JPH09325291A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPH09325291A JPH09325291A JP14325096A JP14325096A JPH09325291A JP H09325291 A JPH09325291 A JP H09325291A JP 14325096 A JP14325096 A JP 14325096A JP 14325096 A JP14325096 A JP 14325096A JP H09325291 A JPH09325291 A JP H09325291A
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 9
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
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- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 全走査範囲にわたりビームウエストの位置検
知精度を向上させる。 【解決手段】 光ビーム絞り板の開口部の幅を拡張し
(108)、光学系の開口数を大きくする。これによ
り、焦点調整時には画像露光時よりも焦点深度が浅くな
る。この状態で被走査面上のビーム径Rを検出し(11
0)、該ビーム径Rが基準範囲内にあるか否かを判定す
る(112)。ビーム径Rが基準範囲内にない場合は、
以後ビーム径Rが基準範囲内となるまで、コリメータレ
ンズを光軸に平行な方向に移動させることで(114)
光ビームの焦点位置を調整する。このように画像露光時
よりも焦点深度を浅くした状態で、焦点位置の調整を行
う。
知精度を向上させる。 【解決手段】 光ビーム絞り板の開口部の幅を拡張し
(108)、光学系の開口数を大きくする。これによ
り、焦点調整時には画像露光時よりも焦点深度が浅くな
る。この状態で被走査面上のビーム径Rを検出し(11
0)、該ビーム径Rが基準範囲内にあるか否かを判定す
る(112)。ビーム径Rが基準範囲内にない場合は、
以後ビーム径Rが基準範囲内となるまで、コリメータレ
ンズを光軸に平行な方向に移動させることで(114)
光ビームの焦点位置を調整する。このように画像露光時
よりも焦点深度を浅くした状態で、焦点位置の調整を行
う。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光走査装置に係
り、より詳しくは、光源から出射される光ビームを、偏
向手段を含む所定の光学系により被走査面に対して偏向
走査する光走査装置に関する。
り、より詳しくは、光源から出射される光ビームを、偏
向手段を含む所定の光学系により被走査面に対して偏向
走査する光走査装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、内蔵した光走査装置によっ
て、記録すべき画像に基づく光ビームを記録面に対して
主走査及び副走査することによって該記録面に画像を露
光するプリンタが知られている。このようなプリンタに
おいては、記録面に照射する光ビームの1画素あたりの
点灯時間(パルス幅)を変え、露光される画像の面積を
変えることにより階調表現を行う方法が知られている
(Pulse WidthModulation =
PWM方式)。
て、記録すべき画像に基づく光ビームを記録面に対して
主走査及び副走査することによって該記録面に画像を露
光するプリンタが知られている。このようなプリンタに
おいては、記録面に照射する光ビームの1画素あたりの
点灯時間(パルス幅)を変え、露光される画像の面積を
変えることにより階調表現を行う方法が知られている
(Pulse WidthModulation =
PWM方式)。
【0003】このPWM方式においては、光走査装置で
のビーム径の設定を主走査方向について画素サイズより
も小さくすると階調表現の幅が広がることが知られてい
る。即ち、主走査方向のビーム径を画素サイズに対し小
さく設定することにより、濃度の低い領域を再現するこ
とが可能となり、かつ中・高濃度域の階調表現に関して
もその再現の一様性が増す。例えば、特開平3−277
3号公報によると、主走査方向のビーム径を画素サイズ
に対し70%以下に設定すると、極めて高い効果がある
と示されている。これは400線のPWM方式の階調画
像では約44μm以下に、600線のPWM方式の階調
画像では約30μm以下に相当する。
のビーム径の設定を主走査方向について画素サイズより
も小さくすると階調表現の幅が広がることが知られてい
る。即ち、主走査方向のビーム径を画素サイズに対し小
さく設定することにより、濃度の低い領域を再現するこ
とが可能となり、かつ中・高濃度域の階調表現に関して
もその再現の一様性が増す。例えば、特開平3−277
3号公報によると、主走査方向のビーム径を画素サイズ
に対し70%以下に設定すると、極めて高い効果がある
と示されている。これは400線のPWM方式の階調画
像では約44μm以下に、600線のPWM方式の階調
画像では約30μm以下に相当する。
【0004】また、光走査装置を用いたプリンタ類にお
いては、その記録密度の高密度化という観点からも、記
録面におけるビーム径の小径化という要望があった。現
在のプリンタ類においては、主走査方向600spi×
副走査方向600spiという画素密度のものが主流と
なっている。この場合、1画素当たりのドットサイズは
主走査方向、副走査方向共に42μmとなる。一方、市
場の需要を考えると、今後主走査方向1200spi×
副走査方向1200spiという画素密度のものが望ま
れる。この場合、1画素当たりのドットサイズは主走査
方向、副走査方向共に21μmとなり、この画素密度か
ら要求される画像記録のためのビーム径は30μm程度
となる。
いては、その記録密度の高密度化という観点からも、記
録面におけるビーム径の小径化という要望があった。現
在のプリンタ類においては、主走査方向600spi×
副走査方向600spiという画素密度のものが主流と
なっている。この場合、1画素当たりのドットサイズは
主走査方向、副走査方向共に42μmとなる。一方、市
場の需要を考えると、今後主走査方向1200spi×
副走査方向1200spiという画素密度のものが望ま
れる。この場合、1画素当たりのドットサイズは主走査
方向、副走査方向共に21μmとなり、この画素密度か
ら要求される画像記録のためのビーム径は30μm程度
となる。
【0005】ところが、通常のレンズを用いた光学系の
光走査装置においては、主走査方向のビーム径を極端に
絞ることは困難である。即ち、レーザ光等の光ビームを
レンズを用いて結像させたビーム(ガウシアンビーム)
の場合、ビーム径を小さくしていくと、該ビームの焦点
深度が浅くなってしまう。その一方で、光走査装置にお
いては、結像した光ビームの深度方向の中心位置(ビー
ムウエスト)が必ずしも被走査面に一致せず、若干ずれ
るのが通例であり、また光源として用いることの多いレ
ーザダイオード素子は、周囲の温度変化に伴って、出射
する光ビームの波長が変動するため、ビームウエストの
位置も変動してしまう。
光走査装置においては、主走査方向のビーム径を極端に
絞ることは困難である。即ち、レーザ光等の光ビームを
レンズを用いて結像させたビーム(ガウシアンビーム)
の場合、ビーム径を小さくしていくと、該ビームの焦点
深度が浅くなってしまう。その一方で、光走査装置にお
いては、結像した光ビームの深度方向の中心位置(ビー
ムウエスト)が必ずしも被走査面に一致せず、若干ずれ
るのが通例であり、また光源として用いることの多いレ
ーザダイオード素子は、周囲の温度変化に伴って、出射
する光ビームの波長が変動するため、ビームウエストの
位置も変動してしまう。
【0006】これらの制約、さらには設計公差などを考
えると、一般的な光走査装置の主走査方向のビーム径
は、780nmの赤外光光源を用いた場合には50μm
程度が、670nmの可視光光源を用いた場合には42
μm程度が、その限界であると考えられる。
えると、一般的な光走査装置の主走査方向のビーム径
は、780nmの赤外光光源を用いた場合には50μm
程度が、670nmの可視光光源を用いた場合には42
μm程度が、その限界であると考えられる。
【0007】さらに小さいビーム径を得ようとする場
合、ビームウエストの位置変動を検知し、そのずれを補
正することによって、より小さいビーム径を得、より狭
い幅の焦点深度に対応することが可能になる。
合、ビームウエストの位置変動を検知し、そのずれを補
正することによって、より小さいビーム径を得、より狭
い幅の焦点深度に対応することが可能になる。
【0008】このようなビームウエストの位置変動の検
知及び自動焦点合わせ(オートフォーカス)方法に関す
る技術は、例えば特開平2−198412号公報に報告
されている。この特開平2−198412号公報には、
被走査面としての感光体ドラムの外周面と光学的に等価
な位置に配置したオートフォーカスセンサに光を導き、
その位置でのビーム径が最小となるよう、オートフォー
カスレンズの位置を調整するという技術が開示されてい
る。また、このような焦点合わせ(いわゆるフォーカシ
ング)の技術は特開平2−198412号公報以外にも
多数提案されている。
知及び自動焦点合わせ(オートフォーカス)方法に関す
る技術は、例えば特開平2−198412号公報に報告
されている。この特開平2−198412号公報には、
被走査面としての感光体ドラムの外周面と光学的に等価
な位置に配置したオートフォーカスセンサに光を導き、
その位置でのビーム径が最小となるよう、オートフォー
カスレンズの位置を調整するという技術が開示されてい
る。また、このような焦点合わせ(いわゆるフォーカシ
ング)の技術は特開平2−198412号公報以外にも
多数提案されている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来か
ら提案されているフォーカシングの技術には、以下のよ
うな問題点がある。
ら提案されているフォーカシングの技術には、以下のよ
うな問題点がある。
【0010】前述のように、通常の光走査装置では、あ
る一定の焦点深度内に像面湾曲、ビームウエストの変動
しろ及び設計公差を収めている。焦点深度内では、ビー
ムウエストから外れた位置のビーム径は、ビームウエス
トの位置のビーム径とほとんど変わらない。
る一定の焦点深度内に像面湾曲、ビームウエストの変動
しろ及び設計公差を収めている。焦点深度内では、ビー
ムウエストから外れた位置のビーム径は、ビームウエス
トの位置のビーム径とほとんど変わらない。
【0011】従って、このような光ビームを対象として
最もくびれた位置をオートフォーカスセンサで探した場
合でも、焦点深度内であればどこでも焦点が合ってい
る、即ち合焦とみなされてしまう。例えば、焦点深度内
での境界付近の位置(端部)であっても合焦とみなされ
てしまう。
最もくびれた位置をオートフォーカスセンサで探した場
合でも、焦点深度内であればどこでも焦点が合ってい
る、即ち合焦とみなされてしまう。例えば、焦点深度内
での境界付近の位置(端部)であっても合焦とみなされ
てしまう。
【0012】このような検知結果をオートフォーカスレ
ンズにフィードバックした場合、全走査範囲のうちオー
トフォーカスセンサの位置近傍では絞れたビーム径が得
られるが、全走査範囲において絞れたビーム径が得られ
ることを保証するのは困難であった。
ンズにフィードバックした場合、全走査範囲のうちオー
トフォーカスセンサの位置近傍では絞れたビーム径が得
られるが、全走査範囲において絞れたビーム径が得られ
ることを保証するのは困難であった。
【0013】本発明は上記問題点を解消するために成さ
れたものであり、全走査範囲にわたってビームウエスト
の位置検知の精度を向上させることができる光走査装置
を提供することを目的とする。
れたものであり、全走査範囲にわたってビームウエスト
の位置検知の精度を向上させることができる光走査装置
を提供することを目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の光走査装置は、光源から出射される
光ビームを、偏向手段を含む所定の光学系により被走査
面に対して偏向走査すると共に、所定のビーム径検出手
段で検出した前記被走査面における前記光ビームのビー
ム径が基準の範囲内となるように、該光ビームの焦点位
置を調整する機能を有する光走査装置であって、前記焦
点位置の調整時には、被走査面の走査時よりも前記光学
系の開口数を大きくすることを特徴とする。
に、請求項1記載の光走査装置は、光源から出射される
光ビームを、偏向手段を含む所定の光学系により被走査
面に対して偏向走査すると共に、所定のビーム径検出手
段で検出した前記被走査面における前記光ビームのビー
ム径が基準の範囲内となるように、該光ビームの焦点位
置を調整する機能を有する光走査装置であって、前記焦
点位置の調整時には、被走査面の走査時よりも前記光学
系の開口数を大きくすることを特徴とする。
【0015】なお、上記被走査面の走査時とは、光走査
装置において焦点位置の調整完了後に、目的とする光走
査を行う時間を意味する。
装置において焦点位置の調整完了後に、目的とする光走
査を行う時間を意味する。
【0016】また、請求項2記載の光走査装置は、光源
から出射される光ビームを、偏向手段を含む所定の光学
系により被走査面に対して偏向走査する光走査装置であ
って、前記被走査面と光学的に等価な位置に配置され、
該被走査面における前記光ビームのビーム径を検出する
ビーム径検出手段と、前記ビーム径検出手段で検出した
ビーム径が基準の範囲内となるように、該光ビームの焦
点位置を調整する焦点位置調整手段と、光路上に配置さ
れ、大きさが可変とされた開口部を有し、前記光ビーム
を該開口部を通過したビーム幅に絞る光ビーム絞り手段
と、前記焦点位置調整手段による焦点位置調整時に、前
記光ビーム絞り手段の開口部を被走査面の走査時よりも
大きくする制御手段と、を有することを特徴とする。
から出射される光ビームを、偏向手段を含む所定の光学
系により被走査面に対して偏向走査する光走査装置であ
って、前記被走査面と光学的に等価な位置に配置され、
該被走査面における前記光ビームのビーム径を検出する
ビーム径検出手段と、前記ビーム径検出手段で検出した
ビーム径が基準の範囲内となるように、該光ビームの焦
点位置を調整する焦点位置調整手段と、光路上に配置さ
れ、大きさが可変とされた開口部を有し、前記光ビーム
を該開口部を通過したビーム幅に絞る光ビーム絞り手段
と、前記焦点位置調整手段による焦点位置調整時に、前
記光ビーム絞り手段の開口部を被走査面の走査時よりも
大きくする制御手段と、を有することを特徴とする。
【0017】また、請求項3記載の光走査装置では、請
求項1又は請求項2に記載の光走査装置において、前記
ビーム径検出手段が、前記偏向手段からの反射角が小さ
くなる側の走査端部に配置されていることを特徴とす
る。
求項1又は請求項2に記載の光走査装置において、前記
ビーム径検出手段が、前記偏向手段からの反射角が小さ
くなる側の走査端部に配置されていることを特徴とす
る。
【0018】なお、偏向手段からの反射角とは、図6に
示す偏向手段90の反射面90Aで反射された光ビーム
の進行方向Yと反射面90Aの法線Uとが成す角度θを
意味する。
示す偏向手段90の反射面90Aで反射された光ビーム
の進行方向Yと反射面90Aの法線Uとが成す角度θを
意味する。
【0019】また、請求項4記載の光走査装置では、請
求項1又は請求項2に記載の光走査装置において、前記
ビーム径検出手段が、焦点位置調整時のみ光路上に挿入
されることを特徴とする。
求項1又は請求項2に記載の光走査装置において、前記
ビーム径検出手段が、焦点位置調整時のみ光路上に挿入
されることを特徴とする。
【0020】また、請求項5記載の光走査装置は、請求
項1又は請求項2に記載の光走査装置において、光路上
に配置され、前記光ビームを被走査面へ向けての光ビー
ムと前記ビーム径検出手段へ向けての光ビームとに分光
する分光手段をさらに有することを特徴とする。
項1又は請求項2に記載の光走査装置において、光路上
に配置され、前記光ビームを被走査面へ向けての光ビー
ムと前記ビーム径検出手段へ向けての光ビームとに分光
する分光手段をさらに有することを特徴とする。
【0021】また、請求項6記載の光走査装置では、請
求項1又は請求項2に記載の光走査装置において、前記
ビーム径検出手段が、走査両端部に配置されていること
を特徴とする。
求項1又は請求項2に記載の光走査装置において、前記
ビーム径検出手段が、走査両端部に配置されていること
を特徴とする。
【0022】また、請求項7記載の光走査装置は、請求
項1乃至請求項6の何れか一項に記載の光走査装置にお
いて、予め求められた光走査装置の像面湾曲の状態に基
づいて、光ビームの焦点位置を調整することを特徴とす
る。
項1乃至請求項6の何れか一項に記載の光走査装置にお
いて、予め求められた光走査装置の像面湾曲の状態に基
づいて、光ビームの焦点位置を調整することを特徴とす
る。
【0023】上記請求項1記載の光走査装置は、所定の
ビーム径検出手段で検出した被走査面における光ビーム
のビーム径が基準の範囲内となるように、該光ビームの
焦点位置を調整する機能を有する。この機能を利用して
光ビームの焦点位置を調整する時には、被走査面の走査
時よりも光学系の開口数を大きくする。換言すれば、F
ナンバーを小さくする。これにより、焦点位置調整時に
は走査時よりもビーム径が絞られ、焦点深度が浅くな
る。
ビーム径検出手段で検出した被走査面における光ビーム
のビーム径が基準の範囲内となるように、該光ビームの
焦点位置を調整する機能を有する。この機能を利用して
光ビームの焦点位置を調整する時には、被走査面の走査
時よりも光学系の開口数を大きくする。換言すれば、F
ナンバーを小さくする。これにより、焦点位置調整時に
は走査時よりもビーム径が絞られ、焦点深度が浅くな
る。
【0024】一例として、光源波長が670nm、走査
時の被走査面上のビーム径が30μm、焦点距離が19
0mmにそれぞれ設定された結像レンズを用いた光走査
装置において、焦点位置調整時に被走査面上のビーム径
を20μmにまで絞った場合の例を下表に示す。
時の被走査面上のビーム径が30μm、焦点距離が19
0mmにそれぞれ設定された結像レンズを用いた光走査
装置において、焦点位置調整時に被走査面上のビーム径
を20μmにまで絞った場合の例を下表に示す。
【0025】
【表1】
【0026】このように焦点深度が浅くなったときに焦
点位置を調整することにより、具体的にはビームウエス
トの位置を検知することにより、ビームウエストの位置
検知の精度を従来よりも向上させることができる。
点位置を調整することにより、具体的にはビームウエス
トの位置を検知することにより、ビームウエストの位置
検知の精度を従来よりも向上させることができる。
【0027】次に、請求項2記載の光走査装置では、光
ビームを絞る光ビーム絞り手段が光路上に配置されてい
る。これにより、走査時に被走査面を走査する光ビーム
は上記光ビーム絞り手段の開口部を通過したビーム幅に
絞られる。
ビームを絞る光ビーム絞り手段が光路上に配置されてい
る。これにより、走査時に被走査面を走査する光ビーム
は上記光ビーム絞り手段の開口部を通過したビーム幅に
絞られる。
【0028】一方、焦点位置調整時には、ビーム径検出
手段によって被走査面における光ビームのビーム径を検
出し、焦点位置調整手段によって前記検出したビーム径
が基準の範囲内となるように、該光ビームの焦点位置を
調整する。このような焦点位置調整時に、制御手段は、
光ビーム絞り手段の開口部を走査時よりも大きくする。
これにより、焦点位置調整時の光学系の開口数は走査時
に比べて大きくなり、焦点位置調整時には走査時よりも
ビーム径が絞られ、焦点深度が浅くなる。このように焦
点深度が浅くなったときに焦点位置を調整することによ
り、具体的にはビームウエストの位置を検知することに
より、ビームウエストの位置検知の精度を従来よりも向
上させることができる。
手段によって被走査面における光ビームのビーム径を検
出し、焦点位置調整手段によって前記検出したビーム径
が基準の範囲内となるように、該光ビームの焦点位置を
調整する。このような焦点位置調整時に、制御手段は、
光ビーム絞り手段の開口部を走査時よりも大きくする。
これにより、焦点位置調整時の光学系の開口数は走査時
に比べて大きくなり、焦点位置調整時には走査時よりも
ビーム径が絞られ、焦点深度が浅くなる。このように焦
点深度が浅くなったときに焦点位置を調整することによ
り、具体的にはビームウエストの位置を検知することに
より、ビームウエストの位置検知の精度を従来よりも向
上させることができる。
【0029】ところで、上記の表にも記載したように、
焦点位置調整時に光学系の開口数を走査時に比べて大き
くすることにより、偏向手段に入射する平行光幅も広く
なる。これに伴い、偏向手段により平行光がけられるよ
うでは本発明の効果は得られない。
焦点位置調整時に光学系の開口数を走査時に比べて大き
くすることにより、偏向手段に入射する平行光幅も広く
なる。これに伴い、偏向手段により平行光がけられるよ
うでは本発明の効果は得られない。
【0030】図6に示すように、光ビームは偏向手段9
0の反射面90Aに対して、反射角θの余弦値の逆数
(即ち、1/COS θ)を平行光幅L1に乗算した幅L2
に投影される。よって、偏向手段90からの光ビームの
反射角θが大きくなると、該反射角θの余弦値の逆数も
大きくなるので、反射面90A上での見かけの平行光幅
L2は広がり、偏向手段90により平行光がけられやす
くなる。
0の反射面90Aに対して、反射角θの余弦値の逆数
(即ち、1/COS θ)を平行光幅L1に乗算した幅L2
に投影される。よって、偏向手段90からの光ビームの
反射角θが大きくなると、該反射角θの余弦値の逆数も
大きくなるので、反射面90A上での見かけの平行光幅
L2は広がり、偏向手段90により平行光がけられやす
くなる。
【0031】そこで、上記請求項3記載の光走査装置の
ように、ビーム径検出手段は、偏向手段からの反射角が
小さくなる側の走査端部に配置することが望ましく、偏
向手段の偏向面上での見かけの平行光幅が広がり偏向手
段により平行光がけられることを防止することができ
る。
ように、ビーム径検出手段は、偏向手段からの反射角が
小さくなる側の走査端部に配置することが望ましく、偏
向手段の偏向面上での見かけの平行光幅が広がり偏向手
段により平行光がけられることを防止することができ
る。
【0032】このように偏向手段からの反射角が小さく
なる側にビーム径検出手段を配置することは、平行光の
けられ防止の点で望ましいが、偏向手段からの反射角が
小さくなる位置が被走査面の中心付近に対応する場合に
は、該ビーム径検出手段を配置することで走査不能なエ
リアが生じるといった不都合が発生する。
なる側にビーム径検出手段を配置することは、平行光の
けられ防止の点で望ましいが、偏向手段からの反射角が
小さくなる位置が被走査面の中心付近に対応する場合に
は、該ビーム径検出手段を配置することで走査不能なエ
リアが生じるといった不都合が発生する。
【0033】そこで、請求項4記載の光走査装置のよう
に、ビーム径検出手段を焦点位置調整時のみ光路上に挿
入するように制御すれば、走査不能なエリアが生じると
いった不都合は解消される。
に、ビーム径検出手段を焦点位置調整時のみ光路上に挿
入するように制御すれば、走査不能なエリアが生じると
いった不都合は解消される。
【0034】また、請求項5記載の光走査装置のよう
に、分光手段を光路上に配置し、該分光手段によって光
ビームを、被走査面へ向けての光ビームとビーム径検出
手段へ向けての光ビームとに分光するよう構成すれば、
走査不能なエリアが生じるといった不都合は解消され
る。
に、分光手段を光路上に配置し、該分光手段によって光
ビームを、被走査面へ向けての光ビームとビーム径検出
手段へ向けての光ビームとに分光するよう構成すれば、
走査不能なエリアが生じるといった不都合は解消され
る。
【0035】なお、請求項6記載の光走査装置のよう
に、ビーム径検出手段を、走査両端部に配置し、該走査
両端部のビーム径検出手段による検出結果に基づいて焦
点位置調整を行うことにより、より正確に光走査装置の
像面湾曲の状態に基づく焦点位置調整を行うことができ
る。
に、ビーム径検出手段を、走査両端部に配置し、該走査
両端部のビーム径検出手段による検出結果に基づいて焦
点位置調整を行うことにより、より正確に光走査装置の
像面湾曲の状態に基づく焦点位置調整を行うことができ
る。
【0036】ところで、走査端部にビーム径検出手段を
配置する場合、像面湾曲の影響も考慮に入れない限り、
被走査面全体での良好な焦点合わせは難しい。特に、走
査端部では被走査面よりも離れた位置にビームウエスト
を設定した方が、被走査面全体についてみた場合ビーム
ウエストの位置が合うことが多い。
配置する場合、像面湾曲の影響も考慮に入れない限り、
被走査面全体での良好な焦点合わせは難しい。特に、走
査端部では被走査面よりも離れた位置にビームウエスト
を設定した方が、被走査面全体についてみた場合ビーム
ウエストの位置が合うことが多い。
【0037】そこで、請求項7記載の光走査装置のよう
に、予め求められた光走査装置の像面湾曲の状態に応じ
て、例えば、上記のように走査端部では被走査面よりも
離れた位置にビームウエストを設定するなどして、光ビ
ームの焦点位置を調整することが望ましい。上記のよう
な光走査装置の像面湾曲の状態に基づく焦点位置調整に
よれば、像面湾曲の影響による走査面の部分的な焦点ず
れをなくし、被走査面全体で良好なビームウエスト位置
を保証することができる。
に、予め求められた光走査装置の像面湾曲の状態に応じ
て、例えば、上記のように走査端部では被走査面よりも
離れた位置にビームウエストを設定するなどして、光ビ
ームの焦点位置を調整することが望ましい。上記のよう
な光走査装置の像面湾曲の状態に基づく焦点位置調整に
よれば、像面湾曲の影響による走査面の部分的な焦点ず
れをなくし、被走査面全体で良好なビームウエスト位置
を保証することができる。
【0038】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
係る光走査装置の各種実施形態を順に説明する。
係る光走査装置の各種実施形態を順に説明する。
【0039】[第1実施形態]図1には、本発明に係る
光走査装置を適用した画像露光装置の全体概略構成図を
示す。この図1に示すように、画像露光装置10には、
光源としてのレーザダイオード12と、露光すべき画像
に対応した画像信号に基づいてレーザダイオード12を
駆動するレーザダイオード駆動回路36と、が設置され
ている。このレーザダイオード駆動回路36からの駆動
信号に基づいて、レーザダイオード12から露光すべき
画像に基づく光ビームが射出される。
光走査装置を適用した画像露光装置の全体概略構成図を
示す。この図1に示すように、画像露光装置10には、
光源としてのレーザダイオード12と、露光すべき画像
に対応した画像信号に基づいてレーザダイオード12を
駆動するレーザダイオード駆動回路36と、が設置され
ている。このレーザダイオード駆動回路36からの駆動
信号に基づいて、レーザダイオード12から露光すべき
画像に基づく光ビームが射出される。
【0040】レーザダイオード12の光ビーム出射側近
傍には、レーザダイオード12からの光ビームを矢印L
方向において拡散光から平行光に変換するためのコリメ
ータレンズ14が配置されている。このコリメータレン
ズ14の光ビーム出射側には、大きさが可変とされた開
口部16Aを有する光ビーム絞り板16が設置されてい
る。コリメータレンズ14で平行光とされた光ビーム
は、光ビーム絞り板16によって光幅が絞られる。な
お、この光ビーム絞り板16によって光幅を絞る目的
は、レーザダイオード12の拡がり角の個体ごとの差異
による平行光幅のばらつきを抑え、後述する感光体ドラ
ム28上に結像されるビーム径を一定にすることにあ
る。
傍には、レーザダイオード12からの光ビームを矢印L
方向において拡散光から平行光に変換するためのコリメ
ータレンズ14が配置されている。このコリメータレン
ズ14の光ビーム出射側には、大きさが可変とされた開
口部16Aを有する光ビーム絞り板16が設置されてい
る。コリメータレンズ14で平行光とされた光ビーム
は、光ビーム絞り板16によって光幅が絞られる。な
お、この光ビーム絞り板16によって光幅を絞る目的
は、レーザダイオード12の拡がり角の個体ごとの差異
による平行光幅のばらつきを抑え、後述する感光体ドラ
ム28上に結像されるビーム径を一定にすることにあ
る。
【0041】光ビーム絞り板16の光ビーム出射側に
は、図1の紙面垂直方向(副走査方向)において光ビー
ムを後述する回転多面鏡22の反射面22C上に収束さ
せるシリンドリカルレンズ18が設置されている。光ビ
ーム絞り板16で光幅が絞られた光ビームは、シリンド
リカルレンズ18を透過しミラー20で反射された後、
回転多面鏡22の側面に設けられた反射面22C上に収
束する。
は、図1の紙面垂直方向(副走査方向)において光ビー
ムを後述する回転多面鏡22の反射面22C上に収束さ
せるシリンドリカルレンズ18が設置されている。光ビ
ーム絞り板16で光幅が絞られた光ビームは、シリンド
リカルレンズ18を透過しミラー20で反射された後、
回転多面鏡22の側面に設けられた反射面22C上に収
束する。
【0042】回転多面鏡22は、その側面に反射面22
Cを8面有すると共に、図示しないスキャナモータによ
って軸22Bを中心に矢印Q1方向に等角速度で回転し
ており、各反射面22Cへの光ビームの入射角を連続的
に変化させ偏向する役割を有している。即ち、回転多面
鏡22は、光ビームを偏向して矢印Mで示す主走査方向
に沿って走査させる。
Cを8面有すると共に、図示しないスキャナモータによ
って軸22Bを中心に矢印Q1方向に等角速度で回転し
ており、各反射面22Cへの光ビームの入射角を連続的
に変化させ偏向する役割を有している。即ち、回転多面
鏡22は、光ビームを偏向して矢印Mで示す主走査方向
に沿って走査させる。
【0043】回転多面鏡22によって偏向された光ビー
ムの進行方向には、該光ビームを感光体ドラム28にお
ける被走査面28A上に主走査方向に収束させ且つ該収
束点を矢印Mで示す主走査方向に等速度移動させるため
のfθレンズ24が配置されている。fθレンズ24を
透過した光ビームは、上記シリンドリカルレンズ18と
同様に副走査方向にレンズパワーを有するシリンドリカ
ルレンズ26を介して被走査面28A上に結像する。
ムの進行方向には、該光ビームを感光体ドラム28にお
ける被走査面28A上に主走査方向に収束させ且つ該収
束点を矢印Mで示す主走査方向に等速度移動させるため
のfθレンズ24が配置されている。fθレンズ24を
透過した光ビームは、上記シリンドリカルレンズ18と
同様に副走査方向にレンズパワーを有するシリンドリカ
ルレンズ26を介して被走査面28A上に結像する。
【0044】一方、感光体ドラム28は軸Vを中心とし
て矢印Q2方向に回転している。即ち、被走査面28A
は図1において紙面垂直方向に(副走査方向に)スクロ
ールしている。
て矢印Q2方向に回転している。即ち、被走査面28A
は図1において紙面垂直方向に(副走査方向に)スクロ
ールしている。
【0045】よって、上記fθレンズ24の作用による
被走査面28A上の結像点の主走査方向に沿った等速度
移動と、被走査面28Aの副走査方向へのスクロール
と、によって、被走査面28Aは光ビームにより走査さ
れる。
被走査面28A上の結像点の主走査方向に沿った等速度
移動と、被走査面28Aの副走査方向へのスクロール
と、によって、被走査面28Aは光ビームにより走査さ
れる。
【0046】上記シリンドリカルレンズ26と感光体ド
ラム28との間で、回転多面鏡22による反射角が小さ
くなる側(図1において下側)の走査端には、小さいサ
イズのピックアップミラー30が設置されており、該ピ
ックアップミラー30による反射方向で光学的に被走査
面28Aと等価な位置には、CCDイメージセンサで構
成されたオートフォーカスセンサ32が設置されてい
る。よって、オートフォーカスセンサ32上に結像した
光ビームのビーム径を検出することにより、被走査面2
8A上に結像した光ビームのビーム径を検出することが
できる。
ラム28との間で、回転多面鏡22による反射角が小さ
くなる側(図1において下側)の走査端には、小さいサ
イズのピックアップミラー30が設置されており、該ピ
ックアップミラー30による反射方向で光学的に被走査
面28Aと等価な位置には、CCDイメージセンサで構
成されたオートフォーカスセンサ32が設置されてい
る。よって、オートフォーカスセンサ32上に結像した
光ビームのビーム径を検出することにより、被走査面2
8A上に結像した光ビームのビーム径を検出することが
できる。
【0047】オートフォーカスセンサ32上に結像した
光ビームの画像データは、図示しないマイクロコンピュ
ータを含んで構成された制御部34に入力され、制御部
34で前記画像データに基づいてビーム径が検出され
る。
光ビームの画像データは、図示しないマイクロコンピュ
ータを含んで構成された制御部34に入力され、制御部
34で前記画像データに基づいてビーム径が検出され
る。
【0048】制御部34は、検出したビーム径が予め定
められた基準範囲内に収まるように、コリメータレンズ
14を光軸に平行な方向(図1において左右方向)に移
動させて、光ビームの焦点位置を調整する焦点位置調整
機能を有する。また、制御部34はこの焦点位置調整機
能を実行するときに一時的に光ビーム絞り板16の開口
部16Aの幅を大きくし、精度の高い焦点位置調整を行
う。このときの光幅は図1において実線で示されてい
る。焦点位置調整処理についての詳細な動作は後述す
る。なお、焦点位置調整の実行後は光ビーム絞り板16
の開口部16Aの幅を、図1において破線で示す元の状
態に戻す。
められた基準範囲内に収まるように、コリメータレンズ
14を光軸に平行な方向(図1において左右方向)に移
動させて、光ビームの焦点位置を調整する焦点位置調整
機能を有する。また、制御部34はこの焦点位置調整機
能を実行するときに一時的に光ビーム絞り板16の開口
部16Aの幅を大きくし、精度の高い焦点位置調整を行
う。このときの光幅は図1において実線で示されてい
る。焦点位置調整処理についての詳細な動作は後述す
る。なお、焦点位置調整の実行後は光ビーム絞り板16
の開口部16Aの幅を、図1において破線で示す元の状
態に戻す。
【0049】次に、本第1実施形態の作用として焦点位
置調整処理を図2を用いて説明する。
置調整処理を図2を用いて説明する。
【0050】一日における画像露光装置10の始動時や
オペレータにより所定のボタンが操作されたとき等に、
焦点位置調整処理が制御部34によって実行開始され
る。図2のステップ102では制御部34内のROMか
ら該画像露光装置10の像面湾曲の状態に関する情報を
読み出し、次のステップ104では該像面湾曲の状態に
関する情報に基づいて、ビームウエストの位置が被走査
面28Aの全体にわたって最も合う状態を設定し、該最
も合う状態における走査端部のオートフォーカスセンサ
32上でのビーム径についての基準範囲を算出する。
オペレータにより所定のボタンが操作されたとき等に、
焦点位置調整処理が制御部34によって実行開始され
る。図2のステップ102では制御部34内のROMか
ら該画像露光装置10の像面湾曲の状態に関する情報を
読み出し、次のステップ104では該像面湾曲の状態に
関する情報に基づいて、ビームウエストの位置が被走査
面28Aの全体にわたって最も合う状態を設定し、該最
も合う状態における走査端部のオートフォーカスセンサ
32上でのビーム径についての基準範囲を算出する。
【0051】次のステップ106ではレーザダイオード
12を点灯し、レーザダイオード12から所定光量の光
ビームを射出させる。次のステップ108では光ビーム
絞り板16の開口部16Aの幅を拡張する。これによ
り、光学系の開口数が大きくなる。従って、前述したよ
うに、焦点位置調整時には走査時よりも焦点深度が浅く
なる。
12を点灯し、レーザダイオード12から所定光量の光
ビームを射出させる。次のステップ108では光ビーム
絞り板16の開口部16Aの幅を拡張する。これによ
り、光学系の開口数が大きくなる。従って、前述したよ
うに、焦点位置調整時には走査時よりも焦点深度が浅く
なる。
【0052】このように焦点深度が浅くなった状態で、
次のステップ110ではオートフォーカスセンサ32上
に結像した光ビームのビーム径Rを検出する。次のステ
ップ112では、該検出したビーム径Rが上記ステップ
104で算出した基準範囲内にあるか否かを判定する。
ビーム径Rが基準範囲内にない場合はステップ114へ
進み、コリメータレンズ14を光軸に平行な方向に移動
させて位置調整する。そして、位置調整後にはステップ
110へ戻り、位置調整後の状態で再度オートフォーカ
スセンサ32上に結像した光ビームのビーム径Rを検出
する。次のステップ112で位置調整後の状態でのビー
ム径Rが基準範囲内にあるか否かを判定し、ここでビー
ム径Rが基準範囲内にある場合は、当該時点の状態で合
焦したと判断することができる。
次のステップ110ではオートフォーカスセンサ32上
に結像した光ビームのビーム径Rを検出する。次のステ
ップ112では、該検出したビーム径Rが上記ステップ
104で算出した基準範囲内にあるか否かを判定する。
ビーム径Rが基準範囲内にない場合はステップ114へ
進み、コリメータレンズ14を光軸に平行な方向に移動
させて位置調整する。そして、位置調整後にはステップ
110へ戻り、位置調整後の状態で再度オートフォーカ
スセンサ32上に結像した光ビームのビーム径Rを検出
する。次のステップ112で位置調整後の状態でのビー
ム径Rが基準範囲内にあるか否かを判定し、ここでビー
ム径Rが基準範囲内にある場合は、当該時点の状態で合
焦したと判断することができる。
【0053】このようにして焦点位置調整が完了した後
は、ステップ116へ進み、光ビーム絞り板16の開口
部16Aの幅を元に戻す。
は、ステップ116へ進み、光ビーム絞り板16の開口
部16Aの幅を元に戻す。
【0054】以上説明した第1実施形態によれば、焦点
深度が浅くなったときに焦点位置を調整することによ
り、ビームウエストの位置検知の精度を従来よりも向上
させることができる。これに伴い、好適なビーム径によ
る画像露光を行うことができ、露光されて形成される画
像の質を向上させることができる。
深度が浅くなったときに焦点位置を調整することによ
り、ビームウエストの位置検知の精度を従来よりも向上
させることができる。これに伴い、好適なビーム径によ
る画像露光を行うことができ、露光されて形成される画
像の質を向上させることができる。
【0055】また、上記第1実施形態では、予め求めら
れた画像露光装置10の像面湾曲の状態に関する情報に
基づいて、ビームウエストの位置が被走査面28Aの全
体にわたって最も合う状態を設定し、該最も合う状態に
おける走査端のオートフォーカスセンサ32上でのビー
ム径についての基準範囲を算出し、この基準範囲を、合
焦したか否かの判定基準としているので、像面湾曲の影
響による被走査面における部分的な焦点ずれをなくし、
被走査面全体で良好なビームウエスト位置を保証するこ
とができる。
れた画像露光装置10の像面湾曲の状態に関する情報に
基づいて、ビームウエストの位置が被走査面28Aの全
体にわたって最も合う状態を設定し、該最も合う状態に
おける走査端のオートフォーカスセンサ32上でのビー
ム径についての基準範囲を算出し、この基準範囲を、合
焦したか否かの判定基準としているので、像面湾曲の影
響による被走査面における部分的な焦点ずれをなくし、
被走査面全体で良好なビームウエスト位置を保証するこ
とができる。
【0056】ところで、上記第1実施形態では、焦点位
置調整時に光学系の開口数を走査時に比べて大きくした
ので、回転多面鏡22に入射する平行光幅も広くなる。
これに伴い、回転多面鏡22によって平行光がけられる
ことが懸念される。なお、光ビームは回転多面鏡22の
反射面に対して、反射角の余弦値の逆数を平行光幅に乗
算した幅に投影される。そこで、上記画像露光装置10
ではオートフォーカスセンサ32及びピックアップミラ
ー30を回転多面鏡22からの反射角が小さくなる側
(図1において下側)の走査端部に配置している。従っ
て、回転多面鏡22の反射面上での見かけの平行光幅の
広がりを小さく抑えることができ、回転多面鏡22によ
り平行光がけられることを防止することができる。
置調整時に光学系の開口数を走査時に比べて大きくした
ので、回転多面鏡22に入射する平行光幅も広くなる。
これに伴い、回転多面鏡22によって平行光がけられる
ことが懸念される。なお、光ビームは回転多面鏡22の
反射面に対して、反射角の余弦値の逆数を平行光幅に乗
算した幅に投影される。そこで、上記画像露光装置10
ではオートフォーカスセンサ32及びピックアップミラ
ー30を回転多面鏡22からの反射角が小さくなる側
(図1において下側)の走査端部に配置している。従っ
て、回転多面鏡22の反射面上での見かけの平行光幅の
広がりを小さく抑えることができ、回転多面鏡22によ
り平行光がけられることを防止することができる。
【0057】なお、焦点位置調整時に光学系の開口数を
大きくするためには、光ビーム絞り板16の開口部16
Aを拡張する以外にも、例えば、光ビーム絞り板16を
光路から退避させても良い。また、光ビーム絞り板16
に代わり、各画素毎に開閉可能とされた液晶シャッタを
設置し、該液晶シャッタにおいて開いた状態の画素数を
増加させることによって光学系の開口数を大きくしても
良い。
大きくするためには、光ビーム絞り板16の開口部16
Aを拡張する以外にも、例えば、光ビーム絞り板16を
光路から退避させても良い。また、光ビーム絞り板16
に代わり、各画素毎に開閉可能とされた液晶シャッタを
設置し、該液晶シャッタにおいて開いた状態の画素数を
増加させることによって光学系の開口数を大きくしても
良い。
【0058】また、上記第1実施形態において、図5に
示すようにオートフォーカスセンサ32及び該オートフ
ォーカスセンサ32への導光手段としてのピックアップ
ミラー30を走査両端部に配置し、該走査両端部におい
て検出したビーム径に基づいて焦点位置調整を行っても
良い。この場合、より正確に光走査装置の像面湾曲の状
態に基づく焦点位置調整を行うことができる。
示すようにオートフォーカスセンサ32及び該オートフ
ォーカスセンサ32への導光手段としてのピックアップ
ミラー30を走査両端部に配置し、該走査両端部におい
て検出したビーム径に基づいて焦点位置調整を行っても
良い。この場合、より正確に光走査装置の像面湾曲の状
態に基づく焦点位置調整を行うことができる。
【0059】また、上記第1実施形態では、オートフォ
ーカスセンサ32をCCDイメージセンサで構成した例
を示したが、同様な効果を示すものなら何を用いても良
い。例えば、オートフォーカスセンサ32の位置にガラ
スファイバを設置した上で、該ガラスファイバに導光
し、最も光量が大きくなるよう該ガラスファイバの反対
側の端面の光量センサでセンシングしても良い。
ーカスセンサ32をCCDイメージセンサで構成した例
を示したが、同様な効果を示すものなら何を用いても良
い。例えば、オートフォーカスセンサ32の位置にガラ
スファイバを設置した上で、該ガラスファイバに導光
し、最も光量が大きくなるよう該ガラスファイバの反対
側の端面の光量センサでセンシングしても良い。
【0060】また、上記第1実施形態では、コリメータ
レンズ14を光軸に平行な方向に移動させて位置調整す
ることにより、光ビームの焦点位置調整を行う例を示し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、同様な
効果を示すものなら何を用いても良い。
レンズ14を光軸に平行な方向に移動させて位置調整す
ることにより、光ビームの焦点位置調整を行う例を示し
たが、本発明はこれに限定されるものではなく、同様な
効果を示すものなら何を用いても良い。
【0061】[第2実施形態]次に、本発明に係る第2
実施形態を説明する。この第2実施形態は請求項4及び
請求項5の発明に対応し、ここでは上記第1実施形態の
画像露光装置10で回転多面鏡22からの反射角が小さ
くなる位置が被走査面28Aの中心付近に対応するケー
スにおけるオートフォーカスセンサ32の配置例を、図
3、図4を用いて説明する。これらの図3、図4には、
画像露光装置の概略構成を、図1の紙面垂直方向に対応
する副走査方向を上下方向として示している。
実施形態を説明する。この第2実施形態は請求項4及び
請求項5の発明に対応し、ここでは上記第1実施形態の
画像露光装置10で回転多面鏡22からの反射角が小さ
くなる位置が被走査面28Aの中心付近に対応するケー
スにおけるオートフォーカスセンサ32の配置例を、図
3、図4を用いて説明する。これらの図3、図4には、
画像露光装置の概略構成を、図1の紙面垂直方向に対応
する副走査方向を上下方向として示している。
【0062】まず、図3に示す画像露光装置10Aで
は、シリンドリカルレンズ26を透過した光ビームをミ
ラー38によって、副走査方向にみて若干下向きに反射
する。該下向きに反射された光ビームの進行方向にはミ
ラー40が設置されており、該ミラー40による反射方
向には感光体ドラム28が設置されている。
は、シリンドリカルレンズ26を透過した光ビームをミ
ラー38によって、副走査方向にみて若干下向きに反射
する。該下向きに反射された光ビームの進行方向にはミ
ラー40が設置されており、該ミラー40による反射方
向には感光体ドラム28が設置されている。
【0063】さらに、ミラー40からの光ビームを反射
するピックアップミラー30Aと、光学的に感光体ドラ
ム28の被走査面28Aと等価な位置に配置されたオー
トフォーカスセンサ32Aと、で構成された受光装置3
1が、ミラー40と感光体ドラム28との間に挿入可能
に設けられている。
するピックアップミラー30Aと、光学的に感光体ドラ
ム28の被走査面28Aと等価な位置に配置されたオー
トフォーカスセンサ32Aと、で構成された受光装置3
1が、ミラー40と感光体ドラム28との間に挿入可能
に設けられている。
【0064】ところが、画像露光装置10Aでは回転多
面鏡22からの反射角が小さくなる位置が走査端部でな
く走査中心付近に対応する。即ち、画像露光時に受光装
置31がミラー40と感光体ドラム28との間に挿入さ
れていると、該受光装置31によって光ビームが遮ら
れ、露光不能なエリアができてしまう。
面鏡22からの反射角が小さくなる位置が走査端部でな
く走査中心付近に対応する。即ち、画像露光時に受光装
置31がミラー40と感光体ドラム28との間に挿入さ
れていると、該受光装置31によって光ビームが遮ら
れ、露光不能なエリアができてしまう。
【0065】そこで、本第2実施形態の画像露光装置1
0Aでは、焦点位置調整時のみ受光装置31を図示しな
い搬送機構によって矢印W2方向に移動させ光路に挿入
し、オートフォーカスセンサ32Aを感光体ドラム28
の被走査面28Aと等価な位置に配置する。焦点位置調
整の終了後は受光装置31を図示しない搬送機構によっ
て矢印W1方向に移動させ、光路から退避させる。
0Aでは、焦点位置調整時のみ受光装置31を図示しな
い搬送機構によって矢印W2方向に移動させ光路に挿入
し、オートフォーカスセンサ32Aを感光体ドラム28
の被走査面28Aと等価な位置に配置する。焦点位置調
整の終了後は受光装置31を図示しない搬送機構によっ
て矢印W1方向に移動させ、光路から退避させる。
【0066】このように受光装置31を焦点位置調整時
のみ光路上に挿入するように制御することにより、該受
光装置31が光ビームの走査の障害物となって露光不能
なエリアが生じるといった不都合は解消される。
のみ光路上に挿入するように制御することにより、該受
光装置31が光ビームの走査の障害物となって露光不能
なエリアが生じるといった不都合は解消される。
【0067】また、図4に示す画像露光装置10Bのよ
うに、図3のピックアップミラー30Aの代わりに、光
ビームを感光体ドラム28へ向けての光ビームとオート
フォーカスセンサ32Bへ向けての光ビームとに分光す
るハーフミラー30Bを設置しても良く、この場合にも
上記同様に露光不能なエリアが生じるといった不都合を
解消できる。
うに、図3のピックアップミラー30Aの代わりに、光
ビームを感光体ドラム28へ向けての光ビームとオート
フォーカスセンサ32Bへ向けての光ビームとに分光す
るハーフミラー30Bを設置しても良く、この場合にも
上記同様に露光不能なエリアが生じるといった不都合を
解消できる。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように、請求項1又は請求
項2に記載の発明によれば、焦点深度が浅くなったとき
に焦点位置を調整することにより、ビームウエストの位
置検知の精度を従来よりも向上させ、焦点位置を精度良
く調整することができる、という効果が得られる。
項2に記載の発明によれば、焦点深度が浅くなったとき
に焦点位置を調整することにより、ビームウエストの位
置検知の精度を従来よりも向上させ、焦点位置を精度良
く調整することができる、という効果が得られる。
【0069】また、請求項3記載の発明によれば、偏向
手段の偏向面上での見かけの平行光幅が広がり偏向手段
により平行光がけられることを防止することができる、
という効果が得られる。
手段の偏向面上での見かけの平行光幅が広がり偏向手段
により平行光がけられることを防止することができる、
という効果が得られる。
【0070】また、請求項4又は請求項5に記載の発明
によれば、走査不能なエリアが生じるといった不都合を
解消することができる、という効果が得られる。
によれば、走査不能なエリアが生じるといった不都合を
解消することができる、という効果が得られる。
【0071】また、請求項6記載の発明によれば、より
正確に光走査装置の像面湾曲の状態に基づいた焦点位置
の調整を行うことができる、という効果が得られる。
正確に光走査装置の像面湾曲の状態に基づいた焦点位置
の調整を行うことができる、という効果が得られる。
【0072】また、請求項7記載の発明によれば、像面
湾曲の影響による走査面の部分的な焦点ずれをなくし、
被走査面全体で良好なビームウエスト位置を保証するこ
とができる、という効果が得られる。
湾曲の影響による走査面の部分的な焦点ずれをなくし、
被走査面全体で良好なビームウエスト位置を保証するこ
とができる、という効果が得られる。
【図1】本実施形態における光走査装置の概略構成図で
ある。
ある。
【図2】本実施形態の光走査装置における焦点位置調整
処理の制御ルーチンを示す流れ図である。
処理の制御ルーチンを示す流れ図である。
【図3】焦点位置調整処理の実行時のみピックアップミ
ラー及びCCDを光路に挿入する光走査装置の概略構成
図である。
ラー及びCCDを光路に挿入する光走査装置の概略構成
図である。
【図4】ピックアップミラーをハーフミラーで構成した
光走査装置の概略構成図である。
光走査装置の概略構成図である。
【図5】オートフォーカスセンサを走査両端部に設置し
た光走査装置の概略構成図である。
た光走査装置の概略構成図である。
【図6】偏向手段からの反射角及び偏向手段による平行
光のけられを説明するための図である。
光のけられを説明するための図である。
10 光走査装置 12 レーザダイオード(光源) 14 コリメータレンズ 16 光ビーム絞り板(光ビーム絞り手段) 16A 開口部 22 回転多面鏡(偏向手段) 28A 被走査面 30、30S ピックアップミラー 30B ハーフミラー(分光手段) 32、32S オートフォーカスセンサ 34 制御部
Claims (7)
- 【請求項1】 光源から出射される光ビームを、偏向手
段を含む所定の光学系により被走査面に対して偏向走査
すると共に、所定のビーム径検出手段で検出した前記被
走査面における前記光ビームのビーム径が基準の範囲内
となるように、該光ビームの焦点位置を調整する機能を
有する光走査装置であって、 前記焦点位置の調整時には、被走査面の走査時よりも前
記光学系の開口数を大きくすることを特徴とする光走査
装置。 - 【請求項2】 光源から出射される光ビームを、偏向手
段を含む所定の光学系により被走査面に対して偏向走査
する光走査装置であって、 前記被走査面と光学的に等価な位置に配置され、該被走
査面における前記光ビームのビーム径を検出するビーム
径検出手段と、 前記ビーム径検出手段で検出したビーム径が基準の範囲
内となるように、該光ビームの焦点位置を調整する焦点
位置調整手段と、 光路上に配置され、大きさが可変とされた開口部を有
し、前記光ビームを該開口部を通過したビーム幅に絞る
光ビーム絞り手段と、 前記焦点位置調整手段による焦点位置調整時に、前記光
ビーム絞り手段の開口部を被走査面の走査時よりも大き
くする制御手段と、 を有する光走査装置。 - 【請求項3】 前記ビーム径検出手段が、前記偏向手段
からの反射角が小さくなる側の走査端部に配置されてい
ることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の光走
査装置。 - 【請求項4】 前記ビーム径検出手段が、焦点位置調整
時のみ光路上に挿入されることを特徴とする請求項1又
は請求項2に記載の光走査装置。 - 【請求項5】 光路上に配置され、前記光ビームを被走
査面へ向けての光ビームと前記ビーム径検出手段へ向け
ての光ビームとに分光する分光手段をさらに有する請求
項1又は請求項2に記載の光走査装置。 - 【請求項6】 前記ビーム径検出手段が、走査両端部に
配置されていることを特徴とする請求項1又は請求項2
に記載の光走査装置。 - 【請求項7】 予め求められた光走査装置の像面湾曲の
状態に基づいて、光ビームの焦点位置を調整することを
特徴とする請求項1乃至請求項6の何れか一項に記載の
光走査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14325096A JPH09325291A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | 光走査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14325096A JPH09325291A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | 光走査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09325291A true JPH09325291A (ja) | 1997-12-16 |
Family
ID=15334384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14325096A Pending JPH09325291A (ja) | 1996-06-05 | 1996-06-05 | 光走査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09325291A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020246200A1 (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-10 | インスペック株式会社 | キャリブレーションシステム及び描画装置 |
-
1996
- 1996-06-05 JP JP14325096A patent/JPH09325291A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020246200A1 (ja) * | 2019-06-07 | 2020-12-10 | インスペック株式会社 | キャリブレーションシステム及び描画装置 |
| CN113906349A (zh) * | 2019-06-07 | 2022-01-07 | 英视股份有限公司 | 校准系统及描绘装置 |
| EP3982199A4 (en) * | 2019-06-07 | 2022-08-03 | Inspec Inc. | CALIBRATION SYSTEM AND DRAWING DEVICE |
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