JPH0933206A - 測定装置用リアルタイム補正システムおよびその補正方法 - Google Patents

測定装置用リアルタイム補正システムおよびその補正方法

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JPH0933206A
JPH0933206A JP8185171A JP18517196A JPH0933206A JP H0933206 A JPH0933206 A JP H0933206A JP 8185171 A JP8185171 A JP 8185171A JP 18517196 A JP18517196 A JP 18517196A JP H0933206 A JPH0933206 A JP H0933206A
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pulse
counter
displacement amount
corrected
measuring device
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Application number
JP8185171A
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English (en)
Inventor
Seamus Mcfadden
マクファドン，シーマス
Raymond John Chaney
ジョン チャネイ，レイモンド
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Renishaw PLC
Original Assignee
Renishaw PLC
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    • G05—CONTROLLING; REGULATING
    • G05B—CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00—Program-control systems
    • G05B19/02—Program-control systems electric
    • G05B19/18—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form
    • G05B19/404—Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of program data in numerical form characterised by control arrangements for compensation, e.g. for backlash, overshoot, tool offset, tool wear, temperature, machine construction errors, load, inertia

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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Indication And Recording Devices For Special Purposes And Tariff Metering Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 測定装置の出力補正をリアルタイムで実行し
長期のＤＣドリフトを補正可能にする。 【解決手段】 光検出器１０はリトロレフレクタ１８を
搭載した測定対象の移動に応じてデジタル出力パルスを
生成する。第１カウンタ３０はその出力パルスから測定
対象の変位に相当の第１増分値を生成する。スケーラ４
０はマスタカウンタに送る２次的デジタルパルスを生成
する。第２カウンタ８０は２次的パルスから測定対象の
補正済み変位量に当る第２増分値を生成する。プロセッ
サ５０はセンサの信号値に基づいて補正係数を生成し、
その係数の瞬時値と第１カウンタの変位量から実際の変
位量を算出し、実際の変位量と第２カウンタの補正済変
位量とを比較して２次的パルスがマスタカウンタに送ら
れる際の瞬時周波数を算出された実際の変位と第２カウ
ンタの補正済変位量との差に応じて制御することで、第
２カウンタの補正済変位量を前記実際の変位量に等しく
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザー測定装置に
関し、特にこのような装置の出力にリアルタイムで補正
を与える測定装置用リアルタイム補正システムおよびそ
の補正方法に関する。
【０００２】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たるイギリス国特許出願第ＧＢ９５１４３２１．
０号（１９９５年７月１３日出願）の明細書の記載に基
づくものであって、当該イギリス国特許出願の番号を参
照することによって当該イギリス国特許出願の明細書の
記載内容が本明細書の一部分を構成するものとする。
【０００３】
【従来の技術】レーザー測定装置自体は周知であり、一
般に干渉計を含んでいる。この干渉計は固定されたリト
ロレフレクタ(retroreflector 再帰反射鏡) から反射さ
れた参照ビームと、可動リトロレフレクタから反射され
た測定ビームとを合体して光検出器に対して表出される
干渉を起こさせるものである。可動リトロレフレクタと
接続した測定対象物（物体）の変位は光検出器の出力か
ら一つづつ増えるインクリメンタル・カウントを生成す
ることにより測定することができる。実際には、複数の
光検出器を適切な信号処理電子回路に接続して、可動リ
トロレフレクタと接続した測定対象物の移動の大きさと
方向の両方の情報を生成するための一対のデジタル方形
パルスを生成する。また、一つあるいは複数の環境セン
サ、例えば周囲の空気温度、空気圧、湿度等の値を表す
信号を生成するセンサを備えることも知られている。こ
れらのセンサ信号を使ってレーザーによる測定値を補正
することができる。
【０００４】欧州特許EP 334541 号公報には、可動体が
サーボで位置決めされるときに位置決めエラーが発生す
る数値制御（ＣＮＣ）工作機械用のエラー補正システム
が開示されている。米国特許US 5,375,066号公報には工
作機械における固定の幾何学的エラーまたは熱によって
生じたエラーをリアルタイムで補正するエラー補正方法
を開示している。この主題はまた米国商務省のNational
Institute of Standards andTechnology NISTIR 4854,
4447 および4832の刊行物でも焦点が当てられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような補正はリアルタイムで行うことが望ましいが、こ
の要求を十分に満足する補正システムはまだ提案されて
いなかった。特に、長期の“ＤＣ”ドリフトを補正する
ことができるような補正システムも提案されていなかっ
た。
【０００６】本発明は、上述の点に鑑みてなされたもの
で、その目的はレーザ測定装置のような測定装置の出力
の補正をリアルタイムで実行可能であり、かつ長期の
“ＤＣ”ドリフトを補正することが可能な測定装置用リ
アルタイム補正システムおよびその補正方法を提供する
ことにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の補正システムは、変位を測定しようとする
測定対象物の移動に応じて一連のデジタル出力パルスを
生成し、上記測定対象物の補正済み変位量を含む補正済
パルスを生成してマスタ・カウンタに送る測定装置用リ
アルタイム補正システムにおいて、上記出力パルスを受
けて、基準点に対する上記測定対象物の補正前の変位量
に対応する第１増分値を上記出力パルスから生成する第
１カウンタと、少なくとも一つのセンサからセンサ信号
を受け、この少なくとも一つのセンサ信号の値に基づい
て補正係数を生成するプロセッサと、上記マスタ・カウ
ンタに送る２次的デジタルパルスを生成する２次的パル
ス発生器と、上記２次的パルスを受けて、上記基準点に
対する上記測定対象物の上記補正済み変位量に対応する
第２増分値を上記２次的パルスから生成する第２カウン
タとを具備し上記プロセッサは、（ａ）上記第１カウン
タの上記補正前の変位量から上記測定対象物の実際の変
位量と、上記少なくとも一つの補正係数の瞬時値とを算
出し、（ｂ）上記算出された実際の変位量と上記第２カ
ウンタの補正済変位量とを比較して、上記２次的パルス
が上記マスタ・カウンタと第２カウンタに送られる際の
瞬時周波数を、上記算出された実際の変位と上記第２カ
ウンタの上記補正済変位量とに差があれば、この差に応
じて制御することにより、第２カウンタの補正済変位量
を上記実際の変位量に等しくする。
【０００８】本発明の補正システムは、好ましい一形態
として、上記２次的パルス発生器は一定周波数の２次的
パルス列を生成する信号発生器と、プロセッサからの信
号に基づいて制御されて第２カウンタとマスタ・カウン
タに送られる２次的パルスの瞬時周波数を制御するゲー
トとを有する。
【０００９】本発明の補正システムは、さらに別の好ま
しい形態として、上記２次的パルスは補正係数で出力パ
ルスをスケーリングまたは乗算するスケーラまたは乗算
器回路により得られ、２次的パルスの瞬時周波数は効果
的に２次的パルスの発生を抑制したり追加の２次的パル
スを注入するプロセッサによって制御される。
【００１０】本発明の補正方法は、測定対象物の変位を
測定しこの測定対象物の移動に応じたデジタル出力パル
スを発生する測定装置のこの出力パルスからマスタ・カ
ウンタ用の補正済パルスを生成することで上記測定装置
の出力を補正する補正方法であって、上記測定装置の上
記出力パルスから第１のインクリメンタル・カウントを
生成するステップと、少なくとも一つのセンサからの情
報に基づいて補正係数を生成するステップと、一連の２
次的パルスを生成し、この２次的パルスを上記マスタ・
カウンタに送るステップと、上記伝送された２次的パル
スから第２のインクリメンタル・カウントを生成するス
テップと、上記第１のインクリメンタル・カウントと上
記補正係数とから上記測定対象物の実際の変位量を計算
するステップと、上記実際の変位量と上記第２のインク
リメンタル・カウントを比較するステップと、上記比較
に基づいて、上記２次的パルスが上記第２カウンタと上
記マスタ・カウンタに送られる際の瞬時周波数を制御す
ることで上記第２のインクリメンタル・カウントを上記
実際の変位量に等しくさせ、それによって上記送られた
２次的パルスが補正済みのパルスとなるステップとを有
する。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施の形態を詳細に説明する。
【００１２】（第１の実施形態）図１は本発明の第１の
実施形態による測定装置用リアルタイム補正システムの
構成を示す示し、図２は図１に示した補正システムのコ
ンポーネントの構成を示す。
【００１３】図１に示すように、レーザー１０から放出
されたレーザー光のビーム１２は次にビーム・スプリッ
タ１４に入射する。このビーム１２の一部はその進路を
変えずにビーム・スプリッタ１４を通過して測定リトロ
レフレクタ１８に入射する。この測定リトロレフレクタ
１８はレーザーに対する変位を測定しようとする測定対
象物に接続（例えば、搭載）されている。参照ビーム２
０はビーム・スプリッタ１４によって反射され、ビーム
・スプリッタ１４に対してその位置が固定された参照リ
トロレフレクタ２２に入射する。測定リトロレフレクタ
１８から反射した測定ビーム１６および参照リトロレフ
レクタ２２から反射した参照ビーム２０はビーム・スプ
リッタ１４で再結合されてレーザー１０のハウジング内
に設けられた複数の光検出器に入射する。当業者には周
知の信号調整回路（図示せず）と協働してこれら光検出
器は一連のデジタル方形出力パルスを生成する。従来の
典型例では、この出力方形パルスは、例えば工作機械の
数値制御装置（ＣＮＣ）内のマスタ・カウンタに送ら
れ、このマスタ・カウンタは測定リトロレフレクタ１８
を搭載している測定対象物の変位を表すインクリメンタ
ル・カウント(incremental count) を発生する。本発明
による補正システムでは、原出力方形パルスと一つある
いは複数の補正係数とに基づいて補正済みの方形パルス
(quadrature pulses) を生成し、この補正済みの方形パ
ルスをマスタ・カウンタへ転送するように構成してい
る。
【００１４】上記光検出器からの出力方形パルスは第１
カウンタ（ＣＮＴ１）３０に送られる。第１カウンタ３
０はその出力方形パルスから瞬時値を生成する。さら
に、出力方形パルスはスケーラあるいは乗算器４０に送
られる。スケーラ／乗算器４０は、出力デジタル方形パ
ルスおよびマイクロプロセッサ５０から出力される修正
またはスケール係数Ｋから第２の方形出力、本実施形態
においては、変更した方形出力を生成する。補正係数Ｋ
の大きさは以下の一つまたは複数のタイプの環境センサ
からの入力に基づいてマイクロプロセッサにより決定さ
れる。それら環境センサとしては温度センサ６０（例え
ば空気温度検出用または製品温度検出用）、圧力センサ
６２、湿度センサ６４および二酸化炭素センサ６６があ
る。その他のセンサも必要に応じて設けることができ
る。補正係数Ｋはまた、例えば校正対象の工作機械の幾
何学的エラー・データに基づき、直線性あるい偏位の程
度に関係づけて、決定することもできる。
【００１５】スケーラ／乗算器４０から出力された２次
的パルス（secondary pulses) はマスタ・カウンタに送
られる。この出力はまた第２カウンタ（ＣＮＴ２）８０
にも送られ、第２カウンタ８０は基準点からの測定リト
ロレフレクタ１８の変位に対応する瞬時値を、センサ６
０ー６６の値に応じて補正して生成する。
【００１６】スケーラ／乗算器４０は有限サイズ（普通
３２ビット）のものなので、スケール係数による入力方
形パルスの補正はスケーラ／乗算器４０の最下位ビット
の精度しかない。その個々の大きさがスケーラ／乗算器
４０の最下位ビットよりも小さい乗算のエラーも時間を
かけて蓄積されると、第２カウンタ８０の値は基準点に
対する測定リトロレフレクタ１８の実際の変位の値を正
確に表さなくなる。これを補正するために、マイクロプ
ロセッサ５０は第１カウンタ３０と第２カウンタ８０の
両方から入力を取り込み、第２カウンタ８０の値を、第
１カウンタ３０の値とスケール係数との積（これが実際
の変位量である）と比較する。第２カウンタ８０の値が
スケール係数Ｋと第１カウンタ３０の値との積に等しく
ない場合には、マイクロプロセッサ５０は第２カウンタ
８０の値を補正するために、適宜、修正パルスをスケー
ラ／乗算器４０の出力に注入させるか、あるいはスケー
ラ／乗算器４０の出力からパルスを除外させる。このマ
イクロプロセッサによるスケーラ／乗算器４０出力の修
正は、瞬時出力周波数の制御であり、すなわち隣接する
２次的パルスの前縁（リーディング・エッジ）間の時間
間隔を半分にすることでパルスを注入し、またその時間
間隔を２倍にすることでパルスを除外するものである。
【００１７】方形出力パルスの周波数は可動リトロレフ
レクタ１８の移動速度に直接に関係している。スケーラ
／乗算器４０から出力される２次的パルスの最大許容周
波数はこの２次的パルスを受信する装置（例えば工作機
械の数値制御装置内のマスタ・カウンタ）によって決ま
る。したがって、測定リトロレフレクタ１８がスケーラ
の２次的パルスの最大許容周波数に相当する速度で移動
しているときには、同時にマイクロプロセッサが第２カ
ウンタ８０の値を訂正するために追加の２次的パルスが
必要と判断したとしても、この追加の２次的パルスは測
定リトロレフレクタ１８が最大許容周波数の半分に相当
する速度まで減速するまで注入することができない。そ
の速度に減速したときに、その追加の２次的パルスが注
入され、瞬時に周波数を最大許容周波数まで再び上昇さ
せる。
【００１８】スケーラ／乗算器４０は適切にプログラム
されたＥＰＬＤ（EPROM ロジックディバイス：書き込み
・消去可能なロジックディバイス）として実現すること
ができる。そのスケーラ／乗算器４０の構成について図
２を参照して説明する。スケーラ４０は３つの入力信号
を取り込む加算／減算回路（加減算回路）１００を有す
る。この３つの入力信号の内の２つの信号ＣＰ、ＤＩＲ
は復号化した方形出力信号からなる。信号ＣＰはカウン
ト・パルス列であり、このカウント・パルス列から可動
リトロレフレクタの変位に対応する瞬時値が生成され
る。また、信号ＤＩＲは瞬時値の合計値を（可動リトロ
レフレクタ１８のある一方向の移動に対応して）インク
リメント（１ずつ増加）する際にハイ（高レベル）にな
り、瞬時値の合計値を（可動リトロレフレクタ１８の他
の方向の移動に対応して）デクリメント（１ずつ減少）
する際にロー（低レベル）になる信号である。さらに、
加算／減算回路１００は入力端子Ａでマイクロプロセッ
サ５０からのｍビットの補正係数信号Ｋを受け取る。加
算／減算回路１００はまた、レジスタ１１０からの出力
を入力端子Ｂで受ける。加算／減算回路１００は、イネ
ーブル信号ＥＮ（この事例ではカウント・パルスＣＰの
形態となっている）を受けたときに、入力端子Ａと入力
端子Ｂとに現に存在する瞬時値を加算（信号ＤＩＲが高
レベルのとき）、あるいは減算（信号ＤＩＲが低レベル
のとき）する。この加算または減算の結果は出力端子Ｓ
から送出され、レジスタ１１０がその入力端子１１２に
クロック・パルスを受けたときにその加算または減算の
結果を取り込む。レジスタ１１０の新しい出力は加算／
減算回路１００の入力端子Ｂに現われる。この回路１０
０は出力端子Ｓの値が２m に等しい場合に、実行信号
（carry out signal）Ｃｏを生成する。この実行信号Ｃ
ｏは排他的論理和ゲート１１４でＤＩＲ信号と組み合わ
され、そのゲート１１４の出力はスケーラ４０の出力と
なる。したがって、入力パルスＣＰに対する実行パルス
Ｃｏの比はスケーリング比に対応し、この比は補正係数
Ｋの値によって決定される。すなわちＫ＝２m ならばそ
の比は１：１であり、ｋ＝１ならばその比は１：２m と
なる。
【００１９】（第２の実施形態）次に、上記実施形態の
代替えとなる本発明の別の実施形態を図３を参照して説
明する。図３においては分かりやすく、かつ簡潔にする
ために、レーザー測定装置と環境センサの図示を省略し
てある。第１カウンタ１３０は直接にレーザー測定装置
からデジタル方形出力パルスを受け取って、このデジタ
ル方形出力パルスから瞬時値を生成する。第１カウンタ
１３０はまたマイクロプロセッサ１５０に接続されてい
る。信号発生器２００はその出力パルスを受け取る装置
（例えば数値制御装置のマスタ・カウンタ（図示しな
い））の最大許容周波数と等しい周波数で連続した２次
的デジタル方形パルス列を生成する。信号発生器２００
の出力はゲート２１０を介してマスタ・カウンタのみな
らず第２カウンタ１８０にも接続される。ゲート２１０
は、マイクロプロセッサ１５０から信号を受けたとき
に、信号発生器２００からの２次的方形パルスを第２カ
ウンタとマスタ・カウンタとへ通過させるように動作可
能となっている。したがって、ゲート２１０とマイクロ
プロセッサ１５０は、上記２次的パルスが第２カウンタ
とマスタ・カウンタに送られる際の瞬時周波数を効果的
に制御することになる。第２カウンタ１８０の値が、第
１カウンタ１３０の値とマイクロプロセッサ１５０によ
って決まるスケール係数Ｋの瞬時値との積に等しくなる
ように、マイクロプロセッサ１５０はゲート２１０を動
作させて２次的パルスの通過を許可させる。これは次の
２つの方法のいずれか１つによって行うことができる。
【００２０】最初の方法は、マイクロプロセッサ１５０
がその内部クロック（信号発生器２００の出力周波数が
マイクロプロセッサのクロック周波数の有理数となるよ
うに信号発生器２００の周波数出力に同期させたクロッ
ク）を繰り返し用いて、一定の時間間隔で第１カウンタ
１３０の値の変化を調べる。第１カウンタ１３０の値に
変化があると、マイクロプロセッサ１５０はゲート２１
０を作動させて、信号発生器２００からの、カウンタ１
３０値の変化をスケール係数Ｋで修正した値に相当する
数のパルスを通過させる。そして第１実施形態と同様
に、既に説明した方法で第２カウンタ１８０を参照する
ことにより調整をすることができる。
【００２１】第２の方法は、マイクロプロセッサ１５０
の各処理サイクルにおいて、第２カウンタ１８０の値が
第１カウンタ１３０値とスケール係数Ｋとの積に等しく
なるまでゲート２１０を動作させるように、マイクロプ
ロセッサ１５０をプログラムする。
【００２２】なお、普通、２次的パルス（方形パルスの
形態を有する）が送られるマスタ・カウンタには補間器
が組み込まれている。この補間器は、２次的方形パルス
が状態変化するたびにカウンタの値をインクリメントま
たはデクリメントする。したがって極めて厳密に言えば
マスタ・カウンタはパルスに応答して動作するというよ
りも、一連のパルス・エッジに応答して動作するもので
あると言うことができる。本明細書において用いたパル
スという用語は、パルスおよびもっと普通に知られてい
るエッジという両方の意味を包含する広い意味に適用さ
れることを意図している。
【００２３】
【発明の効果】以上説明してきた本発明の補正システム
の利点の一つは、長期の“ＤＣ”ドリフトを補正するこ
とができる点である。このことは測定装置が例えば長期
にわたって、または長距離にわたって使用されたり、あ
るいは大きな不感通路(deadpath)を有する干渉計を用い
る場合に、特に有用となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態における補正システムの
構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示した補正システムのスケーラ／乗算器
の構成例を示すブロック図である。
【図３】本発明の第２実施形態における補正システムの
構成を示すブロック図である。
【符号の説明】
１０ レーザー／光検出器 １２ ビーム １４ ビーム・スプリッタ １６ 測定ビーム １８ 測定リトロレフレクタ（可動リトロレフレクタ） ２０ 参照ビーム ２２ 参照リトロレフレクタ（固定リトロレフレクタ） ３０ 第１カウンタ ４０ スケーラ／乗算器 ５０ マイクロプロセッサ ６０−６６ 環境センサ ８０ 第２カウンタ １００ 加算／減算回路（加減算回路） １１０ レジスタ １１４ 排他的論理和回路 １３０ 第１カウンタ １５０ マイクロプロセッサ １８０ 第２カウンタ ２００ 信号発生器 ２１０ ゲート
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チャネイ，レイモンド ジョン イギリス ジーエル13 ９エスエフ グロ スターシャ州 バークレイ ニュー ブル ックエンド ラバーナム コティッジ（番 地なし)

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 変位を測定しようとする測定対象物の移
    動に応じて一連のデジタル出力パルスを生成し、前記測
    定対象物の補正済み変位量を含む補正済パルスを生成し
    てマスタ・カウンタに送る測定装置用リアルタイム補正
    システムにおいて、 前記出力パルスを受けて、基準点に対する前記測定対象
    物の補正前の変位量に対応する第１増分値を前記出力パ
    ルスから生成する第１カウンタと、 少なくとも一つのセンサからセンサ信号を受け、該少な
    くとも一つのセンサ信号の値に基づいて補正係数を生成
    するプロセッサと、 前記マスタ・カウンタに送る２次的デジタルパルスを生
    成する２次的パルス発生器と、 前記２次的パルスを受けて、前記基準点に対する前記測
    定対象物の前記補正済み変位量に対応する第２増分値を
    前記２次的パルスから生成する第２カウンタとを具備し
    前記プロセッサは、 （ａ）前記第１カウンタの前記補正前の変位量から前記
    測定対象物の実際の変位量と、前記少なくとも一つの補
    正係数の瞬時値とを算出し、 （ｂ）前記算出された実際の変位量と前記第２カウンタ
    の補正済変位量とを比較して、前記２次的パルスが前記
    マスタ・カウンタと第２カウンタに送られる際の瞬時周
    波数を、前記算出された実際の変位と前記第２カウンタ
    の前記補正済変位量とに差があれば、該差に応じて制御
    することにより、第２カウンタの補正済変位量を前記実
    際の変位量に等しくするように適合されていることを特
    徴とする測定装置用リアルタイム補正システム。
  2. 【請求項２】 前記少なくとも一つのセンサは環境セン
    サであることを特徴とする請求項１に記載の測定装置用
    リアルタイム補正システム。
  3. 【請求項３】 前記少なくとも一つのセンサは圧力セン
    サ、湿度センサ、温度センサおよび二酸化炭素センサの
    いずれか一つであることを特徴とする請求項１または２
    に記載の測定装置用リアルタイム補正システム。
  4. 【請求項４】 前記２次的パルス発生器はスケーラおよ
    び乗算器の一つによって構成されることを特徴とする請
    求項１、２および３のいずれかに記載の測定装置用リア
    ルタイム補正システム。
  5. 【請求項５】 前記２次的デジタルパルスの瞬時周波数
    の制御は、適宜前記スケーラ／乗算器から追加の２次的
    パルスを注入したり、その出力パルスを抑制することに
    より行われることを特徴とする請求項１、２、３および
    ４のいずれかに記載の測定装置用リアルタイム補正シス
    テム。
  6. 【請求項６】 前記２次的パルス発生器はデジタル・パ
    ルス列を発生する信号発生器によって構成されることを
    特徴とする請求項１に記載の測定装置用リアルタイム補
    正システム。
  7. 【請求項７】 前記２次的パルスの前記瞬時周波数の制
    御は、ゲートと該ゲートを制御する前記プロセッサとに
    よって実行され、該ゲートは該プロセッサの制御により
    前記パルス列から２次的パルスを前記第２カウンタと前
    記マスタ・カウンタへ通過させる許可を選択的に行うこ
    とを特徴とする請求項６に記載の測定装置用リアルタイ
    ム補正システム。
  8. 【請求項８】 測定対象物の変位を測定し該測定対象物
    の移動に応じたデジタル出力パルスを発生する測定装置
    の該出力パルスからマスタ・カウンタ用の補正済パルス
    を生成することで前記測定装置の出力を補正する補正方
    法であって、 前記測定装置の前記出力パルスから第１のインクリメン
    タル・カウントを生成するステップと、 少なくとも一つのセンサからの情報に基づいて補正係数
    を生成するステップと、 一連の２次的パルスを生成し、該２次的パルスを前記マ
    スタ・カウンタに送るステップと、 前記伝送された２次的パルスから第２のインクリメンタ
    ル・カウントを生成するステップと、 前記第１のインクリメンタル・カウントと前記補正係数
    とから前記測定対象物の実際の変位量を計算するステッ
    プと、 前記実際の変位量と前記第２のインクリメンタル・カウ
    ントを比較するステップと、 前記比較に基づいて、前記２次的パルスが前記第２カウ
    ンタと前記マスタ・カウンタに送られる際の瞬時周波数
    を制御することで前記第２のインクリメンタル・カウン
    トを前記実際の変位量に等しくさせ、それによって前記
    送られた２次的パルスが補正済みのパルスとなるステッ
    プとを有することを特徴とする補正方法。
  9. 【請求項９】 前記２次的パルスは信号発生器から生成
    され、前記補正済パルスは該信号発生器からの２次的パ
    ルスを選択的に通過させることによって生成されること
    を特徴とする請求項８に記載の補正方法。
  10. 【請求項１０】 前記２次的パルスは前記補正係数によ
    って前記出力パルスをスケーリングして生成されること
    を特徴とする請求項８に記載の補正方法。
  11. 【請求項１１】 前記補正済パルスは適宜、追加の前記
    スケーラから前記２次的パルスを注入したり、前記スケ
    ーラからの２次的パルスの放出を抑制することによって
    生成することを特徴とする請求項１０に記載の補正方
    法。
JP8185171A 1995-07-13 1996-07-15 測定装置用リアルタイム補正システムおよびその補正方法 Pending JPH0933206A (ja)

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