JPH09330972A - 基板搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 雰囲気制御を好適に行える基板搬送装置を提
供する。 【解決手段】 基板保持アーム１の上方に吹き出し部６
を配設し、基板保持アーム１とともに移動させる。吹き
出し部６とクリーンユニット８との間はチューブ状のダ
クト７で連結されている。クリーンユニット８にはファ
ン９やフィルター１１が内設され、ファン９で圧送さ
れ、フィルター１１で所要の除去成分が除去された空気
がダクト７を介して吹き出し部６に供給され、基板保持
アーム１に保持された基板Ｗに向けて吹き出され、基板
Ｗの周囲の空間が所要の雰囲気に形成・維持される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、複数の基板処理部
が備えられた基板処理装置や、異なる装置間で基板を受
け渡すインターフェイス装置、複数枚の基板を収納可能
なキャリアと基板処理装置との間で基板を受け渡して基
板処理装置に対する基板の搬入出を行う基板搬入出装置
などに備えられる基板搬送装置に係り、特には、基板処
理部や基板受渡し部等の搬送ポジション間の基板の搬送
を行う基板搬送装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板製造上、基板に有害成分（パーティ
クルや、アルカリ成分などの化学成分など）が付着する
と基板の汚染や基板処理に悪影響（例えば、化学増幅型
レジストの現像不良等）などを招き、製品の品質低下や
歩留りの低下につながることが知られている。従って、
各装置内の基板の搬送の際にも基板に有害成分が付着し
ないようする必要がある。

【０００３】従来、基板処理装置やインターフェイス装
置、基板搬入出装置などは外囲で覆われ、その天井部分
にファンやフィルターなどを設置し、所要の有害成分を
除去した気体を各装置内の基板搬送空間に供給し、基板
搬送空間内を清浄化された雰囲気にして各装置内での基
板の搬送を行うようにしている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来装
置では、基板搬送空間全体を清浄化された気体の雰囲気
にしているが、基板搬送空間は広く、そのような広い空
間を雰囲気制御しなければならないことから以下のよう
な問題があった。

【０００５】大きなファンやフィルターが必要でありコ
スト高を招いていた。また、ファンの消費電力が多くな
るなどランニングコスト高も招いていた。特に、化学成
分を除去する場合には、化学吸着フィルターを装置天井
部分に設置するが、この化学吸着フィルターはその価格
が非常に高く、また、交換の周期も短いので、この化学
吸着フィルターの交換時のコスト（ランニングコスト）
高が問題であった。

【０００６】また、外部雰囲気の流入を防止するために
は、外囲の密閉度を高めるか、基板搬送空間内を揚圧に
しなければならないが、外囲には基板の搬入出口などが
設けられる関係で、完全な密閉度を実現するのは実質的
に不可能である。一方、広い空間内を完全に揚圧するこ
とも実質的には不可能である。従って、従来装置では、
外部雰囲気の流入を完全に防止することは不可能であ
り、完全な雰囲気制御は実現されていなかった。

【０００７】また、基板搬送空間内においては、パーテ
ィクルや熱の流れを考慮しなければならず、広い基板搬
送空間内の空気流などを考慮しなければならなかった。
そのため、装置内の構成部品の配置などをも考慮して装
置を設計しなければならないなど、製作コスト高やメン
テナンス時の工数増加などを招いていた。さらに、基板
搬送装置の搬送動作によって基板搬送空間内の空気流が
乱れ、パーティクルの舞い上がりなども起こっていた。

【０００８】また、広い空間を雰囲気制御しなければな
らないことによる上記不都合以外にも、従来装置では、
ファンやフィルターが装置天井部分に設置されていたの
で、メンテナンスが行い難いという問題もあった。

【０００９】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、上述した種々の不都合を解消すること
ができる基板搬送装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板処理部や基板受渡し
部等の搬送ポジション間の基板の搬送を行う基板搬送装
置において、基板を保持する保持手段と、気体を圧送す
る気体圧送手段と、前記圧送される気体から所定の除去
成分を除去する除去手段と、前記気体圧送手段によって
圧送され、前記除去手段によって除去成分が除去された
気体を前記保持手段に保持された基板に向けて吹き出す
吹き出し部と、少なくとも前記保持手段と前記吹き出し
部を複数の搬送ポジション間で移動させる移動手段と、
前記気体圧送手段と前記除去手段と前記吹き出し部を連
結する連結手段と、を備え、少なくとも前記気体圧送手
段を各搬送ポジションに対して固定設置したことを特徴
とするものである。

【００１１】請求項２に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板搬送装置において、前記除去手段を前記移動
手段によって前記保持手段及び前記吹き出し部とともに
移動させるように構成し、前記連結手段のうち、前記気
体圧送手段と前記除去手段との間を連結する連結手段を
チューブ状のダクトで構成したことを特徴とするもので
ある。

【００１２】請求項３に記載の発明は、上記請求項１に
記載の基板搬送装置において、前記除去手段を各搬送ポ
ジションに対して固定設置し、前記連結手段のうち、前
記除去手段と前記吹き出し部との間を連結する連結手段
をチューブ状のダクトで構成したことを特徴とするもの
である。

【００１３】請求項４に記載の発明は、上記請求項１か
ら３までのいずれかに記載の基板搬送装置において、前
記保持手段に保持される基板を囲むように空間遮断手段
が配設され、前記吹き出し部からの気体が前記空間遮断
手段で囲まれる基板保持空間に吹き出されるように構成
し、前記空間遮断手段には、少なくとも前記基板保持空
間とその外部空間との間で基板を出し入れできる開口が
形成されていることを特徴とするものである。

【００１４】請求項５に記載の発明は、上記請求項４に
記載の基板搬送装置において、前記基板出し入れ用の開
口を開閉するシャッター機構を設けたことを特徴とする
ものである。

【００１５】請求項６に記載の発明は、上記請求項４に
記載の基板搬送装置において、前記基板出し入れ用の開
口の上方から下方に清浄化された気体を吹き下ろさせ、
前記開口に気体のカーテンを形成したことを特徴とする
ものである。

【００１６】請求項７に記載の発明は、上記請求項１か
ら６までのいずれかに記載の基板搬送装置において、前
記吹き出し部から前記保持手段に保持された基板に向け
て吹き出された気体の少なくとも一部を、前記保持手段
より低い方向に流下させるように構成したことを特徴と
するものである。

【００１７】

【作用】本発明の作用は次のとおりである。請求項１に
記載の発明によれば、基板が保持された保持手段ととも
に、少なくとも吹き出し部が移動手段によって複数のポ
ジション間（基板搬送空間内）で移動される。少なくと
も気体圧送手段は各搬送ポジションに対して固定設置さ
れ、気体圧送手段と除去手段と吹き出し部とは連結手段
で連結されている。気体圧送手段で圧送され、除去手段
で所定の除去成分（パーティクルや化学成分など）が除
去された気体は、吹き出し部から保持手段に保持された
基板に向けて吹き出される。

【００１８】請求項２に記載の発明では、除去手段は移
動手段によって保持手段及び吹き出し部とともに移動さ
れ、気体圧送手段のみが各搬送ポジションに対して固定
設置されている。気体圧送手段で圧送される気体はチュ
ーブ状のダクトを介して除去手段に供給され、除去手段
で気体内の除去成分が除去され、その除去成分が除去さ
れた後の気体が吹き出し部から保持手段に保持された基
板に向けて吹き出される。

【００１９】請求項３に記載の発明では、保持手段とと
ともに移動するのは吹き出し部のみであり、気体圧送手
段と除去手段は各搬送ポジションに対して固定設置され
ている。そして、気体圧送手段で圧送され、除去手段で
除去成分が除去された気体が、チューブ状のダクトを介
して吹き出し部に供給され、保持手段に保持された基板
に向けて吹き出される。

【００２０】請求項４に記載の発明によれば、保持手段
に保持される基板を囲むように空間遮断手段が配設さ
れ、吹き出し部からの気体が空間遮断手段で囲まれる基
板保持空間に吹き出されるように構成し、外部空間の雰
囲気が基板保持空間内へ流入するのを抑制する。保持手
段に保持された基板は、空間遮断手段に形成された基板
出し入れ用の開口を介して出し入れされる。

【００２１】請求項５に記載の発明では、基板出し入れ
用の開口を開閉するシャッター機構を設け、基板の出し
入れ時にのみ開口を開いて、それ以外（搬送ポジション
間の移動中など）は開口を閉じておいて、基板保持空間
の密閉度を一層高めるようにしている。

【００２２】請求項６に記載の発明では、基板出し入れ
用の開口の上方から下方に清浄化された気体を吹き下ろ
させ、開口に気体のカーテンを形成したことで、シャッ
ター機構のような発塵原因となる機械部品を設けずに、
基板出し入れ用の開口から外部空間の雰囲気が流入する
のを抑制し、基板保持空間の密閉度を高めるようにして
いる。

【００２３】請求項７に記載の発明では、吹き出し部か
ら保持手段に保持された基板に向けて吹き出された気体
の少なくとも一部を、保持手段より低い方向に流下させ
るようにし、保持手段より低い方向からのパーティクル
や化学成分などの舞い上がりを抑制し、熱を下方に流下
させるなどして、有害成分や熱などが保持手段より低い
方向からまき上がり、保持手段に保持された基板の上方
へ流入するのを抑止する。

【００２４】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図１は、本発明の一実施例に係る
基板搬送装置の構成を示す縦断面図である。

【００２５】この基板搬送装置は、例えば、基板処理装
置などに備えられるもので、保持手段としての基板保持
アーム１がアーム支持台２に支持されている。この基板
保持アーム１は、アーム支持台２内に設けられたボール
ネジなどの駆動機構（図示せず）によってアーム支持台
２に対して出退されるようになっている。この出退動作
は、基板処理部や基板受渡し部等の搬送ポジションに対
して基板Ｗを受け渡すために行われる。なお、図では、
２個の基板保持アーム１が上下に積層され、各基板保持
アーム１がアーム支持台２に対して独立して出退される
ダブルアーム式の基板搬送装置を示しているが、基板保
持アーム１を１個だけ備えたシングルアーム式の基板搬
送装置でも本発明は同様に適用することができる。

【００２６】アーム支持台２は、軸２ａに支持され、モ
ーターなどの回転駆動機構３によって、鉛直軸周りに回
転され、この回転によって、基板保持アーム１の出退さ
れる方向を変えられるようになっている。

【００２７】また、アーム支持台２は、軸２ａ、回転駆
動機構３を介して、ボールネジなどの昇降駆動機構４に
よって鉛直軸方向に昇降されるようになっている。

【００２８】さらに、アーム支持台２は、軸２ａ、回転
駆動機構３、昇降駆動機構４を介して、ボールネジなど
の１軸方向駆動機構５によって水平１軸方向（図の紙面
に垂直な方向）に移動されるようになっている。

【００２９】上記昇降移動と水平１軸方向の移動は、複
数の搬送ポジション間の搬送（移動）などのために行わ
れ、上記昇降駆動機構４と１軸方向駆動機構５とは、本
発明における移動手段を構成する。

【００３０】さて、本実施例では、基板保持アーム１の
上方に近接させて吹き出し部６が、図示しない支持部材
によってアーム支持台２に支持されている。吹き出し部
６の基板保持アーム１側の面（下面）には吹き出し口が
設けられている。吹き出し部６にはチューブ状のダクト
７の一端側が連通接続され、ダクト７から圧送されてく
る気体を吹き出し口から基板保持アーム１に保持された
基板Ｗに向けて吹き出すようになっている。

【００３１】ダクト７の他端側は、所定位置に固定設置
されたクリーンユニット８に連通接続されている。クリ
ーンユニット８には、ファン９を備えたファンユニット
１０と、フィルター１１を備えたフィルターユニット１
２が連結されて内設されている。ファン９は気体圧送手
段に相当し、外気を取り込んでダクト７側（吹き出し部
６側）に気体（この場合は空気）を圧送する。フィルタ
ー１１は除去手段に相当し、ファン９によってダクト７
側に圧送される気体（空気）内の所定の除去成分を除去
する。これにより、ファン９によって圧送され、フィル
ター１１によって所定の除去成分が除去された気体（空
気）が、吹き出し部６の吹き出し口から、基板保持アー
ム１に保持された基板Ｗに向けて吹き出される。そし
て、基板保持アーム１に保持された基板Ｗの周囲の雰囲
気が所定の除去成分が除去された雰囲気に形成・維持さ
れる。

【００３２】なお、パーティクルだけを除去する場合に
は、パーティクル除去用のＨＥＰＡ（ヘパ）フィルター
やＵＬＰＡ（ウルパ）フィルターなどがフィルターユニ
ット１２に備えられる。アルカル成分や酸成分などの化
学成分だけを除去する場合には、化学吸着フィルターが
フィルターユニット１２に備えられる。それら双方を除
去する場合には、パーティクル除去用のフィルターと化
学吸着フィルターとがフィルターユニット１２に備えら
れる。さらに、その他の除去成分を除去する場合には所
要のフィルターがフィルターユニット１２に備えられ
る。

【００３３】また、クリーンユニット８は、所定の場所
に固定設置される一方で、吹き出し部６は、基板保持ア
ーム１、アーム支持台２とともに、昇降移動や水平１軸
方向に移動される。従って、吹き出し部６の移動動作に
追従できるように、ダクト７は、例えば、ポリカーボネ
ートなどの樹脂を材料として変形自在に構成されてい
る。なお、クリーンユニット８内のファンユニット１０
とフィルターユニット１２の連結と、このダクト７と
は、本発明における連結手段を構成する。

【００３４】なお、図１では、ファン９をフィルター１
１の前段に設けているが、クリーンユニット８内のファ
ン９とフィルター１１との位置を逆にしても（ファン９
をフィルター１１の後段に設けても）よい。

【００３５】次に、別の実施例の構成を図２を参照して
説明する。図２の装置では、吹き出し部６の上方にフィ
ルターユニット１２を連結し、フィルター１１の上方空
間にダクト７の一端側を連結した。そして、クリーンユ
ニット８にはファンユニット１０だけを設けるようにし
た。この構成によると、フィルター１１（フィルターユ
ニット１２）は、吹き出し部６、基板保持アーム１、ア
ーム支持台２とともに、昇降移動や水平１軸方向へ移動
される。そして、ファン９によって圧送された気体（空
気）は、ダクト７を介してフィルター１１の上方空間に
送られ、フィルター１１で所定の除去成分が除去され、
吹き出し部６から基板Ｗに向けて吹き出される。その他
の構成は、上記実施例と略同様であるので、その詳述を
省略する。

【００３６】なお、図２では、フィルターユニット１２
の下に符号６で示す吹き出し部を設けているが、この吹
き出し部６を省略し、フィルター１１を通過した気体
（空気）を直接、基板保持アーム１に保持された基板Ｗ
に吹き出すように構成してもよい。このような構成の場
合、フィルターユニット１２が本発明における吹き出し
部を構成することになる。

【００３７】さて、上記図１の装置を例に採りいくつか
の変形例を以下で説明するが、これら変形例は、図２の
装置にも適宜に変形実施可能である。

【００３８】上記実施例では、気体として空気を用いて
いるが、図３に示すように、窒素ガスなどの不活性ガス
を圧送するガス供給源１４（工場のユーティリティな
ど）から不活性ガスをフィルター１１に供給するように
してもよい。これにより、基板保持アーム１に保持され
た基板Ｗの周囲の雰囲気が所定の除去成分が除去された
不活性ガスの雰囲気に形成・維持される。図３の場合
は、ガス供給源１４が気体圧送手段に相当するが、フィ
ルター１１の圧力損失を考慮して、フィルター１１の前
段（または後段）にファン９を設けてもよい。

【００３９】図１の装置では、基板保持アーム１の上方
に吹き出し部６が設けられ、その下方にアーム支持台２
が配置されているが、図４に示すように、アーム支持台
２と吹き出し部６との間の空間の側面（基板保持アーム
１に保持された基板Ｗの側方）にもさらに、一部に開口
１５が形成された側壁１６を設け、基板保持アーム１に
保持される基板Ｗを囲み、吹き出し部６からの気体が、
側壁１６やアーム支持台２、吹き出し部６などで囲まれ
る基板保持空間１３に吹き出されるように構成してもよ
い。側壁１６は、基板保持空間１３の側面部分におい
て、基板保持空間１３とその外部空間とを遮断するため
のものである。また、開口１５は、基板保持空間１３と
外部空間との間で基板Ｗを出し入れするためのもので、
この開口１５を通って基板保持アーム１が出退する。こ
のように構成したことにより、基板保持空間１３への外
部雰囲気（外部空間に浮遊しているパーティクルなどを
含む：以下同じ）の流入を一層好適に抑止することがで
きる。

【００４０】なお、図４の場合、側壁１６と吹き出し部
６とアーム支持台２が、本発明における空間遮断手段を
構成するが、基板保持アーム１の下方にアーム支持台２
などを有さない基板搬送装置の場合は、基板保持アーム
１の下方にも隔壁を配設すればよい。

【００４１】また、図４の場合、側壁１６に開口１５と
は別の開口をさらに設け、吹き出し部６からの気体をそ
の開口から基板保持空間１３の下方に（基板保持アーム
１よりも低い方向に）流下させるようにしてもよい。上
記基板保持アーム１の下方に隔壁を配設する場合には、
その下方の隔壁にパンチング孔などを設けて吹き出し部
６からの気体を基板保持空間１３の下方に流下させるよ
うにしてもよい。

【００４２】図５に示すように、図４の構成において、
側壁１６の開口１５を開閉するシャッター機構１７を設
けてもよい。シャッター機構１７は、例えば、エアシリ
ンダ１７ａのロッド１７ｂの伸縮によって、シャッター
１７ｃを昇降させ、開口１５を開閉させるように構成す
る。そして、基板保持空間１３に対して基板Ｗが出し入
れされるとき（基板保持アーム１が出退されるとき）だ
け、開口１５が開かれ、それ以外は開口１５を閉じる。
このように構成することで、図４の構成に比べて、さら
に、開口１５から基板保持空間１３内への外部雰囲気の
流入をも好適に抑止することができる。また、シャッタ
ー１７は開口１５を完全に密閉せずとも、基板保持空間
１３内を外部空間に対して揚圧とし、基板保持空間１３
内への外部雰囲気の流入がなければよい。

【００４３】図６に示すように、図４の構成において、
側壁１６の開口１５の上方から下方に清浄化された気体
を吹き下ろさせ、開口１５に気体のカーテンを形成して
もよい。図６（ａ）では、吹き出し部６から吹き出す気
体（空気）で気体のカーテンを形成している。図６
（ｂ）では、気体のカーテン形成用の清浄化された（パ
ーティクルや必要に応じて化学成分も除去された）気体
を、別のダクト７’で圧送するように構成している。な
お、ダクト７’の他端側は、クリーンユニット８に連通
接続させてもよいし、必要に応じて、別のクリーンユニ
ット（ファンと必要なフィルターを備え、クリーンユニ
ット８と同様に構成される）に連通接続されてもよい。
さらに、清浄化された不活性ガスを側壁１６の開口１５
の上方に圧送（供給）して、開口１５の上方から下方に
清浄化された不活性ガスを吹き下ろさせ、開口１５に不
活性ガスのカーテンを形成してもよい。このように構成
することで、開口１５から基板保持空間１３への外部雰
囲気の流入を常時抑制することができ、しかも、発塵原
因となる機械部品（図５のシャッター機構１７など）を
用いないので、新たなパーティクルを発生させることも
ない。

【００４４】図７に示すように、基板保持アーム１の下
方の周囲にガイド部材１８を設けるなどして、吹き出し
部６から吹き出された気体の少なくとも一部を、基板保
持アーム１より低い方向に流下させるようにしてもよ
い。このように構成することで、基板保持アーム１より
低い方向からパーティクルや化学成分などが舞い上が
り、基板Ｗの上方に流入したり、基板Ｗの上方への熱の
流れ込みなどを防止することができる。

【００４５】図８に示すように、吹き出し部６の水平方
向のサイズをアーム支持台２よりも若干大きめに構成
し、基板保持アーム１の周囲の側面に気体のカーテンを
形成するとともに、下方向への気体流を形成してもよ
い。

【００４６】ダクト７（７’）は、図９（ａ）の断面図
で示すように、径の大きいものを１本でも構成してもよ
いが、図９（ｂ）に示すように、径の小さいものを複数
本束ねて構成してもよい。図９（ｂ）のように構成すれ
ば、ダクト７（７’）の屈曲抵抗が少なくなり、吹き出
し部６、基板保持アーム１、アーム支持台２の移動動作
に伴うダクト７の変形が滑らかに行え、前記移動動作時
の負担を軽減できる。さらに、図９（ｃ）に示すよう
に、図９（ｂ）の構成において、細いダクト７（７’）
の束のまわりに肉厚の薄い保護ダクト１９を巻いてもよ
い。このように構成することで、吹き出し部６、基板保
持アーム１、アーム支持台２の移動動作に伴うダクト７
の屈曲時に各ダクト７が擦れてパーティクルが発生して
も、そのパーティクルを周囲に撒き散らすのを防止でき
る。

【００４７】次に、上記実施例やその変形例に係る基板
搬送装置を組み入れた基板処理装置などの構成について
図１０、図１１などを参照して説明する。図１０は、基
板処理装置などの全体構成を示す平断面図であり、図１
１は、基板処理装置内の基板搬送装置をＸ軸方向から見
た図である。なお、この基板処理装置は、レジスト処理
を行うための装置である。

【００４８】基板処理装置３０は、基板洗浄用のスピン
スクラバＳＳ、レジスト塗布用のスピンコーターＳＣ、
現像処理用のスピンデベロッパーＳＤ、熱処理用の熱処
理部（図示しない加熱処理部や冷却処理部が図のＺ軸方
向に積層されるとともに、Ｙ軸方向に併設されて構成さ
れる）ＨＣＰ、エッジ露光部ＥＥＷなどの各種の基板処
理部が備えられている。そして、上記実施例やその変形
例に係る基板搬送装置２０の基板搬送路３１が設けられ
ている。基板搬送装置２０は、基板搬送路３１に沿って
移動（Ｙ軸方向に移動）するとともに、昇降移動（Ｚ軸
方向に移動）し、基板搬送路３１を含む基板搬送空間内
で基板Ｗを搬送する。なお、ここでは、１軸方向駆動機
構５による移動方向がＹ軸方向になっている。また、基
板搬送装置２０は、各基板処理部（搬送ポジション）に
対して基板Ｗの受渡しを行う。さらに、基板搬送装置２
０は、後述する基板搬入出装置４０内の基板搬送装置２
０ａや、インターフェイス装置６０内の基板搬送装置２
０ｂとの間でも基板Ｗの受渡しを行う。

【００４９】なお、図１１に示すように、ダクト７は、
キャタピラ状の多関節型配管案内機構７０に支持させて
クリーンユニット８と吹き出し部６とを連結し、吹き出
し部６、基板保持アーム１、アーム支持台２の昇降動作
やＹ軸方向の移動の際（二点鎖線で示す）に、ダクト７
がもつれたり、基板処理装置３０内の構成部品に引っ掛
かったりするなどの不都合を防止している。

【００５０】基板処理装置３０の一端部側には、基板搬
入出装置４０が配設されており、他端部側には、露光処
理装置５０との間で基板Ｗを受け渡すインターフェイス
装置６０が配設されている。

【００５１】基板搬入出装置４０は、複数枚の基板Ｗを
積層収納可能なキャリアＣを載置するキャリア載置台４
１や、キャリアＣと基板処理装置３０内の基板搬送装置
２０との間で基板Ｗの搬送・受渡しを行う基板搬送装置
２０ａなどを備えている。基板搬送装置２０ａは、キャ
リアＣ（搬送ポジション）から処理前の基板Ｗを１枚ず
つ取り出し、その基板Ｗを基板搬送路４２に沿って搬送
し、基板処理装置３０内の基板搬送装置２０に引き渡す
（処理前の基板Ｗの搬入）とともに、基板処理装置３０
内の基板搬送装置２０から受け取った処理済の基板Ｗ
を、基板搬送路４２に沿って搬送し、キャリアＣに収納
する（処理済の基板Ｗの搬出）ように動作する。なお、
基板搬送装置２０ａ、２０の間の基板Ｗの受渡しは、図
示しない基板受渡し台（搬送ポジション）を介して行
う。

【００５２】インターフェイス装置６０には、基板搬送
装置２０ｂが備えられている。この基板搬送装置２０ｂ
は、基板処理装置３０内の基板搬送装置２０から受け取
った露光処理前の基板Ｗを、基板搬送路６１に沿って搬
送し、基板搬入台６２（搬送ポジション）を介して露光
処理装置５０内の図示しない基板搬送装置に引き渡すと
ともに、基板搬出台６３（搬送ポジション）を介して露
光処理装置５０内の基板搬送装置から受け取った露光処
理後の基板Ｗを、基板搬送路６１に沿って搬送し、基板
処理装置３０内の基板搬送装置２０に引き渡すように動
作する。なお、基板搬送装置２０ｂ、２０の間の基板Ｗ
の受渡しは、図示しない基板受渡し台（搬送ポジショ
ン）を介して行う。

【００５３】なお、露光処理装置５０内には、縮小投影
露光機（ステッパ）などの露光機や露光処理装置５０内
で基板Ｗの搬送を行う基板搬送装置（いずれも図示せ
ず）などを備えている。

【００５４】さて、従来例においては、図１２に示すよ
うに、ファン１００を備えたファンユニット１０１やフ
ィルター１０２を備えたフィルターユニット１０３を装
置３０、４０、６０の天井に設け、各装置３０、４０、
６０の基板搬送空間全体の雰囲気制御を行っているの
で、図１２、図１３の斜線で示す領域が雰囲気制御の対
象になる。これに対して、本発明では、図１または図１
０に示すように、基板搬送装置２０の基板保持アーム１
に保持された基板Ｗの周囲の極めて小さい空間（図４な
どの基板保持空間１３）の雰囲気制御を行うだけでよい
ので、基板処理装置３０では、平面視で図１０の斜線で
示す領域が雰囲気制御の対象になる。このように、基板
処理装置３０において雰囲気制御する空間が大幅に減少
できたことにより、雰囲気制御に用いる気体の量が少な
くなり、ファン９やフィルター１１の小型化が図れ、コ
スト低減を図ることができる。また、雰囲気制御する空
間が小さくなったので、その空間内を揚圧することが可
能になり、基板保持空間１３内に外部雰囲気が流れ込む
のを容易に抑制することが可能になる。さらに、クリー
ンユニット８は、床面に設置するなど、作業者が作業し
易い高さに設置することで、クリーンユニット８内のフ
ァン９のメンテナンスやフィルター１１の交換（化学吸
着フィルターを含む場合）などが従来装置に比べて容易
に行えるようになった。また、ファン９は、小型化され
るとはいっても、フィルター１１などに比べるとその重
量は比較的重く、また、発熱源ともなるが、本発明によ
ればファン９を基板搬送装置２０本体と分離させて特定
場所に固定設置したので、基板保持アーム１やアーム支
持台２、吹き出し部６の移動動作の負担を軽減でき、基
板保持アーム１に保持された基板Ｗへのファン９からの
熱の影響を防止することができる。

【００５５】ところで、一般的には、この種の基板処理
装置３０などは、クリーンルーム内に設置される。クリ
ーンルーム内には、クリーンルームの天井からダウンフ
ローで空気が流下されている。従って、基板搬送路３１
の上方の装置３０の天井部分に開口やパンチング孔を設
けて、このクリーンルーム内のダウンフローの空気を基
板搬送路３１に取り込み、基板搬送路３１内にダウンフ
ローの空気（この空気は、除去成分が十分に除去されて
いない、特に、化学成分は全く除去されていない空気で
ある）の流れを形成すれば、パーティクルの舞い上がり
などに関してはある程度抑制することができる。尤も、
図７、図８などに示すように構成することで、さらに、
基板保持アーム１に保持された基板Ｗの近辺でのパーテ
ィクルの舞い上がりなどは好適に防止でき、有害成分が
基板保持アーム１より低い方向から流れ込むのを防止で
きる。

【００５６】なお、基板搬送装置２０ａや２０ｂにも、
本発明を適用してもよい。基板搬送装置２０ａや２０ｂ
に本発明を適用した場合の各装置４０、６０における雰
囲気制御の対象空間を図１０に点線の斜線で示す。この
ように構成すれば、基板搬入出装置４０、インターフェ
イス装置６０においても、上述した基板処理装置３０と
同様の効果を得ることができる。

【００５７】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１から７までに記載の発明によれば、雰囲気制御は、基
板搬送装置の保持手段に保持された基板の周囲の極めて
狭い空間に限られるので、ファンやフィルターは小型の
もので足り、コスト低減を図ることができる。また、フ
ァンの消費電力が少なくなり、ランニングコストの低減
を図ることができるし、ファンの発熱量も減少するの
で、基板への熱の影響を軽減できる。特に、化学成分を
除去する場合において、フィルターの定期交換は、小型
の化学吸着フィルターを交換すればよいので、化学吸着
フィルター交換のランニングコスト高を抑えることがで
きる。

【００５８】また、雰囲気制御する空間が小さいので、
その空間を揚圧することが容易に行え、外部雰囲気の流
入を好適に防止することが可能となった。

【００５９】さらに、従来装置では、ファンやフィルタ
ーが基板処理装置などの天井に設置されていたので、メ
ンテナンスが行い難かったが、請求項２に記載の発明に
よれば、気体圧送手段を作業者の手が届く位置に設置す
ることができ、気体圧送手段のメンテナンスが行い易く
なった。また、請求項３に記載の発明によれば、気体圧
送手段と除去手段を作業者の手が届く位置に設置するこ
とができ、それら手段のメンテナンスや除去手段の交換
作業なども行い易くなった。

【００６０】また、気体圧送手段は、本発明のようにす
れば小型化されるとはいっても、重量は比較的重く、発
熱源ともなるが、本発明では、気体圧送手段を保持手段
と分離させて特定場所に固定設置したので、保持手段の
移動動作の負担を軽減でき、保持手段に保持された基板
への気体圧送手段からの熱の影響を防止することができ
る。

【００６１】またさらに、請求項４に記載の発明によれ
ば、保持手段に保持される基板を囲むように空間遮断手
段が配設され、吹き出し部からの気体が空間遮断手段で
囲まれる基板保持空間に吹き出されるように構成したの
で、基板保持空間への外部雰囲気の流入をより好適に抑
止することができる。

【００６２】また、請求項５に記載の発明によれば、基
板出し入れ用の開口を開閉するシャッター機構を設けた
ので、開口からの外部雰囲気の流入をも好適に抑制する
ことができる。

【００６３】さらに、請求項６に記載の発明によれば、
基板出し入れ用の開口の上方から下方に清浄化された気
体を吹き下ろさせ、開口に気体のカーテンを形成したの
で、開口からの外部雰囲気の流入を常時抑制することが
でき、しかも、発塵原因となるシャッター機構などの機
械部品を用いないので、新たなパーティクルを発生させ
ることもない。

【００６４】また、請求項７に記載の発明によれば、吹
き出し部から保持手段に保持された基板に向けて吹き出
された気体の少なくとも一部を、保持手段より低い方向
に流下させるようにしたので、保持手段より低い方向か
らの有害成分や熱などの悪影響を防止することができ
る。さらに、これにより、従来装置のように、基板搬送
空間内全体のパーティクルや熱の流れを特に考慮しなく
てもよくなり、製作コストの低減やメンテナンス時の工
数減少などを図ることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る基板搬送装置の構成を
示す縦断面図である。

【図２】別の実施例装置の要部構成を示す縦断面図であ
る。

【図３】実施例装置の変形例の要部構成を示す縦断面図
である。

【図４】実施例装置の別の変形例の要部構成を示す縦断
面図である。

【図５】実施例装置のさらに別の変形例の要部構成を示
す縦断面図である。

【図６】実施例装置のさらに別の変形例の要部構成を示
す縦断面図である。

【図７】実施例装置のさらに別の変形例の要部構成を示
す縦断面図である。

【図８】実施例装置のさらに別の変形例の要部構成を示
す縦断面図である。

【図９】ダクトの各種の構成を示す断面図である。

【図１０】実施例装置を組み入れた基板処理装置などの
全体構成を示す平断面図である。

【図１１】基板処理装置内の基板搬送装置をＸ軸方向か
ら見た図である。

【図１２】従来例に係る基板処理装置などの構成を示す
縦断面図である。

【図１３】従来装置の雰囲気制御空間を平面視で示した
図である。

【符号の説明】

１：基板保持アーム ２：アーム支持台 ４：昇降駆動機構 ５：１軸方向駆動機構 ６：吹き出し部 ７、７’：ダクト ９：ファン １１：フィルター １３：基板保持空間 １５：基板出し入れ用の開口 １６：側壁 １７：シャッター機構 １８：ガイド部材 Ｗ：基板

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板処理部や基板受渡し部等の搬送ポジ
   ション間の基板の搬送を行う基板搬送装置において、 基板を保持する保持手段と、 気体を圧送する気体圧送手段と、 前記圧送される気体から所定の除去成分を除去する除去
   手段と、 前記気体圧送手段によって圧送され、前記除去手段によ
   って除去成分が除去された気体を前記保持手段に保持さ
   れた基板に向けて吹き出す吹き出し部と、 少なくとも前記保持手段と前記吹き出し部を複数の搬送
   ポジション間で移動させる移動手段と、 前記気体圧送手段と前記除去手段と前記吹き出し部を連
   結する連結手段と、 を備え、 少なくとも前記気体圧送手段を各搬送ポジションに対し
   て固定設置したことを特徴とする基板搬送装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板搬送装置におい
   て、 前記除去手段を前記移動手段によって前記保持手段及び
   前記吹き出し部とともに移動させるように構成し、 前記連結手段のうち、前記気体圧送手段と前記除去手段
   との間を連結する連結手段をチューブ状のダクトで構成
   したことを特徴とする基板搬送装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板搬送装置におい
   て、 前記除去手段を各搬送ポジションに対して固定設置し、 前記連結手段のうち、前記除去手段と前記吹き出し部と
   の間を連結する連結手段をチューブ状のダクトで構成し
   たことを特徴とする基板搬送装置。
4. 【請求項４】 請求項１から３までのいずれかに記載の
   基板搬送装置において、 前記保持手段に保持される基板を囲むように空間遮断手
   段が配設され、 前記吹き出し部からの気体が前記空間遮断手段で囲まれ
   る基板保持空間に吹き出されるように構成し、 前記空間遮断手段には、少なくとも前記基板保持空間と
   その外部空間との間で基板を出し入れできる開口が形成
   されていることを特徴とする基板搬送装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板搬送装置におい
   て、 前記基板出し入れ用の開口を開閉するシャッター機構を
   設けたことを特徴とする基板搬送装置。
6. 【請求項６】 請求項４に記載の基板搬送装置におい
   て、 前記基板出し入れ用の開口の上方から下方に清浄化され
   た気体を吹き下ろさせ、前記開口に気体のカーテンを形
   成したことを特徴とする基板搬送装置。
7. 【請求項７】 請求項１から６までのいずれかに記載の
   基板搬送装置において、 前記吹き出し部から前記保持手段に保持された基板に向
   けて吹き出された気体の少なくとも一部を、前記保持手
   段より低い方向に流下させるように構成したことを特徴
   とする基板搬送装置。