JPH0935256A - 磁気記録ディスク及び磁気記録再生方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 優れた走行耐久性を付与し、更に再生出力の
向上をも可能にした磁気記録ディスク及び該磁気記録デ
ィスクを用いる磁気記録再生方法を提供する。 【構成】 非磁性の可撓性支持体の少なくとも一方の側
に、強磁性金属粉末を結合剤中に分散してなる厚さ１μ
ｍ以下の磁性層を有し、該磁性層が、カーボンブラック
を含有し、磁性層表面から磁性層の厚さ方向の１／２の
深さまでに含まれるカーボンブラックの量が、磁性層の
１／２の深さから支持体側までに含まれるカーボンブラ
ックの量よりも多く、かつ該磁性層の最大磁束密度が２
５００ガウス以上、そして抗磁力が１３００〜３０００
Ｏｅである磁気記録ディスク。上記の磁気記録ディスク
を用い、該ディスクの磁性層に最短記録波長が１．５μ
ｍ以下のディジタル信号を記録再生する磁気記録再生方
法。該該ディスクには、非磁性の可撓性支持体と磁性層
との間に更に非磁性層が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、非磁性の可撓性支持体
に、強磁性金属粉末を結合剤中に分散した磁性層を有す
る磁気記録ディスク及びこれを用いる磁気記録再生方法
に関する。特に、本発明は、非磁性の可撓性支持体に、
非磁性粉末を結合剤中に分散した非磁性層、および該非
磁性層が湿潤状態にあるうちに該非磁性層の上に設けた
磁性層を有する、高密度記録に適し、優れた走行耐久性
が付与された磁気記録ディスク、及びこれを用いる磁気
記録再生方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録ディスク（フロッピーディス
ク）は、ワードプロセッサ、パーソナルコンピュータな
どのＯＡ機器の普及に伴いその外部記憶媒体として従来
から広く利用されている。従来、この磁気記録ディスク
は、可撓性で非磁性（プラスチック製）の支持体上に酸
化鉄等の磁性金属粉末を用いた磁性層が設けられたもの
であり、その製造法により塗布型と蒸着型がある。蒸着
型のディスクは、支持体上に真空蒸着により磁性層を結
合剤（バインダ）を用いることなく形成できるため、そ
の厚みを薄くでき、塗布型のものに比べて一般に記録の
高密度化が可能である点で有利であるが、製造上コスト
高となり易いとの欠点がある。

【０００３】塗布型ディスクは、磁性金属粉末、結合
剤、有機溶剤などを含む磁性層形成用塗布液を支持体上
に連続的に塗布し、乾燥することにより製造できるた
め、蒸着型ディスクに比べて製造コスト上有利である。
しかし実用上良好な耐摩耗性を付与させたり、また表面
電気抵抗を小さくするためには磁性層に、導電性粉末、
潤滑剤、研磨剤などの性能向上のための補助材料を添加
しなければならず、その結果、充填度の低下や磁性層の
厚みが厚くなり（３〜６μｍ）、出力が低下するなどの
厚み損失の問題が生じていた。このような問題に対して
磁性層の厚みをできるだけ薄くする方法が有効な解決手
段であり、こうすることによって記録密度も高密度化す
ることができることは知られていた。しかし磁性層の厚
みを薄くすることにより、導電性粉末等の磁性層に含有
させる材料の必要量が充分確保されなくなるために、磁
性層の表面電気抵抗が高くなったり、耐久性が低下する
との問題が生じる。また特に、磁性層を２μｍ以下に薄
くしたような場合には、磁性層表面に支持体の表面粗さ
などの影響も現れ易くなり、走行性が悪くなって電磁変
換特性も低下し易くなるとの問題があった。

【０００４】上記のような問題を解決するために、磁性
層を薄膜化する（０．３〜１μｍ）と共に、該磁性層と
非磁性支持体との間に磁性層より厚い下塗り層（非磁性
層）を設けた磁気記録ディスクが提案されている（特開
昭６２−１５４２２５号、同６２−２２２４２７号各公
報）。この下塗り層を設けることで、従来タイプの磁性
層に含有させていた、酸化チタンなどの非磁性無機粉末
（研磨剤）、導電性粉末（カーボンブラック）の材料の
一部を下塗り層に含有させることができるために、磁性
層の薄膜化が可能となり（記録の高密度化に適し）、し
かも表面電気抵抗が低く、また上記のような支持体の表
面粗さなどの影響も改善でき、耐久性、走行性に優れた
磁気記録ディスクを得ることができようになった。しか
しながら上記のような非常に薄い磁性層は、まず非磁性
支持体上に塗布液を塗布し、乾燥させて下塗り層（非磁
性層）を設けた後、この上に同様な方法で塗布形成され
るため、今度は、下塗り層の影響を受け易いとの新たな
問題が生じた。すなわち、磁性層の塗布液の有機溶媒に
よって下塗り層が膨潤し、磁性層の塗布液に塗布時の乱
流が生じ、その結果、磁性層の表面性が低下するとの問
題が生じた。その結果、電磁変換特性が低下し易かっ
た。

【０００５】上記のような問題を解決する手段として、
非磁性支持体上に、非磁性粉末（例、酸化チタン、α−
アルミナなどの無機粉末）を結合剤樹脂溶液中に分散し
た非磁性層形成用塗布液を塗布して非磁性層を形成し、
該非磁性層が湿潤状態にあるうちに強磁性粉末を結合剤
樹脂溶液中に分散した磁性層形成用塗布液を上記非磁性
塗布層の上に塗布形成し、乾燥する方法によって磁気記
録ディスクを製造する方法が提案されている（特開昭６
３−１９１３１５号、特開平４−３２５９１７号、同５
−１０９０６１号公報）。この方法を利用することで、
非磁性層の影響を比較的受けることなく、磁性層を非常
に薄膜化した状態で形成することができるため、良好な
磁性層の表面性が得られ、従って電磁変換特性を改良す
ることができる。更に上記公報にも開示されているよう
に、電磁変換特性、帯電防止性、走行耐久性などの性能
を更に向上させるために、通常、非磁性層及び磁性層の
両層には、潤滑剤、カーボンブラック（導電性粒子）が
使用されている。また磁性層には、通常磁気記録ヘッド
を研磨し、走行耐久性を確保するために、α−アルミナ
などの無機微粒子からなる研磨剤が使用されている。

【０００６】なお、磁性層の塗布形成に際しては、磁性
層を形成する塗布液として二つの塗布液（上層用塗布液
と下層用塗布液）を用意し、これを非磁性層が湿潤状態
にあるうちに下層用塗布液を非磁性塗布層の上に塗布形
成し、この塗布層が湿潤状態にあるうちに上層用塗布液
を該塗布層の上に塗布形成することにより、磁性層を形
成する方法も知られている。この方法を利用すること
で、例えば、特開平５−２７４６５５号公報に見られる
ように、磁性層の上層側と下層側の領域で異なった粒子
径の強磁性粉末を使用することも可能になる。

【０００７】近年、磁気記録ディスクの普及は著しく、
その使用環境も広がっており、温湿度の幅広い環境条件
下や塵埃も多い環境下での使用も多くなってきている。
特に塵埃の多い環境下での使用では、走行時の帯電によ
り、塵埃の付着によるドロップアウト数の増大を招き、
それによるエラーが致命的な欠陥となる場合がある。こ
のため、このような厳しい使用環境下でも安定した性能
が求められている。また記録の大容量化、小型化の要求
は増々高まっており、従って記録の高密度化に対応する
磁性層の薄膜化による性能（再生出力、オーバーライト
特性、走行耐久性）の確保は、従来に増して要求されて
いる。特に、記録の高密度化を達成するためには、磁気
ヘッドやカートリッジ内の部材とディスクの磁性層との
高速摺動が行われるために、磁性層を０．５μｍ以下に
薄膜化した場合の走行耐久性の確保は重要である。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】ところで、前述のよう
に磁性層には、走行耐久性を向上させるために、カーボ
ンブラックや研磨剤の添加が不可欠であるが、これらの
添加量には限度がある。これは、添加量の増大につれて
磁性層の充填度が低下し、これにより磁性層の最大磁束
密度（Ｂｍ）が低下して充分な再生出力が得にくくなる
ためである。

【０００９】本発明の目的は、非磁性層が湿潤状態にあ
るうちに該非磁性層の上に塗布形成した磁性層を有する
高密度記録用の磁気記録ディスクの帯電防止性、電磁変
換特性（オーバーライト特性、再生出力）、そして走行
耐久性などの性能を改良することであり、特に、本発明
では、優れた走行耐久性を付与し、更に再生出力の向上
をも可能にした磁気記録ディスク及び該磁気記録ディス
クを用いる磁気記録再生方法を提供することである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は、記録の高密
度化に対応した磁気記録ディスクの電磁変換特性、帯電
防止性などの性能の確保と、特に走行耐久性に優れ、更
に再生出力の向上した磁気記録ディスクを求めて研究を
行った。その結果、磁性層表面から磁性層の厚さ方向の
１／２の深さまでに含まれるカーボンブラックの量を、
磁性層の１／２の深さから支持体側までに含まれるカー
ボンブラックの量よりも多くすることにより、更に性能
の改良された磁気記録ディスクが得られることを見出
し、本発明に到達したものである。即ち、本発明者の検
討によると、高い走行耐久性の確保は、磁性層の表層側
にカーボンブラックを比較的多量に存在させることで達
成できることが判明した。また再生出力の向上は、磁性
層全体でより大きな最大磁束密度が得られるように磁性
層の表層側に比べて深層側のカーボンブラックの存在量
を少なくすることにより（相対的に磁性体の存在量を高
くでき、これにより磁性体の充填密度を高めることによ
り）達成できることが判明した。

【００１１】本発明は、非磁性の可撓性支持体の少なく
とも一方の側に、強磁性金属粉末を結合剤中に分散して
なる厚さ１μｍ以下の磁性層を有する磁気記録ディスク
において、上記磁性層が、カーボンブラックを含有し、
磁性層表面から磁性層の厚さ方向の１／２の深さまでに
含まれるカーボンブラックの量が、磁性層の１／２の深
さから支持体側までに含まれるカーボンブラックの量よ
りも多く、かつ該磁性層の最大磁束密度が２５００ガウ
ス以上、そして抗磁力が１３００〜３０００Ｏｅである
ことを特徴とする磁気記録ディスクにある。

【００１２】また、本発明は、上記磁気記録ディスクを
用い、該ディスクの磁性層に最短記録波長が１．５μｍ
以下のディジタル信号を記録再生する磁気記録再生方法
にもある。

【００１３】本発明は、以下の態様であることが好まし
い。 （１）非磁性の可撓性支持体と磁性層との間に、更に非
磁性無機粉末を結合剤中に分散してなる非磁性層が設け
られている。

【００１４】（２）磁性層表面から磁性層の厚さ方向の
１／２の深さまでのカーボンブラックの含有量が、磁性
層中のカーボンブラックの全量の５２〜１００重量％
（更に好ましくは、６０〜１００重量％、特に７０〜１
００重量％）である。 （３）磁性層の１／２の深さから支持体側までに含まれ
る強磁性金属粉末の量が、磁性層表面から磁性層の厚さ
方向の１／２の深さまでに含まれる強磁性金属粉末の量
よりも多い。

【００１５】（４）磁性層に更に、研磨剤が含有されて
おり、磁性層表面から磁性層の厚さ方向の１／２の深さ
までに含まれる研磨剤の量が、磁性層の１／２の深さか
ら上記支持体側までに含まれる研磨剤の量よりも多い。 （５）磁性層に更に、研磨剤が含有されており、磁性層
表面から磁性層の厚さ方向の１／２の深さまでに含まれ
る研磨剤の量が、磁性層中の研磨剤の全量の５２〜１０
０重量％（更に好ましくは、６０〜１００重量％、特に
７０〜１００重量％）である。

【００１６】（６）磁性層が、上層側塗布液と下層側塗
布液により塗布形成されたものであって、上層側塗布液
により形成された塗布層（磁性層）の抗磁力が、下層側
塗布液により形成された塗布層（磁性層）の抗磁力の±
２０％以内（更に好ましくは、±１０％以内）にある。

【００１７】（７）磁性層の厚みが、０．０２〜０．８
μｍ（更に好ましくは、０．０３〜０．５μｍ）であ
る。 （８）非磁性層の厚みが、０．２〜５μｍ（更に好まし
くは、０．５〜３．５μｍ、特に、１．０〜２．０μ
ｍ）である。

【００１８】（９）磁性層が、非磁性層が湿潤状態にあ
るうちに該非磁性層の上に磁性層形成用塗布液を塗布す
ることにより（下層側磁性層塗布液を非磁性層が湿潤状
態にあるうちに該非磁性層の上に塗布し、更に下層側磁
性層塗布液により形成された塗布層が湿潤状態にあるう
ちに該塗布層の上に、上層側磁性層塗布液を塗布するこ
とにより）形成されたものである。

【００１９】以下に、本発明の磁気記録ディスクについ
て説明する。本発明の磁気記録ディスクは、非磁性の可
撓性支持体、非磁性無機粉末を結合剤中に分散してなる
非磁性層、そして磁性層がこの順に積層された構成であ
ることが好ましい。そして磁性層は、非磁性層が湿潤状
態にあるうちにこの上に設けられたものであることが好
ましい。また磁性層は、磁性層表面から磁性層の厚さ方
向の１／２の深さまでの領域（以下、表層側と称する場
合がある）と、磁性層の１／２の深さから支持体側（あ
るいは非磁性層との界面）までの領域（以下、深層側と
称する場合がある）とにおいて、少なくともカーボンブ
ラックの含量組成が異なるため、これらの二つの領域を
有するように二種類の磁性層形成用塗布液を用意し、こ
れらの塗布液を用いて形成されていることが好ましい。
すなわち、本発明の磁気記録ディスクの磁性層は、非磁
性層用塗布液を塗布後、形成された塗布層（非磁性層）
が湿潤状態にあるうちにこの上に組成の異なる二種類の
磁性層形成用塗布液のうちの一方の磁性層形成用塗布液
（下層側塗布液）を塗布し、形成された塗布層が湿潤状
態にあるうちに更にこの上にもう一方の磁性層形成用塗
布液（上層側塗布液）を塗布する、所謂ウエット・オン
・ウエット方式による塗布方法を利用して形成されてい
ることが好ましい。なお、下層側塗布液と上層側塗布液
とで形成されるそれぞれの塗布層（これらの塗布層によ
り磁性層が構成される）の厚さは、磁性層の総厚の範囲
内で任意に設定することができる。

【００２０】上記ウエット・オン・ウエット方式による
塗布方法としては、例えば以下の方法を挙げることがで
きる。 （１）グラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、ある
いはエクストルージョン塗布装置などを用いて、まず非
磁性層を形成し、該非磁性層が湿潤状態にあるうちに、
支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により、磁性
層を形成する方法（特開昭６０−２３８１７９号、特公
平１−４６１８６号、特開平２−２６５６７２号公報参
照）。 （２）二つの塗布液用スリットを備えた単一の塗布ヘッ
ドからなる塗布装置を用いて磁性層、及び非磁性層をほ
ぼ同時に形成する方法（特開昭６３−８８０８０号、特
開平２−１７９２１号、特開平２−２６５６７２号各公
報参照）。 （３）バックアップローラ付きエクストルージョン塗布
装置を用いて、磁性層及び非磁性層をほぼ同時に形成す
る方法（特開平２−１７４９６５号公報参照）。 なお、上記塗布方法を利用する際には、強磁性粉末の凝
集による磁気記録ディスクの電磁変換特性等の低下を防
止するために、塗布ヘッド内部の塗布液に剪断力を付与
する方法（特開昭６２−９５１７４号、特開平１−２３
６９６８号公報）を利用することが好ましい。更に塗布
液は、一定の数値範囲を満足するような粘度を有してい
ることが好ましい（特開平３−８４７１号公報）。

【００２１】添付の図１及び図２を用いて上記ウエット
・オン・ウエット方式による塗布方法を更に詳しく説明
する。なお、以下の塗布方法の説明は、非磁性層形成用
塗布液、及び磁性層形成用塗布液の二種類の塗布液を用
いて非磁性層及び磁性層の二層からなる積層構造を形成
する場合の例であるが、磁性層形成用塗布液として、前
述した二種類の磁性層形成用塗布液（下層側塗布液と上
層側塗布液）を用い、同様な方法を利用することによ
り、非磁性層、及び下層側と上層側で異なる組成を持つ
磁性層からなる、実質的に三層からなる積層構造を形成
することができる。二層以上の層を非磁性支持体上に塗
布する場合には、通常、その層の数に対応した数の塗布
液がノズルから非磁性支持体上に押し出されて塗布層が
形成される。例えば、特開平５−２１２３２７号公報に
は、三つのノズルから塗布液が押し出されて、非磁性支
持体上に三層の塗布液を同時に形成する塗布方法が開示
されている。

【００２２】図１は、一層（例えば、非磁性層）を形成
した後、これが湿潤状態にあるうちに速やかにこの上に
次の層（例えば、磁性層）を形成する、所謂逐次塗布方
法をを利用した層形成方法を模式的に表した図である。
図１に示されているように、連続的に走行するポリエチ
レンテレフタレート等の可撓性支持体１上に塗布機３を
用いて、塗布液２（例えば、非磁性層形成用塗布液）を
プレコートして一層（非磁性層）を形成する。その直後
に、スムージングロール４にて該塗布面を平滑化し、該
塗布液２が湿潤状態にあるうちにこの上に塗布機（エク
ストルージョン塗布装置）６を用いて塗布液５（例え
ば、磁性層形成用塗布液）を塗布して次の層（磁性層）
を形成する。

【００２３】また図２は、エクストルージョン塗布方法
により多層を同時に塗布する、所謂同時重層塗布方法を
利用した層形成方法を模式的に表した図である。図２に
示されているように、連続的に走行するポリエチレンテ
レフタレート等の可撓性支持体１上に、同時多層塗布機
７を用いて、塗布液２（例えば、非磁性層形成用塗布
液）と塗布液５（例えば、磁性層形成用塗布液）とを同
時重層塗布して非磁性層と磁性層とを同時に形成する。
本発明においては、図２に示されるような同時重層塗布
方法を利用することが生産性の上からも好ましい。

【００２４】以上のようにして形成される非磁性層及び
磁性層は、非磁性支持体の片面に設けてもよいし、また
両面に設けても良い。上記非磁性層の厚さは、０．２〜
５μｍ（更に好ましくは、０．５〜３．５μｍ、特に好
ましくは、１．０〜２．０μｍ）の範囲にあることが好
ましい。非磁性層の厚みを０．２μｍより薄くすると、
長期に渡る走行耐久性を確保するのに充分な量の潤滑剤
量を非磁性層に含有させることが困難になる。一方非磁
性層の厚みが厚過ぎると磁性層の表面性を充分確保する
のが困難になる。また本発明において、磁性層の厚み
は、１μｍ以下（好ましくは、０．０２〜０．８μｍ、
更に好ましくは、０．０３μｍ〜０．５μｍ）の範囲に
ある。また磁性層の厚み変化量は、磁性層の厚みの２０
％以内であることが好ましい。

【００２５】本発明の磁気記録ディスクは、前記のよう
なウエット・オン・ウエット方式を利用して形成される
磁性層が、カーボンブラックを含有し、そして磁性層表
面から磁性層の厚さ方向の１／２の深さまで（磁性層の
表層側）に含まれるカーボンブラックの量が、磁性層の
１／２の深さから支持体側まで（磁性層の深層側）に含
まれるカーボンブラックの量よりも多く、かつ該磁性層
の最大磁束密度（Ｂｍ）が２５００ガウス以上、そして
抗磁力（Ｈｃ）が１３００〜３０００Ｏｅであることを
特徴とする。

【００２６】本発明においては、磁性層表面から磁性層
の厚さ方向の１／２の深さ（磁性層の表層側）までのカ
ーボンブラックの含有量は、磁性層中の全カーボンブラ
ックの含有量の５２〜１００重量％（更に好ましくは、
６０〜１００重量％、特に、７０〜１００重量％）であ
ることが好ましい。カーボンブラックの磁性層中への添
加量は、通常強磁性金属粉末１００重量部に対して、１
〜３０重量部（好ましくは、１〜１５重量部）の範囲で
ある。

【００２７】また、前述のように磁性層の表層側にカー
ボンブラックを多量に含有させた結果、磁性層の深層側
には磁性体の含有量を相対的に多くすることができる。
本発明においては、磁性層の１／２の深さから支持体側
まで（深層側）に含まれる強磁性金属粉末（磁性体）の
量は、磁性層表面から磁性層の厚さ方向の１／２の深さ
まで（表層側）に含まれる強磁性金属粉末の量よりも多
くなるように構成することが好ましい。このように深層
側の磁性体の充填密度を高めることにより、磁性層全体
でより大きな最大磁束密度が得られ、より高い再生出力
が達成できる。磁性体は、磁性層中に、通常５０〜９０
重量％（好ましくは、７０〜９０重量％）の範囲で含有
されている。

【００２８】本発明の磁気記録ディスクにおいては、磁
性層が更に研磨剤を含有していることが好ましい。そし
て研磨剤も前記カーボンブラックと同様に、磁性層表面
から磁性層の厚さ方向の１／２の深さ（磁性層の表層
側）までに含まれる研磨剤の量が、磁性層の１／２の深
さから支持体側（あるいは非磁性層側）（磁性層の深層
側）までに含まれる研磨剤の量よりも多いことが好まし
い。そして磁性層表面から磁性層の厚さ方向の１／２の
深さ（磁性層の表層側）までの研磨剤の含有量は、磁性
層中の全研磨剤の含有量の５２〜１００重量％（更に好
ましくは、６０〜１００重量％、特に、７０〜１００重
量％）であることが好ましい。研磨剤の磁性層中への添
加量は、通常強磁性金属粉末１００重量部に対して、３
〜２５重量部（好ましくは、３〜２０重量部）の範囲で
ある。

【００２９】本発明の磁気記録ディスクの磁性層に含有
される強磁性金属粉末は、磁性層の最大磁束密度（Ｂ
ｍ）が２５００ガウス以上、そして抗磁力（Ｈｃ）は、
１３００〜３０００Ｏｅ（更に好ましくは、１５００〜
２５００Ｏｅ）となるように選択して使用する。また、
本発明の磁気記録ディスクにおいて、磁性層は、前述の
ように上層側塗布液と下層側塗布液を用いて形成される
が、更に良好なピークシフト特性を得るためには、上層
側塗布液により形成された塗布層（磁性層）の抗磁力
は、下層側塗布液により形成された塗布層（磁性層）の
抗磁力の±２０％以内（更に好ましくは、±１０％以
内）であることが好ましい。

【００３０】本発明の磁気記録ディスクは、磁性層が上
記のような最大磁束密度及び抗磁力を有し、かつ前記の
ように磁性層の表層側と深層側においてカーボンブラッ
クが、深層側より表層側の方が多くなるような含有量に
て形成されていることを特徴とする以外は、従来から知
られている構成とすることができる。従ってカーボンブ
ラック等の添加剤は、従来から用いられているものを使
用することができる。

【００３１】以下に、非磁性層および磁性層に含有され
る成分について順に説明する。非磁性層は、非磁性無機
粉末が結合剤中に分散されてなる層である。なお、非磁
性層には、通常カーボンブラック及び潤滑剤が含有され
ている。本発明で使用できる非磁性無機粉末の例として
は、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、
γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウ
ム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、チタンカーバ
イト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、酸化亜
鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、及び硫酸バリウ
ムを挙げることができる。これらは単独でまたは組合せ
で使用することができる。本発明においては、酸化チタ
ン、α−アルミナ、α−酸化鉄、又は酸化クロムが好ま
しい。

【００３２】本発明に用いることができる非磁性無機粉
末の具体的な例としては、ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１
２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−１８、ＡＫＰ−２０、ＡＫ
Ｐ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−５
５、ＨＩＴ−６０、及びＨＩＴ−１００（以上、住友化
学工業（株）製）、Ｇ５、Ｇ７、及びＳ−１（以上、日
本化学工業（株）製）、ＴＴ０５５、及びＥＴ３００Ｗ
（以上、石原産業（株）製）、ＳＴＴ３０（チタン工業
（株）製）を挙げることができる。

【００３３】上記非磁性無機粉末は、異なる二種類の平
均粒子径の粉末を使用することができる。例えば、大き
い方の非磁性無機粉末は、非磁性層の厚みの１５〜７５
％の平均粒子径を有しているものを、また小さい方の非
磁性無機粉末は、非磁性層の厚みの１〜７％の平均粒子
径を有しているものを使用することができる。また非磁
性無機粉末（二種類もしくはそれ以上を用いる場合にお
いても）は、比較的硬いものが好ましく、モース硬度５
以上（更に好ましくは、６以上）のものが好ましい。更
に、本発明で用いる非磁性無機粉末の特性としては、タ
ップ密度が、０．３〜２ｇ／ｃｃ、含水率が０．１〜５
％、ｐＨが２〜１１、そして比表面積が１〜３０ｍ² ／
ｇであるものが好ましい。非磁性無機粉末は針状、球
状、サイコロ状のいずれの形態でもよい。

【００３４】非磁性無機粉末は、非磁性層中に通常５０
〜９０重量％、好ましくは、６０〜７０重量％で含有さ
れている。

【００３５】カーボンブラックの添加は、磁気記録ディ
スクに導電性を付与し、帯電を防止すると共に、磁性層
の平滑な表面性が確保される結果、記録／再生ヘッドと
のスペーシングロスを少なくでき高い再生出力を得るこ
とができる。本発明で用いるカーボンブラックは、その
平均粒子径が３５ｍμ以下（更に好ましくは、１０〜３
５ｍμ）のような比較的小さい粒子であることが好まし
い。またその比表面積は、５〜５００ｍ² ／ｇ（更に好
ましくは７００〜１４００ｍ² ／ｇ）、ＤＢＰ吸油量
は、１０〜１５００ｍｌ／１００ｇ（更に好ましくは、
３００〜１０００ｍｌ／１００ｇ）、ｐＨは２〜１０、
含水率は０．１〜１０％、そしてタップ密度は０．１〜
１ｇ／ｃｃであることが好ましい。なお、上記ＤＰＢ吸
油量は、カーボンブラックにジブチルフタレートを少し
ずつ加え、練り合わせながらカーボンブラックの状態を
観察し、ばらばらに分散した状態から一つの塊をなす点
を見出した時のジブチルフタレートの添加量（ｍｌ）を
意味する。

【００３６】本発明において、カーボンブラックは様々
な製法で得たものが使用できる。これらの例としては、
ファーネスブラック、サーマルブラック、アセチレンブ
ラック、チャンネルブラック及びランプブラックを挙げ
ることができる。また、本発明に用いられるカ−ボンブ
ラックの具体的な例としては、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ
２０００、１３００、１０００、９００、８００、７
００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２（以上、キャボット社
製）、＃３５、＃５０、＃５５、＃６０及び＃８０（以
上、旭カ−ボン（株）製）、＃３９５０Ｂ、＃３７５０
Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃２４００Ｂ、＃２３００Ｂ、＃１
０００、＃９００、＃４０、＃３０、及び＃１０Ｂ（以
上、三菱化成工業（株）製）、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ Ｓ
Ｃ、ＲＡＶＥＮ、１５０、５０、４０、１５（以上、コ
ンロンビアカ−ボン社製）、ケッチェンブラックＥＣ、
ケッチェンブラックＥＣＤＪ−５００およびケッチェン
ブラックＥＣＤＪ−６００（以上、ライオンアグゾ
（株）製）を挙げることができる。

【００３７】またカ−ボンブラックは、分散剤などで表
面処理したもの、樹脂でグラフト化したもの、あるいは
表面の一部をグラファイト化したものを使用することも
できる。またカ−ボンブラックは、非磁性層形成用の塗
布液に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかま
わない。これらのカーボンブラックは、単独で、あるい
は適宜組み合わせて使用することもできる。なお、本発
明で使用することができる上記のようなカーボンブラッ
クは、例えば、カーボンブラック協会編「カーボンブラ
ック便覧」（図書出版、１９７０年発行）に記載されて
いる。

【００３８】カーボンブラックの添加量は、非磁性層
に、通常全非磁性無機粉末１００重量部に対して、３〜
２０重量部であり、好ましくは、４〜１８重量部、更に
好ましくは、５〜１５重量部である。３重量部以下の添
加量では、表面固有抵抗値の低減が充分でなく、また２
０重量部以上では、平滑な磁性層の表面性を充分確保す
ることが困難になる。

【００３９】潤滑剤は、磁性層表面と磁気ヘッドとの摩
擦を緩和し、円滑に摺接状態を維持させるもので、これ
らの例としては、ジアルキルポリシロキサン（アルキル
は炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン（ア
ルコキシは炭素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコ
キシポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個、アル
コキシは炭素数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、
フロロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜
５個）などのシリコンオイル；グラファイト等の導電性
微粉末；二硫化モリブデン、二硫化タングステンなどの
無機粉末；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレ
ン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等
のプラスチック微粉末；α−オレフィン重合物；常温で
液状の不飽和脂肪族炭化水素（ｎ−オレフィン二重結合
が末端の炭素に結合した化合物、炭素数約２０）；炭素
数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の
一価のアルコールからなる脂肪酸エステル類；及びフル
オロカーボン類を挙げることができる。これらの中で
は、脂肪酸エステルが好ましい。

【００４０】脂肪酸エステルの原料となるアルコールと
しては、例えば、エタノール、ブタノール、フェノー
ル、ベンジルアルコール、２−メチルブチルアルコー
ル、２−ヘキシルデシルアルコール、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、及びｓ
−ブチルアルコール等の系モノアルコール類；そしてエ
チレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチ
ルグリコール、グリセリン、及びソルビタン誘導体等の
多価アルコールを挙げることができる。また、脂肪酸と
しては、例えば、酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２
−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステ
アリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン酸、オレ
イン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、及び
パルミトレイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれらの
混合物を挙げることができる。

【００４１】上記脂肪酸エステルとしての具体例として
は、ブチルステアレート、ｓ−ブチルステアレート、イ
ソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルス
テアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチ
ルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレ
ート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリス
テート、ブチルステアレートとブチルパルミテートの混
合物、オレイルオレエート、ブトキシエチルステアレー
ト、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジプロ
ピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸で
アシル化したもの、ジエチレングリコールジパルミテー
ト、ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化
してジオールとしたもの、そしてグリセリンのオレエー
ト等の種々のエステル化合物を挙げることができる。な
お、磁気記録ディスクを高湿度下で使用する際には、し
ばしば脂肪酸エステルの加水分解が生じる場合がある。
このような場合には脂肪酸エステルの加水分解を抑制す
るために、原料である脂肪酸及びアルコールとしては、
これらが分岐又は直鎖構造であるか、あるいはシス又は
トランスの異性構造であるかなどを選択して使用するこ
とが好ましい。

【００４２】潤滑剤の添加量は、非磁性層の全非磁性粉
末１００重量部に対して、通常０．２〜２０重量部の範
囲である。

【００４３】磁性層は、前記のように、カーボンブラッ
ク、研磨剤及び強磁性金属粉末が結合剤中に分散されて
なる層である。なお、磁性層には、これらの成分以外
に、通常潤滑剤が含有されている。

【００４４】上記強磁性金属粉末は、その粒子サイズ
は、好ましくは比表面積は３０〜７０ｍ² ／ｇであっ
て、Ｘ線回折法から求められる結晶子サイズは、５０〜
３００Ａである。比表面積が余り小さいと高密度記録に
充分に対応できなくなり、又余り大き過ぎても分散が充
分に行えず、従って平滑な面の磁性層が形成できなくな
るため同様に高密度記録に対応できなくなる。本発明で
用いる強磁性金属粉末は、少なくともＦｅを含むことが
必要であり、具体的には、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎ
ｉ又はＦｅ−Ｎｉ−Ｃｏを主体とした金属単体あるいは
合金である。またこれらの強磁性金属粉末の磁気特性に
ついては、磁気記録ディスクを高記録密度化するため
に、前記のような粒子サイズが必要であると同時に飽和
磁化は１１０ｅｍｕ／ｇ以上、好ましくは１２０ｅｍｕ
／ｇ以上である。そして透過型電子顕微鏡により求めら
れる粉末の長軸長（すなわち、平均粒子径）は、０．５
μｍ以下、好ましくは、０．０５〜０．３５μｍで軸比
（長軸長／短軸長）は、５以上、２０以下、好ましく
は、５〜１５である。更に特性を改良するために、組成
中にＢ、Ｃ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ等の非金属が添加されるこ
ともある。通常、前記金属粉末の粒子表面は、化学的に
安定させるために酸化物の層が形成されている。

【００４５】また本発明で用いる強磁性金属粉末の含水
率は０．０１〜２重量％とするのが好ましい。また結合
剤の種類によって含水率を最適化するのが好ましい。強
磁性金属粉末のｐＨは用いる結合剤との組み合わせによ
り最適化するのが好ましい。そのｐＨの範囲は通常４〜
１２であり、好ましくは５〜１０である。強磁性金属粉
末は、必要に応じて、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又はこれらの酸化
物などで表面処理を施してもよい。表面処理を施す際の
その使用量は、通常強磁性金属粉末に対して、０．１〜
１０重量％である。表面処理を施すことにより、脂肪酸
などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ² 以下に抑えるこ
とができる。強磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、
Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンが含まれる場合があ
るが、５０００ｐｐｍ以下であれば特性に影響を与える
ことはない。

【００４６】カーボンブラックは、前述した非磁性層に
含有させることができるカーボンブラックを使用するこ
とができる。但し、磁性層で使用するカーボンブラック
は、その平均粒子径が、５ｍμ〜３５０ｍμ（更に好ま
しくは、１０ｍμ〜３００ｍμ）の範囲にあることが好
ましい。カーボンブラックは、平均粒子径の異なるもの
を二種以上使用することができる。

【００４７】上記研磨剤としては、例えば、溶融アルミ
ナ、炭化珪素、酸化クロム（Ｃｒ₂０₃ ）、コランダ
ム、人造コランダム、ダイアモンド、人造ダイアモン
ド、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄
鉱）を挙げることができる。これらの研磨剤は、モース
硬度５以上（好ましくは、６以上）であり、平均粒子径
が、０．０５〜１μｍの大きさのもの（更に好ましく
は、０．２〜０．８μｍ）が好ましい。

【００４８】潤滑剤は、前述した非磁性層に含有させる
ことができる従来より知られている潤滑剤を使用するこ
とができる。潤滑剤の添加量は、磁性層に強磁性粉末１
００重量部に対して、通常、０．２〜２０重量部の範囲
である。

【００４９】次に、本発明の磁気記録ディスクの磁性層
及び非磁性層を構成する結合剤について説明する。本発
明で使用できる結合剤としては、例えば、熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げ
ることができる。本発明で用いる熱可塑性樹脂は、ガラ
ス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０
００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００
００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。こ
のような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニル
アルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エス
テル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニル
エーテル等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂を挙げることが
できる。

【００５０】また熱硬化性樹脂または反応型樹脂として
は、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレ
タン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリエステル
樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエス
テルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウ
レタンとポリイソシアネートの混合物を挙げることがで
きる。なお、これらの樹脂については、改訂新版「プラ
スチックハンドブック」（朝倉書店、１９８５年刊行）
に詳細に記載されている。また、電子線硬化型樹脂を使
用することも可能である。これらの例とその製造方法に
ついては、例えば、特開昭６２−２５６２１９号公報に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独でまたは組合
せて使用することができる。

【００５１】本発明においては、塩化ビニル樹脂、塩化
ビニル酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニルビニルア
ルコール樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共
重合体、及びニトロセルロースの中から選ばれる少なく
とも１種の樹脂と、ポリウレタン樹脂との組合せ、また
はこれらに更にポリイソシアネートを組み合わて使用す
ることが好ましい。上記ポリウレタン樹脂は、ポリエス
テルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエ
ーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポ
リウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタ
ン、及びポリカプロラクトンポリウレタンなどの構造を
有する公知のものが使用できる。以上説明した結合剤
は、より優れた分散性と得られる層の耐久性を得るため
に必要に応じて、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃
Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ （Ｍ
は水素原子、またはアルカリ金属塩基を表わす。）、−
ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺ Ｒ₃ （Ｒは炭化水素基を表わ
す。）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮなどから選ばれる
少なくともひとつの極性基を共重合または付加反応で導
入したものを用いることが好ましい。このような極性基
は、１０^-1〜１０^-8モル／ｇ（さらに好ましくは、１０
^-2〜１０^-6モル／ｇ）の量で導入されていることが好ま
しい。本発明において、結合剤としてポリウレタン樹脂
を用いる場合は、ガラス転移温度が−５０〜１００℃、
破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜
１０ｋｇ／ｃｍ² 、及び降伏点は０．０５〜１０ｋｇ／
ｃｍ² を示すものを使用することが好ましい。

【００５２】本発明に用いることができる結合剤の具体
的な例としては、ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡ
ＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭ
ＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫ
ＨＣ、及びＰＫＦＥ（以上、ユニオンカ−バイト社
製）；ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡ
Ｌ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、
及びＭＰＲ−ＴＭ（以上、日信化学工業（株）製）；１
０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、及びＤＸ８
３（以上、電気化学工業（株）製）；ＭＲ１１０、ＭＲ
１００、及び４００Ｘ１１０Ａ（以上、日本ゼオン
（株）製）；ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、及び
Ｎ２３０４（以上、日本ポリウレタン工業（株）製）；
パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２
０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリ
スボン６１０９、及び７２０９（以上、大日本インキ工
業（株）製）；バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、
ＲＶ５３０、及びＲＶ２８０（以上、東洋紡（株）
製）；ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、
５３００、９０２０、９０２２、及び７０２０（以上、
大日精化（株）製）；ＭＸ５００４（三菱化成（株）
製）；サンプレンＳＰ−１５０（三洋化成（株）製）；
サランＦ３１０、及びＦ２１０（旭化成（株）製）など
を挙げることができる。

【００５３】上記ポリイソシアネートとしては、例え
ば、トリレンジイソシアネート、４−４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネートなどのイソシアネート類、これらの
イソシアネート類とポリアルコールとの生成物、及びイ
ソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネ
−トを挙げることができる。これらのイソシアネート類
の具体例としては、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コ
ロネ−ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネート
ＭＲミリオネートＭＴＬ（以上、日本ポリウレタン工業
（株）製）、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１
１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２
（以上、武田薬品工業（株）製）、デスモジュールＬ、
デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュー
ルＨＬ（以上、住友バイエル社製）を挙げることができ
る。これらは、単独でまたは硬化反応性の差を利用して
二つもしくはそれ以上を組合せて使用することができ
る。

【００５４】本発明において、上記結合剤は磁性層の強
磁性金属粉末、あるいは非磁性層の非磁性粉末１００重
量部に対して、通常５〜５０重量部（好ましくは１０〜
３０重量部）の範囲で用いられる。また結合剤として塩
化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、及びポリイソシア
ネートを組み合わせて用いる場合は、全結合剤中に、塩
化ビニル系樹脂５〜７０重量％、ポリウレタン樹脂２〜
５０重量％、そしてポリイソシアネート２〜５０重量％
の範囲で用いるのが好ましい。

【００５５】本発明の磁気記録ディスクの磁性層及び非
磁性層には、前述した成分以外に、磁性粉末を結合剤に
良好に分散させるための分散剤、可塑剤、カーボンブラ
ック以外の導電性粒子（帯電防止剤）、防黴剤などを添
加することができる。上記分散剤（顔料湿潤剤）として
は、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミ
リスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、
オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、
ステアロール酸等の炭素数１２〜２２の脂肪酸（Ｒ¹ Ｃ
ＯＯＨ、Ｒ¹ は炭素数１１〜２１のアルキルまたはアル
ケニル基を表わす）；前記の脂肪酸のアルカリ金属塩
（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等）または脂肪酸のアルカリ土類金属
（Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ）からなる金属石鹸；前記の脂肪酸
エステルの弗素含有化合物；前記脂肪酸のアミド；ポリ
アルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル；レシチ
ン；トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニ
ウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンはエチ
レン、プロピレンなど）を挙げることができる。これら
の他に炭素数１２以上の高級アルコール、及び硫酸エス
テル等も使用することができる。これらの分散剤の添加
量は、結合剤１００重量部に対して０．５〜２０重量部
の範囲である。

【００５６】本発明の磁気記録ディスクで使用される非
磁性支持体について説明する。上記非磁性支持体は、可
撓性を有するものであれば特に制限はなく、従来から磁
気ディスクに利用されていた素材が使用できる。このよ
うな非磁性支持体の素材となり得るものの例としては、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリ
サルホン、ポリエーテルサルホン等の各種合成樹脂のフ
ィルム、およびアルミニウム箔、ステンレス箔などの金
属箔を挙げることができる。これらの中では、ポリエチ
レンテレフタレートが好ましい。非磁性支持体は一般に
１〜１００μｍ、好ましくは４〜８５μｍの厚さのもの
が使用される。

【００５７】本発明で用いる非磁性支持体は、予めコロ
ナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、ある
いは徐塵処理などを適宜行ってもよい。また本発明で用
いる非磁性支持体は、中心線平均表面粗さ（Ｒ_a ）（カ
ットオフ値０．２５ｍｍ）が、０．０３μｍ以下（更に
好ましくは０．０２μｍ以下、特に、０．０１μｍ以
下）であることが好ましい。また本発明で使用する非磁
性支持体には、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ま
しい。なお、非磁性支持体の表面粗さ形状は、必要に応
じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量によりコ
ントロールすることができる。これらのフィラーの例と
しては、Ｃａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩、ある
いはアクリル樹脂などの有機微粉末を挙げることができ
る。

【００５８】次に、本発明の磁気記録ディスクの製造方
法について詳しく説明する。本発明の磁気記録ディスク
の製造工程には、通常塗布工程、スリット工程、パンチ
工程、そしてカートリッジ組み込み工程が含まれる。そ
して塗布工程は、前述した所謂ウエット・オン・ウエッ
ト方式による塗布方法を利用して非磁性層及び磁性層を
形成する工程；非磁性層及び磁性層がまだ湿潤状態にあ
るうちに磁性層の磁性粉末をランダム配向させる工程；
乾燥する工程；そしてカレンダー処理（平滑化処理）す
る工程からなる。以下、工程順に説明する。

【００５９】非磁性支持体に、非磁性層及び磁性層を形
成する際の塗布液は、それぞれ必要な成分と結合剤とを
有機溶媒を用いて混練分散させて、調製することができ
る。これらの塗布液は少なくとも混練工程、分散工程、
およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工
程からなる工程により調製できる。個々の工程はそれぞ
れ二段階以上に分かれていてもかまわない。また上記の
添加成分は、どの工程の最初にまたは途中で添加しても
かまわない。また個々の成分を二つ以上の工程で分割し
て添加してもかまわない。例えば、結合剤であるポリウ
レタンは、混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のた
めの混合工程に分割して添加することができる。

【００６０】上記の塗布液の調製に用いられる有機溶媒
としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘ
キサノン、イソホロン、及びテトラヒドロフランなどの
ケトン類；メタノール、エタノール、プロパノール、ブ
タノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコ
ール、及びメチルシクロヘキサノールなどのアルコ−ル
類；酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イ
ソプロピル、乳酸エチル、および酢酸グリコ−ル等のエ
ステル類；グリコ−ルジメチルエーテル、グリコールモ
ノエチルエーテル、及びジオキサンなどのグリコールエ
ーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾー
ル、及びクロルベンゼンなどの芳香族炭化水素類；メチ
レンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、ク
ロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼ
ン等の塩素化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、及びヘキサン等を挙げることができる。これら有機
溶媒は必ずしも１００％純粋である必要はなく、異性
体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不
純成分が含まれていてもかまわない。しかしこれらの成
分は、３０％以下（更に好ましくは１０％以下）である
ことが好ましい。

【００６１】上記有機溶媒を用いて塗布液を調製する際
には、形成する磁性層あるいは非磁性層で有機溶媒の種
類、使用量を変えることができる。例えば、磁性層の表
面性を向上させるために揮発性の高い溶媒を用いる、ま
た磁性層の塗布の安定性を高めるために表面張力の高い
溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用いる、
あるいは非磁性層の充填度を上げるために溶解性パラメ
−タの高い溶媒を用いる、などの例を挙げることができ
る。

【００６２】上記非磁性層及び磁性層の形成に際して
は、非磁性支持体と非磁性層の間に密着性を向上させる
ために下塗り層を設けても良い。この厚みは０．０１〜
２μｍ（更に好ましくは、０．０５〜０．５μｍ）であ
ることが好ましい。また、磁性層を非磁性支持体の片面
にのみ有する構成の場合には、非磁性支持体性の磁性層
側とは反対側の面にバックコート層を設けてもよい。バ
ックコート層の厚みは、０．１〜２μｍ（更に好ましく
は０．３〜１．０μｍ）であることが好ましい。これら
の下塗り層、バックコート層の形成に際しては、従来か
ら磁気テープ、磁気記録ディスクにおいて用いられてい
る公知のものを使用することができる。

【００６３】次に、磁性層の強磁性粉末をランダム配向
処理する。強磁性粉末のランダム配向処理方法としは、
永久磁石を使用する方法（特公平３−４１８９５号公
報）や交流磁場を印加する方法（特開昭６２−９２１３
２号、同６３−１４８４１７号、特開平１−３００４２
７号、同１−３００４２８号各公報）を挙げることがで
きる。本発明では、後者の方法を利用して行うことが好
ましく、具体的には、非磁性層及び磁性層がまだ湿潤状
態にあるうちに通常二つの交流磁場発生装置の中を通過
させることにより行われる。二つの交流磁場の周波数、
磁界強度は、通常５０Ｈｚ、５０〜５００Ｏｅと、１２
０Ｈｚ、５０〜５００Ｏｅである。このような強磁性粉
末のランダム配向処理により、配向度比は０．８５以上
であることが好ましい。これにより、ディスクの円周に
おいて均一な再生出力を達成することができる。

【００６４】上記ランダム配向処理後、乾燥し、次いで
カレンダー処理を行う。カレンダー処理（平滑化処理）
は、ロールの間を加熱させながら通すことにより行われ
る。ロールは、通常、エポキシ、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ
ールが使用される。また金属ロールを用いることも出来
る。処理温度は、通常７０℃〜１２０℃（好ましくは８
０℃〜１１０℃）である。線圧力は、通常２００〜４５
０ｋｇ／ｃｍ（好ましくは２５０〜４００ｋｇ／ｃｍ）
である。カレンダー処理機は、５０ｍ／分〜５００ｍ／
分の処理速度で、５〜１１段のロールを備えたものが好
ましい。

【００６５】カレンダー処理後、スリット（裁断）工
程、パンチ（打ち抜き）工程、そしてカートリッジ組み
込み工程を経て本発明の磁気記録ディスクを製造するこ
とができる。本発明の磁気記録ディスクは、その磁性層
の表面固有抵抗値が、１×１０⁵ 〜５×１０⁹ オーム／
ｓｑの範囲にあることが好ましい。また磁性層の破断強
度は１〜３０ｋｇ／ｃｍ² の範囲にあることが好まし
い。１００℃以下の温度での熱収縮率は、１％以下（更
に好ましくは、０．５％以下、特に０．１％以下）であ
ることが好ましい。更に、磁性層中に含まれる残留溶媒
は、１００ｍｇ／ｍ² 以下（更に好ましくは１０ｍｇ／
ｍ² 以下）であることが好ましく、磁性層に含まれる残
留溶媒は、非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないこと
が好ましい。

【００６６】本発明の磁気記録ディスクは、目的に応じ
て磁性層と非磁性層の物理特性を変えることができる。
例えば、磁性層の弾性率を高くして走行耐久性を向上さ
せると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くするこ
とにより、磁気記録ディスクのヘッドへの当りを良好に
することができる。

【００６７】本発明の記録再生方法は、前記の磁気記録
ディスクを用いて実施することができる。すなわち、本
発明の磁気記録ディスクにより、最短記録波長（定周速
度の場合、磁気記録ディスクの内周面で測られる最短の
記録波長）が１．５μｍ以下のディジタル信号を記録再
生することができる。特に電磁変換特性においては、磁
性層が０．５μｍ以下であるため、ディジタル記録特有
のオーバーライト特性が向上する。本発明の磁気記録デ
ィスクにディジタル信号を記録再生する際には、該ディ
スクの磁性層に磁気ヘッドを接触した状態で行うことも
できるし、また、非接触下（浮上した状態）で行うこと
もできる。

【００６８】接触型を利用した記録再生方法の具体例と
しては、市販されているフロッピーディスクドライブ
（３．５インチ、５インチ、８インチ等）に使用されて
いるシンバル方式を挙げることができる。この方式に
は、磁気ヘッドをディスクにある程度の荷重で押し当て
るもの、あるいは磁気ヘッドでディスクを挟み込むもの
がある。ディスクの回転数は、２００〜２０００ｒｐｍ
の範囲である。回転数が速過ぎるとヘッドとディスクと
の間にエアーの巻き込みが発生し、安定したヘッドとの
接触状態を保つことができない。また非接触型を利用し
た記録再生方式の具体例としては、市販されているハー
ドディスクドライブに使用されているウインチェスター
方式やベルヌーイ効果を利用したヘッド方式を挙げるこ
とができる。特に安定した非接触状態を保つために、ま
たデータの送転速度を上げるためにディスクは、その回
転数が２０００〜１５０００ｒｐｍの範囲で高速回転し
ている。

【００６９】

【実施例】以下に、実施例及び比較例を記載し、本発明
を更に具体的に説明する。尚、以下に示す「部」は、特
に断らない限り「重量部」を表わす。

【００７０】［実施例１］ ［非磁性層形成用塗布液及び磁性層形成用塗布液の調
製］ （非磁性層） 酸化チタンＴｉＯ₂ （非磁性無機粉末） ８５部 （ＴＴＯ−５５Ｂ、石原産業（株）製） 平均粒子径：０．０４μｍ ＢＥＴ法による比表面積：４０ｍ² ／ｇ ｐＨ：７．０ モース硬度：６．０ カーボンブラック １５部 （ケッチェンブラックＥＣ、ライオンアクゾ（株）製） 平均一次粒子径：３０ｍμ ＤＢＰ吸油量：３５０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：９．５ ＢＥＴ法による比表面積：９５０ｍ² ／ｇ 揮発分：１．０％ 極性基（−ＳＯ₃ Ｎａ基）含有塩化ビニル共重合体 １３部 （ＭＲ−１１０、日本ゼオン（株）製） 極性基（−ＳＯ₃ Ｎａ基）含有ポリエステルポリウレタン樹脂 ６部 （重量平均分子量：５０，０００、ガラス転移温度（Ｔｇ）：３８℃） イソヘキサデシルステアレート ６部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部

【００７１】 （磁性層） 強磁性金属粉末 １００部 （組成：Ｆｅ／Ｎｉ＝９６／４（原子比）） 抗磁力（Ｈｃ）：表１に示す。 ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ² ／ｇ 結晶子サイズ：１９５Ａ 飽和磁化量（σｓ）：１３０ｅｍｕ／ｇ 粒子サイズ（平均長軸径）：０．２０μｍ 針状比：１０ 極性基（−ＳＯ₃ Ｎａ基）含有塩化ビニル共重合体 １２部 （ＭＲ−１１０、日本ゼオン（株）製） 極性基（−ＳＯ₃ Ｎａ基）含有ポリエステルポリウレタン樹脂 ５部 （重量平均分子量：５０，０００、ガラス転移温度（Ｔｇ）：３８℃） α−アルミナ（研磨剤） 表１に示す （ＡＫＰ−３０、平均粒子サイズ：０．２μｍ、 住友化学工業（株）製） カーボンブラック 表１に示す （ケッチェンブラック、ライオンアグゾ（株）製） 平均一次粒子径：３０ｍμ ＤＢＰ吸油量：３５０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：９．５ ＢＥＴ法による比表面積：９５０ｍ² ／ｇ 揮発分：１．０％ イソヘキサデシルステアレート ６部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ２００部 なお、強磁性金属粉末（磁性体）の粒子サイズ及び結晶
子サイズは、以下のように測定した。 磁性体の粒子径：透過型電子顕微鏡により長軸の平均粒
子径を求めた。 結晶子サイズ：Ｘ線回折により強磁性金属粉末の（４，
４，０）面と（２，２，０）面の回折線の半値幅の広が
りから求めた。

【００７２】上記非磁性層又は磁性層を形成する各成分
を連続ニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて分
散させた。得られた分散液にポリイソシアネ−ト（コロ
ネートＬ、日本ポリウレタン工業（株）製）を非磁性層
の塗布液には１０部、磁性層の塗布液には１２部を加
え、さらにそれぞれに酢酸ブチル４０部を加え、１μｍ
の平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性
層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製し
た。以下に、上記の方法で調製した各種の磁性層形成用
の塗布液（Ａ〜Ｔ）の主要成分組成を表１にまとめて示
す。なお、表１において、研磨剤、カーボンは、磁性体
１００部に対する添加量を示す。また「磁性体Ｈｃ」
は、磁性体の抗磁力（単位：Ｏｅ（エルステッド））を
表わし、後述する抗磁力の測定方法に従って測定した値
である。

【００７３】

【表１】 表１ ──────────────────────────────────── 磁性層 磁性体 カーボン 研磨剤 磁性層 磁性体 カーボン 研磨剤 塗布液 Ｈｃ （部） （部） 塗布液 Ｈｃ （部） （部） ──────────────────────────────────── Ａ １１００ ０ ０．０ Ｋ １６００ １０ ２．５ Ｂ １３００ ０ ０．０ Ｌ １６００ １５ ３．８ Ｃ １６００ ０ ０．０ Ｍ １６００ ２０ ５．０ Ｄ １８００ ０ ０．０ Ｎ １６００ ２５ ６．３ Ｅ ２０００ ０ ０．０ Ｏ １１００ １０ ２．５ Ｆ ２８００ ０ ０．０ Ｐ １３００ １０ ２．５ Ｇ ３２００ ０ ０．０ Ｑ １８００ １０ ２．５ Ｈ ３５００ ０ ０．０ Ｒ ２０００ １０ ２．５ Ｉ １６００ ２ ０．５ Ｓ ２８００ １０ ２．５ Ｊ １６００ ５ １．３ Ｔ ３２００ １０ ２．５ ────────────────────────────────────

【００７４】［磁気記録ディスクの作成］得られた非磁
性層形成用塗布液と磁性層形成用塗布液を、乾燥後の非
磁性層の厚さが２．０μｍとなるように、またこの上に
乾燥後の磁性層の厚さが表２に示す厚さ（磁性層形成用
塗布液として、上層側塗布液と下層側塗布液の二種類の
塗布液を用いて磁性層を形成した場合には、この二つの
塗布液で形成された塗布層の総厚）となるように、表面
に密着性を向上させるためのポリエステル系ポリマーよ
りなる厚さ０．１μｍの下塗り層を有するポリエチレン
テレフタレ−ト支持体（厚さ：６２μｍ、中心線表面粗
さ：０．０１μｍ、カットオフ値：０．２５ｍｍ）上に
毎分１５０ｍの塗布速度で同時重層塗布を行った。

【００７５】次いで、非磁性層及び磁性層がまだ湿潤状
態にあるうちに周波数５０Ｈｚ、磁場強度２００ガウス
また周波数１２０Ｈｚ、磁場強度１３０ガウスの２つの
交流磁場発生装置の中を通過させ、ランダム配向処理を
行った。配向処理後、乾燥し、７段のカレンダー処理機
（温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ² ）にて処理を行
った。その後、３．５インチの大きさに打ち抜き、研磨
テープによりバーニッシュ（表面研磨処理）を施した
後、これをライナーが内側に設けられた３．５インチの
カートリッジに収納し、所定の機構部品を付加して、種
々の３．５インチフロッピーディスク（磁気記録ディス
ク／サンプル：１〜４１）を製造した。

【００７６】得られたサンプルの構成を以下の表２（そ
の１〜その３）にまとめて示す。なお、表２中、「上／
下Ｈｃ比」の欄は、上層側塗布液を用いて形成した塗布
層の抗磁力（Ｈｃ）／下層側塗布液を用いて形成した塗
布層の抗磁力（Ｈｃ）の比を表わす。また「備考」の欄
の「本」及び「比」は、それぞれ「本発明試料」、「比
較試料」を表わす。

【００７７】

【表２】

【００７８】

【表３】

【００７９】

【表４】

【００８０】［磁気記録ディスクとしての評価］得られ
たフロッピーディスク（各試料）の特性を下記の方法で
測定した。結果は、上記表２に記載した。 （１）磁性層の抗磁力（Ｈｃ）及び配向度比 磁性層の抗磁力（Ｈｃ）は、振動試料型磁束密度（東英
工業（株）製）を用いて最大印加磁場１０ｋＯｅで測定
した。配向度比は、測定試料に沿って１０度おきに０度
〜３６０度まで磁場を回転させ角型比を求め、その角型
比の最小値を最大値で割った値を算出し、配向度とし
た。なお、上／下Ｈｃ比（上層側塗布液を用いて形成し
た塗布層の抗磁力（Ｈｃ）／下層側塗布液を用いて形成
した塗布層の抗磁力（Ｈｃ）の比）は、前記のようにそ
れぞれ上層側塗布液、下層側塗布液を用いて塗布層を形
成し、前記磁性層の抗磁力と同じ測定方法により抗磁力
を測定し、算出した。

【００８１】（２）磁性層の厚さ 層断面の切片試料を作成し、走査型電子顕微鏡（Ｓ−７
００型、日立製作所製）による画像を撮影した断面写真
から求めた。

【００８２】（３）磁性層のカーボンブラック及び研磨
剤の定量 磁性層表面をサンドペーパーで磁性層が半分になるまで
削り出し、以下の方法でカーボンブラックと研磨剤を定
量した。 カーボンブラックの定量 示差熱天秤（ＴＧＤ−５０００ＲＨ、真空理工（株）
製）を用いて、削り出した磁性層を白金製の試料皿に入
れ、まず窒素雰囲気下で５００℃まで昇温して有機物を
分解後、室温まで温度を下げ、次に空気雰囲気下で９０
０℃まで昇温させて、カーボンブラックを燃焼させその
量を定量した。また、処理前の重量と処理後の重量との
比から、磁性層中の磁性体及び研磨剤の含有量を算出し
た。 研磨剤の定量 蛍光Ｘ線装置（ガイガーフレックス３０６４型、理学電
気（株）製）により、テープ中の元素から強度を測定
し、既知含有量の標準試料と比較して研磨剤量を算出し
た。上記から算出した磁性体と研磨剤量及びカーボン
ブラックの組成比及びの研磨剤量から、カーボンブラ
ック及び研磨剤の磁性体重量に対する含有量を算出し
た。上記と同様な方法を利用して磁性層の残りの半分の
領域の組成についてもカーボンブラック及び研磨剤の磁
性体重量に対する含有量を算出することができる。

【００８３】次に、上記フロッピーディスク（各試料）
について、下記の評価方法で性能評価を行った。なお、
再生出力、オーバーライト、ピークシフトの評価は、比
較サンプル４１（磁性層を一種類の磁性層形成用塗布液
を用いて塗布形成した例）を評価基準にして相対評価し
た。 （１）再生出力の評価 フロッピーディスクドライブ（ＦＤ１３３５型、１３．
３ＭＢ、日本電気（株）製）を用い、ＪＩＳ Ｘ６２２
７に準じて２ｆ信号の振幅を評価した。再生出力は、比
較サンプル４１の出力値を０ｄＢとして相対値で示し
た。

【００８４】（２）オーバーライト、ピークシフトの評
価 フロッピーディスクドライブ（ＦＤ１３３５型、１３．
３ＭＢ、日本電気（株）製）を用い、ＪＩＳ Ｘ６２２
７に準じて評価した。比較サンプル４１の値を１００％
として相対値で示した。オーバーライトは、３００％以
下が実用範囲である。またピークシフトは、４００％以
下が好ましく、特に２００％以下が好ましい。

【００８５】（３）走行耐久性の評価 フロッピーディスクドライブ（ＦＤ１３３１型、日本電
気（株）製）を用い、記録周波数６２５ｋＨｚで全２４
０トラックに記録した後、半径が中心から３７．２５ｍ
ｍの位置において以下のフローを１サイクルとするサー
モサイクル試験を実施した。このサ−モ条件下におい
て、パス回数で２０００万回まで走行させたときの走行
状態をもって走行耐久性を評価した。

【００８６】「サーモサイクルフロー」 （２５℃、５０％ＲＨ、１時間）→昇温、２時間→
（６０℃、２０％ＲＨ、７時間）→降温、２時間→
（２５℃、５０％ＲＨ、１時間）→降温、２時間→
（５℃、１０％ＲＨ、７時間）→昇温、２時間→ また、５０万パス毎に全トラックの出力を測定して出力
が初期値の４５％以下となる場合をドロップ・アウト
（Ｄ．Ｏ．）とした。以上の評価結果を表３に示す。

【００８７】

【表５】 表３ ──────────────────────────────────── オーバー ピーク 試料 再生出力 ライト シフト 走行耐久性 ──────────────────────────────────── １（本発明） ６．０ ９０ １００ ２０００万パスＯＫ ２（本発明） ６．０ ９０ １００ ２０００万パスＯＫ ３（本発明） ５．５ ９５ １００ ２０００万パスＯＫ ４（本発明） ４．５ １００ １００ ２０００万パスＯＫ ５（本発明） ２．５ １００ １００ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ６（比較） ０．０ １０５ １００ ２０００万パスＯＫ ７（比較） −９．０ １１０ １００ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ８（本発明） ４．５ ９５ １００ ２０００万パスＯＫ ９（本発明） ３．０ ９５ １００ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── １０（比較） ０．０ １００ １００ ２０００万パスＯＫ １１（比較） ５．５ ９０ １００ ５０万パスでD.O.発生 １２（比較） ５．５ ９０ １００ １００万パスでD.O.発生 １３（比較） ５．０ ９５ １００ ５００万パスでD.O.発生 １４（比較） ４．５ ９５ １００ 1000 万パスでD.O.発生 １５（比較） ３．５ ９５ １００ 1500 万パスでD.O.発生 ──────────────────────────────────── １６（本発明） ２．０ ９５ １００ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── １７（比較） ０．５ １００ １００ ２０００万パスＯＫ １８（比較） ０．０ ２０ ３５０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── １９（本発明） ４．０ ５０ ２１０ ２０００万パスＯＫ ２０（本発明） ７．０ １２０ ８０ ２０００万パスＯＫ ２１（本発明） ７．０ １５０ １５０ ２０００万パスＯＫ ２２（本発明） ５．０ ２５０ ３００ ２０００万パスＯＫ ２３（本発明） ３．０ ２９０ ４００ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ２４（比較） ０．０ ３２０ ４８０ ２０００万パスＯＫ ２５（比較） −３．０ １０ １６０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ２６（本発明） ３．０ ３０ １５０ ２０００万パスＯＫ ２７（本発明） ７．０ １４０ ７５ ２０００万パスＯＫ ２８（本発明） ７．０ １７０ ６０ ２０００万パスＯＫ ２９（本発明） ３．０ ２９０ ３０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ３０（比較） −１．０ ３３０ ２０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ３１（本発明） ４．０ ４０ ７０ ２０００万パスＯＫ ３２（本発明） ７．０ １５０ １４０ ２０００万パスＯＫ ３３（本発明） ７．５ ２００ １８０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ３４（比較） ７．５ ３５０ ２３０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ３５（本発明） ７．５ １８０ １６０ ２０００万パスＯＫ ３６（本発明） ７．０ １６０ １６０ ２０００万パスＯＫ ３７（本発明） ４．０ １６０ １６０ ２０００万パスＯＫ ３８（本発明） ３．０ １６０ １６０ ２０００万パスＯＫ ３９（本発明） ２．０ １６０ １６０ ２０００万パスＯＫ ──────────────────────────────────── ４０（比較） ８．０ ９０ １００ ５０万パスでD.O.発生 ４１（比較） ０．０ １００ １００ 2000万パスでD.O.発生 ────────────────────────────────────

【００８８】上記表３の結果から、特定の構成からなる
磁性層を有する本発明に従う磁気記録ディスクは、オー
バーライト・ピークシフト特性が良好で、しかも再生出
力の低減もなく、良好な走行耐久性を有している。

【００８９】一方、比較サンプル６、７、１０び１７の
ように、磁性層の最大磁束密度（Ｂｍ）が２５００ガウ
ス未満の場合には、充分な再生出力の向上は見られな
い。特に、比較サンプル６、７の場合のように、磁性層
の表層側領域に含有されるカーボンブラックの量が、磁
性層の深層側領域に含有されるカーボンブラックの量と
比較して同等か、あるいは少ない場合には（これらの例
の場合には、研磨剤の含有量についてもカーボンブラッ
クと同様に、磁性層の表層側領域に含有される研磨剤の
量は、磁性層の深層側領域に含有される研磨剤の量と比
較して同等か、あるいは少ない）、再生出力は向上しな
いか、あるいは著しく低下する。また比較サンプル１１
〜１５のように、磁性層の表層側領域に含有されるカー
ボンブラックの量が、磁性層の深層側領域に含有される
カーボンブラックの量と比較して同等か、あるいは少な
い場合（これらの例の場合には、研磨剤の含有量につい
てもカーボンブラックと同様に、磁性層の表層側領域に
含有される研磨剤の量は、磁性層の深層側領域に含有さ
れる研磨剤の量と比較して同等か、あるいは少ない）に
は、充分な走行耐久性を得ることができない。

【００９０】更に比較サンプル１８、２４、２５及び３
０のように、磁性層の抗磁力（Ｈｃ）が、１３００〜３
０００の範囲以外となるように構成した場合には、再生
出力の向上やオーバーライト特性において充分な性能は
得られない。そして更に、磁性層の厚さは、薄いことが
好ましく、１μｍを越える厚みの場合（比較サンプル３
４）には、オーバーライト特性において充分な性能は得
られなくなる。

【００９１】

【発明の効果】本発明の磁気記録ディスクは、１μｍ以
下（特に、０．５μｍ以下）と極めて薄い磁性層が所謂
ウエット・オン・ウエット法により形成されているの
で、高密度記録再生が可能であり、しかもこのような薄
い磁性層に拘らず、高い走行耐久性を有している。また
本発明により、今まで困難とされた、高い走行耐久性を
維持した状態での再生出力の向上も可能になった。また
オーバーライト・ピークシフト特性や帯電防止性能など
の他の性能も良好であり、非常に高性能な磁気記録ディ
スクである。

【図面の簡単な説明】

【図１】一層を形成した後、この層が湿潤状態にあるう
ちに速やかにこの上に次の層を形成する、所謂逐次塗布
方法を利用した層形成を模式的に示す図である。

【図２】エクストルージョン塗布方法により多層を同時
に塗布する、所謂同時重層塗布方法を利用した層形成を
模式的に示す図である。

【符号の説明】

１ 可撓性支持体 ２ 塗布液 ３ 塗布機 ４ スムージングロール ５ 塗布液 ６ 塗布機（エクストルージョン塗布装置） ７ 同時多層塗布機

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 非磁性の可撓性支持体の少なくとも一方
   の側に、強磁性金属粉末を結合剤中に分散してなる厚さ
   １μｍ以下の磁性層を有する磁気記録ディスクにおい
   て、 上記磁性層が、カーボンブラックを含有し、磁性層表面
   から磁性層の厚さ方向の１／２の深さまでに含まれるカ
   ーボンブラックの量が、磁性層の１／２の深さから支持
   体側までに含まれるカーボンブラックの量よりも多く、
   かつ該磁性層の最大磁束密度が２５００ガウス以上、そ
   して抗磁力が１３００〜３０００Ｏｅであることを特徴
   とする磁気記録ディスク。
2. 【請求項２】 非磁性の可撓性支持体と磁性層との間
   に、更に非磁性無機粉末を結合剤中に分散してなる非磁
   性層が設けられている請求項１に記載の磁気記録ディス
   ク。
3. 【請求項３】 磁性層の１／２の深さから支持体側まで
   に含まれる強磁性金属粉末の量が、磁性層表面から磁性
   層の厚さ方向の１／２の深さまでに含まれる強磁性金属
   粉末の量よりも多い請求項１又は２に記載の磁気記録デ
   ィスク。
4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかの項に記載の磁
   気記録ディスクを用い、該ディスクの磁性層に最短記録
   波長が１．５μｍ以下のディジタル信号を記録再生する
   磁気記録再生方法。