JPH09312196A - 電界発光素子 - Google Patents
電界発光素子Info
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- JPH09312196A JPH09312196A JP15047396A JP15047396A JPH09312196A JP H09312196 A JPH09312196 A JP H09312196A JP 15047396 A JP15047396 A JP 15047396A JP 15047396 A JP15047396 A JP 15047396A JP H09312196 A JPH09312196 A JP H09312196A
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- Japan
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- layer
- transport layer
- electrode
- electroluminescent device
- electron transport
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- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/14—Carrier transporting layers
- H10K50/15—Hole transporting layers
- H10K50/155—Hole transporting layers comprising dopants
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
- H10K59/80—Constructional details
- H10K59/805—Electrodes
- H10K59/8052—Cathodes
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
- H10K50/00—Organic light-emitting devices
- H10K50/10—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
- H10K50/17—Carrier injection layers
- H10K50/171—Electron injection layers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Led Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 発光輝度および発光効率が高く、カソードの
劣化が防止できる電界発光素子を提供する。 【解決手段】 ガラス基板12上に、順次、ITOでな
るアノード電極13、PVCzとTPDと混合してなる
正孔輸送層14、Alq3でなる電子輸送層15、Mg
とAlq3とを混合してなる混合層16、Agでなるカ
ソード電極17を形成が形成されている。このような構
成とすることにより、電子輸送層15への電子注入性を
向上することができる。このため、カソード電極材料と
して酸化されにくい材料を選択することが可能となる。
よって、カソードの劣化が防止でき、発光効率が高く発
光寿命の長い電界発光素子を実現することができる。
劣化が防止できる電界発光素子を提供する。 【解決手段】 ガラス基板12上に、順次、ITOでな
るアノード電極13、PVCzとTPDと混合してなる
正孔輸送層14、Alq3でなる電子輸送層15、Mg
とAlq3とを混合してなる混合層16、Agでなるカ
ソード電極17を形成が形成されている。このような構
成とすることにより、電子輸送層15への電子注入性を
向上することができる。このため、カソード電極材料と
して酸化されにくい材料を選択することが可能となる。
よって、カソードの劣化が防止でき、発光効率が高く発
光寿命の長い電界発光素子を実現することができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は電界発光素子に関
し、さらに詳しくは、表示用照明や信号光発生素子など
に用いることのできる電界発光素子に係わる。
し、さらに詳しくは、表示用照明や信号光発生素子など
に用いることのできる電界発光素子に係わる。
【0002】
【従来の技術】近年、電界発光素子として、有機化合物
を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子(以下
有機EL素子という)が実用段階に入っている。このよ
うな有機EL素子としては、図7に示すような構造のも
のが知られている。同図に示す有機EL素子は、ガラス
基板1上にITO(Indium Tin Oxide)膜でなるアノー
ド電極2が形成され、このアノード電極2上に発光層3
が形成され、さらに発光層3の上にマグネシウム(M
g)でなるカソード電極4が形成されて構成されてい
る。発光層3は、両側の電極から電荷が注入され易いよ
うに、正孔輸送性材料層5と電子輸送性材料層6とが接
合されてなる。正孔輸送性材料層5はアノード電極2側
に形成され、電子輸送性材料層6はカソード電極4側に
形成されている。
を発光層に用いたエレクトロルミネッセンス素子(以下
有機EL素子という)が実用段階に入っている。このよ
うな有機EL素子としては、図7に示すような構造のも
のが知られている。同図に示す有機EL素子は、ガラス
基板1上にITO(Indium Tin Oxide)膜でなるアノー
ド電極2が形成され、このアノード電極2上に発光層3
が形成され、さらに発光層3の上にマグネシウム(M
g)でなるカソード電極4が形成されて構成されてい
る。発光層3は、両側の電極から電荷が注入され易いよ
うに、正孔輸送性材料層5と電子輸送性材料層6とが接
合されてなる。正孔輸送性材料層5はアノード電極2側
に形成され、電子輸送性材料層6はカソード電極4側に
形成されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような従来の有機EL素子では、上記したようにカソ
ード電極4がMgなど(この他にCa、Li、Inな
ど)のような低仕事関数の金属で形成されているため酸
化を受け易く、素子形成後の劣化の進行が速いという問
題があった。また、このように酸化され易い材料を用い
て素子を製造する際に、その取り扱いが困難であるとい
う問題があった。
たような従来の有機EL素子では、上記したようにカソ
ード電極4がMgなど(この他にCa、Li、Inな
ど)のような低仕事関数の金属で形成されているため酸
化を受け易く、素子形成後の劣化の進行が速いという問
題があった。また、このように酸化され易い材料を用い
て素子を製造する際に、その取り扱いが困難であるとい
う問題があった。
【0004】この発明が解決しようとする課題は、輝度
および発光効率が高く、しかもカソード電極の劣化が防
止できる電界発光素子を得るにはどのような手段を講じ
ればよいかという点にある。
および発光効率が高く、しかもカソード電極の劣化が防
止できる電界発光素子を得るにはどのような手段を講じ
ればよいかという点にある。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
相対向するカソード電極とアノード電極との間に、有機
化合物でなる有機EL層が介在された電界発光素子にお
いて、前記カソード電極が第1の材料で形成されるとと
もに、前記カソード電極と前記有機EL層との間に、前
記第1の材料より仕事関数の小さい第2の材料と、有機
化合物とが混合されてなる混合層が介在されていること
を特徴としている。
相対向するカソード電極とアノード電極との間に、有機
化合物でなる有機EL層が介在された電界発光素子にお
いて、前記カソード電極が第1の材料で形成されるとと
もに、前記カソード電極と前記有機EL層との間に、前
記第1の材料より仕事関数の小さい第2の材料と、有機
化合物とが混合されてなる混合層が介在されていること
を特徴としている。
【0006】請求項1記載の発明においては、有機EL
層を構成する有機化合物と第2の材料とを混合したこと
により、有機EL層への電子注入性を向上させることが
できる。また、カソード電極が第2の材料より酸化され
にくい材料で形成されているため、素子特性の劣化を防
止できる。また、混合層が、有機化合物を含むので有機
EL層との密着性が良い。
層を構成する有機化合物と第2の材料とを混合したこと
により、有機EL層への電子注入性を向上させることが
できる。また、カソード電極が第2の材料より酸化され
にくい材料で形成されているため、素子特性の劣化を防
止できる。また、混合層が、有機化合物を含むので有機
EL層との密着性が良い。
【0007】請求項2記載の発明では、前記混合層が、
前記第2の材料と前記有機化合物とが共蒸着されてなる
ことを特徴としている。請求項2記載の発明において
は、混合層に均一に有機化合物と第2の材料を形成する
ことができる。
前記第2の材料と前記有機化合物とが共蒸着されてなる
ことを特徴としている。請求項2記載の発明において
は、混合層に均一に有機化合物と第2の材料を形成する
ことができる。
【0008】請求項3記載の発明では、前記有機EL層
が、少なくとも、前記カソード電極側に配置され且つ電
子輸送性材料を含む電子輸送層と、前記アノード電極側
に配置され且つ正孔輸送性材料を含む正孔輸送層と、を
備え、前記混合層が、前記電子輸送性材料と前記第2の
材料とが混合されてなることを特徴としている。
が、少なくとも、前記カソード電極側に配置され且つ電
子輸送性材料を含む電子輸送層と、前記アノード電極側
に配置され且つ正孔輸送性材料を含む正孔輸送層と、を
備え、前記混合層が、前記電子輸送性材料と前記第2の
材料とが混合されてなることを特徴としている。
【0009】請求項4記載の発明では、前記第2の材料
は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、マ
グネシウム(Mg)、インジウム(In)、またはこれ
らの金属を含む化合物および金属ホウ化物、金属炭化物
の中から選ばれることを特徴としている。請求項5記載
の発明は、前記第1の材料は、アルミニウム(Al)或
いは銀(Ag)を含むことを特徴としている。請求項
4、5の発明によれば第2の材料が金属を含み、カソー
ド電極も金属からなるので密着性が良好である。
は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属、マ
グネシウム(Mg)、インジウム(In)、またはこれ
らの金属を含む化合物および金属ホウ化物、金属炭化物
の中から選ばれることを特徴としている。請求項5記載
の発明は、前記第1の材料は、アルミニウム(Al)或
いは銀(Ag)を含むことを特徴としている。請求項
4、5の発明によれば第2の材料が金属を含み、カソー
ド電極も金属からなるので密着性が良好である。
【0010】請求項6記載の発明は、前記混合層は、前
記第2の材料と前記有機化合物との混合モル比(第2の
材料のモル数/有機化合物のモル数)の値が6以上であ
ることを特徴としている。
記第2の材料と前記有機化合物との混合モル比(第2の
材料のモル数/有機化合物のモル数)の値が6以上であ
ることを特徴としている。
【0011】請求項7記載の発明は、前記電子輸送層は
トリス(8−キノリレート)アルミニウム錯体を含んで
なり、前記正孔輸送層はポリビニルカルバゾールとトリ
フェニルジアミン誘導体とを含んでなることを特徴とし
ている。請求項8記載の発明は、前記混合層の厚さが2
00Å以下であることを特徴としている。
トリス(8−キノリレート)アルミニウム錯体を含んで
なり、前記正孔輸送層はポリビニルカルバゾールとトリ
フェニルジアミン誘導体とを含んでなることを特徴とし
ている。請求項8記載の発明は、前記混合層の厚さが2
00Å以下であることを特徴としている。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、この発明に係る電界発光素
子の詳細を図面に示す実施形態に基づいて説明する。 (実施形態1)図1は、この発明に係る電界発光素子の
実施形態1を示す断面図である。同図において符号11
は電界発光素子を示している。この電界発光素子11
は、ガラス基板12の上に、順次、アノード電極13、
正孔輸送層14、電子輸送層15、混合層16、カソー
ド電極17が形成された構成である。なお、本実施形態
における有機EL層は、正孔輸送層14と電子輸送層1
5とで構成されている。
子の詳細を図面に示す実施形態に基づいて説明する。 (実施形態1)図1は、この発明に係る電界発光素子の
実施形態1を示す断面図である。同図において符号11
は電界発光素子を示している。この電界発光素子11
は、ガラス基板12の上に、順次、アノード電極13、
正孔輸送層14、電子輸送層15、混合層16、カソー
ド電極17が形成された構成である。なお、本実施形態
における有機EL層は、正孔輸送層14と電子輸送層1
5とで構成されている。
【0013】上記した各部材の説明を以下にする。アノ
ード電極13は、80%以上の光透過率をもつ、シート
抵抗が50オーム以下のITO薄膜で形成されている。
正孔輸送層14は、ポリビニルカルバゾール(以下、P
VCzという)とトリフェニルジアミン誘導体(以下、
TPDという)とがモル比1:1の割合で混合されて形
成されたものであり、その膜厚は50nm程度に設定さ
れている。PVCzは、正孔輸送性ポリマーである。こ
のPVCzに混合されるTPDも正孔輸送剤としての機
能をもつ。正孔輸送層14の形成方法としては、PVC
zとTPDとを共蒸着する方法や、PVCzとTPDと
を混合してスピンコーティングする方法などがある。以
下に、PVCzとTPDの構造式を示す。
ード電極13は、80%以上の光透過率をもつ、シート
抵抗が50オーム以下のITO薄膜で形成されている。
正孔輸送層14は、ポリビニルカルバゾール(以下、P
VCzという)とトリフェニルジアミン誘導体(以下、
TPDという)とがモル比1:1の割合で混合されて形
成されたものであり、その膜厚は50nm程度に設定さ
れている。PVCzは、正孔輸送性ポリマーである。こ
のPVCzに混合されるTPDも正孔輸送剤としての機
能をもつ。正孔輸送層14の形成方法としては、PVC
zとTPDとを共蒸着する方法や、PVCzとTPDと
を混合してスピンコーティングする方法などがある。以
下に、PVCzとTPDの構造式を示す。
【0014】
【化1】
【0015】
【化2】
【0016】電子輸送層15は、トリス(8−キノリレ
ート)アルミニウム錯体(以下、Alq3という)でな
り、電子輸送性をもつ。また、この電子輸送層15は、
実質的に発光層として機能する。この電子輸送層15の
膜厚は、正孔輸送層14と同様に50nm程度に設定さ
れている。この電子輸送層15の形成方法としては、上
記した正孔輸送層14と同様に、蒸着する方法や、スピ
ンコーティングする方法があるが、本実施形態では真空
蒸着する方法を採用している。以下に、Alq3の構造
式を示す。
ート)アルミニウム錯体(以下、Alq3という)でな
り、電子輸送性をもつ。また、この電子輸送層15は、
実質的に発光層として機能する。この電子輸送層15の
膜厚は、正孔輸送層14と同様に50nm程度に設定さ
れている。この電子輸送層15の形成方法としては、上
記した正孔輸送層14と同様に、蒸着する方法や、スピ
ンコーティングする方法があるが、本実施形態では真空
蒸着する方法を採用している。以下に、Alq3の構造
式を示す。
【0017】
【化3】
【0018】混合層16は、マグネシウム(Mg)とA
lq3とを蒸着速度比20:1(モル比656:1)の
割合で、真空状態で共蒸着する方法で形成されている。
このように混合層16を共蒸着することにより、電子輸
送層15の真空蒸着から連続的に混合層16を形成する
ことが可能となる。なお、この混合層16の膜厚は、3
nm程度に設定した。そして、カソード電極17は、銀
(Ag)で形成されている。このカソード電極17の厚
さは、300nm程度に設定されている。カソード電極
17を形成するAgは第1の材料としての機能をもち、
混合層16を構成するMgは第2の材料としての機能を
もつ。すなわち、第1の材料としてのAgは、仕事関数
が大きく(4.26/eV)酸化されにくいという機能
をもつ。また、第2の材料としてのMgは、第1の材料
に比し仕事関数が小さく(3.66/eV)電子輸送層
15への電子の注入障壁を低くして電子注入性を向上さ
せる機能をもつ。
lq3とを蒸着速度比20:1(モル比656:1)の
割合で、真空状態で共蒸着する方法で形成されている。
このように混合層16を共蒸着することにより、電子輸
送層15の真空蒸着から連続的に混合層16を形成する
ことが可能となる。なお、この混合層16の膜厚は、3
nm程度に設定した。そして、カソード電極17は、銀
(Ag)で形成されている。このカソード電極17の厚
さは、300nm程度に設定されている。カソード電極
17を形成するAgは第1の材料としての機能をもち、
混合層16を構成するMgは第2の材料としての機能を
もつ。すなわち、第1の材料としてのAgは、仕事関数
が大きく(4.26/eV)酸化されにくいという機能
をもつ。また、第2の材料としてのMgは、第1の材料
に比し仕事関数が小さく(3.66/eV)電子輸送層
15への電子の注入障壁を低くして電子注入性を向上さ
せる機能をもつ。
【0019】図2は、本実施形態の電界発光素子11を
用いて、アノード電極13とカソード電極17との間に
直流電圧を印加したときの、電圧−発光輝度−発光効率
特性を示すグラフである。このグラフから、本実施形態
では印加電圧が10Vで2000cd/m2以上の輝度
が得られるとともに、そのときの発光効率は1.20l
m/W程度の高発光効率が得られることが判る。また、
印加電圧が14Vでは8000cd/m2程度の最高輝
度が得られ、しかも0.50程度の発光効率が得られる
ことが判る。さらに、印加電圧が12Vのときには、輝
度が5000cd/m2で発光効率が1.00lm/W程
度となる。なお、効率lm/WはK輝度(cd/m2)
×π÷{電流密度(A/m2)×電圧(V)}から算出
した。
用いて、アノード電極13とカソード電極17との間に
直流電圧を印加したときの、電圧−発光輝度−発光効率
特性を示すグラフである。このグラフから、本実施形態
では印加電圧が10Vで2000cd/m2以上の輝度
が得られるとともに、そのときの発光効率は1.20l
m/W程度の高発光効率が得られることが判る。また、
印加電圧が14Vでは8000cd/m2程度の最高輝
度が得られ、しかも0.50程度の発光効率が得られる
ことが判る。さらに、印加電圧が12Vのときには、輝
度が5000cd/m2で発光効率が1.00lm/W程
度となる。なお、効率lm/WはK輝度(cd/m2)
×π÷{電流密度(A/m2)×電圧(V)}から算出
した。
【0020】図3は、比較例1としての電界発光素子の
電圧−発光輝度−発光効率特性を示すグラフである。こ
の比較例1の電界発光素子の構成は、上記した本実施形
態の電界発光素子11において混合層16のみを欠く構
成である。すなわち、Alq3でなる電子輸送層15上
にカソード電極17(Ag)を直接載せた構成となって
いる。同図に示すグラフから、比較例1では最高輝度が
3000cd/m2程度であり、そのときの印加電圧が
11.5V、発光効率が0.40lm/W程度であった。
この結果、図2のグラフと図3のグラフとを比較する
と、本実施形態では印加電圧が10V〜15Vの間で8
000cd/m2という高輝度が得られるのに対して、
比較例1では3000cd/m2程度の低輝度しか得ら
れないことが判る。また、印加電圧が10V〜15Vの
間で本実施形態では発光効率1.00lm/W以上を達
成できるのに対して、比較例1では発光効率が0.50
lm/W程度しか得られないことが判る。
電圧−発光輝度−発光効率特性を示すグラフである。こ
の比較例1の電界発光素子の構成は、上記した本実施形
態の電界発光素子11において混合層16のみを欠く構
成である。すなわち、Alq3でなる電子輸送層15上
にカソード電極17(Ag)を直接載せた構成となって
いる。同図に示すグラフから、比較例1では最高輝度が
3000cd/m2程度であり、そのときの印加電圧が
11.5V、発光効率が0.40lm/W程度であった。
この結果、図2のグラフと図3のグラフとを比較する
と、本実施形態では印加電圧が10V〜15Vの間で8
000cd/m2という高輝度が得られるのに対して、
比較例1では3000cd/m2程度の低輝度しか得ら
れないことが判る。また、印加電圧が10V〜15Vの
間で本実施形態では発光効率1.00lm/W以上を達
成できるのに対して、比較例1では発光効率が0.50
lm/W程度しか得られないことが判る。
【0021】図4は、比較例2としての電界発光素子の
電圧−発光輝度−発光効率特性を示すグラフである。こ
の比較例2の電界発光素子の構成は、上記した本実施形
態の電界発光素子11において混合層16を構成する混
合成分をAlq3とAgとしたものであり、他の構成は
実施形態1と同様とした。この比較例2においては、印
加電圧が11Vのときに最高輝度となる。この最高輝度
は1400cd/m2程度であり、上記した本実施形態
1の最高輝度8000cd/m2に比較して著しく低い
輝度となる。また、比較例2の発光効率は最高で0.2
3lm/W程度であり、印加電圧が10Vのときに輝度
および効率が共に高くなるが、効率で0.20lm/W
程度、輝度で1000cd/m2である。これに対して
本実施形態1では印加電圧が10V程度のとき、効率が
1.20lm/W、輝度が3000cd/m2と、効率、
輝度ともに比較例2より大幅に高いことが判る。
電圧−発光輝度−発光効率特性を示すグラフである。こ
の比較例2の電界発光素子の構成は、上記した本実施形
態の電界発光素子11において混合層16を構成する混
合成分をAlq3とAgとしたものであり、他の構成は
実施形態1と同様とした。この比較例2においては、印
加電圧が11Vのときに最高輝度となる。この最高輝度
は1400cd/m2程度であり、上記した本実施形態
1の最高輝度8000cd/m2に比較して著しく低い
輝度となる。また、比較例2の発光効率は最高で0.2
3lm/W程度であり、印加電圧が10Vのときに輝度
および効率が共に高くなるが、効率で0.20lm/W
程度、輝度で1000cd/m2である。これに対して
本実施形態1では印加電圧が10V程度のとき、効率が
1.20lm/W、輝度が3000cd/m2と、効率、
輝度ともに比較例2より大幅に高いことが判る。
【0022】本実施形態では、上記のような構成とした
ことにより、電子の注入効率が向上する。また、カソー
ド電極17が酸化されにくい金属材料で形成されている
ため、素子特性の劣化を防止することができる。
ことにより、電子の注入効率が向上する。また、カソー
ド電極17が酸化されにくい金属材料で形成されている
ため、素子特性の劣化を防止することができる。
【0023】ところで、上記した本実施形態では、カソ
ード電極17をAgで形成し混合層16にMgを混合す
る構成としたが、カソード電極17が酸化されにくい電
極材料であれば、これに限定されるものではなく、また
混合層16に混合する第2の材料としても、カソード電
極材料より仕事関数が低いものであれば、Mgに限定さ
れるものではない。さらに、本実施形態では、有機EL
層を正孔輸送層14と電子輸送層15とで構成したが、
電子と正孔とが注入されて再結合する有機EL層であれ
ば、単層でも複数層でもよい。
ード電極17をAgで形成し混合層16にMgを混合す
る構成としたが、カソード電極17が酸化されにくい電
極材料であれば、これに限定されるものではなく、また
混合層16に混合する第2の材料としても、カソード電
極材料より仕事関数が低いものであれば、Mgに限定さ
れるものではない。さらに、本実施形態では、有機EL
層を正孔輸送層14と電子輸送層15とで構成したが、
電子と正孔とが注入されて再結合する有機EL層であれ
ば、単層でも複数層でもよい。
【0024】(実施形態2)図5は、この発明の実施形
態2を示している。本実施形態では、電界発光素子でな
るアドレス光素子を信号光発生手段として用い、このア
ドレス光素子とEL表示素子とを組み合わせた構成をも
つ。図中21は、アドレス光素子31とEL表示素子4
1とからなる表示装置である。
態2を示している。本実施形態では、電界発光素子でな
るアドレス光素子を信号光発生手段として用い、このア
ドレス光素子とEL表示素子とを組み合わせた構成をも
つ。図中21は、アドレス光素子31とEL表示素子4
1とからなる表示装置である。
【0025】まず、アドレス光素子31の構成を説明す
る。アドレス光素子31は、同図に示すように、ガラス
または可撓性を有する高分子フィルムでなるアドレス基
板32の後面に、アノード電極としての複数の行電極3
3が、行方向に平行に配列されて形成されている。この
行電極33は、光透過性を有し、且つアノードとして適
した仕事関数を有する電極材料であればよく、例えばI
TOや酸化スズなどを用いることができる。これら複数
の行電極33およびアドレス基板32の上(後面)に
は、PVCzとTPDとを混合してなる第1正孔輸送層
34を形成する。この第1正孔輸送層34の上(後面)
には、Alq3でなる第1電子輸送層35が接合するよ
うに積層されている。この第1電子輸送層35は、実質
的に発光層として機能する。これら第1正孔輸送層34
と第1電子輸送層35とで有機EL層が構成されてい
る。さらに、第1電子輸送層35の上(後面)には、A
lq3とMgとを1:20の蒸着速度比で共蒸着してな
る混合層36が形成されている。そして、混合層35の
上(後面)には、上記した行方向に対して直交する列方
向に、互いに平行に配列された、複数の列電極37が形
成されている。すなわち、行電極33と列電極37と
は、有機EL層および混合層36を挟んで交差し、行電
極33と列電極37とが重なった部分の有機EL層に電
荷の注入が可能となる。列電極37は、カソード電極と
して機能するものであり、アノード電極に対し仕事関数
が低い物性であり、且つ酸化されにくい電極材料で形成
されている。本実施形態では、列電極37をAgで形成
している。なお、行電極33および列電極37は、アド
レス基板32の端縁まで延在され、駆動用IC(図示省
略する)と接続されるようになっている。このようにし
て、マトリクス駆動のアドレス光素子31が構成されて
いる。
る。アドレス光素子31は、同図に示すように、ガラス
または可撓性を有する高分子フィルムでなるアドレス基
板32の後面に、アノード電極としての複数の行電極3
3が、行方向に平行に配列されて形成されている。この
行電極33は、光透過性を有し、且つアノードとして適
した仕事関数を有する電極材料であればよく、例えばI
TOや酸化スズなどを用いることができる。これら複数
の行電極33およびアドレス基板32の上(後面)に
は、PVCzとTPDとを混合してなる第1正孔輸送層
34を形成する。この第1正孔輸送層34の上(後面)
には、Alq3でなる第1電子輸送層35が接合するよ
うに積層されている。この第1電子輸送層35は、実質
的に発光層として機能する。これら第1正孔輸送層34
と第1電子輸送層35とで有機EL層が構成されてい
る。さらに、第1電子輸送層35の上(後面)には、A
lq3とMgとを1:20の蒸着速度比で共蒸着してな
る混合層36が形成されている。そして、混合層35の
上(後面)には、上記した行方向に対して直交する列方
向に、互いに平行に配列された、複数の列電極37が形
成されている。すなわち、行電極33と列電極37と
は、有機EL層および混合層36を挟んで交差し、行電
極33と列電極37とが重なった部分の有機EL層に電
荷の注入が可能となる。列電極37は、カソード電極と
して機能するものであり、アノード電極に対し仕事関数
が低い物性であり、且つ酸化されにくい電極材料で形成
されている。本実施形態では、列電極37をAgで形成
している。なお、行電極33および列電極37は、アド
レス基板32の端縁まで延在され、駆動用IC(図示省
略する)と接続されるようになっている。このようにし
て、マトリクス駆動のアドレス光素子31が構成されて
いる。
【0026】次に、EL表示素子41の構成を説明す
る。EL表示素子41は、アドレス基板32の前面側に
形成され、上記したアドレス光素子31の全発光領域に
亙る面積と同程度の面積の表示領域を有している。ま
ず、アドレス基板32の前面には、カソード電極として
の、複数の後駆動電極42がアドレス光素子31の発光
に対し透過性を示す導電性材料で形成されている。この
後駆動電極42は、上記した行電極33のそれぞれと対
向して平面的に見て重なるように実質的に同じ形状で行
電極33と同じ本数が配置形成されている。また、アド
レス基板32および後駆動電極42の上には、表示領域
全域を覆うように光導電層43が形成されている。この
光導電層43は、アドレス光素子31からの光量子を吸
収して、伝導キャリヤを生成する材料からなる。本実施
形態では、アモルファスシリコン(a−Si)を用いて
光導電層43を形成している。そして、この光導電層4
3の表層には、n型不純物(例えば、リン)をドープし
てなるドープ層43Aが形成されている。このドープ層
43Aの上には、上記した第1電子輸送層35と同一材
料のAlq3でなる、電子輸送性の第2電子輸送層44
が全面に形成されている。なお、ドープ層43Aは、こ
の第2電子輸送層44へ電子を注入し易くする機能を果
たしている。そして、第2電子輸送層44の上面には、
正孔輸送性の第2正孔輸送層45が形成されている。こ
の第2正孔輸送層45は、PVCzとBNDとでなる
が、各ドット部分(アドレス光素子31の行電極33と
列電極37とが有機EL層を介して重なり合う部分(発
光領域)と対応する部分)には、所定の色配列を構成す
るようにR(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)
のそれぞれの発光を行わせるための発光材料(図示省略
する)が混合されている。なお、第2正孔輸送層45の
形成方法としては、PVCzとBNDとの混合材料を塗
布した後に、各ドット部分に応じた発光材料を含浸させ
る方法や、予め発光材料を混合した有機膜を色配列に応
じて各色毎にパターン形成する方法などを用いることが
できる。このようにして形成された第2電子輸送層44
と第2正孔輸送層45とは、表示光発生層を構成してい
る。さらに、第2正孔輸送層45の上面には、表示領域
全面に亙ってITOでなる、アノード電極としての透明
な前駆動電極46が形成されている。なお、前駆動電極
46および第2正孔輸送層45の前面には、表示光に対
して透明性を有する保護膜47が形成されている。
る。EL表示素子41は、アドレス基板32の前面側に
形成され、上記したアドレス光素子31の全発光領域に
亙る面積と同程度の面積の表示領域を有している。ま
ず、アドレス基板32の前面には、カソード電極として
の、複数の後駆動電極42がアドレス光素子31の発光
に対し透過性を示す導電性材料で形成されている。この
後駆動電極42は、上記した行電極33のそれぞれと対
向して平面的に見て重なるように実質的に同じ形状で行
電極33と同じ本数が配置形成されている。また、アド
レス基板32および後駆動電極42の上には、表示領域
全域を覆うように光導電層43が形成されている。この
光導電層43は、アドレス光素子31からの光量子を吸
収して、伝導キャリヤを生成する材料からなる。本実施
形態では、アモルファスシリコン(a−Si)を用いて
光導電層43を形成している。そして、この光導電層4
3の表層には、n型不純物(例えば、リン)をドープし
てなるドープ層43Aが形成されている。このドープ層
43Aの上には、上記した第1電子輸送層35と同一材
料のAlq3でなる、電子輸送性の第2電子輸送層44
が全面に形成されている。なお、ドープ層43Aは、こ
の第2電子輸送層44へ電子を注入し易くする機能を果
たしている。そして、第2電子輸送層44の上面には、
正孔輸送性の第2正孔輸送層45が形成されている。こ
の第2正孔輸送層45は、PVCzとBNDとでなる
が、各ドット部分(アドレス光素子31の行電極33と
列電極37とが有機EL層を介して重なり合う部分(発
光領域)と対応する部分)には、所定の色配列を構成す
るようにR(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)
のそれぞれの発光を行わせるための発光材料(図示省略
する)が混合されている。なお、第2正孔輸送層45の
形成方法としては、PVCzとBNDとの混合材料を塗
布した後に、各ドット部分に応じた発光材料を含浸させ
る方法や、予め発光材料を混合した有機膜を色配列に応
じて各色毎にパターン形成する方法などを用いることが
できる。このようにして形成された第2電子輸送層44
と第2正孔輸送層45とは、表示光発生層を構成してい
る。さらに、第2正孔輸送層45の上面には、表示領域
全面に亙ってITOでなる、アノード電極としての透明
な前駆動電極46が形成されている。なお、前駆動電極
46および第2正孔輸送層45の前面には、表示光に対
して透明性を有する保護膜47が形成されている。
【0027】次に、表示装置全体の動作を以下に説明す
る。まず、アドレス光素子31において、線順次走査に
より選択された行電極33と列電極37との間に所定電
圧が印加されると、有機EL層から信号光として、発光
ピークが505nm程度の緑色の光が光導電層43に向
けて照射される。なお、このとき、アドレス光素子31
の有機EL層と光導電層43とは十分に近距離であるた
め、信号光は実用上十分な空間周波数を維持して光導電
層43に入射することができる。このため、所定のアド
レスから発光する信号光が、隣接するドット領域の光導
電層43およびドープ層43Aに入射して光導電層43
を励起させることはない。信号光が入射された部分の光
導電層43およびドープ層43Aは、上記したように電
子−正孔対を生成して厚さ方向に電気伝導性を示す。こ
れによって、前駆動電極46と後駆動電極42との間に
印加されていた電圧は、第2電子輸送層44と第2正孔
輸送層45とでなる表示光発生層の所定のドット部分に
印加されることとなる。このため発生された電子ととも
に第2電子輸送層44に電子を注入し、第2正孔輸送層
45に正孔を注入する。なお、駆動電極間には、直流駆
動電圧、パルス電圧、交流電圧などを用いることができ
る。この結果、上記したようにEL表示素子41の発光
により、各種発光材料によって発色された表示光が前方
に向けて発生し、同時に後方に向けて帰還光(図示省略
する)が発生する。この帰還光は、光導電層43および
ドープ層43Aに入射するため、光導電層43およびド
ープ層43Aは、再励起され、新たに電子−正孔対を生
成する。したがって、光導電層43は、第2電子輸送層
44で電荷を注入し得る状態を保持する。このため、E
L表示素子41の表示光発生層に駆動電圧が印加され続
ける状態において、表示光発生層へ電荷が注入され続け
る。この状態にある間は、表示光発生層が1フレーム期
間に対して十分長い時間、駆動され続けることができる
ため、アドレス光素子31側の行電極33と列電極37
とが選択状態でなくなっても、表示光発生層は発光を維
持することとなる。このため、線順次走査により、次の
走査時まで発光が維持されることとなる。なお、次の走
査の直前で後駆動電極42に印加する電圧を解除させる
ことで光導電層43、ドープ層43Aに蓄積された電荷
は排除され、新たな表示発光が可能となる。
る。まず、アドレス光素子31において、線順次走査に
より選択された行電極33と列電極37との間に所定電
圧が印加されると、有機EL層から信号光として、発光
ピークが505nm程度の緑色の光が光導電層43に向
けて照射される。なお、このとき、アドレス光素子31
の有機EL層と光導電層43とは十分に近距離であるた
め、信号光は実用上十分な空間周波数を維持して光導電
層43に入射することができる。このため、所定のアド
レスから発光する信号光が、隣接するドット領域の光導
電層43およびドープ層43Aに入射して光導電層43
を励起させることはない。信号光が入射された部分の光
導電層43およびドープ層43Aは、上記したように電
子−正孔対を生成して厚さ方向に電気伝導性を示す。こ
れによって、前駆動電極46と後駆動電極42との間に
印加されていた電圧は、第2電子輸送層44と第2正孔
輸送層45とでなる表示光発生層の所定のドット部分に
印加されることとなる。このため発生された電子ととも
に第2電子輸送層44に電子を注入し、第2正孔輸送層
45に正孔を注入する。なお、駆動電極間には、直流駆
動電圧、パルス電圧、交流電圧などを用いることができ
る。この結果、上記したようにEL表示素子41の発光
により、各種発光材料によって発色された表示光が前方
に向けて発生し、同時に後方に向けて帰還光(図示省略
する)が発生する。この帰還光は、光導電層43および
ドープ層43Aに入射するため、光導電層43およびド
ープ層43Aは、再励起され、新たに電子−正孔対を生
成する。したがって、光導電層43は、第2電子輸送層
44で電荷を注入し得る状態を保持する。このため、E
L表示素子41の表示光発生層に駆動電圧が印加され続
ける状態において、表示光発生層へ電荷が注入され続け
る。この状態にある間は、表示光発生層が1フレーム期
間に対して十分長い時間、駆動され続けることができる
ため、アドレス光素子31側の行電極33と列電極37
とが選択状態でなくなっても、表示光発生層は発光を維
持することとなる。このため、線順次走査により、次の
走査時まで発光が維持されることとなる。なお、次の走
査の直前で後駆動電極42に印加する電圧を解除させる
ことで光導電層43、ドープ層43Aに蓄積された電荷
は排除され、新たな表示発光が可能となる。
【0028】本実施形態においては、アドレス光素子3
1のカソードとしての列電極37と第1電子輸送層35
との間に、列電極37の材料であるAgより仕事関数の
低いMgを含む混合層36を介在することにより、列電
極37の劣化が防止でき、しかも電子注入効率を向上す
ることができる。このため、本実施形態では発光輝度お
よび発光効率を向上させることができる。このように、
発光輝度および発光効率が向上すると、印加電圧を低下
させることができるため、消費電力の削減ができるとと
もに、発光寿命を向上させることができる。
1のカソードとしての列電極37と第1電子輸送層35
との間に、列電極37の材料であるAgより仕事関数の
低いMgを含む混合層36を介在することにより、列電
極37の劣化が防止でき、しかも電子注入効率を向上す
ることができる。このため、本実施形態では発光輝度お
よび発光効率を向上させることができる。このように、
発光輝度および発光効率が向上すると、印加電圧を低下
させることができるため、消費電力の削減ができるとと
もに、発光寿命を向上させることができる。
【0029】(実施形態3)図6はこの発明に係る電界
発光素子を備えた表示装置の断面図である。この実施形
態は、電界発光素子がアドレス光を発生するアドレス光
素子であり、表示素子として液晶表示素子を備えること
を特徴としている。図中51は表示装置であり、この表
示装置51は、アドレス光素子52と、液晶表示素子5
3と、バックライトシステム54と、から大略構成され
ている。
発光素子を備えた表示装置の断面図である。この実施形
態は、電界発光素子がアドレス光を発生するアドレス光
素子であり、表示素子として液晶表示素子を備えること
を特徴としている。図中51は表示装置であり、この表
示装置51は、アドレス光素子52と、液晶表示素子5
3と、バックライトシステム54と、から大略構成され
ている。
【0030】以下、アドレス光素子52の構成について
説明する。図6に示すように、アドレス光素子52は、
アドレス基板55と、行電極56と、正孔輸送層57
と、電子輸送層58と、混合層59と、列電極60と、
からなっている。なお、アドレス基板55は、ガラスで
形成されている。
説明する。図6に示すように、アドレス光素子52は、
アドレス基板55と、行電極56と、正孔輸送層57
と、電子輸送層58と、混合層59と、列電極60と、
からなっている。なお、アドレス基板55は、ガラスで
形成されている。
【0031】アドレス基板55の後面には、行方向に向
けて互いに平行をなす複数の行電極56が形成されてい
る。この行電極56は、アノード電極として機能するも
のであり、光透過性を有し且つ所定の仕事関数を有する
電極材料であればよい。本実施形態では、行電極56を
ITOで形成している。行電極56およびアドレス基板
55の上(後面)には、PVCzとBNDとが混合され
てなる正孔輸送層57が形成されている。この正孔輸送
層57の膜厚は50nm程度に設定されている。ここ
で、PVCzは正孔輸送性ポリマーである。このPVC
zに混合されるBNDも正孔輸送剤としての機能をも
つ。正孔輸送層57の形成方法としては、上記したよう
にPVCzとTPDとを共蒸着する方法や、PVCzと
BNDとを混合してスピンコーティングする方法などが
ある。以下に、BNDの構造式を示す。
けて互いに平行をなす複数の行電極56が形成されてい
る。この行電極56は、アノード電極として機能するも
のであり、光透過性を有し且つ所定の仕事関数を有する
電極材料であればよい。本実施形態では、行電極56を
ITOで形成している。行電極56およびアドレス基板
55の上(後面)には、PVCzとBNDとが混合され
てなる正孔輸送層57が形成されている。この正孔輸送
層57の膜厚は50nm程度に設定されている。ここ
で、PVCzは正孔輸送性ポリマーである。このPVC
zに混合されるBNDも正孔輸送剤としての機能をも
つ。正孔輸送層57の形成方法としては、上記したよう
にPVCzとTPDとを共蒸着する方法や、PVCzと
BNDとを混合してスピンコーティングする方法などが
ある。以下に、BNDの構造式を示す。
【0032】
【化4】
【0033】電子輸送層58は、Alq3でなり、電子
輸送性をもつ。また、この電子輸送層58は実質的に発
光層として機能する。この電子輸送層58の膜厚は、正
孔輸送層57と同様に50nm程度に設定されている。
この電子輸送層58の形成方法としては、上記した正孔
輸送層57と同様に、蒸着する方法や、スピンコーティ
ングする方法などがあるが、本実施形態では真空蒸着す
る方法を採用している。混合層59は、マグネシウム
(Mg)とAlq3とを蒸着速度比20:1の割合で、
真空状態で共蒸着する方法で形成されている。このよう
に混合層59を共蒸着することにより、電子輸送層58
の真空蒸着から連続的に混合層59を形成することが可
能となる。なお、この混合層59の膜厚は、3nm程度
に設定した。そして、カソードとしての列電極60は、
銀(Ag)で形成されている。この列電極60の厚さ
は、300nm程度に設定されている。列電極60を形
成するAgは、仕事関数が大きく酸化されにくいという
機能をもつ。また、Mgは仕事関数が小さく電子輸送層
58への電子の注入障壁を低くして電子注入性を向上さ
せる機能をもつ。そして、これら正孔輸送層57と電子
輸送層58と混合層59と列電極60を覆うように、光
透過性を有する保護膜62が形成されている。この保護
膜62としては、例えばシリコン窒化膜を用いることが
できる。このように構成されたアドレス光素子52にお
いては、行電極56と列電極60との間に電圧が印加さ
れた場合に、電子輸送層58における正孔輸送層57と
の界面寄りの部分から信号光としての紫外光が発せられ
る。なお、信号光としては350〜400nmの波長域
以内の紫外光が出力されるように設定することが望まし
い。また、行電極56および列電極60は、アドレス基
板55の端縁まで延在され、駆動用IC(図示省略す
る)と接続されている。このようにして、マトリクス駆
動のアドレス光素子52が構成されている。
輸送性をもつ。また、この電子輸送層58は実質的に発
光層として機能する。この電子輸送層58の膜厚は、正
孔輸送層57と同様に50nm程度に設定されている。
この電子輸送層58の形成方法としては、上記した正孔
輸送層57と同様に、蒸着する方法や、スピンコーティ
ングする方法などがあるが、本実施形態では真空蒸着す
る方法を採用している。混合層59は、マグネシウム
(Mg)とAlq3とを蒸着速度比20:1の割合で、
真空状態で共蒸着する方法で形成されている。このよう
に混合層59を共蒸着することにより、電子輸送層58
の真空蒸着から連続的に混合層59を形成することが可
能となる。なお、この混合層59の膜厚は、3nm程度
に設定した。そして、カソードとしての列電極60は、
銀(Ag)で形成されている。この列電極60の厚さ
は、300nm程度に設定されている。列電極60を形
成するAgは、仕事関数が大きく酸化されにくいという
機能をもつ。また、Mgは仕事関数が小さく電子輸送層
58への電子の注入障壁を低くして電子注入性を向上さ
せる機能をもつ。そして、これら正孔輸送層57と電子
輸送層58と混合層59と列電極60を覆うように、光
透過性を有する保護膜62が形成されている。この保護
膜62としては、例えばシリコン窒化膜を用いることが
できる。このように構成されたアドレス光素子52にお
いては、行電極56と列電極60との間に電圧が印加さ
れた場合に、電子輸送層58における正孔輸送層57と
の界面寄りの部分から信号光としての紫外光が発せられ
る。なお、信号光としては350〜400nmの波長域
以内の紫外光が出力されるように設定することが望まし
い。また、行電極56および列電極60は、アドレス基
板55の端縁まで延在され、駆動用IC(図示省略す
る)と接続されている。このようにして、マトリクス駆
動のアドレス光素子52が構成されている。
【0034】このような構成のアドレス光素子52に組
み合わされる液晶表示素子53は、アドレス光素子52
の発光領域と同程度の面積の表示領域を有している。以
下に、図6を用いて液晶表示素子53の構成を説明す
る。この液晶表示素子53は、対をなす前透明基板63
と後透明基板64と、これら透明基板間にシール材65
により封止されたTN形の液晶と、これら透明基板6
3、64を挟んで配置された対をなす前偏光板67と後
偏光板68と、を備え、旋光性を有するTNセルを用い
る構成である。そして、この実施形態3では、後透明基
板63の対向内側面に、ITOでなる透明な1枚の後駆
動電極69が表示領域全面に亙って形成されている。ま
た、後駆動電極69の前面には、光導電層70が形成さ
れている。さらに、この光導電層70を覆うように、後
配向膜71が形成されている。
み合わされる液晶表示素子53は、アドレス光素子52
の発光領域と同程度の面積の表示領域を有している。以
下に、図6を用いて液晶表示素子53の構成を説明す
る。この液晶表示素子53は、対をなす前透明基板63
と後透明基板64と、これら透明基板間にシール材65
により封止されたTN形の液晶と、これら透明基板6
3、64を挟んで配置された対をなす前偏光板67と後
偏光板68と、を備え、旋光性を有するTNセルを用い
る構成である。そして、この実施形態3では、後透明基
板63の対向内側面に、ITOでなる透明な1枚の後駆
動電極69が表示領域全面に亙って形成されている。ま
た、後駆動電極69の前面には、光導電層70が形成さ
れている。さらに、この光導電層70を覆うように、後
配向膜71が形成されている。
【0035】光導電層70は、光量子を吸収して、伝導
キャリヤを生成する材料でなる。このような光導電層7
0としては、例えば、ZnO、アモルファスシリコン
(a−Si)、アモルファスセレン(a−Se)、Zn
S、SnOxなどの無機半導体や、ポリビニルカルバゾ
ールなどの電荷移動錯体、有機光キャリヤ生成層(ペリ
レン類、キノ類、フタロシアニン類など)と有機キャリ
ヤ輸送層(アリールアミン類、ヒドラジン類、オキサゾ
ール類など)とを積層した有機複合材料、などの材料を
用いることができる。このような材料では、光量子を吸
収すると、伝導キャリヤを生成して、そのインピーダン
スが急激に減少するため、電気伝導性を有するようにな
る。特に、この実施形態3では、光導電層70が信号光
(紫外光)のみを吸収する光吸収特性を有するZnOを
用いている。ZnOは、通常可視光域に吸収をもたな
い。
キャリヤを生成する材料でなる。このような光導電層7
0としては、例えば、ZnO、アモルファスシリコン
(a−Si)、アモルファスセレン(a−Se)、Zn
S、SnOxなどの無機半導体や、ポリビニルカルバゾ
ールなどの電荷移動錯体、有機光キャリヤ生成層(ペリ
レン類、キノ類、フタロシアニン類など)と有機キャリ
ヤ輸送層(アリールアミン類、ヒドラジン類、オキサゾ
ール類など)とを積層した有機複合材料、などの材料を
用いることができる。このような材料では、光量子を吸
収すると、伝導キャリヤを生成して、そのインピーダン
スが急激に減少するため、電気伝導性を有するようにな
る。特に、この実施形態3では、光導電層70が信号光
(紫外光)のみを吸収する光吸収特性を有するZnOを
用いている。ZnOは、通常可視光域に吸収をもたな
い。
【0036】また、前透明基板64の対向内側面には、
表示領域全域に亙って、所定の色配置を有するカラーフ
ィルタ層72が形成されている。また、カラーフィルタ
層72の後面には、透明な保護膜73を介してITOで
なる前駆動電極74が表示領域前面に亙ってが形成され
ている。さらに、前駆動電極74を覆うように前配向膜
75が形成されている。このような構成の液晶表示素子
53においては、前駆動電極74と後駆動電極69がパ
ターニングを要しないものであり、表示領域全域に亙っ
て成膜するだけでよいため、従来のTFTをスイッチン
グ素子とした表示素子に比較してその製造コストを大幅
に低減することができる。そして、このような液晶表示
素子53と、上記したアドレス光素子52とは、カラー
フィルタ層72の色配置に対してアドレス光素子52の
ドット配置(行電極56と列電極60との交差した部分
の配置)とが整合して、信号光が空間周波数を維持して
光導電層70に入射するように組みつけられている。さ
らに、図6に示すように、アドレス光素子52の後方に
は、バックライトシステム54が配置されている。この
バックライトシステム54は、可視光を発する光源76
と導光板77と反射板78とから大略構成されている。
表示領域全域に亙って、所定の色配置を有するカラーフ
ィルタ層72が形成されている。また、カラーフィルタ
層72の後面には、透明な保護膜73を介してITOで
なる前駆動電極74が表示領域前面に亙ってが形成され
ている。さらに、前駆動電極74を覆うように前配向膜
75が形成されている。このような構成の液晶表示素子
53においては、前駆動電極74と後駆動電極69がパ
ターニングを要しないものであり、表示領域全域に亙っ
て成膜するだけでよいため、従来のTFTをスイッチン
グ素子とした表示素子に比較してその製造コストを大幅
に低減することができる。そして、このような液晶表示
素子53と、上記したアドレス光素子52とは、カラー
フィルタ層72の色配置に対してアドレス光素子52の
ドット配置(行電極56と列電極60との交差した部分
の配置)とが整合して、信号光が空間周波数を維持して
光導電層70に入射するように組みつけられている。さ
らに、図6に示すように、アドレス光素子52の後方に
は、バックライトシステム54が配置されている。この
バックライトシステム54は、可視光を発する光源76
と導光板77と反射板78とから大略構成されている。
【0037】次に、本実施形態の表示装置51におい
て、所定の行電極56と列電極60とが選択されてマト
リクス駆動されたときに、アドレス光素子52の所定の
アドレスから信号光が発光された場合の光導電層70で
の作用・動作を説明する。
て、所定の行電極56と列電極60とが選択されてマト
リクス駆動されたときに、アドレス光素子52の所定の
アドレスから信号光が発光された場合の光導電層70で
の作用・動作を説明する。
【0038】まず、後駆動電極69と前駆動電極74と
の間にAC駆動電圧が印加された状態で、所定の行電極
56と列電極60とが選択されて両電極が重なる部分の
正孔輸送層57と電子輸送層58とに電荷が注入される
と、この部分で信号光(紫外光)が発生する。図6中符
号sは、信号光を示している。そして、信号光sが、光
導電層70に入射すると、入射した部分の光導電層70
のインピーダンスが低下する。このため、信号光が入射
した部分の光導電層70と前駆動電極74との間の部分
の液晶66のみに駆動電圧を印加することが可能とな
り、液晶66を所定方向に配向することができる。この
ように液晶66を配向することにより、アドレス光素子
31を介したバックライトシステム54からの光を制御
して表示駆動が可能となる。なお、光源76は可視光の
波長域のみであるので光導電層70を励起することはな
い。
の間にAC駆動電圧が印加された状態で、所定の行電極
56と列電極60とが選択されて両電極が重なる部分の
正孔輸送層57と電子輸送層58とに電荷が注入される
と、この部分で信号光(紫外光)が発生する。図6中符
号sは、信号光を示している。そして、信号光sが、光
導電層70に入射すると、入射した部分の光導電層70
のインピーダンスが低下する。このため、信号光が入射
した部分の光導電層70と前駆動電極74との間の部分
の液晶66のみに駆動電圧を印加することが可能とな
り、液晶66を所定方向に配向することができる。この
ように液晶66を配向することにより、アドレス光素子
31を介したバックライトシステム54からの光を制御
して表示駆動が可能となる。なお、光源76は可視光の
波長域のみであるので光導電層70を励起することはな
い。
【0039】上記した本実施形態においても、アドレス
光素子51はカソード電極である列電極60と電子輸送
層58との間に、カソード電極材料Agより仕事関数の
小さいMgと電子輸送層を構成する有機化合物であるA
lq3とが混合されてなる混合層59が、介在されてい
る。このため、電子を列電極60から混合層59を介し
て電子輸送層58へ効率よく注入することが可能とな
る。このような混合層59を設けることにより、列電極
60の材料として酸化されにくいAgを採用することが
可能となる。よって、列電極60の劣化を防止できる。
しかも、上記したように電子注入効率を向上することが
できるため、アドレス光素子51の発光輝度および発光
効率を向上することができる。このように、発光輝度お
よび発光効率が向上すると、印加電圧を低下させること
ができるため、消費電力を削減できるとともに、発光寿
命を向上させることができる。
光素子51はカソード電極である列電極60と電子輸送
層58との間に、カソード電極材料Agより仕事関数の
小さいMgと電子輸送層を構成する有機化合物であるA
lq3とが混合されてなる混合層59が、介在されてい
る。このため、電子を列電極60から混合層59を介し
て電子輸送層58へ効率よく注入することが可能とな
る。このような混合層59を設けることにより、列電極
60の材料として酸化されにくいAgを採用することが
可能となる。よって、列電極60の劣化を防止できる。
しかも、上記したように電子注入効率を向上することが
できるため、アドレス光素子51の発光輝度および発光
効率を向上することができる。このように、発光輝度お
よび発光効率が向上すると、印加電圧を低下させること
ができるため、消費電力を削減できるとともに、発光寿
命を向上させることができる。
【0040】以上、実施形態1〜実施形態3について説
明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、
構成の要旨に付随する各種の変更が可能である。例え
ば、上記した各実施形態では、混合層としてAlq3と
Mgとを混合したものを用いたが、カソード電極材料よ
り仕事関数が小さい金属またはこれらの金属を含む化合
物を有機EL材料に含有させたものであればよい。例え
ば、カソード電極がAg(仕事関数4.26/eV)で
形成されている場合には、Mgの他に、インジウム(I
n)、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属や
これらの金属を含む化合物或いは、金属ホウ化物、金属
炭化物を用いることも可能である。因に、Liの仕事関
数は2.93/eV、Caは2.9/eV、Inは4.0
9/eVであり、例えばCaの化合物であるCaOの仕
事関数は1.6〜1.86/eVである。またカソード電
極はAgの他に低抵抗のアルミニウム(Al)でも良
い。
明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、
構成の要旨に付随する各種の変更が可能である。例え
ば、上記した各実施形態では、混合層としてAlq3と
Mgとを混合したものを用いたが、カソード電極材料よ
り仕事関数が小さい金属またはこれらの金属を含む化合
物を有機EL材料に含有させたものであればよい。例え
ば、カソード電極がAg(仕事関数4.26/eV)で
形成されている場合には、Mgの他に、インジウム(I
n)、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類金属や
これらの金属を含む化合物或いは、金属ホウ化物、金属
炭化物を用いることも可能である。因に、Liの仕事関
数は2.93/eV、Caは2.9/eV、Inは4.0
9/eVであり、例えばCaの化合物であるCaOの仕
事関数は1.6〜1.86/eVである。またカソード電
極はAgの他に低抵抗のアルミニウム(Al)でも良
い。
【0041】上記実施形態1では、マグネシウム(M
g)とAlq3とを20:1の割合で混合してなる混合
層を形成したが、MgとAlq3とのモル比が6以上と
なるように混合することにより、良好な電子注入効率が
得られる。また、上記各実施形態では、カソード電極材
料としてAgを用いたが、酸化されにくい電極材料であ
ればAgに限定されるものではない。さらに、混合層の
膜厚は200Å以下であることが望ましい。
g)とAlq3とを20:1の割合で混合してなる混合
層を形成したが、MgとAlq3とのモル比が6以上と
なるように混合することにより、良好な電子注入効率が
得られる。また、上記各実施形態では、カソード電極材
料としてAgを用いたが、酸化されにくい電極材料であ
ればAgに限定されるものではない。さらに、混合層の
膜厚は200Å以下であることが望ましい。
【0042】また、上記各実施形態においては、混合層
を共蒸着で形成したが、有機EL材料膜に仕事関数の小
さい金属やその化合物をイオン注入する方法、有機EL
材料膜に仕事関数の小さい金属やその化合物を熱拡散さ
せる方法、湿式成膜法などを用いて形成することが可能
である。
を共蒸着で形成したが、有機EL材料膜に仕事関数の小
さい金属やその化合物をイオン注入する方法、有機EL
材料膜に仕事関数の小さい金属やその化合物を熱拡散さ
せる方法、湿式成膜法などを用いて形成することが可能
である。
【0043】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明によれば、輝度および発光効率が高く、しかもカソー
ド電極の劣化が防止でき、発光寿命の長い電界発光素子
を実現するという効果を奏する。
明によれば、輝度および発光効率が高く、しかもカソー
ド電極の劣化が防止でき、発光寿命の長い電界発光素子
を実現するという効果を奏する。
【図1】本発明の実施形態1に係る電界発光素子の断面
図。
図。
【図2】実施形態1において直流電圧を印加したとき
の、電圧−発光輝度−発光効率特性を示すグラフ。
の、電圧−発光輝度−発光効率特性を示すグラフ。
【図3】比較例1における電圧−発光輝度−発光効率特
性を示すグラフ。
性を示すグラフ。
【図4】比較例2における電圧−発光輝度−発光効率特
性を示すグラフ。
性を示すグラフ。
【図5】本発明の実施形態2に係る表示装置の断面図。
【図6】本発明の実施形態3に係る表示装置の断面図。
【図7】従来例の電界発光素子の断面説明図。
11 電界発光素子 12 ガラス基板 13 アノード電極 14 正孔輸送層 15 電子輸送層(Alq3) 16 混合層(Alq3+Mg) 17 カソード電極(Ag)
Claims (8)
- 【請求項1】 相対向するカソード電極とアノード電極
との間に、有機化合物でなる有機EL層が介在された電
界発光素子において、 前記カソード電極が第1の材料で形成されるとともに、
前記カソード電極と前記有機EL層との間に、前記第1
の材料より仕事関数の小さい第2の材料と、有機化合物
とが混合されてなる混合層が介在されていることを特徴
と電界発光素子。 - 【請求項2】 前記混合層は、前記第2の材料と前記有
機化合物とが共蒸着されてなることを特徴とする請求項
1に記載の電界発光素子。 - 【請求項3】 前記有機EL層は、少なくとも、前記カ
ソード電極側に配置され且つ電子輸送性材料を含む電子
輸送層と、前記アノード電極側に配置され且つ正孔輸送
性材料を含む正孔輸送層と、を備え、前記混合層は、前
記電子輸送性材料と前記第2の材料とが混合されてなる
ことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電界
発光素子。 - 【請求項4】 前記第2の材料は、アルカリ金属、アル
カリ土類金属、希土類金属、マグネシウム(Mg)、イ
ンジウム(In)、またはこれらの金属を含む化合物お
よび金属ホウ化物、金属炭化物の中から選ばれることを
特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載の電界
発光素子。 - 【請求項5】 前記第1の材料は、アルミニウム(A
l)或いは銀(Ag)を含むことを特徴とする請求項1
〜請求項4のいずれかに記載の電界発光素子。 - 【請求項6】 前記混合層は、前記第2の材料と前記有
機化合物との混合モル比(第2の材料のモル数/有機化
合物のモル数)の値が6以上であることを特徴とする請
求項1〜請求項5のいずれかに記載の電界発光素子。 - 【請求項7】 前記電子輸送層はトリス(8−キノリレ
ート)アルミニウム錯体を含んでなり、前記正孔輸送層
はポリビニルカルバゾールとトリフェニルジアミン誘導
体とを含んでなることを特徴とする請求項3〜請求項6
のいずれかに記載の電界発光素子。 - 【請求項8】 前記混合層の厚さが200Å以下である
ことを特徴とする請求項7に記載の電界発光素子。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15047396A JPH09312196A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 電界発光素子 |
| US08/711,869 US5834894A (en) | 1995-09-14 | 1996-09-12 | Carrier injection type organic electro-luminescent device which emits light in response to an application of a voltage |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15047396A JPH09312196A (ja) | 1996-05-23 | 1996-05-23 | 電界発光素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09312196A true JPH09312196A (ja) | 1997-12-02 |
Family
ID=15497680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15047396A Abandoned JPH09312196A (ja) | 1995-09-14 | 1996-05-23 | 電界発光素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09312196A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100299731B1 (ko) * | 1998-03-25 | 2001-09-06 | 김덕중 | 킬레이트금속배위화합물을포함하는유기발광소자 |
| JP2002531913A (ja) * | 1998-12-02 | 2002-09-24 | サウス バンク ユニバーシティー エンタープライジズ リミテッド | 膜または層を形成するための方法 |
| JP2009110770A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Fujikura Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子及び光インターコネクション |
| KR101306840B1 (ko) * | 2010-10-15 | 2013-09-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전기발광소자 |
| US11094903B2 (en) | 2017-04-07 | 2021-08-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element having an organic compound and a transition metal forming SOMO |
-
1996
- 1996-05-23 JP JP15047396A patent/JPH09312196A/ja not_active Abandoned
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100299731B1 (ko) * | 1998-03-25 | 2001-09-06 | 김덕중 | 킬레이트금속배위화합물을포함하는유기발광소자 |
| JP2002531913A (ja) * | 1998-12-02 | 2002-09-24 | サウス バンク ユニバーシティー エンタープライジズ リミテッド | 膜または層を形成するための方法 |
| JP2009110770A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-05-21 | Fujikura Ltd | 有機エレクトロルミネッセンス素子及び光インターコネクション |
| KR101306840B1 (ko) * | 2010-10-15 | 2013-09-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 유기전기발광소자 |
| US11094903B2 (en) | 2017-04-07 | 2021-08-17 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element having an organic compound and a transition metal forming SOMO |
| US11588125B2 (en) | 2017-04-07 | 2023-02-21 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light emitting element comprising a first organic compound has a conjugate double bond n—c—c—n over a plurality of heterocycles |
| US11968850B2 (en) | 2017-04-07 | 2024-04-23 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Light-emitting element having an organic compound and a transition metal |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20031215 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040106 |
|
| A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20040305 |