JPH09330905A - ウェーハのクリーニングに使用する装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェーハを粒子汚染物から保護するウェーハ
のクリーニングに用いる装置を提供する。 【解決手段】 半導体ウェーハを清掃し乾燥する装置
は、垂直状態で該ウェーハを処理できる。装置はウェー
ハをほぼ垂直方向に該装置の入口ステーションから装置
の乾燥機に移動する。ウェーハはカセットに収容されて
装置に入り、個々のウェーハの同一性を保つために、入
口カセットに配列された順序と同一の順序で別のカセッ
トに入れられて出る。装置は、ウェーハが処理される部
屋が隔離され、上記部屋の中のウェーハ取り扱い要素が
フッ素系プラスチックで作られるように構成されてい
る。ウェーハ取り扱い要素の動きを駆動するアクチュエ
ータは別の部屋に設けてある。動き取り扱い室のリンス
装置は、リンスラインに弁を使用せずにウェーハの一つ
をリンスするために作動し停止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、概略、半導体ウェ
ーハのクリーニングに使用する装置である。特に、クリ
ーニングプロセス中に粒子汚染物からウェーハを保護す
る、ウェーハのクリーニングに使用する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】すでに知られているように、半導体ウェ
ーハの表面上の汚染物は、ウェーハの電気特性に悪影響
を及ぼす。したがって、ウェーハの表面から粒子やその
他の汚染物を実質的に無くすことが極めて大切である。
そのために、半導体ウェーハ製造の少なくとも最終段階
には汚染物を除去するためにウェーハを洗浄する工程が
含まれる。ウェーハをクリーニングするために多くの方
法が用いられており、その中には化学的および機械的方
法のみならず、超音波プロセスによるものも含まれる。
機械的クリーニングであっても、当該プロセスを容易に
行うために何らかの液体が用いられている。したがっ
て、クリーニングしたウェーハを乾燥することが常に必
要である。

【０００３】半導体産業で要求されるクリーニング度の
厳格なる基準（例えば、直径０.２マイクロメータ以上
の粒子がウェーハ上に１０個以下であること）により、
ウェーハのクリーニングに独特な問題が生じる。例え
ば、クリーニングプロセスそれ自体が汚染物を生じ、ウ
ェーハの処理中にウェーハ表面に該汚染物が付着する。
従来の自動クリーニング方法では水平状態でウェーハを
処理している。ウェーハのクリーニング中に該ウェーハ
を保持するウェーハ搬送装置は、一般的に、ウェーハの
片面に係合する真空チャックまたはＯリングベルトを備
えている。従来、ウェーハのクリーニングに使用するモ
ータ、ベルト、ベアリングおよびその他の機械的部品
は、ウェーハのごく近傍に配置されている。これらの部
品は、クリーニング装置において、ウェーハの粒子およ
び金属汚染物の源となる。また、ウェーハが水平方向に
配置されていることにより、クリーニング装置を流れる
空気の方向に垂直な大きな表面積を有する。そのため、
当該表面は空気流に含まれる粒子を捕獲し易い。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】クドウ等による米国特
許第５,３１７,７７８号に示されるような、いくつかの
垂直型クリーニング装置がある。しかしながら、クドウ
等による装置はウェーハを水平方向に収容し、その後そ
れらを垂直方向に移動させる。その結果、対向する部材
を有するグリッパを使用して、それらウェーハを垂直上
方位置に移動させるために、ウェーハ両面上で該ウェー
ハを保持しなければならない。グリッパ部材と接触する
ウェーハの面積が大きくなればなるほど、ウェーハが汚
染される確率が高くなる。また、クドウ等は赤外線乾燥
機を用いており、これはウェーハの表面から液体を蒸発
させる。蒸発乾燥の後には、ウェーハのクリーニングま
たはすすぎ液に浮遊し、または溶解していた汚染物がウ
ェーハの背後に残る。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的および特徴
は、ウェーハを粒子汚染物から保護するウェーハのクリ
ーニングに用いる装置を提供すること、装置の機械要素
からウェーハを分離する装置を提供すること、ウェーハ
が垂直状態で処理される装置を提供すること、装置を流
れる空気流に対して薄い外形部分が垂直となるようにウ
ェーハを保持する装置を提供すること、ウェーハを保持
するために該ウェーハに接触する部分がウェーハの下端
部に沿ってのみ存在する装置を提供すること、乾燥機の
中で化学的な力や空気圧の制御なしで乾燥するためにウ
ェーハから液体を瞬時に除去する乾燥機を含む装置を提
供すること、個々のウェーハの検査を容易に行える装置
を提供することである。

【０００６】

【発明の効果】概略、半導体ウェーハを自動クリーニン
グに使用する装置は、垂直状態で保持されたウェーハを
収容するウェーハ入口ステーション、上記一枚のウェー
ハを垂直状態に保ったまま、上記ウェーハ入口ステーシ
ョンから一度に１枚のウェーハを移送する第１のウェー
ハ移送手段を有する。上記第１のウェーハ移送手段から
１枚のウェーハを受け取って、ウェーハを垂直方向に保
持するように構成された回転式乾燥機は、ウェーハ上の
液体をウェーハから飛散させるように選択された回転速
度で、上記第１のウェーハ移送手段から受け入れた上記
１枚のウェーハのほぼ中心を通る軸を中心として回動自
在である。上記１枚のウェーハを垂直方向に向けたまま
回転式乾燥機からウェーハ出口ステーションに移送する
第２のウェーハ移送手段は、上記第２のウェーハ移送手
段から垂直方向に向けたまま上記１枚のウェーハを受け
取る。

【０００７】本発明の他の実施形態において、自動乾燥
装置内で半導体ウェーハを乾燥する方法は、乾燥装置の
ウェーハ入口ステーションで、複数の垂直に向けたウェ
ーハを配置する工程を含む。上記複数のウェーハのそれ
ぞれは、ウェーハ入口ステーションから垂直に持ち上げ
られ、垂直上方に向けて乾燥装置の乾燥機に搬送され
る。上記ウェーハは、乾燥装置の回転乾燥機内で垂直上
方に向けた状態でそれぞれ回転され、該ウェーハから液
体が除去される。その後、各ウェーハは垂直上方に向け
た状態で回転乾燥機からウェーハ出口ステーションに搬
送される。本発明のその他の目的や特徴は、後に一部が
明らかにされて指摘される。

【０００８】

【発明の実施の形態】図面、特に図１〜３において、半
導体ウェーハのクリーニングに使用する装置は、概略符
号２０で示すハウジングを備えたものとして示してあ
り、このハウジングは実質的に隔離される容積を含む。
ハウジングはクリーンルーム（そこから図１を観察する
のが好ましい。）と、サービスルーム（そこから図３を
観察するのが好ましい。）との間の壁Ｗを貫通して延び
る。ハウジング２０が貫通する壁Ｗの一部分だけが図面
に示してある。クリーンルームのハウジングの一部には
２つの部屋が含まれており、第１の部屋の中では半導体
ウェーハが処理される（すなわち、クリーニングされ乾
燥され、または単に乾燥される）。第１の部屋は、上壁
２２、ハウジング２０の底壁２４の一部、前壁２６、右
側壁２８、二重の左側壁（内側と外側のパネル３０Ａと
３０Ｂを含む）および二重の後壁（図４）（内側と外側
のパネル３２Ａと３２Ｂを含む）でその一部が形成され
ている。クリーンルームの第２の部屋は、底壁２４の延
長部、上壁３４、左側と右側の側壁（符号３６と３８で
それぞれ示す）、前壁４０および後壁４２で形成されて
いる。二重壁３０，３２は、第１の部屋をハウジングの
第２の部屋および第３の部屋から分離し、その中に第１
の部屋のウェーハ取扱要素を動作させる機械的装置が配
置されている。各二重壁３０，３２の間の空間は、排気
され排水されている。後二重壁の内側と外側のパネル３
２Ａ，３２Ｂの間の空間を排水するための排水装置４３
が図４に示してある。同様の排水装置（図示せず）が、
左側二重壁の内側と外側のパネル３０Ａ，３０Ｂの間の
空間を排水する。第１の部屋の前壁２６は上扉４４と下
扉４６を含み、これらはハウジングに連結された１対の
高分子材料からなるブラケット４８によって取り付けら
れており、開放位置と閉鎖位置との間でそれぞれ独自に
回転できる。

【０００９】ハウジングの後部は第３の部屋で、これは
図３に示すように、底壁２４の延長部、上壁５０、２つ
の側壁５２、および２つの並列に配置された後扉５４で
形成されている。後扉５４の一部分だけが図３に示して
あり、それらは開放位置と閉鎖位置との間で回転するよ
うに、第３の部屋の側壁５２に回動自在に取り付けてあ
る。閉鎖位置において、後扉５４はハウジング２０の開
放された後部を覆う。上述したハウジングの第１、第２
および第３の部屋の壁は適当な透明プラスチック（例え
ば、Ｌｅｘａｎ）で作られている。第１の部屋の後二重
壁３２に隣接した第３の部屋の前壁５６は、約１インチ
の厚みを有するアルミニウムシートであり、その上には
種々の装置作動機構（後述する）が固定して設けてあ
る。

【００１０】図２において、装置は、カセットＣ１に垂
直状態で保持されているウェーハＳ（１個だけが仮想線
で示してある）を収容するためのウェーハ入口ステーシ
ョン（全体を符号５８で示す）を有するように示してあ
る。ウェーハカセットＣ１は従来のもので、ウェーハＳ
にそのエッジ部に沿った複数の別々の場所でのみ接触す
る。カセットＣ１の上部と底部は開放されており、これ
によりウェーハの自動取り出しと装入が容易に行われ
る。ウェーハ入口ステーション５８はまた、透明の定常
オーバーフロータンク６０を有し、その中にカセットＣ
１が収容され、タンク内で１対の支持アーム６０の間に
保持されている。他の実施形態（図示せず）では、支持
アームは入口用ウェーハカセットＣ１を当該カセットの
下から支持するように構成されている。底部から支持す
ることの利点は、異なる形状のウェーハカセットが同一
の支持アームによって容易に保持されることである。脱
イオン水がタンク６０内に定状的に供給され、タンクの
上端周囲からトラフ６０Ａにオーバーフローして、タン
ク内の環境を清潔に保つ。トラフ６０Ａは該トラフから
オーバーフローした水を除去するために排水装置（図示
せず）に接続されている。ブラケット６３によって設け
た１対のノズル６１はオーバーフロータンク６０の上方
右側に配置されており、オーバーフロータンク内の水面
上に水をスプレーし、水面をきれいに保つためにタンク
水面の水をトラフ６０Ａに掃き出す。

【００１１】ウェーハの垂直方向性を変えることなく、
クリーニングしかつ乾燥するために、または乾燥のため
だけに、ウェーハ入口ステーション５８から一度に１枚
のウェーハを搬送する第１のウェーハ搬送手段は、符号
６４で示してある。第１のウェーハ搬送手段は、ウェー
ハ取り上げ部と、第１および第２のウェーハ搬送装置
（概略参照符号６６，６８および７０でそれぞれ示す）
を含む。ウェーハ取り上げ部６６は、アーム７２と、こ
のアームの下端部に設けた３つの間隔を隔てたフィンガ
部７４を含む。アーム７２の上端部はブラケット７６に
接続されており、このブラケット７６は第１の部屋の２
重後壁３２とハウジングの第３の部屋の前壁５６に設け
た垂直スロット７８を介して左側側方に延びると共に後
方に延びており、そこでこのブラケット７６は後述する
作動手段に連結されている。ウェーハ取り上げ部６６
は、一度に１枚のウェーハＳをカセットＣ１から該カセ
ット上の所定の位置に持ち上げることができ、そこでウ
ェーハはウェーハ取り上げ部から第１のウェーハ搬送装
置６８に渡される。

【００１２】第１のウェーハ搬送装置６８はアーム８０
を備えており、このアームはウェーハＳを保持するため
の４個の間隔を置いたフィンガ部８２が形成されてい
る。フィンガ部８２はウェーハ取り上げ部６６のフィン
ガ部７４からオフセットしており、これによりウェーハ
取り上げ部から第１のウェーハ搬送装置６８（図７）に
ウェーハＳを容易に受け渡すことができる。第１のウェ
ーハ搬送アーム８０は、その右側端部でバー８４（図
６）に連結されている。バー８４は、第１の部屋の後二
重壁３２と第３の部屋の前壁５６の垂直スロット８６を
介して、後に詳細に説明する別の作動手段に延びてい
る。第１のウェーハ搬送装置６８は、ウェーハＳを乾燥
するだけの場合には、第２のウェーハ搬送装置７０に向
けて直接上方に、またはウェーハをクリーニングするた
めに１対の回転式ウェーハ洗浄ローラ８８に中間的に移
動することができる。

【００１３】洗浄ローラ８８は、第１の部屋の左側二重
壁３０と第２の部屋の右側壁３８を介して延びており、
ここでこれらローラはベルト９２によって電導モータ９
０に連結されている。モータ９０はブラケット９４によ
って第２の部屋の右側壁３８に設けてあり、それらの長
手方向の軸を中心として洗浄ローラ８８を同時に回転す
るために選択的に起動することができる。クリーニング
液ライン９３はクリーニング液（例えば、アンモニア酸
化物）を洗浄ローラ８８のそれぞれに滴下する。モータ
９０とブラケット９４は第１と第３の部屋の透明壁３
０，３８を介して見ることができるが、簡略化するため
に断面図（図４と５）から省略されている。ウェーハＳ
を洗浄する場合に、第１のウェーハ搬送装置６８は、ウ
ェーハ入口ステーション５８から、ウェーハの上半分が
洗浄ローラ８８を通って伸びる位置までウェーハを上昇
する。ウェーハに垂直でかつ該ウェーハの中心を通る軸
を中心として回転ローラ８８によって洗浄されるよう
に、第１のウェーハ搬送装置６８は当該位置にあるウェ
ーハＳをウェーハ回転用のウェーハ回転ピン９６（図
９）に受け渡す。ウェーハ回転ピン９６は、第１の部屋
の後二重壁３２と第３の部屋の前壁５６を介して、それ
らの長手方向軸を中心として回転するために回転式作動
機構（後述する）に延びている。ブラケット（符号９７
Ｃと９７Ｄでそれぞれ示す）に設けた前部と後部の洗浄
ノズル（符号９７Ａと９７Ｂでそれぞれ示す）が、洗浄
液（リンス液）（例えば、脱イオン水）をウェーハの洗
浄中にローラ８８上でウェーハの前部と後部にスプレー
する。

【００１４】洗浄ローラ８８によるクリーニングの後
に、ウェーハＳは第１のウェーハ搬送装置６８に戻され
て、第２のウェーハ搬送装置７０まで搬送される。洗浄
（リンス）ノズル９７Ａ，９７Ｂは、ウェーハが第１の
ウェーハ搬送装置６８によってローラ８８の間から持ち
上げられている最中に、ウェーハに洗浄液をスプレーす
る。これにより、ウェーハの前面と背面が完全にクリー
ニング液で洗浄される。第２のウェーハ搬送装置は、略
鍵形状の端部を備えたアーム９８と、鍵形状端部（図
４）の位置から離れた場所で後方に突出する５つの脚部
（ペグ）１００（広義には“フィンガ手段”）を備えて
いる。脚部１００は第１のウェーハ搬送アーム８０のフ
ィンガ部８２からオフセットしており、第１のウェーハ
搬送装置６８から第２のウェーハ搬送装置７０（図１
１）に容易にウェーハＳを搬送できるようになってい
る。第２のウェーハ搬送アーム９８は、第１の部屋の後
二重壁３２と第３の部屋の前壁５６の垂直溝１０２を介
して延びており、そこでアームは後述する別の作動手段
に連結されている。

【００１５】第２のウェーハ搬送装置７０は、ウェーハ
Ｓを回転式乾燥機（全体を符号１０４で示す）に搬送す
る。この乾燥機は、第１のウェーハ搬送装置６８からウ
ェーハを受け取り、該ウェーハを垂直に保持するように
作られている。回転式乾燥機１０４は、上顎１０６と下
顎１０８を備えており、これらは第２のウェーハ搬送装
置７０からウェーハＳを受け取るために自動的に開放
し、また乾燥機内にウェーハを保管するために自動的に
閉鎖することができる。上顎１０６と下顎１０８の脚部
１１０は、ウェーハの周縁部に沿ってウェーハＳに係合
し、このウェーハを乾燥機内で保持する。脚部１１０
は、第２のウェーハ搬送装置７０の脚部１００からオフ
セットしており、ウェーハの搬送が容易に行われるよう
になっている（図１３）。回転式乾燥機１０４の上下の
顎１０６，１０８は、第１の部屋の後二重壁３２と第３
の部屋の前壁５６を介して後述する回転式作動機構に連
結されており、乾燥機内に保持されたウェーハのほぼ中
心を通る軸を中心として乾燥機が回転される。回転式乾
燥機１０４は高速（好ましくは、１５００〜２５００rp
m）で回転し、ウェーハから水分を放出する。回転式乾
燥機１０４はウェーハに比べて大きくて重く（例えば２
０ポンド）、乾燥中の振動を最小限にする。

【００１６】ウェーハ出口ステーションで回転式乾燥機
１０４から第２のカセットＣ２にウェーハを移送するこ
とのできる装置の第２のウェーハ搬送手段（全体を符号
１１２で示す）は、ウェーハ取り出し搬送装置とウェー
ハ設置装置（符号１１４と１１６でそれぞれ示す）を備
えている。ウェーハ取り出し搬送装置１１４のアーム１
２０の鍵形状端部に設けた脚部１１８（広義には“フィ
ンガ手段”）は、乾燥機からウェーハＳを取り出すため
に回転式乾燥機１０４上の脚部１１０間に収容可能であ
る（図１４）。ウェーハ取り出し搬送アーム１２０は、
第１の部屋の後二重壁３２と第３の部屋の前壁５６に設
けた１対の平行な水平スロット１２２を介して後方に延
びており、そこでアームは後述する作動機構に連結され
ている。ウェーハＳはウェーハ取り出し乾燥装置１１４
によって回転式乾燥機１０４からウェーハ出口ステーシ
ョン１１２上の所定の場所（この部分は図２に示す）に
向けて横方向に移動される。

【００１７】図１４と図１６に最もよく示すように、ウ
ェーハ設置装置１１６は、ウェーハＳの下縁部を受ける
大きさとした上端部に略アーチ状の溝１２６を有するア
ーム１２４を備えている。アーム１２４の上端部中央の
ノッチ１２７は、ウェーハ取り出し搬送アーム１２０の
下中央部の脚部１１８を受ける大きさとしてあり、これ
によりウェーハ設置アーム１２４は脚部１１８からウェ
ーハを持ち上げることができる。アーム１２４は２つの
垂直に延びる溝１２８を介して後述する作動機構に連結
されている。アーム１２４はウェーハ出口ステーション
１１２のウェーハカセットＣ２の下の所定の場所で対応
する作動手段に連結されていると共に、カセットＣ２を
介してウェーハ取り出し乾燥装置１１４に延びている。
ウェーハ設置アーム１２４は下方に向かって移動可能
で、フィンガ部１２６に保持されたウェーハをカセット
内に設置する。図示する実施形態では、ウェーハ出口ス
テーション１１２は１対のアーム１３０を備えており、
これらのアームはウェーハカセットＣ２を支持してい
る。以下に更に詳述するように、ウェーハ出口ステーシ
ョンアーム１３０は前から後方向（ハウジング２０に対
して）に向けることができ、これによりウェーハ設置装
置１１６は出口ウェーハカセットＣ２内にウェーハＳを
隣合せに設置できる。他の実施形態（図示せず）では、
支持アームは出口ウェーハカセットＣ２をその下方から
支持するように構成されている。この場合、ウェーハ設
置アーム１２４はアーム間で移動できると共に、出口ウ
ェーハカセットＣ２の開放底部を介して移動できる。底
部から支持することの利点は、異なる形状のウェーハカ
セットが同一の支持アームによって容易に保持されると
いうことである。

【００１８】第１の部屋の全ての構成要素は、第１の部
屋の中でウェーハを金属汚染物から保護するために、フ
ッ素系プラスチックまたは適当な非金属材料で作るのが
好ましい。ウェーハと第１の部屋の中でこのウェーハを
保持する各構成要素との間の接触は最小限となってい
る。ウェーハを保持する構成要素を作動する手段（例え
ば、電動モータ、シリンダ、リードスクリュー）は第３
の部屋に配置されている。以下に更に詳細に説明するよ
うに、作動手段は第１の部屋から実質的に隔離されてお
り、作動手段によって生じた粒子がウェーハを汚染しな
いようにしている。また、ウェーハ入口ステーション５
８、洗浄ローラ８８および回転式乾燥機１０４は上下に
配置されている。ハウジング２０の第１の部屋を通る空
気の流れはほぼ垂直下方で、粒子は入口ステーション５
８から回転式乾燥機１０４に向けて、ウェーハの搬送方
法と反対方向に押し進められる。また、装置の中の全て
の場所でウェーハを垂直上向きに保持することにより、
薄いエッジ部だけが空気の流れ方向に対して垂直とな
り、そのために空気に含まれる粒子がウェーハの表面に
付着することはほとんどない。

【００１９】図３，４および６において、ウェーハ出口
ステーション５８でウェーハカセットＣ１からウェーハ
Ｓを取り出すウェーハ取り上げ部６６の動作が示してあ
る。ブラケット７６はウェーハ取り上げ部アーム７２を
リードスクリュー１３４に連結する。スクリュー１３４
は第３の部屋のプラットホーム１３６に取り付けてあ
る。リードスクリュー１３４は、プラットホーム１３６
に設けられかつベルト１４４によりリードスクリューに
連結された電動モータ１３８によって選択的に駆動され
る。プラットホーム１３６は、第３の部屋の前壁５６に
設けた垂直に延びるレール１４４の上に４つのスリーブ
１４２（その１つだけが示してある）を介して据え付け
られている。前壁５６に設けた１対のシリンダー１４６
は、プラットホーム１３６、更にウェーハ取り上げ部ア
ーム７２を、ウェーハ取り上げ部６６のフィンガ部７４
がカセットＣ１のウェーハ下にある降下位置と、該フィ
ンガ部がカセットの上にある上昇位置との間で移動する
ように操作可能である。弾性の位置決めストッパ（図示
せず）は上昇位置にあるプラットホーム１３６と係合し
て該プラットホームを正確に配置することができる。動
作中、プラットホーム１３６はシリンダ１４６の動作に
よって落下され、これによりウェーハ取り上げ部フィン
ガ部７２はカセットＣ１の後端部で該カセットの底部下
にある。モータ１３８が機動されるとリードスクリュー
１３４が回転し、ウェーハ取り上げ部アーム７２をカセ
ットＣ１の中にある次のウェーハの下に前進させる。シ
リンダー１４６はその後再び起動されてウェーハＳをカ
セットの外に持ち上げる。光電子の目のようなセンサ
（図示せず）が配置されており、ウェーハ取り上げ部６
６によってウェーハがカセットＣ１から取り出されたか
否かを検出する。

【００２０】第１のウェーハ搬送アーム８０は、第３の
部屋の中でバー８４によってスライド１４８に連結され
ている。スライド１４８は第３の部屋の前壁５６に設け
た垂直方向に向けられたリードスクリュー１５０に設け
てある。リードスクリュー１５０は前壁５６の上に設け
た電動モータ１５４にベルト１５２を介して連結されて
おり、リードスクリューを駆動して第１のウェーハ搬送
アーム８０をスロット８６の長手方向に沿って選択され
た位置に移動させることができる。ウェーハＳをウェー
ハ洗浄ローラ８８で清掃する場合、第１のウェーハ搬送
装置６８は、ウェーハの上端部が洗浄ローラの間に延
び、かつ下端部がウェーハ回転ピン９６の真上に位置す
る所定の場所で停止する。この位置が図８に仮想線で描
かれている。

【００２１】図３，４，７および９において、ウェーハ
回転ピン９６は、第１の部屋の後二重壁３２、第３の部
屋の前壁５６、および間隔を隔てた１対のスタンド１５
６（図４）を介して延びており、そこでこれらピンはそ
れらの長手方向軸を中心として回転自在に設けてある。
後端部では（図３）、回転ピン９６はこれらに取り付け
られたプーリ１５８を有し、このプーリはピンを電動モ
ータ１６２に連結するベルト１６０を受けており、電動
モータ１６２はピンを選択的に回転駆動することができ
る。モータ１６２はモータ取付台１６４によって２つの
スタンド１５６の後部に取り付けられている。スタンド
１５６は、スライド１６８によって１対のレール１７０
に連結されたプレート１６６に固定されており、ハウジ
ング２０に対して前後方向に移動することができる。プ
レート１６６に連結されたエアシリンダ１７２は、延長
位置（図８に仮想線で示す）と引き込み位置（図８に実
線で示す）との間でプレートを移動させる。ストッパ
（図示せず）が延長位置においてプレートを正確に位置
決めする。レール１７０は第３の部屋の前壁５６に設け
たプラットホーム１７４に連結されており、このプラッ
トホーム１７４はまたウェーハ入口ステーション５８の
アーム６２を据え付けている（図４）。

【００２２】洗浄ローラ８８を用いてウェーハを洗浄す
る場合、第１のウェーハ搬送装置６８はウェーハ入口ス
テーション５８の真上（図８に実線で示す）からウェー
ハの上半分が洗浄ローラの間に延びている位置（図８に
仮想線で示す）に搬送する。エアシリンダ１７２は、次
に引き込み位置から延長位置に回転ピン９６を移動させ
るように動作する。第１のウェーハ搬送装置６８のフィ
ンガ部８２と回転ピン９６はオフセットしており、回転
ピンの端部にある溝部１７６がウェーハの下縁部の下に
位置している。第１のウェーハ搬送アーム８０は続いて
下降し、図９に示すように、回転ピン９６の溝１７６の
中で垂直上向き位置にウェーハＳをセットする。モータ
１６２が起動され、ウェーハＳがその中心回りに回転す
ると同時に、ウェーハは洗浄ローラ８８によって洗浄さ
れる。洗浄後、受け渡し処理が反転される。第１のウェ
ーハ搬送アーム８０が上昇し、ウェーハを回転ピン９６
から持ち上げ、これらのピンは次にシリンダー１７２の
動作によって引き込まれる。

【００２３】図３，４，８および１１において、モータ
１５４が作動し、洗浄ローラ８８を介して第１のウェー
ハ搬送アーム８０を第２のウェーハ搬送装置７０（図１
０によって仮想線で示す）の背後に上昇させる。第２の
ウェーハ搬送アーム９８は、第３の部屋の中で、第３の
プレート１８５に取り付けられた第２のプレート１８４
に設けた１対のレール１８２にスライド１８０を介して
取り付けられている垂直に向けられた第１のプレート１
７８に取り付けられている。第１のプレート１７８と第
３のプレート１８５に連結された第１のエアシリンダ１
８６は、第２のプレート１８４と第３のプレートに対し
て、延長位置と引き込み位置の間で、第１のプレートと
第２のウェーハ乾燥アーム９８を移動するように操作で
きる。第３のプレート１８５はスライド１８７（図４に
はその２つだけが示している）によって第３の部屋の前
壁５６に設けた２つのレール１８８に連結されている。
前壁５６の一端部であって、第３のプレート１８５に対
向する端部に設けた第２のエアシリンダ１９０は、第
１、第２および第３のプレート１７８、１８４、１８５
および第２のウェーハ搬送アーム９８を、下降位置と上
昇位置との間で一緒に移動させるように操作できる。

【００２４】回転式乾燥機１０４に搬送するために、ウ
ェーハを受ける直前に、第２のウェーハ搬送アーム９８
は下降した前進位置にあり、図１０と１１に示すよう
に、第１のウェーハ搬送アーム８０は第２のウェーハ搬
送アームと共に移動することができる。次に、第１のエ
アシリンダ１８６が作動して第２のウェーハ搬送アーム
９８を後方に移動し、脚部１００の先端部が第１のウェ
ーハ搬送アーム８０のフィンガ部８２の間に延び、ウェ
ーハＳの下端部の下に位置する。第２のウェーハ搬送ア
ームの後退位置または引き込み位置は、プレート１７８
からの突起物（図示せず）に係合可能な位置決めストッ
パ１９１Ａ（図１２）によって正確に制御できる。次
に、第１のウェーハ搬送装置６８が下降してウェーハＳ
を脚部１００の上に垂直状態でセットし（図１１）、上
述したようにしてウェーハ取り上げ部６６から別のウェ
ーハを受けるために所定の場所に下降し続ける。第１の
エアシリンダー１８６が再び作動して第２のウェーハ搬
送アーム９８をその前進位置に移動させる。図１２に示
すように、第２のエアシリンダー１９０が作動し、第２
のウェーハ搬送アーム９８をその上昇位置に回転式乾燥
機１０４に同期して移動する。位置決めストッパ１９１
Ｂ（図３）は、回転式乾燥機１０４に対して第２のウェ
ーハ搬送アーム９８を正確に位置決めするためにプレー
ト１８５と係合可能である。

【００２５】図３と１０において、ウェーハ回転式乾燥
機１０４の上と下の顎部１０６，１０８は、それぞれの
ロッカーアーム１９２によって中空の開放端部を有する
ロータ１９４の内径上に回動自在に設けてある。ロータ
１９４は第３の部屋の前壁５６に取り付けた回転乾燥機
据え付け部１９８に環状ベアリング１９６を回動自在に
取り付けている。ロータ１９４は回転乾燥機１０４の上
でブラケット２０４に取り付けた電動モータ２０２にベ
ルト２００を介して連結されており、ロータおよび接続
された顎部１０６，１０８を回転することができる。ロ
ッカーアーム１９２の後端部はリンク２０６によって作
動チューブ２０８に回動自在に連結されている。チュー
ブ２０８はロータ１９４と同軸上にあり、ロータの後端
部にベアリング２１０を介して収容されている。作動チ
ューブ２０８はロータ１９４と共に回転する。１対のエ
アシリンダー２１２がベアリング２１６に取り付けたコ
ネクタ２１４によって作動チューブ２０８に連結されて
いる。ベアリング２１６は作動チューブの後端部をシリ
ンダーに対して回動自在に取り付けており、作動チュー
ブをシリンダーと共に直線運動するように固定してい
る。シリンダー２１２は据え付け部１９８に設けたプラ
ットホーム２１８によって支持されている。回転乾燥機
１０４の上と下の顎部１０６，１０８は、図１３におい
て実線で閉鎖位置が示してある。リンク２０６、ロッカ
ーアーム１９２および顎部１０６，１０８は図１３にお
いて仮想線でそれらの開放位置が示してある。したがっ
て、作動チューブ２０８がシリンダー２１２によって前
進されると、リンク２０６がロッカーアーム１９２を引
っ張ってそれらが顎部を開放位置に揺動させることが理
解できるであろう。

【００２６】第２のウェーハ搬送装置７０の第１のエア
シリンダー１８６が作動し、ウェーハＳを回転乾燥機１
０４の開放された上と下の顎部１０６，１０８に導入す
る。位置決めストッパー２１３はプレート１７８と係合
可能としてあり、これによりウェーハはウェーハ乾燥機
１０４の脚部１１０に対して正確に配置される。顎部を
閉鎖すると、下顎部１０８の脚部１１０がウェーハを第
２のウェーハ搬送アーム９８から持ち上げ、第１のシリ
ンダー１８６が再び作動してアームを回転乾燥機１０４
の前方に移動させる。次に、ウェーハＳは顎部の脚部１
１０によってその上下の縁部に沿ってのみ垂直上向きに
保持される。

【００２７】ウェーハＳを洗浄ローラ８８によって清掃
する場合、ウェーハは回転乾燥機１０４に据え付けられ
た後、脱イオン水を用いて洗浄される。ウェーハの後側
は作動チューブ２０８と同軸上に設けられ、かつその後
端部をプラットホーム２１８に設けた流体連結部２２２
に接続された洗浄チューブ２２０から供給される水によ
って洗浄される。洗浄チューブ２２０は作動チューブ２
０８に対して固定されており、スプレー水を顎部１０
６，１０８によって保持されたウェーハの背面に供給す
ることができる。

【００２８】図１８と１５において、ウェーハの前側は
符号２２４で示す洗浄装置を操作することにより洗浄さ
れる。洗浄装置は第２の部屋の右側壁３８に設けたビー
ム２２８によって片持ち支持され、かつ第１の部屋の左
側二重壁３０を介して延びるスプラッシュ（はね返り）
ボックス２２６を備えている。スプラッシュボックス２
２６は乾燥機の上端部近傍で回転乾燥機１０４の前部に
配置されており、排水装置２３２を有する第３の部屋に
開口した２つの内部屋を形成するための部分的な内壁２
３０を備えている。回転乾燥機１０４に対向して、ボッ
クス２２６側部の開口部２３６の中で連結されたウオー
ターライン２３４は、部分壁２３０によって形成された
２つの内部屋の第１の内部屋を介して脱イオン水の流れ
を供給することができる。水の流れは部分壁２３８の開
口部２３８を介して２つの内部屋の第２の内部屋を通過
する。水の流れはスプラッシュボックスの反対側にある
開口部２４０を介してボックス２２６に通過してウェー
ハに衝突する。

【００２９】偏向アーム２４２は、第２の部屋の後壁４
２を介して第３の部屋のアルミニウムからなる前壁５６
に連結されたブラケット２４４により第２の部屋内に回
動自在に設けてある。アーム２４４は第２の部屋の右側
壁３８、左側二重壁３０を介して第１の部屋に延びてい
る。１対の偏向シールド（符号２４６Ａと２４６Ｂでそ
れぞれ示す）が、偏向アーム２４４の自由端において部
材２４８から、それぞれスプラッシュボックス２２６の
第１と第２の部屋に垂下している。偏向アーム２４４は
第２の部屋の空圧シリンダ２５０に連結されており、偏
向シールド２４６Ａ，２４６Ｂが水流の通路に介在して
全ての水が第３の部屋に偏向されて排水装置２３２から
排出される降下位置（図１９において仮想線で示す）と
水流が自由にスプラッシュボックス２２６の開口部２３
４，２３６，２３８を通過してウェーハＳに当たる上昇
位置（図１９において実線で示す）との間で回転動作す
る。脱イオン水の流れは、ウオーターライン２３４から
連続的に供給され、洗浄動作は偏向シールド２４６Ａ，
２４６Ｂの位置によって制御される。スプラッシュボッ
クス（図示せず）内に一つのシールドと部屋を設けた場
合には、水はその単一の偏向装置の回りからスプラッシ
ュボックスを出てウェーハに流れる。しかしながら、本
発明の範囲から逸脱することなく、単一の部屋と単一の
偏向シールドまたは多数の部屋と多数の偏向シールドを
使用することもできる。本実施形態の洗浄装置２２６
は、ウェーハに汚染物を導入するかもしれないソレノイ
ドやバルブを使用することなく、選択的に作動および停
止することができる。実際には、洗浄装置２２６と洗浄
チューブ２２０は、回転乾燥機１０４に保持されたウェ
ーハの対向面に同時に水をスプレーするように制御され
る。例えば、洗浄サイクルは約５秒間で、その間に回転
乾燥機１０４がその乾燥速度まで加速される。

【００３０】ウェーハを乾燥するために、電動モータ１
３８は１５００〜２２００rpmの間の速度で顎１０６，
１０８を回転するように作動し、これによりウェーハ上
の液体が該ウェーハから放出される。顎部１０６，１０
８はウェーハに比べて比較的大きくて重いので（例え
ば、好適な実施形態では顎部の重量は２０ポンド）、顎
部が回転する間、実質的に振動はない。第１の部屋の中
で顎部１０６，１０８を囲む環状の外側シールド（符号
２５０で示す）が第３の部屋の前壁５６に取り付けてあ
り、これは二重の後壁３２を介して第１の部屋に延びて
いる。外側シールド２５２は、ベース２５２Ａと該ベー
スに連結された環状のリム２５２Ｂを有し、これらはウ
ェーハから放射方向に放出された液体を捕獲してそれを
排水装置２５４に案内する。外側シールド２５２は液体
がその放出後にウェーハＳの上に落下しないように構成
されている。具体的に、ベース２５２Ａは半径方向内側
に曲がった前面に環状の溝２５６を有する。リムは角度
の付いた表面２５８を有し、それはウェーハから放出さ
れた液体を溝２５６に案内する。溝２５６の半径方向内
側のベース２５２Ａの表面２６０は、液体を溝に向けて
案内するために、外側に向けて広がっている。溝２５６
の半径方向内側に延びる部分により、液体を顎部１０
６，１０８およびウェーハに落下させることなく、溝は
リム２５２Ｂによってそこに案内された液体を保持する
ことができる。そして、液体は溝２５６を下方に進み、
そこで排水装置２５４に入る。

【００３１】上と下の顎部１０６，１０８は、液体がウ
ェーハＳに落下しないように同様に構成されている。上
顎部と下顎部はそれらに連結された半環状のリム（符号
２６２と２６４で示す）を有する。リム２６２，２６４
に近接した顎部１０６，１０８のそれぞれの半環状溝２
６６は、外側シールド２６２の溝２５６と同様に半径方
向内側に曲がっている。顎部の閉鎖位置では、半環状の
リム２６２，２６４と半環状の溝２６６が協働して実質
的に連続した環状の構造を形成する。リム２６２，２６
４の内面２６８は、溝２６６に向かって外側に角度が付
けてあり、溝の半径方向内側にある顎部１０６，１０８
の表面２７０は外側に広がっており、ウェーハＳから放
出された水がその内面に向かって案内される。溝２６６
の半径方向内側延長部は液体を溝の中に保持し、この水
が顎部１０６，１０８からウェーハＳに落下するのを防
止している。顎部１０６，１０８の回転が停止した後、
溝２６６内の液体は顎部１０６，１０８とそれらのリム
２６２，２６４の間の隙間を介して外側シールド２５
２、更に排水装置２５４に流れる。

【００３２】ウェーハ取り出し搬送装置１１４は、ウェ
ーハ取り出し搬送アーム１２０がハウジングの横方向に
水平動作できるという点を除いて第２のウェーハ搬送装
置７０と実質的に同一の構成を有する。図３，５および
１１において、ウェーハ取り出し搬送アーム１２０は、
スロット１２２を介して延びており、第１のプレート２
７２に平行な第２のプレート２７８に設けた１対のレー
ル２７６にスライド２７４を介して取り付けられた第１
のプレート２７２に連結されている。第２のプレート２
７８は、第１のプレート２７２と第２のプレートにほぼ
垂直に向けられた第３のプレート２８０に固定的に連結
されている。第１のプレート２７２と第３のプレート２
８０に連結された第１のエアシリンダ２８２は、２つの
水平位置の間で第２のプレート２７８に対して第１のプ
レートとウェーハ取り出し搬送アーム１２０を移動させ
るように操作できる。第３のプレート２８０は、第３の
部屋の前壁５６に設けた２つの水平方向に延びるレール
２８６に４つのスライド２８４（図５においてその２つ
だけを示す）によって連結されている。

【００３３】前壁５６と第３のプレート２８０に取り付
けられた第２のエアシリンダー２８８は、回転乾燥機１
０４に水平同期した位置と、ウェーハ設置装置１１６の
略上方にある位置との間で第１，第２および第３のプレ
ートとウェーハ取り出し搬送アーム１２０を同時に移動
させることができる。１対の位置決めストッパ２８３
（図３にその１つだけを示す）は、ウェーハ取り出し乾
燥アーム１２０を上記２つの水平位置に正確に位置させ
るために、第３のプレート２８０の突起（図示せず）に
係合することができる。第１のエアシリンダ２８２は、
ウェーハ取り出し搬送アーム１２０が回転乾燥機１０４
に同期しているとき、回転乾燥機に向けて後方にアーム
を移動させるように動作する。位置決めストッパー２８
９Ｂはウェーハ取り出し搬送アーム１２０をウェーハ乾
燥機１０４内に正確に配置するために、プレート２７２
の突起２８９Ｃと係合可能である。次に、上と下の顎部
１０６，１０８が開放され、ウェーハ取り出し搬送アー
ム１２０の脚部１１８上にウェーハをセットし、第１の
エアシリンダ２８２が作動して上記アームを回転乾燥機
１０４の外に移動させる。ウェーハ取り出し搬送アーム
１２０は、第２のシリンダー２８８を引き戻すことによ
って、ウェーハ設置装置１１６上の位置に横移動させら
れる。エアシリンダ２８２が再び作動し、プレート２７
２の突起２８９Ｃが位置決めストッパ２８９Ｄに係合し
てウェーハ設置アーム１２４に対してウェーハＳを正確
に配置するまでウェーハ取り出し搬送アーム１２０を後
方に移動させる。

【００３４】図３，５および１４〜１７において、ウェ
ーハ設置アーム１２４は後方に延びて２つの部分に分か
れ、各部分は第１の部屋の後二重壁３２と第３の部屋の
前壁５６の２つの垂直スロット１２８のそれぞれを通過
している。アーム１２４の両部分は、第３の部屋でプレ
ート２９０に取り付けられている。このプレート２９０
は、４つのスライド２９２（図５にその２つだけを示
す）によって前壁５６に設けた垂直方向の１対のレール
２９４に連結されている。前壁５６の上端部に設けたエ
アシリンダ２９６は、その下端部においてプレート２９
０に取り付けてあり、これによりプレートとウェーハ設
置アーム１２４が上昇位置と下降位置の間で移動する。
ウェーハ取り出し搬送アーム１２０がウェーハ設置装置
１１６上の位置に移動すると、エアシリンダ２９６が作
動してウェーハ設置アームをカセットＣ２の開口底部と
開口上部を介して上昇する。位置決めストッパ２９７は
その上昇位置でプレート２９０に係合してウェーハ設置
アーム１２４を正確に配置する。ノッチ１２７は、ウェ
ーハ取り出し搬送アーム１２０の下中央部脚部１１８を
収容し、ウェーハ設置アーム１２４の上端部が脚部の上
を通過する（図１６）。ウェーハＳは脚部１１８から持
ち上げられてウェーハ設置アーム１２４の溝１２６にウ
ェーハ設置装置１１６で支持される。ウェーハ取り出し
搬送装置の第１のエアシリンダー２８２が再び作動し、
ウェーハ取り出し搬送アーム１２０を前方の第３の水平
位置に移動させる。ここで、ウェーハＳはウェーハ出口
ステーション１１２でカセットＣ２に置かれる。

【００３５】ウェーハ出口ステーション１１２の支持ア
ーム１３０は、第１の部屋の後二重壁３２と第３の部屋
の前壁５６の穴を介して延びており、リードスクリュー
３００に連結された共通スライド２９８に接続されてい
る。リードスクリュー３００はベルト３０４によってリ
ードスクリューに連結された電動モータ３０２によって
駆動され、アーム１３０とこれにより搬送されるウェー
ハカセットＣ２がカセットの隣合うスロットに各ウェー
ハを配置するために移動する。リードスクリュー３００
とモータ３０２は、ブレース３０８によって第３の部屋
の前壁５６に連結されたプレート３０６に取り付けられ
ている。上昇位置において、ウェーハ設置アーム１２４
は、カセット内のスロットの一つと同期してウェーハカ
セットＣ２から延びている。ウェーハ設置アーム１２４
がウェーハを受けると、エアシリンダー２９６が作動し
てウェーハ設置アームをその下降位置に移動し、これに
よりウェーハをスロットにセットする。モータ３０２が
起動して、ウェーハカセットＣ２をカセット内の次の空
のスロットがウェーハ設置アーム１２４と一直線上にな
るようにする。前のウェーハが設置されているスロット
にと隣り合うスロットに次に乾燥したウェーハを設置す
るために、モータ３０２を起動してウェーハカセットＣ
２をセットする。ウェーハは入口ウェーハカセット内に
配列された順序と同じ順序で出口ウェーハカセットＣ２
に置かれる。したがって、各ウェーハの同一性がクリー
ニングおよび乾燥後も維持される。

【００３６】以上の説明から、本発明のいくつかの目的
が達成され、その他の利点が得られることが理解できる
であろう。本発明の範囲から逸脱することなく、上述の
構成には種々の変更を加えることができ、以上の説明に
含まれる全ての事項または添付図面に表された全ての事
項は、説明のものとして理解されるべきであって、発明
の範囲を限定するものではない。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明に係るウェーハクリーニング装置およ
び乾燥装置の正面図である。

【図２】 該装置のウェーハ取扱要素の配置を明確に示
すための、該装置の透明ハウジングの前部を取り除いた
正面図である。

【図３】 該装置の機械的要素を示すためにハウジング
を取り除いた装置の背面図である。

【図４】 図１の４−４線を含む平面に沿った装置の部
分拡大断面図で、第１のウェーハ搬送アームを仮想線で
示し、そこでは第１のウェーハ搬送装置の残りの部分が
取り除かれている。

【図５】 図１の５−５線を含む平面に沿った装置の部
分拡大断面図である。

【図６】 図５と同様に断面図で、ウェーハ入口ステー
ション、ウェーハ取り上げ部、第１のウェーハ搬送装置
を除いた装置の部分拡大断面図である。

【図７】 ウェーハ取り上げ部から第１のウェーハ搬送
装置にウェーハを搬送する状態を表した図２の部分拡大
正面図である。

【図８】 図６に類似の装置の断面図で、ウェーハ取り
上げ部が除かれ、かつ、装置のウェーハスクラバーが付
加的に表されている。

【図９】 図２の部分拡大正面図で、第１のウェーハ搬
送装置からウェーハスクラバーに対応するウェーハ回転
ピンにウェーハを搬送する状態を示す。

【図１０】 図８に類似の装置の断面図で、ウェーハ入
口ステーションが除かれ、第２のウェーハ搬送装置が付
加的に示してある。

【図１１】 図２の部分拡大正面図で、第１のウェーハ
搬送装置から第２の搬送装置へのウェーハの搬送を示
す。

【図１２】 図４に類似の断面図で、第２のウェーハ搬
送装置と装置のウェーハ乾燥機を除いた装置の部分の部
分断面図である。

【図１３】 図２の１０−１０線を含む平面に沿った装
置の部分拡大断面図で、ウェーハ乾燥機に同期した第２
のウェーハ搬送装置を示す。

【図１４】 ウェーハ取り出し用搬送装置によって、ウ
ェーハ乾燥機からウェーハを取り出す状態を示す部分拡
大正面図である。

【図１５】 図５に類似の部分断面図で、ウェーハ乾燥
機、ウェーハ取り出し搬送装置、ウェーハ設置装置、お
よびウェーハ出口ステーション以外の装置部分を除いた
部分拡大図である。

【図１６】 図２の部分拡大正面図で、ウェーハ取り出
し搬送装置からウェーハ設置装置にウェーハを移送する
状態を示す。

【図１７】 図１５類似の断面図で、ウェーハ乾燥機と
ウェーハ取り出し搬送装置が除かれ、装置のウェーハ出
口ステーションにあるカセット内にウェーハを設置した
状態を示す。

【図１８】 図１２に類似の部分拡大断面図で、ウェー
ハリンス装置を示す。

【図１９】 図２に類似の部分拡大正面図で、ウェーハ
リンス装置を示す。

【符号の説明】

Ｓ…ウェーハ、Ｃ１…ウェーハカセット、５８…ウェー
ハ入口ステーション、６８…第１のウェーハ搬送装置、
７０…第２のウェーハ搬送装置、８８…洗浄ローラ、１
０４…回転式乾燥機、１１４…ウェーハ取り出し搬送装
置、１１８…脚部、１２０…ウェーハ取り出し搬送アー
ム。

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 半導体ウェーハの自動クリーニングに用
   いる装置で、上記装置は、 垂直に保持された複数のウェーハを受けるウェーハ入口
   ステーションと、 上記ウェーハを垂直に向けたままで上記ウェーハ入口ス
   テーションから一度に一枚のウェーハ移送する第１のウ
   ェーハ移送手段と、 上記第１のウェーハ移送手段から一枚のウェーハを受け
   て上記ウェーハを垂直に保持するように構成され、上記
   第１のウェーハ移送手段から受けたウェーハのほぼ中心
   を通る軸を中心として、上記一枚のウェーハに付着した
   液体を上記ウェーハから飛散させるために選択された回
   転速度で回動可能な回転式乾燥機と、 上記一枚のウェーハを上記回転式乾燥機から垂直状態で
   移送する第２のウェーハ移送手段と、 上記第２のウェーハ移送手段から上記一枚のウェーハを
   垂直状態で受けるウェーハ出口ステーションとを備えて
   いる。
2. 【請求項２】 請求項１に記載された装置で、 上記第１と第２のウェーハ移送手段は、上記一枚のウェ
   ーハの下縁部に沿ってのみ上記一枚のウェーハを保持す
   るように構成されており、 上記第１のウェーハ移送手段は、アームと、該アームの
   一端部のフィンガ手段とを含むウェーハ取り上げ部を有
   し、上記ウェーハ取り上げ部は、上記ウェーハ入口ステ
   ーションで上記ウェーハよりも下の高さに上記フィンガ
   手段を位置させるべくほぼ垂直下方に移動に移動可能
   で、また上記一枚のウェーハの下縁部の下に上記フィン
   ガ手段を位置させるべくほぼ水平方向に移動可能で、さ
   らに上記ウェーハ入口ステーションから上記一枚のウェ
   ーハを持ち上げるべく垂直上方に移動可能で、 上記第１のウェーハ搬送手段はまた、上記ウェーハ取り
   上げ部から上記一枚のウェーハを受け取って上記回転式
   乾燥機にウェーハを搬送するために第１と第２のウェー
   ハ搬送部を有し、上記第１のウェーハ搬送部はアームと
   該アーム上のフィンガ手段とを有し、上記第１のウェー
   ハ搬送部とウェーハ取り上げ部は上記ウェーハ取り上げ
   部の上記フィンガ手段の下に上記第１のウェーハ搬送部
   のフィンガ手段を位置させるべく相対移動可能で、上記
   第１のウェーハ搬送部のフィンガ手段は上記ウェーハ取
   り上げ部のフィンガ手段からオフセットして、上記ウェ
   ーハ取り上げ部と第１のウェーハ搬送部との間の垂直方
   向の相対移動により、上記一枚のウェーハが上記ウェー
   ハ搬送部のフィンガ手段に渡され、上記第２のウェーハ
   搬送部はアームと該アーム上のフィンガ手段とを有し、
   上記第１と第２の上搬送部は上記第２の上搬送部の上記
   フィンガ手段を上記第１のウェーハ搬送部のフィンガ手
   段の下に位置させるべく相対移動可能で、上記第１と第
   ２のウェーハ搬送部の間で相対的に垂直移動すると、上
   記一枚のウェーハは上記第２のウェーハ搬送部のフィン
   ガ手段に渡される。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の装置で、上記回転式乾
   燥機は第１と第２の顎部と上記第１と第２の顎部に連結
   された複数の脚部を備えており、上記顎部は開放位置と
   上記脚部が上記一枚のウェーハを把持すると共に回転の
   ために上記一枚のウェーハを保持する閉鎖位置との間を
   回動可能で、上記第２のウェーハ搬送部は上記一枚のウ
   ェーハを開放位置にある顎部に持っていくために移動可
   能で、上記第２のウェーハ搬送部のフィンガ手段は上記
   脚部からオフセットしており、これにより上記脚部は上
   記フィンガ手段を通り上記一枚のウェーハを把持するた
   めに上記閉鎖位置に移動でき、 上記第２のウェーハ搬送手段は上記一枚のウェーハを上
   記回転式乾燥機から取り出すためのウェーハ取り出し搬
   送部を備えており、上記ウェーハ取り出し搬送部はアー
   ムと該アーム上のフィンガ手段とを有し、上記ウェーハ
   取り出し搬送部と上記回転式乾燥機は上記ウェーハ取り
   出し搬送部のフィンガ手段が上記閉鎖位置で上記回転式
   乾燥機の脚部の下に位置するように相対移動可能で、上
   記ウェーハ取り出し搬送部の上記フィンガ手段は上記回
   転乾燥機の脚部からオフセットしており、これにより上
   記顎部が開放位置に移動すると、上記一枚のウェーハが
   上記ウェーハ取り出し部の上記フィンガ手段に渡され、 上記第２のウェーハ移送手段はアームと該アームの一端
   のフィンガ手段とを含むウェーハ設置部を備えており、
   上記ウェーハ取り出し搬送部とウェーハ設置部は上記ウ
   ェーハ取り出し搬送部の上記フィンガ手段を上記ウェー
   ハ設置部の上記フィンガ手段の下に配置するために相対
   的に移動可能で、上記ウェーハ取り出し搬送部の上記フ
   ィンガ手段は上記ウェーハ設置部の上記フィンガ手段か
   らオフセットしており、これにより上記ウェーハ設置部
   と上記ウェーハ取り出し搬送部との間で相対的に垂直移
   動すると、上記一枚のウェーハが上記ウェーハ設置部の
   上記フィンガ手段に渡され、上記ウェーハ設置部は上記
   ウェーハ出口ステーションに上記一枚のウェーハを預け
   るためにほぼ垂直下方に移動可能である。
4. 【請求項４】 請求項１に記載の装置で、上記回転乾燥
   機は上記ウェーハ入口ステーション上に配置され、上記
   装置はまた上記一枚のウェーハを洗浄するために上記ウ
   ェーハ入口ステーションと上記回転乾燥機との間で対向
   するウェーハ洗浄ローラであって、上記ウェーハ洗浄ロ
   ーラは上記ウェーハ入口ステーション上に配置され且つ
   上記回転乾燥機は上記ウェーハ洗浄ローラの上に配置さ
   れたウェーハ洗浄ローラと、上記一枚のウェーハを保持
   すると共に上記洗浄ローラと係合しているときに上記ウ
   ェーハを回転させるために上記洗浄ローラの下に配置さ
   れたウェーハ回転ピンであって、上記一枚のウェーハを
   該ウェーハの垂直縁部に沿ってのみ係合して垂直状態で
   保持するために構成されているウェーハ回転ピンとを備
   えている。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の装置はさらに、 上記ウェーハをリンスする装置であって、上記ウェーハ
   の一面に当たるようにリンス液を所定の方向に連続的に
   送り出すスプレーノズルと、上記液の流れをウェーハか
   ら偏向させる偏向部とを有するウェーハリンス装置を備
   え、 上記偏向部は、壁によって分離された第１と第２の部屋
   と、複数の実質的に一列に整列された開口部と、上記リ
   ンス液の上記流れを上記整列された開口部を介して送る
   ために構成された上記スプレーノズルと、上記リンス液
   の流れに選択的に組み込まれて上記ウェーハからの上記
   液体を偏向させるために設けた偏向シールドとを有する
   スプラッシュボックスを備えている。
6. 【請求項６】 請求項１と４のいずれかに記載された装
   置で、上記回転乾燥機は、 第１と第２の顎部と上記第１と第２の顎部に連結された
   複数の脚部であって、上記顎部は開放位置と上記脚部が
   上記一枚のウェーハを把持すると共に上記一枚のウェー
   ハを回転するために保持する閉鎖位置との間を回動可能
   で、上記顎部は上記顎部の閉鎖位置で上記ウェーハを囲
   むように構成され、各顎部は断面が曲がり、上記ウェー
   ハから飛散した液体を捕獲するために半径方向内方に伸
   びる部分を有して上記ウェーハ上に上記液体が落下する
   のを防止するアーチ状の溝を有する、第１と第２の顎部
   と複数の脚部と、 上記顎部を囲む環状の外側スプラッシュシールドで、断
   面が曲がり、上記液体を捕獲するために半径方向内方に
   伸びる部分を有して上記ウェーハ上に上記液体が落下す
   るのを防止するアーチ状の溝を有するスプラッシュシー
   ルドとを備えている。
7. 【請求項７】 請求項１に記載の装置はさらに隔離され
   るべき容積を実質的に含む部屋を備え、 上記第１のウェーハ移送手段はウェーハを保持する手段
   と上記保持手段を作動させる手段とを有し、上記保持手
   段は上記部屋の中に配置されると共に上記保持手段の作
   動手段は上記ハウジングの外に配置され、上記保持手段
   は上記部屋を介して伸びて上記部屋の外の上記作動に連
   結されており、 上記第２のウェーハ移送手段はウェーハを保持する手段
   と上記保持手段を作動する手段とを有し、上記保持手段
   は上記部屋の中に配置されて上記保持手段の作動手段は
   上記部屋の外に配置され、上記保持手段は上記部屋を介
   して伸びて上記部屋の外の上記作動手段に連結されてお
   り、 上記乾燥機は上記部屋の内に配置されたウェーハ保持機
   構と上記部屋の外に配置されたウェーハ保持機構を回転
   させる手段を有する。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の装置で、上記部屋は、
   内側パネルと外側パネルを含む少なくとも一つの二重壁
   であって該二重壁の内側と外側のパネルは離れている二
   重壁と、上記内側と外側のパネルの間で捕獲された液体
   を排水するために設けた排水装置とを有し、上記第１と
   第２のウェーハ移送手段は上記二重壁を介して伸びて上
   記第１と第２のウェーハ移送手段の上記作動手段に連結
   し、上記第１と第２のウェーハ移送手段の上記保持手段
   はフッ素系プラスチックで作られている。
9. 【請求項９】 自動乾燥装置内で半導体ウェーハを乾燥
   する方法で、上記方法は、 上記乾燥装置のウェーハ入口ステーションに複数の垂直
   に直立したウェーハを配置し、 上記ウェーハ入口垂直から上記複数のウェーハをそれぞ
   れ垂直に持ち上げ、 上記ウェーハのそれぞれを垂直上方に上記乾燥装置の乾
   燥機に搬送し、 上記垂直状態のウェーハを上記乾燥装置の回転乾燥機内
   で回転して上記ウェーハから液体を除去し、 上記回転乾燥機からウェーハ出口ステーションに上記ウ
   ェーハをそれぞれ垂直状態で搬送する、工程を有する。
10. 【請求項１０】 請求項９に記載の方法はさらに、上記
    複数のウェーハのそれぞれを垂直状態で洗浄する工程を
    含み、上記洗浄工程は、上記複数のウェーハのそれぞれ
    を該ウェーハを洗浄しながらその中心を通るほぼ水平軸
    を中心として回転させる工程を含む。