JPH09329704A - 光学異方性回折格子、その駆動方法及びそれを用いた光ヘッド装置 - Google Patents
光学異方性回折格子、その駆動方法及びそれを用いた光ヘッド装置Info
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- JPH09329704A JPH09329704A JP8147515A JP14751596A JPH09329704A JP H09329704 A JPH09329704 A JP H09329704A JP 8147515 A JP8147515 A JP 8147515A JP 14751596 A JP14751596 A JP 14751596A JP H09329704 A JPH09329704 A JP H09329704A
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Abstract
み書きできる光ヘッド装置を得る。 【解決手段】凹凸部を有する第1の基板5とストライプ
状で中心部4を除いて電極2A〜2Gを設けた第2の基
板1との間に液晶を挟持してなる光学異方性回折格子1
2を光源11と光記録媒体15、16との間に設け、電
極2A〜2Gの隣接電極間に電圧をかけることにより、
周辺部の回折能力を低下させて、開口率を下げる。
Description
子、その駆動方法及びCD(コンパクト・ディスク)、
CD−ROM、ビデオディスク、DVD(デジタル・ビ
デオ・ディスク)等の光ディスク及び光磁気ディスク等
の光記録媒体に光学的情報を書き込んだり、光学的情報
を読み取るための光ヘッド装置に関する。
の光記録媒体に光学的情報を書き込んだり、光学的情報
を読み取る光ヘッド装置としては、光記録媒体の記録面
から反射された信号光を光検出器へ導光(ビームスプリ
ット)する光学部品として液晶を用いた光学異方性回折
格子を用いることが知られている。
としては内面に格子状の凹凸部を設けた第1の基板と、
平坦な第2の基板との間に液晶を挟持したものがある。
この光学異方性回折格子は、入射光の偏光方向によっ
て、光が単に透過したり回折したりする異方性を示す。
これを利用して、光源から出た光が光記録媒体に向かう
際には直進し、光記録媒体からの戻る際には回折して、
光検出器に到達するようにすることができる。
回折格子を用いた光ヘッド装置は、上記のような異方性
を示すので、高価なビームスプリッタ等を用いなくても
高効率の光ヘッド装置を構成でき、小型化にも適する。
登場してきて、CDとDVDとを1台の装置で併用可能
にすることが望まれてきている。このため、光ヘッド装
置も1個の光ヘッド装置で両方の光記録媒体を読むと
か、DVDの2面を読むというような要望が出ている。
をや集光レンズを移動させたりして、焦点位置を変える
ことが提案されている。しかし、このような機械的な移
動は時間がかかり読み出し速度の低下を生じたり、その
位置の調整を行うのが複雑になる可動部があるので信頼
性が低下するというような問題があった。
解決するためになされたものであり、内面に格子状の凹
凸部を設けた第1の基板と、第2の基板との間に液晶を
挟持してなる光学異方性回折格子において、第2の基板
の内面にその中心部を除きストライプ状の電極群を設け
たことを特徴とする光学異方性回折格子を提供する。
マチック液晶を用い、液晶分子が第1の基板及び第2の
基板でいずれも格子状の凹凸部の長手方向に沿うように
配向するようにし、第2の基板のストライプ状の電極は
その長手方向が第1の基板の格子状の凹凸部の長手方向
と一致するようにされたことを特徴とする上記光学異方
性回折格子を提供する。
い、第2の基板の電極には隣接電極間で電位差が生じる
ような電圧が印加されて、液晶分子の配列状態が変化す
るようにされ、それにより開口径が変化するようにされ
たことを特徴とする光学異方性回折格子の駆動方法を提
供する。
射し、光記録媒体からの戻り光を位相差素子、光学異方
性回折格子を通すことにより、光を回折させて光検知器
で検出する光ヘッド装置において、光学異方性回折格子
が上記光学異方性回折格子であることを特徴とする光ヘ
ッド装置を提供する。
の基板の電極には隣接電極間で電位差が生じるような電
圧が印加されて、液晶分子の配列状態が変化するように
され、それにより開口径が変化するようにされたことを
特徴とする光ヘッド装置を提供する。
明の光ヘッド装置は、光学異方性回折格子自体で電気的
にその開口率を変化させることができ、異なる光記録媒
体又は異なる位置に焦点を合わせうる。
ため、別個の開口率変化手段や可変焦点機構が不要にな
り、光ヘッド装置が小型化でき、かつ調整も容易にな
る。さらに、電気的に開口率をスイッチングできるの
で、切替えがきわめて速く、読み出し速度に悪影響を与
えにくい。
透明基板の表面に格子状の凹凸部が形成された第1の基
板と、第2の基板との間に液晶を挟持し、第2の基板の
内面にその中心部を除きストライプ状の電極群を設け
る。
2の基板の電極の状態を示す平面図である。図2は、本
発明の光学異方性回折格子の断面図である。図1、図2
において、1は第2の基板、2A、2B、2C、2D、
2E、2F、2Gはストライプ状の電極、3は第1の基
板と第2の基板とを接合するシール材、4電極を設けな
い中心部、5は格子状の凹凸部を有する第1の基板、6
はその凹部、7はその凸部、8は第1の基板と第2の基
板との間に挟持された液晶を示す。
の凸部と液晶との屈折率の差によって回折格子を構成し
ている。液晶は屈折率異方性を有するので、基板表面を
配向処理することにより、特定方向に液晶を配列させう
る。これを利用して、光学異方性回折格子への入射する
偏光によって、回折をさせたり、させなかったりするこ
とができる。
ック等の透明基板が使用でき、ガラス、ポリオレフィン
等の屈折率が1.4以上1.6以下程度の透明基板を用
いることが、液晶の常光屈折率の約1.5に整合しやす
いため好ましい。
基板自体をそのような形状に、エッチングや機械的切削
によって加工してもよく、液晶のいずれかの屈折率とほ
ぼ等しい屈折率の透明膜を透明基板表面に積層形成して
もよい。この透明膜形成時に、マスクを設けておき、透
明膜形成と同時に凹凸部を形成してもよく、透明膜を全
面に形成しておき、フォトリソ工程で凹凸部を形成して
もよい。
度、ピッチが2〜50μm程度で所望の回折特性が得ら
れるように設定すればよい。この場合凹部の幅と凸部の
幅は通常は同じにすればよいが、差をつけてもよい。こ
れらのパラメータは、所望の回折特性が得られるように
実験的に定めればよい。
ればよいが、必要に応じて第2の基板にも凹凸部を形成
してもよい。
電極2A、2B、2C、2D、2E、2F、2Gを形成
する。このストライプ状の電極は、図では7本示してい
るが、光学異方性回折格子の開口径と電極ピッチにより
必要な本数形成すればよい。この電極は、隣接電極との
電極間隙が4〜30μm程度にすればよく、隣接電極間
に電圧を印加した際に、隣接電極間で液晶が配列状態を
変えられればよい。
基板の凹凸部のピッチは一致していてもよく、一致して
いなくてもよい。
O)、SnO2 等の透明電極とすることが好ましいが、
電極の幅を狭くすればクロムやアルミニウムというよう
な金属の電極とすることもできる。
れている。このため、電極を両基板に形成するのに比し
て生産性がよい。特に、第2の基板は平坦な基板とする
ことができるので、精密度の高い電極の形成が容易であ
る。
心部は電極が設けられていない。そこで、電極間に電圧
を印加すると、電極がある部分では液晶の配列が変わ
り、電極がない中心部分では液晶の配列が変わらない。
これにより、電極のある周辺部では回折格子としての機
能をなくすか低減させ、中心部のみ回折格子として機能
するようにする、すなわち回折格子の開口率を電気的に
可変となしうる。
通常は図1に示すように円形にすればよい。これも、所
望の回折特性が得られるようにすればよいので、必要に
応じて四角形状にしたり楕円形状にしたりすることもで
きる。
き基板の表面に絶縁、電極見え抑制、配向性向上等の目
的で、ポリイミド、ポリアミド、SiO2 等の薄膜を設
けてもよい。さらに、基板自体又はこの薄膜の表面をラ
ビングしたり、斜め蒸着を行って配向処理をする。
向に沿って配向処理を行う。第1の基板は、格子状の凹
凸部が形成されており、液晶分子はその溝に沿って配列
する傾向を有するので、配向処理をしなくてもよい。
としては、ネマチック液晶、スメクチック液晶等の液晶
表示装置に使用される公知の液晶、液晶組成物、又は高
分子液晶等が好ましく使用できる。ただし、ネマチック
液晶の使用が好ましく、特に正の誘電異方性のネマチッ
ク液晶の使用が好ましい。
コレステリック液晶等を混ぜることにより、液晶自体が
ややねじれているようにすることが好ましい。具体的に
は、この基板間隙で液晶が90°以下のねじれになる程
度のねじれであればよい。より具体的には30°以上、
90°未満とすることが好ましい。
分子の配列が変化するが、液晶自体がややねじれていれ
ば、その場合いずれの方向に変化するかが一定になり、
光学的に安定になるからである。
チック液晶を用いた例に基づいて説明する。この場合、
電圧を印加しない状態で、液晶分子は第2の基板のスト
ライプ状の電極の長手方向に液晶分子の長手方向が平行
になるように配列している。ここで、隣接電極間に電位
差を生じるように電圧を印加すると、液晶分子はストラ
イプ状の電極の長手方向に直交する方向であって、かつ
基板面には平行に配列する。
は、電極間で液晶の配列状態を変える電位差が生じるよ
うにされる。具体的に、図1、図2の電極に電圧を印加
する場合の例で説明する。まず、開口を広くして使用す
る場合には、電極2A〜2Gはフローティング状態か、
同じ電圧が印加され、電極間には電位差がない状態にさ
れる。回路の特性上の問題や液晶の応答速度等の点で、
液晶がほとんど開口率を変化させない程度の電位差が電
極間に印加されていてもよい。
〜2Gの隣接電極間に液晶の配列が変化する程度の電位
差を生じるように電圧を印加する。この場合、電極2
A、電極2B、電極2C、電極2D、電極2E、電極2
F、電極2Gに順次高い電圧を印加するようにしてもよ
い。たとえば、電極2Aには0V、電極2Bには5V、
電極2Cには10V、電極2Dには15V、電極2Eに
は20V、電極2Fには25V、電極2Gには30Vと
いうようにしてもよい。
極2D、電極2E、電極2F、電極2Gに交互に逆極性
の電圧を印加する方が、駆動回路及び電源が簡単になり
好ましい。たとえば、電極2A、2C、2E、2Gには
0V、電極2B、2D、2Fには5Vというようにすれ
ばよい。
よりは、交流で駆動する方が好ましい。すなわち、後者
の例では、電極2A、2C、2E、2Gには0V、電極
2B、2D、2Fには5Vとした後には、電極2A、2
C、2E、2Gには5V、電極2B、2D、2Fには0
Vとするようにすればよい。
手方向に直交する方向に配列する場合、どちらに90°
ねじれるかという問題がある。液晶は水平に配向すると
いっても数°程度以下の角度でチルトして配列してい
る。たとえば、図1で液晶分子が上側で基板面に接し
て、上下方向に配列しているとした場合、隣接電極間に
電圧を印加すると、液晶分子は左右に配列する。この際
に、基板に接している端を固定してみた場合、液晶分子
が右側にねじれていくのか、左側にねじれていくのかと
いう2種類の動きが考えられる。
液晶分子はその液晶分子の近傍の基板面その他の状態で
ねじれやすい方向にねじれることになる。このため、部
分的に異なるねじれ方向を生じることになる。このた
め、2種類の配列が混在し、その界面が存在することに
なるので、不均一な配列状態を生じることになり、回折
効率が低下しやすくなる。このため、液晶自体にねじれ
性を持たせて、特定の方向に液晶分子がねじれるように
して、均一な配列状態をとるようにすることが好まし
い。
は配向処理を施す。特に、ポリイミド膜等からなる配向
膜を設け、その上をラビングして配向膜を形成すること
が好ましい。凹凸部を設けた基板側には、配向処理を行
うことが難しいので、配向処理を省略してもよい。
構成を示す模式図である。図3において、11は半導体
レーザ等の光源、12は光学異方性回折格子、13は1
/4波長板等の位相差素子、14は集光レンズ、15、
16は光記録媒体、17は光検出器を示す。
ばP偏光を有するが、光学異方性回折格子12は回折格
子として働かなくそのまま透過する。そして位相差素子
13を通過して、非球面レンズである集光レンズ14で
光を集束して光記録媒体15又は16の記録面で反射さ
せ、再度集光レンズ14、位相差素子13を通過してS
偏光になって光学異方性回折格子12に入射する。する
と、往路とは偏光方向が90°ずれているので、光学異
方性回折格子12は回折格子として働き、光は回折され
光検出器17に到達する。
に電極を設け、その電極への電圧印加状態によって、液
晶の配列を変化させて、光学異方性回折格子の開口率を
変える。開口率が変われば、収差が変わる。
での距離が短い(0.6mm)ので、それに合わせてレ
ンズを設計する。その場合、ディスク内の焦点までの距
離が長い(1.2mm)CDを読もうとすると、光の収
差が大きくなる。本発明の光ヘッド装置を用い、電圧の
印加によって、開口率を小さくすることにより、周辺の
収差の大きい部分を削除することにより、この光の収差
を低減できる。
側にλ/2板、λ/4板等として機能する位相差板、位
相差フィルム等の位相差素子を積層配置させることによ
り、光の往き方向と光の帰り方向とで偏光方向を直交さ
せ、光学異方性回折格子として機能させうる。前記位相
差素子は、数10〜数100μm程度の厚みを有するポ
リカーボネート、ポリビニルアルコール又はポリアリレ
ート等の材料が好ましく使用できる。
ポリマー、熱硬化型エポキシ樹脂等の光学的に透明な有
機樹脂で覆うか、さらに前記有機樹脂を介して平坦性の
よいガラス基板、プラスチック基板等の基板を積層接着
すれば、波面収差の低減、信頼性の向上という利点があ
り好ましい。
の回折格子を形成してもよく、その場合3ビーム法によ
るトラッキングエラー検出ができる。この第2の回折格
子は、フォトポリマー、フォトレジスト等を塗布し所定
のパターンに露光することにより形成するか、又はドラ
イエッチング法により直接透明基板を加工することによ
り形成することが好ましい。
使用する場合は、通常は光源側に光記録媒体からの反射
光を検出する光検出器を設けるが、その検出器の受光面
上に前記反射光が所望のビーム(スポット)形状で集光
するように、光学異方性回折格子のパターンに面内曲率
を付与したり、格子間隔に分布を付与してもよい。
ュータ装置によって設計した曲率分布、格子間隔分布と
し、SSD(スポット・サイズ・ディテクション)法等
のフォーカスエラー検出法に最適なパターンとすること
ができる。前記光検出器としては、フォトダイオード、
CCD素子等の半導体素子を利用したものが小型軽量
で、低消費電力であるため好ましい。
Gレーザ等の固体レーザ、He−Ne等の気体レーザ等
の各種の固体、気体レーザが使用でき、半導体レーザが
小型軽量化、連続発振、保守点検等の点で好ましい。ま
た、光源部に半導体レーザ等と非線形光学素子を組み込
んだ高調波発生装置(SHG)を使用し、青色レーザ等
の短波長レーザを用いると、高密度の光記録及び読み取
りが可能になる。
録及び/又は読み取りできる媒体である。その例として
はCD(コンパクト ディスク)、CD−ROM、ビデ
オディスク、DVD(デジタル ビデオ ディスク)等
の光ディスク、及び光磁気ディスク、相変化型光ディス
ク等が使用できる。
設けることにより、光の損失を防止できる。その場合、
反射防止膜としてアモルファスフッ素樹脂を使用すれ
ば、蒸着装置等の高価で大型の成膜装置を使用しないで
低コストで成膜できるため好ましい。
る。たとえば、液晶を格子状の凹凸部の長手方向にほぼ
平行な方向に(図3では紙面に垂直な方向)配向するよ
うに配向処理を行う。この場合、光源11の半導体レー
ザから入射したP波(図3では偏光方向が紙面に平行な
偏光成分)に対しては、液晶と凸部は屈折率が等しく、
すなわち光学異方性回折格子はP波に対しては透明とな
る。そのため、P波は何の変化も受けずそのまま位相差
素子13である1/4波長板に入射し、円偏光に変化
し、集光レンズとしての非球面レンズを透過し、ほぼ1
00%の光が光記録媒体15の記録面に到達する。
に小さく、戻り光ノイズの点で有利である。さらに往路
の透過率が高いということは、書き込みタイプの光ディ
スク装置においては、書き込み時に相対的に低い出力の
半導体レーザで書き込みできるという点でコスト面で優
れる。
面レンズを通り戻ってきた反射光は、再び1/4波長板
を通過し、偏光方向が90°異なったS波に変化する。
S波が光学異方性回折格子に入射すると、今度は液晶と
凸部の屈折率が異なるため回折格子として機能し、+1
次回折光として最大40%程度、−1次回折光として最
大40%程度の回折効率が得られる。+1次回折光、−
1次回折光を検出する検出器をどちらか一方にのみ配置
した場合で40%、両方に配置した場合は計80%の往
復効率が得られる。
状)にしたときはほぼ70〜90%、3段の階段状にし
たときはほぼ81%の往復効率が得られる。
16を用いた場合、光学異方性回折格子12の電極に電
圧を印加して、その開口率を小さくして、光記録媒体1
6の記録面のデータも少ない収差で読みうるようにな
る。
率1.52のガラス基板の1表面に、プラズマCVD法
によって厚み1.4μmのSiOx Ny 膜を形成した。
このとき、x、yはおのおの1.8、0.17程度であ
った。次いで、フォトリソグラフィ法とドライエッチン
グ法によって、深さ1.4μm、ピッチ6μmの断面が
矩形状の回折格子用の凹凸部を形成した第1の基板を作
成した。
を厚み20nmで形成し、このITO電極を中心部の直
径2.5mmの部分を除き、電極幅20μm、電極ピッ
チ60μmでストライプ状にパターニングした。この電
極は両端で1本おきに接続され、櫛の歯状にして第2の
基板を作成した。
膜としてポリイミド膜を60nm厚で形成し、配向のた
めの電極の長手方向に沿ってラビング処理を行った。凹
凸部を形成した第1の基板の凹凸部を形成した面と、第
2の基板の配向膜を形成した面とを対向させ、さらに配
向膜のラビング方向と凹凸部のストライプ方向が同じに
なるようにして、2つのガラス基板を積層した。
基板の周囲を球状スペーサを含むエポキシ樹脂シール材
でシールした。液晶注入口から液晶(メルク社製商品名
BL002、ネマチック液晶、常光屈折率1.525、
異常光屈折率1.771)を真空注入した。
波長板を透明接着剤により積層接着し、さらにその上に
波面収差を改善するためのフォトポリマー、第3のガラ
ス基板を積層接着して回折素子を作製した。回折素子の
光源からの光の入射部、出射部には、誘電体多層膜によ
る反射防止膜を施した。
8nmのP波(図3の紙面に平行な偏光成分)を入射さ
せたとき、P波の透過率は約83%であった。また、光
ディスクからの反射光(円偏光)が1/4波長フィルム
によりS波(紙面に垂直な偏光成分)に変化し、このS
波が光学異方性回折格子により回折され、+1次回折光
の回折効率は25%で、−1次回折光の回折効率は26
%であった。
42%(±1次回折光検出)となった。一方、光記録媒
体の厚みを変えた光記録媒体にかけ替えて、隣接する電
極間に5Vの交流電圧を印加した際には、中心部を通過
した光はほぼ同じ効率であったが、電極を設けた周辺部
を通った光は戻りのS波の+1次回折光の回折効率は2
%で、−1次回折光の回折効率は2%であった。これに
より、厚みの異なる光記録媒体でいずれも収差の少ない
戻り光を得ることができた。
いた光学異方性回折格子を用いて、戻り光の回折を行う
とともに、その開口率を変化させ、異なる光記録媒体へ
の読み書きを可能となしうる。このため、レンズの移動
機構を設けたり、液晶絞りや液晶レンズを配置する等開
口率可変機構又は焦点距離可変機構を設ける必要がな
く、光ヘッド装置を小型化できる。また、凹凸部を設け
た基板側に電極を設けなくてもよいので、製造も容易で
ある。さらに本発明は、その効果を損しない範囲内で種
々の応用ができる。
極の状態を示す平面図。
式図。
Claims (5)
- 【請求項1】内面に格子状の凹凸部を設けた第1の基板
と、第2の基板との間に液晶を挟持してなる光学異方性
回折格子において、第2の基板の内面にその中心部を除
きストライプ状の電極群を設けたことを特徴とする光学
異方性回折格子。 - 【請求項2】液晶として正の誘電異方性のネマチック液
晶を用い、液晶分子が第1の基板及び第2の基板でいず
れも格子状の凹凸部の長手方向に沿うように配向するよ
うにし、第2の基板のストライプ状の電極はその長手方
向が第1の基板の格子状の凹凸部の長手方向と一致する
ようにされたことを特徴とする請求項1記載の光学異方
性回折格子。 - 【請求項3】請求項1又は2記載の光学異方性回折格子
を用い、第2の基板の電極には隣接電極間で電位差が生
じるような電圧が印加されて、液晶分子の配列状態が変
化するようにされ、それにより開口径が変化するように
されたことを特徴とする光学異方性回折格子の駆動方
法。 - 【請求項4】光源からの光を光記録媒体上に照射し、光
記録媒体からの戻り光を位相差素子、光学異方性回折格
子を通すことにより、光を回折させて光検知器で検出す
る光ヘッド装置において、光学異方性回折格子が請求項
1記載の光学異方性回折格子であることを特徴とする光
ヘッド装置。 - 【請求項5】光学異方性回折格子の第2の基板の電極に
は隣接電極間で電位差が生じるような電圧が印加され
て、液晶分子の配列状態が変化するようにされ、それに
より開口径が変化するようにされたことを特徴とする請
求項4記載の光ヘッド装置。
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|---|---|---|---|
| JP14751596A JP3885251B2 (ja) | 1996-06-10 | 1996-06-10 | 光学異方性回折格子、その駆動方法及びそれを用いた光ヘッド装置 |
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|---|---|
| JPH09329704A true JPH09329704A (ja) | 1997-12-22 |
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