JPH09320500A - イオン源装置 - Google Patents
イオン源装置Info
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- JPH09320500A JPH09320500A JP8153366A JP15336696A JPH09320500A JP H09320500 A JPH09320500 A JP H09320500A JP 8153366 A JP8153366 A JP 8153366A JP 15336696 A JP15336696 A JP 15336696A JP H09320500 A JPH09320500 A JP H09320500A
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構造で低い放電電圧により、効率よく
所望量の大電流のイオンビームが引き出せるようにす
る。 【解決手段】 プラズマ生成室2を形成する筐体1の側
壁外周に設けられ,プラズマ生成室2の壁面近傍に強磁
場のラインカスプ磁場を形成してプラズマをプラズマ生
成室2の中央部に閉じ込めるマグネット13と、プラズ
マ生成室2に設けられたタングステンフィラメント(熱
電子放出材)7と、プラズマ生成室2のラインカスプ磁
場内の位置に設けられ,プラズマ生成室2の陰極6との
間に直流放電が生じる陽極14とを備え、かつ、筐体1
をフロート電位又は陰極6の電位にする。
所望量の大電流のイオンビームが引き出せるようにす
る。 【解決手段】 プラズマ生成室2を形成する筐体1の側
壁外周に設けられ,プラズマ生成室2の壁面近傍に強磁
場のラインカスプ磁場を形成してプラズマをプラズマ生
成室2の中央部に閉じ込めるマグネット13と、プラズ
マ生成室2に設けられたタングステンフィラメント(熱
電子放出材)7と、プラズマ生成室2のラインカスプ磁
場内の位置に設けられ,プラズマ生成室2の陰極6との
間に直流放電が生じる陽極14とを備え、かつ、筐体1
をフロート電位又は陰極6の電位にする。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ生成室に
より直流放電でプラズマを生成し、このプラズマからイ
オンビームを引出すイオン源装置に関する。
より直流放電でプラズマを生成し、このプラズマからイ
オンビームを引出すイオン源装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種のイオン源装置は、アルゴ
ンガスなどの希ガスのイオンビームの引出しを行うガス
ソースイオン源として有用であり、イオンビームミキシ
ング装置,イオンビームスパッタ装置,イオンビームア
シスト蒸着装置などに用いられる。
ンガスなどの希ガスのイオンビームの引出しを行うガス
ソースイオン源として有用であり、イオンビームミキシ
ング装置,イオンビームスパッタ装置,イオンビームア
シスト蒸着装置などに用いられる。
【0003】そして、この種のイオン源装置としては、
従来、冷陰極式のサドルフィールド型やマグネトロン型
のイオン源装置,熱陰極電子衝撃式のカウフマン型やバ
ケット型のイオン源装置がある。
従来、冷陰極式のサドルフィールド型やマグネトロン型
のイオン源装置,熱陰極電子衝撃式のカウフマン型やバ
ケット型のイオン源装置がある。
【0004】これらのイオン源装置は、薄膜の加工,成
膜等を行うため、通常、1mTorr前後の真空中の直
流放電で生成したプラズマから、電界加速に基づく数百
〜数千eVのイオンエネルギーで例えば数十〜数百mA
のアルゴンイオンビームを引き出す。
膜等を行うため、通常、1mTorr前後の真空中の直
流放電で生成したプラズマから、電界加速に基づく数百
〜数千eVのイオンエネルギーで例えば数十〜数百mA
のアルゴンイオンビームを引き出す。
【0005】そして、生産性向上等の面からは大電流,
大面積のイオンビームが得られることが望ましい。
大面積のイオンビームが得られることが望ましい。
【0006】つぎに、従来のマグネトロン型,カウフマ
ン型及びバケット型のイオン源装置について説明する。
ン型及びバケット型のイオン源装置について説明する。
【0007】なお、サドルフィールド型のイオン源装置
は小電流の細いイオンビームしか得られないため、説明
を省略する。
は小電流の細いイオンビームしか得られないため、説明
を省略する。
【0008】マグネトロン型イオン装置 この装置は例えばナショナルテクニカルレポート(Nati
onal Technical Report ),Vol.31 NO.5
Oct.1985 松下電器産業株式会社(1985−
10.)のP.46の図1等に示されているように、プ
ラズマ生成室の陽極、陰極間に直流電界の磁界を直交さ
せたマグネトロン放電によりプラズマを生成してイオン
ビームを得る。
onal Technical Report ),Vol.31 NO.5
Oct.1985 松下電器産業株式会社(1985−
10.)のP.46の図1等に示されているように、プ
ラズマ生成室の陽極、陰極間に直流電界の磁界を直交さ
せたマグネトロン放電によりプラズマを生成してイオン
ビームを得る。
【0009】この場合、構造が簡単で比較的大きい口径
の大電流のイオンビームが得られる利点があり、また、
マグネトロン放電によってプラズマを生成するため、プ
ラズマ生成時に大きく損耗する部材がなく、長時間の連
続運転が可能である。
の大電流のイオンビームが得られる利点があり、また、
マグネトロン放電によってプラズマを生成するため、プ
ラズマ生成時に大きく損耗する部材がなく、長時間の連
続運転が可能である。
【0010】カウフマン型イオン源装置 この装置は例えば、AIAA JOURNAL Vo
L.15,NO.5(1977.5)のP.703のF
ig.1,P.704のFig.5等に示されているよ
うに、プラズマ生成室内に多数のマグネットを配置して
ラインカスプ磁場を発生し、この磁場によりプラズマを
閉じ込めてイオンビームを得る。
L.15,NO.5(1977.5)のP.703のF
ig.1,P.704のFig.5等に示されているよ
うに、プラズマ生成室内に多数のマグネットを配置して
ラインカスプ磁場を発生し、この磁場によりプラズマを
閉じ込めてイオンビームを得る。
【0011】その際、直流放電の陽極をラインカスプ磁
場中に置いてその表面に数十ガウス程度の強い磁場を形
成し、放電電圧程度のエネルギーを持った一次電子(プ
ライマリエレクトロン)を180°反転して陽極への電
子の直接の流入を防止することが行われる。
場中に置いてその表面に数十ガウス程度の強い磁場を形
成し、放電電圧程度のエネルギーを持った一次電子(プ
ライマリエレクトロン)を180°反転して陽極への電
子の直接の流入を防止することが行われる。
【0012】また、陰極をタングステンフィラメントと
し、熱電子放出源と兼ねることも行われる。
し、熱電子放出源と兼ねることも行われる。
【0013】さらに、プラズマ生成室の周壁はフロート
電位又は陰極電位に設定される。
電位又は陰極電位に設定される。
【0014】なお、熱電子衝撃型のイオン源装置の場
合、フロート電位が陰極電位に近くなることが知られて
おり、陰極電位をフロート電位にしても、その特性には
ほとんど影響しない。
合、フロート電位が陰極電位に近くなることが知られて
おり、陰極電位をフロート電位にしても、その特性には
ほとんど影響しない。
【0015】そして、このカウフマン型イオン源装置の
場合、陽極に電子が直接流入しないため、プラズマの放
電の電力損失が少なく、イオンビームの引出し効率が向
上し、その上、大面積のイオンビームが得られる利点も
ある。
場合、陽極に電子が直接流入しないため、プラズマの放
電の電力損失が少なく、イオンビームの引出し効率が向
上し、その上、大面積のイオンビームが得られる利点も
ある。
【0016】バケット型イオン源装置 この装置は例えば、イオン源工学,アイオニクス株式会
社(1986年5月31日出版)のP.420の図9−
35等に示されているように、プラズマ生成室の周壁外
側に強磁界発生用のマグネットを配置し、その周壁に数
百〜2千ガウス程度の強磁界のラインカスプ磁場を形成
し、プラズマを高密度に閉じ込めてイオンビームを得
る。
社(1986年5月31日出版)のP.420の図9−
35等に示されているように、プラズマ生成室の周壁外
側に強磁界発生用のマグネットを配置し、その周壁に数
百〜2千ガウス程度の強磁界のラインカスプ磁場を形成
し、プラズマを高密度に閉じ込めてイオンビームを得
る。
【0017】その際、陽極をプラズマ生成室の周壁によ
り形成して真空容器と兼ね、装置構造を簡素なものにす
ることが行われる。
り形成して真空容器と兼ね、装置構造を簡素なものにす
ることが行われる。
【0018】また、陰極をタングステンフィラメントに
より形成して熱電子放出源と兼用することも行われる。
より形成して熱電子放出源と兼用することも行われる。
【0019】そして、プラズマ生成室に磁極や陽極がな
く、構造が簡素であり、プラズマからの熱輻射に対する
冷却も容易に行える。また、強磁界でプラズマを閉じ込
めるため、放電電力を大きくして大電流,大面積のイオ
ンビームを引き出すことができる利点がある。
く、構造が簡素であり、プラズマからの熱輻射に対する
冷却も容易に行える。また、強磁界でプラズマを閉じ込
めるため、放電電力を大きくして大電流,大面積のイオ
ンビームを引き出すことができる利点がある。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】前記従来のイオン源装
置の場合、マグネトロン型の装置にあっては、数百〜3
kV程度の高い放電電圧を必要とする問題点があり、こ
の結果、多価イオンが生じてイオンエネルギーをコント
ロールできなくなり、所望のイオンビームを引出すこと
が困難になる。
置の場合、マグネトロン型の装置にあっては、数百〜3
kV程度の高い放電電圧を必要とする問題点があり、こ
の結果、多価イオンが生じてイオンエネルギーをコント
ロールできなくなり、所望のイオンビームを引出すこと
が困難になる。
【0021】つぎに、カウフマン型の装置の場合は、プ
ラズマ生成室(真空容器内)にマグネットを配置するた
め、構造が複雑であり、冷却手段等を設けにくく、プラ
ズマからの熱輻射で部材が高温となり易く、放電電力を
大きくして大電流のイオンビームを引き出すことができ
ない問題点がある。
ラズマ生成室(真空容器内)にマグネットを配置するた
め、構造が複雑であり、冷却手段等を設けにくく、プラ
ズマからの熱輻射で部材が高温となり易く、放電電力を
大きくして大電流のイオンビームを引き出すことができ
ない問題点がある。
【0022】そして、ラインカスプ磁場が弱いため、プ
ラズマ生成室の周壁でのプラズマの電力損失が急増す
る。
ラズマ生成室の周壁でのプラズマの電力損失が急増す
る。
【0023】その上、陰極をフィラメント等の熱電子放
出材と兼用したときには、熱電子放出材であるフィラメ
ント等の損耗により、長時間連続運転が困難になる問題
点もある。
出材と兼用したときには、熱電子放出材であるフィラメ
ント等の損耗により、長時間連続運転が困難になる問題
点もある。
【0024】つぎに、バケット型の装置の場合は、構造
上、プラズマ生成室の周壁の各磁極の位置では磁力線が
陽極に垂直になり、電子を磁場(磁界)で反発できない
ため、プラズマ生成室の周壁に電子が直接流入する個所
が生じ、プラズマの放電電力損失が大きくなる問題点が
ある。
上、プラズマ生成室の周壁の各磁極の位置では磁力線が
陽極に垂直になり、電子を磁場(磁界)で反発できない
ため、プラズマ生成室の周壁に電子が直接流入する個所
が生じ、プラズマの放電電力損失が大きくなる問題点が
ある。
【0025】また、タングステンフィラメントを陰極に
兼用しているため、プラズマの放電電力を増すとフィラ
メント熱電子放出材の陽イオンによるスパッタ損耗が大
きくなり、フィラメントが長持ちせず、連続運転時間が
極めて短くなる。
兼用しているため、プラズマの放電電力を増すとフィラ
メント熱電子放出材の陽イオンによるスパッタ損耗が大
きくなり、フィラメントが長持ちせず、連続運転時間が
極めて短くなる。
【0026】そして、この種イオン源装置においては、
生産性の向上等の面から、極力簡単な構成で一層大電流
のイオンビームが引き出せるようにすること及びその連
続運転時間の長時間化を図ることが望まれる。
生産性の向上等の面から、極力簡単な構成で一層大電流
のイオンビームが引き出せるようにすること及びその連
続運転時間の長時間化を図ることが望まれる。
【0027】本発明は、簡単な構造で低い放電電圧によ
り効率よく所望量の大電流のイオンビームが引き出せる
ようにすることを課題とする。
り効率よく所望量の大電流のイオンビームが引き出せる
ようにすることを課題とする。
【0028】また、熱電子放出材(フィラメント)の損
耗を防止して長時間の連続運転を可能にすることも課題
とする。
耗を防止して長時間の連続運転を可能にすることも課題
とする。
【0029】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めに、本発明のイオン源装置の場合、プラズマ生成室を
形成する筐体の側壁外周に設けられ,プラズマ生成室の
壁面近傍に強磁場のラインカスプ磁場を形成してプラズ
マをプラズマ生成室の中央部に閉じ込める複数のマグネ
ットと、プラズマ生成室に設けられた熱電子放出材と、
プラズマ生成室のラインカスプ磁場内の位置に設けら
れ,プラズマ生成室の陰極との間に直流放電が生じる陽
極とを備え、かつ、筐体をフロート電位又は陰極の電位
にする。
めに、本発明のイオン源装置の場合、プラズマ生成室を
形成する筐体の側壁外周に設けられ,プラズマ生成室の
壁面近傍に強磁場のラインカスプ磁場を形成してプラズ
マをプラズマ生成室の中央部に閉じ込める複数のマグネ
ットと、プラズマ生成室に設けられた熱電子放出材と、
プラズマ生成室のラインカスプ磁場内の位置に設けら
れ,プラズマ生成室の陰極との間に直流放電が生じる陽
極とを備え、かつ、筐体をフロート電位又は陰極の電位
にする。
【0030】したがって、タングステンフィラメント等
の熱電子放出材の熱電子を利用した直流放電でプラズマ
が生成され、従来のマグネトロン型の装置のような高い
放電電圧を必要とせず、数十V程度の低い放電電圧でプ
ラズマの生成が行え、この結果、プラズマは1価イオン
が支配的になり、そのエネルギーコントロールが容易に
行える。
の熱電子放出材の熱電子を利用した直流放電でプラズマ
が生成され、従来のマグネトロン型の装置のような高い
放電電圧を必要とせず、数十V程度の低い放電電圧でプ
ラズマの生成が行え、この結果、プラズマは1価イオン
が支配的になり、そのエネルギーコントロールが容易に
行える。
【0031】また、放電電圧が低いため、熱電子放出材
の損耗が防止されて装置の連続運転時間を長くすること
ができる。
の損耗が防止されて装置の連続運転時間を長くすること
ができる。
【0032】さらに、プラズマ生成室の外側にマグネッ
トを配置してプラズマ生成室内の周壁近傍に強いカスプ
磁場を形成し、この強磁場中に陽極を設けるため、プラ
ズマ生成室内にマグネットを配置しない簡単な構造にな
るとともに、陽極及びプラズマ生成室の周壁への電子の
直接の流入が防止されて高密度のプラズマが効率よく生
成される。
トを配置してプラズマ生成室内の周壁近傍に強いカスプ
磁場を形成し、この強磁場中に陽極を設けるため、プラ
ズマ生成室内にマグネットを配置しない簡単な構造にな
るとともに、陽極及びプラズマ生成室の周壁への電子の
直接の流入が防止されて高密度のプラズマが効率よく生
成される。
【0033】そのため、簡単な構造で低い放電電圧によ
り、効率よく所望の大電流,大面積のイオンビームが引
き出せるとともに、長時間の連続運転が可能になる。
り、効率よく所望の大電流,大面積のイオンビームが引
き出せるとともに、長時間の連続運転が可能になる。
【0034】そして、陰極を熱電子放出材と別個独立の
冷陰極電極構造にすれば、熱電子放出材の陽イオンによ
るスパッタ損耗の低減も図れ、連続運転時間が飛躍的に
長くなる。
冷陰極電極構造にすれば、熱電子放出材の陽イオンによ
るスパッタ損耗の低減も図れ、連続運転時間が飛躍的に
長くなる。
【0035】
【実施の形態】本発明の実施の1形態につき、図1及び
図2を参照して説明する。図1は全体構造を示した切断
正面図であり、図中の1は上,下端に開口を有する非磁
性体金属円筒の筐体であり、内部にプラズマ生成室2を
形成する。3は絶縁体4を介して筐体1の上端開口部を
閉塞した非磁性体金属板の蓋体であり、アーク電源5の
正極(陽極)に接続されている。
図2を参照して説明する。図1は全体構造を示した切断
正面図であり、図中の1は上,下端に開口を有する非磁
性体金属円筒の筐体であり、内部にプラズマ生成室2を
形成する。3は絶縁体4を介して筐体1の上端開口部を
閉塞した非磁性体金属板の蓋体であり、アーク電源5の
正極(陽極)に接続されている。
【0036】6はプラズマ生成室2の蓋体3の下側近傍
に設けられた陰極、7は陰極6の下方近傍に設けられた
熱電子放出材としてのタングステンフィラメントであ
り、両端が陰極6の貫通孔8a,8b及び蓋板3を貫通
した絶縁体の電流導入端子9a,9bを通ってフィラメ
ント電源10の正極,負極(陰極)に接続されている。
に設けられた陰極、7は陰極6の下方近傍に設けられた
熱電子放出材としてのタングステンフィラメントであ
り、両端が陰極6の貫通孔8a,8b及び蓋板3を貫通
した絶縁体の電流導入端子9a,9bを通ってフィラメ
ント電源10の正極,負極(陰極)に接続されている。
【0037】なお、貫通孔8a,8bは必要に応じて絶
縁スリーブの嵌入等が施されて電気的絶縁が図られる。
縁スリーブの嵌入等が施されて電気的絶縁が図られる。
【0038】11は一端がフィラメント電源10の負極
に接続された低抵抗値の抵抗であり、他端が蓋体3を貫
通した絶縁体の接続端子12を通って陰極6に接続され
るとともにアーク電源5の負極に接続されている。
に接続された低抵抗値の抵抗であり、他端が蓋体3を貫
通した絶縁体の接続端子12を通って陰極6に接続され
るとともにアーク電源5の負極に接続されている。
【0039】13は筐体1の側壁外周に筐体1を囲むよ
うに等間隔に配設されたラインカスプ磁場発生用の上下
方向のストライプ状の複数(8個)のマグネット(永久
磁石)であり、図1の切断平面図を示した図2のよう
に、筐体1に面した磁極がS,Nに交互に異なり、プラ
ズマ生成室2の壁面近傍に隣り合うマグネット13の
N,S間の磁力線に沿うラインカスプ磁場を形成する。
うに等間隔に配設されたラインカスプ磁場発生用の上下
方向のストライプ状の複数(8個)のマグネット(永久
磁石)であり、図1の切断平面図を示した図2のよう
に、筐体1に面した磁極がS,Nに交互に異なり、プラ
ズマ生成室2の壁面近傍に隣り合うマグネット13の
N,S間の磁力線に沿うラインカスプ磁場を形成する。
【0040】14は蓋体3のプラズマ生成室2側の面に
陰極6を囲む用に下方に突出して等間隔に取付けられた
上下方向のストライプ状の複数(4個)の陽極であり、
それぞれマグネット13により発生した1つおきのライ
ンカプス磁場内に位置する。
陰極6を囲む用に下方に突出して等間隔に取付けられた
上下方向のストライプ状の複数(4個)の陽極であり、
それぞれマグネット13により発生した1つおきのライ
ンカプス磁場内に位置する。
【0041】15は筐体2の下端開口部に取付けられた
イオンビーム引出電極であり、例えば多孔電極(グリッ
ト)形状の電位の異なる第1電極16,第2電極17,
第3電極18からなり、第3電極18はアースされてい
る。
イオンビーム引出電極であり、例えば多孔電極(グリッ
ト)形状の電位の異なる第1電極16,第2電極17,
第3電極18からなり、第3電極18はアースされてい
る。
【0042】19はアーク電源5の負極とアースとの間
に設けられた加速電源であり、その正極はアーク電源5
の負極に接続されるとともに、高抵抗値の抵抗20を介
して第1電極16に接続されている。
に設けられた加速電源であり、その正極はアーク電源5
の負極に接続されるとともに、高抵抗値の抵抗20を介
して第1電極16に接続されている。
【0043】21は正極がアースされた減速電源であ
り、その負極は第2電極17に接続されている。
り、その負極は第2電極17に接続されている。
【0044】そして、アルゴンイオンビームを引き出す
場合、プラズマ生成室2は真空に排気されてイオン化用
のアルゴンガスが導入される。
場合、プラズマ生成室2は真空に排気されてイオン化用
のアルゴンガスが導入される。
【0045】また、タングステンフィラメント7はフィ
ラメント電源10からの給電により熱電子を放出する。
ラメント電源10からの給電により熱電子を放出する。
【0046】さらに、陽極14と陰極6との間にアーク
電源5の電圧が印加され、この電圧印加に基づく両極1
4,6間の直流放電によりプラズマ生成室2にアルゴン
イオンのプラズマが生成される。
電源5の電圧が印加され、この電圧印加に基づく両極1
4,6間の直流放電によりプラズマ生成室2にアルゴン
イオンのプラズマが生成される。
【0047】このプラズマはマグネット13が形成する
ラインカスプ磁場によりプラズマ生成室2の中央部に閉
じ込められて高密度化され、イオンビーム引出電極15
のビーム引き出し作用によりアルゴンイオンビームが引
き出される。
ラインカスプ磁場によりプラズマ生成室2の中央部に閉
じ込められて高密度化され、イオンビーム引出電極15
のビーム引き出し作用によりアルゴンイオンビームが引
き出される。
【0048】そして、フィラメント電源10の負極が抵
抗11を介して陰極6及びアーク電源5の負極に接続さ
れているため、タングステンフィラメント7の電位(フ
ィラメント電位)は他の電源により電位設定等すること
なく、熱電子放出効果を促進するように、陽極14の電
位(陽極電位)より低く設定され、タングステンフィラ
メント7から十分な熱電子が効率よく放出される。
抗11を介して陰極6及びアーク電源5の負極に接続さ
れているため、タングステンフィラメント7の電位(フ
ィラメント電位)は他の電源により電位設定等すること
なく、熱電子放出効果を促進するように、陽極14の電
位(陽極電位)より低く設定され、タングステンフィラ
メント7から十分な熱電子が効率よく放出される。
【0049】なお、条件によっては抵抗11を省き、フ
ィラメント電源10の負極を陰極6及びアーク電源5の
負極に直接接続してもよい。
ィラメント電源10の負極を陰極6及びアーク電源5の
負極に直接接続してもよい。
【0050】そして、熱電子放出材であるタングステン
フィラメント7の熱電子放出により電子を得てプラズマ
を生成する構成であるため、従来のマグネトロン型の装
置のような数百V以上の高い放電電圧を必要とせず、陽
極14,陰極6間の放電電圧は数十V程度の低電圧にす
ることができる。
フィラメント7の熱電子放出により電子を得てプラズマ
を生成する構成であるため、従来のマグネトロン型の装
置のような数百V以上の高い放電電圧を必要とせず、陽
極14,陰極6間の放電電圧は数十V程度の低電圧にす
ることができる。
【0051】また、陰極6がタングステンフィラメント
7と別個独立にプラズマ生成室2内に設けられ、いわゆ
る冷陰極電極構造に形成されるため、スパッタ損耗を与
える陽イオンのタングステンフィラメント7への流入が
少ない。
7と別個独立にプラズマ生成室2内に設けられ、いわゆ
る冷陰極電極構造に形成されるため、スパッタ損耗を与
える陽イオンのタングステンフィラメント7への流入が
少ない。
【0052】そのため、放電電力を増大してもタングス
テンフィラメント7の陽イオンによるスパッタ損耗が少
なく、タングステンフィラメント7が長持ちして装置の
長時間連続運転が行える。
テンフィラメント7の陽イオンによるスパッタ損耗が少
なく、タングステンフィラメント7が長持ちして装置の
長時間連続運転が行える。
【0053】なお、陰極6の面積(陰極面積)を広くし
てもプラズマ電力損失の増加は、実験からは認められな
かった。
てもプラズマ電力損失の増加は、実験からは認められな
かった。
【0054】また、冷陰極電極構造の陰極6とタングス
テンフィラメント7とを組合せた構成であり、低い放電
電圧でプラズマが生成されるため、このプラズマは1価
イオンが支配的になり、多価イオンが少なく、イオンエ
ネルギーのコントロールが電源調整等で容易に行える。
テンフィラメント7とを組合せた構成であり、低い放電
電圧でプラズマが生成されるため、このプラズマは1価
イオンが支配的になり、多価イオンが少なく、イオンエ
ネルギーのコントロールが電源調整等で容易に行える。
【0055】つぎに、マグネット13にサマリウムコバ
ルト等の強力なマグネットを用いることにより、容易に
プラズマ生成室2の周壁からその中心部側へ約3〜4c
m程度の範囲に、従来のカウフマン型の装置の場合と同
様の数十ガウス以上の強磁場のラインカスプ磁場が形成
される。
ルト等の強力なマグネットを用いることにより、容易に
プラズマ生成室2の周壁からその中心部側へ約3〜4c
m程度の範囲に、従来のカウフマン型の装置の場合と同
様の数十ガウス以上の強磁場のラインカスプ磁場が形成
される。
【0056】そして、この強磁場のラインカスプ磁場に
より、プラズマが効率よくプラズマ生成室2の中央部に
閉じ込められて高密度化される。
より、プラズマが効率よくプラズマ生成室2の中央部に
閉じ込められて高密度化される。
【0057】また、陽極13がラインカスプ磁場中に配
置されるため、ラインカスプ磁場の電界に誘引されて陽
極13に向かって飛行する一次電子(プライマリエレク
トロン)は、この磁界による回転力を受けて飛行方向が
反転する。
置されるため、ラインカスプ磁場の電界に誘引されて陽
極13に向かって飛行する一次電子(プライマリエレク
トロン)は、この磁界による回転力を受けて飛行方向が
反転する。
【0058】そのため、陽極13への電子の直接流入が
防止され、プラズマの放電の電力損失が少なくなり、イ
オンビームの引き出し効率が向上する。
防止され、プラズマの放電の電力損失が少なくなり、イ
オンビームの引き出し効率が向上する。
【0059】しかも、筐体1の内壁面に電子やプラズマ
が接触(衝突)して消失することもない。
が接触(衝突)して消失することもない。
【0060】そして、電子が長時間にわたってプラズマ
生成室2を走行し、この長時間の電子の走行によりイオ
ン化ガスの電離効率が向上してプラズマの閉じ込め効率
が一層高くなり、大電流,大面積のイオンビームを引き
出すことができる。
生成室2を走行し、この長時間の電子の走行によりイオ
ン化ガスの電離効率が向上してプラズマの閉じ込め効率
が一層高くなり、大電流,大面積のイオンビームを引き
出すことができる。
【0061】つぎに、図1の場合は絶縁体4等により筐
体1がフロート電位に設定されるため、プラズマ生成室
2の周壁がフロート電位になり、プラズマの電力損失が
減少する。
体1がフロート電位に設定されるため、プラズマ生成室
2の周壁がフロート電位になり、プラズマの電力損失が
減少する。
【0062】なお、筐体1をフロート電位にする代わり
に、陰極電位にしても同様の効果が得られる。
に、陰極電位にしても同様の効果が得られる。
【0063】また、筐体1は装置の真空気密容器と兼用
せず、この容器と別個独立に設けてもよい。
せず、この容器と別個独立に設けてもよい。
【0064】さらに、プラズマ生成室2内にマグネット
等を配置したりする必要がなく、構造が簡単であり、電
極部材の冷却手段等を設けることも容易に行える。
等を配置したりする必要がなく、構造が簡単であり、電
極部材の冷却手段等を設けることも容易に行える。
【0065】したがって、簡単な構造で低い放電電圧に
より、効率よく所望の大電流,大面積のイオンビームを
引出すことができ、その上、長時間の連続運転も可能に
なり、従来装置より著しく性能が向上した新規なイオン
源装置を提供することができる。
より、効率よく所望の大電流,大面積のイオンビームを
引出すことができ、その上、長時間の連続運転も可能に
なり、従来装置より著しく性能が向上した新規なイオン
源装置を提供することができる。
【0066】そして、従来のカウフマン型,バケット型
のイオン源装置及び図1のイオン源装置(以下本発明装
置という)につき、プラズマ生成室の口径(直径)を1
00mmにしてイオンビームの引き出し効率,連続運転
寿命(フィラメント寿命)を実測したところ、つぎの表
1,表2の結果が得られた。
のイオン源装置及び図1のイオン源装置(以下本発明装
置という)につき、プラズマ生成室の口径(直径)を1
00mmにしてイオンビームの引き出し効率,連続運転
寿命(フィラメント寿命)を実測したところ、つぎの表
1,表2の結果が得られた。
【0067】
【表1】
【0068】
【表2】
【0069】なお、表1は各イオン源装置のタングステ
ンフィラメントを1mmφ,放電電圧を50V,動作真
空度を0.15mTorrとし、かつ、イオンビーム引
出電極を開口率45%、3枚グリッド方式の多孔電極
(グリット)とした場合の結果を示す。
ンフィラメントを1mmφ,放電電圧を50V,動作真
空度を0.15mTorrとし、かつ、イオンビーム引
出電極を開口率45%、3枚グリッド方式の多孔電極
(グリット)とした場合の結果を示す。
【0070】また、表2は表1と同じ条件にし、かつ、
放電電圧を40Vとした場合の結果を示す。
放電電圧を40Vとした場合の結果を示す。
【0071】そして、表1,表2から明らかなように、
本発明装置は電力効率よく高密度プラズマが生成されて
イオンビームが引き出せるとともに、例えば600mA
のイオンビームを引き出すときの連続運転時間が(24
時間×5日=)120時間以上に飛躍的に長くなる。
本発明装置は電力効率よく高密度プラズマが生成されて
イオンビームが引き出せるとともに、例えば600mA
のイオンビームを引き出すときの連続運転時間が(24
時間×5日=)120時間以上に飛躍的に長くなる。
【0072】ところで、熱電子放出材はタングステンフ
ィラメント以外であってもよい。
ィラメント以外であってもよい。
【0073】また、筐体1の形状,マグネット13,陽
極14の数や形状及びイオンビーム引出電極15の構造
等は図1のものに限定されるものではない。
極14の数や形状及びイオンビーム引出電極15の構造
等は図1のものに限定されるものではない。
【0074】そして、構造の一層の簡素化等を優先する
ときは、冷陰極電極構造にする代わりに、熱電子放出材
を陰極に兼用してもよい。
ときは、冷陰極電極構造にする代わりに、熱電子放出材
を陰極に兼用してもよい。
【0075】
【発明の効果】本発明は、以下に記載する効果を奏す
る。まず、タングステンフィラメント等の熱電子放出材
の熱電子を利用した直流放電でプラズマを生成したた
め、従来のマグネトロン型の装置のような高い放電電圧
を必要とせず、この結果、1価イオンが支配的なプラズ
マを形成することができ、そのエネルギーコントロール
を容易に行うことができるとともに、熱電子放出材の損
耗を防止して装置の連続運転時間を長くすることができ
る。
る。まず、タングステンフィラメント等の熱電子放出材
の熱電子を利用した直流放電でプラズマを生成したた
め、従来のマグネトロン型の装置のような高い放電電圧
を必要とせず、この結果、1価イオンが支配的なプラズ
マを形成することができ、そのエネルギーコントロール
を容易に行うことができるとともに、熱電子放出材の損
耗を防止して装置の連続運転時間を長くすることができ
る。
【0076】さらに、プラズマ生成室の側壁外周にマグ
ネットを配置してプラズマ生成室内の周壁近傍に強いカ
スプ磁場を形成し、この強磁場中に陽極を設けたため、
プラズマ生成室内にマグネットを配置しない簡単な構造
に形成することができるとともに、陽極及びプラズマ生
成室の周壁への電子の直接の流入を防止して高密度のプ
ラズマを効率よく生成することができる。
ネットを配置してプラズマ生成室内の周壁近傍に強いカ
スプ磁場を形成し、この強磁場中に陽極を設けたため、
プラズマ生成室内にマグネットを配置しない簡単な構造
に形成することができるとともに、陽極及びプラズマ生
成室の周壁への電子の直接の流入を防止して高密度のプ
ラズマを効率よく生成することができる。
【0077】そのため、簡単な構造で低い放電電圧によ
り、効率よく所望の大電流,大面積のイオンビームを引
き出すことができるとともに、長時間の連続運転が可能
になり、この種イオン源装置の性能を著しく向上するこ
とができる。
り、効率よく所望の大電流,大面積のイオンビームを引
き出すことができるとともに、長時間の連続運転が可能
になり、この種イオン源装置の性能を著しく向上するこ
とができる。
【0078】つぎに、陽極との間で直流放電が生じる陰
極を熱電子放出材と別個の冷陰極電極構造にすると、熱
電子放出材の陽イオンによるスパッタ損耗が減少し、熱
電子放出材の損耗を一層少なくして連続運転時間を飛躍
的に長くすることができ、性能の一層の向上を図ること
ができる。
極を熱電子放出材と別個の冷陰極電極構造にすると、熱
電子放出材の陽イオンによるスパッタ損耗が減少し、熱
電子放出材の損耗を一層少なくして連続運転時間を飛躍
的に長くすることができ、性能の一層の向上を図ること
ができる。
【図1】本発明の実施の1形態の構成説明用の切断正面
図である。
図である。
【図2】図1の装置の切断平面図である。
1 筐体 2 プラズマ生成室 6 陰極 7 熱電子放出材としてのタングステンフィラメント 13 マグネット 14 陽極 15 イオンビーム引出電極
Claims (2)
- 【請求項1】 プラズマ生成室に直流放電のプラズマを
生成し、ビーム引出電極により前記プラズマ生成室から
イオンビームを引き出すイオン源装置において、 前記プラズマ生成室を形成する筐体の側壁外周に設けら
れ,前記プラズマ生成室の壁面近傍に強磁場のラインカ
スプ磁場を形成して前記プラズマを前記プラズマ生成室
の中央部に閉じ込める複数のマグネットと、 前記プラズマ生成室に設けられた熱電子放出材と、 前記プラズマ生成室の前記ラインカスプ磁場内の位置に
設けられ,前記プラズマ生成室の陰極との間に前記直流
放電が生じる陽極とを備え、 かつ、前記筐体をフロート電位又は前記陰極の電位にし
たことを特徴とするイオン源装置。 - 【請求項2】 陰極を熱電子放出材と別個独立の冷陰極
電極構造としたことを特徴とする請求項1記載のイオン
源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8153366A JPH09320500A (ja) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | イオン源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8153366A JPH09320500A (ja) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | イオン源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320500A true JPH09320500A (ja) | 1997-12-12 |
Family
ID=15560889
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8153366A Pending JPH09320500A (ja) | 1996-05-24 | 1996-05-24 | イオン源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09320500A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101065450B1 (ko) * | 2003-06-13 | 2011-09-19 | 가부시키가이샤 에스이엔 | 이온원 장치 및 그 장치를 위한 전자 에너지 최적화 방법 |
| CN107182165A (zh) * | 2017-06-20 | 2017-09-19 | 华中科技大学 | 一种基于热电子发射阴极的等离子体发射装置 |
| CN115116811A (zh) * | 2021-03-18 | 2022-09-27 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于刻蚀的圆形离子源 |
-
1996
- 1996-05-24 JP JP8153366A patent/JPH09320500A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101065450B1 (ko) * | 2003-06-13 | 2011-09-19 | 가부시키가이샤 에스이엔 | 이온원 장치 및 그 장치를 위한 전자 에너지 최적화 방법 |
| CN107182165A (zh) * | 2017-06-20 | 2017-09-19 | 华中科技大学 | 一种基于热电子发射阴极的等离子体发射装置 |
| CN107182165B (zh) * | 2017-06-20 | 2024-05-14 | 华中科技大学 | 一种基于热电子发射阴极的等离子体发射装置 |
| CN115116811A (zh) * | 2021-03-18 | 2022-09-27 | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 | 一种用于刻蚀的圆形离子源 |
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