JPH09312038A - プリレコーデッド光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
プリレコーデッド光ディスクおよびその製造方法Info
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- JPH09312038A JPH09312038A JP8149725A JP14972596A JPH09312038A JP H09312038 A JPH09312038 A JP H09312038A JP 8149725 A JP8149725 A JP 8149725A JP 14972596 A JP14972596 A JP 14972596A JP H09312038 A JPH09312038 A JP H09312038A
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- information recording
- optical disk
- reflection film
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 短時間に製造ができ量産に適し、安価なコス
トで製造し得る光ディスクの構造およびその製造方法を
提供すること。 【解決手段】 透明な光ディスク基板１１、１３内にそ
の表面と平行に第１の情報記録ピット層が配置形成さ
れ、この第１の情報記録ピット層の表面を被覆するよう
に有機色素からなる低反射膜層１５が形成される。前記
第１の情報記録ピット層と離間しこれと平行に第２の情
報記録ピット層が配置形成され、この第２の情報記録ピ
ット層の表面を被覆するように金属からなる高反射膜層
１６が形成される。
トで製造し得る光ディスクの構造およびその製造方法を
提供すること。 【解決手段】 透明な光ディスク基板１１、１３内にそ
の表面と平行に第１の情報記録ピット層が配置形成さ
れ、この第１の情報記録ピット層の表面を被覆するよう
に有機色素からなる低反射膜層１５が形成される。前記
第１の情報記録ピット層と離間しこれと平行に第２の情
報記録ピット層が配置形成され、この第２の情報記録ピ
ット層の表面を被覆するように金属からなる高反射膜層
１６が形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は予め情報がピットの
形態で記録されたプリレコーデッド光ディスクおよびそ
の製造方法に関する。
形態で記録されたプリレコーデッド光ディスクおよびそ
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のこの種の光ディスクとしては、透
明な光ディスク基板の表面にスタンパーにより情報記録
ピットを形成し、その表面に、スパッタ装置により酸化
ケイ素あるいはチッ化ケイ素のようなケイ素化合物（Ｓ
ｉＸ）からなる低反射膜を形成し、他方、同じく透明な
光ディスク基板の表面にスタンパーにより情報記録ピッ
トを形成し、その表面に、金属からなる高反射膜を形成
し、これらの透明な光ディスク基板をそれぞれの前記情
報記録ピットが所定間隔を置いて向かい合うように透明
接着剤を介して接着した構造のプリレコーデッド光ディ
スクおよびその製造方法が知られている。
明な光ディスク基板の表面にスタンパーにより情報記録
ピットを形成し、その表面に、スパッタ装置により酸化
ケイ素あるいはチッ化ケイ素のようなケイ素化合物（Ｓ
ｉＸ）からなる低反射膜を形成し、他方、同じく透明な
光ディスク基板の表面にスタンパーにより情報記録ピッ
トを形成し、その表面に、金属からなる高反射膜を形成
し、これらの透明な光ディスク基板をそれぞれの前記情
報記録ピットが所定間隔を置いて向かい合うように透明
接着剤を介して接着した構造のプリレコーデッド光ディ
スクおよびその製造方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このような従来の光デ
ィスクは、低反射膜を構成するケイ素化合物（ＳｉＸ）
は誘電体であり、導電性がないため、スパッタ装置を高
出力パワーで放電動作させることが困難である。このた
め、成膜速度が遅く、製造時間が長くなる。また、ライ
ン化、量産化のためには高価な成膜スパッター室を多数
用意する必要があり、ライン化、量産化がむずかしい。
さらに、成膜工程でダストの発生が多くＳｉＸ膜のメン
テナンスに大変な労力を要すること、ＳｉＸ膜は貼合せ
時に接着剤がつきにくいため、中間膜を設ける必要があ
り、複雑な工程を要することなど、多くの欠点があっ
た。
ィスクは、低反射膜を構成するケイ素化合物（ＳｉＸ）
は誘電体であり、導電性がないため、スパッタ装置を高
出力パワーで放電動作させることが困難である。このた
め、成膜速度が遅く、製造時間が長くなる。また、ライ
ン化、量産化のためには高価な成膜スパッター室を多数
用意する必要があり、ライン化、量産化がむずかしい。
さらに、成膜工程でダストの発生が多くＳｉＸ膜のメン
テナンスに大変な労力を要すること、ＳｉＸ膜は貼合せ
時に接着剤がつきにくいため、中間膜を設ける必要があ
り、複雑な工程を要することなど、多くの欠点があっ
た。
【０００４】したがって本発明の目的は、これらの欠点
を除去し、短時間に製造ができ量産に適し、安価なコス
トで製造し得る光ディスクの構造およびその製造方法を
提供することにある。
を除去し、短時間に製造ができ量産に適し、安価なコス
トで製造し得る光ディスクの構造およびその製造方法を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、透明な
光ディスク基板と、この基板内にその表面と平行に配置
形成された第１の情報記録ピット層と、この第１の情報
記録ピット層の表面を被覆するように形成された有機色
素からなる低反射膜と、この低反射膜が形成された前記
第１の情報記録ピット層と離間しこれと平行に配置形成
された第２の情報記録ピット層と、この第２の情報記録
ピット層の表面を被覆するように形成された金属からな
る高反射膜とを備えたことを特徴とするプリレコーデッ
ド光ディスクが得られる。
光ディスク基板と、この基板内にその表面と平行に配置
形成された第１の情報記録ピット層と、この第１の情報
記録ピット層の表面を被覆するように形成された有機色
素からなる低反射膜と、この低反射膜が形成された前記
第１の情報記録ピット層と離間しこれと平行に配置形成
された第２の情報記録ピット層と、この第２の情報記録
ピット層の表面を被覆するように形成された金属からな
る高反射膜とを備えたことを特徴とするプリレコーデッ
ド光ディスクが得られる。
【０００６】また、本発明によれば、第１の透明な光デ
ィスク基板の表面にスタンパーにより情報記録ピットを
形成する工程と、この工程により形成された前記ピット
表面に、スピナーにより、有機色素が含まれた液を塗布
成膜して低反射膜層を形成する工程と、第２の透明な光
ディスク基板の表面にスタンパーにより情報記録ピット
を形成する工程と、この工程により形成された前記ピッ
ト表面にスパッターにより金属膜を成膜し高反射膜層を
形成する工程と、前記第１および第２の透明な光ディス
ク基板をそれぞれの前記情報記録ピットが所定間隔を置
いて向かい合うように透明接着剤を介して接着する工程
とを備えたことを特徴とするプリレコーデッド光ディス
クの製造方法が得られる。
ィスク基板の表面にスタンパーにより情報記録ピットを
形成する工程と、この工程により形成された前記ピット
表面に、スピナーにより、有機色素が含まれた液を塗布
成膜して低反射膜層を形成する工程と、第２の透明な光
ディスク基板の表面にスタンパーにより情報記録ピット
を形成する工程と、この工程により形成された前記ピッ
ト表面にスパッターにより金属膜を成膜し高反射膜層を
形成する工程と、前記第１および第２の透明な光ディス
ク基板をそれぞれの前記情報記録ピットが所定間隔を置
いて向かい合うように透明接着剤を介して接着する工程
とを備えたことを特徴とするプリレコーデッド光ディス
クの製造方法が得られる。
【０００７】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施形態を図面を用
いて説明する。図１は本発明のプリレコーデッド光ディ
スクの製造工程を示す図である。まず、それぞれ異なる
ディジタル情報をピット配列により記録するための第１
および第２のスタンパ１１、１２が用意される。これら
のスタンパは次のようにして作成される。最初に原盤が
作製されるが、この工程は、表面研磨されたガラス円板
（図示せず）上にホトレジストを塗布し、このガラス円
板回転させ、そこにレーザー光を絞り込み、電気光学素
子によって光を変調させながら信号を記録（露光）した
後、現像することにより２枚のディスク原盤を得る。こ
れらの２枚のディスク原盤は、互いに逆回転で露光して
いる。露光に使用するレーザ光源は、従来のＣＤ，ＬＤ
の露光に用いられていた青色レーザや、集光スポット径
がより小さくなる紫外線レーザを用いている。次に、こ
のようにして作成された原盤表面に導電性膜を形成した
後、Ｎｉめっきし、信号面を転写した金属板であるスタ
ンパを作製する。このようにして作製された第１および
第２のスタンパ１１、１２は次の複製工程で「型」とし
て用いられる。
いて説明する。図１は本発明のプリレコーデッド光ディ
スクの製造工程を示す図である。まず、それぞれ異なる
ディジタル情報をピット配列により記録するための第１
および第２のスタンパ１１、１２が用意される。これら
のスタンパは次のようにして作成される。最初に原盤が
作製されるが、この工程は、表面研磨されたガラス円板
（図示せず）上にホトレジストを塗布し、このガラス円
板回転させ、そこにレーザー光を絞り込み、電気光学素
子によって光を変調させながら信号を記録（露光）した
後、現像することにより２枚のディスク原盤を得る。こ
れらの２枚のディスク原盤は、互いに逆回転で露光して
いる。露光に使用するレーザ光源は、従来のＣＤ，ＬＤ
の露光に用いられていた青色レーザや、集光スポット径
がより小さくなる紫外線レーザを用いている。次に、こ
のようにして作成された原盤表面に導電性膜を形成した
後、Ｎｉめっきし、信号面を転写した金属板であるスタ
ンパを作製する。このようにして作製された第１および
第２のスタンパ１１、１２は次の複製工程で「型」とし
て用いられる。
【０００８】複製工程では、成型機（図示せず）を用
い、これらのスタンパ１１、１２に熱可塑性樹脂を流し
込みインジェクション成型により、ディジタル情報がピ
ット配列により記録された第１および第２のプラスチッ
ク基板１３、１４が形成される。すなわち、第１のプラ
スチック基板１３の表面にはスタンパ１１のピット配列
が転写されてなる第１の情報記録ピット層１３−１が形
成される。また、同様に、第２のプラスチック基板１４
の表面にはスタンパ１２のピット配列が転写されてなる
第２の情報記録ピット層１４−１が形成される。第１お
よび第２のプラスチック基板１３、１４を構成するプラ
スチック基板材料としてはＰＣ（ポリカーボネート），
ＰＭＭＡ（ポリメテルメタアクリレート）などが用いら
れ、それぞれの厚さは例えば、０．６ｍｍとする。第１
のプラスチック基板１３に対してはスピナーによりその
第１の情報記録ピット層１３−１の表面に有機色素膜１
５が成膜される。スピナーにより塗布する有機色素とし
ては例えば、インドリン系のシアニン色素を用い、この
３グラムをエチレングリコールモノエチルエーテル１０
０ミリリットルの溶剤に溶かし、光耐候性の添加剤を１
グラム添加した溶液を用いる。溶剤としてはエチレング
リコールモノエチルエーテルの他に、エチレングリコー
ルメチルエーテルあるいはヒドロキシメチルブタノンを
用いてもよい。スピナー内で回転テーブルの上に基板１
３を置き有機色素を含んだ溶液を基板１３上に滴下し、
回転テーブルを１００〜２００ｒｐｍの低速で２秒程回
転させ、その後に回転数を２０００〜２５００ｒｐｍに
上昇して溶液を振り切る。そしてこの基板１３を回転テ
ーブルより取出して塗布された溶液を硬化させる。紫外
線（ＵＶ）硬化型の液の場合はＵＶ光を照射して硬化さ
せ、溶剤型の液の場合乾燥により硬化させる。このよう
にして形成した有機色素膜による情報読出し用レーザー
ビームに対する反射率は、１５〜３５％が望ましい。こ
の反射率の有機色素膜層１５は読出し用レーザービーム
の一部を反射し残りを透過させるいわゆる半透明膜層と
なる。この有機色素膜層１５の膜厚は１５００オングス
トローム程度であるが、薄ければ薄いほどよい。
い、これらのスタンパ１１、１２に熱可塑性樹脂を流し
込みインジェクション成型により、ディジタル情報がピ
ット配列により記録された第１および第２のプラスチッ
ク基板１３、１４が形成される。すなわち、第１のプラ
スチック基板１３の表面にはスタンパ１１のピット配列
が転写されてなる第１の情報記録ピット層１３−１が形
成される。また、同様に、第２のプラスチック基板１４
の表面にはスタンパ１２のピット配列が転写されてなる
第２の情報記録ピット層１４−１が形成される。第１お
よび第２のプラスチック基板１３、１４を構成するプラ
スチック基板材料としてはＰＣ（ポリカーボネート），
ＰＭＭＡ（ポリメテルメタアクリレート）などが用いら
れ、それぞれの厚さは例えば、０．６ｍｍとする。第１
のプラスチック基板１３に対してはスピナーによりその
第１の情報記録ピット層１３−１の表面に有機色素膜１
５が成膜される。スピナーにより塗布する有機色素とし
ては例えば、インドリン系のシアニン色素を用い、この
３グラムをエチレングリコールモノエチルエーテル１０
０ミリリットルの溶剤に溶かし、光耐候性の添加剤を１
グラム添加した溶液を用いる。溶剤としてはエチレング
リコールモノエチルエーテルの他に、エチレングリコー
ルメチルエーテルあるいはヒドロキシメチルブタノンを
用いてもよい。スピナー内で回転テーブルの上に基板１
３を置き有機色素を含んだ溶液を基板１３上に滴下し、
回転テーブルを１００〜２００ｒｐｍの低速で２秒程回
転させ、その後に回転数を２０００〜２５００ｒｐｍに
上昇して溶液を振り切る。そしてこの基板１３を回転テ
ーブルより取出して塗布された溶液を硬化させる。紫外
線（ＵＶ）硬化型の液の場合はＵＶ光を照射して硬化さ
せ、溶剤型の液の場合乾燥により硬化させる。このよう
にして形成した有機色素膜による情報読出し用レーザー
ビームに対する反射率は、１５〜３５％が望ましい。こ
の反射率の有機色素膜層１５は読出し用レーザービーム
の一部を反射し残りを透過させるいわゆる半透明膜層と
なる。この有機色素膜層１５の膜厚は１５００オングス
トローム程度であるが、薄ければ薄いほどよい。
【０００９】図２はインドリン系のシアニン色素の読出
し用レーザービームに対する反射率を例示するグラフ
で、横軸は使用レーザービームの波長（ｎｍ）、縦軸は
反射率（％）である。ＤＶＤあるいはＣＤなどの光記録
媒体の読出しに用いられるレーザービームの波長は前者
が６５０ｎｍ、後者が７８０ｎｍであるが、図２に示す
色素の場合、前者に対しては反射率は約２０％となる
が、後者に対しては５０％を越えてしまうので適用でき
ない。しかし、一般に、この種の有機色素の反射率は、
色素の種類、添加剤の種類、組成、異種色素の混合、膜
厚などの製造条件によって変化するので、使用するレー
ザービームの波長により、所望の反射率の有機色素膜層
を製造することは可能である。
し用レーザービームに対する反射率を例示するグラフ
で、横軸は使用レーザービームの波長（ｎｍ）、縦軸は
反射率（％）である。ＤＶＤあるいはＣＤなどの光記録
媒体の読出しに用いられるレーザービームの波長は前者
が６５０ｎｍ、後者が７８０ｎｍであるが、図２に示す
色素の場合、前者に対しては反射率は約２０％となる
が、後者に対しては５０％を越えてしまうので適用でき
ない。しかし、一般に、この種の有機色素の反射率は、
色素の種類、添加剤の種類、組成、異種色素の混合、膜
厚などの製造条件によって変化するので、使用するレー
ザービームの波長により、所望の反射率の有機色素膜層
を製造することは可能である。
【００１０】他方、第２のプラスチック基板１４に対し
ては真空スパッター装置（図示せず）により第２の情報
記録ピット層１４−１の表面にＡｌあるいはＡｕなどの
金属反射膜層１６が成膜される。この場合、膜厚は５０
０オングストローム程度である。この金属反射膜層１６
による情報読出し用レーザービームに対する反射率は、
７０％以上が望ましい。
ては真空スパッター装置（図示せず）により第２の情報
記録ピット層１４−１の表面にＡｌあるいはＡｕなどの
金属反射膜層１６が成膜される。この場合、膜厚は５０
０オングストローム程度である。この金属反射膜層１６
による情報読出し用レーザービームに対する反射率は、
７０％以上が望ましい。
【００１１】このようにして反射膜層１５、１６が表面
に形成された第１および第２のプラスチック基板１３、
１４は検査機（図示せず）に搬送され、基板の良否の判
定が行なわれる。良品と判定された基板１３、１４はＵ
Ｖ硬化型樹脂などの透明接着剤層１７によりそれぞれの
ピット配列面が所定の間隔を持って向き合うように貼合
せられ、製品１８が完成する。この貼合わせ工程におい
ては、半透明層が形成された第１のプラスチック基板１
３と、反射層が形成された第２のプラスチック基板１４
の両信号面を対向させて紫外線硬化樹脂を挟み込み、半
透明層側から紫外線１９を照射して樹脂を硬化させるこ
とにより、２枚の基板を貼り合わせる。完成した製品１
８における透明接着剤層１７の厚さは約４０ミクロンで
ある。なお、接着剤としては紫外線硬化樹脂の他に、ホ
ットメルト剤も用いることができる。
に形成された第１および第２のプラスチック基板１３、
１４は検査機（図示せず）に搬送され、基板の良否の判
定が行なわれる。良品と判定された基板１３、１４はＵ
Ｖ硬化型樹脂などの透明接着剤層１７によりそれぞれの
ピット配列面が所定の間隔を持って向き合うように貼合
せられ、製品１８が完成する。この貼合わせ工程におい
ては、半透明層が形成された第１のプラスチック基板１
３と、反射層が形成された第２のプラスチック基板１４
の両信号面を対向させて紫外線硬化樹脂を挟み込み、半
透明層側から紫外線１９を照射して樹脂を硬化させるこ
とにより、２枚の基板を貼り合わせる。完成した製品１
８における透明接着剤層１７の厚さは約４０ミクロンで
ある。なお、接着剤としては紫外線硬化樹脂の他に、ホ
ットメルト剤も用いることができる。
【００１２】このようにして完成されたプリレコーデッ
ド光ディスク１８は、第１および第２のプラスチック基
板１３、１４が一体化されてなる透明な光ディスク基板
内にスタンパ１１により形成された第１の情報記録ピッ
ト層１３−１が基板表面と平行に配置形成される。そし
てこの第１の情報記録ピット層１３−１の表面にはこれ
を被覆するように有機色素からなる光透過性の低反射膜
層１５が形成されている。また、この低反射膜が形成さ
れた前記第１の情報記録ピット層１３−１と透明接着剤
層１７を介して第２の情報記録ピット層１４−１が平行
に配置形成されている。この第２の情報記録ピット層２
１の表面にはこれを被覆するように金属からなる高反射
膜層１６が形成されている。
ド光ディスク１８は、第１および第２のプラスチック基
板１３、１４が一体化されてなる透明な光ディスク基板
内にスタンパ１１により形成された第１の情報記録ピッ
ト層１３−１が基板表面と平行に配置形成される。そし
てこの第１の情報記録ピット層１３−１の表面にはこれ
を被覆するように有機色素からなる光透過性の低反射膜
層１５が形成されている。また、この低反射膜が形成さ
れた前記第１の情報記録ピット層１３−１と透明接着剤
層１７を介して第２の情報記録ピット層１４−１が平行
に配置形成されている。この第２の情報記録ピット層２
１の表面にはこれを被覆するように金属からなる高反射
膜層１６が形成されている。
【００１３】図３および図４はこのようにして製造され
たプリレコーデッド光ディスク１８からの記録情報の読
出し方法を説明するための概略図である。図３の場合
は、光ディスク１８の片面に配置されたレーザー光源
（図示せず）からフォーカス制御装置２１を介してレー
ザービーム２２、２３が照射される。この場合レーザー
ビーム２２、２３は光ディスク１８の半透明膜である有
機色素膜１５が形成された第１のプラスチック基板１３
側から照射される。そしてフォーカス制御装置２１はレ
ーザー光源からのレーザー光をレーザービーム２２で示
すように第２のプラスチック基板１４の金属反射膜１６
にフォーカスさせ、あるいはレーザービーム２３で示す
ように、第１のプラスチック基板１３の有機色素膜１５
からなる半透明膜に選択的にフォーカスさせる。したが
ってレーザービーム２２では第２のプラスチック基板１
４の金属反射膜１６により記録された情報に応じて反射
され、情報の読取りが行われる。また、レーザービーム
２３では第１のプラスチック基板１３の有機色素膜１５
からなる半透明膜により、同様に記録された情報に応じ
て反射され、情報の読取りが行われる。この読取り方式
ではプリレコーデッド光ディスク１８に記録された２層
の記録層からの情報を光ディスクを反転すること無く、
光ディスクの一方の側に配置されたレーザー光源あるい
はフォーカス制御装置により読み出すことができる。
たプリレコーデッド光ディスク１８からの記録情報の読
出し方法を説明するための概略図である。図３の場合
は、光ディスク１８の片面に配置されたレーザー光源
（図示せず）からフォーカス制御装置２１を介してレー
ザービーム２２、２３が照射される。この場合レーザー
ビーム２２、２３は光ディスク１８の半透明膜である有
機色素膜１５が形成された第１のプラスチック基板１３
側から照射される。そしてフォーカス制御装置２１はレ
ーザー光源からのレーザー光をレーザービーム２２で示
すように第２のプラスチック基板１４の金属反射膜１６
にフォーカスさせ、あるいはレーザービーム２３で示す
ように、第１のプラスチック基板１３の有機色素膜１５
からなる半透明膜に選択的にフォーカスさせる。したが
ってレーザービーム２２では第２のプラスチック基板１
４の金属反射膜１６により記録された情報に応じて反射
され、情報の読取りが行われる。また、レーザービーム
２３では第１のプラスチック基板１３の有機色素膜１５
からなる半透明膜により、同様に記録された情報に応じ
て反射され、情報の読取りが行われる。この読取り方式
ではプリレコーデッド光ディスク１８に記録された２層
の記録層からの情報を光ディスクを反転すること無く、
光ディスクの一方の側に配置されたレーザー光源あるい
はフォーカス制御装置により読み出すことができる。
【００１４】図４に示される読取り方式は、レーザー光
源（図示せず）あるいはフォーカス制御装置が２１−
１、２１−２で示すようにプリレコーデッド光ディスク
１８の両側に配置され、フォーカス制御装置が２１−１
により制御されるレーザービーム２２では第２のプラス
チック基板１４の金属反射膜１６に記録された情報の読
取りを行い、フォーカス制御装置が２１−２により制御
されるレーザービーム２３では第１のプラスチック基板
１３の有機色素膜１５に記録された情報の読取りを行
う。この読取り方式では、第１のプラスチック基板１３
の有機色素膜１５は半透明膜であるため、図示しない
が、この有機色素膜１５の表面あるいは第２のプラスチ
ック基板１４の金属反射膜１６の表面に光ディスクに記
憶された情報のタイトルなどを含むラベルを印刷してお
くことにより、光ディスクの表面からこのラベルの表示
内容を肉眼で認識することができる。
源（図示せず）あるいはフォーカス制御装置が２１−
１、２１−２で示すようにプリレコーデッド光ディスク
１８の両側に配置され、フォーカス制御装置が２１−１
により制御されるレーザービーム２２では第２のプラス
チック基板１４の金属反射膜１６に記録された情報の読
取りを行い、フォーカス制御装置が２１−２により制御
されるレーザービーム２３では第１のプラスチック基板
１３の有機色素膜１５に記録された情報の読取りを行
う。この読取り方式では、第１のプラスチック基板１３
の有機色素膜１５は半透明膜であるため、図示しない
が、この有機色素膜１５の表面あるいは第２のプラスチ
ック基板１４の金属反射膜１６の表面に光ディスクに記
憶された情報のタイトルなどを含むラベルを印刷してお
くことにより、光ディスクの表面からこのラベルの表示
内容を肉眼で認識することができる。
【００１５】
【発明の効果】以上説明した本発明によれば、半透明膜
としてＳｉＸのような誘電体膜を用いず有機色素膜を採
用することによりスピンナーにより成膜できるため、膜
の厚み、光透過性などのコントロールが容易となる他、
成膜スピードが速くなり、複雑な工程なしに安価に量産
化が可能となる。
としてＳｉＸのような誘電体膜を用いず有機色素膜を採
用することによりスピンナーにより成膜できるため、膜
の厚み、光透過性などのコントロールが容易となる他、
成膜スピードが速くなり、複雑な工程なしに安価に量産
化が可能となる。
【図１】本発明のプリレコーデッド光ディスクの製造工
程を示す図である。
程を示す図である。
【図２】本発明のプリレコーデッド光ディスクの読出し
方式を説明するための概略図である。
方式を説明するための概略図である。
【図３】本発明で用いるインドリン系のシアニン色素の
読出し用レーザービームに対する反射率を例示するグラ
フである。
読出し用レーザービームに対する反射率を例示するグラ
フである。
【図４】本発明のプリレコーデッド光ディスクの他の読
出し方式を説明するための概略図である。
出し方式を説明するための概略図である。
Claims (4)
- 【請求項１】 透明な光ディスク基板と、この基板内に
その表面と平行に配置形成された第１の情報記録ピット
層と、この第１の情報記録ピット層の表面を被覆するよ
うに形成された有機色素からなる光透過性の低反射膜層
と、この低反射膜が形成された前記第１の情報記録ピッ
ト層と離間しこれと平行に配置形成された第２の情報記
録ピット層と、この第２の情報記録ピット層の表面を被
覆するように形成された金属からなる高反射膜層とを備
えたことを特徴とするプリレコーデッド光ディスク。 - 【請求項２】 前記低反射膜層は読出し用レーザービー
ムに対する反射率が、１５〜３５％であり、前記高反射
膜層の前記読出し用レーザービームに対する反射率は７
０％以上であることを特徴とする請求項１記載のプリレ
コーデッド光ディスク。 - 【請求項３】 第１の透明な光ディスク基板の表面にス
タンパーにより情報記録ピットを形成する工程と、この
工程により形成された前記ピット表面に、スピナーによ
り、有機色素が含まれた液を塗布成膜して光透過性の低
反射膜層を形成する工程と、第２の透明な光ディスク基
板の表面にスタンパーにより情報記録ピットを形成する
工程と、この工程により形成された前記ピット表面にス
パッターにより金属膜を成膜し高反射膜層を形成する工
程と、前記第１および第２の透明な光ディスク基板をそ
れぞれの前記情報記録ピットが所定間隔を置いて向かい
合うように透明接着剤を介して接着する工程とを備えた
ことを特徴とするプリレコーデッド光ディスクの製造方
法。 - 【請求項４】 前記低反射膜層は読出し用レーザービー
ムに対する反射率が、１５〜３５％であり、前記高反射
膜層の前記読出し用レーザービームに対する反射率は７
０％以上となるように形成することを特徴とする請求項
３記載のプリレコーデッド光ディスクの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8149725A JPH09312038A (ja) | 1996-05-22 | 1996-05-22 | プリレコーデッド光ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8149725A JPH09312038A (ja) | 1996-05-22 | 1996-05-22 | プリレコーデッド光ディスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09312038A true JPH09312038A (ja) | 1997-12-02 |
Family
ID=15481454
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8149725A Pending JPH09312038A (ja) | 1996-05-22 | 1996-05-22 | プリレコーデッド光ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09312038A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7018696B2 (en) | 2003-04-18 | 2006-03-28 | Target Technology Company Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7045188B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314660B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
-
1996
- 1996-05-22 JP JP8149725A patent/JPH09312038A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7045188B2 (en) | 1998-06-22 | 2006-05-16 | Nee Han H | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7291374B2 (en) | 1998-06-22 | 2007-11-06 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7384677B2 (en) | 1998-06-22 | 2008-06-10 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314660B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
| US7018696B2 (en) | 2003-04-18 | 2006-03-28 | Target Technology Company Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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