JPH09314324A - 微細球体供給装置 - Google Patents
微細球体供給装置Info
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- JPH09314324A JPH09314324A JP15909396A JP15909396A JPH09314324A JP H09314324 A JPH09314324 A JP H09314324A JP 15909396 A JP15909396 A JP 15909396A JP 15909396 A JP15909396 A JP 15909396A JP H09314324 A JPH09314324 A JP H09314324A
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- Japan
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- fine
- adsorption head
- solder
- negative pressure
- thin film
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/30—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors
- H05K3/32—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits
- H05K3/34—Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistors electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
- H05K3/3465—Application of solder
- H05K3/3478—Application of solder preforms; Transferring prefabricated solder patterns
Landscapes
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】微細球体を信頼性高く供給し得る微細球体供給
装置を実現し難かつた。 【解決手段】微細球体を吸着保持し、搬送して供給対象
物の供給対象位置に供給する微細球体供給装置におい
て、多孔質物質からなる本体部の一部表面上に、供給対
象物の供給位置に対応させて単数又は複数の開口部を有
する薄膜層が積層形成された吸着ヘツドと、吸着ヘツド
の本体部に負圧を供給する負圧源とを設け、負圧源から
供給される負圧に基づいて、吸着ヘツドの薄膜層の開口
部を介して微細球体を吸着保持するようにしたことによ
り、微細球体を転写性良く吸着保持し得ると共に、より
微細な球体をより狭ピツチで吸着保持することができ、
かくして微細球体を狭ピツチで信頼性高く供給し得る微
細球体供給装置を実現できる。
装置を実現し難かつた。 【解決手段】微細球体を吸着保持し、搬送して供給対象
物の供給対象位置に供給する微細球体供給装置におい
て、多孔質物質からなる本体部の一部表面上に、供給対
象物の供給位置に対応させて単数又は複数の開口部を有
する薄膜層が積層形成された吸着ヘツドと、吸着ヘツド
の本体部に負圧を供給する負圧源とを設け、負圧源から
供給される負圧に基づいて、吸着ヘツドの薄膜層の開口
部を介して微細球体を吸着保持するようにしたことによ
り、微細球体を転写性良く吸着保持し得ると共に、より
微細な球体をより狭ピツチで吸着保持することができ、
かくして微細球体を狭ピツチで信頼性高く供給し得る微
細球体供給装置を実現できる。
Description
【0001】
【目次】以下の順序で本発明を説明する。 発明の属する技術分野 従来の技術 発明が解決しようとする課題 課題を解決するための手段(図1〜図3) 発明の実施の形態(図1〜図5) 発明の効果
【0002】
【発明の属する技術分野】本発明は微細球体供給装置に
関し、例えばはんだボールをプリント配線板の対応する
ランド上に供給する球状はんだ供給装置に適用して好適
なものである。
関し、例えばはんだボールをプリント配線板の対応する
ランド上に供給する球状はんだ供給装置に適用して好適
なものである。
【0003】
【従来の技術】従来、例えばICチツプ等の電子部品を
実装するのに必要な微量のはんだをプリント配線板の対
応するランド上に供給する方法として、めつき法や蒸着
法がある。また従来では、これらめつき法及び蒸着法に
加え、プリント配線板の所望するランド上にはんだを供
給する方法として、クリームはんだをスクリーン印刷す
るいわゆるスクリーン印刷法も広く使用されている。
実装するのに必要な微量のはんだをプリント配線板の対
応するランド上に供給する方法として、めつき法や蒸着
法がある。また従来では、これらめつき法及び蒸着法に
加え、プリント配線板の所望するランド上にはんだを供
給する方法として、クリームはんだをスクリーン印刷す
るいわゆるスクリーン印刷法も広く使用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところがめつき法や蒸
着法によつてプリント配線板の所望するランド上にはん
だを供給しようとする場合、設備が大がかりになるため
にコストが高くなる問題があつた。特にめつき法は、供
給するはんだ量にばらつきが生じ易い問題もあり、また
はんだの供給量を増加させたいときにはその分時間を多
く必要としたり、この際量精度がさらに劣化する問題も
あつた。さらにめつき法は、工程に場所的制約を受け易
く、実装ライン内では適用し得ない問題があつた。
着法によつてプリント配線板の所望するランド上にはん
だを供給しようとする場合、設備が大がかりになるため
にコストが高くなる問題があつた。特にめつき法は、供
給するはんだ量にばらつきが生じ易い問題もあり、また
はんだの供給量を増加させたいときにはその分時間を多
く必要としたり、この際量精度がさらに劣化する問題も
あつた。さらにめつき法は、工程に場所的制約を受け易
く、実装ライン内では適用し得ない問題があつた。
【0005】一方スクリーン印刷法においては、微細な
ピツチでスクリーンに開口部を形成し難く、また微細な
開口部を介してのクリームはんだ転写を行い難い問題が
あつた。従つてスクリーン印刷法は、狭ピツチICチツ
プに対応したランドパターンへの適用が難しく、適用し
たとしてもブリツジ等の印刷不良を生じ易い問題があつ
た。
ピツチでスクリーンに開口部を形成し難く、また微細な
開口部を介してのクリームはんだ転写を行い難い問題が
あつた。従つてスクリーン印刷法は、狭ピツチICチツ
プに対応したランドパターンへの適用が難しく、適用し
たとしてもブリツジ等の印刷不良を生じ易い問題があつ
た。
【0006】ところで、近年、プリント配線板の所望す
るランド上にはんだを供給するもう一つの方法として、
真空ポンプ等の真空源と連結された吸着ヘツドで微小径
のはんだボールを吸着保持し、これをプリント配線板の
所望する各ランド上にまで搬送して転写する装置(以
下、これを球状はんだ供給装置と呼ぶ)を用いた方法が
提案されている(特願平5-239148号及び特願平5-239148
号等)。この場合プリント配線板上に転写されたはんだ
ボールは、プリント配線板上に塗布されたフラツクスの
粘着力によつて対応するランド上に位置決め保持され、
この後加熱されることにより溶融して当該各ランドをそ
れぞれコートする。
るランド上にはんだを供給するもう一つの方法として、
真空ポンプ等の真空源と連結された吸着ヘツドで微小径
のはんだボールを吸着保持し、これをプリント配線板の
所望する各ランド上にまで搬送して転写する装置(以
下、これを球状はんだ供給装置と呼ぶ)を用いた方法が
提案されている(特願平5-239148号及び特願平5-239148
号等)。この場合プリント配線板上に転写されたはんだ
ボールは、プリント配線板上に塗布されたフラツクスの
粘着力によつて対応するランド上に位置決め保持され、
この後加熱されることにより溶融して当該各ランドをそ
れぞれコートする。
【0007】従つてこのような方法によれば、転写する
はんだボールとして均一な球径のものを選択的に使用す
ることにより、微量でかつ均一高さのはんだコートをプ
リント配線板の所望する各ランド上にそれぞれ形成し得
る一方、はんだボールの球形選択することにより所望高
さのはんだコートを形成し得る利点がある。
はんだボールとして均一な球径のものを選択的に使用す
ることにより、微量でかつ均一高さのはんだコートをプ
リント配線板の所望する各ランド上にそれぞれ形成し得
る一方、はんだボールの球形選択することにより所望高
さのはんだコートを形成し得る利点がある。
【0008】ところが、従来提案されている球状はんだ
供給装置では、はんだボールを吸着保持する上述の吸着
ヘツドの吸着部がプリント配線板の各ランドにそれぞれ
対応させて開口部が設けられたスクリーンであつたり、
又は当該各ランドにそれぞれ対応させて配置された複数
のノズルであるために、微細なランドパターンに対応し
難い問題があつた。
供給装置では、はんだボールを吸着保持する上述の吸着
ヘツドの吸着部がプリント配線板の各ランドにそれぞれ
対応させて開口部が設けられたスクリーンであつたり、
又は当該各ランドにそれぞれ対応させて配置された複数
のノズルであるために、微細なランドパターンに対応し
難い問題があつた。
【0009】また従来の球状はんだ供給装置では、はん
だが金属の中では比較的柔らかいために、上述のように
構成された吸着ヘツドの吸着部にはんだボールを吸着し
たときに当該はんだボールがスクリーンの開口部やノズ
ルの先端部に大きくくい込み易く、プリント配線板へ転
写しないことがあるなど、はんだ供給の信頼性が低い問
題があつた。
だが金属の中では比較的柔らかいために、上述のように
構成された吸着ヘツドの吸着部にはんだボールを吸着し
たときに当該はんだボールがスクリーンの開口部やノズ
ルの先端部に大きくくい込み易く、プリント配線板へ転
写しないことがあるなど、はんだ供給の信頼性が低い問
題があつた。
【0010】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、微細球体を信頼性高く供給し得る微細球体供給装置
を提案しようとするものである。
で、微細球体を信頼性高く供給し得る微細球体供給装置
を提案しようとするものである。
【0011】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、微細球体を吸着保持し、搬送して
供給対象物の供給対象位置に供給する微細球体供給装置
において、多孔質物質からなる本体部の一部表面上に、
供給対象物の供給位置に対応させて単数又は複数の開口
部を有する薄膜層が積層形成された吸着ヘツドを設ける
ようにした。
め本発明においては、微細球体を吸着保持し、搬送して
供給対象物の供給対象位置に供給する微細球体供給装置
において、多孔質物質からなる本体部の一部表面上に、
供給対象物の供給位置に対応させて単数又は複数の開口
部を有する薄膜層が積層形成された吸着ヘツドを設ける
ようにした。
【0012】この場合この微細球体供給装置では、微細
球体が薄膜層の各開口部を介して本体部に吸いつけられ
るように吸着ヘツドに吸着保持されるため、薄膜層の各
開口部への球体の食い込みが少なく、その分微細球体を
吸着ヘツドから転写性良く球体供給対象の供給位置に転
写することができる。
球体が薄膜層の各開口部を介して本体部に吸いつけられ
るように吸着ヘツドに吸着保持されるため、薄膜層の各
開口部への球体の食い込みが少なく、その分微細球体を
吸着ヘツドから転写性良く球体供給対象の供給位置に転
写することができる。
【0013】またこの微細球体供給装置では、微細球体
を吸着ヘツドの本体部に吸いつけるようにして保持する
ためより微細な球体に対応でき、また薄膜層の開口部を
狭ピツチで形成することができるため、微細な球体をよ
り狭ピツチで吸着保持することができる。
を吸着ヘツドの本体部に吸いつけるようにして保持する
ためより微細な球体に対応でき、また薄膜層の開口部を
狭ピツチで形成することができるため、微細な球体をよ
り狭ピツチで吸着保持することができる。
【0014】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
施例を詳述する。
【0015】図1において、1は全体として本発明を適
用した実施例による球状はんだ供給装置を示し、架台2
の内部に装置1全体を制御する制御部22が配置されて
いる。この架台2上にはベース板3が配設されており、
当該ベース板3上には、図示しないテーブル駆動機構か
ら与えられる推進力に基づいてY方向(矢印y)に移動
自在に基板搬送テーブル4が配置されている。これによ
り供給される加工対象のプリント配線板5をこの基板搬
送テーブル4上に載せてベース板3上をX方向に自在に
搬送し得るようになされている。
用した実施例による球状はんだ供給装置を示し、架台2
の内部に装置1全体を制御する制御部22が配置されて
いる。この架台2上にはベース板3が配設されており、
当該ベース板3上には、図示しないテーブル駆動機構か
ら与えられる推進力に基づいてY方向(矢印y)に移動
自在に基板搬送テーブル4が配置されている。これによ
り供給される加工対象のプリント配線板5をこの基板搬
送テーブル4上に載せてベース板3上をX方向に自在に
搬送し得るようになされている。
【0016】またこのベース板3上には支柱6が植設さ
れると共に、当該支柱6にはガイド面7AをX方向(矢
印x)と平行に向けてガイド部材7が配置され、かつ当
該ガイド部材7にはガイド面7Aに沿つてX方向に移動
自在に第1の可動体8が取り付けられている。この場合
第1の可動体8には、Z方向(矢印z)に移動自在に、
かつZ方向と平行な中心軸K1を中心として回転自在に
第2の可動体9が挿着されると共に、当該第2の可動体
9の下端にはノズル10を介して吸着ヘツド11が取り
付けられいる。
れると共に、当該支柱6にはガイド面7AをX方向(矢
印x)と平行に向けてガイド部材7が配置され、かつ当
該ガイド部材7にはガイド面7Aに沿つてX方向に移動
自在に第1の可動体8が取り付けられている。この場合
第1の可動体8には、Z方向(矢印z)に移動自在に、
かつZ方向と平行な中心軸K1を中心として回転自在に
第2の可動体9が挿着されると共に、当該第2の可動体
9の下端にはノズル10を介して吸着ヘツド11が取り
付けられいる。
【0017】また吸着ヘツド11は、ノズル10を介し
て負圧源23(図2)と連結され、当該負圧源23から
ノズル11を介して与えられる負圧に基づいてその下面
でなる吸着面11A(図2)にはんだボールを吸着保持
し得るようになされている。さらにベース板3上には、
第1の可動体8がガイド部材7の一端側に設定された原
点位置に位置したときに吸着ヘツド11の吸着面と対向
するように、多数のはんだボール12が収容されたはん
だ漕13が配設されている。
て負圧源23(図2)と連結され、当該負圧源23から
ノズル11を介して与えられる負圧に基づいてその下面
でなる吸着面11A(図2)にはんだボールを吸着保持
し得るようになされている。さらにベース板3上には、
第1の可動体8がガイド部材7の一端側に設定された原
点位置に位置したときに吸着ヘツド11の吸着面と対向
するように、多数のはんだボール12が収容されたはん
だ漕13が配設されている。
【0018】これによりこの球状はんだ供給装置1で
は、制御部22が所定のタイミングで第1及び第2の可
動体8、9並びに負圧源23を駆動させることによつ
て、はんだ漕13内のはんだボール12を吸着ヘツド1
0の吸着面11Aに吸着保持し、これをガイド部材7の
ガイド面7Aに沿つてX方向に搬送して、基板搬送テー
ブル4により所定の加工位置(図1においてプリント配
線板5が描かれている位置)にまで搬送されてきたプリ
ント配線板5の対応するはんだ供給位置(種としてラン
ド、以下、これをランドとする)上に転写することがで
きるようになされている。
は、制御部22が所定のタイミングで第1及び第2の可
動体8、9並びに負圧源23を駆動させることによつ
て、はんだ漕13内のはんだボール12を吸着ヘツド1
0の吸着面11Aに吸着保持し、これをガイド部材7の
ガイド面7Aに沿つてX方向に搬送して、基板搬送テー
ブル4により所定の加工位置(図1においてプリント配
線板5が描かれている位置)にまで搬送されてきたプリ
ント配線板5の対応するはんだ供給位置(種としてラン
ド、以下、これをランドとする)上に転写することがで
きるようになされている。
【0019】このためベース板3上には、X方向に移動
する吸着ヘツド11の吸着面11Aを撮影し得るように
カメラ20が配設されており、かくして当該カメラ20
の出力に基づいて制御部22が吸着ヘツド11の吸着面
11Aにおけるはんだボール12の吸着状態(未吸着の
有無等)の確認や、吸着面の位置認識を行い得るように
なされている。
する吸着ヘツド11の吸着面11Aを撮影し得るように
カメラ20が配設されており、かくして当該カメラ20
の出力に基づいて制御部22が吸着ヘツド11の吸着面
11Aにおけるはんだボール12の吸着状態(未吸着の
有無等)の確認や、吸着面の位置認識を行い得るように
なされている。
【0020】また第1の可動体8にはカメラ21が一体
に取り付けられており、かくして制御部22が加工位置
に位置するプリント配線板5に設けられている認識マー
クを当該カメラ21の出力に基づいて検出し、当該検出
結果に基づいて第1及び第2の可動体等を駆動制御する
ことにより、吸着ヘツド11に吸着保持されたはんだボ
ール12を位置精度良くプリント配線板5上に転写し得
るようになされている。
に取り付けられており、かくして制御部22が加工位置
に位置するプリント配線板5に設けられている認識マー
クを当該カメラ21の出力に基づいて検出し、当該検出
結果に基づいて第1及び第2の可動体等を駆動制御する
ことにより、吸着ヘツド11に吸着保持されたはんだボ
ール12を位置精度良くプリント配線板5上に転写し得
るようになされている。
【0021】ここで実際上この球状はんだ供給装置1の
場合、吸着ヘツド11は、図2に示すように、ノズル1
0の下端部に固定された本体部30の表面全面を薄膜層
31で覆うことにより形成されている。この場合本体部
30は、例えばセラミツクやグラフアイト等の多孔質物
質から形成されており、下面30Aが平面状に形成され
ている。
場合、吸着ヘツド11は、図2に示すように、ノズル1
0の下端部に固定された本体部30の表面全面を薄膜層
31で覆うことにより形成されている。この場合本体部
30は、例えばセラミツクやグラフアイト等の多孔質物
質から形成されており、下面30Aが平面状に形成され
ている。
【0022】また薄膜層31は、クロム等のはんだとの
ぬれ性が悪い金属材をめつき法により被着することによ
り形成されており、本体部31の下面30Aを覆う部位
31Aにはプリント配線板5(図1)の対応する各ラン
ドにそれぞれ対応させて複数の開口部31AXが設けら
れている。
ぬれ性が悪い金属材をめつき法により被着することによ
り形成されており、本体部31の下面30Aを覆う部位
31Aにはプリント配線板5(図1)の対応する各ラン
ドにそれぞれ対応させて複数の開口部31AXが設けら
れている。
【0023】これによりこの吸着ヘツド11において
は、ノズル10を介して負圧源23から供給される負圧
に基づいて、図3に示すように、はんだボール12を薄
膜層31の各開口部31AXをそれぞれ介して本体部3
0の下面30Aに吸い付けることができ、かくして複数
のはんだボール12をプリント配線板5の対応する各ラ
ンドと同じ位置関係で吸着保持し得るようになされてい
る。
は、ノズル10を介して負圧源23から供給される負圧
に基づいて、図3に示すように、はんだボール12を薄
膜層31の各開口部31AXをそれぞれ介して本体部3
0の下面30Aに吸い付けることができ、かくして複数
のはんだボール12をプリント配線板5の対応する各ラ
ンドと同じ位置関係で吸着保持し得るようになされてい
る。
【0024】以上の構成において、この球状はんだ供給
装置1では、動作時、まず上述のテーブル駆動機構が駆
動して基板搬送テーブル4を移動させることにより、当
該基板搬送テーブル4上に載置された加工対象のプリン
ト配線板5を加工位置にまで搬送する。
装置1では、動作時、まず上述のテーブル駆動機構が駆
動して基板搬送テーブル4を移動させることにより、当
該基板搬送テーブル4上に載置された加工対象のプリン
ト配線板5を加工位置にまで搬送する。
【0025】次いで第1の可動体8が原点位置に位置し
た状態において第2の可動体9が駆動して吸着ヘツド1
1をはんだ漕13に向けて下降させると共に、このとき
負圧源23が駆動して吸着ヘツド11に負圧を与えるこ
とにより、当該吸着ヘツド11の吸着面11A(図2)
にはんだ漕13内のはんだボール12をプリント配線板
5の対応する各ランドと同じ位置関係で吸着する。
た状態において第2の可動体9が駆動して吸着ヘツド1
1をはんだ漕13に向けて下降させると共に、このとき
負圧源23が駆動して吸着ヘツド11に負圧を与えるこ
とにより、当該吸着ヘツド11の吸着面11A(図2)
にはんだ漕13内のはんだボール12をプリント配線板
5の対応する各ランドと同じ位置関係で吸着する。
【0026】続いて第2の可動体9が駆動して吸着ヘツ
ド11を上昇させると共に、第1の可動体8が駆動して
ガイド部材7のガイド面7Aに沿つて移動することによ
り、吸着ヘツド11をカメラ20の上方の所定位置にま
で移動させる。これにより吸着ヘツド11によるはんだ
ボール12の吸着状態の確認(未吸着確認等)及び吸着
ヘツド11の吸着面11Aの位置認識を行うと共に、こ
の後この位置認識結果に基づいて必要に応じて第2の可
動体9が駆動して回転することにより吸着ヘツド11を
回転させて当該吸着ヘツド11の回転方向の位置合わせ
を行う。
ド11を上昇させると共に、第1の可動体8が駆動して
ガイド部材7のガイド面7Aに沿つて移動することによ
り、吸着ヘツド11をカメラ20の上方の所定位置にま
で移動させる。これにより吸着ヘツド11によるはんだ
ボール12の吸着状態の確認(未吸着確認等)及び吸着
ヘツド11の吸着面11Aの位置認識を行うと共に、こ
の後この位置認識結果に基づいて必要に応じて第2の可
動体9が駆動して回転することにより吸着ヘツド11を
回転させて当該吸着ヘツド11の回転方向の位置合わせ
を行う。
【0027】続いて再び第1の可動体8が駆動すること
により吸着ヘツド11をガイド部材7のガイド面7Aに
沿つてX方向の他端側に移動させると共に、この際カメ
ラ21からの出力に基づいてプリント配線板5の認識マ
ークを検出し、当該検出結果に基づいて吸着ヘツド11
をプリント配線板5上方の所定位置に位置させる。
により吸着ヘツド11をガイド部材7のガイド面7Aに
沿つてX方向の他端側に移動させると共に、この際カメ
ラ21からの出力に基づいてプリント配線板5の認識マ
ークを検出し、当該検出結果に基づいて吸着ヘツド11
をプリント配線板5上方の所定位置に位置させる。
【0028】さらにこの後第2の可動体9が駆動して吸
着ヘツド11を下降させることにより当該吸着ヘツド1
1の吸着面11Aに吸着保持された各はんだボール12
をプリント配線板5の対応するランド上に載せると共
に、この際負圧源23が吸着ヘツド11への負圧供給を
停止することにより、これら各はんだボール12をプリ
ント配線板5上に転写する。なおこの際プリント配線板
5の対応位置上にはフラツクスが塗布されており、転写
された各はんだボール12はこのフラツクスによりプリ
ント配線板5上に保持される。
着ヘツド11を下降させることにより当該吸着ヘツド1
1の吸着面11Aに吸着保持された各はんだボール12
をプリント配線板5の対応するランド上に載せると共
に、この際負圧源23が吸着ヘツド11への負圧供給を
停止することにより、これら各はんだボール12をプリ
ント配線板5上に転写する。なおこの際プリント配線板
5の対応位置上にはフラツクスが塗布されており、転写
された各はんだボール12はこのフラツクスによりプリ
ント配線板5上に保持される。
【0029】続いてテーブル駆動機構が駆動して基板搬
送テーブル4をY方向に移動させることにより、当該基
板搬送テーブル4上のプリント配線板5を続く処理ライ
ンに送り出すと共に、この後プリント配線板5が供給さ
れる毎に同様の動作を繰り返す。このようにしてこのは
んだ供給装置1は、供給されるプリント配線板5の所定
位置上に順次はんだボール12を供給する。なお続く処
理ラインに送り出されたプリント配線板5は、この後リ
フロー炉又はレーザ加熱装置等の加熱装置に供給され、
当該加熱装置において各はんだボール12が加熱溶融さ
れることにより各ランド上にはんだコートが形成され
る。
送テーブル4をY方向に移動させることにより、当該基
板搬送テーブル4上のプリント配線板5を続く処理ライ
ンに送り出すと共に、この後プリント配線板5が供給さ
れる毎に同様の動作を繰り返す。このようにしてこのは
んだ供給装置1は、供給されるプリント配線板5の所定
位置上に順次はんだボール12を供給する。なお続く処
理ラインに送り出されたプリント配線板5は、この後リ
フロー炉又はレーザ加熱装置等の加熱装置に供給され、
当該加熱装置において各はんだボール12が加熱溶融さ
れることにより各ランド上にはんだコートが形成され
る。
【0030】ここでこのはんだ供給装置1の場合、吸着
ヘツド11は、上述のように多孔質物質でなる本体部3
0の表面全面を薄膜層31で覆うようにして形成されて
おり、はんだボール12を薄膜層31の各開口部31A
Xをそれぞれ対して本体部30に吸い付けるようにして
吸着保持する。
ヘツド11は、上述のように多孔質物質でなる本体部3
0の表面全面を薄膜層31で覆うようにして形成されて
おり、はんだボール12を薄膜層31の各開口部31A
Xをそれぞれ対して本体部30に吸い付けるようにして
吸着保持する。
【0031】この場合薄膜層31の各開口部31AXの
深さは、当該薄膜層31の本体部30の下面30Aを覆
う部位30Aと厚みと同じであるために浅く、従つては
んだボール12の薄膜層31の各開口部31AXへの食
い込みが少ない分、吸着ヘツド11に吸着保持したはん
だボール12を転写性良くプリント配線板5上に転写す
ることができる。
深さは、当該薄膜層31の本体部30の下面30Aを覆
う部位30Aと厚みと同じであるために浅く、従つては
んだボール12の薄膜層31の各開口部31AXへの食
い込みが少ない分、吸着ヘツド11に吸着保持したはん
だボール12を転写性良くプリント配線板5上に転写す
ることができる。
【0032】またこのはんだ供給装置1では、上述のよ
うに吸着ヘツド11の本体部30として多孔質物質を用
いているため微小径のはんだボール12にも対応でき、
さらに吸着ヘツド11の薄膜層31をめつき処理により
形成しているため各開口部31AXを近接して形成する
ことができる。従つて狭ピツチICチツプに対応したラ
ンドパターンへのはんだ供給時にも実用上十分に対応す
ることができる。
うに吸着ヘツド11の本体部30として多孔質物質を用
いているため微小径のはんだボール12にも対応でき、
さらに吸着ヘツド11の薄膜層31をめつき処理により
形成しているため各開口部31AXを近接して形成する
ことができる。従つて狭ピツチICチツプに対応したラ
ンドパターンへのはんだ供給時にも実用上十分に対応す
ることができる。
【0033】以上の構成によれば、多孔質物質からなる
本体部30の表面全面を薄膜層31で覆うと共に、当該
薄膜層31の本体部30の下面30Aを覆う部位31A
にプリント配線板5の各ランドに対応させて開口部31
AXを形成するようにして吸着ヘツド11を形成するよ
うにしたことにより、吸着保持したはんだボール12の
転写性を向上させ得ると共に、微細なはんだボール12
を狭ピツチで保持することができ、かくして微細なはん
だボール12を狭ピツチで信頼性高く供給し得る球状は
んだ供給装置を実現できる。
本体部30の表面全面を薄膜層31で覆うと共に、当該
薄膜層31の本体部30の下面30Aを覆う部位31A
にプリント配線板5の各ランドに対応させて開口部31
AXを形成するようにして吸着ヘツド11を形成するよ
うにしたことにより、吸着保持したはんだボール12の
転写性を向上させ得ると共に、微細なはんだボール12
を狭ピツチで保持することができ、かくして微細なはん
だボール12を狭ピツチで信頼性高く供給し得る球状は
んだ供給装置を実現できる。
【0034】なお上述の実施例においては、本発明をは
んだボール12をプリント配線板5上の対応するランド
上に転写する球状はんだ供給装置1に適用するようにし
た場合について述べたが、本発明はこれに限らず、微細
球体を吸着保持し、搬送して供給対象物の供給位置に供
給するこの他種々の微細球体供給装置に適用することが
できる。
んだボール12をプリント配線板5上の対応するランド
上に転写する球状はんだ供給装置1に適用するようにし
た場合について述べたが、本発明はこれに限らず、微細
球体を吸着保持し、搬送して供給対象物の供給位置に供
給するこの他種々の微細球体供給装置に適用することが
できる。
【0035】また上述の実施例においては、吸着ヘツド
11の薄膜層31を金属材をめつき法により被着するこ
とにより形成するようにした場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、蒸着法等この他種々の方法を適用
できる。この場合薄膜層31の各開口部31AXの形成
方法としては、めつき時又は蒸着時に形成するようにし
ても、また本体部30の表面全面を覆うように薄膜層を
形成した後、エツジング法等により形成するようにして
も良い。
11の薄膜層31を金属材をめつき法により被着するこ
とにより形成するようにした場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、蒸着法等この他種々の方法を適用
できる。この場合薄膜層31の各開口部31AXの形成
方法としては、めつき時又は蒸着時に形成するようにし
ても、また本体部30の表面全面を覆うように薄膜層を
形成した後、エツジング法等により形成するようにして
も良い。
【0036】さらに上述の実施例においては、薄膜層3
1を金属材を用いて形成するようにした場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、この他種々の素材を用
いて薄膜層を形成するようにしても良い。この場合使用
する素材としては、はんだとのぬれ性が悪いものを適用
すれば、はんだとのぬれ性の良い素材を用いる場合に比
べてより信頼性の高い球状はんだ供給装置を構築するこ
とができる。
1を金属材を用いて形成するようにした場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、この他種々の素材を用
いて薄膜層を形成するようにしても良い。この場合使用
する素材としては、はんだとのぬれ性が悪いものを適用
すれば、はんだとのぬれ性の良い素材を用いる場合に比
べてより信頼性の高い球状はんだ供給装置を構築するこ
とができる。
【0037】さらに上述の実施例においては、はんだ漕
13に溜められたはんだボール12を直接吸着ヘツド1
1に吸着するようにした場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、例えば図4に示すように、はんだ漕1
3の上部開口を、吸着ヘツド11の薄膜層31に形成さ
れた開口部31AXと同じパターンで開口部40Aが形
成されたスクリーン40で覆い、当該スクリーン40の
各開口部40Aをそれぞれ介してはんだ漕13内から吸
着ヘツド11の薄膜層31の各開口部31AXにはんだ
ボール12を吸引するようにしても良い。
13に溜められたはんだボール12を直接吸着ヘツド1
1に吸着するようにした場合について述べたが、本発明
はこれに限らず、例えば図4に示すように、はんだ漕1
3の上部開口を、吸着ヘツド11の薄膜層31に形成さ
れた開口部31AXと同じパターンで開口部40Aが形
成されたスクリーン40で覆い、当該スクリーン40の
各開口部40Aをそれぞれ介してはんだ漕13内から吸
着ヘツド11の薄膜層31の各開口部31AXにはんだ
ボール12を吸引するようにしても良い。
【0038】このようにすることによつて、吸着ヘツド
11の薄膜層31の1つの開口部31AXに静電気等の
影響により複数のはんだボール12が吸着されることを
防止でき、その分はんだ供給の信頼性をより向上させる
ことができる。またこのスクリーン40に代えて、はん
だ漕13の近傍又は吸着ヘツド11の移動路近傍に、吸
着ヘツド11に吸着保持されたはんだボール12に所定
圧力の空気(又は他の気体)を吹きつける気体吹きつけ
手段を設け、当該気体吹きつけ手段から吹き出す空気
(又は他の気体)の圧力によつて吸着ヘツド11に吸着
保持された余分なはんだボール12を吹き払うようにし
ても良く、このようにしても上述のスクリーン40を用
いた場合と同様の効果を得ることができる。
11の薄膜層31の1つの開口部31AXに静電気等の
影響により複数のはんだボール12が吸着されることを
防止でき、その分はんだ供給の信頼性をより向上させる
ことができる。またこのスクリーン40に代えて、はん
だ漕13の近傍又は吸着ヘツド11の移動路近傍に、吸
着ヘツド11に吸着保持されたはんだボール12に所定
圧力の空気(又は他の気体)を吹きつける気体吹きつけ
手段を設け、当該気体吹きつけ手段から吹き出す空気
(又は他の気体)の圧力によつて吸着ヘツド11に吸着
保持された余分なはんだボール12を吹き払うようにし
ても良く、このようにしても上述のスクリーン40を用
いた場合と同様の効果を得ることができる。
【0039】さらに上述の実施例においては、吸着ヘツ
ド11に加熱手段を設けない場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、例えば図5に示すように、制御部
22により温度調整器50を介して温度制御されるヒー
タ等の加熱手段50を本体部30内に設け、プリント配
線板5上にはんだボール12を位置決めして載せた後、
加熱手段50を駆動させて当該はんだボール12を加熱
溶融させるようにしても良い。このようにすることによ
つて、この球状はんだ供給装置1からリフロー炉又はレ
ーザ加熱装置等の加熱装置までの間のはんだボール12
の欠落や位置ずれを防止でき、かくしてより信頼性の高
い球状はんだ供給装置を実現できる。
ド11に加熱手段を設けない場合について述べたが、本
発明はこれに限らず、例えば図5に示すように、制御部
22により温度調整器50を介して温度制御されるヒー
タ等の加熱手段50を本体部30内に設け、プリント配
線板5上にはんだボール12を位置決めして載せた後、
加熱手段50を駆動させて当該はんだボール12を加熱
溶融させるようにしても良い。このようにすることによ
つて、この球状はんだ供給装置1からリフロー炉又はレ
ーザ加熱装置等の加熱装置までの間のはんだボール12
の欠落や位置ずれを防止でき、かくしてより信頼性の高
い球状はんだ供給装置を実現できる。
【0040】さらに上述の実施例においては、吸着ヘツ
ド11の本体部30の表面全面上に薄膜層31を積層形
成するようにした場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、本体部30の下面30A(一部表面)上のみ
にプリント配線板5の各ランドにそれぞれ対応させて開
口部31AXが形成された薄膜層を形成するようにして
も良い。なおこの場合には、本体部30の他の表面を、
例えば箱状の筐体等、本体部30を外部と遮断(密閉)
する薄膜以外の他の遮断手段(密閉手段)により密閉す
るようにすれば良い。
ド11の本体部30の表面全面上に薄膜層31を積層形
成するようにした場合について述べたが、本発明はこれ
に限らず、本体部30の下面30A(一部表面)上のみ
にプリント配線板5の各ランドにそれぞれ対応させて開
口部31AXが形成された薄膜層を形成するようにして
も良い。なおこの場合には、本体部30の他の表面を、
例えば箱状の筐体等、本体部30を外部と遮断(密閉)
する薄膜以外の他の遮断手段(密閉手段)により密閉す
るようにすれば良い。
【0041】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、微細球体
を吸着保持し、搬送して供給対象物の供給対象位置に供
給する微細球体供給装置において、多孔質物質からなる
本体部の一部表面上に、供給対象物の供給位置に対応さ
せて単数又は複数の開口部を有する薄膜層が積層形成さ
れた吸着ヘツドと、吸着ヘツドの本体部に負圧を供給す
る負圧源とを設け、負圧源から供給される負圧に基づい
て、吸着ヘツドの薄膜層の開口部を介して微細球体を吸
着保持するようにしたことにより、微細球体を転写性良
く吸着保持し得ると共に、より微細な球体をより狭ピツ
チで吸着保持することができ、かくして微細球体を狭ピ
ツチで信頼性高く供給し得る微細球体供給装置を実現で
きる。
を吸着保持し、搬送して供給対象物の供給対象位置に供
給する微細球体供給装置において、多孔質物質からなる
本体部の一部表面上に、供給対象物の供給位置に対応さ
せて単数又は複数の開口部を有する薄膜層が積層形成さ
れた吸着ヘツドと、吸着ヘツドの本体部に負圧を供給す
る負圧源とを設け、負圧源から供給される負圧に基づい
て、吸着ヘツドの薄膜層の開口部を介して微細球体を吸
着保持するようにしたことにより、微細球体を転写性良
く吸着保持し得ると共に、より微細な球体をより狭ピツ
チで吸着保持することができ、かくして微細球体を狭ピ
ツチで信頼性高く供給し得る微細球体供給装置を実現で
きる。
【図1】実施例によるはんだ供給装置の全体構成を示す
斜視図である。
斜視図である。
【図2】吸着ヘツドの構成を示す断面図である。
【図3】吸着ヘツドに吸着保持されたはんだボールの様
子を示す断面図である。
子を示す断面図である。
【図4】他の実施例の説明に供する斜視図である。
【図5】他の実施例の説明に供する斜視図である。
1……球状はんだ供給装置、4……基板搬送テーブル、
5……プリント配線板、11……吸着ヘツド、12……
はんだボール、13……はんだ槽、22……制御部、2
3……負圧源、30……本体部、30A……下面、3
1、31A……薄膜層、31AX、40A……開口部、
40……スクリーン、50……ヒータ。
5……プリント配線板、11……吸着ヘツド、12……
はんだボール、13……はんだ槽、22……制御部、2
3……負圧源、30……本体部、30A……下面、3
1、31A……薄膜層、31AX、40A……開口部、
40……スクリーン、50……ヒータ。
Claims (4)
- 【請求項1】微細球体を吸着保持し、搬送して供給対象
物の供給対象位置に供給する微細球体供給装置におい
て、 多孔質物質からなる本体部の一部表面上に、上記供給対
象物の上記供給位置に対応させて単数又は複数の開口部
を有する薄膜層が積層形成された吸着ヘツドと、 上記吸着ヘツドの上記本体部に負圧を供給する負圧源と
を具え、上記負圧源から供給される負圧に基づいて、上
記吸着ヘツドの上記薄膜層の上記開口部を介して上記微
細球体を吸着保持することを特徴とする微細球体供給装
置。 - 【請求項2】上記吸着ヘツドは、 吸着保持した上記微細球体を加熱する加熱手段を具える
ことを特徴とする請求項1に記載の微細球体供給装置。 - 【請求項3】上記微細球体が複数収容された収容部と、 上記収容部の上記微細球体を取り出すための取出口を覆
うように配置され、上記吸着ヘツドの上記薄膜層の各上
記開口部にそれぞれ対応させて単数又は複数の開口部が
穿設されたスクリーンとを具えることを特徴とする請求
項1に記載の微細球体供給装置。 - 【請求項4】上記吸着ヘツドに吸着保持された上記微細
球体に所定圧力の気体を吹きつける気体吹きつけ手段を
具えることを特徴とする請求項1に記載の微細球体供給
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15909396A JPH09314324A (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 微細球体供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15909396A JPH09314324A (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 微細球体供給装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09314324A true JPH09314324A (ja) | 1997-12-09 |
Family
ID=15686091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15909396A Pending JPH09314324A (ja) | 1996-05-30 | 1996-05-30 | 微細球体供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09314324A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014104511A (ja) * | 2012-11-22 | 2014-06-09 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | ソルダボールリペア装置 |
-
1996
- 1996-05-30 JP JP15909396A patent/JPH09314324A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014104511A (ja) * | 2012-11-22 | 2014-06-09 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | ソルダボールリペア装置 |
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