JPH0945505A - サーミスターとその抵抗値調整方法 - Google Patents

サーミスターとその抵抗値調整方法

Info

Publication number
JPH0945505A
JPH0945505A JP7215314A JP21531495A JPH0945505A JP H0945505 A JPH0945505 A JP H0945505A JP 7215314 A JP7215314 A JP 7215314A JP 21531495 A JP21531495 A JP 21531495A JP H0945505 A JPH0945505 A JP H0945505A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thermistor
resistance value
internal electrodes
layers
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP7215314A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiko Oyama
和彦 大山
Junichi Fukuyama
淳一 福山
Shinichi Harada
慎一 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taiyo Yuden Co Ltd filed Critical Taiyo Yuden Co Ltd
Priority to JP7215314A priority Critical patent/JPH0945505A/ja
Publication of JPH0945505A publication Critical patent/JPH0945505A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Apparatuses And Processes For Manufacturing Resistors (AREA)
  • Thermistors And Varistors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造後のサーミスターの抵抗値の調整を可能
とし、所望の抵抗値を有するサーミスターを歩留り良く
製造できるようにする。 【解決手段】 サーミスター素体21は、温度により抵
抗値が変化するサーミスター層11、11…の積層体か
らなり、このサーミスター層11、11…の層間に互い
に対向して複数対の内部電極13、14が形成されてい
る。サーミスター素体21の端部には、前記内部電極1
3、14に各々導通した外部電極23、25を有する。
前記内部電極13、14の間隙部分に対応するサーミス
ター素体21の側面に切欠部7を設け、両外部電極2
3、25の間に表れる抵抗値を増大させ、その抵抗値を
調整する。例えば、予めサーミスターの抵抗値を測定
し、所定の抵抗値の段階毎にランク付し、このランク毎
に切欠部7の切込み幅及び切込み深さの何れかを変え
て、抵抗値を所定の値に調整する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は温度により抵抗値が
変化し、電子機器の温度補償、電流制御、温度検出等に
使用されるサーミスターとその抵抗を調整する方法に関
し、特にサーミスター層の積層体により作られるサーミ
スターとその調整方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のサーミスターは、抵抗器、コン
デンサー、インダクター等と同様にしてチップ化が進ん
でおり、その多くは積層セラミックコンデンサーと同様
に、角柱或は角板状のチップ状のセラミック素体の両端
面に接続用の端子、いわゆる外部電極を設けたものであ
る。すなわち、このような積層チップセラミックサーミ
スターは、セラミックの積層体からなるサーミスター素
体を有し、このサーミスター素体を構成するサーミスタ
ー層の層間に2組の内部電極が形成され、これら内部電
極が前記の各サーミスター層を介して対向している。各
組の内部電極は、各々サーミスター素体の対向する端面
側に導出され、サーミスター素体の各々の端部に形成さ
れた外部電極に導通している。このようなサーミスター
において、その抵抗値はセラミック素体に固有の抵抗率
と、同セラミック素体の内部において対向した内部電極
の間の距離と面積とにより決定される。
【0003】このようなサーミスターは、例えば移動通
信器等で使用される水晶発振器の温度補償回路に使用さ
れ、コンデンサーや抵抗等の回路要素と共に温度補償形
水晶発振器(TCXO)に組み込まれる。この場合、個
々の水晶発振器はその温度に対する周波数特性が異なる
ので、個々の水晶発振器の温度特性にマッチングした温
度特性を有するサーミスターを組み込む必要がある。そ
して、実際に組み込んだサーミスターの温度特性が水晶
発振器の温度特性にマッチングしない場合、別の温度特
性を有するサーミスターと交換する必要がある。
【0004】
【発明が解決しようとしている課題】しかし、サーミス
ターを交換するには手数がかかる。しかも近年では、サ
ーミスターの抵抗値の許容範囲が狭くなっており、その
許容範囲に抵抗値を収めることが益々難しくなってい
る。そのため、使用できないサーミスターが多く発生
し、サーミスターの生産歩留りの低下が問題となってい
る。このような問題は、サーミスターの抵抗値を製造後
に調整することができれば有る程度解決が図れる。しか
し従来のサーミスターでは、その抵抗値の調整は困難で
あった。その理由は次の通りである。
【0005】すなわち、一般の抵抗器等における抵抗値
の調整は、その抵抗値を測定しながら抵抗膜をレーザー
ビーム等でトリミングトし、所望の抵抗値に調整してい
る。この際、レーザービームによって素体に熱が加わ
り、素体の温度が多少上昇する。しかし一般の抵抗器の
素体は、抵抗値の温度特性が低いので、トリミング時の
抵抗器の抵抗値と素体が常温に戻った時の抵抗値とに殆
ど違いがない。このため、トリミング時に測定しながら
調整した抵抗値がそのまま常温時の抵抗値となり、トリ
ミング時の温度上昇が調整後の抵抗値に殆ど影響を及ぼ
さない。
【0006】ところが、サーミスター素体はもともと抵
抗値の温度特性がきわめて大きいので、レーザートリミ
ングすることによりサーミスター素体の温度が上昇する
と、その抵抗値が大きく変動する。従って、サーミスタ
ーの抵抗値を測定しながらレーザートリミングしても、
常温に戻ったときの抵抗値が変わってしまう。このた
め、サーミスターのトリミングによる抵抗値の調整は事
実上困難であり、サーミスターのトリミングはこれまで
行われなかった。本発明は、従来のサーミスターにおけ
る前記のような課題に鑑み、製造後の抵抗値の調整が可
能なサーミスターとその抵抗値の調整方法を提供するこ
とにより、所望の抵抗値を有するサーミスターを歩留り
良く製造できるようにすることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
め、本発明では、内部で内部電極13、14が対向する
のサーミスター素体21の側面に切欠部7を設けること
により、サーミスター素体21を減少させ、或は内部電
極13、14間の平均対向間隔を増加させ、これにより
外部電極23、25の間にあらわれる抵抗値を増加させ
て調整するようにした。
【0008】
【発明の実施の形態】このサーミスターの抵抗値調整方
法は、温度により抵抗値が変化するサーミスター層1
1、11…の積層体からなるサーミスター素体21と、
このサーミスター素体21の各々のサーミスター層1
1、11…の層間に形成され、互いに対向した複数対の
内部電極13、14と、この内部電極13、14に各々
導通し、サーミスター素体21の両端部に各々形成され
た外部電極23、25とを有するサーミスターの両外部
電極23、25の間にあらわれる抵抗値を調整する方法
である。本発明ではこの調整のため、前記サーミスター
素体21に切欠部7を設けることにより、両外部電極2
3、25の間にあらわれる抵抗値を増大させる。
【0009】この場合に、切欠部7を設ける前のサーミ
スターの両外部電極23、24間の抵抗値を予め測定
し、この抵抗値を所定の抵抗値の段階毎にランク付し、
このランク毎にサーミスター素体21に設ける切欠部7
の切込み幅及び切込み深さの何れかを変える。この切欠
部7はサーミスター素体21の側面をサーミスター層1
1、11…の積層方向に溝状に切削することにより設け
られ、その切込み幅が広く或は切込み深さが深い場合
は、切欠部7はサーミスター素体21の側面から内部電
極13、14にわたって設けられる。
【0010】このようにしてサーミスター素体21に切
欠部7を設けたサーミスターの内部電極13、14は、
例えば、対向する各対のものが各々同じサーミスター層
11、11…の層間に形成されると共に、サーミスター
層11、11…上に間隙をおいて対向している。この場
合、前記切欠部7は内部電極13、14の間の間隙に対
応するサーミスター素体21の側面部分に形成される。
また、他のサーミスターでは、その内部電極13、14
がサーミスター層11、11…を介して対向しており、
さらにこの場合に、これら内部電極13、14を有する
サーミスター層11、11…の層間に、外部電極23、
25に接続されていない浮遊状の内部電極19を有する
サーミスター層11、11…を挿入し、その内部電極1
9を前記内部電極13、14と対向させることもある。
さらに、これらの内部電極13、14、19の少なくと
も一部について、それらの所定の部分から延びた部分
を、サーミスター素体21の側面に導出する場合もあ
る。このようなサーミスターでは切欠部7がサーミスタ
ー素体21の側面部分に形成され、この切欠部7には、
最終的に絶縁材料8が充填される。
【0011】このようなサーミスターの抵抗値調整方法
では、内部で内部電極13、14が対向するサーミスタ
ー素体21に切欠部7を設け、その部分のサーミスター
素体21を削除し、或は内部電極13、14の平均対向
間隔を大きくすることにより、両外部電極23、25の
間にあらわれる抵抗値を増大させることができる。そし
て、切欠部7を入れる前のサーミスターの両外部電極2
3、25間の抵抗値を測定し、この抵抗値を所定の抵抗
値の段階毎にランク付し、このランク毎にサーミスター
層11、11…に入れる切欠部7の切込み幅及び切込み
深さの何れかを変えることで、サーミスターの抵抗値を
所定の値に収めることができる。
【0012】なおこの場合に、内部電極13、14、1
9の少なくとも一部の所定の部分から延びた部分を、サ
ーミスター素体21の側面に導出することにより、サー
ミスター素体21の側面にあらわれた導出部15、16
でサーミスター素体21内部における内部電極13、1
5、19の位置を容易に知ることができる。従って、内
部電極13、15、19との位置関係において、サーミ
スター素体21の側面の正確な位置に切欠部7を設ける
ことができる。これにより、抵抗値の調整を容易に、且
つ正確に行える。このような切欠部7による抵抗値の調
整は、様々な内部電極構造を有するサーミスターに適用
が可能である。そして最終的に、切欠部7に絶縁材料8
を充填することにより、内部電極13、14が外部に露
出せず、耐候性を得ることができる。
【0013】
【実施例】次に、図面を参照しながら、本発明の実施例
について具体的且つ詳細に説明する。図2に本発明の実
施例によるサーミスターのサーミスター素体21の層構
造を示す。サーミスター素体21を構成するサーミスタ
ー層11、17、18は、抵抗値が正または負の温度特
性を有するサーミスターからなり、図示の場合は矩形状
の層からなっている。このサーミスター層11、17、
18のうち、中間のサーミスター層11、11…の表面
に一対の内部電極13、14が各々形成されている。こ
のうち一方の内部電極13、13…は、サーミスター層
11、11…の図において手前左側に寄って形成され、
手前左側の辺に導出されている。また、サーミスター層
11、11…に形成された他の内部電極14、14…
は、サーミスター層11、11…の図において奥右側に
寄って形成され、奥右側の辺に導出されている。そし
て、これら内部電極13、13…、14、14…は、各
サーミスター層11、11…の中央で間隙をおいて対向
している。
【0014】内部電極13、14のうちの一部の内部電
極13、14は、その先端縁の両側部分が側方に延び、
その側方に延びた部分の先端縁がサーミスター層11の
側辺に導出している。図2において、符号15、16
は、これら内部電極13、14のサーミスター層11の
側辺に導出された導出部を示す。図示の実施例では、一
部の内部電極13、14にのみ導出部15、16を設け
たが、全ての内部電極13、14に導出部15、16を
設けてももちろん差し支えない。
【0015】このような内部電極13、14が形成され
たサーミスター層11、11…が必要な組数だけ交互に
積層され、さらにその両側に内部電極13、14が形成
されていないサーミスター層17、18が適当な数だけ
積層され、この積層体によりサーミスター素体21が構
成されている。このサーミスター素体21では、その内
部で積層された各サーミスター層11、11…の間隙部
分を介して2各対の内部電極13、14が各々対向して
おり、それら内部電極13、14はサーミスター素体2
1の対向する端面に各々導出されている。さらに、サー
ミスター素体21の側面には、前記内部電極13、14
の導出部15、16があらわれる。
【0016】次に図1(a)に示すように、積層体から
なるサーミスター素体21の前記内部電極13、14が
導出した端面を含む端部に各々外部電極23、25が形
成される。この外部電極23、25は、各組の内部電極
13、14に各々接続しており、サーミスタ層11、1
1…の間隙部分を介してそれら内部電極13、14の間
に形成される抵抗値が外部電極23、25にあらわれ
る。このようなサーミスターは、前述のように個々に積
層されて製造される訳ではなく、実際は積層セラミック
コンデンサーと同様にして、セラミックグリーンシート
の形成、その表面への内部電極パターンの印刷、セラミ
ックグリーンシートの積層、その積層体の裁断、積層体
の焼成、焼成済みの積層体への外部電極の形成という工
程を経て、多数のものが同時に製造される。
【0017】すなわち、まず酸化マンガン、酸化コバル
トを主成分とし、酸化銅等の焼結助剤や酸化アルミニウ
ム等の原子価制御剤等を含むサーミスターセラミック粉
末を溶剤で溶解された樹脂バインダーに一様に分散した
セラミックスラリーを作る。このセラミックスラリーを
ドクターブレード法等でポリエチレンテレフタレートフ
ィルム等のベースフィルム上に薄く塗布し、乾燥してセ
ラミックグリーンシートを作る。次に、このセラミック
グリーンシート上にPdペースト等の導電ペーストを使
用してサーミスター素体複数個分の内部電極パターンを
印刷する。そして、前記図2で示すような積層体が得ら
れるよう、ベースフィルムから剥離されたセラミックグ
リーンシートを順次積層し、サーミスター素体を複数個
分含む未焼成のセラミック積層体を得る。その後、この
積層体を裁断し、焼成することにより、個々に分離され
たサーミスター素体21を得る。このサーミスター素体
21の端部に導電ペーストを塗布し、これを焼き付ける
ことにより、外部電極23、25を形成する。これによ
り、図1(a)に示すようなサーミスターが完成する。
【0018】このようなサーミスターについては、外部
電極23、23の間で抵抗値を測定しておき、予め設定
した抵抗値の範囲によりランク付を行う。次に、このよ
うにして抵抗値を測定した結果、所定の許容範囲以下の
抵抗値を有するサーミスターについては、図1(b)に
示すように、そのサーミスター素体21の側面をサーミ
スター層11、11…の積層方向に沿って溝状に切削
し、その内部で対向している内部電極13、14の間隙
部分に切欠部7を設ける。例えば図示の実施例におい
て、切欠部7が内部電極13、14の間隙幅よりも広く
形成され、両内部電極13、14の対向している縁に達
する深さに形成されている。これにより、内部電極1
3、14の対向間隔の平均値が増大すると共に、その間
にあるサーミスター層11、11…の幅が減少する。こ
のため、各内部電極13、14間の抵抗値が増大し、外
部電極23、25の間で測定される抵抗値が増大する。
この切欠部7は例えば研磨等の手段で形成される。
【0019】この場合に、前記切欠部7の切込み幅及び
切込み深さが大きい程外部電極23、25の間にあらわ
れる抵抗値の増加は大きくなる。この切欠部7の切込み
幅及び切込み深さと外部電極23、25の間にあらわれ
る抵抗値の増加率とはシュミュレーションにより容易に
推計できるので、所定範囲の抵抗値に収めるためには、
切欠部7を設ける前に外部電極23、25の間で測定し
た抵抗値をもとにこの切欠部7の切込み幅及び切込み深
さを決定し、切欠部7を切削する。例えば、前記のよう
にして外部電極23、25の間で測定した抵抗値のラン
クにより切欠部7の切込み幅及び切込み深さを決定し、
その切欠部7を切削する。このようにすることにより、
サーミスターを所定の抵抗値に容易に収めることがで
き、且つ調整の自動化も容易に行える。
【0020】なお、サーミスター素体21の側面には、
内部電極13、14の導出部15、16(図1ではサー
ミスターの一部を切り欠いて示しているので、一方の導
出部15は示されていない。)があらわれているので、
この導出部15、16によりサーミスター素体21内部
の内部電極13、14の位置を正確に知ることができ
る。従って、この導出部15、16の位置を目安として
切欠部7を設けることで、内部電極13、14との位置
関係で切欠部7を正確な位置に設けることができる。
【0021】このように、切欠部7によりサーミスター
の抵抗値を調整した後、図1(c)及び図3に示すよう
に、切欠部7に絶縁材料8を充填し、外部に露出した内
部電極13、14を絶縁材料8中に封入する。これによ
り、内部電極13、14が湿気に晒されて、その絶縁抵
抗値が低下する等の特性の劣化が防止され、耐候性を向
上させることができる。このような絶縁材料8は、例え
ばエポキシ樹脂を溶剤で溶いたものを切欠部7に塗布
し、その後溶剤を蒸発させて樹脂を硬化させる等の手段
で形成できる。
【0022】なお、前記の実施例では、切欠部7が内部
電極13、14の間隙幅よりも広く形成され、両内部電
極13、14の対向している縁に達する深さに形成され
ているが、切欠部7は内部電極13、14の間隙部より
狭い幅で設けてもよく、またサーミスター素体21の側
面から内部電極13、14の先端に達しない深さに設け
ることもできる。幅の狭い切欠部7を深く切り込むと、
外部電極23、25にあらわれる抵抗値は急激に増大す
る。このため、抵抗値の微調整には適さないが、抵抗値
を大きく増大させることができる。他方、幅の広い切欠
部7を浅く切り込むと、外部電極23、25にあらわれ
る抵抗値の増大は緩慢である。このため、抵抗値の微調
整には適当であるが、抵抗値を大きく増大させることは
できない。
【0023】そこでこのような性質を利用し、例えば図
4の実施例では、まずサーミスター素体21の側面から
内部電極23、24の間隙部分に幅の狭い切欠部7aを
深く切り込み、外部電極23、25にあらわれる抵抗値
を大きく増大させた後、サーミスター素体21の側面に
幅の広い切欠部7bを浅く切り込み、外部電極23、2
5にあらわれる抵抗値の微調整を行っている。このよう
な調整方法は、サーミスターの抵抗値の調整量が大きい
場合に有効であり、最終的にその微調整も可能である。
さらに、前記の実施例ではサーミスター素体21の両側
面に切欠部7を設けたが、例えば抵抗値の調整量が小さ
い場合等は、図5に示すように、サーミスター素体21
の片方の側面にのみ切欠部7を設け、抵抗値を調整する
こともできる。
【0024】次に、図7に本発明の他の実施例によるサ
ーミスターのサーミスター素体21の層構造を示す。こ
の実施例においても、矩形状のサーミスター層11、1
7、18のうち、中間のサーミスター層11、11…の
表面に一対の内部電極13、14が各々形成されてい
る。ここで、対向する内部電極13、14は、各々別の
サーミスター層11、11…上に形成されている。そし
て、これらの内部電極13、14は、何れもサーミスタ
ー層11、11…の中央部を越えて広く形成されること
で、上下の層で平面上に互いに重なり合うよう形成され
ていると共に、一方の内部電極13、13…は、サーミ
スター層11、11…の図において手前左側の辺に導出
され、また他方のの内部電極14、14…は、サーミス
ター層11、11…の図において奥右側の辺に導出され
ている。
【0025】内部電極13、14のうちの一部の内部電
極13、14の先端縁の両側部分が側方に延び、その側
方に延びた部分の先端縁が、導出部15、16としてサ
ーミスター層11、11…の側辺に導出している。もち
ろん、全ての内部電極13、14に導出部分15、16
を設けてもももちろん差し支えない。これらの点は、前
述の実施例と同様である。このような内部電極13、1
4が形成されたサーミスター層11、11…は、各々内
部電極13、14を有するものが交互に積層され、さら
にその両側に内部電極13、14が形成されていないサ
ーミスター層17、18とが積層され、この積層体によ
りサーミスター素体21が構成される。このサーミスタ
ー素体21では、その内部で積層された各サーミスター
層11、11…を介して2組の内部電極13、14が交
互に対向しており、それら内部電極13、14はサーミ
スター素体21の対向する端面に各々導出されている。
さらに、サーミスター素体21の側面には、前記内部電
極13、14の導出部15、16があらわれる。
【0026】次に図6(a)に示すように、積層体から
なるサーミスター素体21の前記内部電極13、14が
導出した端面を含む端部に各々外部電極23、25が形
成される。この外部電極23、25は、各々の内部電極
13、14に接続し、サーミスタ層11、11…を介し
てそれら内部電極13、14の間に形成される抵抗値が
外部電極23、25にあらわれる。このようなサーミス
ターについても、前記の実施例と同様にして、外部電極
23、23の間で抵抗値を測定しておき、予め設定した
抵抗値の範囲によりランク付を行い、これによりサーミ
スター素体21に切欠部7を設けて抵抗値の調整を行
う。
【0027】すなわち、所定の許容範囲以下の抵抗値を
有するサーミスターについては、図6(b)に示すよう
に、そのサーミスター素体21の側面をサーミスター層
11、11…の積層方向に沿って溝状に切削し、切欠部
7を設ける。これにより、外部電極23、25の間で測
定される抵抗値を増大させ、その抵抗値が所望の範囲に
収まるよう調整する。この場合に、サーミスター素体2
1の側面にあらわれた導出部15、16の位置を目安と
して切欠部7を設けること、及び抵抗値の調整の後、図
6(c)に示すように、切欠部7に絶縁材料8を充填す
ることは、前述の実施例と同様である。
【0028】次に、図9に本発明の他の実施例によるサ
ーミスターのサーミスター素体21の層構造を示す。こ
の実施例においても、矩形状のサーミスター層11、1
7、18のうち、中間のサーミスター層11、11…の
表面に一対の内部電極13、14が各々形成されてい
る。ここで、対向する内部電極13、14は、前記第二
の実施例と同様に、各々別のサーミスター層11、11
…上に形成され、上下の層で互いに重なり合うよう形成
されていると共に、各々内部電極13、14がサーミス
ター層11、11…の手前左側の辺と奥右側の辺に導出
されている。さらに、これら内部電極13、14が形成
されたサーミスタ層11、11…の間に、サーミスター
層11、11…の手前左側の辺と奥右側の辺とに導出さ
れてない内部電極19が形成されたサーミスター層1
1、11…が挿入される。
【0029】この内部電極19の中央部の両側部分が側
方に延び、その側方に延びた部分の先端縁が、導出部1
5、16としてサーミスター層11の側辺に導出してい
る。このような3種類の内部電極13、14、19が形
成されたサーミスター層11、11…は、内部電極1
3、内部電極19及び内部電極14を有するものの順に
順次積層され、さらにその両側に内部電極13、14、
19が形成されていないサーミスター層17、18とが
積層され、この積層体によりサーミスター素体21が構
成される。このサーミスター素体21では、その内部で
積層された各サーミスター層11、11…を介して3組
の内部電極13、19、14が順次対向しており、その
うち内部電極13、14のみがサーミスター素体21の
対向する端面に各々導出されている。さらに、サーミス
ター素体21の側面には、前記内部電極19の導出部1
5、16があらわれる。
【0030】次に図8(a)に示すように、積層体から
なるサーミスター素体21の前記内部電極13、14が
導出した端面を含む端部に各々外部電極23、25が形
成される。この外部電極23、25は、内部電極13、
14に各々接続されるが、内部電極19には接続されな
い。すなわち、内部電極19は、サーミスター層11、
11…を介して内部電極13、14と対向する浮遊状の
電極である。これにより、サーミスタ層11、11…及
び内部電極19を介して内部電極13、14間に形成さ
れる抵抗値が外部電極23、25にあらわれる。
【0031】このようなサーミスターについても、前記
の実施例と同様にして、外部電極23、23の間で抵抗
値を測定しておき、予め設定した抵抗値の範囲によりラ
ンク付を行い、これにより図8(b)に示すようにし
て、サーミスター素体21に切欠部7を設け、外部電極
23、25にあらわれる抵抗値の調整を行う。この場合
に、サーミスター素体21の側面にあらわれた導出部1
5、16の位置を目安として切欠部7を設けること、及
び抵抗値の調整の後、図8(c)に示すように、切欠部
7に絶縁材料8を充填することは、前述の実施例と同様
である。
【0032】
【発明の効果】以上説明した通り、本発明によれば、サ
ーミスター素体21の側面に切欠部7を設けることによ
り、両外部電極23、25の間にあらわれる抵抗値を増
大させることができるので、サーミスターの抵抗値の調
整が可能となる。そして、その時の抵抗値の増大量は切
欠部7の幅及び深さにより加減できるので、調整中の抵
抗値が分からなくても調整後の最終的な抵抗値を容易に
予測できる。これによって、所望の抵抗値を有するサー
ミスターを歩留り良く製造できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例によるサーミスターとその抵抗
値調整方法を示す各工程の斜視図である。
【図2】同実施例によるサーミスターの素体内部の積層
構造を示す分解斜視図である。
【図3】同実施例によるサーミスターを示す平面図であ
る。
【図4】本発明の他の実施例によるサーミスターを示す
平面図である。
【図5】本発明の他の実施例によるサーミスターを示す
平面図である。
【図6】本発明の他の実施例によるサーミスターとその
抵抗値調整方法を示す各工程の斜視図である。
【図7】同実施例によるサーミスターの素体内部の積層
構造を示す分解斜視図である。
【図8】本発明の他の実施例によるサーミスターとその
抵抗値調整方法を示す各工程の斜視図である。
【図9】同実施例によるサーミスターの素体内部の積層
構造を示す分解斜視図である。
【符号の説明】
7 切欠部 8 絶縁材料 11 サーミスター層 13 内部電極 14 内部電極 15 内部電極の導出部 16 内部電極の導出部 17 サーミスター層 18 サーミスター層 19 浮遊状の内部電極 21 サーミスター素体 23 外部電極 25 外部電極

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 温度により抵抗値が変化するサーミスタ
    ー層(11)、(11)…の積層体からなるサーミスタ
    ー素体(21)と、このサーミスター素体(21)の各
    々のサーミスター層(11)、(11)…の層間に形成
    され、互いに対向した複数対の内部電極(13)、(1
    4)と、この内部電極(13)、(14)に各々導通
    し、サーミスター素体(21)の両端部に各々形成され
    た外部電極(23)、(25)とを有するサーミスター
    において、前記サーミスター素体(21)に切欠部
    (7)を設けたことを特徴とするサーミスター。
  2. 【請求項2】 対向する各対の内部電極(13)、(1
    4)が各々同じサーミスター層(11)、(11)…の
    層間に形成されると共に、サーミスター層(11)、
    (11)…上に間隙をおいて対向しており、切欠部
    (7)が前記内部電極(13)、(14)の間の間隙に
    対応するサーミスター素体(21)の側面部分に形成さ
    れていることを特徴とする請求項1に記載のサーミスタ
    ー。
  3. 【請求項3】 内部電極(13)、(14)がサーミス
    ター層(11)、(11)…を介して対向しており、切
    欠部(7)がサーミスター素体(21)の側面に形成さ
    れていることを特徴とする請求項1に記載のサーミスタ
    ー。
  4. 【請求項4】 外部電極(23)、(25)に接続され
    た内部電極(13)、(14)を有するサーミスター層
    (11)、(11)…の間に、前記内部電極(13)、
    (14)と対向すると共に、外部電極(23)、(2
    5)に接続されていない浮遊状の内部電極(19)を有
    するサーミスター層(11)、(11)が挿入されてい
    ることを特徴とする請求項3に記載のサーミスター。
  5. 【請求項5】 少なくとも一部の内部電極(13)、
    (14)、(19)の所定の部分から延びた部分が、サ
    ーミスター素体(21)の側面に導出していることを特
    徴とする請求項1〜4の何れかに記載のサーミスター。
  6. 【請求項6】 切欠部(7)に絶縁材料(8)が充填さ
    れていることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載
    のサーミスター。
  7. 【請求項7】 温度により抵抗値が変化するサーミスタ
    ー層(11)、(11)…の積層体からなるサーミスタ
    ー素体(21)と、このサーミスター素体(21)の各
    々のサーミスター層(11)、(11)…の層間に形成
    され、互いに対向した複数対の内部電極(13)、(1
    4)と、この内部電極(13)、(14)に各々導通
    し、サーミスター素体(21)の両端部に各々形成され
    た外部電極(23)、(25)とを有するサーミスター
    の両外部電極(23)、(25)の間にあらわれる抵抗
    値を調整する方法において、前記サーミスター素体(2
    1)に切欠部(7)を設けることにより、両外部電極
    (23)、(25)の間にあらわれる抵抗値を増大させ
    ることを特徴とするサーミスターの抵抗値調整方法。
  8. 【請求項8】 切欠部(7)を設ける前のサーミスター
    の両外部電極(23)、(24)間の抵抗値を測定し、
    この抵抗値を所定の抵抗値の段階毎にランク付し、この
    ランク毎にサーミスター素体(21)に設ける切欠部
    (7)の切込み幅及び切込み深さの何れかを変えること
    を特徴とする請求項7に記載のサーミスターの抵抗値調
    整方法。
  9. 【請求項9】 切欠部(7)がサーミスター素体(2
    1)の側面から内部電極(13)、(14)にわたって
    設けられることを特徴とする請求項7または8に記載の
    サーミスターの抵抗値調整方法。
  10. 【請求項10】 切欠部(7)がサーミスター素体(2
    1)のサーミスター層(11)、(11)…の積層方向
    に溝状に切削されることを特徴とする請求項7〜9の何
    れかに記載のサーミスターの抵抗値調整方法。
JP7215314A 1995-07-31 1995-07-31 サーミスターとその抵抗値調整方法 Withdrawn JPH0945505A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7215314A JPH0945505A (ja) 1995-07-31 1995-07-31 サーミスターとその抵抗値調整方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7215314A JPH0945505A (ja) 1995-07-31 1995-07-31 サーミスターとその抵抗値調整方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0945505A true JPH0945505A (ja) 1997-02-14

Family

ID=16670269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7215314A Withdrawn JPH0945505A (ja) 1995-07-31 1995-07-31 サーミスターとその抵抗値調整方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0945505A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7183892B2 (en) * 1997-07-07 2007-02-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chip PTC thermistor and method for manufacturing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7183892B2 (en) * 1997-07-07 2007-02-27 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Chip PTC thermistor and method for manufacturing the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10241991A (ja) 積層コンデンサとそのトリミング方法
JPH08306503A (ja) チップ状電子部品
WO1998047157A1 (en) Resistor and method for manufacturing the same
JP2001210544A (ja) チップ積層セラミックコンデンサ
JPH0945505A (ja) サーミスターとその抵抗値調整方法
US5432375A (en) Thermistor intended primarily for temperature measurement
JPH0917607A (ja) チップ状回路部品とその製造方法
JP2001155902A (ja) チップ抵抗器及びチップ抵抗器の製造方法
JPS636121B2 (ja)
JPH10223408A (ja) チップ状回路部品とその製造方法
JPH04214601A (ja) 機能修正用角形チップ抵抗器およびその製造方法
JP3248294B2 (ja) チップインダクタ及びその製造方法
JPH0969418A (ja) 複合電子部品とその調整方法
JP2001118705A (ja) チップ型抵抗器
JP2003124004A (ja) チップ抵抗器およびその製造方法
JPH0465106A (ja) 複合部品
JPS6050046B2 (ja) 複合部品のトリミング方法
JPH08339905A (ja) サーミスターとその調整方法
JP2701672B2 (ja) トリミング用抵抗器
JPH09326303A (ja) チップ部品
KR101538416B1 (ko) 칩 저항기 및 그 제작 방법
JPH0430172B2 (ja)
KR101544393B1 (ko) 칩 저항기 및 그 제작 방법
JPH02271596A (ja) 多層ハイブリッド回路の製造方法
JPS6112664Y2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20021001