JPH09320913A - ウェーハ貼り付け方法及びその装置 - Google Patents

ウェーハ貼り付け方法及びその装置

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JPH09320913A
JPH09320913A JP13561496A JP13561496A JPH09320913A JP H09320913 A JPH09320913 A JP H09320913A JP 13561496 A JP13561496 A JP 13561496A JP 13561496 A JP13561496 A JP 13561496A JP H09320913 A JPH09320913 A JP H09320913A
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JP
Japan
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wafer
vacuum chamber
substrate
storage means
sticking
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Application number
JP13561496A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Uratani
達也 浦谷
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Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
Original Assignee
Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd
Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 真空チャンバ内でウェーハと基板を効率よく
貼り付ける。 【解決手段】 基板9とウェーハ6との少なくとも一方
の片面に粘着剤7、8を塗布した基板9とウェーハ6を
粘着剤塗布面で貼り付ける方法であって、基板9とウェ
ーハ6の貼り付け面同志を離した状態で排気した真空チ
ャンバ3内の材料保管手段14に載置する工程と、真空
チャンバ3内に配設し貼り付け温度にした加熱手段10
上に基板9とウェーハ6を移載して貼り付け物13を形
成する工程とを有するウェーハ貼り付け方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
工程における薄形ウェーハ製造プロセスにおいて、高精
度の薄形ウェーハを製造する前段階に使用されるウェー
ハ貼り付け方法及びそれに使用する装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】半導体ウェーハを研磨する場合に、半導
体ウェーハが割れるのを防止するために、半導体ウェー
ハを粘着剤でガラス板に貼り付けた後に研磨している。
しかし、半導体ウェーハとガラス板との間に空気を咬み
気泡が残る場合があった。この場合、気泡のあるところ
は研磨時に半導体ウェーハが内側へ凹み、その部分だけ
変形したり、そこをオリジンとして割れたりすることが
あった。そこで、気泡を発生させない方法として、真空
中で貼り付ける方法が開発されている。この方法を図2
を用いて以下に説明する。
【0003】図2は、従来の真空中でウェーハ貼り付け
に用いるウエーハ貼り付け装置の断面図である。
【0004】図において、1はシリンダ、2は真空排気
口、3は真空チャンバ、4は加圧プレート、5はゴム
板、6は半導体ウェーハ、7は第2ネガレジスト、8は
第1ネガレジスト、9はガラス板、10はホットプレー
ト、11は傾き調整ネジ、12はヒータ、13は半導体
ウェーハ6の第2ネガレジスト7塗布面とガラス板9の
第1ネガレジスト8塗布面を貼り付けた貼り付け物であ
る。
【0005】この装置の構造を以下に説明する。シリン
ダ1は上下動自在で真空チャンバ3にOリング1aで真
空を保持した状態に取り付けられ、真空チャンバ3内に
ある下端には円形の加圧プレート4が取り付けられてい
る。また、加圧プレート4の裏面には下方に中心が最も
突起し、周端に向けて下方に凸ななだらかな傾斜を有す
るゴム板5が取り付けられている。ゴム板5の下方には
傾き調整ネジ11で上面を水平にした加熱用のヒータ1
2を内蔵したホットプレート10がチャンバ3内に配設
されている。さらに、真空チャンバ3内部を排気する真
空ポンプ(図示せず)に接続された真空排気口2が配設
されている。
【0006】この装置の使用方法を以下に説明する。真
空チャンバ3の外で、半導体ウェーハ6に第2ネガレジ
スト7を塗布した面とガラス板9に第1ネガレジスト8
を塗布した面を重ね合わせて重ね合わせ物13aを形成
する。このとき、後の真空排気でネガレジスト7、8を
発泡させないようにネガレジスト7、8中の揮発分を蒸
発させてから重ね合わせる。つづいて、真空チャンバ3
内のホットプレート10上にガラス板9を下にして、半
導体ウェーハ6の中心が加圧プレート4の中心の真下に
なるように載置する。つづいて、真空排気口2から真空
ポンプ(図示せず)で排気して、真空チャンバ3内を真
空にする。このとき、第1ネガレジスト8と第2ネガレ
ジスト7間の空気も排気する。
【0007】つづいて、ホットプレート10のヒータ1
2に通電して温度を上昇させ、半導体ウェーハ6とガラ
ス板9の重ね合わせ物13aを所定温度にコントロール
し、所定時間その温度に保つ。つづいて、加圧プレート
4を水平に保ちながらシリンダ1を下降させて、ゴム板
5の中心で半導体ウェーハ6の中心を加圧し、さらに下
降させてて半導体ウェーハ6の中心から外部に向かって
加圧面を広げながら全面を加圧する。このことにより、
第1ネガレジスト8と第2ネガレジスト7の貼り付け面
に残った気泡等を追い出しながら貼り付けて貼り付け物
13を形成する。つづいて、シリンダ1を上昇させると
共に真空を破り、半導体ウェーハ6とガラス板9の貼り
付け物13を取り出す。ここで、重ね合わせ物13aは
粘着剤塗布面で重ね合わせたのみで、貼り付け物13は
重ね合わせ物13aを加熱したり、加圧したりして、半
導体ウェーハ6とガラス板9をホトレジスト7、8で貼
り付けたことを意味する。
【0008】つづいて、つぎの工程である半導体ウェー
ハ6の研磨工程に貼り付け物13を供給する。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】上記の構成のウェーハ
貼り付け装置は、基板とウェーハの一組の貼り付けをす
るごとに真空を破り試料の出し入れをする必要があった
り、粘着剤間の空気を真空にしてできるだけ除去してか
ら重ね合わせ物を加熱開始して密着させるので所定の温
度に達するのに時間を要し、作業効率が悪かった。ま
た、粘着物で重ね合わせしてから真空にするために、粘
着物間または粘着物と基板、ウェーハ間に気泡が残る場
合があった。加圧で完全に気泡が除去できない場合に、
その後の研磨工程で気泡部分が変形したり、クラックの
オリジンとなりウェーハが割れることを完全に防止する
ことはできなかった。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために提案されたもので、基板とウェーハの少なく
とも一方の片面に粘着剤を塗布した基板とウェーハを粘
着剤塗布面で貼り付ける方法であって、基板とウェーハ
の貼り付け面同志を離した状態で排気した真空チャンバ
内の材料保管手段に載置する工程と、真空チャンバ内に
配設し貼り付け温度にした加熱手段上に基板とウェーハ
を移載して貼り付け物を形成する工程とを有するウェー
ハ貼り付け方法を提供する。このように、貼り付け温度
にした加熱手段上に移載して貼り付けをするので、加熱
手段を1回づつ昇温、降温しないので作業効率がよくな
る。また、基板とウェーハの貼り付け面同志を離した状
態で真空チャンバ内に載置するので、ウェーハ間に気泡
を咬むこともない。
【0011】上記方法に加えて、材料保管手段に載置す
る工程が基板とウェーハをそれぞれ複数枚載置し、貼り
付け物を形成する工程が基板とウェーハを1枚づつ貼り
付けし、加熱手段上から貼り付け物を取り出し真空チャ
ンバ内の貼り付け物保管手段に載置する工程を有し、順
次貼り付け物を形成するウェーハ貼り付け方法を提供す
る。このように、基板とウェーハをそれぞれ複数枚真空
チャンバ内に載置し、加熱手段上から貼り付け物を取り
出すようにしたので、複数枚の貼り付け物を形成してか
ら真空を破るので、作業効率がさらによくなる。
【0012】上記方法に加えて、大気中から基板とウェ
ーハを排気可能なサブ真空チャンバ内を経由して真空チ
ャンバを真空を保持した状態で材料保管手段に移載する
工程と、貼り付け物保管手段からサブ真空チャンバ中を
経由して真空チャンバを真空を保持した状態で大気中に
取り出す工程とを有するウェーハ貼り付け方法を提供す
る。このように、真空チャンバの真空を破ることなく、
基板とウェーハを大気中から供給し、貼り付け物を大気
中に取り出すので、連続して貼り付け物が形成できるの
で、作業効率は一層よくなる。
【0013】上記方法に加えて、基板とウェーハを材料
保管手段に載置する工程中に予備加熱した後貼り付け物
を形成する工程を行なうウェーハ貼り付け方法を提供す
る。このように、予備加熱後貼り付け温度に保持された
加熱手段上で貼り付けるので、十分に脱気されていて貼
り付け時の加熱で発泡することもなく、さらに加熱手段
上の時間も短縮でき、作業効率がよくなる。
【0014】上記方法に加えて、加熱手段上で貼り付け
物を加圧するウェーハ貼り付け方法を提供する。このよ
うに、加熱手段上での貼り付け時に加圧することによ
り、貼り付け時間が短縮でき、作業効率がよくなる。
【0015】上記方法に加えて、粘着剤がフォトレジス
トであるウェーハ貼り付け方法を提供する。このよう
に、粘着剤にフォトレジストを用いると、薄く均一に塗
布できるので、空気が貼り付け面に咬むことがなく、ま
た基板の面とウェーハの面が平行になり、研磨時に変形
したり、クラックのオリジンが発生しないので割れるこ
とがない。
【0016】また、基板とウェーハの少なくとも一方の
片面に粘着剤を塗布し、基板とウェーハを粘着剤塗布面
で貼り付ける装置であって、基板とウェーハの貼り付け
面同志を離した状態で真空中に載置する材料保管手段
と、貼り付け温度に加熱する加熱手段と、基板とウェー
ハを材料保管手段から加熱手段上に移載し貼り付け物を
形成する貼り付け手段とそれらを内部に収容する真空チ
ャンバとを有するウェーハ貼り付け装置を提供する。こ
装置によれば材料保管手段上で十分真空脱気して、貼り
付け温度に保たれた加熱手段上に移して貼り付け物を形
成することができ、昇温、降温の時間が不要で作業効率
がよくなる。また、基板とウェーハの貼り付け面同志を
離した状態で真空にするので、ウェーハ間に気泡を咬む
こともない。
【0017】上記装置に加えて、材料保管手段が基板と
ウェーハをそれぞれ複数枚載置可能で、貼り付け物を複
数枚載置する貼り付け物保管手段を真空チャンバ内に配
設し、貼り付け手段が加熱手段上の貼り付け物を貼り付
け物保管手段上に取り出す取出す機能を有するかまたは
専用の取出し手段とを真空チャンバ内に配設したウェー
ハ貼り付け装置を提供する。このように、基板とウェー
ハをそれぞれ複数枚載置可能にし、加熱手段上から貼り
付け物保管手段への貼り付け物の移載可能にしたので、
真空を破るまで複数枚の貼り付け物が形成されるので、
作業効率がさらによくなる。
【0018】上記装置に加えて、排気可能なサブ真空チ
ャンバと、大気中からサブ真空チャンバを経由して材料
保管手段に基板とウェーハを真空チャンバを真空に保持
した状態で移載する材料移載手段と、貼り付け物保管手
段からサブ真空チャンバを経由して大気中に前記貼り付
け物を真空チャンバを真空に保持した状態で移載する貼
り付け物移載手段とを配設したウェーハ貼り付け装置を
提供する。このように、真空チャンバの真空を破ること
なく、基板とウェーハを大気中から供給し、貼り付け物
を大気中に取り出すようにしたので、連続して貼り付け
物が形成でき、作業効率が一層よくなる。
【0019】上記装置に加えて、加熱手段上に載置され
た貼り付け物上から加圧する加圧手段を配設したウェー
ハ貼り付け装置を提供する。このように、加熱手段上に
加圧手段を配設したので、加圧により貼り付け時間が短
縮され、作業効率がよくなる。
【0020】上記装置に加えて、材料保管手段が予備加
熱手段を備えるウェーハ貼り付け装置を提供する。この
ように、材料保管手段を予備加熱手段にしたので、加熱
手段上に供給された基板やウェーハは既に温度が上昇し
ている。したがって、加熱手段上の張り合わせ時間が短
縮され、作業効率がよくなる。
【0021】
【発明の実施の形態】本発明を図1のウェーハ貼り付け
装置の断面図から説明する。ただし、図2と同じ部位は
同じ番号を付し、その説明を省略する。
【0022】図において、14は材料保管手段と予備加
熱手段とを兼ねる予備加熱プレート、15は突き上げピ
ン、16は貼り付け手段であるロボットである。
【0023】本発明の構造を以下に説明する。従来の装
置(図2)に付け加えられた構造を中心に説明する。加
熱手段であるホットプレート10の近傍に半導体ウェー
ハ6と基板としてのガラス板9を載置して、予備加熱す
る予備加熱プレート14が配設されている。この予備加
熱手段はここでは材料保管手段でもある。予備加熱プレ
ート14には予備加熱プレート14上の半導体ウェーハ
6とガラス板9を下方から突き上げる突き上げピン15
が配設されている。同様に、ホットプレート10にもホ
ットプレート10上の貼り付け物13を突き上げる突き
上げピン15が配設されている。また、ホットプレート
10と予備加熱プレート14の近傍にX、Y、Z方向へ
の移動および回転可能な腕16aを有するロボット16
が配設されている。
【0024】予備加熱プレート14は複数組の半導体ウ
ェーハ6とガラス板9を同時に載置し加熱するものであ
るが、材料保管手段は複数枚保管するのみで予備加熱手
段は手段は加熱プレートまたは赤外線ヒータで半導体ウ
ェーハ6とガラス板9の上または下から1枚づつ加熱す
るものでもよい。また、ウェーハ立て等の治具に複数枚
保管した状態で加熱してもい。加熱手段は加熱ヒータ1
2によるホットプレート10に限らず赤外線ヒータによ
り加熱板を下から加熱してもよい。突き上げピン15は
半導体ウェーハ6、ガラス板9および貼り付け物13の
少なくとも一方の辺または全体を持ち上げるものであれ
ばよい。さらに、突き上げる代わりに、予備加熱プレー
ト14およびホットプレート10の端部に半導体ウェー
ハ6、ガラス板9および貼り付け物13を移動させるも
のであってもよい。ロボット16の腕16aはそれらの
下に入れ、すくって動かすか、腕16aでそれらの物を
挟んで持ち上げるものであってもよい。
【0025】この装置の使用方法を以下に説明する。研
磨しない面に粘着剤例えば第2ネガレジスト7を塗布し
た複数枚のウェーハ例えば半導体ウェーハ6を第2ネガ
レジスト7を上を向けて、所定温度に保持された予備加
熱プレート14上の突き上げピン15で水平に持ち上げ
られる位置に載置する。所定温度とはネガレジスト7、
8が変質して粘着剤としての働きを失わず、貼り付けが
効率よくできる温度であればよい。また、片面に粘着剤
例えば第1ネガレジスト8を塗布した半導体ウェーハ6
と同じ複数枚の少なくとも半導体ウェーハ6と同じ大き
さかそれより大きな基板例えばガラス板9を第1ネガレ
ジスト8を上に向けて、予備加熱プレート14上の突き
上げピン15で水平に持ち上げられる位置に載置する。
基板はガラス板9に限らず、表面が平らで粘着剤で貼り
付けが可能であればよい。したがって、耐熱性のプラス
チックやセラミックや金属板でもよい。このとき、半導
体ウェーハ6用の予備加熱プレート14とガラス板9の
予備加熱プレート14を異なるものにしてもよいし、さ
らに予備加熱温度を異ならせてもよい。また、図示しな
いが、真空チャンバ3内の異なる場所に半導体ウェーハ
6とガラス板9を複数枚載置しておき、1枚づつ図示し
ないが移載手段またはロボット16で予備加熱プレート
14上に補充してもよい。また、第1ネガレジスト8と
第2ネガレジスト7は同じネガレジストであってもよい
し、半導体ウェーハ6とガラス板9の一方のみにネガレ
ジスト7、8を塗布してもよい。さらにネガレジスト
7、8を塗布した半導体ウェーハ6とガラス板9は真空
チャンバ3に入れる前に窒素雰囲気で加熱して、ネガレ
ジスト7、8内の有機溶剤を蒸発さておいてもよい。粘
着剤は薄く均一に塗布できて加熱により研磨に絶える接
着力を有するものであればよく、ポジレジスト、ワック
ス等でもよい。ネガフォレジストを用いるのは、明るい
ところで作業しても光による剥離等の心配がなく、薄く
均一で水平に塗布することが容易である。
【0026】つづいて、真空排気口2に接続された排気
手段(図示せず)で真空チャンバ3内の空気を排気して
真空にし、所定時間放置する。真空中で放置する目的は
ネガレジスト7、8より脱気するものであり、常温でも
時間をかければ効果があるが、ここでは所定の温度に加
熱することにより時間を短縮する。
【0027】つづいて、予備加熱プレート14上の第1
ネガレジスト8を塗布したガラス板9を突き上げピン1
5で突き上げ、予備加熱プレート14とガラス板9の空
間に貼り付け手段例えばロボット16の腕16aを差し
込み、ガラス板9を挟んで所定温度にコントロールされ
たホットプレート10上のゴム板5の中心の直下ににガ
ラス板9の中心がくるように移載する。つづいて、同様
に半導体ウェーハ6をロボット16で腕16aで挟んで
反転して移載し、ネガレジスト7、8を重ね合わせて重
ね合わせ物13aを形成する。予備加熱してからすでに
高温になっているホットプレート10上に移すので重ね
合わせ物13aは速やかに昇温してネガレジスト7、8
は軟化する。
【0028】つづいて、ホットプレート10に載置した
貼り付け物13が一定温度になったら、シリンダ1を下
降させゴム板5の中心で半導体ウェーハ6の略中心を加
圧し、徐々にゴム板5を下降させ中心から外周方向に加
圧してゴム板5で半導体ウェーハ6全面を加圧する。こ
の加圧により粘着物は強固に貼り付けられ、しかも短時
間で貼り付けができる。また、半導体ウェーハ6が反っ
ているような場合でも加圧で水平に貼り付けができる。
しかし、この場合は粘着剤が固まり加圧をを除いても反
らないようになってから加圧を中断する必要がある。ま
た、短時間で貼り付けができる。貼り付け物の熱容量が
小さいか、加熱温度が低くて貼り付けができれば予備加
熱は必ずしも必要としない。ガラス板9を上にし貼り付
けして貼り付け物13を形成してもよい。つづいて、ゴ
ム板5をシリンダ1で上昇させる。粘着剤の接着強度が
あれば必ずしも加圧を必要としない。
【0029】つづいて、この貼り付け物13を突き上げ
ピン15で突き上げて、ホットプレート10と貼り付け
物13の間にロボット16の腕16aを挿入して取り出
して、図示しないが真空チャンバ3内の貼り付け物保管
手段である決められた場所に載置する。この貼り付け物
保管手段は棚でもよいし、ウェーハ立てでもよいし、重
ね合わせて載置してもよいが水冷される冷却プレート上
でネガレジストを固化させるとよい。このロボット16
は貼り付け手段とは異なる取出し手段として専用のロボ
ットを真空チャンバ3内に配設しておいて用いてもよ
い。
【0030】以上の操作を繰り返して、複数の貼り付け
物13を真空チャンバ3の真空を破ることなく継続して
製造する。真空チャンバ3内に貼り付け未了の半導体ウ
ェーハ6およびガラス板9の一方ががなくなった後に真
空を破り、貼り付け物13を取り出す。一般には、半導
体ウェーハ6およびガラス板9は同じ枚数予備加熱ヒー
タ14上に載置してある。
【0031】複数枚づつの片面にフォトレジイスト7、
8を塗布した半導体ウェーハ6とガラス板9を、一度に
真空チャンバ内3に載置して、複数の貼り付け物13を
形成するまで真空を破ることがないので効率的に貼り付
けができる。また、真空にしてから貼り付けをするので
粘着剤間に空気を咬むことがないので、その後の研磨工
程で粘着剤間で剥離したり、ウェーハが割れたりするこ
とがない。
【0032】大気中から基板とウェーハが挿入可能で、
かつ排気可能な第1サブ真空チャンバを真空チャンバを
真空に保持した状態で基板とウェーハが挿入可能に付設
したり、真空チャンバから貼り付け物が真空チャンバを
真空を保持した状態で取出し可能な第2サブ真空チャン
バを付設してもよい。このとき、第1サブ真空チャンバ
から材料保管手段に、半導体ウェーハとガラス板を移載
する材料移載手段を配設したり、真空チャンバの貼り付
け物保管手段から第2サブ真空チャンバへ真空チャンバ
を真空を保持した状態で移載する貼り付け物移載手段を
配設してもよい。このようにサブ真空チャンバを2箇所
配設してもよい。また、第1サブ真空チャンバと第2サ
ブ真空チャンバを兼用してもよいし、さらに材料移載手
段と貼り付け物移載手段を兼用してもよい。材料移載手
段および貼り付け物移載手段は物をロボットの腕に載せ
たり、ロボットの腕で挟んで移載する。
【0033】このようにすれば、真空チャンバの真空を
破ることなく大気中からガラス板と半導体ウェーハを連
続的に供給し、貼り付け物を大気中に連続的に取り出す
ことができる。
【0034】真空チャンバ内に配設し貼り付け温度にし
た加熱手段上に基板とウェーハを移載して貼り付け物を
形成するだけで、加熱手段を1回づつ昇温、降温しない
ので作業効率がよくなる。また、基板とウェーハの貼り
付け面同志を離した状態で真空チャンバ内に載置するの
で、ウェーハ間に気泡を咬むこともない。
【0035】
【発明の効果】加熱された加熱手段上で基板とウェーハ
貼り付けするので、加熱手段を1回づつ昇温、降温しな
いので作業効率がよくなる。
【0036】また、真空チャンバ内に基板とウェーハを
複数枚づつ載置し、1枚づづ取り出して貼り付けし、加
熱手段上から貼り付け物を真空チャンバ内に取り出すよ
うにしたので、複数枚連続して貼り付けができる。
【0037】また、真空チャンバを真空にした状態でサ
ブ真空チャンバを経由して、基板、ウェーハ、貼り付け
物の出入を可能にしたので、連続して貼り付け作業がで
きる。
【0038】また、予備加熱後加熱して貼り付け物を形
成するので、短い時間で貼り付けができる。
【0039】また、貼り付け時に加圧するので短い時間
で貼り付けができる。
【0040】また、真空中でネガレジストで半導体ウェ
ーハとガラス板を張り合わせるので、粘着剤間に空気を
咬むことがないので、粘着剤間で剥離したり、ウェーハ
が割れたりすることがない。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のウェーハ貼り付け装置の断面図
【図2】 従来のウェーハ貼り付け装置の断面図
【符号の説明】
3 真空チャンバ 6 ウェーハ(半導体ウェーハ) 7 粘着剤(第2ネガレジスト) 8 粘着剤(第1ネガレジスト) 9 基板(ガラス板) 10 加熱手段(ホットプレート) 13 貼り付け物 14 材料保管手段(予備加熱プレート)

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】基板とウェーハとの少なくとも一方の片面
    に粘着剤を塗布し、前記基板と前記ウェーハを粘着剤塗
    布面で貼り付ける方法であって、基板とウェーハの貼り
    付け面同志を離した状態で排気した真空チャンバ内の材
    料保管手段に載置する工程と、前記真空チャンバ内に配
    設し貼り付け温度にした加熱手段上に前記基板と前記ウ
    ェーハを移載して貼り付け物を形成する工程とを有する
    ことを特徴とするウェーハ貼り付け方法。
  2. 【請求項2】前記材料保管手段に載置する工程が前記基
    板と前記ウェーハをそれぞれ複数枚載置し、前記貼り付
    け物を形成する工程が前記基板と前記ウェーハを1枚づ
    つ貼り付けし、前記加熱手段上から貼り付け物を取り出
    し前記真空チャンバ内の貼り付け物保管手段に載置する
    工程を有し、順次貼り付け物を形成することを特徴とす
    る請求項1記載のウェーハ貼り付け方法。
  3. 【請求項3】大気中から前記基板と前記ウェーハを排気
    可能なサブ真空チャンバ内を経由して前記真空チャンバ
    を真空を保持した状態で前記材料保管手段に移載する工
    程と、前記貼り付け物保管手段から前記貼り付け物を排
    気可能なサブ真空チャンバ中を経由して真空チャンバを
    真空を保持した状態で大気中に取り出す工程とを有する
    ことを特徴とする請求項1または請求項2記載のウェー
    ハ貼り付け方法。
  4. 【請求項4】前記基板と前記ウェーハを材料保管手段に
    載置する工程中に予備加熱した後に前記貼り付け物を形
    成する工程を行なうことを特徴とする請求項1、請求項
    2、または請求項3記載のウェーハ貼り付け方法。
  5. 【請求項5】前記加熱手段上で前記貼り付け物を加圧す
    ることを特徴とする請求項1、請求項2、請求項3また
    は請求項4記載のウェーハ貼り付け方法。
  6. 【請求項6】前記粘着剤がフォトレジストであることを
    特徴とする請求項1、請求項2、請求項3、請求項4、
    または請求項5記載のウェーハ貼り付け方法。
  7. 【請求項7】基板とウェーハの少なくとも一方の片面に
    粘着剤を塗布し、前記基板と前記ウェーハを粘着剤塗布
    面で貼り付ける装置であって、前記基板と前記ウェーハ
    の貼り付け面同志を離した状態で真空中に載置する材料
    保管手段と、貼り付け温度に加熱する加熱手段と、前記
    基板と前記ウェーハを前記材料保管手段から前記加熱手
    段上に移載し貼り付け物を形成する貼り付け手段と、そ
    れらを内部に収容する真空チャンバとを有することを特
    徴とするウェーハ貼り付け装置。
  8. 【請求項8】前記材料保管手段が前記基板と前記ウェー
    ハをそれぞれ複数枚載置可能で、前記貼り付け物を複数
    枚載置する貼り付け物保管手段を前記真空チャンバ内に
    配設し、前記貼り付け手段が前記加熱手段上の貼り付け
    物を前記貼り付け物保管手段上に取り出す機能を有する
    かまたはせにょうの取出し手段を前記真空チャンバ内に
    したことを特徴とする請求項7記載のウェーハ貼り付け
    装置。
  9. 【請求項9】排気可能なサブ真空チャンバと、大気中か
    ら前記サブ真空チャンバを経由して前記材料保管手段に
    前記基板と前記ウェーハを前記真空チャンバを真空に保
    持した状態で移載する材料移載手段と、前記貼り付け物
    保管手段から前記サブ真空チャンバを経由して大気中に
    前記貼り付け物を前記真空チャンバを真空に保持した状
    態で移載する貼り付け物移載手段とを配設したことを特
    徴とする請求項7または請求項8記載のウェーハ貼り付
    け装置。
  10. 【請求項10】前記加熱手段上に載置された前記貼り付
    け物上から加圧する加圧手段を配設したことを特徴とす
    る請求項7、請求項8または請求項9記載のウェーハ貼
    り付け装置。
  11. 【請求項11】前記材料保管手段が予備加熱手段を備え
    ることを特徴とする請求項7、請求項8、請求項9また
    は請求項10記載のウェーハ貼り付け装置。
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