JPH0942600A - Chemical supply device - Google Patents
Chemical supply deviceInfo
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- JPH0942600A JPH0942600A JP19722695A JP19722695A JPH0942600A JP H0942600 A JPH0942600 A JP H0942600A JP 19722695 A JP19722695 A JP 19722695A JP 19722695 A JP19722695 A JP 19722695A JP H0942600 A JPH0942600 A JP H0942600A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液漏れを直ちに検知できる薬液供給装置を提
供する。
【構成】 半導体ウエハＷをエッチング液Ｌ1 に浸漬し
てこの半導体ウエハＷにエッチング処理を施す処理槽２
と、処理槽２にエッチング液Ｌ1 を供給する薬液供給管
４とを有している。薬液供給管４の途中には、エッチン
グ液Ｌ1 を処理槽２に向かって流すポンプ５が設けられ
ている。また、薬液供給管４を包囲するようにして、流
入口７ａより薬液供給管４の外周に沿って流れて流出口
７ｂから流出する純水Ｌ2 によりエッチング液Ｌ1 を所
定の温度に調節するクールニクス７が取り付けられてい
る。クールニクス７の流出口７ｂ近傍には、純水Ｌ2 中
のイオン量から薬液供給管４を流れるエッチング液Ｌ1
の漏洩を検知するイオン電極式液漏れセンサ８が設置さ
れている。
(57) [Abstract] [Purpose] To provide a chemical liquid supply device capable of immediately detecting a liquid leak. [Structure] A processing tank 2 for immersing a semiconductor wafer W in an etching solution L 1 to perform an etching process on the semiconductor wafer W.
And a chemical solution supply pipe 4 for supplying the etching solution L 1 to the processing bath 2. A pump 5 for flowing the etching liquid L 1 toward the processing bath 2 is provided in the middle of the chemical supply pipe 4. Further, the etching solution L 1 is regulated to a predetermined temperature by pure water L 2 which surrounds the chemical solution supply pipe 4 and flows along the outer periphery of the chemical solution supply pipe 4 from the inflow port 7a and flows out from the outflow port 7b. Coolnix 7 is installed. In the vicinity of the outlet 7b of the Coolnix 7, the etching liquid L 1 flowing in the chemical liquid supply pipe 4 is caused by the amount of ions in the pure water L 2.
An ion electrode type liquid leak sensor 8 for detecting the leakage of the liquid is installed.
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は半導体ウエハなどのワー
クに所定の処理を施すための薬液供給装置に関するもの
である。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a chemical liquid supply apparatus for subjecting a work such as a semiconductor wafer to a predetermined process.
【０００２】[0002]
【従来の技術】たとえば半導体ウエハ（ワーク）の表面
上に形成された薄膜をウエット・エッチングする場合に
は、この半導体ウエハを薬液供給装置の処理槽に入れら
れたエッチング液つまり薬液に浸漬して行っている。そ
して、エッチング液は薬液供給管によって処理槽に供給
される。2. Description of the Related Art For example, when wet etching a thin film formed on the surface of a semiconductor wafer (workpiece), the semiconductor wafer is immersed in an etching solution, that is, a chemical solution contained in a processing tank of a chemical solution supply device. Is going. Then, the etching liquid is supplied to the processing bath by the chemical liquid supply pipe.
【０００３】薬液供給装置では、ピンホールやリーク点
から漏洩した薬液が外部に拡散して人体へ悪影響を及ぼ
したり周辺環境を汚染することを未然に防止するため、
薬液供給管に液漏れセンサを設置してこれを検知してい
る。In the chemical liquid supply device, the chemical liquid leaked from the pinhole or the leak point is prevented from diffusing to the outside and adversely affecting the human body or contaminating the surrounding environment.
A liquid leak sensor is installed in the chemical liquid supply pipe to detect this.
【０００４】なお、薬液供給装置を詳しく記載している
例としては、たとえば、工業調査会発行、「超ＬＳＩ製
造・試験装置ガイドブック＜1994年版＞」（1993年11月
20日発行）、P157〜P162がある。As an example in which the chemical liquid supply device is described in detail, for example, "VLSI manufacturing / testing device guidebook <1994 version>", published by the Industrial Research Council (November 1993)
Issued on 20th), P157 ~ P162.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、前記した装置
では、液漏れセンサが漏洩した薬液を直接検知する構造
とされているために、漏れ出た薬液が液漏れセンサにま
で到達しなければ液漏れを検知することができず、液漏
れ箇所が液漏れセンサから遠い場合には多量の液漏れを
許容してしまうことになるのみならず、液漏れの発生か
ら検知までにタイムラグが生じることになる。However, in the above-mentioned device, since the liquid leakage sensor has a structure for directly detecting the leaked chemical liquid, if the leaked chemical liquid does not reach the liquid leak sensor, the liquid leak sensor does not reach the liquid leak sensor. If a leak cannot be detected and the location of the leak is far from the leak sensor, not only will a large amount of leak be tolerated, but there will be a time lag between the occurrence of the leak and the detection. Become.
【０００６】また、液漏れが微量の場合には、薬液が液
漏れセンサに到達することができずに検出そのものが困
難になる。Further, when the amount of liquid leakage is very small, the chemical liquid cannot reach the liquid leakage sensor and the detection itself becomes difficult.
【０００７】さらに、液漏れの検出能力が液漏れセンサ
の取り付け場所に大きく依存し、安定的な検知ができな
くなる。Furthermore, the ability to detect a liquid leak largely depends on the location where the liquid leak sensor is attached, and stable detection cannot be performed.
【０００８】そして、薬液供給装置には、薬液供給管の
外周に沿って溶液を流すことにより薬液を所定の温度に
調節するクールニクスつまり温度調節部が取り付けられ
ているものも多いが、このように外周に溶液が存在する
部位には液漏れセンサが取り付けられず、最も液漏れし
やすい温度調節部での液漏れの検知ができない。In many cases, the chemical liquid supply device is equipped with a cool-nix, that is, a temperature adjusting section for adjusting the chemical liquid to a predetermined temperature by flowing the solution along the outer periphery of the chemical liquid supply pipe. Since the liquid leak sensor is not attached to the portion where the solution exists on the outer circumference, the liquid leak cannot be detected in the temperature control unit where the liquid leaks most easily.
【０００９】そこで、本発明の目的は、薬液供給管から
の液漏れを直ちに検知することのできる薬液供給装置を
提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide a chemical liquid supply device capable of immediately detecting a liquid leak from the chemical liquid supply pipe.
【００１０】本発明の他の目的は、薬液供給管からの微
量の液漏れも確実に検知することのできる薬液供給装置
を提供することにある。Another object of the present invention is to provide a chemical liquid supply device capable of surely detecting even a small amount of liquid leakage from the chemical liquid supply pipe.
【００１１】本発明のさらに他の目的は、液漏れセンサ
の取り付け場所に拘束されることなく、薬液供給管から
の液漏れを検知することのできる薬液供給装置を提供す
ることにある。Still another object of the present invention is to provide a chemical liquid supply device capable of detecting a liquid leak from a chemical liquid supply pipe without being restricted by a mounting position of the liquid leak sensor.
【００１２】本発明のさらに他の目的は、温度調節部に
おける薬液供給管からの薬液の漏れを検知することので
きる薬液供給装置を提供することにある。Still another object of the present invention is to provide a chemical liquid supply device capable of detecting the leakage of the chemical liquid from the chemical liquid supply pipe in the temperature control section.
【００１３】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面から明らかにな
るであろう。The above and other objects and novel features of the present invention will be apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.
【００１４】[0014]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を説明すれば、次の通
りである。SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, typical ones will be outlined as follows.
【００１５】すなわち、本発明の薬液供給装置は、ワー
クを薬液に浸漬して該ワークに所定の処理を施す処理槽
と、この処理槽に薬液を供給する薬液供給管とを有して
いる。薬液供給管の途中には、薬液を処理槽に向かって
流すポンプが設けられている。また、薬液供給管を包囲
するようにして、流入口より薬液供給管の外周に沿って
流れて流出口から流出する溶液により薬液を所定の温度
に調節する温度調節部が取り付けられている。温度調節
部には、溶液の特性の変化から薬液供給管を流れる薬液
の漏洩を検知する液漏れセンサが設置されている。That is, the chemical liquid supply apparatus of the present invention has a treatment tank for immersing a work in the chemical liquid to subject the work to a predetermined treatment, and a chemical liquid supply pipe for supplying the chemical liquid to the treatment tank. A pump is provided in the middle of the chemical liquid supply pipe to flow the chemical liquid toward the processing tank. Further, a temperature control unit is attached so as to surround the chemical liquid supply pipe, and adjusts the chemical liquid to a predetermined temperature by the solution flowing from the inflow port along the outer periphery of the chemical liquid supply pipe and flowing out from the outflow port. A liquid leakage sensor is installed in the temperature control unit to detect the leakage of the chemical liquid flowing through the chemical liquid supply pipe due to changes in the characteristics of the solution.
【００１６】また、本発明の薬液供給装置は、ワークを
薬液に浸漬して該ワークに所定の処理を施す処理槽と、
この処理槽に薬液を供給する薬液供給管とを有してい
る。薬液供給管の途中には、薬液を処理槽に向かって流
すポンプが設けられている。また、所定の間隔を開けて
薬液供給管のほぼ全体を被うようにして、一方端に形成
された流入口より溶液を導入してこれを薬液供給管の外
周に沿って流して流出口から流出させる外殻配管が設け
られている。外殻配管には、溶液の特性の変化から薬液
供給管を流れる薬液の漏洩を検知する液漏れセンサが設
置されている。Further, the chemical liquid supply apparatus of the present invention comprises a treatment tank for immersing a work in the chemical liquid and subjecting the work to a predetermined treatment,
It has a chemical liquid supply pipe for supplying a chemical liquid to this processing tank. A pump is provided in the middle of the chemical liquid supply pipe to flow the chemical liquid toward the processing tank. In addition, a predetermined interval is provided so as to cover almost the entire chemical solution supply pipe, and a solution is introduced from the inlet formed at one end and flowed along the outer periphery of the chemical solution supply pipe from the outlet. Outer shell piping for outflow is provided. A liquid leak sensor is installed in the outer shell pipe to detect a leak of the chemical liquid flowing through the chemical liquid supply pipe due to changes in the characteristics of the solution.
【００１７】これらの装置において、液漏れセンサは温
度調節部の流出口近傍に設置することが望ましい。温度
調節部や外殻配管の溶液には純水を用いることができ
る。さらに、液漏れセンサとしては、イオン電極式液漏
れセンサ、電気伝導度計式液漏れセンサあるいはｐＨ計
式液漏れセンサを用いることができる。In these devices, it is desirable that the liquid leak sensor is installed near the outlet of the temperature control section. Pure water can be used for the solution in the temperature control unit and the outer shell piping. Further, as the liquid leak sensor, an ion electrode type liquid leak sensor, an electric conductivity meter type liquid leak sensor or a pH meter type liquid leak sensor can be used.
【００１８】[0018]
【作用】上記のような構成の薬液供給装置によれば、温
度調節部や外殻配管内を流れる溶液の特性の変化を液漏
れセンサが検出することによって薬液供給管からの薬液
の漏洩発生を検知することとしているので、液漏れを発
生後直ちに検知することが可能になる。According to the chemical liquid supply device having the above-described configuration, the liquid leakage sensor detects a change in the characteristics of the solution flowing in the temperature control unit or the outer shell pipe, so that the chemical liquid leaks from the chemical liquid supply pipe. Since the detection is performed, it becomes possible to detect the liquid leakage immediately after the occurrence of the liquid leakage.
【００１９】また、溶液中に混入した薬液を検出するこ
ととしているので、微量の液漏れも検知することができ
る。Further, since the chemical liquid mixed in the solution is detected, it is possible to detect a small amount of liquid leakage.
【００２０】液漏れセンサを流出口近傍に設置すること
により、液漏れ箇所が該センサから遠い位置であって
も、確実にこれを検知することができる。By installing the liquid leak sensor in the vicinity of the outflow port, it is possible to reliably detect the liquid leak location even if the location is far from the sensor.
【００２１】溶液の特性の変化を利用して液漏れを検知
しているので、漏洩が最も発生しやすい温度調節部にお
ける液漏れの検知が可能になる。Since the liquid leakage is detected by utilizing the change in the characteristic of the solution, it becomes possible to detect the liquid leakage in the temperature control section where the leakage is most likely to occur.
【００２２】そして、外殻配管で薬液供給管全体を被う
ことによって、薬液供給管のいずれの箇所で漏洩した薬
液も１台の液漏れセンサにより検知することが可能にな
る。By covering the entire chemical liquid supply pipe with the outer shell pipe, it is possible to detect the chemical liquid leaking at any place of the chemical liquid supply pipe with one liquid leakage sensor.
【００２３】[0023]
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面に基づいて詳
細に説明する。なお、実施例を説明するための全図にお
いて、同一の部材には同一の符号を付し、その繰り返し
の説明は省略する。Embodiments of the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. In all the drawings for explaining the embodiments, the same members are designated by the same reference numerals, and the repeated description thereof will be omitted.
【００２４】（実施例１）図１は本発明の一実施例であ
る薬液供給装置を示す概略図である。(Embodiment 1) FIG. 1 is a schematic view showing a chemical liquid supply apparatus which is an embodiment of the present invention.
【００２５】本実施例の薬液供給装置は、たとえば半導
体装置のエッチング（ウエット・エッチング）にて用い
られるものであり、フッ酸（ＨＦ）やフッ化アンモニウ
ム（ＮＨ4 Ｆ）あるいはその混合液（ＮＨ4 ＨＦ）とい
ったエッチング液（薬液）Ｌ1 により半導体ウエハ（ワ
ーク）Ｗにエッチング処理を施すものである。なお、エ
ッチング液Ｌ1 はこれら以外の薬液であってもよい。The chemical solution supply apparatus of this embodiment is used, for example, in the etching (wet etching) of a semiconductor device, and uses hydrofluoric acid (HF), ammonium fluoride (NH 4 F), or a mixture thereof (NH 4 F). The semiconductor wafer (workpiece) W is etched with an etching solution (chemical solution) L 1 such as 4 HF). The etching liquid L 1 may be a chemical liquid other than these.
【００２６】カセット１に保持された半導体ウエハＷを
エッチング液Ｌ1 に浸漬してこれにエッチング処理を施
す処理槽２の外側には液受け槽３が設けられており、処
理槽２と液受け槽３とはそれぞれの底面に接続された薬
液供給管４で連通されている。この薬液供給管４は内壁
が電解研磨で鏡面仕上げとされたステンレス鋼により構
成されており、薬液供給管４を通過するときにおけるエ
ッチング液Ｌ1 の汚染が未然に防止されている。A liquid receiving tank 3 is provided outside the processing tank 2 in which the semiconductor wafer W held in the cassette 1 is dipped in the etching liquid L 1 and is subjected to etching processing. The tank 3 is communicated with a chemical solution supply pipe 4 connected to each bottom surface. The chemical liquid supply pipe 4 is made of stainless steel whose inner wall is mirror-polished by electrolytic polishing, and prevents the etching liquid L 1 from being contaminated when passing through the chemical liquid supply pipe 4.
【００２７】薬液供給管４の途中にはエッチング液Ｌ1
を処理槽２に向かって流すポンプ５およびエッチング液
Ｌ1 を濾過するフィルタ６が設けられている。したがっ
て、本薬液供給装置では処理槽２でエッチング処理に供
されたエッチング液Ｌ1 がオーバーフローして液受け槽
３に流れ出し、これがポンプ５により薬液供給管４を経
てフィルタ６で浄化されて再び処理槽２に至る循環系が
形成されている。なお、このような循環系を構成するの
ではなく、エッチング液Ｌ1 が貯蔵された薬液槽と処理
槽２とを薬液供給管４によって接続し、薬液層から処理
槽２へ供給されたエッチング液Ｌ1 を処理後に廃棄する
ようにしてもよい。An etching liquid L 1 is provided in the middle of the chemical liquid supply pipe 4.
A pump 5 for flowing the etching liquid toward the processing tank 2 and a filter 6 for filtering the etching liquid L 1 are provided. Therefore, in the present chemical liquid supply device, the etching liquid L 1 used for the etching treatment in the processing tank 2 overflows and flows out into the liquid receiving tank 3, which is purified by the pump 5 via the chemical liquid supply pipe 4 by the filter 6 and is processed again. A circulation system leading to the tank 2 is formed. Instead of forming such a circulation system, the chemical solution tank in which the etching solution L 1 is stored and the processing tank 2 are connected by the chemical solution supply pipe 4, and the etching solution supplied from the chemical solution layer to the processing tank 2 is connected. L 1 may be discarded after processing.
【００２８】薬液供給管４にはエッチング液Ｌ1 を最適
処理温度であるたとえば24℃に調節するクールニクス
（温度調節部）７が取り付けられている。このクールニ
クス７は薬液供給管４に沿ってこれを包囲するように設
けられており、その一方端には温調器と接続されてたと
えば24℃の純水（溶液）Ｌ2 が流入する流入口７ａが、
他方端には該純水Ｌ2 が流出する流出口７ｂがそれぞれ
形成されている。そして、流入口７ａより導入された純
水Ｌ2 は薬液供給管４の外周に沿って流れてエッチング
液Ｌ1 を前記した温度に調節した後、流出口７ｂから排
出されて温調器へ戻される。なお、薬液供給管４はクー
ルニクス７の位置において蛇行形状に形成されて純水Ｌ
2 との接触面積が広くとられ、純水Ｌ2 による調温が確
実に行われるようになっている。なお、調温手段として
は、本実施例のような純水Ｌ2 以外にも、たとえば水道
水など他の溶液を用いることも可能である。The chemical solution supply pipe 4 is provided with a coolnix (temperature adjusting section) 7 for adjusting the etching liquid L 1 to an optimum processing temperature, for example, 24 ° C. This coolnix 7 is provided along the chemical solution supply pipe 4 so as to surround it, and is connected to a temperature controller at one end thereof, for example, a flow of pure water (solution) L 2 at 24 ° C. flowing in. The entrance 7a is
The other end outlet 7b of the pure water L 2 flows out are formed respectively. Then, the pure water L 2 introduced from the inflow port 7a flows along the outer periphery of the chemical liquid supply pipe 4 to adjust the etching liquid L 1 to the above-mentioned temperature, and then is discharged from the outflow port 7b and returned to the temperature controller. Be done. In addition, the chemical liquid supply pipe 4 is formed in a meandering shape at the position of the cool nix 7 so that the pure water L
The contact area with 2 is wide, so that the temperature control with pure water L 2 is surely performed. As the temperature adjusting means, other than pure water L 2 as in the present embodiment, it is possible to use other solutions such as tap water.
【００２９】クールニクス７の流出口７ｂの近傍にはイ
オン電極式液漏れセンサ（液漏れセンサ）８が設置され
ている。このイオン電極式液漏れセンサ８には、薬液と
して用いられたたとえばフッ酸のＦ- イオンに対応して
フッ素イオン電極が用いられており、該フッ素イオン電
極と比較電極とが共に純水Ｌ2 に浸漬されている。そし
て、純水Ｌ2 中にエッチング液Ｌ1 であるフッ酸が混入
することによって捕獲されるＦ- のイオンで両電極間に
発生する電位差が所定の値以上になることにより、漏洩
の可能性が高いクールニクス７の部位における薬液供給
管４からのエッチング液Ｌ1 の液漏れが検知されるよう
になっている。ここで、エッチング液Ｌ1 が塩酸の場合
には塩素イオン電極が、アンモニアの場合にはアンモニ
アイオン電極が用いられる。An ion electrode type liquid leakage sensor (liquid leakage sensor) 8 is installed in the vicinity of the outlet 7b of the Coolnix 7. The ion electrode type liquid leak sensor 8 uses a fluorine ion electrode corresponding to, for example, F − ions of hydrofluoric acid used as a chemical liquid, and both the fluorine ion electrode and the reference electrode are pure water L 2 Is soaked in. Then, when the hydrofluoric acid that is the etching liquid L 1 is mixed into the pure water L 2 , the potential difference generated between the electrodes by the F − ions captured by the ions becomes a predetermined value or more, which may cause leakage. The leakage of the etching liquid L 1 from the chemical liquid supply pipe 4 at the portion of the high coolness 7 is detected. Here, a chlorine ion electrode is used when the etching liquid L 1 is hydrochloric acid, and an ammonia ion electrode is used when the etching liquid L 1 is ammonia.
【００３０】なお、エッチング液Ｌ1 の漏洩を確実に検
知するためには、このようにイオン電極式液漏れセンサ
８を純水Ｌ2 の流れの下流に当たる流出口７ｂ近傍に設
置するのが好ましいと考えられるが、他の箇所に設置し
てもよい。In order to reliably detect the leak of the etching liquid L 1 , it is preferable to install the ion electrode type liquid leak sensor 8 in the vicinity of the outlet 7b which is downstream of the flow of the pure water L 2 as described above. However, it may be installed in another place.
【００３１】検知されたエッチング液Ｌ1 の漏洩をアラ
ームによって作業者に知らせるため、イオン電極式液漏
れセンサ８には警報発生部９が接続されている。なお、
警報発生部９による漏洩発生の警報は、たとえば警告灯
の点滅などアラーム以外の他の手段を用いてもよい。An alarm generator 9 is connected to the ion electrode type liquid leak sensor 8 in order to inform the operator of the detected leak of the etching liquid L 1 by an alarm. In addition,
The alarm generation unit 9 may use an alarm other than the alarm, such as blinking of a warning light, for the alarm of leakage occurrence.
【００３２】本薬液供給装置における薬液供給管４から
のエッチング液Ｌ1 の漏洩は次のようにして検知され
る。Leakage of the etching liquid L 1 from the chemical liquid supply pipe 4 in the chemical liquid supply device of the present invention is detected as follows.
【００３３】半導体ウエハＷにエッチング処理を施すた
め、フィルタ６に濾過されたエッチング液Ｌ1 をクール
ニクス７で調温して処理槽２に供給している状態におい
て、継ぎ目や溶接箇所などの多いクールニクス７の位置
でリークがあると、漏洩したエッチング液Ｌ1 は調温の
ため薬液供給管４に沿って流れている純水Ｌ2 中に流れ
出す。したがって、純水Ｌ2 中にはエッチング液Ｌ1 の
イオン、たとえばＦ−イオンが存在するようになる。Since the semiconductor wafer W is subjected to the etching treatment, the etching liquid L 1 filtered by the filter 6 is supplied to the processing bath 2 after being temperature-controlled by the Coolnix 7 and there are many joints and welding points. When there is a leak at the position of the Coolnix 7, the leaked etching liquid L 1 flows out into the pure water L 2 flowing along the chemical liquid supply pipe 4 for temperature control. Therefore, the ions of the etching liquid L 1 , for example, F − ions are present in the pure water L 2 .
【００３４】漏洩したエッチング液Ｌ1 は純水Ｌ2 とと
もに流出口７ｂに向かって流される。そして、流出口７
ｂの近傍に設けられてイオン量を連続モニタしているイ
オン電極式液漏れセンサ８のフッ素イオン電極にエッチ
ング液Ｌ1 のＦ- イオンが検出されると、比較電極との
間に電位差が発生する。この電位差が規定の数値以上に
なった場合にエッチング液Ｌ1 の漏洩として検知され
る。The leaked etching liquid L 1 is caused to flow toward the outlet 7b together with the pure water L 2 . And the outlet 7
When F − ions of the etching liquid L 1 are detected in the fluorine ion electrode of the ion electrode type liquid leak sensor 8 which is provided in the vicinity of b and continuously monitors the amount of ions, a potential difference is generated between the ion and the reference electrode. To do. When this potential difference exceeds a specified value, it is detected as a leak of the etching liquid L 1 .
【００３５】イオン電極式液漏れセンサ８により漏洩が
検知されると、警報発生部９からアラームが鳴ってこれ
が作業者に知らされ、漏洩情報を受領した作業者は装置
を停止して製品の着工を中止し、漏洩箇所を修復する方
策を講じることになる。When a leak is detected by the ion electrode type liquid leak sensor 8, an alarm sounds from the alarm generation unit 9 and the worker is informed of this. The worker who receives the leak information stops the apparatus and starts the production of the product. Will be discontinued and measures will be taken to repair the leak.
【００３６】このように、本実施例による薬液供給装置
によれば、クールニクス７内を流れる純水Ｌ2 に混入し
た薬液供給管４からのエッチング液Ｌ1 のイオンの有無
をイオン電極式液漏れセンサ８により検出し、これによ
り漏洩発生を検知することとしているので、クールニク
ス７における液漏れがタイムラグなく発生後直ちに検知
される。As described above, according to the chemical liquid supply apparatus according to the present embodiment, the presence or absence of ions of the etching liquid L 1 from the chemical liquid supply pipe 4 mixed in the pure water L 2 flowing in the Coolnics 7 is determined by the ion electrode type liquid. Since the leak is detected by the leak sensor 8 and the leak is detected by this, the liquid leak in the Coolnix 7 is detected immediately after the occurrence without a time lag.
【００３７】また、純水Ｌ2 中に混入したエッチング液
Ｌ1 を検出することとしているので、僅かの液漏れも検
知することができる。Further, since the etching liquid L 1 mixed in the pure water L 2 is detected, a slight liquid leakage can be detected.
【００３８】さらに、イオン電極式液漏れセンサ８を流
出口７ｂの近傍に設置しているので、液漏れ箇所が該イ
オン電極式液漏れセンサ８から遠い位置であっても、１
台のイオン電極式液漏れセンサ８で確実にこれを検知す
ることができる。Further, since the ion electrode type liquid leak sensor 8 is installed in the vicinity of the outflow port 7b, even if the liquid leak location is far from the ion electrode type liquid leak sensor 8,
This can be reliably detected by the ion electrode type liquid leak sensor 8 on the table.
【００３９】そして、純水Ｌ2 を利用して液漏れを検知
しているので、クールニクス７の部位のように薬液供給
管４の外周に溶液が存在する部位における液漏れの検知
が可能になる。Since the liquid leak is detected by using the pure water L 2 , it is possible to detect the liquid leak at the portion where the solution exists on the outer periphery of the chemical liquid supply pipe 4 like the portion of Coolniks 7. Become.
【００４０】（実施例２）図２は本発明の他の実施例で
ある薬液供給装置を示す概略図である。(Embodiment 2) FIG. 2 is a schematic view showing a chemical liquid supply apparatus which is another embodiment of the present invention.
【００４１】本実施例の薬液供給装置では、薬液供給管
４と所定の間隔を開けてこの薬液供給管４のほぼ全体を
被うようにして外殻配管１０が設けられている点で、前
記した実施例１による薬液供給装置と異なっている。In the chemical liquid supply apparatus of this embodiment, the outer shell pipe 10 is provided so as to cover the chemical liquid supply pipe 4 at a predetermined interval so as to cover almost the entire chemical liquid supply pipe 4. This is different from the chemical liquid supply device according to the first embodiment.
【００４２】外殻配管１０の一方端には純水Ｌ2 が流入
する流入口１０ａが、他方端には該純水Ｌ2 が流出する
流出口１０ｂがそれぞれ形成されており、導入された純
水Ｌ2 は薬液供給管４の外周に沿って流れるようになっ
ている。また、流出口１０ｂの近傍にはイオン電極式液
漏れセンサ８が取り付けられている。An inlet 10a through which pure water L 2 flows in is formed at one end of the outer shell pipe 10, and an outlet 10b through which the pure water L 2 flows out is formed at the other end. The water L 2 flows along the outer circumference of the chemical liquid supply pipe 4. An ion electrode type liquid leak sensor 8 is attached near the outlet 10b.
【００４３】このように外殻配管１０で薬液供給管４全
体を被うことによって、液受け槽３から処理槽２に至る
薬液供給管４のいずれの箇所で漏洩したエッチング液Ｌ
1 もイオン電極式液漏れセンサ８により検出されるよう
になるので、循環系全体における液漏れを１台のイオン
電極式液漏れセンサ８で直ちに検知することが可能にな
る。By covering the entire chemical liquid supply pipe 4 with the outer shell pipe 10 in this manner, the etching liquid L leaked at any position of the chemical liquid supply pipe 4 from the liquid receiving tank 3 to the processing tank 2.
Since 1 is also detected by the ion electrode type liquid leak sensor 8, it is possible to immediately detect the liquid leak in the entire circulation system with one ion electrode type liquid leak sensor 8.
【００４４】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the embodiments and various modifications can be made without departing from the scope of the invention. Needless to say.
【００４５】たとえば、本実施例においては、液漏れセ
ンサとしてイオン電極式液漏れセンサ８が用いられてい
るが、純水Ｌ2 の特性の変化から液漏れを検出すること
のできる他の種々の液漏れセンサを用いることができ
る。たとえば、イオンにより変化する溶液の電気伝導率
（導電率）を利用して薬液の漏洩を検知する電気伝導計
式液漏れセンサや、溶液における酸性、アルカリ性の度
合いの変化を利用して薬液の漏洩を検知するｐＨ計式液
漏れセンサを用いることなどが可能である。For example, in this embodiment, the ion electrode type liquid leak sensor 8 is used as the liquid leak sensor, but various other liquid leaks can be detected from the change in the characteristics of the pure water L 2 . A leak sensor can be used. For example, an electric conductivity meter type liquid leakage sensor that detects leakage of chemical liquid by using the electric conductivity (conductivity) of the solution that changes due to ions, and leakage of chemical liquid by using the change in acidity or alkalinity of the solution It is possible to use a pH meter type liquid leak sensor for detecting
【００４６】また、本実施例において供給される薬液は
エッチング液Ｌ1 であるが、これに限定されるものでは
なく、たとえば硫酸、塩酸、硝酸、過酸化水素、アンモ
ニア水など洗浄用あるいはフォトレジスト用の種々の薬
液を供給することが可能である。ワークとしての半導体
ウエハＷについても、たとえばプリント配線基板など他
の種々のものを適用することが可能である。なお、この
場合の薬液としては洗浄用のエタノールを供給すること
などが考えられる。Further, the chemical liquid supplied in this embodiment is the etching liquid L 1 , but the chemical liquid is not limited to this, for example, sulfuric acid, hydrochloric acid, nitric acid, hydrogen peroxide, ammonia water, etc. for cleaning or photoresist. It is possible to supply various chemical solutions for use. As the semiconductor wafer W as a work, various other things such as a printed wiring board can be applied. In this case, as the chemical solution, it is possible to supply ethanol for cleaning.
【００４７】さらに、本発明による薬液供給装置は半導
体の製造における薬液供給装置に限定されるものではな
く、他の種々の分野の薬液供給装置として用いることが
可能である。Furthermore, the chemical liquid supply device according to the present invention is not limited to the chemical liquid supply device in the manufacture of semiconductors, and can be used as a chemical liquid supply device in various other fields.
【００４８】[0048]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば以
下の通りである。The effects obtained by the typical inventions among the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.
【００４９】(1).すなわち、本発明による薬液供給装置
によれば、温度調節部や外殻配管内を流れる溶液の特性
の変化を液漏れセンサが検出することによって薬液供給
管からの薬液の漏洩発生を検知することとしているの
で、液漏れを発生後直ちに感度よく検知することが可能
になる。(1) That is, according to the chemical liquid supply device of the present invention, the liquid leakage sensor detects a change in the characteristics of the solution flowing in the temperature control section or the outer shell pipe, so that the chemical liquid from the chemical liquid supply pipe is Since the occurrence of leakage is to be detected, it becomes possible to detect liquid leakage with high sensitivity immediately after the occurrence of leakage.
【００５０】(2).また、溶液中に混入した薬液を検出す
ることとしているので、微量の液漏れも検知することが
できる。(2) Further, since the chemical liquid mixed in the solution is detected, it is possible to detect a small amount of liquid leakage.
【００５１】(3).液漏れセンサを流出口近傍に設置する
ことにより、液漏れ箇所が該センサから遠い位置であっ
ても、確実にこれを検知することができる。(3) By installing the liquid leak sensor in the vicinity of the outflow port, it is possible to reliably detect the liquid leak location even if the location is far from the sensor.
【００５２】(4).溶液の特性の変化を利用して液漏れを
検知しているので、漏洩が最も発生しやすい温度調節部
における液漏れの検知が可能になる。(4) Since the liquid leakage is detected by utilizing the change in the characteristic of the solution, it becomes possible to detect the liquid leakage in the temperature control section where the leakage is most likely to occur.
【００５３】(5).外殻配管で薬液供給管全体を被うこと
によって、薬液供給管のいずれの箇所で漏洩した薬液も
１台の液漏れセンサにより検知することが可能になる。(5) By covering the entire chemical liquid supply pipe with the outer shell pipe, it is possible to detect the chemical liquid leaking at any place of the chemical liquid supply pipe with one liquid leak sensor.
【００５４】(6).前記した(1) 〜(5) により、液漏れに
よる薬液の無駄や薬品ガスの雰囲気への散乱による作業
者への悪影響、製品への二次汚染などを未然に防止する
ことができ、さらには装置自体の腐食を防止することが
できる。(6) By the above (1) to (5), it is possible to prevent the waste of the chemical liquid due to the liquid leakage, the adverse effect on the worker due to the scattering of the chemical gas into the atmosphere, and the secondary contamination of the product. It is also possible to prevent corrosion of the device itself.
【図１】本発明の実施例１による薬液供給装置を示す概
略図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a chemical liquid supply device according to a first embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例２による薬液供給装置を示す概
略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a chemical liquid supply device according to a second embodiment of the present invention.
１ カセット ２ 処理槽 ３ 液受け槽 ４ 薬液供給管 ５ ポンプ ６ フィルタ ７ クールニクス（温度調節部） ７ａ 流入口 ７ｂ 流出口 ８ イオン電極式液漏れセンサ（液漏れセンサ） ９ 警報発生部 １０ 外殻配管 １０ａ 流入口 １０ｂ 流出口 Ｌ1 エッチング液（薬液） Ｌ2 純水（溶液） Ｗ 半導体ウエハ（ワーク）1 Cassette 2 Processing Tank 3 Liquid Receiving Tank 4 Chemical Liquid Supply Pipe 5 Pump 6 Filter 7 Coolnix (Temperature Control Section) 7a Inlet 7b Outlet 8 Ion Electrode Liquid Leak Sensor (Liquid Leak Sensor) 9 Alarm Generator 10 Outer Shell Piping 10a Inlet 10b Outlet L 1 Etching liquid (chemical liquid) L 2 Pure water (solution) W Semiconductor wafer (workpiece)
Claims (5)
の処理を施す処理槽と、 前記処理槽に薬液を供給する薬液供給管と、 前記薬液供給管の途中に設けられ、前記薬液を前記処理
槽に向かって流すポンプと、 前記薬液供給管を包囲するようにして取り付けられ、流
入口より前記薬液供給管の外周に沿って流れて流出口か
ら流出する溶液により前記薬液を所定の温度に調節する
温度調節部と、 前記温度調節部に設置され、前記溶液の特性の変化から
前記薬液供給管を流れる前記薬液の漏洩を検知する液漏
れセンサとを有することを特徴とする薬液供給装置。1. A treatment tank for immersing a work in a chemical solution to subject the work to a predetermined treatment, a chemical solution supply pipe for supplying the chemical solution to the treatment tank, and a chemical solution supply pipe provided in the middle of the chemical solution supply pipe. A pump that flows toward the processing tank, and is attached so as to surround the chemical liquid supply pipe, and the chemical liquid flows at a predetermined temperature by a solution that flows along the outer periphery of the chemical liquid supply pipe from the inflow port and flows out from the outflow port. And a liquid leakage sensor that is installed in the temperature adjustment unit and that detects a leak of the chemical liquid flowing through the chemical liquid supply pipe from a change in the characteristics of the solution. .
の処理を施す処理槽と、 前記処理槽に薬液を供給する薬液供給管と、 前記薬液供給管の途中に設けられ、前記薬液を前記処理
槽に向かって流すポンプと、 所定の間隔を開けて前記薬液供給管のほぼ全体を被うよ
うに設けられ、一方端に形成された流入口より溶液を導
入してこれを前記薬液供給管の外周に沿って流して流出
口から流出させる外殻配管と、 前記外殻配管に設置され、前記溶液の特性の変化から前
記薬液供給管を流れる前記薬液の漏洩を検知する液漏れ
センサとを有することを特徴とする薬液供給装置。2. A treatment tank for immersing a workpiece in a chemical solution to subject the workpiece to a predetermined treatment, a chemical solution supply pipe for supplying the chemical solution to the treatment tank, and a chemical solution supply pipe provided in the middle of the chemical solution supply tube for supplying the chemical solution. A pump that flows toward the processing tank and a pump that is provided so as to cover almost the entire chemical solution supply pipe at a predetermined interval, and introduces a solution from an inflow port formed at one end to supply the chemical solution. An outer shell pipe that flows along the outer circumference of the pipe and flows out from an outlet, and a liquid leak sensor that is installed in the outer shell pipe and detects a leak of the chemical liquid flowing through the chemical liquid supply pipe from a change in the characteristics of the solution. A chemical liquid supply device comprising:
おいて、前記液漏れセンサは前記流出口近傍に設置され
ていることを特徴とする薬液供給装置。3. The chemical liquid supply device according to claim 1, wherein the liquid leak sensor is installed near the outflow port.
置において、前記溶液は純水であることを特徴とする薬
液供給装置。4. The chemical liquid supply apparatus according to claim 1, 2 or 3, wherein the solution is pure water.
給装置において、前記液漏れセンサはイオン電極式液漏
れセンサ、電気伝導度計式液漏れセンサまたはｐＨ計式
液漏れセンサであることを特徴とする薬液供給装置。5. The chemical liquid supply device according to claim 1, wherein the liquid leak sensor is an ion electrode type liquid leak sensor, an electric conductivity meter type liquid leak sensor, or a pH meter type liquid leak sensor. A chemical liquid supply device characterized by the above.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19722695A JPH0942600A (en) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | Chemical supply device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19722695A JPH0942600A (en) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | Chemical supply device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0942600A true JPH0942600A (en) | 1997-02-14 |
Family
ID=16370944
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19722695A Pending JPH0942600A (en) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | Chemical supply device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0942600A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105065914A (en) * | 2015-07-21 | 2015-11-18 | 武汉新芯集成电路制造有限公司 | Etchant delivering pipeline system and method used in wet etching process |
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| CN110107811A (en) * | 2019-05-31 | 2019-08-09 | 惠州市鸿宇泰科技有限公司 | A kind of pipe-line system of alkaline etching liquid production |
| JP2024074568A (en) * | 2022-11-21 | 2024-05-31 | 三菱重工業株式会社 | Ammonia fuel leak detection device, boiler system, and ammonia fuel leak detection method |
-
1995
- 1995-08-02 JP JP19722695A patent/JPH0942600A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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