JPH0931055A - アゼチジノン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
アゼチジノン誘導体及びその製造方法Info
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- JPH0931055A JPH0931055A JP7205293A JP20529395A JPH0931055A JP H0931055 A JPH0931055 A JP H0931055A JP 7205293 A JP7205293 A JP 7205293A JP 20529395 A JP20529395 A JP 20529395A JP H0931055 A JPH0931055 A JP H0931055A
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【解決手段】 一般式[I]
(但し、Rは水酸基の保護基を示し、R1 は水素原子ま
たは低級アルキル基を示し、R2 はカルボキシル基の保
護基を示し、R3 は直鎖または分枝状のアルキル基を示
し、R4 は非置換または置換のアリール基、直鎖または
分枝状のアルキル基を示す。)で表されるアゼチジノン
誘導体ならびにその製造方法。 【効果】 式[I]の化合物は簡便に製造でき、カルバ
ペネム系化合物製造における重要中間体に容易に変換で
きる。
たは低級アルキル基を示し、R2 はカルボキシル基の保
護基を示し、R3 は直鎖または分枝状のアルキル基を示
し、R4 は非置換または置換のアリール基、直鎖または
分枝状のアルキル基を示す。)で表されるアゼチジノン
誘導体ならびにその製造方法。 【効果】 式[I]の化合物は簡便に製造でき、カルバ
ペネム系化合物製造における重要中間体に容易に変換で
きる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカルバペネム系化合物の
合成原料として有用な新規アゼチジノン誘導体に関す
る。
合成原料として有用な新規アゼチジノン誘導体に関す
る。
【0002】
【従来の技術】カルバペネム系化合物合成中間体として
一般式[IV]
一般式[IV]
【化4】 (但し、r1 は水酸基の保護基または水素原子を示し、
R1 は水素原子またはアルキル基を示し、R2 はカルボ
キシル基の保護基を示し、r2 は脱離基を示す。)で表
されるエノールエステル化合物及び一般式[V]
R1 は水素原子またはアルキル基を示し、R2 はカルボ
キシル基の保護基を示し、r2 は脱離基を示す。)で表
されるエノールエステル化合物及び一般式[V]
【化5】 (但し、r1 、R1 、R2 は前記と同じ意味を示す。)
で表されるケトエステル化合物の重要性は広く認識され
ている。
で表されるケトエステル化合物の重要性は広く認識され
ている。
【0003】これらの製造方法としては下記のものが知
られている。 方法(1)Tetrahedron Letters,
30,1345 (1989).,EP597423.
られている。 方法(1)Tetrahedron Letters,
30,1345 (1989).,EP597423.
【化6】 方法(2)特開昭57−123182、特開平6−29
3767、特開昭62−103084.
3767、特開昭62−103084.
【化7】 方法(1)では[VII ]の工業的に好ましい製造方法が
なく、(2)は[V]までの反応工程数が多く不利であ
る。
なく、(2)は[V]までの反応工程数が多く不利であ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは[IV]及び
[V]の工業的に有利な製造法について鋭意研究した結
果、本発明を完成した。即ち本発明は一般式[I]
[V]の工業的に有利な製造法について鋭意研究した結
果、本発明を完成した。即ち本発明は一般式[I]
【化8】 (但し、R、R1 、R2 は前記と同じ意味を示し、R3
は直鎖または分枝状のアルキル基を、R4 は非置換また
は置換のアリール基、直鎖または分枝状のアルキル基を
示す。)で表されるアゼチジノン誘導体及びその製造方
法である。
は直鎖または分枝状のアルキル基を、R4 は非置換また
は置換のアリール基、直鎖または分枝状のアルキル基を
示す。)で表されるアゼチジノン誘導体及びその製造方
法である。
【0005】この一般式[I]で表されるアゼチジノン
誘導体は塩基と処理することにより容易に一般式
[V′]
誘導体は塩基と処理することにより容易に一般式
[V′]
【化9】 (但し、R、R1 、R2 は前記と同じ意味を示す。)で
表されるケトエステル化合物に変換することができる。
表されるケトエステル化合物に変換することができる。
【0006】さらに、本発明者等が見出した製造法によ
って[V′]を容易に一般式[V″]
って[V′]を容易に一般式[V″]
【化10】 (但し、R1 、R2 は前記と同じ意味を示す。)や[IV
(r1 =H)]で表されるヒドロキシ化合物に誘導可能
である。本発明においてRはシリル基で水酸基の保護基
であり、特に制限ないが原料の入手しやすさシリル化生
成物の安定性などからt−ブチルジメチルシリル基が一
般的である。
(r1 =H)]で表されるヒドロキシ化合物に誘導可能
である。本発明においてRはシリル基で水酸基の保護基
であり、特に制限ないが原料の入手しやすさシリル化生
成物の安定性などからt−ブチルジメチルシリル基が一
般的である。
【0007】R1 は水素原子または直鎖状乃至分枝状の
低級アルキル基を示すが水素原子またはメチル基が一般
的である。R2 で示されるカルボキシル基の保護基とし
ては非置換または置換アルキル基、非置換または置換ア
リル基、非置換または置換ベンジル基が好適である。非
置換アルキル基としてはメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基が、また置換アルキル基としてはメトキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、テトラヒドロピラニル基等
が適当である。置換アリル基の具体例としてはプレニル
基、シンナミル基等が挙げられる。置換ベンジル基の具
体例としては、パラクロロベンジル基、パラニトロベン
ジル基等が挙げられる。
低級アルキル基を示すが水素原子またはメチル基が一般
的である。R2 で示されるカルボキシル基の保護基とし
ては非置換または置換アルキル基、非置換または置換ア
リル基、非置換または置換ベンジル基が好適である。非
置換アルキル基としてはメチル基、エチル基等の低級ア
ルキル基が、また置換アルキル基としてはメトキシメチ
ル基、メチルチオメチル基、テトラヒドロピラニル基等
が適当である。置換アリル基の具体例としてはプレニル
基、シンナミル基等が挙げられる。置換ベンジル基の具
体例としては、パラクロロベンジル基、パラニトロベン
ジル基等が挙げられる。
【0008】R3 で示される直鎖状または分枝状のアル
キル基は特に限定されずに使用できる。かかるアルキル
基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、ネオペンチル基、シクロヘキシル
基等が挙げられるが、炭素数3〜6のアルキル基が好適
である。R4 で示される非置換または置換のアリール基
は原料として入手可能であれば特に制限されない。かか
る非置換アリール基の具体例を示すと、フェニル基、ナ
フチル基、アントラニル基等が挙げられる。また、置換
アリール基の置換基の種類は、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、シアノ基及びニトロ基が挙げられ
る。上記ハロゲン原子の具体例としては、フッ素、塩
素、臭素、沃素の各原子が挙げられる。上記アルキル基
としては、メチル基、エチル基等の低級アルキル基が好
適である。上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エ
トキシ基等が代表的である。置換アリール基の置換基の
数は1あるいは2であることが好ましく、置換基の数が
複数の場合はそれぞれの置換基は互いに同種または異種
であってもよい。直鎖状または分枝状のアルキル基の種
類は特に限定されないが、原料入手の容易さから、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、オクチ
ル基等が好適である。
キル基は特に限定されずに使用できる。かかるアルキル
基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、ネオペンチル基、シクロヘキシル
基等が挙げられるが、炭素数3〜6のアルキル基が好適
である。R4 で示される非置換または置換のアリール基
は原料として入手可能であれば特に制限されない。かか
る非置換アリール基の具体例を示すと、フェニル基、ナ
フチル基、アントラニル基等が挙げられる。また、置換
アリール基の置換基の種類は、ハロゲン原子、アルキル
基、アルコキシ基、シアノ基及びニトロ基が挙げられ
る。上記ハロゲン原子の具体例としては、フッ素、塩
素、臭素、沃素の各原子が挙げられる。上記アルキル基
としては、メチル基、エチル基等の低級アルキル基が好
適である。上記アルコキシ基としては、メトキシ基、エ
トキシ基等が代表的である。置換アリール基の置換基の
数は1あるいは2であることが好ましく、置換基の数が
複数の場合はそれぞれの置換基は互いに同種または異種
であってもよい。直鎖状または分枝状のアルキル基の種
類は特に限定されないが、原料入手の容易さから、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、オクチ
ル基等が好適である。
【0009】一般式[I]で表される本発明化合物は下
記反応式に従って製造することができる。
記反応式に従って製造することができる。
【化11】 (式中、Xはハロゲン原子を示す。) 反応は窒素気流下、アゼチジノン4−アルキル体とこれ
の1〜2当量好ましくは1.2〜1.5当量の一般式
[III ]で表されるハロ酢酸エステルのDMF、TH
F、トルエンなどの不活性溶媒溶液に[III ]と等モル
のナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブトキシ
ド、ジムシルナトリウム、水素化ナトリウムもしくはナ
トリウムビス(トリメチルシリル)アミド等の塩基を−
78〜0℃好ましくは−50〜−40℃で添加し2〜3
時間行う。反応終了後は通常の後処理をすることによ
り、目的物を単離することができる。原料の一般式[I
I]で表される化合物は例えば下記反応式に従って製造
することができる。
の1〜2当量好ましくは1.2〜1.5当量の一般式
[III ]で表されるハロ酢酸エステルのDMF、TH
F、トルエンなどの不活性溶媒溶液に[III ]と等モル
のナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブトキシ
ド、ジムシルナトリウム、水素化ナトリウムもしくはナ
トリウムビス(トリメチルシリル)アミド等の塩基を−
78〜0℃好ましくは−50〜−40℃で添加し2〜3
時間行う。反応終了後は通常の後処理をすることによ
り、目的物を単離することができる。原料の一般式[I
I]で表される化合物は例えば下記反応式に従って製造
することができる。
【化12】 以下実施例でアゼチジノン誘導体とその製造法について
示す。
示す。
【0010】実施例1(2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4R)−
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル
メチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミドの合成
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル
メチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミドの合成
【化13】 (2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4R)−
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミド(1.5g)と4−
ニトロベンジルブロモアセテイト(1.0g)のTHF
溶液(35ml)に−50℃、窒素気流下でt−ブトキ
シナトリウム(0.37g)を添加した。1時間撹拌
後、反応溶液を10%クエン酸水溶液(30ml)にあ
け、酢酸エチル(30ml)で2回抽出した。有機層を
水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精
製し、(2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4
R)−3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル]−1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニルメチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル}−
N−フェニルスルホニルプロピオンアミドの結晶0.9
gを得た(収率45%)m.p.71〜73℃。生成率
は76%であった。同様に製造した本発明化合物の代表
例を表−1に示す。
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミド(1.5g)と4−
ニトロベンジルブロモアセテイト(1.0g)のTHF
溶液(35ml)に−50℃、窒素気流下でt−ブトキ
シナトリウム(0.37g)を添加した。1時間撹拌
後、反応溶液を10%クエン酸水溶液(30ml)にあ
け、酢酸エチル(30ml)で2回抽出した。有機層を
水、飽和重曹水及び飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をシリカゲルクロ
マトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル=3/1)で精
製し、(2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4
R)−3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリル
オキシエチル]−1−(4−ニトロベンジルオキシカル
ボニルメチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル}−
N−フェニルスルホニルプロピオンアミドの結晶0.9
gを得た(収率45%)m.p.71〜73℃。生成率
は76%であった。同様に製造した本発明化合物の代表
例を表−1に示す。
【0011】参考例1(2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4R)−
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミドの合成
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミドの合成
【化14】 N−イソプロピル−N−(p−トリルスルホニル)プロ
ピオンアミド(5g)の塩化メチレン溶液(70ml)
に四塩化ジルコニウム(4.1g)を−5℃で添加し、
20分撹拌後ジイソプロピルエチルアミン(2.3g)
を加えた。20分撹拌した後(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−アゼチジノン(3.6g)を添
加した。室温で4時間撹拌後、塩化メチレン(50m
l)を加え水(200ml)にあけた。分液した有機層
をさらに水(200ml)で3回洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をヘキサン(50
ml)で晶析し(2R)−N−イソプロピル−2−
{(3S,4R)−3−[(1R)−1−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン−
4−イル}−N−フェニルスルホニルプロピオンアミド
の結晶4.0g(収率65%)m.p.135−137
℃を得た。同様に製造した原料化合物代表例を表−2に
示す。
ピオンアミド(5g)の塩化メチレン溶液(70ml)
に四塩化ジルコニウム(4.1g)を−5℃で添加し、
20分撹拌後ジイソプロピルエチルアミン(2.3g)
を加えた。20分撹拌した後(3R,4R)−4−アセ
トキシ−3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリ
ルオキシエチル]−2−アゼチジノン(3.6g)を添
加した。室温で4時間撹拌後、塩化メチレン(50m
l)を加え水(200ml)にあけた。分液した有機層
をさらに水(200ml)で3回洗浄後、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。溶媒を留去し、残渣をヘキサン(50
ml)で晶析し(2R)−N−イソプロピル−2−
{(3S,4R)−3−[(1R)−1−t−ブチルジ
メチルシリルオキシエチル]−2−オキソアゼチジン−
4−イル}−N−フェニルスルホニルプロピオンアミド
の結晶4.0g(収率65%)m.p.135−137
℃を得た。同様に製造した原料化合物代表例を表−2に
示す。
【0012】参考例2 ケトエステル体の合成(4R,5R,6S)−6−[(1R)−1−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル]−3,7−ジオキソ−
4−メチル−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタン
−2−カルボン酸・パラニトロベンジルエステルの合成
ルジメチルシリルオキシエチル]−3,7−ジオキソ−
4−メチル−1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプタン
−2−カルボン酸・パラニトロベンジルエステルの合成
【化15】 (2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4R)−
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル
メチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミド(5.0g)のテト
ラヒドロフラン溶液(80ml)に窒素気流下−50℃
でナトリウムt−ブトキシド(1.9g)を添加する。
1時間撹拌後10%リン酸水溶液250mlにあけ、酢
酸エチル150mlで2回抽出した。有機層を分液後ま
とめて硫酸マグネシウムで乾燥した。HPLCにて分析
したところ、有機層中には(4R,5R,6S)−6−
[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−3,7−ジオキソ−4−メチル−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプタン−2−カルボン酸・パラニト
ロベンジルエステル2.8g相当(収率80%)を含ん
でいた。この溶液状態で−20℃以下の温度で保存すれ
ばこの化合物は数週間は安定に保存できる。
3−[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシ
エチル]−1−(4−ニトロベンジルオキシカルボニル
メチル)−2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フ
ェニルスルホニルプロピオンアミド(5.0g)のテト
ラヒドロフラン溶液(80ml)に窒素気流下−50℃
でナトリウムt−ブトキシド(1.9g)を添加する。
1時間撹拌後10%リン酸水溶液250mlにあけ、酢
酸エチル150mlで2回抽出した。有機層を分液後ま
とめて硫酸マグネシウムで乾燥した。HPLCにて分析
したところ、有機層中には(4R,5R,6S)−6−
[(1R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチ
ル]−3,7−ジオキソ−4−メチル−1−アザビシク
ロ[3.2.0]ヘプタン−2−カルボン酸・パラニト
ロベンジルエステル2.8g相当(収率80%)を含ん
でいた。この溶液状態で−20℃以下の温度で保存すれ
ばこの化合物は数週間は安定に保存できる。
【0013】1H−NMR(CDCl3 ):δ 8.2
3(d,J=8.9Hz,2H),7.53(d,J=
8.9Hz,2H),5.33 and 5.25(e
ach d,J=13.5Hz,2H),4.72
(s,1H),4.34−4.23(m,2H),3.
25−3.22(m,1H),2.82−2.76
(m,1H),1.26(d,J=6.2Hz,3
H),1.21(d,J=7.8Hz,3H),0.8
6(s,9H),0.09(s,3H),0.08
(s,3H).
3(d,J=8.9Hz,2H),7.53(d,J=
8.9Hz,2H),5.33 and 5.25(e
ach d,J=13.5Hz,2H),4.72
(s,1H),4.34−4.23(m,2H),3.
25−3.22(m,1H),2.82−2.76
(m,1H),1.26(d,J=6.2Hz,3
H),1.21(d,J=7.8Hz,3H),0.8
6(s,9H),0.09(s,3H),0.08
(s,3H).
【0014】参考例3 エノールエステル体の合成(4R,5R,6S)−6−[(1R)−1−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル]−3−ジフェニルホス
ホリルオキシ−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
・アリルエステルの合成
ルジメチルシリルオキシエチル]−3−ジフェニルホス
ホリルオキシ−4−メチル−7−オキソ−1−アザビシ
クロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2−カルボン酸
・アリルエステルの合成
【化16】 (2R)−N−イソプロピル−2−{(3S,4R)−
1−(アリルオキシカルボニルメチル)−3−[(1
R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フェニルスル
ホニルプロピオンアミド(11.6g)のテトラヒドロ
フラン溶液(200ml)に窒素気流下−70℃でカリ
ウムt−ブトキシド(5.8g)を添加した。同温度で
ジフェニルホスホリルクロリド(9.8g)を1時間で
滴下後1時間撹拌し、さらに0℃で1時間反応させた。
リン酸緩衝液400ml(pH7)にあけ、n−ヘキサ
ンで抽出(80ml×2)した。有機層を2%重曹水溶
液と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒留去し残渣(17.4g)をHPLCにて分析
したところ、(4R,5R,6S)−6−[(1R)−
1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル]−3−ジ
フェニルホスホリルオキシ−4−メチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸・アリルエステルが7.4g(収率60
%)含まれていた。
1−(アリルオキシカルボニルメチル)−3−[(1
R)−1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル]−
2−オキソアゼチジン−4−イル}−N−フェニルスル
ホニルプロピオンアミド(11.6g)のテトラヒドロ
フラン溶液(200ml)に窒素気流下−70℃でカリ
ウムt−ブトキシド(5.8g)を添加した。同温度で
ジフェニルホスホリルクロリド(9.8g)を1時間で
滴下後1時間撹拌し、さらに0℃で1時間反応させた。
リン酸緩衝液400ml(pH7)にあけ、n−ヘキサ
ンで抽出(80ml×2)した。有機層を2%重曹水溶
液と飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。溶媒留去し残渣(17.4g)をHPLCにて分析
したところ、(4R,5R,6S)−6−[(1R)−
1−t−ブチルジメチルシリルオキシエチル]−3−ジ
フェニルホスホリルオキシ−4−メチル−7−オキソ−
1−アザビシクロ[3.2.0]ヘプト−2−エン−2
−カルボン酸・アリルエステルが7.4g(収率60
%)含まれていた。
【0015】
【表101】
【0016】
【表102】
【0017】
【表2】
【0018】
【発明の効果】本発明化合物は簡便に製造でき、参考例
2及び3からも明らかなように、カルバペネム系化合物
製造における重要中間体[IV]及び[V]に容易に変換
できる。
2及び3からも明らかなように、カルバペネム系化合物
製造における重要中間体[IV]及び[V]に容易に変換
できる。
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式[I] 【化1】 (但し、Rは水酸基の保護基を示し、R1 は水素原子ま
たは低級アルキル基を示し、R2 はカルボキシル基の保
護基を示し、R3 は直鎖または分枝状のアルキル基を示
し、R4 は非置換または置換のアリール基、直鎖または
分枝状のアルキル基を示す。)で表されるアゼチジノン
誘導体。 - 【請求項2】 一般式[II] 【化2】 (但し、R、R1 、R3 、R4 は前記と同じ意味を示
す。)で表されるアゼチジノン4−アルキル体と一般式
[III ] XCH2 COOR2 [III ] (但し、Xはハロゲン原子を示し、R2 は前記と同じ意
味を示す。)で表されるハロ酢酸エステルとを塩基の存
在下反応させることを特徴とする一般式[I] 【化3】 (但し、R、R1 、R2 、R3 、R4 は前記と同じ意味
を示す。)の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7205293A JPH0931055A (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | アゼチジノン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7205293A JPH0931055A (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | アゼチジノン誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0931055A true JPH0931055A (ja) | 1997-02-04 |
Family
ID=16504577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7205293A Pending JPH0931055A (ja) | 1995-07-19 | 1995-07-19 | アゼチジノン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0931055A (ja) |
-
1995
- 1995-07-19 JP JP7205293A patent/JPH0931055A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20051107 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060306 |