JPH09320501A - 電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置 - Google Patents

電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置

Info

Publication number
JPH09320501A
JPH09320501A JP9029093A JP2909397A JPH09320501A JP H09320501 A JPH09320501 A JP H09320501A JP 9029093 A JP9029093 A JP 9029093A JP 2909397 A JP2909397 A JP 2909397A JP H09320501 A JPH09320501 A JP H09320501A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
particle beam
charged particle
electro
electric field
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP9029093A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3170680B2 (ja
Inventor
Peter Feuerbaum Hans
フオイエルバウム ハンス・ペータ
Juergen Frosien
フロジエン ユルゲン
Ueda Koushi
ウエダ コウシ
Iwai Toshimichi
イワイ トシミチ
Schoenecker Gerald
シェーネッカー ゲラルド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Advanced Circuit Testing ACT
Original Assignee
Advanced Circuit Testing ACT
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE19605855A external-priority patent/DE19605855A1/de
Application filed by Advanced Circuit Testing ACT filed Critical Advanced Circuit Testing ACT
Publication of JPH09320501A publication Critical patent/JPH09320501A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3170680B2 publication Critical patent/JP3170680B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/10—Lenses
    • H01J37/145—Combinations of electrostatic and magnetic lenses
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
    • H01J49/02—Details
    • H01J49/06—Electron- or ion-optical arrangements
    • H01J49/067—Ion lenses, apertures, skimmers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/25—Tubes for localised analysis using electron or ion beams
    • H01J2237/2505—Tubes for localised analysis using electron or ion beams characterised by their application
    • H01J2237/2594—Measuring electric fields or potentials

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低電圧領域にて大きな作動距離と良好な解像
度及びレンズ特性を有する電界磁気レンズ装置及び荷電
粒子線装置を提供することをを目的とする。 【解決手段】 本発明は荷電粒子の焦点合わせをするた
めの電界磁気レンズ装置とそのような電界磁気レンズ装
置を備えた荷電粒子線装置に関し、電界磁気レンズ装置
は磁気レンズと磁気レンズに組み込まれた電界レンズと
を有し、磁気レンズは単極レンズとして構成されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気レンズと磁気
レンズ内に組み込まれて配置された電界レンズとによっ
て荷電粒子を焦点合わせ（フォーカシング）するための
電界磁気レンズ装置に関する。本発明は更に、このよう
な電界磁気レンズ装置を備えた荷電粒子線装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】特許請求の範囲第１項の前提部に記載さ
れている電界磁気レンズ装置は欧州特許ＥＰ−Ｂ−０２
４２６０２により既知であり、この電界磁気レンズ装置
には、回転対称形の磁場を生成する磁気レンズと磁気レ
ンズ内にて磁気レンズの対称軸に対して対称的に配置さ
れた液浸レンズとが備えられ、液浸レンズは少なくとも
２つの電位の異なる電極を有する。荷電粒子、例えば電
子は、液浸レンズの場にて第１のエネルギから実質的に
それより低い第２のエネルギまで減速される。これは、
比較的短い焦点距離と、極めて良好なレンズ特性を達成
することができる。
【０００３】しかしながら、この既知のレンズ装置で
は、測定中、試験片を磁気レンズに近接して配置しなけ
ればならない。しかしながら、この装置は、集積回路
（ＩＣ）及び付属ソケットを有する試験片のように高さ
が高い試験片の場合、しばしば不能となる。試験片が磁
気レンズに近接するような装置は、又、試験片ホルダの
設計によっても制限される。一方では、測定中に、試験
片に接触可能であり、他方では、試験片の交換が容易で
なければならないから、良好な解像度と画像特性が得ら
れ且つより大きな作動距離が得られることが望ましい。
【０００４】粒子の焦点合わせに単極レンズを使用する
荷電粒子線装置は、英国特許ＧＢ−Ｂ−１３９５２０１
により既知である。双極レンズと対照的に、単極レンズ
では磁場は基本的にはレンズの外側に生成され、それに
よってより大きな作動距離を達成することができる。こ
のような単極レンズは比較的良好なレンズ特性によって
特徴付けられる。しかしながら、もしこのようなレンズ
が低電圧領域、例えば、荷電粒子の最終ビームエネルギ
が５ｋｅｖ以下、好ましくは２．５ｋｅｖ以下にて使用
されるなら、レンズ特性は、５ｍｍ以上の作動距離に
て、多くの適用例に対して拙劣となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、それ
故、特に低電圧領域における大きな作動距離と良好なレ
ンズ特性という特徴を有する特許請求の範囲第１項の前
提部に記載された電界磁気レンズ装置と特許請求の範囲
第１２項の一般的概念である荷電粒子線装置を提供する
ことにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によると、この目
的は特許請求の範囲第１項及び第１２項の特徴部分によ
って達成され、内部に電界レンズが配置された単極レン
ズとしての磁気レンズの構造によって達成される。
【０００７】単極レンズは電界レンズと組み合わせると
特に都合がよく、その場合、電界レンズによって生成さ
れる電場はそれだけでビームの焦点合わせをするために
十分であるほど強くないようにすることに留意すべきで
ある。本発明によるレンズ装置によると、作動距離は５
ｍｍ以上、特に５〜３０ｍｍが達成可能である。
【０００８】好ましい他の例では、レンズ装置は付加的
な制御電極を有し、この制御電極はビーム経路にて電界
レンズと試験片の間に配置される。この制御電極は試験
片の領域における電場の強さを調節することができるよ
うに可変電位に接続されることができる。従って、電荷
に対して特に敏感な試験片の場合、試験片の領域にて電
場をキャンセルすることも可能である。
【０００９】本発明の他の例は特許請求の範囲の従属項
の内容にあり、以下に図面を参照して詳細に説明されよ
う。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１は荷電粒子線装置を示し、こ
の荷電粒子線装置によると濃縮された粒子線２、例えば
電子線が光学コラム３内にて生成される。このコラム３
は、多数の磁気及び／又は電気レンズ及びダイヤフラム
（図示なし）に加えて、基本的には、粒子線２を生成す
るためのソース４と電界磁気レンズ装置６と少なくとも
１つの検出器７ａ、７ｂとを有する。また荷電粒子をブ
ランキングするためのブランキング装置５を装備するこ
とができる。
【００１１】ソース４にて生成された粒子線２は電界磁
気レンズ装置６によって試験片８にて焦点を結ぶ。そこ
で放出された粒子は電界磁気レンズ装置６を通過して検
出器７ａに達する。しかしながら、この検出器７ａの代
わりに、試験片８と電界磁気レンズ装置６の間に検出器
７ｂが配置されてよい。２次又は後方散乱粒子の評価を
更に改善するために、粒子線装置に両方の検出器７ａ、
７ｂが設けられてよい。この場合、２つの検出器７ａ、
７ｂの少なくとも一方はセグメンド構造にて構成されて
よく、検出器の表面はセグメントに分割され、セグメン
トの出力信号は互いに別個に処理される。
【００１２】粒子線２によって試験片を走査するための
偏向装置９が設けられ、この偏向装置は図示の例では電
界磁気レンズ装置６の内部に配置されている。
【００１３】図２を参照して本発明による電界磁気レン
ズ装置６の詳細を以下に説明する。電界磁気レンズ装置
６は基本的には、単極レンズ６１として構成された磁気
レンズとこの磁気レンズ内に配置され、回転対称形の電
界を生成する電界レンズ６２とを有する。
【００１４】この電界レンズは互いに異なる電位にて保
持された２つの電極を有し、これらの電極には異なる電
位が印加されることができる。それによって、荷電粒
子、例えば電子は電界レンズの電場内にて、第１のエネ
ルギからより低い第２のエネルギまで減速される。この
場合、第１のエネルギは第２のエネルギの１．２〜１０
倍であり、良好な解像度及び画像特性にて最大可能作動
距離を達成することができる。
【００１５】図示の例では、２つの電極の一方は円筒状
のビーム管６２ａによって形成され、このビーム管６２
ａは単極レンズ６１内の内側の孔６１ａ内にて同心的に
配置されている。ビーム管６２ａは好ましくは薄い導電
層によって被われた非導電材によって製造される。２つ
の電極の他方は地球電位に保持された内側のポールピー
ス６１ｂの下端によって形成されている。しかしなが
ら、この電極を別個の電極として構成してもよい。しか
しながら、第２の電極は地球電位でなければならないわ
けではなく、それ以外の電位に設定されることができ
る。
【００１６】図２に図示されている単極レンズ６１は内
側のポールピース６１ｂと外側のポールピース６１ｃと
を有し、これらのポールピースは基本的には円筒形状を
なしている。磁気レンズを励起するための界磁コイル６
１ｄが設けられている。
【００１７】ビーム経路にて電界レンズ６２と試験片８
の間に付加的な制御電極６３が設けられ、この制御電極
６３は詳細には示されていない可変電圧源に接続され、
試験片の領域にて電界強度を調節することができる。制
御電極に印加される電圧は例えば−１００Ｖと＋１００
Ｖの間に調節される。
【００１８】偏向装置９は好ましくは単段の偏向装置と
して構成され、ビーム管６２ａと単極レンズ６１の内側
の孔６１ａを境界する壁の間に配置されている。
【００１９】荷電粒子線装置はまた、粒子線の領域に真
空を生成するための真空整備を有する。偏向装置によっ
て生成された熱をより良好に放散させることができるよ
うに、ビーム管６２ａと単極レンズ６１の間に好ましく
はシール１１が設けられ、それによって偏向装置９は空
気によって囲まれ、熱の放散の改善が確保される。同様
に、好ましくは、界磁コイル６１ｄを真空より遮蔽する
ために単極レンズ６１に更に別のシール１２が設けられ
てよい。
【００２０】電界レンズ６２を使用することによって、
荷電粒子は５ｋｅｖ以下の、好ましくは０．５〜２．５
ｋｅｖの最終ビームエネルギまで減速され、試験片８と
電界磁気レンズ装置６の間に５ｍｍ以上の作動距離、例
えば、５〜３０ｍｍの作動距離が生成される。作動距離
ａは、ここでは、試験片８と制御電極６３の間の距離に
よって形成される。
【００２１】本発明によると、制御電極６３と試験片８
の間の距離（＝作動距離ａ）は、制御電極６３と単極レ
ンズ６１の間の距離ｂの少なくとも３倍はあり、例え
ば、３〜４０倍はある。制御電極６３は開口６３ａを有
し、この開口６３ａの内径ｄ1は、単極レンズ６１の孔
６１ａの内径ｄ2 の２倍より小さく、例えば、１／１０
〜２倍である。この条件は、試験片の領域における電場
を十分遮蔽するために必要である。更に、制御電極６３
の開口６３ａの内径ｄ1 は、ビーム管６２ａの内径ｄ3
の少なくとも半分の大きさ、例えば、１／２〜５倍の大
きさを有するべきである。もし、この開口６３ａの内径
ｄ1 がそれより小さいと、試験片８より放出された粒子
が電界磁気レンズ装置６の上方に配置された検出器７ａ
に到達することを保証することはできない。
【００２２】図３には単極レンズ６１’、６１”の更に
他の２つの例が示されている。右側の例では、少なくと
も部分的に円錐形状の外側のポールピース６１’ｃを有
する単極磁気レンズ６１’が示されている。左側に示さ
れた単極レンズ６１”では、外側のポールピースは完全
に除去されている。
【００２３】本発明による荷電粒子線装置は、特に低電
圧領域用に設計されており、例えば、最終ビームエネル
ギは５ｋｅｖ以下、好ましくは０．５〜２．５ｋｅｖの
範囲である。この目的のために特別に適したソースは所
謂電界放出ソースであり、又はエネルギ幅が１ｅｖ以下
の、例えば０．１〜１ｅｖの他のソース、例えば熱電界
放出ソース又は光電陰極である。本発明によって電界レ
ンズと単極レンズを組み合わせることによって、低電圧
領域にて特別に大きな作動距離が達成され、良好な解像
度と画像特性が得られる。こうして特別な試験片では、
試験片の上に突出した接触装置を有するホルダを使用す
ることができる。
【００２４】
【発明の効果】本発明によると、特に低電圧領域におい
て、大きな作動距離及び良好なレンズ特性を達成するこ
とができる利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による荷電粒子線装置の概略図である。
【図２】本発明による電界磁気レンズ装置の概略図であ
る。
【図３】単極レンズの２つの変形例の概略図である。
【符号の説明】
１ 荷電粒子線装置 ２ 粒子線 ３ 光学コラム ４ ソース ５ ブランキング装置 ６ 電界磁気レンズ装置 ７ａ、７ｂ 検出器 ８ 試験片 ９ 偏向装置 １１、１２ シール ６１、６１’、６１” 単極レンズ ６１ａ 孔 ６１ｂ、６１ｃ ポールピース ６１ｄ 界磁コイル ６２ 電界レンズ ６２ａ ビーム管 ６３ 制御電極 ６３ａ 開口
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス・ペータ フオイエルバウム ドイツ連邦共和国、81739 ミュンヘン、 アルノ・アスマンシュトラーセ 14 (72)発明者 ユルゲン フロジエン ドイツ連邦共和国、85521 リーマーリン グ、クフシュタイナーシュトラーセ 16 アー (72)発明者 コウシ ウエダ ドイツ連邦共和国、81825 ミュンヘン、 アウフ デム ヴァーセン 12 (72)発明者 トシミチ イワイ ドイツ連邦共和国、81825 ミュンヘン、 アイガー シュトラーセ 37 (72)発明者 ゲラルド シェーネッカー ドイツ連邦共和国、81549 ミュンヘン、 バート・ベルネック・シュトラーセ １

Claims (23)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 磁気レンズと該磁気レンズ内に配置され
    た電界レンズ（６２）とを有し荷電粒子を焦点合わせす
    るための電界磁気レンズ装置において、上記磁気レンズ
    は単極レンズ（６１、６１’、６１”）として構成され
    ていることを特徴とする電界磁気レンズ装置。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、上記電界レンズ（６２）は回転対称形の電場を生
    成し、異なる電位に保持された少なくとも２つの電極
    （６２ａ，６１ｂ）を有し、荷電粒子が上記電界レンズ
    の電場内にて第１のエネルギからそれより低い第２のエ
    ネルギまで減速されるように構成されていることを特徴
    とする電界磁気レンズ装置。
  3. 【請求項３】 請求項２記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、更に付加的な制御電極（６３）が設けられ、該制
    御電極は、ビーム経路にて上記電界レンズと試験片
    （８）の間に配置され且つ上記試験片の領域にて電場の
    強さを調節するために可変電位に接続されることができ
    るように構成されていることを特徴とする電界磁気レン
    ズ装置。
  4. 【請求項４】 請求項１、２又は３記載の電界磁気レン
    ズ装置において、荷電粒子の最終ビームエネルギが０．
    ５〜２．５ｋｅｖにて、上記レンズ装置と試験片（８）
    の間にて作動距離が５〜３０ｍｍとなることを特徴とす
    る電界磁気レンズ装置。
  5. 【請求項５】 請求項３記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、上記制御電極（６３）と上記試験片（８）の間の
    上記作動距離（ａ）は上記制御電極（６３）と上記単極
    レンズ（６１）の間の距離（ｂ）の３〜４０倍であるこ
    とを特徴とする電界磁気レンズ装置。
  6. 【請求項６】 請求項２記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、上記電界レンズの２つの電極の一方はビーム管
    （６２ａ）として構成されていることを特徴とする電界
    磁気レンズ装置。
  7. 【請求項７】 請求項６記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、上記ビーム管（６２ａ）は薄い導電性皮膜を有す
    る非導電性材料より製造されていることを特徴とする電
    界磁気レンズ装置。
  8. 【請求項８】 請求項６記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、上記ビーム管（６２ａ）は上記単極レンズ（６
    １）の内側の孔（６１ａ）内に同心的に配置されている
    ことを特徴とする電界磁気レンズ装置。
  9. 【請求項９】 請求項３記載の電界磁気レンズ装置にお
    いて、上記単極レンズ（６１）は内側の孔（６１ａ）を
    有し、上記制御電極（６３）は開口（６３ａ）を有し、
    上記制御電極（６３）の開口（６３ａ）の内径（ｄ1 ）
    は上記単極レンズ（６１）の孔（６１ａ）の内径
    （ｄ2 ）の１／１０〜２倍であることを特徴とする電界
    磁気レンズ装置。
  10. 【請求項１０】 請求項１記載の電界磁気レンズ装置に
    おいて、上記単極レンズ（６１）は内側及び外側のポー
    ルピース（６１ｂ，６１’ｃ）を有し、該外側のポール
    ピース（６１’ｃ）は少なくとも部分的に円錐形状をな
    していることを特徴とする電界磁気レンズ装置。
  11. 【請求項１１】 請求項３又は６記載の電界磁気レンズ
    装置において、上記制御電極（６３）は開口（６３ａ）
    を有し、該開口の内径（ｄ1 ）は上記ビーム管（６２
    ａ）の内径（ｄ3 ）の１／２〜５倍の大きさであること
    を特徴とする電界磁気レンズ装置。
  12. 【請求項１２】 ａ）荷電粒子線を発生するためのソー
    ス（４）と、 ｂ）磁気レンズと該磁気レンズに組み込まれた電界レン
    ズ（６２）とを有し荷電粒子を焦点合わせするための電
    界磁気レンズ装置（６）と、 ｃ）荷電粒子線を偏向するための偏向装置（９）と、 ｄ）試験片（８）から放出された２次及び／又は後方散
    乱粒子を検出するための検出器（７）と、 を有する荷電粒子線装置において、上記磁気レンズは単
    極レンズ（６１、６１’、６１”）として構成されてい
    ることを特徴とする荷電粒子線装置。
  13. 【請求項１３】 請求項１２記載の荷電粒子線装置にお
    いて、上記電界磁気レンズ装置（６）は請求項２〜１１
    のいずれか１項のように構成されていることを特徴とす
    る荷電粒子線装置。
  14. 【請求項１４】 請求項１２記載の荷電粒子線装置にお
    いて、上記電界レンズは回転対称形の電場を生成し、異
    なる電位に保持されることができる少なくとも２つの電
    極（６２ａ，６１ｂ）を有し、荷電粒子は上記電界レン
    ズの電場にて第１のエネルギからそれより低い第２のエ
    ネルギまで減速され、上記電界レンズの２つの電極の一
    方はビーム管（６２ａ）として構成され、該ビーム管
    （６２ａ）は上記単極レンズ（６１）の内側の孔（６１
    ａ）内に同心的に配置されていることを特徴とする荷電
    粒子線装置。
  15. 【請求項１５】 請求項１４記載の荷電粒子線装置にお
    いて、上記偏向装置（９）は上記単極レンズ（６１）内
    にて上記内側の孔（６１ａ）の壁と上記ビーム管（６２
    ａ）の間に配置されていることを特徴とする荷電粒子線
    装置。
  16. 【請求項１６】 請求項１２記載の荷電粒子線装置にお
    いて、粒子線の領域にて真空を生成するための真空設備
    が設けられていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  17. 【請求項１７】 請求項１５又は１６記載の荷電粒子線
    装置において、上記ビーム管（６２ａ）と上記単極レン
    ズ（６１）の間にシール（１１）が設けられ、上記偏向
    装置（９）は上記真空の外側に配置されていることを特
    徴とする荷電粒子線装置。
  18. 【請求項１８】 請求項１６記載の荷電粒子線装置にお
    いて、上記単極レンズ（６１）は界磁コイル（６１ｄ）
    を有し、該界磁コイルは上記単極レンズ（６１）の上に
    設けられた更に他のシール（１２）によって上記真空よ
    り遮蔽されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
  19. 【請求項１９】 請求項１２記載の荷電粒子線装置にお
    いて、上記検出器の一方（７ａ）は粒子線の方向にて上
    記電界磁気レンズ装置（６）の前方に配置されているこ
    とを特徴とする荷電粒子線装置。
  20. 【請求項２０】 請求項１２記載の荷電粒子線装置にお
    いて、上記検出器の一方（７ｂ）は粒子線の方向にて上
    記電界磁気レンズ装置（６）の後方に配置されているこ
    とを特徴とする荷電粒子線装置。
  21. 【請求項２１】 請求項１９又は２０記載の荷電粒子線
    装置において、上記検出器の一方（７ａ）は粒子線の方
    向にて上記電界磁気レンズ装置（６）の前方に配置さ
    れ、上記検出器（７ｂ）の他方は粒子線の方向にて上記
    電界磁気レンズ装置（６）の後方に配置されていること
    を特徴とする荷電粒子線装置。
  22. 【請求項２２】 請求項１２、１９、２０又は２１記載
    の荷電粒子線装置において、上記２つの検出器（７ａ，
    ７ｂ）の一方はセグメントに分割され、該セグメントの
    出力信号は互いに別個に処理されるように構成されてい
    ることを特徴とする荷電粒子線装置。
  23. 【請求項２３】 請求項１２記載の荷電粒子線装置にお
    いて、エネルギ幅が０．１〜１ｅｖであるソースが使用
    されていることを特徴とする荷電粒子線装置。
JP02909397A 1996-02-16 1997-02-13 電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置 Expired - Fee Related JP3170680B2 (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19605855A DE19605855A1 (de) 1996-02-16 1996-02-16 Detektorobjektiv für Korpuskularstrahlgeräte
DE19605855:4 1996-07-03
DE96110765:3 1996-07-03
EP96110765A EP0790634B1 (en) 1996-02-16 1996-07-03 Electrostatic-magnetic lens arrangement

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09320501A true JPH09320501A (ja) 1997-12-12
JP3170680B2 JP3170680B2 (ja) 2001-05-28

Family

ID=26022979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP02909397A Expired - Fee Related JP3170680B2 (ja) 1996-02-16 1997-02-13 電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5780859A (ja)
JP (1) JP3170680B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000173520A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Advantest Corp 粒子線装置

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59711915D1 (de) * 1997-09-29 2004-10-21 Advantest Corp Objektivlinse
EP0910108B1 (de) * 1997-09-29 2004-11-24 Advantest Corporation Elektronenstrahl-Linse
JP4236742B2 (ja) * 1998-10-29 2009-03-11 株式会社日立製作所 走査形電子顕微鏡
US6392231B1 (en) * 2000-02-25 2002-05-21 Hermes-Microvision, Inc. Swinging objective retarding immersion lens electron optics focusing, deflection and signal collection system and method
US6960766B2 (en) * 2000-02-25 2005-11-01 Hermes-Microvision, Inc. Swinging objective retarding immersion lens electron optics focusing, deflection and signal collection system and method
CN100565774C (zh) * 2002-03-21 2009-12-02 汉民微测科技股份有限公司 回转减速浸没式物镜电子光学聚焦、偏转和信号的收集方法
US6825475B2 (en) * 2002-09-19 2004-11-30 Applied Materials Israel, Ltd. Deflection method and system for use in a charged particle beam column
DE10317894B9 (de) * 2003-04-17 2007-03-22 Leo Elektronenmikroskopie Gmbh Fokussiersystem für geladene Teilchen, Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopieverfahren
NL1023260C1 (nl) * 2003-04-24 2004-10-27 Fei Co Deeltjes-optisch apparaat met een permanent magnetische lens en een elektrostatische lens.
JP4316394B2 (ja) * 2004-01-21 2009-08-19 株式会社東芝 荷電ビーム装置
US7112803B2 (en) * 2004-07-23 2006-09-26 Applied Materials, Israel, Ltd. Beam directing system and method for use in a charged particle beam column
DE602007007468D1 (de) * 2007-07-27 2010-08-12 Integrated Circuit Testing Magnetische Linsenanordnung
DE102010011898A1 (de) * 2010-03-18 2011-09-22 Carl Zeiss Nts Gmbh Inspektionssystem
US10008360B2 (en) 2015-01-26 2018-06-26 Hermes Microvision Inc. Objective lens system for fast scanning large FOV
US10777382B2 (en) * 2017-11-21 2020-09-15 Focus-Ebeam Technology (Beijing) Co., Ltd. Low voltage scanning electron microscope and method for specimen observation
CN114256043B (zh) 2020-12-02 2024-04-05 聚束科技（北京）有限公司 一种电子束系统
CN114220725B (zh) 2020-12-02 2024-05-07 聚束科技（北京）有限公司 一种电子显微镜

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE242602C (ja) *
GB1395201A (en) * 1972-09-04 1975-05-21 Nat Res Dev Magnetic lenses
GB8604181D0 (en) * 1986-02-20 1986-03-26 Texas Instruments Ltd Electron beam apparatus
EP0242602B1 (de) * 1986-04-24 1993-07-21 ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH Elektrostatisch-magnetische-Linse für Korpuskularstrahlgeräte

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000173520A (ja) * 1998-11-30 2000-06-23 Advantest Corp 粒子線装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP3170680B2 (ja) 2001-05-28
US5780859A (en) 1998-07-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH09320501A (ja) 電界磁気レンズ装置及び荷電粒子線装置
JP4236742B2 (ja) 走査形電子顕微鏡
JP4037533B2 (ja) 粒子線装置
JP4176159B2 (ja) 改善された２次電子検出のための磁界を用いた環境制御型ｓｅｍ
JPH07296751A (ja) Ｘ線管装置
US6667478B2 (en) Particle beam apparatus
JPH07134964A (ja) 試料の高さ計測手段を備えた電子ビーム装置
US6730907B1 (en) Charged particle device
JP2002532844A (ja) オージェ電子の検出を含む粒子光学装置
US3717761A (en) Scanning electron microscope
US5045705A (en) Charged particle beam apparatus with charge-up compensation
JP4205224B2 (ja) エネルギーフィルタを有する粒子線装置
JP3514070B2 (ja) 走査電子顕微鏡
JPH1064464A (ja) 検出器対物レンズ装置
EP0790634B1 (en) Electrostatic-magnetic lens arrangement
GB2081501A (en) Device for detecting secondary electrons in a scanning electron microscope
US6653632B2 (en) Scanning-type instrument utilizing charged-particle beam and method of controlling same
JP2973136B2 (ja) 粒子線装置
JPH08138611A (ja) 荷電粒子線装置
JP3432091B2 (ja) 走査電子顕微鏡
US3946268A (en) Field emission gun improvement
EP0617452B1 (en) Charged particle analyser
JP3244620B2 (ja) 走査電子顕微鏡
US3925706A (en) Field emission electron gun device of the automatic control type
JP4091217B2 (ja) Ｘ線管

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080323

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090323

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090323

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100323

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110323

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110323

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120323

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120323

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130323

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130323

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130323

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140323

Year of fee payment: 13

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees