JPH09309855A - 糖系高分子用モノマー、糖系高分子、これを含有する皮膚外用剤、防曇被膜剤、医療器具用コーティング剤及び高分子吸水剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低コストで収率よく容易に合成することが可
能で重合反応性が高く新規な糖系高分子用モノマー及び
これを重合して得られる化学的に安定で生体適合性が高
く皮膚や眼に対して低刺激性である新規な糖系高分子、
及びこれらを利用した皮膚外用剤、防曇被膜剤、医療器
具用コーティング剤及び高分子吸水剤を提供する。 【解決手段】 下記一般式で表される糖系高分子用モノ
マー及びこれを重合して得られる化学的に安定で生体適
合性が高く皮膚や眼に対して低刺激性である新規な糖系
高分子、及びこれらを利用した皮膚外用剤、防曇被膜
剤、医療器具用コーティング剤及び高分子吸水剤であ
る。 （式中、Ａは糖アルコールもしくはアルキルグリコシド
類もしくはサイクロデキストリン類からｎ個の水酸基を
除いた残基。ｎは、ビニルベンジル基の平均付加モル数
を表し、１以上の数を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、新規な糖系高分子
用モノマー、糖系高分子、これらを利用した皮膚外用
剤、防曇被膜剤、医療器具用コーティング剤及び高分子
吸水剤に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、皮膚外用剤、防曇被膜剤、医療器
具用コーティング剤及び高分子吸水剤に利用される高分
子には、その性状や形態、使用感等の目的によって、両
性高分子が使用されている。

【０００３】一般に用いられている両性高分子の非イオ
ン性の親水基は、その低コスト性や、ＨＬＢの調整のし
易さから、ＰＯＥが主流であった。しかし、これは、経
時で酸化劣化し、ホルマリンを発生することや、そのも
の自身ジオキサンを含むこと等が分かってきており、安
全性・安定性に懸念が出てきている。

【０００４】また、ＰＯＥの親水性は、現在までの研究
でＨＬＢの温度依存性があることが分かってきており、
そのため、高温で用いられる場合、その親水性が発揮で
きないという問題点があった。

【０００５】そこで、近年、界面活性剤の分野では、そ
の安全性や安定性から、糖を親水基とする研究が行われ
てきたが、糖の親水基としての特徴として、親水性基の
パッキング性やＨＬＢの温依存性が低いということが挙
げられ、特に吸水性においては、温度依存がないという
特徴があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、高分子
の分野では、現在までのところ、特に糖の高分子という
ものは存在していたが、糖の親水性の特徴に着眼された
高分子の分子設計はなされておらず、物性面で満足のい
くものはなかった。

【０００７】また、そのモノマーの合成が困難なものが
殆どで、実際に工業的に使用できるものはなかった。ま
た、ＰＯＥの親水性は、高温で用いられる場合、その親
水性が発揮できないという問題があったことから、工業
的に合成できて、低コストで、高温でも使用出来る等の
満足のいく物性を有する高分子が存在しないという問題
点があった。

【０００８】本発明者らは、上記事情に鑑み鋭意研究し
た結果、本発明の新規な糖系高分子用モノマー及びこれ
を重合して得られる糖系高分子が上記問題点を回避する
ことを見出し本発明を完成するに到った。

【０００９】本発明の目的は、低コストで収率よく容易
に合成することが可能で重合反応性が高く新規な糖系高
分子用モノマー及びこれを重合して得られる化学的に安
定で生体適合性が高く皮膚や眼に対して低刺激性である
新規な糖系高分子、及びこれらを利用した皮膚外用剤、
防曇被膜剤、医療器具用コーティング剤及び高分子吸水
剤を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記一般式「化３」で表される糖系高分子用モノマーを提
供するものである。

【化３】 （式中、Ａは糖アルコールもしくはアルキルグリコシド
類もしくはサイクロデキストリン類からｎ個の水酸基を
除いた残基。ｎは、ビニルベンジル基の平均付加モル数
を表し、１以上の数を表す。）

【００１１】また、本発明は、下記一般式「化４」で表
される高分子単位を有する糖系高分子を提供するもので
ある。

【化４】 （式中、Ａは糖アルコールもしくはアルキルグリコシド
類もしくはサイクロデキストリン類からｎ個の水酸基を
除いた残基。ｎは、ビニルベンジル基の平均付加モル数
を表し、１以上の数を表す。ｍは平均重合度を表し１以
上の数を表す。）

【００１２】さらに、本発明は、上記糖系高分子が、上
記糖系高分子用モノマーの一種又は二種以上を重合する
か又はこれらと他のモノマーを共重合して得られる上記
記載の糖系高分子を提供するものである。

【００１３】また、本発明は、上記記載の糖系高分子の
一種又は二種以上を含有することを特徴とする皮膚外用
剤を提供するものである。

【００１４】さらに、本発明は、上記記載の糖系高分子
用モノマーの一種又は二種以上、又は上記記載の糖系高
分子の一種又は二種以上を含有すること特徴とする防曇
被膜剤を提供するものである。

【００１５】また、本発明は、上記記載の糖系高分子用
モノマーの一種又は二種以上、又は上記記載の糖系高分
子の一種又は二種以上を含有すること特徴とする医療器
具用コーティング剤を提供するものである。

【００１６】さらに、本発明は、上記記載の糖系高分子
の一種又は二種以上を含有することを特徴とする高分子
吸水剤を提供するものである。

【００１７】以下、本発明を詳述する。上記一般式にお
いて、ｎは、ビニルベンジル基の付加モル数を表し、１
以上の数を示す。ｎが１のとき、一般式「化３」で表さ
れる糖系高分子用モノマーを重合して得られる本発明の
一般式「化４」で表される糖系高分子の水溶性部分は、
ペンダント状の構造になる。また、ｎの数が大きいと、
一般式「化３」で表される糖系高分子用モノマーを重合
して得られる本発明の一般式「化４」で表される本発明
の糖系高分子の水溶性部分がペンダント状にならず、全
体として架橋した網の目構造を示す。このｎは、その目
的にあわせて任意の数のものを用いることができる。

【００１８】一般式「化３」で表される糖系高分子用モ
ノマー及び一般式「化４」で表される糖系高分子におい
て、残基Ａは、水溶性を示す部分であり、主として糖ア
ルコールもしくはアルキルグリコシド類もしくはサイク
ロデキストリン類を表し、例えば、ソルビトール、ペン
タエリスリトール、エリスリトール、ガラクチトール、
グルシトール、マルチトール、イソマルチトール、マン
ニトール、マルトトリイトール、マルトテトライトー
ル、サイクリトール、イノシトール等の糖アルコール、
ラクトース、フルクトース、キシロース、アルトロー
ス、タロース、アラビノース、イドース、リキソース、
リボース、アロース、アセチルグルコサミン、グルコサ
ミン等の単糖類の還元物及びその混合物、又は、ラクト
ース、キシロビオース、ゲンチオビオース、コージオビ
オース、セロビオース、ソホロース、ニゲロビオース、
スクロース、メリビオース、ラミナリビオース、ルチノ
ース、等の二糖類及びその混合物の還元物、マルトトリ
オース等の三糖類及びその混合物の還元物、さらにそれ
以上の多糖やその混合物の還元物、またポリグルコース
等のグルコースの重合体などの還元物、メチルグリコシ
ド、エチルグリコシド、ブチルグリコシド、イソブチル
グリコシド、プロピルグリコシド、ペンチルグリコシ
ド、ヘキシルグリコシド、ヘプチルグリコシド、オクチ
ルグリコシド、ノニルグリコシド、デシルグリコシド、
ドデシルグリコシド、ウンデシルグリコシド、テトラデ
シルグリコシド、ヘプタデシルグリコシド、ヘキサデシ
ルグリコシド、ペンタデシルグリコシド、オクタデシル
グリコシド、イソステアリルグリコシド、２−ヘキシル
デシルグリコシド、２−エチルヘキシルグリコシド、オ
レイルグリコシド等のアルキルリグリコシド類及びアル
キルポリグリコシド類、サイクロデキストリン、サイク
ロデキストリン、サイクロデキストリン、ヒドロキシプ
ロピルサイクロデキストリン等のサイクロデキストリン
類等が挙げられる。

【００１９】残基Ａは、加水分解等やアルカリに対して
安定な糖アルコール及びアルキルグリコシド類及びサイ
クロデキストリン類が好ましい。

【００２０】一般式「化４」のｍは平均重合度を表し、
その使用目的により、任意の数をとることが出来る。

【００２１】一般式「化３」で示される糖系高分子用モ
ノマーは、一般にベンジル化やエーテル化に用いられる
反応により得ることができる。一般にベンジル化やエー
テル化に用いられる反応は、強アルカリ下等極めて苛酷
な条件でで行われることが多く、そのため、酸・アルカ
リ性等に対し極めて安定な糖アルコールやアルキルグリ
コシド類やサイクロデキストリン類を原料に用いること
により、反応中の原料の分解を起こすこと無く、本発明
の糖系高分子モノマーを収率良く得ることができる。こ
のようにして得られる糖系高分子用モノマーを用いて重
合して得られる本発明の糖系高分子も安定性の高いもの
を得ることが出来る。

【００２２】糖系高分子用モノマーのビニルベンジル基
の付加モル数であるｎは、糖アルコールやアルキルグリ
コシド類やサイクロデキストリン類とハロゲン化ビニル
ベンジルの仕込み比により種々調製できる。例えば、糖
アルコールとハロゲン化ビニルベンジルを３：１の割合
で仕込んだとき、その生成物のｎは、１〜１．５であ
る。得られた反応生成物には、一般式「化３」で表され
る化合物の他、未反応の糖アルコールやアルキルグリコ
シド類やシクロデキストリン類、ビニルベンジルアルコ
ールや未反応のハロゲン化ビニルベンジル等の試薬類や
塩が共存している。

【００２３】これらは、糖系高分子を製造する際に、混
合物のまま用いてもよく分離精製してから用いてもよ
い。例えば、糖アルコールや低級アルキルグリコシド類
やシクロデキストリン類と塩を分離する場合、メチルア
ルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、イソ
プロピルアルコール等の糖アルコールや低級アルキルグ
リコシド類やシクロデキストリン類と塩を溶解しない溶
媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメチルエチルケト
ン、ｎ−ブタノールで分配し、有機溶媒相を分取するこ
とにより、精製できる。また、未反応のビニルベンジル
アルコールやハロゲン化ビニルベンジル等の低極性化合
物の除去は、減圧留去の他、他の溶媒による共沸や、ヘ
キサンやヘプタン等の非極性溶媒による洗浄をおこなう
ことにより、除去できる。

【００２４】生成した糖系高分子用モノマーは、ビニル
ベンジル基の付加モル数や極性等によって糖系高分子用
モノマーを単離する場合、反応生成物を水または水とア
ルコールの混液に懸濁させ、ハイパーポーラスポリマー
（例えば三菱化成工業株式会社製のハイポーラス樹
脂）、オクタデシルシリカなどの逆相分配カラムで、始
め水で通液し、次にメタノール、エタノールなどのアル
コールやアセトニトリルなどの極性有機溶媒と水の混液
で通液し、この液を分取することにより精製できる。

【００２５】このようにして得られる糖系高分子用モノ
マーは、それ自身反応性が良好で、自己重合や他のモノ
マーとの共重合を容易に行う。一般式「化４」で表され
る本発明の糖系高分子の重合は、上記の製造方法で得ら
れる糖系高分子用モノマ−を精製した後に重合に用いて
も良く、精製せずにそのまま重合に用いてもよい。

【００２６】また、本発明の糖系高分子は、一般式「化
３」で表される糖系高分子用モノマーを一種又は二種以
上単独で重合してもよく、一般式「化３」で表される一
種又は二種以上の糖系高分子用モノマーと一種又は二種
以上の他のモノマーと共重合しても良い。

【００２７】本発明の糖系高分子の重合反応は、一般に
用いられている重合反応であれば、特に制限がない。共
重合体の重合反応も一般に行われている反応であれば、
制限がなく、乳化重合法、溶液重合法、バルク重合法、
沈殿重合法等の公知の重合法で構わない。

【００２８】例えば、ラジカル重合を行う場合、重合開
始剤は、ラジカル重合を開始するものであれば特に制限
はないが、例えば、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブ
チロニトリル、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム等
が挙げられる。

【００２９】このようにして得られる本発明の糖系高分
子は、化学安定性・酸化安定性に優れ、更に、生分解性
が高く、環境保護の観点からも好ましい高分子といえ
る。

【００３０】本発明の糖系高分子は安全性に優れるた
め、皮膚外用剤に配合することが出来る。その糖アルコ
ールやアルキルグリコシド類やサイクロデキストリン類
の親水性や、共重合モノマーの種類やその組成の比を調
製することにより、乳化安定性や可溶化能にも優れ、各
種処方系との相溶性も良好で、系の安定性を向上させ、
乳液系・クリーム系等の化粧料、医薬部外品などの皮膚
外用剤の処方に使用した場合、優れた使用感触を有す
る。

【００３１】本発明の皮膚外用剤は、本発明の糖系高分
子を少なくとも１種含有するものであるが、その剤型は
任意であり、例えば、水溶系、可溶化系、乳化系、粉末
分散系、クリーム状、クリーム固型状、水−油二相系、
水−油−粉末三相系、エアロゾル等のような系でも良
く、皮膚外用剤の用途も、一般化粧水、アフターシェー
ビングローション、オーデコロン、シェービングローシ
ョン、ハンドローション、日焼け止めローション、日焼
けローション等の化粧水、乳液、クレンジングクリー
ム、アフターシェービングクリーム、コールドクリー
ム、シェービングクリーム、バニシングクリーム、ハン
ドクリーム、日焼けクリーム、日焼け止めクリーム等の
クリーム乳液類、パックなどの基礎化粧品、洗顔フオ ー
ム、洗顔クリーム、クレンジグジェル、クレンジングフ
オ ーム、ボデイ ー洗浄料など洗浄料、口紅、リップクリ
ーム等の口紅類、美爪エナメル、エナメル除去液等の爪
化粧品類、クリーム状フア ンデーション、液状フア ンデ
ーション、固型フア ンデーション等のフアンデーション
類、クリームおしろい、固型おしろい、粉おしろい、タ
ルカムパウダー、練りおしろい、ベビーパウダー、ボデ
イ パウダー、水おしろいなどのおしろい類、アイシャド
ウ、アイブロウ、アイライン、マスカラ、チークなどの
メーキャップ化粧品、シャンプー、リンス、ヘアーパッ
ク、トリートメント、ヘアトニック、ヘアリキッド、チ
ック、ポマード、びん付油、セットローション、髪油、
スキ油、ムース、ジェル、ヘアスプレー、パーマ液、酸
化染毛料、酸性染毛料などの頭髪化粧品などの化粧料、
バスオイル、バスソルト等の浴用化粧品類、化粧用油、
ベビーオイル等の化粧用油類、一般香水、練り香水、粉
末香水等の香水類、歯磨き粉等の歯磨き類、あるいは医
薬部外品、医薬品などの多岐にわたる。

【００３２】本発明の皮膚外用剤には、本発明の糖系高
分子の他に通常用いられる他の化粧料や医薬料成分を適
宜配合できる。例えば、流動パラフイ ン、スクワラン、
ワセリン、２−エチルヘキサン酸セチル、トリイソステ
アリン酸グリセリン、セレシン、ポリオキシエチレン
（８モル）オレイルアルコールエーテル、モノオレイン
酸グリセリル等の油性成分、マカデミアンナッツ油、ラ
ノリン、トウモロコシ油、アボガド油、オリーブ油、ナ
タネ油、月見草油、ヒマシ油、ヒマワリ油、茶実油、コ
メヌカ油、ホホバ油、カカオ脂、ヤシ油、スクワレン、
牛脂等の油脂類、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロ
ウ、カルナバロウ、鯨ロウ等のロウ類、シリコーン油
類、カプリルアルコール、２−オクタデシルアルコー
ル、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチ
ルアルコール、イソステアリルアルコール、コレステロ
ール、フィトステロール等の高級アルコール、カプリン
酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステア
リン酸、ベヘニン酸、ラノリン酸、リノール酸、リノレ
ン酸等の高級脂肪酸、ポリエチレングリコール、グリセ
リン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ム
コ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサン
等の保湿剤、メチルセルロース、エチルセルロース、ア
ラビアガム、ポリビニルアルコール、モンモリロナイ
ト、ラポナイト等の増粘剤、エタノール、１，３−ブチ
レングリコール、クロロホルム、酢酸エチル、酢酸イソ
プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、アセトン、ヘ
キサン、メタノール、イソプロピルアルコール等の有機
溶剤、ブチルヒドロキシトルエン、トコフエ ロール、フ
ィチン酸等の酸化防止剤、安息香酸、サリチル酸、ソル
ビン酸、デヒドロ酢酸、パラオキシ安息香酸アルキルエ
ステル（エチルパラベン、ブチルパラベン等）、ヘキサ
クロロフエン等の抗菌防腐剤、グリシン、アラニン、バ
リン、ロイシン、セリン、トレオニン、フエ ニルアラニ
ン、チロシン、アスパラギン、アスパラギン酸、グルタ
ミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジン等のアミノ酸
及びこれらのアルカリ金属塩と塩酸塩、アシルサルコシ
ン酸（例えばラウロイルコシンナトリウム）、グルタチ
オン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸等の有機酸、
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタ
ミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６シオクタノエ
ート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、
ビタミンＢ１５及びその誘導体等のビタミンＢ類、アス
コルビン酸、アスコルビン酸硫酸エステル（塩）、アス
コルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパ
ルミテート等のビタミンＣ類、α−トコフエ ロール、β
−トコフエ ロール、γ−トコフェロール、ビタミンＥア
セテート、ビタミンＥニコチネート等のビタミンＥ類、
ビタミンＤ類、ビタミンＨ類、パントテン酸、パンテチ
ン等のビタミン類、ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベン
ジル、γ−オリザノール、トラネキサム酸、イプシロン
カプロン酸、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、
グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ム
シジン、ビサボロール、ユーカリブトール、チモール、
イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジン
サポニン、ヘチルエチルエーテル、エチニルエストラジ
オール、セフア ランチン、プラセンタエキス等の各種薬
剤、ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、
ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、タ
イム、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロ
ニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤ
ク、アロエ、クチナシ、サワラ等の有機溶媒、アルコー
ル、多価アルコール、水、水性アルコール等で抽出した
天然エキス、色素、モノラウリン酸ソルビタン、モノパ
ルミチン酸ソルビタン、セスキオレイン酸ソルビタン、
トリオレイン酸ソルビタン、モノラウリン酸ポリオキシ
エチレンソルビタン、モノステアリン酸ポリオキシエチ
レンソルビタン、ポリエチレングリコールモノオレー
ト、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリグリコ
ールジエステル、ラウロイルジエタノールアマイド、ア
ルキル化多糖、アルキルグリコシド、シュガーエステ
ル、マルチトールヒドロキシ脂肪族エーテル等の非イオ
ン界面活性剤、ステアリルトリメチルアンモニウムクロ
ライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサ
イド等のカチオン界面活性剤、パルミチン酸ナトリウ
ム、ラウリン酸ナトリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、
ラウリル硫酸カリウム、アルキル硫酸トリエタノールア
ミンエーテル、ロート油、リニアドデシルベンゼン硫
酸、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油マレイン酸、ヒド
ロキシエーテルカルボン酸、アシルメチルタウリン等の
アニオン界面活性剤、両性界面活性剤、香料、精製水、
紫外線吸収剤、薬効剤、金属封鎖剤、ｐＨ調整剤、スク
ラブ剤等の各種粉末成分、その他の高分子等が挙げられ
る。

【００３３】本発明の皮膚外用剤は、経時で酸化劣化を
うけることなく、安定性・安全性に優れ、使用感にコク
があるという特徴がある。また、各種処方系と相溶性が
良く、系の安定性をあげるという働きがある。

【００３４】本発明の糖系高分子は、防曇被膜剤、医療
器具用コーティング剤及び高分子吸水剤としても利用で
きる。本発明の防曇被膜剤及び医療器具用コーティング
剤は、本発明の糖系高分子用モノマー又は本発明の糖系
高分子を少なくとも一種以上含有したものであり、又、
本発明の高分子吸水剤は本発明の糖系高分子を少なくと
も一種以上含有したものである。本発明の糖系高分子
は、各種基剤との相溶性が良いので、防曇被膜剤、医療
器具用コーティング剤及び高分子吸水剤に通常使用する
他の配合成分を適宜配合可能である。

【００３５】本発明の防曇被膜剤及び医療器具用コーテ
イ ング剤を用いる場合、本発明の糖系高分子を含有した
任意の処方系のものを被覆しても良く、又、直接被覆す
るものに本発明の糖系高分子用モノマー含有した処方系
のものを塗布した後、これを重合して被覆を行っても良
い。

【００３６】本発明の防曇被膜剤、医療器具用コーテイ
ング剤及び高分子吸水剤に用いる本発明の糖系高分子
は、化学安定性・酸化安定性に優れ、更に、生分解性が
高く、環境保護の観点からも好ましい高分子といえる。
また、その糖アルコールやアルキルグリコシド類やサイ
クロデキストリン類の親水性や、共重合モノマーの種類
やその組成の比を調製することにより、吸水性や被膜性
を調整し、優れた吸水効果や防曇効果を示すことができ
る。また、生体適合性が良く、化学安定性に優れること
から、耐久性も満足するものであるため、医療器具用の
コーテイ ング剤としても使用され得るものである。

【００３７】本発明に係る防曇被膜剤及び医療器具用コ
ーテイ ング剤の剤型は、任意であり、例えば、水溶系、
可溶化系、乳化系、粉末分散系、クリーム状、クリーム
固型状、水−油二相系、水−油−粉末三相系、エアロゾ
ル系等のような系でも良く、スプレー、ムース等の形態
でも構わない。

【００３８】また、医療器具用コーテイ ング剤の場合、
例えば、機械的人工心臓弁、生体人工心臓弁、人工血
管、血管修復用材料、個人用透析装置、人工心肺装置、
気泡型人工肺、膜型人工肺、植込型ペースメーカ、体外
型ペースメーカ、心臓ペースメーカの部品及び付属品、
人工腎臓用血液回路、血液ろ過器、血液ろ過用装置、吸
着型血液浄化器、吸着型血液浄化装置、膜型血漿分離
器、膜型血漿成分分離器、遠心型血液成分分離装置、膜
型血漿分離装置、腹膜潅流システム、透析用監視装置、
多人数用透析液供給装置、中空糸型透析器、コイル型透
析器、積層型透析器、人工すい臓、腹水ろ過濃縮器、補
助循環装置等の内蔵機能代用器、金属製人骨、高分子材
料人工骨、セラミック人工骨、金属製人工関節、高分子
材料人工関節、セラミック人工関節、骨接合板、骨接合
用ねじ、骨セメント、整形用高分子化合物、整形ろう、
外科用接着剤、人工乳房、人工鼓膜、医療用石膏、イン
プラント剤等の整形用品などに利用できる。

【００３９】本発明の高分子吸水剤は、従来の温度依存
性のある高分子吸水剤が高温で放水するという問題点を
解決したものであり、高温でも使用できる高吸水性の高
分子吸水剤である。

【００４０】

【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、これは本発
明の技術的範囲を限定するものではない。実施例に示し
た配合料は重量％である。また、実施例で採用した試験
法、評価法も併せて説明する。

【００４１】「合成例１ モノマーの合成（ビニルベン
ジルマルチトール）」マルチトール１０ｇを、ＤＭＦ２
００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ（６０％純度）１．５１
ｇをヘキサンで３回洗浄し、減圧乾燥しておいたものを
加え、５０℃にて３０分間撹拌した。クロロメチルスチ
レン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒｅ）５．３２ｇを少しづ
つ滴下し、９０℃にて２時間加熱撹拌した。ＴＬＣ〔Ｍ
ｅＯＨ：ＡｃＯＨ：ＣＨＣｌ3 ＝１：１：３〕にて新た
にＲｆ０．６に生成物が確認された。系を室温まで空冷
し、ＭｅＯＨ ２０ｍｌを加え、減圧濃縮した。ブタノ
ールで１回、トルエンで２回共沸した後、ダイアイオン
ＨＰ２０のカラムクロマトグラフ法にて、最初水を通液
し、次にメタノールを通液し、メタノール分画を濃縮
し、水−メタノール混合液で抽出し、ヘキサン、酢酸エ
チルでそれぞれ１回洗浄し、抽出液を濃縮乾燥し、目的
物を６．５ｇ得た。得られた生成物をシリカゲルカラム
クロマト法にて精製し、得られた化合物を、（１）〜
（３）の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にメ
チレン基のメチレン鎖部分の伸縮振動が観測された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４
８〜９０ｐｐｍにマルトース部分の炭素に由来するシグ
ナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基の炭素に由来する
シグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベンジル基の炭素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。結果を図１に
示す。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍにマルトース部分の水素に由来す
るシグナル、７．０〜８．０ｐｐｍにベンジル基の水素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。

【００４２】「合成例２ モノマーの合成（ビニルベン
ジルソルビトール）」ソルビトール１０ｇを、ＤＭＦ２
００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ（６０％純度）３．０３
ｇをヘキサンで３回洗浄し、減圧乾燥しておいたものを
加え、５０℃にて３０分間撹拌した。クロロメチルスチ
レン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒｅ）１０．６ｇを少しづ
つ滴下し、９０℃にて３時間加熱撹拌した。系を室温ま
で空冷し、ＭｅＯＨ ４０ｍｌを加え、減圧濃縮した。
ブタノールで１回、トルエンで２回共沸した後、ダイア
イオンＨＰ２０のカラムクロマトグラフ法にて、最初水
を通液し、次にメタノールを通液し、メタノール分画を
濃縮し、水−メタノール混合液で抽出し、ヘキサン、酢
酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、抽出液を濃縮乾燥し、
目的物を７．４ｇ得た。この化合物は、（１）〜（３）
の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にメ
チレン基のメチレン鎖部分の伸縮振動が観測された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
Ｃ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４８
〜９０ｐｐｍにソルビトール部分の炭素に由来するシグ
ナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基の炭素に由来する
シグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベンジル基の炭素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍにソルビトール部分の水素に由来
するシグナル、７．０〜８．０ｐｐｍにベンジル基の水
素に由来するシグナルがそれぞれ観測された。

【００４３】「合成例３ モノマーの合成（ビニルベン
ジルエリスリトール）」エリスリトール１０ｇを、ＤＭ
Ｆ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ（６０％純度）３．
０３ｇをヘキサンで３回洗浄し、減圧乾燥しておいたも
のを加え、５０℃にて３０分間撹拌した。クロロメチル
スチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒｅ）１０．６ｇを少
しづつ滴下し、９０℃にて４時間加熱撹拌した。系を室
温まで空冷し、ＭｅＯＨ ４０ｍｌを加え、減圧濃縮し
た。ブタノールで１回、トルエンで２回共沸した後、ダ
イアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグラフ法にて、最
初水を通液し、次にメタノールを通液し、メタノール分
画を濃縮し、水−メタノール混合液で抽出し、ヘキサ
ン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、抽出液を濃縮乾
燥し、目的物を６．９ｇ得た。この化合物は、（１）〜
（３）の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にメ
チレン基のメチレン鎖部分の伸縮振動による吸収が観測
された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４
８〜９０ｐｐｍにエリスリトール部分の炭素に由来する
シグナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基の炭素に由来
するシグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベンジル基の炭
素に由来するシグナルがそれぞれ観測された。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍにエリスリトール部分の水素に由
来するシグナル、７．０〜８．０にベンジル基の水素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。

【００４４】「合成例４ モノマーの合成（ビニルベン
ジルマルトトリイトール）」マルトトリイトール１０．
０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ（６０
％純度）１．２３ｇをヘキサンで３回洗浄し、減圧乾燥
しておいたものを加え、５０℃にて３０分間撹拌した。
クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒｅ）
４．２ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて４時間加熱撹拌
した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ ４０ｍｌを加
え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエンで２回
共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグ
ラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノールを通液
し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混合液で
抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、
抽出液を濃縮乾燥し、目的物を６．１ｇ得た。この化合
物は、（１）〜（３）の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にメ
チレン基のメチレン鎖部分の伸縮振動、１０２０ｃｍ^-1
にグルコシド結合による吸収が観測された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４
８〜９０ｐｐｍのところにマルトトリイトール部分の炭
素に由来するシグナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基
の炭素に由来するシグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベ
ンジル基の炭素に由来するシグナルがそれぞれ観測され
た。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍにマルトトリイトール部分の水素
に由来するシグナル、７．０〜８．０ｐｐｍにベンジル
基の水素に由来するシグナルがそれぞれ観測された。

【００４５】「合成例５ モノマーの合成（ビニルベン
ジルマルチトール、ビニルベンジルマルトトリイトー
ル、ビニルベンジルマルトテトライトール、ビニルベン
ジルグルシトール混合物）」マルチトール、マルトトリ
イトール、マルトテトライトール、グルシトールの混合
物１０．０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａ
Ｈ（６０％純度）１．００ｇをヘキサンで３回洗浄し、
減圧乾燥しておいたものを加え、５０℃にて３０分間撹
拌した。クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕ
ｒｅ）４．０ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加
熱撹拌した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ ４０ｍｌ
を加え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエンで
２回共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマ
トグラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノールを通
液し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混合液
で抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄
し、抽出液を濃縮乾燥し、目的物を６．３ｇ得た。この
化合物は、（１）〜（３）の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にメ
チレン基のメチレン鎖部分の伸縮振動、１０２０ｃｍ^-1
にグルコシド結合による吸収が観測された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４
８〜９０ｐｐｍのところに糖部分の炭素に由来するシグ
ナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基の炭素に由来する
シグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベンジル基の炭素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍに糖部分の水素に由来するシグナ
ル、７．０〜８．０ｐｐｍにベンジル基の水素に由来す
るシグナルがそれぞれ観測された。

【００４６】「合成例６ モノマーの合成（ビニルベン
ジルヒドロキシプロピルサイクロデキストリン）」ヒド
ロキシプロピルサイクロデキストリン１０．０ｇを、Ｄ
ＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ（６０％純度）
１．５０ｇをヘキサンで３回洗浄し、減圧乾燥しておい
たものを加え、５０℃にて３０分間撹拌した。クロロメ
チルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒｅ）４．６ｇを
少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加熱撹拌した。系を
室温まで空冷し、ＭｅＯＨ ４０ｍｌを加え、減圧濃縮
した。ブタノールで１回、トルエンで２回共沸した後、
ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグラフ法にて、
最初水を通液し、次にメタノールを通液し、メタノール
分画を濃縮し、水−メタノール混合液で抽出し、ヘキサ
ン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、抽出液を濃縮乾
燥し、目的物を５．８ｇ得た。この化合物は、（１）〜
（３）の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にヒ
ドロキシドデシル基のアルキル鎖部分の伸縮振動、１０
２０ｃｍ^-1にグルコシド結合による吸収が観測された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４
８〜９０ｐｐｍのところに糖部分の炭素に由来するシグ
ナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基の炭素に由来する
シグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベンジル基の炭素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍに糖部分及びヒドロキシプロピル
基の水素に由来するシグナル、７．０〜８．０ｐｐｍに
ベンジル基の水素に由来するシグナルがそれぞれ観測さ
れた。

【００４７】「合成例７ モノマーの合成（ビニルベン
ジルサイクロデキストリン）」サイクロデキストリン１
０．０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ
（６０％純度）１．６０ｇをヘキサンで３回洗浄し、減
圧乾燥しておいたものを加え、５０℃にて３０分間撹拌
した。クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒ
ｅ）４．７ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加熱
撹拌した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ ４０ｍｌを
加え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエンで２
回共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマト
グラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノールを通液
し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混合液で
抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、
抽出液を濃縮乾燥し、目的物を５．９ｇ得た。この化合
物は、（１）〜（３）の方法により分析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にヒ
ドロキシドデシル基のアルキル鎖部分の伸縮振動、１０
２０ｃｍ^-1にグルコシド結合による吸収が観測された。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、４
８〜９０ｐｐｍのところに糖部分の炭素に由来するシグ
ナル、９５〜１１５ｐｐｍにビニル基の炭素に由来する
シグナル、１２５〜１４１ｐｐｍにベンジル基の炭素に
由来するシグナルがそれぞれ観測された。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬ ＧＸ−４００により、
ＣＤ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、
３．０〜６．０ｐｐｍに糖部分の水素に由来するシグナ
ル、７．０〜８．０ｐｐｍにベンジル基の水素に由来す
るシグナルがそれぞれ観測された。

【００４８】「合成例８ モノマーの合成（ビニルベン
ジルイソブチルグリコシド）」イソブチルグリコシド１
０．０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ
（６０％純度）１．６０ｇをヘキサンで３回洗浄し、減
圧乾燥しておいたものを加え、５０℃にて３０分間撹拌
した。クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒ
ｅ）４．７ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加熱
撹拌した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ４０ｍｌを加
え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエンで２回
共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグ
ラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノールを通液
し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混合液で
抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、
抽出液を濃縮乾燥し、目的物を７．２ｇ得た。

【００４９】「合成例９ モノマーの合成（ビニルベン
ジルメチルグリコシド）」メチルグリコシド１０．０ｇ
を、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ（６０％純
度）２．４０ｇをヘキサンで３回洗浄し、減圧乾燥して
おいたものを加え、５０℃にて３０分間撹拌した。クロ
ロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒｅ）８．０
ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加熱撹拌した。
系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ４０ｍｌを加え、減圧濃
縮した。ブタノールで１回、トルエンで２回共沸した
後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグラフ法に
て、最初水を通液し、次にメタノールを通液し、メタノ
ール分画を濃縮し、水−メタノール混合液で抽出し、ヘ
キサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、抽出液を濃
縮乾燥し、目的物を７．８ｇ得た。

【００５０】「合成例１０ モノマーの合成（ビニルベ
ンジルプロピルグリコシド）」プロピルグリコシド１
０．０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ
（６０％純度）２．３０ｇをヘキサンで３回洗浄し、減
圧乾燥しておいたものを加え、５０℃にて３０分間撹拌
した。クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒ
ｅ）７．５ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加熱
撹拌した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ４０ｍｌを加
え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエンで２回
共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグ
ラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノールを通液
し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混合液で
抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、
抽出液を濃縮乾燥し、目的物を７．１ｇ得た。

【００５１】「合成例１１ モノマーの合成（ビニルベ
ンジルオクチルグリコシド）」オクチルグリコシド１
０．０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予めＮａＨ
（６０％純度）２．１０ｇをヘキサンで３回洗浄し、減
圧乾燥しておいたものを加え、５０℃にて３０分間撹拌
した。クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉｘｔｕｒ
ｅ）７．３ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５時間加熱
撹拌した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ４０ｍｌを加
え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエンで２回
共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムクロマトグ
ラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノールを通液
し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混合液で
抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗浄し、
抽出液を濃縮乾燥し、目的物を６．９ｇ得た。

【００５２】「合成例１２ モノマーの合成（ビニルベ
ンジルイソステアリルグリコシド）」イソステアリルグ
リコシド１０．０ｇを、ＤＭＦ２００ｍｌに溶解し、予
めＮａＨ（６０％純度）１．５０ｇをヘキサンで３回洗
浄し、減圧乾燥しておいたものを加え、５０℃にて３０
分間撹拌した。クロロメチルスチレン（ｍ−，ｐ−ｍｉ
ｘｔｕｒｅ）５．１ｇを少しづつ滴下し、９０℃にて５
時間加熱撹拌した。系を室温まで空冷し、ＭｅＯＨ４０
ｍｌを加え、減圧濃縮した。ブタノールで１回、トルエ
ンで２回共沸した後、ダイアイオンＨＰ２０のカラムク
ロマトグラフ法にて、最初水を通液し、次にメタノール
を通液し、メタノール分画を濃縮し、水−メタノール混
合液で抽出し、ヘキサン、酢酸エチルでそれぞれ１回洗
浄し、抽出液を濃縮乾燥し、目的物を６．１ｇ得た。

【００５３】「合成例１３ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトールの重合）」合成例１で得られたビニ
ルベンンジルマルチトール２．６５ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍ
ｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一
晩撹拌した。ＭｅＯＨ２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷
蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた
沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥し
た。得られた重合物は、（１）〜（３）の方法により分
析した。 （１）赤外吸収スペクトル測定法 日本分光工業株式会社製、ＩＲＡ−１赤外吸収スペクト
ル測定装置を用い、ＫＢｒ錠剤法で測定したところ、３
２００ｃｍ^-1に水酸基の伸縮振動、２９００ｃｍ^-1にポ
リメチレン基のメチレン鎖部分の伸縮振動、１７００ｃ
ｍ^-1にエーテル結合による吸収が観測された。結果を図
２に示す。 （２）¹³Ｃ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬＧＸ−４００により、Ｃ
Ｄ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、１８
ｐｐｍのところにメチレン鎖部分の炭素に由来するシグ
ナル、４８〜９０ｐｐｍにマルトース部分の炭素に由来
するシグナルがそれぞれ観測された。 （３）¹Ｈ−ＮＭＲ測定法 日本電子株式会社製のＪＥＯＬＧＸ−４００により、Ｃ
Ｄ₃ＯＤを溶媒として、室温にて測定したところ、１．
２ｐｐｍにポリメチレン基の水素に由来するシグナル、
３．０〜６．０ｐｐｍにマルトース部分の炭素に由来す
るシグナル、７．０〜８．０ｐｐｍにベンジル基の水素
に由来するシグナルがそれぞれ観測された。結果を図３
に示す。

【００５４】「合成例１４ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルソルビトールの重合）」合成例２で得られたビニ
ルベンンジルソルビトール２．６５ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍ
ｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一
晩撹拌した。ＭｅＯＨ２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷
蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた
沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥し
た。

【００５５】「合成例１５ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルエリストールの重合）」合成例３で得られたビニ
ルベンンジルエリストール２．６５ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍ
ｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一
晩撹拌した。ＭｅＯＨ２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷
蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた
沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥し
た。

【００５６】「合成例１６ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルトトリイトールの重合）」合成例４で得られ
たビニルベンジルマルトトリイトール２．６５ｇ、ＡＩ
ＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５
０℃にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを
加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加
した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した
後、凍結乾燥した。

【００５７】「合成例１７ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトール、ビニルベンジルマルトトリイトー
ル、ビニルベンジルマルトテトライトール、ビニルベン
ジルグルシトール混合物の重合）」合成例５で得られた
ビニルベンジルマルチトール、ビニルベンジルマルトト
リイトール、ビニルベンジルマルトテトライトール、ビ
ニルベンジルグルシトール混合物２．６５ｇ、ＡＩＢＭ
１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃
にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを加
え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加し
た。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、
凍結乾燥した。

【００５８】「合成例１８ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルヒドロキシプロピルサイクロデキストリンの重
合）」合成例６で得られたビニルベンジルヒドロキシプ
ロピルサイクロデキストリン２．６５ｇ、ＡＩＢＭ１０
ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて
一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予
め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加した。生
じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾
燥した。

【００５９】「合成例１９ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルサイクロデキストリンの重合）」合成例７で得ら
れたビニルベンジルサイクロデキストリン２．６５ｇ、
ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流
下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍ
ｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に
注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄し
た後、凍結乾燥した。

【００６０】「合成例２０ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルイソブチルグリコシドの重合）」合成例８で得ら
れたビニルベンジルイソブチルグリコシド２．６５ｇ、
ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流
下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍ
ｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に
注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄し
た後、凍結乾燥した。

【００６１】「合成例２１ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルメチルグリコシドの重合）」合成例９で得られた
ビニルベンジルメチルグリコシド２．６５ｇ、ＡＩＢＭ
１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃
にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを加
え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注加し
た。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、
凍結乾燥した。

【００６２】「合成例２１ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルプロピルグリコシドの重合）」合成例１１で得ら
れたビニルベンジルプロピルグリコシド２．６５ｇ、Ａ
ＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下
５０℃にて一晩撹拌した。メタノール ２ｍｌ、水５ｍ
ｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に
注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄し
た後、凍結乾燥した。

【００６３】「合成例２２ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルオクチルグリコシドの重合）」合成例１０で得ら
れたビニルベンジルオクチルグリコシド２．６５ｇ、Ａ
ＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下
５０℃にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌ
を加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノール中に注
加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで洗浄した
後、凍結乾燥した。

【００６４】「合成例２３ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルイソステアリルグリコシドの重合）」合成例１１
で得られたビニルベンジルイソステアリルグリコシド
２．６５ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解
し、窒素気流下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール２
ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメ
タノール中に注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノ
ールで洗浄した後、凍結乾燥した。

【００６５】「合成例２４ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトールとアクリル酸オクチルの共重合）」
合成例１で得られたビニルベンジルマルチトール１．６
５ｇ、アクリル酸オクチル１ｇＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭ
Ｆ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一晩撹拌し
た。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で
冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた沈殿物
をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥した。

【００６６】「合成例２５ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトールとＭＭＡの共重合）」合成例１で得
られたビニルベンジルマルチトール１．６５ｇ、ＭＭＡ
１ｇＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素
気流下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール ２ｍｌ、
水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノー
ル中に注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで
洗浄した後、凍結乾燥した。

【００６７】「合成例２６ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルソルビトールとアクリル酸オクチルの共重合）」
合成例２で得られたビニルベンジルソルビトール１．６
５ｇ、アクリル酸オクチル１ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤ
ＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一晩撹拌
した。メタノール ２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵
庫で冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた沈
殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥し
た。

【００６８】「合成例２７ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルソルビトールとＭＭＡの共重合）」合成例２で得
られたビニルベンジルソルビトール１．６５ｇ、ＭＭＡ
１ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒
素気流下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール２ｍｌ、
水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノー
ル中に注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで
洗浄した後、凍結乾燥した。

【００６９】「合成例２８ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトールとビニルベンジルサイクロデキスト
リンとアクリル酸オクチルの共重合）」合成例１で得ら
れたビニルベンジルマルチトール１．６５ｇ、アクリル
酸オクチル０．５ｇ、合成例７で得られたビニルベンジ
ルサイクロデキストリン０．５ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇを
ＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一晩撹
拌した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵
庫で冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた沈
殿物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥し
た。

【００７０】「合成例２９ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトールとスチレンの共重合）」合成例１で
得られたビニルベンジルマルチトール１．６５ｇ、スチ
レン１．０ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶
解し、窒素気流下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール
２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいた
メタノール中に注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタ
ノールで洗浄した後、凍結乾燥した。

【００７１】「合成例３０ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルマルチトールとアクリル酸アミドの共重合）」合
成例１で得られたビニルベンジルマルチトール１．６５
ｇ、アクリル酸アミド１．０ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤ
ＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一晩撹拌
した。メタノール２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫
で冷やしておいたメタノール中に注加した。生じた沈殿
物をろ過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥した。

【００７２】「合成例３１ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルソルビトールとイソブチレンの共重合）」合成例
２で得られたビニルベンジルソルビトール１．６５ｇ、
イソブチレン１．０ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０
ｍｌに溶解し、窒素気流下５０℃にて一晩撹拌した。メ
タノール ２ｍｌ、水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で冷や
しておいたメタノール中に注加した。生じた沈殿物をろ
過し、メタノールで洗浄した後、凍結乾燥した。

【００７３】「合成例３２ ポリマーの合成（ビニルベ
ンジルソルビトールとイソブチレンとスチレンの共重
合）」合成例２で得られたビニルベンジルソルビトール
１．６５ｇ、イソブチレン０．５ｇ、スチレン０．５
ｇ、ＡＩＢＭ１０ｍｇをＤＭＦ１０ｍｌに溶解し、窒素
気流下５０℃にて一晩撹拌した。メタノール ２ｍｌ、
水５ｍｌを加え、予め冷蔵庫で冷やしておいたメタノー
ル中に注加した。生じた沈殿物をろ過し、メタノールで
洗浄した後、凍結乾燥した。

【００７４】「試験例１ 加水分解安定性試験」各試料
の１％水溶液を９０℃で５時間加熱し、冷却後、水溶液
の一定量を取り、エチルエーテルで抽出し、その抽出物
のガスクロマトグラムから分解物を求めた。結果を表１
に示す。

【表１】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 試料 残存量 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 試料１ 合成例１ （ビニルベンジルマルチトール） １００％ 試料２ 合成例２４（ビニルベンジルマルチトールとアクリル酸 オクチルの共重合） １００ 試料３ 合成例２５（ビニルベンジルマルチトールとＭＭＡ の共重合） １００ 試料４ ＰＯＥメタクリル酸共重合体 １００ 試料５ ＰＯＥアクリル酸オクチル共重合体 ９５ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− ［表１］のように、本発明の試料１、試料２、試料３及
びＰＯＥメタクリル酸共重合体（試料４）は、加水分解
は、認められなかった。一方、ＰＯＥアクリル酸オクチ
ル共重合体（試料５）は、同一条件で、約５％のエステ
ル基の分解が認められた。

【００７５】「試験例２ ホルマリン発生試験」各試料
を８０℃で１００時間加熱し、冷却後、５ｇを取り、そ
の後、水５００ｍｌ及び薄めたリン酸３ｍｌを加えてか
ら蒸留し、留出量が１９０ｍｌになった時点で蒸留をや
め、水にくわえて２００ｍｌとし、これを試験溶液とし
て用いた。この試験溶液１０ｍｌを取り、アセチルアセ
トン５ｍｌを加えて振り混ぜ、６０℃の水浴中で１０分
間加熱した。冷却後、波長４２０ｎｍ付近の極大吸収波
長における吸光度を測定した。結果を「表２」に示す。

【表２】 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 試料 ホルマリン量 −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 試料１ 合成例１ （ビニルベンジルマルチトール） ０％ 試料２ 合成例２４（ビニルベンジルマルチトールとアクリル酸 オクチルの共重合） ０ 試料３ 合成例２５（ビニルベンジルマルチトールとＭＭＡ の共重合） ０ 試料４ ＰＯＥメタクリル酸共重合体 １５ 試料５ ＰＯＥアクリル酸オクチル共重合体 １３ −−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−−− 「表２」に示すように、本発明の試料１、試料２、試料
３には、ホルマリン（アルデヒド）の存在は、認められ
なかった。一方、ＰＯＥアクリル酸オクチル共重合体
（試料４）、ＰＯＥメタクリル酸共重合体（試料５）
は、ホルマリン（アルデヒド）の存在が認められた。

【００７６】「試験例３ 防曇効果試験」各試料を１ｃ
ｍｘ１０ｃｍの厚さ１ｍｍのガラス板の片面に１ｍｌ塗
布し、その光透過度により、防曇効果を試験した。試験
方法は、恒温恒湿室にて行い、それぞれ、温度を４℃〜
５０℃まで試験した。その結果、本発明の試料１（合成
例１３：ビニルベンジルマルチトールの重合体）、試料
２（合成例１４：ビニルベンジルソルビトールの重合
体）、試料３（合成例２５：ビニルベンジルマルチトー
ルとＭＭＡの共重合体） は、高温でも防曇効果を効果
を示したのに対し、ＰＯＥメタクリル酸共重合体、ＰＯ
Ｅアクリル酸オクチル共重合体は、高温で白濁するとい
う現象を示した。

【００７７】「試験例４ 吸水性試験」各試料をそれぞ
れ１０ｇを１ｃｍｘ１０ｃｍの厚さ１０ｍｍに成型し、
２５℃湿度６０％と、５０℃湿度６０％の中で重量の増
加を測定することにより、吸水性を試験した。その結
果、本発明の試料１（合成例１３：ビニルベンジルマル
チトールの重合体）、試料２（合成例１４：ビニルベン
ジルソルビトールの重合体）、試料３（合成例２５：ビ
ニルベンジルマルチトールとＭＭＡの共重合体）は、高
温でも吸水性を示したのに対し、ＰＯＥメタクリル酸共
重合体、ＰＯＥアクリル酸オクチル共重合体は、高温で
放水するという現象を示した。

【００７８】「試験例５ グルコシターゼによる分解試
験」各試料を１ｃｍｘ１０ｃｍの厚さ１ｍｍのガラス板
に全体に２ｍｌ塗布し、それを、グリコシターゼとＡＴ
Ｐの水溶液に浸し、一晩浸した後、水で洗浄し、凍結乾
燥をしたものの重量を測定し、その差から、分解両を測
定した。セルロースを塗布したものは、分解していた
が、本発明の試料１（合成例１３：ビニルベンジルマル
チトールの重合体）、試料２（合成例１４：ビニルベン
ジルソルビトールの重合体）、試料３（合成例２５：ビ
ニルベンジルマルチトールとＭＭＡの共重合体）を塗布
したものは、分解を殆ど起こしていなかった。

【００７９】次ぎに、本発明の皮膚外用剤の実施例を例
示する。

【００８０】「実施例１ 化粧水」次の処方に従い、定
法により、化粧水を製造した。 （１）ポリビニルマルチトール アクリル酸オクチル共重合体 ０．１％ （２）グリセリン ３．０ （３）プロピレングリコール ４．０ （４）オレイルアルコール ０．１ （５）各種活性剤試料 １．５ （６）エタノール １０．０ （７）香 料 適 量 （８）エチルパラベン 適 量 （９）イオン交換水 残 余

【００８１】「実施例２ 化粧水」次の処方に従い、定
法により、化粧水を製造した。 （１）ポリビニルソルビトール アクリル酸オクチル共重合体 ０．１％ （２）グリセリン ３．０ （３）プロピレングリコール ４．０ （４）オレイルアルコール ０．１ （５）各種活性剤試料 １．５ （６）エタノール １０．０ （７）香 料 適 量 （８）エチルパラベン 適 量 （９）イオン交換水 残 余

【００８２】また、上記実施例１、２の化粧水は０℃、
５０℃に１ケ月放置しても白濁せず、安定であり、アル
デヒドの存在も認められなかったが、本発明の糖系高分
子の代りにポリエチレングリコール（ＰＥＧ）ラウリン
酸エステルを用いたものでは、５０℃に１ケ月放置する
と、アルデヒドの存在が認められた。以上のことから本
発明の糖系高分子は経時で酸化を受けることなく、低分
子量のアルデヒドや有機酸を発生せず、変臭や皮膚刺激
の原因となったり、ｐＨの低下を起こすという問題点を
有さない。また、ｐＨが中性からはずれている皮膚外用
剤の成分として用いた場合にも、エーテル結合は分解さ
れず、経日安定性や安全性に問題を生じない。

【００８３】「実施例３ 洗浄料」次の処方に従い、定
法により、洗浄料を製造した。 （１）ポリビニルベンジルメチルグリコシド メタクリル酸共重合体 ０．５％ （２）ポリオキシエチレン（３モル） ２０．０ ラウリル硫酸ナトリウム （３）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアマイド ５．０ （４）エタノール ２．０ （５）香 料 適 量 （６）エチルパラベン 適 量 （７）色素 適 量 （８）イオン交換水 残 余

【００８４】「実施例４ 液体洗浄剤」次の処方に従
い、定法により、液体洗浄剤を製造した。 （１）ポリビニルベンジルイソステアリルグリコシド ２．０％ （２）ポリオキシエチレン（３モル） ２５．０ ラウリルエーテル硫酸ナトリウム （３）ジアセテアリルジメチルアンモニウムクロライド １２．０ （４）香 料 適 量 （５）エチルパラベン 適 量 （６）イオン交換水 残 余

【００８５】「実施例５ ボディソープ」次の処方に従
い、定法により、ボディソープを製造した。 （１）ヒドロキシカルボン酸ラウリルエーテル ５．０％ （２）ポリオキシエチレン（３モル） １５．０ ラウリルエーテル硫酸ナトリウム （３）ポリオキシエチレン（１５モル）ラウリルエーテル ２．０ （４）ラウリルアミドプロピルベタイン ５．０ （５）エタノール ２．０ （６）ポリビニルベンジルマルチトール メタクリル酸共重合体 １．０ （７）香 料 適 量 （８）色素 適 量 （９）イオン交換水 残 余

【００８６】「実施例６ 練りハミガキ」次の処方に従
い、定法により、練りハミガキを製造した。 （１）ポリビニルベンジルマルチトール １．０％ （２）炭酸マグネシウム ４０．０ （３）グリセリン ４０．０ （４）甘味料 適 量 （５）防腐剤 適 量 （６）香 料 適 量 （５）色素 適 量 （６）イオン交換水 残 余

【００８７】「実施例７ シャンプー」次の処方に従
い、定法により、シャンプーを製造した。 （１）ポリビニルベンジルソルビトール １．０％ （２）エチレングリコール脂肪酸エステル ２．０ （３）ラウリルスルホベタイン ２０．０ （４）ラウリン酸ジエタノールアマイド ５．０ （５）プロピレングリコール ２．０ （６）香 料、色剤 適 量 （７）イオン交換水 残 余 本処方で製造したシャンプーは、毛髪、頭皮への刺激が
低く、しかも気泡性に優れ、べとつきもなく使用性にす
ぐれていた。また、洗浄後、スタイリングし易いという
特徴があった。

【００８８】「実施例８ ボデイ シャンプー」次の処方
に従い、定法により、ボデイ シャンプーを製造した。 （１）ポリベンジルマルチトール メタクリル酸共重合体 ０．２％ （２）グリセリン ５．０ （３）ラウリルスルホンコハク酸ナトリウム ７．０ （４）ラウリン酸トリエタノールアミン ７．０ （５）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアマイド ６．０ （６）キレート剤 ０．１ （７）香 料、色剤 適 量 （８）イオン交換水 残 余 本処方で製造したボデイ シャンプーは、皮膚への刺激が
低く、しっとりとした洗い上がりであった。

【００８９】「実施例９ ボディシャンプー」次の処方
に従い、定法により、ボディシャンプーを製造した。 （１）ヒドロキシカルボン酸ラウリルエーテル １５．０％ （２）グリセリン ５．０ （３）ソルビトール ２．０ （４）アシルグルタミン酸トリエタノールアミン塩 ５．０ （５）ヤシ油脂肪酸ジエタノールアマイド ３．０ （６）キレート剤 ０．１ （７）ポリビニルベンジルマルチトール アクリル酸オクチル共重合体 ０．２ （８）香 料、色剤 適 量 （９）イオン交換水 残 余 本処方で製造したボデイ シャンプーは、皮膚への刺激が
低く、しっとりとした洗い上がりであった。

【００９０】「実施例１０ 衣料用液体洗浄剤」次の処
方に従い、定法により、衣料用液体洗浄剤を製造した。 （１）ポリビニルベンジルオクチルグリコシド １．０％ （２）ＰＯＥ（３モル）ラウリルエーテル硫酸ナトリウム １５．０ （３）ＰＯＥ（３モル）アルキルエーテル １５．０ （４）ジアステアリルジメチルアンモニウムクロライド １２．０ （５）アプロチニン ０．５ （６）漂白剤 適 量 （７）イオン交換水 残 余 本発明の衣料用洗浄剤は、安全性が高く、洗い上がりの
使用感にも優れ、かつ洗浄力もすぐれていた。

【００９１】「実施例１１ 固形セッケン」次の処方に
従い、定法により、固形セッケンを製造した。 （１）ポリビニルベンジルイソステアリルグリコシド メタクリル酸共重合体 ３．０％ （２）牛脂 ２０．０ （３）ヤシ油 １２．０ （４）ヒマシ油 ５．０ （５）オリーブ油 ３．０ （６）苛性ソーダ ６．０ （７）エタノール ２０．０ （８）グリセリン ５．０ （９）ショ糖 １０．０ （１０）シクロヘキシルグアニジン ３．０ （１１）ＥＤＴＡ ０．１ （１２）色素 適 量 （１３）イオン交換水 残 余 本発明の固形せっけんは、皮膚に対して安全性が高く、
しっとりとした洗い上がりでかつ洗浄力もすぐれてい
た。

【００９２】「実施例１２ 液体セッケン」次の処方に
従い、定法により、液体セッケンを製造した。 （１）ポリビニルベンジルマルチトール アクリル酸イソプロピル共重合体 １．０％ （２）ラウリン酸 ３．０ （３）ミリスチン酸 ８．０ （４）パルミチン酸 ４．０ （５）オレイン酸 ３．５ （６）苛性カリ ３．０ （７）ラウロイルジエタノールアマイド ７．０ （８）グリセリン ４．０ （９）ショ糖 ５．０ （１０）プロピレングリコール １１．０ （１１）ＥＤＴＡ ０．１ （１２）Ｐ−アミノベンザミジン １．０ （１３）香料 適 量 （１４）イオン交換水 残 余 本発明の液体せっけんは、皮膚に対して安全性が高く、
しっとりとした洗いあがりで、かつ洗浄力もすぐれてい
た。

【００９３】「実施例１３ 台所用洗剤」次の処方に従
い、定法により、液体セッケンを製造した。 （１）ポリビニルベンジルソルビトール メタクリル酸共重合体 １．０％ （２）α−オレインスルホン酸ナトリウム ２２．０ （３）ＰＯＥ（１５モル）アルキルエーテル １０．０ （４）ラウリルアミドプロピルベタイン ６．０ （５）エタノール １．５ （６）香料、色素 適 量 （７）イオン交換水 残 余 本発明の台所用洗剤は、皮膚に対して安全性が高く、使
用した後の手の荒れも少なく、かつ洗浄力もすぐれてい
た。

【００９４】「実施例１４ 台所用洗剤」次の処方に従
い、定法により、液体セッケンを製造した。 （１）ポリビニルベンジルマルチトール ポリビニルマルトトリイトール共重合体 １．０％ （２）Ｎ−ラウロイルグルタミン酸モノナトリウム ２５．０ （３）ＰＯＥ（１５モル）アルキルエーテル １０．０ （４）ラウリルジメチルアミンアキシド ９．０ （５）香料、色素 適 量 （６）イオン交換水 残 余 本発明の台所用洗剤は、皮膚に対して安全性が高く、使
用した後の手の荒れも少なく、かつ洗浄力もすぐれてい
た。

【００９５】 「実施例１５ 乳液」 （１）ステアリン酸 ２．０％ （２）セチルアルコール ０．８ （３）スクアラン １０．０ （４）ワセリン ２．０ （５）ラノリン ２．０ （６）酢酸α−トコフェロール ０．０５ （７）香料 適 量 （８）ポリビニルソルビトール スチレン共重合体 １．０ （９）プロピレングリコール ５．０ （１０）トリエタノールアミン １．０ （１１）カルボキシビニルポリマー ０．１ （１２）イオン交換水 残 余 （製法）（１）〜（７）を７０℃〜７５℃にて加熱溶解
する。（８）〜（１２）を７０℃〜７５℃にて加熱溶解
し、撹拌を続けながらこれに前記（１）〜（７）の混合
物を徐々に添加し乳化させる。さらに、乳化機にて処理
後３０℃まで冷却し水中油型乳液を得た。この乳液は皮
膚に塗布した場合コクのある使用感であった。又０℃、
２５℃、５０℃で１月間放置しても分離なく安定であっ
た。

【００９６】 「実施例１６ 乳化ファンデーション」 （１）１，３−ブチレングリコール ４．５％ （２）ベントナイト １．１ （３）ポリビニルソルビトール メタクリル酸共重合体 １．０ （４）水酸化カリウム ０．１ （５）ワセリン ２．２ （６）流動パラフィン １１．０ （７）セタノール ２．５ （８）モノオレイルグリセリルエーテル ２．５ （９）ミリスチン酸イソプロピル ２．５ （１０）防腐剤 適 量 （１１）香料 適 量 （１２）酸化チタン １０．０ （１３）イオン交換水 残 余 （製法）（１３）中に（１）〜（４）を加えて加熱撹拌
し水相とする。（５）〜（１１）を加熱撹拌溶解し油相
とする。（１２）を水相中に添加し、撹拌混合した後、
油相を加えて乳化する。これを室温まで冷却して乳化フ
ァンデーションを得た。この乳化ファンデーションは、
コクのある良好な使用感であった。又０℃、２５℃、５
０℃で１月間放置しても分離なく安定であった。

【００９７】 「実施例１７ 下地クリーム」 （１）ステアリン酸 ０．９％ （２）ステアリルアルコール １．６ （３）メチルポリシロキサン ２．４ （４）ワセリン ３．０ （５）流動パラフィン ７．０ （６）バチルアルコール １．３ （７）香料 適 量 （８）防腐剤 適 量 （９）ポリビニルベンジルマルチトール アクリル酸イソプロピル共重合体 １．０ （１０）カルボキシビニルポリマー 適 量 （１１）グリセリン ５．０ （１２）エタノール ７．０ （１３）イオン交換水 残 余 （１４）水酸化カリウム ０．１ （製法）（９）〜（１３）を加えて加熱撹拌後、（１
４）を加えて水相とする。（１）〜（８）を加熱撹拌溶
解し油相とする。水相中に油相を徐々に加えて乳化し、
冷却し下地クリームを得た。この下地クリームは、コク
のある良好な使用感で、化粧くずれを起こさず、しっと
りとした感触であった。又０℃、２５℃、５０℃で１月
間放置しても分離なく安定であった。

【００９８】 「実施例１８ 口紅」 （１）ヒマシ油 ４５．０％ （２）ヘキサデシルアルコール ２５．０ （３）ラノリン ４．０ （４）ミツロウ ４．０ （５）オゾケナイト ４．０ （６）キャンデリラロウ ６．０ （７）カルナバロウ ２．０ （８）ポリビニルベンジルソルビトール シリコーン共重合体 １．０ （９）酸化防止剤 適 量 （１０）防腐剤 適 量 （１１）酸化チタン ２．０ （１２）赤色２０２号 ０．５ （１３）赤色２０４号 ２．５ （１４）赤色２２７号ＡＩキレート ２．５ （１５）橙色２０１号 ０．２ （１６）香料 適 量 （製法）（１）〜（１０）を加えて加熱撹拌し均一に混
ぜる。これに（１１）〜（１５）を加え、ロールミルで
練り均一に分散させた後。再び融解して（１６）を加え
脱泡してから型に流し込み急冷してかためる。固まった
ものを型から取り出し、容器に装填する。この口紅は、
皮膚に塗布した場合良好な使用感触で又０℃、２５℃、
５０℃で１月間放置しても分離なく安定であった。

【００９９】 「実施例１９ クリーム」 （１）ステアリン酸 ０．５％ （２）ステアリルアルコール １．０ （３）メチルポリシロキサン ２．０ （４）ワセリン ２．０ （５）流動パラフィン ５．０ （６）バチルアルコール １．５ （７）香料 適 量 （８）防腐剤 適 量 （９）ポリビニルベンジルソルビトール アクリル酸イソプロピル共重合体 １．０ （１０）カルボキシビニルポリマー 適 量 （１１）グリセリン ５．０ （１２）エタノール ７．０ （１３）イオン交換水 残 余 （１４）水酸化カリウム ０．１ （製法）（９）〜（１３）を加えて加熱撹拌後、（１
４）を加えて水相とする。（１）〜（８）を加熱撹拌溶
解し油相とする。水相中に油相を徐々に加えて乳化し、
冷却しクリームを得た。このクリームは、コクのある良
好な使用感であった。又０℃、２５℃、５０℃で１月間
放置しても分離なく安定であった。

【０１００】 「実施例２０ 化粧水」 （１）グリセリン ３．０％ （２）プロピレングリコール ４．０ （３）オレイルアルコール ０．１ （４）ポリビニルベンジルマルチトール ビニル酢酸イソプロピルエステル共重合体 １．０ （５）エタノール １０．０ （６）香料 適 量 （７）防腐剤 適 量 （８）イオン交換水 残 余 （製法）定法にて製造した。コクのある良好な使用感で
あった。又０℃、２５℃、５０℃で１月間放置しても白
濁なく安定であった。

【０１０１】 「実施例２１ 酸性染毛料」 （１）黒色−４０１号 ０．２％ （２）紫色−４０１号 ０．３ （３）黄色−４号 ０．１ （４）ポリビニルベンジルソルビトール メタクリル酸共重合体 ０．５ （５）ベンジルアルコール ５．０ （６）キサンタンガム ２．０ （７）ベントナイト（クニビアＧ、クニミネ工業社製） １．０ （８）テトラヒドロフルフリルアルコール １２．０ （９）クエン酸 ２．０ （１０）ケラチン加水分解物 ０．１ （１１）香料 適 量 （１２）イオン交換水 残 余 （製法）定法にて製造した染毛料は、適当な粘度を得
て、匂いもなく頭髪からのタレ落ちもなく頭皮に対し低
刺激であった上、染めムラもなく、使用感も良好で、泡
立ちも良く、しっとりするという感触があった。

【０１０２】「実施例２２ 酸化染毛料」 第１剤 （１）プロピレングリコール １０．０％ （２）ＰＥＧ−４００ １０．０ （３）イソプロパノール ５．０ （４）ポリビニルベンジルマルチトール ビニルベンジルマルトトリイトール ビニルベンジルマルトテトライトール メタクリル酸共重合体 １．０ （５）エマーレックスＯＰ−５ ２５．０ （６）ナトリウムハイドロサルファイト ０．１ （７）Ｌ−アスコルビン酸 ０．５ （８）ＥＤＴＡ ０．５ （９）アンモニア水 ６．０ （１０）パラフェニレンジアミン １．０ （１１）レゾルシン １．０ （１２）メタアミノフェノール ０．１ （１３）メタフェニレンジアミン ０．０１ （１４）香料 適 量 （１５）イオン交換水 残 余 第２剤 （１）過酸化水素３０％ １５．０ （２）リン酸緩衝液 ｐＨ３に調製 （３）メチルパラベン ０．１ （４）スズ酸ナトリウム ０．１ （５）ＥＤＴＡ・２Ｎａ ０．２ （６）イオン交換水 残 余 （製法）定法にて製造した染毛料は、適当な粘度を得
て、匂いもなく頭髪からのタレ落ちもなく頭皮に対し低
刺激であった上、染めムラもなく、使用感も良好で、泡
立ちも良く、しっとりするという感触があった。

【０１０３】

【発明の効果】本発明の糖系高分子用モノマーは、容易
に収率良く合成することができ、反応性良く、容易に重
合することができ、また、他のモノマーと容易に共重合
することができる。

【０１０４】また、本発明の糖系高分子用モノマーを重
合もしくは他のモノマーと共重合することにより得られ
る本発明の糖系高分子は、化学的に安定で、温度による
ＨＬＢの依存性が低く、皮膚や眼に対し極めて低刺激性
であるため、医薬品、医薬部外品及び化粧料などの皮膚
外用剤に配合でき、この場合、しっとりしてコクのある
使用感を得るという優れた効果を提供する。

【０１０５】さらに、本発明の糖系高分子は、優れた性
能を有する防曇被膜剤、医療器具用コーティング剤及び
高分子吸水剤に利用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】合成例１で製造したビニルベンジルマルチトー
ルの¹³Ｃ−ＮＭＲのスペクトルである。

【図２】合成例１３で製造したポリビニルベンジルマル
チトールの赤外吸収スペクトルである。

【図３】合成例１３で製造したポリビニルベンジルマル
チトールの¹Ｈ−ＮＭＲのスペクトルである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ６１Ｋ 7/16 Ａ６１Ｋ 7/16 7/50 7/50 Ｃ０７Ｈ 15/18 Ｃ０７Ｈ 15/18 Ｃ０８Ｂ 37/16 Ｃ０８Ｂ 37/16 Ｃ０８Ｆ 12/22 ＭＪＹ Ｃ０８Ｆ 12/22 ＭＪＹ 112/14 ＭＪＴ 112/14 ＭＪＴ Ｃ０９Ｄ 125/18 Ｃ０９Ｄ 125/18 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｃ０９Ｋ 3/00 Ｎ 3/18 3/18

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式「化１」で表される糖系高分
   子用モノマー。 【化１】 （式中、Ａは糖アルコールもしくはアルキルグリコシド
   類もしくはサイクロデキストリン類からｎ個の水酸基を
   除いた残基。ｎは、ビニルベンジル基の平均付加モル数
   を表し、１以上の数を表す。）
2. 【請求項２】 下記一般式「化２」で表される高分子単
   位を有する糖系高分子。 【化２】 （式中、Ａは糖アルコールもしくはアルキルグリコシド
   類もしくはサイクロデキストリン類からｎ個の水酸基を
   除いた残基。ｎは、ビニルベンジル基の平均付加モル数
   を表し、１以上の数を表す。ｍは平均重合度を表し１以
   上の数を表す。）
3. 【請求項３】 前記糖系高分子が、請求項１記載の糖系
   高分子用モノマーの一種又は二種以上を重合するか又は
   これらと他のモノマーを共重合して得られる請求項２記
   載の糖系高分子。
4. 【請求項４】 請求項２又は３記載の糖系高分子の一種
   又は二種以上を含有することを特徴とする皮膚外用剤。
5. 【請求項５】 請求項１記載の糖系高分子用モノマーの
   一種又は二種以上、又は請求項２又は３記載の糖系高分
   子の一種又は二種以上を含有すること特徴とする防曇被
   膜剤。
6. 【請求項６】 請求項１記載の糖系高分子用モノマーの
   一種又は二種以上、又は請求項２又は３記載の糖系高分
   子の一種又は二種以上を含有すること特徴とする医療器
   具用コーティング剤。
7. 【請求項７】 請求項２又は３記載の糖系高分子の一種
   又は二種以上を含有することを特徴とする高分子吸水
   剤。