JPH0933850A - 光走査装置 - Google Patents
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- JPH0933850A JPH0933850A JP8024525A JP2452596A JPH0933850A JP H0933850 A JPH0933850 A JP H0933850A JP 8024525 A JP8024525 A JP 8024525A JP 2452596 A JP2452596 A JP 2452596A JP H0933850 A JPH0933850 A JP H0933850A
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- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
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-
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Abstract
装置において、収差特性が良好に補正された上に、ビー
ムスポット径が一定な光走査装置を提供すること。 【解決手段】 複数の発光部を有する半導体レーザアレ
イ1より射出した複数のビームが、回転多面鏡5の反射
面で反射、偏向され、結像レンズ6を通過し、被走査面
7上に複数のビームスポットを形成する。結像レンズ6
の入射面と射出面において、副走査方向の曲率と主走査
方向の曲率が独立であり、副走査方向の曲率が、結像レ
ンズ6の有効部で主走査方向に沿って連続的に変化して
いる。
Description
ンタ等に用いられる光走査装置に関するものである。
れる収差特性は以下の2点である。一つは、等速走査性
を得るために、特定の負の歪曲収差を持たせることであ
り、もう一つは、ビームスポット径を回折限界に近くす
るために、像面湾曲を小さくして像面の平坦性を得るこ
とである。
ンズの構成枚数は、1枚から複数枚まで様々である。収
差特性を重要視する場合には構成枚数を多くし、コスト
を重要視する場合には単レンズが用いられている。特に
最近では、収差特性をさらに向上させるために、特開平
4−50908号公報に代表されるように、結像レンズ
に非球面を用いることが行われている。特開平4−50
908号公報の結像レンズは、入射面と射出面におい
て、副走査方向の曲率が、結像レンズの有効部で主走査
方向に沿って連続的に変化している。ただし、入射面は
光軸まわりに回転対称な面なので、主走査方向の曲率と
副走査方向の曲率は、互いに依存している。
51−100742号公報に開示されているように、独
立に変調可能な複数の発光部を有する半導体レーザアレ
イを光源として用い、1回の走査で複数の走査線を同時
に走査することも行われている。
た光走査装置では、複数のビームにより形成される複数
の走査線の間隔が不均一であるという問題があった。
158251号公報のように、半導体レーザアレイの複
数の発光部を斜めに配列させれば、走査線の間隔の変動
を小さくすることができる。
ように、シリンドリカルレンズを被走査面からほぼその
焦点距離だけ離れた位置に配置すれば、走査線の間隔は
一定となる。
のように、光源と回転多面鏡の間に超音波光偏向器を設
ければ、ブラグ回折角を調整することにより走査線の湾
曲を補正し、走査線の間隔を一定にすることができる。
うに、発光部から被走査面までの間の光学系の横倍率の
絶対値を2以下とすることにより、一度に走査する走査
線の間隔を小さくし、走査線の間隔の変動を抑えること
ができる。
4−50908号公報の結像レンズは、副走査方向の光
学倍率が有効走査領域で変化しているために、被走査面
に結像するビームスポットの副走査方向の径が有効走査
領域で不均一になるという問題点を有していた。そのよ
うな光走査装置をレーザビームプリンタに用いれば、印
字濃度にむらを生じ、良好な印字品質が得られない。
い、1回の走査で複数の走査線を走査する光走査装置に
ついては、特開昭54−158251号公報では、走査
線の間隔の変動を完全に補正することはできないという
問題点を有する。しかも、ビーム数を多くすると、走査
線の間隔の変動量が大きくなるため、ビーム数をあまり
多くすることができず、複数のビームで高速走査すると
いう利点を十分に発揮することができない。
数の半導体レーザと、ビーム数に相当するだけの鏡やシ
リンドリカルレンズが必要であるため、非常に高価にな
り、光学系が複雑になり大型化するため実用的ではない
という問題点を有する。
偏向器は、高価、複雑かつ大型であり、駆動回路も複雑
であるという問題点を有する。
倍率が2倍以下と極めて低いため、半導体レーザの光出
力の大部分は、「けられ」により失われ、被走査面まで
到達するのはごく一部となり、光出力に関する光学系の
効率が非常に低い。そのため、半導体レーザの光出力で
は不十分となり、実用的ではないという問題点を有す
る。また、横倍率の縮小に比例して、走査線の間隔の変
動を少なくするだけであり、走査線の間隔の変動を完全
に補正することはできず、根本的に解決するものではな
い。
するもので、像面湾曲特性と等速走査性の収差特性が良
好に補正された上に、結像レンズの副走査方向の光学倍
率が、有効走査領域において一定で、しかもビームスポ
ット径が一定な光走査装置を提供することを目的とす
る。また、複数の発光部を有する光源を用いた場合に、
走査線の間隔が一定で、光出力の利用効率が高い実用的
な光走査装置を提供することを目的とする。
光ビームを発生する光源と、前記光ビームを偏向する偏
向器と、偏向器により偏向された光ビームを結像し、被
走査面上にビームスポットを形成させるための結像レン
ズを有する光走査装置において、結像レンズのレンズ面
のうち、少なくとも2つの面において、副走査方向の曲
率が、結像レンズの有効部で主走査方向に沿って連続的
に、かつ主走査方向の曲率とは独立に変化していること
を特徴とする。
成に加え、以下のいずれかの構成をとることを特徴とす
る。
が、有効走査領域において一定である。 2)結像レンズは、単レンズである。 3)結像レンズは、以下のa)、b)のうちのいずれか
を満足する。 a)結像レンズの入射面の副走査方向断面は、走査中心
で凹、走査端で凸である b)結像レンズの射出面の副走査方向断面は、走査中心
で凸、走査端で凹である 4)結像レンズは、上記a)、b)の両方を満足する。 5)結像レンズは主走査方向で非球面となるレンズ面を
有する。さらに、結像レンズは主走査方向で変曲点のあ
るレンズ面を有する。 6)光源は複数の発光部を有する。 7)結像レンズのうち、副走査方向の曲率が、結像レン
ズの有効部で主走査方向に沿って連続的に変化している
面を有するレンズは、樹脂で形成されている。
に説明する。
装置を示したものである。まず、偏向器の回転軸に平行
な方向を副走査方向と定義し、副走査方向と光軸に垂直
な方向を主走査方向と定義する。
ーザアレイ1より射出した複数のビームは、コリメータ
レンズ2によってわずかに集束するビームに変換され、
アパーチャ3により絞り込まれ、シリンドリカルレンズ
4により、副走査方向にのみ集束作用を受ける。さら
に、ビームは、副走査方向で、偏向器としての回転多面
鏡5の反射面の近傍に結像し、反射面で反射される。ビ
ームは回転多面鏡5の回転に伴って偏向される。偏向さ
れたビームは結像レンズ6で集束作用を受け、被走査面
7上に複数のビームスポットを形成する。
す。図2に示されるように、結像レンズ6の主走査方向
断面形状は、入射面Sa、射出面Sbともに非球面形状を
しており、球面レンズと比べて収差補正は良好で、1枚
の結像レンズ6で像面湾曲特性と等速走査性の収差特性
が良好に補正されている。特に入射面Sa、射出面Sbと
もに、主走査方向断面形状には変曲点があり、入射面S
aは回転多面鏡に向かって走査中心で凸、走査端で凹と
なっており、射出面Sbは被走査面7に向かって走査中
心で凹、走査端で凸となっている。このような形状にす
ると、主走査方向の収差は極めて良好に補正される。
には、結像レンズの入射面と射出面のうち、いずれか1
面のみが副走査方向に屈折力を持っていればよい。すな
わち、副走査方向断面が平凸であればよい。副走査方向
に屈折力を持つ方のレンズ面の副走査方向の曲率を、結
像レンズ有効部で主走査方向に沿って連続的に変化さ
せ、、有効走査領域全域で常に副走査方向の結像点が被
走査面上に位置するようにすれば、副走査方向の像面湾
曲収差を完全に補正することができる。しかしながら、
副走査方向の収差補正の自由度が1つしかなく、結像レ
ンズの副走査方向の光学倍率を有効走査領域で一定にす
ることはできない。
と射出面の両面において、副走査方向の曲率が、結像レ
ンズの有効部で主走査方向に沿って連続的に、かつ主走
査方向とは独立に変化するようにしている。そのため、
副走査方向の収差補正の自由度がさらに1つ大きくな
り、副走査方向の光学倍率を一定にすることができる。
な結像レンズ206の副走査方向で、屈折力を変えずに
両面の曲率を任意に設定できれば、図3(a)〜(e)
のようにベンディングにより主点Hの位置も任意に設定
することができる。そこで、副走査方向の光学倍率が有
効走査領域で一定となるように、両面の副走査方向の曲
率を設定すればよい。本形態では、結像レンズの副走査
方向断面は、走査中心で入射面が凹、射出面が凸となっ
ており、図4に示すように副走査方向の主点H1は結像
レンズ6よりも被走査面7側に位置する。逆に走査端で
は、入射面、射出面がそれぞれ凸、凹となっているた
め、主点H2は結像レンズよりも回転多面鏡側に位置す
る。そのため、走査中心と走査端でのそれぞれの副走査
方向の光学倍率b1/a1とb2/a2は一致する。本発明
では、この原理に基づき、走査中心と走査端に限らず、
有効走査領域全域で副走査方向の光学倍率が一定となる
ような、結像レンズの曲率を導き出している。
る面であっても、光軸まわりに回転対称な非球面であれ
ば、主走査方向の曲率と副走査方向の曲率が互いに依存
するため、主走査方向と副走査方向の収差を同時に補正
するだけの自由度がなく、副走査方向の光学倍率を一定
にすることはできない。従って、副走査方向の光学倍率
を一定にするためには、副走査方向の曲率が、結像レン
ズの有効部で主走査方向に沿って連続的に、かつ主走査
方向の曲率とは独立に変化していることが必要である。
ただし、光軸上での主走査方向の曲率と副走査方向の曲
率は、同じであっても構わない。
結像レンズの副走査方向の光学倍率が有効走査領域の全
域で一定なので、被走査面上に形成されるビームスポッ
トの副走査方向の径も一定になり、解像度むらがなく光
学特性の良好な高解像度化に適した光走査装置が得られ
る。なお、本形態では、光源は複数の発光部を有する半
導体レーザアレイであるが、単一の発光部を有する半導
体レーザを光源に用いても、やはりビームスポットの副
走査方向の径が一定になるという効果が得られる。
ため、複数の走査線の間隔は一定となる。従って、複数
のビームを用いて走査することにより、印字速度の高速
化、高解像度化が可能で、しかも走査線の間隔が一定
な、良好な光学特性を有する光走査装置が得られる。
るが、結像レンズを複数枚のレンズで構成した場合も、
結像レンズのレンズ面のうち、少なくとも2つの面にお
いて、副走査方向の曲率を、前記結像レンズの有効部で
主走査方向に沿って連続的に変化させれば、やはり副走
査方向の光学倍率を一定にすることができる。
薄く、光軸から離れても厚さはあまり変化しない。この
ような、薄いレンズは、レンズを形成している材料の量
を少なくすることができるだけでなく、成形により製造
する際には、成形時間を短くすることができ、内部歪み
のないレンズが得られるという利点を有する。さらに、
厚さの変化が小さいレンズは、射出成形で製造する際
に、材料の流動状態が均一になり、やはり内部歪みのな
いレンズが得られる。
結像レンズ6の主走査方向の集束作用は小さいので、被
走査面7にビームスポットを結像させるために、主走査
方向において集束しているビームを結像レンズ6に入射
させている。
走査方向の面構成について説明する。図5は、結像レン
ズ6の副走査方向の断面形状と副走査方向の光学倍率の
関係を示す図である。横軸は被走査面7における走査位
置であり、縦軸は、各走査位置における、結像レンズ6
の副走査方向の光学倍率である。同図は、副走査方向の
像面湾曲を完全に補正した状態での、結像レンズ6の副
走査方向の断面形状と、それに対応する副走査方向の光
学倍率を表すものである。実線で示す曲線は、入射面が
副走査方向に屈折力を持たない場合、すなわち副走査方
向の断面形状が、入射面側が直線の平凸形状である。破
線で示す曲線は、射出面が副走査方向に屈折力を持たな
い場合、すなわち副走査方向の断面形状が、射出面側が
直線の平凸形状である。
が、入射面で走査中心から走査端へ向かって凹から凸へ
と変化し、射出面では凸から凹へと変化する領域であ
る。領域Bは、結像レンズの副走査方向断面が、入射面
で走査中心から走査端へ向かって凹から凸へと変化する
が、射出面では常に凸となっている領域である。領域C
は、結像レンズの副走査方向断面が、入射面で常に凸と
なっており、射出面では走査中心から走査端へ向かって
凸から凹へと変化する領域である。後述する実施例1、
実施例2、実施例3はそれぞれ領域A、領域B、領域C
に属する。
出面の走査中心での副走査方向の曲率が大きくなり、球
面収差が大きくなる。また、領域Cよりも上側では、入
射面の走査端での副走査方向の曲率が大きくなり、やは
り球面収差が大きくなる。従って、結像レンズ6の面形
状が、これらの領域A、領域B、領域Cのいずれかに属
していることが望ましく、そうすれば、球面収差が小さ
く、副走査方向の像面湾曲が完全に補正され、副走査方
向の光学倍率が一定な良好な光学特性を有する光走査装
置が得られる。領域A、領域B、領域Cのいずれかに属
するということは、言い換えれば、以下の2項、 a)結像レンズの入射面の副走査方向断面が、走査中心
で凹、走査端で凸である b)結像レンズの射出面の副走査方向断面が、走査中心
で凸、走査端で凹である のいずれかを満足させるということである。
面、射出面ともに副走査方向の曲率を比較的小さくする
ことができ、球面収差の発生がほとんどなく、ビームス
ポットの形状が極めて良好となる。領域Aに属するとい
うことは、言い換えれば、上記2項a)b)の両方を満
足させるということである。
されている。非球面を有するレンズをガラスで製造する
と、コストが高くつくため実用的ではないが、樹脂で成
形すると容易に大量生産をすることができ、コストも低
くすることができる。
ある場合について説明を行なってきたが、その他に、回
転単面鏡、回転2面鏡、あるいは、回転軸を中心に正弦
振動を行なうガルバノミラー等についても容易に実現可
能であり、同様の効果が得られる。
射出されるビームは、わずかに集束するビームである
が、平行ビームや、やや発散するビームであっても、副
走査方向の光学倍率を一定にすることはでき、本発明の
同様の効果は得られる。
プリンタに用いると特に有効であるが、デジタル複写
機、ファクシミリ、レーザ走査ディスプレイ等の画像形
成装置やスキャナ等の画像入力装置、あるいは光学マー
ク読み取り用レーザ走査装置、表面検査用レーザ走査装
置等にも適用することができる。
に示す。ただし、1走査の走査開始から走査終了までの
回転多面鏡の回転角を2ωとする。半導体レーザアレイ
の発光点をS1、コリメータレンズの入射面、射出面を
それぞれS2、S3、シリンドリカルレンズの入射面、射
出面をそれぞれS4、S5、回転多面鏡の反射面をS6、
結像レンズの入射面、射出面をそれぞれS7、S8とす
る。各光学諸元の記号については、第i面Siの曲率半
径をri、第i面から次の面までの軸上間隔をdiとし、
コリメータレンズ、シリンドリカルレンズ、結像レンズ
の屈折率をそれぞれn2、n4、n7とする。また、アナ
モフィックなレンズ面では、副走査方向、主走査方向の
曲率半径をそれぞれrix、riyとし、非球面の曲率半径
については、光軸上の値を示す。結像レンズの副走査方
向だけは、曲率半径ではなく、曲率uiを示す。
形状であり、
と交わる点を原点とし、光軸方向にz軸、光軸に垂直で
主走査方向にy軸をとっている。Ki、Ai、Bi、Ci、
Diは非球面係数である。結像レンズの副走査方向の曲
率は、結像レンズの有効部で主走査方向に沿って連続的
に変化しており、曲率Uiを、
ix、Cix、Dix、Eixは係数である。これらの係数の値
を表2に示す。
ズの副走査方向の曲率を表3に示す。なお、入射面ある
いは射出面において、曲率中心が当該面に対してビーム
の進行方向側にある場合の曲率を正とし、曲率中心が当
該面に対してビームの進行方向とは逆側にある場合の曲
率を負とする。また、表3には断面の凹凸の区別も示
す。
面は、走査中心で凹、走査端で凸となっており、射出面
の副走査方向断面は、走査中心で凸、走査端で凹となっ
ている。
図、図7は本実施例の収差図である。なお、収差図につ
いては、像面湾曲は破線が主走査方向、実線が副走査方
向の収差を示している。等速走査性は、理想像高y=f
θからの像高のずれを%で表す。ただし、ωはビームス
ポットが被走査面上で走査中心から走査端まで走査する
間の、回転多面鏡の回転角である。
ているため、わずか1枚の結像レンズで、図7に示すよ
うに主走査方向の像面湾曲は±2mm以内と、良好に補
正されている。1〜2mm程度の振幅で振動している像
面湾曲は、結像レンズの主走査方向断面形状の非球面係
数の次数を、10次までしか用いていないことにより生
じるものである。従って、より高次の非球面係数を用い
れば、像面湾曲をさらに小さくすることができる。
走査方向の曲率が、結像レンズの有効部で主走査方向に
沿って連続的に変化しているため、図7に示すように副
走査方向の像面湾曲も±2mm以内と良好に補正されて
いる。副走査方向の曲率は、12次までの係数を用いて
近似しているが、やはり、より高次の非球面係数を用い
れば、像面湾曲をさらに小さくすることができる。
に、ビームスポットの副走査方向直径を図9に、ビーム
スポットの副走査方向位置を図10に示す。図8〜10
のいずれの図においても、横軸は被走査面における走査
位置であり、データ曲線については、本実施例の場合を
実線で示し、比較のために従来技術である、特開平4−
50908号公報の場合の一例を破線で示す。従来例に
対して、本実施例の光学倍率、ビームスポット径、ビー
ムスポット位置は、有効走査領域全域に渡って極めて一
定である。なお、図9のビームスポット直径とは、ビー
ムの中心強度に対して、1/e2の強度となる点を連ね
た形状の直径のことである。また、図10のビームスポ
ット位置は、光源において光軸から副走査方向に50μ
m離れた位置に配置された発光部から射出されたビーム
が、被走査面上に形成するビームスポットの位置を示
す。
実施例は、第1の実施例に対し、結像レンズの副走査方
向の曲率のみが異なる。結像レンズの副走査方向断面
が、入射面の走査中心で凹、走査端で凸、射出面では常
に凸となっている。
と係数を表4に示す。曲率の表記については、実施例1
と同じである。結像レンズの主走査方向に関する光学諸
元と、結像レンズ以外の要素の光学諸元は実施例1と同
じである。
ズの副走査方向の曲率を表5に示す。
面は、走査中心で凹、走査端で凸となっている。
方向の像面湾曲、等速走査性は実施例1と同じなので、
副走査方向の像面湾曲のみを示す。結像レンズの入射
面、射出面は、副走査方向の曲率が、結像レンズの有効
部で主走査方向に沿って連続的に変化しているため、副
走査方向の像面湾曲は良好に補正されている。
2に、ビームスポットの副走査方向直径を図13に、ビ
ームスポットの副走査方向位置を図14に示す。光学倍
率、ビームスポット径、ビームスポット位置は、有効走
査領域全域に渡って極めて一定である。
実施例は、第1の実施例に対し、結像レンズの副走査方
向の曲率のみが異なる。結像レンズの副走査方向断面
が、入射面では常に凸、射出面の走査中心で凸、走査端
で凹となっている。
と係数を表6に示す。曲率の表記については、実施例1
と同じである。結像レンズの主走査方向に関する光学諸
元と、結像レンズ以外の要素の光学諸元は実施例1と同
じである。
ズの副走査方向の曲率を表7に示す。
面は、走査中心で凸、走査端で凹となっている。
方向の像面湾曲、等速走査性は実施例1と同じなので、
副走査方向の像面湾曲のみを示す。結像レンズの入射
面、射出面は、副走査方向の曲率が、結像レンズの有効
部で主走査方向に沿って連続的に変化しているため、副
走査方向の像面湾曲は良好に補正されている。
6に、ビームスポットの副走査方向直径を図17に、ビ
ームスポットの副走査方向位置を図18に示す。光学倍
率、ビームスポット径、ビームスポット位置は、有効走
査領域全域に渡って極めて一定である。
実施例は、第1の実施例と構成要素は同じであるが、光
学諸元が異なる。本実施例では、コリメータレンズから
射出されるビームは平行ビームである。また、結像レン
ズの形状も実施例1とは異なる。
る。結像レンズ6の主走査方向断面形状は、入射面
S7、射出面S8ともに非球面形状をしている。また、結
像レンズ6の入射面S7、射出面S8の両面で、副走査方
向の曲率が、結像レンズの有効部で主走査方向に沿って
連続的に変化している。
ついては、実施例1と同じである。
と係数を表9に示す。曲率の表記についても、実施例1
と同じである。
ズの副走査方向の曲率を表10に示す。
曲、等速走査性共に良好に補正されている。
1に、ビームスポットの副走査方向直径を図22に、ビ
ームスポットの副走査方向位置を図23に示す。光学倍
率、ビームスポット径、ビームスポット位置は、有効走
査領域全域に渡って極めて一定である。
下のような効果を有する。
査方向の像面湾曲を完全に補正した上で、ビームスポッ
トの副走査方向の径が一定となる。
ットの副走査方向の径がさらに一定となる。
の構成が簡素になる。
の厚さが薄くなる。
小さくなり、ビームスポット形状が良好となる。
の像面湾曲特性と等速走査性が良好に補正される。
の像面湾曲特性と等速走査性がさらに良好に補正され
る。
高速化や高解像度化が可能になり、複数の発光部から射
出されるビームにより被走査面上に形成される、複数の
走査線の間隔が一定となる。
レンズを大量生産することが可能であり、コストが低く
なる。
走査方向の光学倍率の関係を示す図。
す図。
向直径を示す図。
方向位置を示す図。
示す図。
方向直径を示す図。
方向位置を示す図。
示す図。
方向直径を示す図。
方向位置を示す図。
示す図。
方向直径を示す図。
方向位置を示す図。
Claims (9)
- 【請求項1】 光ビームを発生する光源と、前記光ビー
ムを偏向する偏向器と、前記偏向器により偏向された光
ビームを結像し、被走査面上にビームスポットを形成さ
せるための結像レンズを有する光走査装置において、 前記結像レンズのレンズ面のうち、少なくとも2つの面
において、副走査方向の曲率が、前記結像レンズの有効
部で主走査方向に沿って連続的に、かつ主走査方向の曲
率とは独立に変化していることを特徴とする光走査装
置。 - 【請求項2】 前記結像レンズの副走査方向の光学倍率
が、有効走査領域において一定であることを特徴とする
請求項1記載の光走査装置。 - 【請求項3】 前記結像レンズは、単レンズであること
を特徴とする請求項1乃至2の何れかに記載の光走査装
置。 - 【請求項4】 前記結像レンズは、以下のa)、b)の
うちのいずれかを満足することを特徴とする請求項3記
載の光走査装置。 a)前記結像レンズの入射面の副走査方向断面は、走査
中心で凹、走査端で凸である b)前記結像レンズの射出面の副走査方向断面は、走査
中心で凸、走査端で凹である - 【請求項5】 前記結像レンズは、前記a)、b)の両
方を満足することを特徴とする請求項4記載の光走査装
置。 - 【請求項6】 前記結像レンズは主走査方向で非球面と
なるレンズ面を有することを特徴とする請求項1乃至5
の何れかに記載の光走査装置。 - 【請求項7】 前記結像レンズは主走査方向で変曲点の
あるレンズ面を有することを特徴とする請求項6記載の
光走査装置。 - 【請求項8】 前記光源は複数の発光部を有することを
特徴とする請求項1乃至7の何れかに記載の光走査装
置。 - 【請求項9】 前記結像レンズのうち、副走査方向の曲
率が、前記結像レンズの有効部で主走査方向に沿って連
続的に変化している面を有するレンズは、樹脂で形成さ
れていることを特徴とする請求項1乃至8の何れかに記
載の光走査装置。
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