートの製造方法。 - 【請求項８】多糖類がショ糖であることを特徴とする請
求項５記載のスェード調シートの製造方法。 - 【請求項９】基材がポリエステルフィルム、ポリエステ
ル繊維からなる織物もしくは不織布であることを特徴と
する請求項４〜８のいずれかに記載のスェード調シート
の製造方法。 - 【請求項１０】表面部分に請求項１〜３のいずれかに記
載のスェード調シートを用いてなる化粧用パフ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15312896A JPH09308523A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | スェード調シート及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15312896A JPH09308523A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | スェード調シート及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09308523A true JPH09308523A (ja) | 1997-12-02 |
Family
ID=15555603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15312896A Pending JPH09308523A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | スェード調シート及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09308523A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005312798A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Komatsu Seiren Co Ltd | 化粧用スポンジとその製造方法 |
| JP2019208745A (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-12 | ジェイエルコンビ カンパニー リミテッド | 化粧用パフ |
-
1996
- 1996-05-23 JP JP15312896A patent/JPH09308523A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005312798A (ja) * | 2004-04-30 | 2005-11-10 | Komatsu Seiren Co Ltd | 化粧用スポンジとその製造方法 |
| JP2019208745A (ja) * | 2018-06-01 | 2019-12-12 | ジェイエルコンビ カンパニー リミテッド | 化粧用パフ |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060307 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060428 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060725 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060922 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20070213 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |