JPH0945087A - Semiconductor memory circuit - Google Patents

Semiconductor memory circuit

Info

Publication number
JPH0945087A
JPH0945087A JP19355595A JP19355595A JPH0945087A JP H0945087 A JPH0945087 A JP H0945087A JP 19355595 A JP19355595 A JP 19355595A JP 19355595 A JP19355595 A JP 19355595A JP H0945087 A JPH0945087 A JP H0945087A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
word lines
level
potential
word
circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP19355595A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2821393B2 (en
Inventor
Masanori Hirano
正則 平野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP19355595A priority Critical patent/JP2821393B2/en
Publication of JPH0945087A publication Critical patent/JPH0945087A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2821393B2 publication Critical patent/JP2821393B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To dispose backing wirings without enlarging the width and spacing of word lines, to reduce the area of a chip and also to shorten a time for transfer of a signal from a word line selecting circuit to a memory cell. SOLUTION: A plurality of word lines W1-Wm are divided into groups each comprising adjacent lines in the number of N, and a first drive circuit 3 encoding the state of distribution of a level in the word lines in the number of N in each group, which is driven by a word, line selecting circuit 2, into a coded signal according to unit signals in a smaller number of signals than N is provided. Backing wirings SW1 and SW2 corresponding to the unit signals respectively are disposed in parallel to the word lines, and a second drive circuit 4 driving the other ends of the corresponding word lines is provided.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体メモリ回路に
関し、特にワード線の信号伝達時間を短縮するための手
段を備えた半導体メモリ回路に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory circuit, and more particularly, to a semiconductor memory circuit having means for shortening a signal transmission time of a word line.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の半導体メモリ回路の一例として、
縦積み型にメモリセルを配置したマスクROM型の半導
体メモリ回路を図6に示す。
2. Description of the Related Art As an example of a conventional semiconductor memory circuit,
FIG. 6 shows a mask ROM type semiconductor memory circuit in which memory cells are arranged vertically.

【0003】この半導体メモリ回路(第1の例)は、行
方向,列方向にマトリクス状に配置されかつ列方向に縦
積み型に配置された複数のメモリセルMC11〜MCm
nを備えたメモリセルアレイ1と、複数のメモリセルM
C11〜MCmnの各行それぞれと対応して設けられ選
択レベルのとき対応する行のメモリセルを選択状態とす
る複数のワード線W1〜Wmと、複数のメモリセルMC
11〜Mmnの各列それぞれと対応して設けられ対応す
る列の選択状態のメモリセルの記憶情報を伝達する複数
のディジット線と、複数のワード線W1〜Wmそれぞれ
の一端と接続しアドレス信号(図示省略)に従って所定
のワード線を選択レベルとするワード線選択回路2とを
有する構成となっている。
This semiconductor memory circuit (first example) includes a plurality of memory cells MC11 to MCm arranged in a matrix in a row direction and a column direction and arranged vertically in a column direction.
cell array 1 having a plurality of memory cells M
A plurality of word lines W1 to Wm which are provided corresponding to the respective rows of C11 to MCmn and select a memory cell of the corresponding row at a selected level, and a plurality of memory cells MC
A plurality of digit lines which are provided corresponding to the respective columns of 11 to Mmn and transmit the storage information of the memory cells in the selected state of the corresponding column, and one ends of the plurality of word lines W1 to Wm are connected to an address signal ( (Not shown) and a word line selection circuit 2 for setting a predetermined word line to a selection level.

【0004】このような半導体メモリ回路においては、
1本のディジット線(Di)と接続するメモリセル(M
C1i〜MC6i)、及びこれらメモリセルを選択状態
とするワード線(W1〜W6)は図7に示すような配置
となっており、ワード線(W1〜W6)の幅及び間隔
は、製造技術の許す範囲で極力小さくしている。
In such a semiconductor memory circuit,
A memory cell (M) connected to one digit line (Di)
C1i to MC6i) and the word lines (W1 to W6) for selecting these memory cells are arranged as shown in FIG. 7, and the width and interval of the word lines (W1 to W6) are determined according to the manufacturing technology. We make it as small as possible.

【0005】次にこの半導体メモリ回路の動作について
説明する。
Next, the operation of the semiconductor memory circuit will be described.

【0006】1つのメモリセル(例えばMC11)を選
択状態とする場合、まず、ワード線選択回路2によって
1本のワード線(W1)を選択レベルの低レベルとし、
他のワード線(W2〜Wm)を非選択レベルの高レベル
とする。また図示されていないディジット線選択回路に
よって1本のディジット線(D1)を選択する。その結
果、選択状態のメモリセル(MC11)以外のメモリセ
ル(MC21〜MCm1)全てが導通状態となり、選択
状態のメモリセル(MC11)の記憶内容に応じたレベ
ルの信号がディジット線(Di)に読出される。
When one memory cell (for example, MC11) is selected, first, one word line (W1) is set to a low selection level by the word line selection circuit 2,
The other word lines (W2 to Wm) are set to the non-selected high level. One digit line (D1) is selected by a digit line selection circuit (not shown). As a result, all the memory cells (MC21 to MCm1) other than the selected memory cell (MC11) become conductive, and a signal of a level corresponding to the storage content of the selected memory cell (MC11) is applied to the digit line (Di). Is read.

【0007】このような半導体メモリ回路においては、
ワード線W1〜Wmは通常、多結晶シリコン等によって
形成されるため、その抵抗値は比較的大きく、また多く
のメモリセルが接続されるため、寄生容量も大きくな
る。従って、ワード線選択回路2からの信号のメモリセ
ルへの伝達時間が大きくなり、このワード線選択回路2
から遠いメモリセル程この伝達時間は大きくなる。
In such a semiconductor memory circuit,
Since the word lines W1 to Wm are usually formed of polycrystalline silicon or the like, their resistance values are relatively large, and since many memory cells are connected, the parasitic capacitance also becomes large. Therefore, the transmission time of the signal from the word line selection circuit 2 to the memory cell becomes longer, and this word line selection circuit 2
The longer the memory cell is, the longer the transmission time becomes.

【0008】そこで、このワード線選択回路からの信号
の伝達時間を短かくするために、図8に示されたよう
に、ワード線の両端にワード線選択回路2a,2bを設
けて、両端からワード線を駆動する例(第2の例)もあ
る。更に、図には示されていないが、ワード線の中間点
にワード線選択回路を設けた例(第3の例)もある。
In order to shorten the signal transmission time from the word line selection circuit, word line selection circuits 2a and 2b are provided at both ends of the word line as shown in FIG. There is also an example (second example) of driving a word line. Further, although not shown in the figure, there is also an example (third example) in which a word line selection circuit is provided at an intermediate point between word lines.

【0009】しかし、これらの例においては、ワード線
選択回路が多くなる分、またはワード線を分割駆動する
分、ワード線の信号の伝達時間は短かくなるが、逆にそ
の分チップ面積が大きくなる。
However, in these examples, the word line selection circuit is increased or the word line is divided and driven, so that the signal transmission time of the word line becomes shorter, but conversely the chip area becomes larger. Become.

【0010】また、図9に示すように、複数のワード線
W1〜W6それぞれと並列に低抵抗材料のアルミニウム
による裏打ち配線SW1x〜SW6xを配置して複数箇
所で接続し、ワード線の見かけ上の抵抗を小さくするよ
うにした例(第4の例)もある(例えば、特開昭62−
145862号公報参照)。
As shown in FIG. 9, lining wirings SW1x to SW6x made of low resistance material aluminum are arranged in parallel with each of a plurality of word lines W1 to W6, and connected at a plurality of locations to form word lines. There is also an example (fourth example) in which the resistance is reduced (for example,
No. 145862).

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
メモリ回路は、第1の例では、複数のワード線W1〜W
mそれぞれを一端から駆動する構成となっており、これ
らワード線は比較的大きな抵抗値と寄生容量とを持つた
め、ワード線選択回路からの信号の伝達時間が大きくな
るという問題点があり、第2,第3の例では、ワード線
の両端から駆動したり、ワード線を分割して駆動する構
成となっているので、その分伝達時間は小さくなるもの
の、チップ面積が大きくなるという問題点があり、第4
の例では、並列配置された低抵抗材料のアルミニウムに
よる裏打ち配線SW1x〜SW6xによって伝達時間は
十分小さくすることができるものの、低抵抗材料のアル
ミニウムによる配線の幅及び間隔は、製造技術上、多結
晶シリコンによるワード線の幅及び間隔に比べて大きく
する必要があり、従ってチップ面積が大きくなる、又は
裏打ち配線を配置するだけの領域が得られない、という
問題点がある。
In the first example, the conventional semiconductor memory circuit described above has a plurality of word lines W1 to W
m are driven from one end, and since these word lines have relatively large resistance values and parasitic capacitances, there is a problem that the signal transmission time from the word line selection circuit becomes longer. In the second and third examples, since the word line is driven from both ends or the word line is divided and driven, the transmission time is correspondingly reduced, but the chip area is increased. Yes, fourth
In the example, although the transmission time can be sufficiently reduced by the backing wirings SW1x to SW6x made of aluminum of a low resistance material arranged in parallel, the width and spacing of the wiring made of aluminum of a low resistance material are polycrystalline. It is necessary to increase the width and the interval of the word lines made of silicon, so that there is a problem that the chip area increases or a region for arranging the backing wiring cannot be obtained.

【0012】本発明の目的は、ワード線の幅及び間隔を
大きくすることなく裏打ち配線を配置することができ、
かつチップ面積を縮小すると共にワード線選択回路から
の信号の各メモリセルの伝達時間を短縮することができ
る半導体メモリ回路を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a backing wiring without increasing the width and spacing of word lines,
It is another object of the present invention to provide a semiconductor memory circuit capable of reducing a chip area and a transmission time of a signal from a word line selection circuit to each memory cell.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の半導体メモリ回
路は、行方向,列方向にマトリクス状に配置された複数
のメモリセルを備えたメモリセルアレイと、前記複数の
メモリセルの各行それぞれと対応して設けられ選択レベ
ルのとき対応する行のメモリセルを選択状態とする複数
のワード線と、前記複数のメモリセルの各列それぞれと
対応して設けられ対応する列の選択状態のメモリセルの
記憶情報を伝達する複数のディジット線と、前記複数の
ワード線それぞれの一端と接続しアドレス信号に従って
これら複数のワード線のうちの所定のワード線を選択レ
ベルとするワード線選択回路と、このワード線選択回路
に近接して配置され前記複数のワード線を隣接するN本
(Nは2以上の整数)ずつの組に区分けしてこの区分け
された組それぞれのN本のワード線のレベルの分布状態
の情報を所定のコード化レベルをもち前記Nより少ない
信号数の単位信号で構成されるコード化信号にコード化
し出力する第1の駆動回路と、前記区分けされた組それ
ぞれのコード化信号を構成する各単位信号それぞれと対
応しかつ対応する組のN本のワード線と並行し低抵抗材
料で形成配置されて前記第1の駆動回路からの対応する
単位信号を伝達する複数の裏打ち配線と、前記複数のワ
ード線それぞれの他端側に配置され前記区分けされた組
それぞれのコード化信号をデコードして対応する組のN
本のワード線それぞれの他端を前記ワード線選択回路に
よるレベルと同一レベルで駆動する第2の駆動回路とを
有している。また、コード化信号を構成する各単位信号
それぞれのコード化レベルを、少なくとも2つの電位レ
ベルとして構成される。
A semiconductor memory circuit according to the present invention has a memory cell array having a plurality of memory cells arranged in a matrix in a row direction and a column direction, and a memory cell array corresponding to each row of the plurality of memory cells. A plurality of word lines for selecting a memory cell in a corresponding row when the memory cell is at a selected level, and a memory cell in a selected state corresponding to each column of the plurality of memory cells. A plurality of digit lines for transmitting storage information; a word line selection circuit connected to one end of each of the plurality of word lines for setting a predetermined word line of the plurality of word lines to a selection level according to an address signal; The plurality of word lines which are arranged close to a line selection circuit are divided into adjacent N (N is an integer of 2 or more) groups, and each of the divided groups is A first driving circuit for encoding information on the distribution state of the levels of the N word lines into a coded signal having a predetermined coded level and comprising unit signals having a smaller number of signals than the N, and outputting the coded signal; Corresponding to each of the unit signals constituting the coded signals of each of the divided sets, and formed of a low-resistance material in parallel with the N word lines of the corresponding set, and the corresponding units from the first driving circuit. A plurality of backing wirings for transmitting signals; and a coded signal of each of the divided sets arranged on the other end side of each of the plurality of word lines, and a corresponding set of N
A second drive circuit for driving the other end of each of the word lines at the same level as that of the word line selection circuit. Further, the coding level of each unit signal constituting the coded signal is configured as at least two potential levels.

【0014】また、コード化信号を構成する単位信号の
コード化レベルを3つの電位状態とし、Nを2として2
本1組のワード線のレベルの分布状態の情報を1本の裏
打ち配線で伝達するようにし、2本1組のワード線のレ
ベルの分布状態を、前記2本のワード線のうちの一方が
選択レベルのときの分布状態、他方が選択レベルのとき
の分布状態、共に非選択レベルのときの分布状態の3つ
の分布状態とし、更に、第1の駆動回路を、電源電位及
び接地電位の中間の電位を発生する中間電位発生回路
と、2本のワード線の組それぞれと対応して設けられ、
対応する組の2本のワード線のうちの一方のレベルを入
力端に受ける第1のインバータと、ゲートに前記2本の
ワード線のうちの他方のレベルを受けソースを前記第1
のインバータの出力端と接続しドレインを対応する組の
裏打ち配線の一端と接続するNチャネル型のトランジス
タと、ゲートに前記2本のワード線のうちの他方のレベ
ルを受けソースに前記中間の電位を受けドレインを前記
裏打ち配線の一端と接続するPチャネル型のトランジス
タとを備えた回路とし、第2の駆動回路を、前記2本の
ワード線の組それぞれと対応し設けられ、入力端を対応
する組の裏打ち配線の他端と接続し出力端を対応する組
の2本のワード線のうちの一方の他端と接続して前記中
間の電位及び電源電位の中間のしきい値電圧をもつ第2
のインバータと、第1の入力端を前記裏打ち配線の他端
と接続し第2の入力端を前記第2のインバータの出力端
と接続し出力端を前記2本のワード線のうちの他方の他
端と接続して少なくとも前記第1の入力端に前記中間の
電位及び接地電位の中間のしきい値電圧をもつNAND
ゲートとを備えた回路として構成される。
Further, the coding level of the unit signal constituting the coded signal is set to three potential states, N is set to 2 and 2
The information on the level distribution state of one set of word lines is transmitted by one backing wiring, and the level distribution state of one set of two word lines is changed by one of the two word lines. There are three distribution states: a distribution state at the selection level, a distribution state when the other is at the selection level, and a distribution state when both are at the non-selection level. And an intermediate potential generating circuit for generating a potential of
A first inverter receiving one level of a corresponding pair of two word lines at an input terminal; and a gate receiving the other level of the two word lines at a gate and connecting the source to the first level.
An N-channel transistor whose drain is connected to the output terminal of the inverter and whose drain is connected to one end of a corresponding set of backing wiring, whose gate receives the other level of the two word lines and whose source has the intermediate potential And a P-channel transistor that connects the drain to one end of the backing wiring, and a second drive circuit is provided corresponding to each of the two sets of word lines. And the output terminal is connected to the other end of one of the two word lines of the corresponding set and has an intermediate threshold voltage between the intermediate potential and the power supply potential. Second
And a first input terminal connected to the other end of the backing wiring, a second input terminal connected to an output terminal of the second inverter, and an output terminal connected to the other of the two word lines. A NAND connected to the other end and having at least the first input terminal having an intermediate threshold voltage between the intermediate potential and the ground potential
It is configured as a circuit having a gate.

【0015】また、コード化信号の各単位信号を2つの
電位レベルをもつバイナリ型とし、第1及び第2の駆動
回路をバイナリ型の論理ゲートによる回路とし、更に、
N本1組のワード線のレベル分布状態が、前記N本のワ
ード線のうちの1本が選択レベルのときの分布状態全て
と、前記N本のワード線全てが非選択レベルのときの分
布状態とを含み、前記Nを2より大きい数として構成さ
れる。
Further, each unit signal of the coded signal is of a binary type having two potential levels, the first and second driving circuits are circuits of binary type logic gates,
The level distribution state of a set of N word lines includes a distribution state when one of the N word lines is at a selected level and a distribution state when all of the N word lines are at a non-selected level. And N is configured as a number greater than two.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】次に本発明の実施の形態について
図面を参照して説明する。
Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings.

【0017】図1は本発明の第1の実施の形態を示す回
路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【0018】この第1の実施の形態が図6に示された従
来の半導体メモリ回路と相違する点は、ワード線選択回
路2に近接して配置され複数のワード線W1〜Wnを2
本ずつ組に区分けしてこの区分けされた組それぞれの2
本のワード線のレベルの分布状態の情報を3つのコード
化レベルをもつ1つの単位信号で構成されたコード化信
号にコード化して出力する第1の駆動回路3と、区分け
された組それぞれのコード化信号を構成する単位信号と
対応しかつ対応する組の2本のワード線と並行し低抵抗
材料のアルミニウムで形成配置されて第1の駆動回路3
からの対応する単位信号を伝達する複数の裏打ち配線
(SW1,W2,…)と、複数のワード線W1〜Wmそ
れぞれの他端側に配置され区分けされた組それぞれのコ
ード化信号をデコードして対応する組の2本のワード線
それぞれの他端をワード線選択回路によるレベルと同一
レベルで駆動する第2の駆動回路4とを設けた点にあ
る。
The first embodiment is different from the conventional semiconductor memory circuit shown in FIG. 6 in that a plurality of word lines W1 to Wn arranged close to a word line selection circuit 2 are connected to each other.
2 for each group
A first drive circuit 3 for coding information on the distribution state of the levels of the word lines into a coded signal composed of one unit signal having three coded levels and outputting the coded signal; A first drive circuit 3 which is formed of aluminum of low resistance material and is arranged in parallel with two word lines of a set corresponding to the unit signal constituting the coded signal, and
, And a plurality of lined lines (SW1, W2,...) For transmitting corresponding unit signals, and the coded signals of each of the divided groups arranged at the other end of each of the plurality of word lines W1 to Wm. A second drive circuit 4 for driving the other end of each of the two word lines of the corresponding set at the same level as the level by the word line selection circuit is provided.

【0019】この第1の実施の形態においては、コード
化信号を構成する単位信号のコード化レベルが、電源電
位レベル,接地電位レベル,電源電位及び接地電位の中
間の中間電位レベルの3つの電位レベルとなっており、
2本のワード線のレベルの分布状態を、これら2本のワ
ード線のうちの一方が選択レベルのときの分布状態、他
方が選択レベルのときの分布状態、共に非選択レベルの
ときの分布状態の3つの分布状態としている。
In the first embodiment, the coding level of the unit signal constituting the coded signal has three potentials: a power supply potential level, a ground potential level, and an intermediate potential level intermediate between the power supply potential and the ground potential. Level.
The distribution state of the levels of the two word lines is represented by the distribution state when one of the two word lines is at the selected level, the distribution state when the other is at the selected level, and the distribution state when both are at the non-selected level. Of three distribution states.

【0020】また、第1の駆動回路3は、電源電位及び
接地電位の中間の中間電位Vmを発生する中間電位発生
回路31と、対応する組の2本のワード線(W1,W2
/W3,W4/…)のうちの一方(W1/W3/…)の
レベルを入力端に受ける第1のインバータ(IV31/
IV32/…)と、ゲートに2本のワード線(W1,W
2/W3,W4/…)のうちの他方(W2/W4/…)
のレベルを受けソースを第1のインバータ(IV31/
IV32/…)の出力端と接続しドレインを対応する組
の裏打ち配線(SW1/SW2/…)の一端と接続する
Nチャネル型のトランジスタ(MT31/MT33/
…)と、ゲートに2本のワード線(W1,W2/W3,
W4/…)のうちの他方のレベルを受けソースに中間電
位Vmを受けドレインを対応する裏打ち配線(SW1/
SW2/…)の一端と接続するPチャネル型のトランジ
スタ(MT32/MT34/…)とを備えた構成となっ
ている。
The first drive circuit 3 includes an intermediate potential generating circuit 31 for generating an intermediate potential Vm intermediate between the power supply potential and the ground potential, and a corresponding pair of two word lines (W1, W2
/ W3, W4 /...) At the input terminal.
IV32 / ...) and two word lines (W1, W
2 / W3, W4 / ...) (W2 / W4 / ...)
And the source is switched to the first inverter (IV31 /
IV32 / ...) and an N-channel transistor (MT31 / MT33 /) having a drain connected to one end of a corresponding set of backing wires (SW1 / SW2 / ...).
…) And two word lines (W1, W2 / W3,
, W4 /...), The source receives the intermediate potential Vm, and the drain is the corresponding backing wiring (SW1 /.
SW2 / ...) and a P-channel transistor (MT32 / MT34 / ...) connected to one end of the switch.

【0021】また、第2の駆動回路4は、入力端を対応
する組の裏打ち配線(SW1/SW2/…)の他端と接
続し出力端を対応する組の2本のワード線(W1,W2
/W3,W4/…)のうちの一方(W1/W3/…)の
他端と接続して中間電位Vm及び電源電位の中間のしき
い値電圧をもつ第2のインバータ(IV41/IV42
/…)と、第1の入力端を対応する裏打ち配線(SW1
/SW2/…)の他端と接続し第2の入力端を第2のイ
ンバータ(IV41/IV42/…)の出力端と接続し
出力端を2本のワード線(W1,W2/W3,W4/
…)のうちの他方(W2/W4/…)の他端と接続して
中間電位Vm及び接地電位の中間のしきい値電圧をもつ
HANDゲート(G41/G42/…)とを備えた構成
となっている。
The second drive circuit 4 connects the input terminal to the other end of the corresponding set of backing wires (SW1 / SW2 / ...) and connects the output terminal to the corresponding two word lines (W1, W1, W2
/ W3, W4 / ...) and a second inverter (IV41 / IV42) connected to the other end of one (W1 / W3 / ...) and having an intermediate potential Vm and an intermediate threshold voltage between the power supply potentials.
/.) And a backing wiring (SW1) corresponding to the first input terminal.
/ SW2 / ...), the second input terminal is connected to the output terminal of the second inverter (IV41 / IV42 / ...), and the output terminal is connected to two word lines (W1, W2 / W3, W4). /
..) Connected to the other end of the other (W2 / W4 /...) And having a HAND gate (G41 / G42 /...) Having a threshold voltage between the intermediate potential Vm and the ground potential. Has become.

【0022】次に、この第1の実施の形態の動作につい
て説明する。
Next, the operation of the first embodiment will be described.

【0023】中間電位Vmは、例えば電源電位を5〜6
Vとして3V、インバータ(IV41/IV42/…)
のしきい値電圧は4V、NANDゲート(G41/G4
2/…)のしきい値電圧は2Vとする。
The intermediate potential Vm is, for example, 5 to 6 of the power source potential.
3V as V, inverter (IV41 / IV42 / ...)
Has a threshold voltage of 4 V and a NAND gate (G41 / G4
2 / ...) is 2V.

【0024】2本のワード線W1,W2のうちの一方の
W1が選択レベルの低レベル、他方が非選択レベルの高
レベルのときのレベルの分布状態では、インバータIV
31の出力端は高レベル(電源電位レベル)、トランス
ジスタMT31はオン、MT32はオフとなっているの
で、裏打ち配線SW1の一端は高レベルの信号で駆動さ
れ他端に伝達される。この伝達された信号のレベル(高
レベル,電源電位レベル)はインバータIV41のしき
い値電圧より高いので、このインバータIV41の出力
信号は低レベルとなり、ワード線W1の他端を駆動す
る。すなわち、ワード線選択回路2によるワード線W1
のレベルと同一レベルで駆動する。また、インバータI
V41の出力信号が低レベルであるのでNANDゲート
G41の出力信号は高レベルとなりワード線W2の他端
を駆動する。このレベルも、ワード線選択回路2による
ワード線W2のレベルと同一である。
In the level distribution state when one of the two word lines W1 and W2 is at a low selected level and the other is at a nonselected high level, the inverter IV
Since the output terminal 31 is at a high level (power supply potential level), the transistor MT31 is on, and the MT32 is off, one end of the lining SW1 is driven by a high-level signal and transmitted to the other end. Since the level (high level, power supply potential level) of the transmitted signal is higher than the threshold voltage of the inverter IV41, the output signal of the inverter IV41 becomes low level and drives the other end of the word line W1. That is, the word line W1 by the word line selection circuit 2
Drive at the same level as In addition, inverter I
Since the output signal of V41 is at a low level, the output signal of NAND gate G41 is at a high level and drives the other end of word line W2. This level is also the same as the level of the word line W2 by the word line selection circuit 2.

【0025】次に、ワード線W2が選択レベルでW1が
非選択レベルのときは、トランジスタMT31がオフ、
トランジスタMT32がオンとなるので、裏打ち配線S
W1の一端は中間電位Vmで駆動される。この中間電位
を裏打ち配線SW1の他端で受けるインバータIV41
は、そのしきい値電圧が中間電位Vmより高いので、そ
の出力信号は高レベルとなり、ワード線W1の他端をワ
ード線選択回路2によるワード線W1のレベルと同一レ
ベルで駆動する。また、NANDゲートG41の2つの
入力端は高レベル及び中間電位Vmレベルとなってお
り、これらより低いしきい値電圧をもつNANDゲート
G41の出力信号は低レベルとなり、ワード線W2の他
端をワード線選択回路2によるワード線W1,W2のレ
ベルと同一レベルで駆動される。
Next, when the word line W2 is at the selected level and W1 is at the non-selected level, the transistor MT31 is turned off,
Since the transistor MT32 is turned on, the backing wiring S
One end of W1 is driven at the intermediate potential Vm. Inverter IV41 receiving this intermediate potential at the other end of backing wiring SW1
Has its threshold voltage higher than the intermediate potential Vm, its output signal becomes high level, and the other end of the word line W1 is driven at the same level as the level of the word line W1 by the word line selection circuit 2. The two input terminals of the NAND gate G41 are at the high level and the intermediate potential Vm level, and the output signal of the NAND gate G41 having the lower threshold voltage is at the low level, and the other end of the word line W2 is connected. The word lines are driven at the same level as the levels of the word lines W1 and W2 by the word line selection circuit 2.

【0026】これらの動作による各部の電位レベルの状
態を示したものが図2である。図2において“H”は電
源電位レベルの高レベル、“L”は接地電位レベルの低
レベル、Mは中間電位Vmのレベルである。
FIG. 2 shows the state of the potential level of each part due to these operations. In FIG. 2, "H" is a high level of the power supply potential level, "L" is a low level of the ground potential level, and M is a level of the intermediate potential Vm.

【0027】図3は、この第1の実施の形態のワード線
及び裏打ち配線の配置状態を示す配置模式図である。
FIG. 3 is a schematic view showing the arrangement of word lines and backing wirings according to the first embodiment.

【0028】図3に示すように、裏打ち配線SW1〜S
W3それぞれはワード線2本ずつに1本の割合で配置さ
れるので、アルミニウムによる裏打ち配線SW1〜SW
3の幅及び間隔が、製造技術上ワード線W1〜W6の幅
及び間隔より大きくなったとしても、ワード線W1〜W
6の幅及び間隔に影響を与えることなく配置することが
できる。すなわち、チップ面積を増大させることなく裏
打ち配線を配置することができる。
As shown in FIG. 3, the backing wirings SW1 to SW
Since each of W3 is arranged at a ratio of one word line to two word lines, the backing lines SW1 to SW
3 is larger than the width and spacing of the word lines W1 to W6 due to manufacturing technology.
6 can be arranged without affecting the width and spacing. That is, the backing wiring can be arranged without increasing the chip area.

【0029】このように、この第1の実施の形態では、
ワード線の幅及び間隔を大きくすることなく裏打ち配線
を配置することができ、かつ第1及び第2の駆動回路
3,4の回路素子数はワード線選択回路2よりはるかに
少ないので、従来の第2〜第4の例よりチップ面積を縮
小することができ、また、第1の駆動回路3からのコー
ド化信号を低抵抗材料による裏打ち配線で高速に伝達し
て第2の駆動回路4でデコードして各ワード線を両端か
ら駆動するので、ワード線選択回路2からの各メモリセ
ルへの信号の伝達時間を短縮することができる。
As described above, in the first embodiment,
The backing wiring can be arranged without increasing the width and spacing of the word lines, and the number of circuit elements of the first and second driving circuits 3 and 4 is much smaller than that of the word line selecting circuit 2. The chip area can be reduced as compared with the second to fourth examples, and the coded signal from the first drive circuit 3 is transmitted at high speed by the backing wiring made of a low-resistance material, and the second drive circuit 4 Since decoding is performed and each word line is driven from both ends, it is possible to shorten a signal transmission time from the word line selection circuit 2 to each memory cell.

【0030】図4は本発明の第2の実施の形態を示す回
路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【0031】この第1の実施の形態は、第1の駆動回路
3aによるコード化信号の各単位信号を、2つの電位レ
ベルをもつバイナリ型とし、第1及び第2の駆動回路3
a,4aを、バイナリ型の論理ゲートのNANDゲート
G31,G32、G43〜G46による回路としたもの
である。
In the first embodiment, each unit signal of the coded signal by the first drive circuit 3a is a binary type having two potential levels, and the first and second drive circuits 3a
a and 4a are circuits constituted by NAND gates G31, G32, G43 to G46 of binary logic gates.

【0032】コード化信号の各単位信号がバイナリ型の
場合、1組を2本のワード線とすると、これら2本のワ
ード線のうちの1本が選択レベルであるときの2つの分
布状態、及び2本共非選択レベルのときの分布状態の3
つの分布状態をコード化するものとすると2ビット必要
となり、裏打ち配線も2本必要となってワード線と裏打
ち配線とが同数となってしまうため、Nは2より大きい
数、すなわち3以上としている。
If each unit signal of the coded signal is of a binary type, if one set is composed of two word lines, two distribution states when one of these two word lines is at the selected level are: And 3 of the distribution state when both are at the non-selection level
If two distribution states are coded, two bits are required, two backing wirings are required, and the number of word lines and backing wirings becomes the same. Therefore, N is set to a number larger than 2, that is, 3 or more. .

【0033】この第2の実施の形態では、ワード線を4
本1組とし、この1組に対して3本の裏打ち配線を設け
た構成となっている。従って、裏打ち配線(SW11〜
SW13)の幅及び間隔がワード線(W1〜W4)の幅
及び間隔より33%大きくなったとしても、これら裏打
ち配線によりチップ面積が増大することはない。
In the second embodiment, four word lines are connected.
One set is provided, and three backing wirings are provided for this set. Therefore, the backing wiring (SW11 to SW11
Even if the width and spacing of SW13) are 33% larger than the width and spacing of word lines (W1 to W4), the backing wiring does not increase the chip area.

【0034】この第2の実施の形態における4本のワー
ド線W1〜W4のレベルの分布状態と、裏打ち配線SW
1〜SW13のレベルの分布状態、すなわちコード化信
号の各単位信号のレベルの分布状態を図5に示す。この
第2の実施の形態では、4本のワード線W1〜W4のう
ちの1本が選択レベル(L)であるときの全て(4つ)
のレベル分布状態、ワード線W1〜W4全てが非選択レ
ベル(H)であるときのレベルの分布状態、及びスタン
バイ状態(全てLレベル)であるときのレベルの分布状
態の6つの分布状態をコード化しているので、3ビット
のコード化信号、すなわち3本の裏打ち配線を必要とし
ている。
In the second embodiment, the level distribution state of the four word lines W1 to W4 and the backing wiring SW
FIG. 5 shows the distribution state of the levels of 1 to SW13, that is, the distribution state of the level of each unit signal of the coded signal. In the second embodiment, all (four) when one of the four word lines W1 to W4 is at the selection level (L).
, The level distribution state when all the word lines W1 to W4 are at the non-selection level (H), and the level distribution state when the word lines W1 to W4 are at the standby state (all at the L level). Therefore, a 3-bit coded signal, that is, three backing wirings are required.

【0035】この第2の実施の形態においても第1の実
施の形態と同様の効果が得られることは明白である。
It is apparent that the same effects as those of the first embodiment can be obtained in the second embodiment.

【0036】3ビットのコード化信号で伝達できるレベ
ルの分布状態の数は“8”であるので、全ワード線がH
レベル、及びLレベルの2つの分布状態を含むものとす
ると、ワード線6本までを1組とすることができる。す
なわち、ワード線6本に対し裏打ち配線3本でよい。
Since the number of distribution states of the level that can be transmitted by the 3-bit coded signal is "8", all the word lines are at H level.
Assuming that two distribution states of level and L level are included, up to six word lines can be set as one set. That is, three backing wirings may be used for six word lines.

【0037】また、1組あたりの裏打ち配線の数を
“4”とすると、全ワード線がHレベル,Lレベルの2
つの分布状態を含むものとして、ワード線14本までを
対応させることができる。
When the number of backing wirings per set is "4", all word lines have H level and L level of 2 lines.
Up to 14 word lines can be associated with one distribution state.

【0038】更に、コード化信号を構成する各単位信号
のコード化レベルを、例えば第1の実施の形態と同様に
3電位レベルとすると、単位信号2つで9つのレベルの
分布状態を表わすことができるので、全ワード線がHレ
ベル,Lレベルの分布状態を含むものとして、2本の裏
打ち配線で7本までのワード線を対応させることができ
る。すなわち、1組のワード線の数に対する裏打ち配線
の数を少なくすることができる。
Further, assuming that the coding level of each unit signal constituting the coded signal is, for example, 3 potential levels in the same manner as in the first embodiment, a distribution state of 9 levels can be represented by two unit signals. Therefore, assuming that all the word lines include the distribution states of the H level and the L level, up to seven word lines can be made to correspond by two backing wirings. That is, the number of backing wirings can be reduced with respect to the number of word lines in one set.

【0039】なお、これら実施の形態では、第1の駆動
回路3,3aをワード線選択回路2に近接して設けた構
成としたが、ワード線選択回路2の回路構成によって
は、1組のワード線より少ない数のワード線選択回路2
の内部信号によって1組のワード線のレベルの分布状態
を表わすこともでき、この場合には第1の駆動回路が不
要となる。
In these embodiments, the first drive circuits 3 and 3a are provided close to the word line selection circuit 2. However, depending on the circuit configuration of the word line selection circuit 2, one set of the first drive circuits 3 and 3a may be provided. Word line selection circuits 2 with less number than word lines
Can be used to represent the level distribution of a set of word lines, in which case the first drive circuit is not required.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように本発明は、複数のワ
ード線を隣接するN本ずつの組に区分けしてワード線選
択回路の近接配置された第1の駆動回路によりこの区分
けされた組それぞれのN本のワード線のレベルの分布状
態をこのNより少ない信号数の単位信号によるコード化
信号にコード化し、このコード化信号の各単位信号それ
ぞれと対応する低抵抗材料による裏打ち配線を対応する
組のN本のワード線と並行配置してこれら単位信号によ
り駆動し、これら裏打ち配線の他端に伝達されたコード
化信号を第2の駆動回路によりデコードしてN本のワー
ド線それぞれの他端を駆動する構成とすることにより、
ワード線の幅及び間隔を大きくすることなく裏打ち配線
を配置することができ、かつ第1及び第2の駆動回路を
ワード線選択回路より少ない回路素子数で構成できるの
で、チップ面積を縮小することができ、また、コード化
信号を裏打ち配線により高速に伝達してN本のワード線
それぞれを駆動するので、ワード線選択回路からの各メ
モリセルへの信号の伝達時間を短縮することができる効
果がある。
As described above, according to the present invention, a plurality of word lines are divided into adjacent N pairs, and the divided groups are divided by the first driving circuit disposed close to the word line selection circuit. The distribution state of the level of each of the N word lines is coded into a coded signal using unit signals having a smaller number of signals than the N, and a backing wiring made of a low-resistance material corresponding to each unit signal of the coded signal is supported. A set of N word lines is arranged in parallel, driven by these unit signals, and the coded signal transmitted to the other end of the backing wiring is decoded by a second drive circuit to be used for each of the N word lines. By driving the other end,
Since the backing wiring can be arranged without increasing the width and interval of the word lines, and the first and second driving circuits can be configured with a smaller number of circuit elements than the word line selection circuit, the chip area can be reduced. In addition, since the coded signal is transmitted at high speed through the backing wiring to drive each of the N word lines, the time required for transmitting the signal from the word line selection circuit to each memory cell can be reduced. There is.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態を示す回路図であ
る。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示された実施の形態の動作を説明するた
めの1組のワード線及び裏打ち配線のレベルの分布状態
を示す図である。
FIG. 2 is a diagram illustrating a distribution state of a level of a pair of word lines and a backing wiring for explaining the operation of the embodiment shown in FIG. 1;

【図3】図1に示された実施の形態のワード線及び裏打
ち配線の配置状態を示す配置模式図である。
FIG. 3 is a layout schematic diagram showing a layout state of word lines and backing wires according to the embodiment shown in FIG. 1;

【図4】本発明の第2の実施の形態を示す回路図であ
る。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図5】図4に示された実施の形態の動作を説明するた
めの1組のワード線及び裏打ち配線のレベルの分布状態
を示す図である。
FIG. 5 is a diagram illustrating a level distribution state of a pair of word lines and backing wirings for explaining the operation of the embodiment shown in FIG. 4;

【図6】従来の半導体メモリ回路の第1の例を示す回路
図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a first example of a conventional semiconductor memory circuit.

【図7】図6に示された半導体メモリ回路の主にワード
線の配置状態を示す配置模式図である。
FIG. 7 is a layout schematic diagram mainly showing a layout state of word lines in the semiconductor memory circuit shown in FIG. 6;

【図8】従来の半導体メモリ回路の第2の例を示すブロ
ック図である。
FIG. 8 is a block diagram showing a second example of a conventional semiconductor memory circuit.

【図9】従来の半導体メモリ回路の第4の例のワード線
及び裏打ち配線の配置状態を示す配置模式図である。
FIG. 9 is a layout schematic diagram showing a layout state of word lines and backing wirings in a fourth example of a conventional semiconductor memory circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 メモリセルアレイ 2,2a,2b ワード線選択回路 3,3a,4,4a 駆動回路 31 中間電位発生回路 D1〜Dn ディジット線 G31,G32,G41〜G46 論理ゲート IV31,IV32,IV41,IV42 インバー
タ MC11〜MCmn メモリセル MT31,MT32 トランジスタ SW1〜SW3,SW11〜SW13,SW1x〜SW
6x 裏打ち配線 W1〜Wm ワード線
REFERENCE SIGNS LIST 1 memory cell array 2, 2a, 2b word line selection circuit 3, 3a, 4, 4a drive circuit 31 intermediate potential generation circuit D1 to Dn digit lines G31, G32, G41 to G46 logic gates IV31, IV32, IV41, IV42 inverter MC11 MCmn Memory cells MT31, MT32 Transistors SW1 to SW3, SW11 to SW13, SW1x to SW
6x Backing wiring W1-Wm Word line

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 行方向,列方向にマトリクス状に配置さ
れた複数のメモリセルを備えたメモリセルアレイと、前
記複数のメモリセルの各行それぞれと対応して設けられ
選択レベルのとき対応する行のメモリセルを選択状態と
する複数のワード線と、前記複数のメモリセルの各列そ
れぞれと対応して設けられ対応する列の選択状態のメモ
リセルの記憶情報を伝達する複数のディジット線と、前
記複数のワード線それぞれの一端と接続しアドレス信号
に従ってこれら複数のワード線のうちの所定のワード線
を選択レベルとするワード線選択回路と、このワード線
選択回路に近接して配置され前記複数のワード線を隣接
するN本(Nは2以上の整数)ずつの組に区分けしてこ
の区分けされた組それぞれのN本のワード線のレベルの
分布状態の情報を所定のコード化レベルをもち前記Nよ
り少ない信号数の単位信号で構成されるコード化信号に
コード化し出力する第1の駆動回路と、前記区分けされ
た組それぞれのコード化信号を構成する各単位信号それ
ぞれと対応しかつ対応する組のN本のワード線と並行し
低抵抗材料で形成配置されて前記第1の駆動回路からの
対応する単位信号を伝達する複数の裏打ち配線と、前記
複数のワード線それぞれの他端側に配置され前記区分け
された組それぞれのコード化信号をデコードして対応す
る組のN本のワード線それぞれの他端を前記ワード線選
択回路によるレベルと同一レベルで駆動する第2の駆動
回路とを有することを特徴とする半導体メモリ回路。
1. A memory cell array including a plurality of memory cells arranged in a matrix in a row direction and a column direction, and a memory cell array provided corresponding to each row of the plurality of memory cells and corresponding to a row at a selection level. A plurality of word lines for selecting a memory cell, a plurality of digit lines provided corresponding to each column of the plurality of memory cells and transmitting storage information of a selected memory cell in the corresponding column; A word line selection circuit that is connected to one end of each of the plurality of word lines and sets a predetermined word line among the plurality of word lines to a selection level in accordance with an address signal; The word lines are divided into sets of adjacent N lines (N is an integer of 2 or more), and information on the level distribution state of the N word lines in each of the divided groups is obtained. A first drive circuit having a fixed coding level and coding and outputting a coded signal composed of unit signals having a number of signals less than N, and each unit constituting the coded signal of each of the divided sets; A plurality of backing wirings formed of a low resistance material in parallel with a corresponding set of N word lines corresponding to each signal and transmitting a corresponding unit signal from the first drive circuit; The coded signal of each of the divided sets is arranged at the other end of each word line, and the other end of each of the N word lines of the corresponding set is driven at the same level as the level by the word line selection circuit. And a second drive circuit.
【請求項2】 コード化信号を構成する各単位信号それ
ぞれのコード化レベルを、少なくとも2つの電位レベル
とした請求項1記載の半導体メモリ回路。
2. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein the coding level of each unit signal constituting the coded signal is at least two potential levels.
【請求項3】 コード化信号を構成する単位信号のコー
ド化レベルを3つの電位状態とし、Nを2として2本1
組のワード線のレベルの分布状態の情報を1本の裏打ち
配線で伝達するようにした請求項1記載の半導体メモリ
回路。
3. The coding level of a unit signal constituting a coded signal is set to three potential states, N is set to 2 and 2
2. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein the information on the level distribution state of the set of word lines is transmitted by one backing wiring.
【請求項4】 2本1組のワード線のレベルの分布状態
を、前記2本のワード線のうちの一方が選択レベルのと
きの分布状態、他方が選択レベルのときの分布状態、共
に非選択レベルのときの分布状態の3つの分布状態とし
た請求項3記載の半導体メモリ回路。
4. A distribution state of levels of a pair of word lines, a distribution state when one of the two word lines is at a selected level, and a distribution state when the other is at a selected level. 4. The semiconductor memory circuit according to claim 3, wherein there are three distribution states of the selection level.
【請求項5】 第1の駆動回路を、電源電位及び接地電
位の中間の電位を発生する中間電位発生回路と、2本の
ワード線の組それぞれと対応して設けられ、対応する組
の2本のワード線のうちの一方のレベルを入力端に受け
る第1のインバータと、ゲートに前記2本のワード線の
うちの他方のレベルを受けソースを前記第1のインバー
タの出力端と接続しドレインを対応する組の裏打ち配線
の一端と接続するNチャネル型のトランジスタと、ゲー
トに前記2本のワード線のうちの他方のレベルを受けソ
ースに前記中間の電位を受けドレインを前記裏打ち配線
の一端と接続するPチャネル型のトランジスタとを備え
た回路とし、第2の駆動回路を、前記2本のワード線の
組それぞれと対応し設けられ、入力端を対応する組の裏
打ち配線の他端と接続し出力端を対応する組の2本のワ
ード線のうちの一方の他端と接続して前記中間の電位及
び電源電位の中間のしきい値電圧をもつ第2のインバー
タと、第1の入力端を前記裏打ち配線の他端と接続し第
2の入力端を前記第2のインバータの出力端と接続し出
力端を前記2本のワード線のうちの他方の他端と接続し
て少なくとも前記第1の入力端に前記中間の電位及び接
地電位の中間のしきい値電圧をもつNANDゲートとを
備えた回路とした請求項4記載の半導体メモリ回路。
5. A first drive circuit is provided corresponding to each of a set of an intermediate potential generating circuit for generating an intermediate potential between a power supply potential and a ground potential, and two word lines, and a second set of corresponding sets is provided. A first inverter receiving one level of the two word lines at an input terminal, and a gate receiving the other level of the two word lines at a gate and connecting a source to an output terminal of the first inverter; An N-channel transistor having a drain connected to one end of a corresponding set of backing wirings; a gate receiving the other level of the two word lines; a source receiving the intermediate potential; A circuit including a P-channel transistor connected to one end, a second drive circuit provided corresponding to each of the two sets of word lines, and an input end connected to the other end of the backing wiring of the corresponding set. Contact with A second inverter having an output terminal connected to the other end of one of the two word lines of the corresponding set and having a threshold voltage intermediate between the intermediate potential and the power supply potential; At least an input terminal is connected to the other end of the backing wiring, a second input terminal is connected to the output terminal of the second inverter, and an output terminal is connected to the other end of the two word lines. 5. The semiconductor memory circuit according to claim 4, wherein the first input terminal includes a NAND gate having a threshold voltage between the intermediate potential and the ground potential.
【請求項6】 コード化信号の各単位信号を2つの電位
レベルをもつバイナリ型とし、第1及び第2の駆動回路
をバイナリ型の論理ゲートによる回路とした請求項1記
載の半導体メモリ回路。
6. The semiconductor memory circuit according to claim 1, wherein each unit signal of the coded signal is of a binary type having two potential levels, and the first and second driving circuits are circuits of binary type logic gates.
【請求項7】 N本1組のワード線のレベル分布状態
が、前記N本のワード線のうちの1本が選択レベルのと
きの分布状態全てと、前記N本のワード線全てが非選択
レベルのときの分布状態とを含み、前記Nを2より大き
い数とした請求項6記載の半導体メモリ回路。
7. The level distribution state of a set of N word lines is such that all of the distribution states when one of the N word lines is at a selected level and all of the N word lines are unselected. 7. The semiconductor memory circuit according to claim 6, wherein N is a number greater than 2 including a distribution state at a level.
JP19355595A 1995-07-28 1995-07-28 Semiconductor memory circuit Expired - Lifetime JP2821393B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19355595A JP2821393B2 (en) 1995-07-28 1995-07-28 Semiconductor memory circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19355595A JP2821393B2 (en) 1995-07-28 1995-07-28 Semiconductor memory circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH0945087A true JPH0945087A (en) 1997-02-14
JP2821393B2 JP2821393B2 (en) 1998-11-05

Family

ID=16310000

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP19355595A Expired - Lifetime JP2821393B2 (en) 1995-07-28 1995-07-28 Semiconductor memory circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2821393B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008234815A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JP2009135131A (en) * 2007-11-28 2009-06-18 Toshiba Corp Semiconductor memory device
US7983083B2 (en) 2008-05-26 2011-07-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008234815A (en) * 2007-03-20 2008-10-02 Toshiba Corp Semiconductor memory device
JP2009135131A (en) * 2007-11-28 2009-06-18 Toshiba Corp Semiconductor memory device
US7983083B2 (en) 2008-05-26 2011-07-19 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
JP2821393B2 (en) 1998-11-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5506816A (en) Memory cell array having compact word line arrangement
JP3181845B2 (en) Lower word line driving circuit and semiconductor memory device using the same
US5282175A (en) Semiconductor memory device of divided word line
US4855957A (en) Random access memory including switching elements to limit the number of energized data in pairs
JP2501993B2 (en) Semiconductor memory device
KR100246311B1 (en) Semiconductor memory device
US20080279033A1 (en) Semiconductor integrated circuit device
JP3779480B2 (en) Semiconductor memory device
US4618784A (en) High-performance, high-density CMOS decoder/driver circuit
JP3781793B2 (en) Dynamic semiconductor memory device
US5446700A (en) Decoder circuit having CMOS inverter circuits
US5774412A (en) Local word line phase driver
JPH0831275B2 (en) Memory circuit
JP2821393B2 (en) Semiconductor memory circuit
JP2003249098A (en) Semiconductor storage device
EP0083229B1 (en) Semiconductor memory device
US5461593A (en) Word-line driver for a semiconductor memory device
JP2770271B2 (en) Hierarchical memory from memory cells
US6801464B2 (en) Semiconductor memory device
US4868788A (en) Semiconductor memory device with improved word line drive circuit
US6349069B2 (en) Semiconductor memory device
US5986946A (en) Method and apparatus for reducing row shut-off time in an interleaved-row memory device
EP0488672A2 (en) Memory device with current mirror type sense amplifiers
KR0146464B1 (en) Decoding circuit for use in semiconductor read only memory
US5278802A (en) Decoding global drive/boot signals using local predecoders

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19980804