JPH095026A - 光電位置測定装置 - Google Patents
光電位置測定装置Info
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- JPH095026A JPH095026A JP8133795A JP13379596A JPH095026A JP H095026 A JPH095026 A JP H095026A JP 8133795 A JP8133795 A JP 8133795A JP 13379596 A JP13379596 A JP 13379596A JP H095026 A JPH095026 A JP H095026A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01D—MEASURING NOT SPECIALLY ADAPTED FOR A SPECIFIC VARIABLE; ARRANGEMENTS FOR MEASURING TWO OR MORE VARIABLES NOT COVERED IN A SINGLE OTHER SUBCLASS; TARIFF METERING APPARATUS; MEASURING OR TESTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- G01D5/00—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable
- G01D5/26—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light
- G01D5/32—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light
- G01D5/34—Mechanical means for transferring the output of a sensing member; Means for converting the output of a sensing member to another variable where the form or nature of the sensing member does not constrain the means for converting; Transducers not specially adapted for a specific variable characterised by optical transfer means, i.e. using infrared, visible, or ultraviolet light with attenuation or whole or partial obturation of beams of light the beams of light being detected by photocells
- G01D5/36—Forming the light into pulses
- G01D5/38—Forming the light into pulses by diffraction gratings
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 周知の走査原理を使用し、信号発生が格子目
盛で回折した光ビーム束の干渉に基づくものであり、簡
単に形成され、価格的に有利に製造される光電位置測定
装置を提供する。 【解決手段】 一定の目盛周期を有し、測定方向Ｘに互
いに相対的に移動する複数の格子１，２により光源Ｌの
光を位置に応じて変調し、少なくとも一方の格子で回折
する光ビーム束が互いに干渉し、互いに位相のずれた位
置に依存する信号を検出する複数の光検出器Ｄ0,Ｄ1,Ｄ
2 を設け、少なくとも一つの格子１が測定方向Ｘに向い
た目盛周期ｄの各々の中に、測定方向Ｘに順次配置さ
れ、測定方向Ｘにほぼ垂直に延びる少なくとも３つの領
域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 の各
々が異なった光選択性特性を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3から得られた信号ビーム束の各々が付属する光検
出器Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 に入射し、これ等の光検出器が測定方
向Ｘに対してほぼ横方向に配置されている。
盛で回折した光ビーム束の干渉に基づくものであり、簡
単に形成され、価格的に有利に製造される光電位置測定
装置を提供する。 【解決手段】 一定の目盛周期を有し、測定方向Ｘに互
いに相対的に移動する複数の格子１，２により光源Ｌの
光を位置に応じて変調し、少なくとも一方の格子で回折
する光ビーム束が互いに干渉し、互いに位相のずれた位
置に依存する信号を検出する複数の光検出器Ｄ0,Ｄ1,Ｄ
2 を設け、少なくとも一つの格子１が測定方向Ｘに向い
た目盛周期ｄの各々の中に、測定方向Ｘに順次配置さ
れ、測定方向Ｘにほぼ垂直に延びる少なくとも３つの領
域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 の各
々が異なった光選択性特性を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3から得られた信号ビーム束の各々が付属する光検
出器Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 に入射し、これ等の光検出器が測定方
向Ｘに対してほぼ横方向に配置されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、格子により回折
する光ビーム束が互いに干渉し、位相のずれ干渉信号を
複数の光検出器で検出し、格子が互いにずれると、これ
等の格子により光源の光が位置に応じて変調される、光
電位置測定装置に関する。
する光ビーム束が互いに干渉し、位相のずれ干渉信号を
複数の光検出器で検出し、格子が互いにずれると、これ
等の格子により光源の光が位置に応じて変調される、光
電位置測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種の位置測定装置は、例えば欧州特
許第 0 163 262 B1 号明細書に開示されている。その場
合、反射性の目盛格子は走査格子に対して相対的に移動
できるように配置されている。この走査格子は、互いに
120°位相のずれた電気信号を発生させるため、ウェブ
と溝の比が一定の割合の位相格子として形成されてい
る。後置されている３つの検出器の各々には、一群の同
じ方向を向いた回折ビームが集束する。同じ方向に向く
これ等の軍の回折ビームでは、所謂得られた回折次数と
も称される。得られたｎ回折次数の回折ビームは、目盛
板での反射を無視すると一方の格子によりのみｎ回折次
数に偏向するかのように、両方の格子の全系から方向に
合わせて生じるビームのグループに相当する。
許第 0 163 262 B1 号明細書に開示されている。その場
合、反射性の目盛格子は走査格子に対して相対的に移動
できるように配置されている。この走査格子は、互いに
120°位相のずれた電気信号を発生させるため、ウェブ
と溝の比が一定の割合の位相格子として形成されてい
る。後置されている３つの検出器の各々には、一群の同
じ方向を向いた回折ビームが集束する。同じ方向に向く
これ等の軍の回折ビームでは、所謂得られた回折次数と
も称される。得られたｎ回折次数の回折ビームは、目盛
板での反射を無視すると一方の格子によりのみｎ回折次
数に偏向するかのように、両方の格子の全系から方向に
合わせて生じるビームのグループに相当する。
【０００３】使用する走査格子は、異なった回折次数が
所望の位相差の信号に相当するように光学的に設計ある
いは寸法決めされている。検出器側で異なった信号成分
を空間的に分離することを確実にするため、配設されて
いる結像光学系は走査格子と検出器の間で一定の最小焦
点距離を有する必要がある。目盛周期 T＝ 20 μm で使
用する波長が 880 nm であるこの種の構成の測定系で
は、集束レンズの焦点距離は約 30 mmである。これは、
走査ヘッドの構造をかなり大きくする。
所望の位相差の信号に相当するように光学的に設計ある
いは寸法決めされている。検出器側で異なった信号成分
を空間的に分離することを確実にするため、配設されて
いる結像光学系は走査格子と検出器の間で一定の最小焦
点距離を有する必要がある。目盛周期 T＝ 20 μm で使
用する波長が 880 nm であるこの種の構成の測定系で
は、集束レンズの焦点距離は約 30 mmである。これは、
走査ヘッドの構造をかなり大きくする。
【０００４】説明した光学系の最小焦点距離は使用する
目盛あるいは格子の目盛周期に近似的に比例するので、
粗い目盛周期の目盛板をこの測定原理に基づき走査した
い場合には、特にこれが構造の大きさの問題を与える。
ドイツ特許第 34 16 864 C2 号明細書によれば、絞り構
造体を有する走査板で目盛板を走査する横目盛のある位
置測定装置が知られている。この横目盛は、この位置測
定装置の場合、測定方向に隣接して配置され、測定方向
に平行に延びる格子ウェブを有する多数の帯状回折要素
で構成されている。個々の回折要素はその横方向周期に
関して異なっているので、発生した光束を異なった方向
に偏向させる。この横方向目盛が走査板の隙間を通して
照明されると、偏向各が横方向の目盛周期と照明された
横方向の格子領域に依存する偏向された光ビーム束が発
生する。これにより、目盛板の位置を導ける。異なった
方向に偏向された光ビーム束は、レンズを通過してこの
レンズの焦点面内の種々の光検出器の上に集束する。
目盛あるいは格子の目盛周期に近似的に比例するので、
粗い目盛周期の目盛板をこの測定原理に基づき走査した
い場合には、特にこれが構造の大きさの問題を与える。
ドイツ特許第 34 16 864 C2 号明細書によれば、絞り構
造体を有する走査板で目盛板を走査する横目盛のある位
置測定装置が知られている。この横目盛は、この位置測
定装置の場合、測定方向に隣接して配置され、測定方向
に平行に延びる格子ウェブを有する多数の帯状回折要素
で構成されている。個々の回折要素はその横方向周期に
関して異なっているので、発生した光束を異なった方向
に偏向させる。この横方向目盛が走査板の隙間を通して
照明されると、偏向各が横方向の目盛周期と照明された
横方向の格子領域に依存する偏向された光ビーム束が発
生する。これにより、目盛板の位置を導ける。異なった
方向に偏向された光ビーム束は、レンズを通過してこの
レンズの焦点面内の種々の光検出器の上に集束する。
【０００５】位置に依存して変調する信号は、この周知
の位置測定装置では、モアレ原理に基づき発生する。つ
まり、干渉する部分ビーム束の評価は位置の測定のため
使用されない。欧州特許第 0 220 757 B1 号明細書の周
知の位置測定装置でも、目盛板は測定方向に順次配置さ
れた横方向目盛を有する領域と反射あるいは透過領域を
有する。横目盛領域は位相格子として構成され、その格
子パラメータは発生する０回折次数が消失し、他の全て
の回折次数が光検出器に入射しないように選択される。
横方向目盛を有する領域は光検出器により反射しないあ
るいは透過する領域と見なされ、多数存在する光検出器
に関して方向選択性として作用しない。
の位置測定装置では、モアレ原理に基づき発生する。つ
まり、干渉する部分ビーム束の評価は位置の測定のため
使用されない。欧州特許第 0 220 757 B1 号明細書の周
知の位置測定装置でも、目盛板は測定方向に順次配置さ
れた横方向目盛を有する領域と反射あるいは透過領域を
有する。横目盛領域は位相格子として構成され、その格
子パラメータは発生する０回折次数が消失し、他の全て
の回折次数が光検出器に入射しないように選択される。
横方向目盛を有する領域は光検出器により反射しないあ
るいは透過する領域と見なされ、多数存在する光検出器
に関して方向選択性として作用しない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、簡
単に形成され、価格的に有利に製造される光電位置測定
装置を提供することにある。その場合、例えば欧州特許
第 0 163 362 B1 号明細書により周知の走査原理を使用
できるべきである。つまり、信号発生が一つあるいはそ
れ以上の格子目盛で回折した光ビーム束の干渉に基づ
く。その場合、走査ヘッドの構造をコンパクトにして特
に粗い目盛周期を走査できる可能性も必要である。
単に形成され、価格的に有利に製造される光電位置測定
装置を提供することにある。その場合、例えば欧州特許
第 0 163 362 B1 号明細書により周知の走査原理を使用
できるべきである。つまり、信号発生が一つあるいはそ
れ以上の格子目盛で回折した光ビーム束の干渉に基づ
く。その場合、走査ヘッドの構造をコンパクトにして特
に粗い目盛周期を走査できる可能性も必要である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、一定の目盛周期を有し、測定方向Ｘに互いに相
対的に移動する複数の格子１，２により光源Ｌの光を位
置に応じて変調し、少なくとも一方の格子で回折する光
ビーム束が互いに干渉し、互いに位相のずれた位置に依
存する信号を検出する複数の光検出器Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 を設
け、少なくとも一つの格子１が測定方向Ｘに向いた目盛
周期ｄの各々の中に、測定方向Ｘに順次配置され、測定
方向Ｘにほぼ垂直に延びる少なくとも３つの領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 の各々が異な
った光選択特性を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 から
得られた信号ビーム束の各々が付属する光検出器Ｄ0,Ｄ
1,Ｄ2 に入射し、これ等の光検出器が測定方向Ｘに対し
てほぼ横方向に配置されている光電位置測定装置によっ
て解決されている。
により、一定の目盛周期を有し、測定方向Ｘに互いに相
対的に移動する複数の格子１，２により光源Ｌの光を位
置に応じて変調し、少なくとも一方の格子で回折する光
ビーム束が互いに干渉し、互いに位相のずれた位置に依
存する信号を検出する複数の光検出器Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 を設
け、少なくとも一つの格子１が測定方向Ｘに向いた目盛
周期ｄの各々の中に、測定方向Ｘに順次配置され、測定
方向Ｘにほぼ垂直に延びる少なくとも３つの領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 の各々が異な
った光選択特性を有し、これ等の領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 から
得られた信号ビーム束の各々が付属する光検出器Ｄ0,Ｄ
1,Ｄ2 に入射し、これ等の光検出器が測定方向Ｘに対し
てほぼ横方向に配置されている光電位置測定装置によっ
て解決されている。
【０００８】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【０００９】
【００１０】
【実施例】以下、図面に示す実施例に基づきこの発明を
より詳しく説明する。この発明による位置測定装置の基
本機能原理を、先ず図１に基づき簡単に説明する。対応
する光学図形を図２に示す。この場合、光源の光はコリ
メータレンズＫを経由して平行にされ、一定の目盛周期
ｄを有する位相格子１に入射する。この発明による位置
測定装置の内部では、目盛格子２と走査格子１が測定方
向Ｘに互いに移動する場合、多数の位相のずれ位置に依
存する走査信号を発生させるため、第一格子１が特別な
横方向パターンを有する走査格子１として形成されてい
る。図３には、この発明による走査格子１が示してあ
る。第４図は図３の走査格子１の拡大部分を示す。この
走査格子１は、図示する実施例の場合、測定方向Ｘに周
期的に繋がっている一部横方向にパターン化された領域
Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を有する。測定方向Ｘに見て、領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 はほぼ等しい幅である。第一、第二および第三領
域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 の幅の和は走査格子の目盛周期ｄに一致
する。この目盛周期は目盛格子２の目盛周期ｃと同一で
あるが、必ずしも同一である必要はない。各領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 の幅は、この実施例の場合、ｄ/3である。
より詳しく説明する。この発明による位置測定装置の基
本機能原理を、先ず図１に基づき簡単に説明する。対応
する光学図形を図２に示す。この場合、光源の光はコリ
メータレンズＫを経由して平行にされ、一定の目盛周期
ｄを有する位相格子１に入射する。この発明による位置
測定装置の内部では、目盛格子２と走査格子１が測定方
向Ｘに互いに移動する場合、多数の位相のずれ位置に依
存する走査信号を発生させるため、第一格子１が特別な
横方向パターンを有する走査格子１として形成されてい
る。図３には、この発明による走査格子１が示してあ
る。第４図は図３の走査格子１の拡大部分を示す。この
走査格子１は、図示する実施例の場合、測定方向Ｘに周
期的に繋がっている一部横方向にパターン化された領域
Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を有する。測定方向Ｘに見て、領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 はほぼ等しい幅である。第一、第二および第三領
域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 の幅の和は走査格子の目盛周期ｄに一致
する。この目盛周期は目盛格子２の目盛周期ｃと同一で
あるが、必ずしも同一である必要はない。各領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 の幅は、この実施例の場合、ｄ/3である。
【００１１】第二および第三領域Ｂ2,Ｂ3 は測定方向Ｘ
に対して横方向に配置された格子で構成されていて、こ
れ等の格子はＹ方向に異なった横方向の格子定数ｄ2 と
ｄ3を有する。この場合、個々の格子の目盛線は測定方
向Ｘに平行に向いている。横方向にブレーズド位相格子
として形成された領域Ｂ2,Ｂ3 は、更に入射したビーム
束がそれぞれ＋１回折次数として偏向するように設定さ
れるか、あるいは最適化される。図５に模式的に示すよ
うに、コリメートされた光ビーム束が走査格子１に入射
すると、横方向に異なったパターンの領域Ｂ2,Ｂ3 が入
射光ビーム束をほぼ各領域Ｂ2 またはＢ3 に付属する＋
１横回折次数ｂ2 またはｂ3 へ偏向する。領域Ｂ2,Ｂ3
で種々選択された格子パラメータのため、回折した部分
ビーム束が他の角度に偏向する。そのため、領域Ｂ2,Ｂ
3 は回折した部分ビーム束に対して格子定数ｄ2,ｄ3 に
応じて異なる方向選択性を有する。
に対して横方向に配置された格子で構成されていて、こ
れ等の格子はＹ方向に異なった横方向の格子定数ｄ2 と
ｄ3を有する。この場合、個々の格子の目盛線は測定方
向Ｘに平行に向いている。横方向にブレーズド位相格子
として形成された領域Ｂ2,Ｂ3 は、更に入射したビーム
束がそれぞれ＋１回折次数として偏向するように設定さ
れるか、あるいは最適化される。図５に模式的に示すよ
うに、コリメートされた光ビーム束が走査格子１に入射
すると、横方向に異なったパターンの領域Ｂ2,Ｂ3 が入
射光ビーム束をほぼ各領域Ｂ2 またはＢ3 に付属する＋
１横回折次数ｂ2 またはｂ3 へ偏向する。領域Ｂ2,Ｂ3
で種々選択された格子パラメータのため、回折した部分
ビーム束が他の角度に偏向する。そのため、領域Ｂ2,Ｂ
3 は回折した部分ビーム束に対して格子定数ｄ2,ｄ3 に
応じて異なる方向選択性を有する。
【００１２】検出器側には、光電素子として形成された
３つの検出器Ｄ0,Ｄ1 およびＤ2 が設けてある。これ等
の検出器は測定方向Ｘに対して横方向に、つまりＹ方向
に配置されている。検出器の各々は、三つの領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 の一つに付属し、各検出器が付属する領域から来
る信号成分によってのみ作動するようにＹ方向に配置さ
れている。
３つの検出器Ｄ0,Ｄ1 およびＤ2 が設けてある。これ等
の検出器は測定方向Ｘに対して横方向に、つまりＹ方向
に配置されている。検出器の各々は、三つの領域Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 の一つに付属し、各検出器が付属する領域から来
る信号成分によってのみ作動するようにＹ方向に配置さ
れている。
【００１３】第一領域Ｂ1 はこの発明による位置測定装
置の図示する実施例では透明に形成されている。つま
り、この領域Ｂ1 は通過する光ビーム束ｂ1 を回折する
ことなく目盛格子２に入射させ、この目盛格子から光ビ
ーム束ｂ1 が入射角に合わせて反射し、再び格子１を通
過する。他の二つの領域Ｂ2,Ｂ3 が方向選択性となるよ
うに構成されているので、つまり＋１回折次数に偏向が
行われるので、これ等の領域に対して領域Ｂ1 も方向選
択性となる。
置の図示する実施例では透明に形成されている。つま
り、この領域Ｂ1 は通過する光ビーム束ｂ1 を回折する
ことなく目盛格子２に入射させ、この目盛格子から光ビ
ーム束ｂ1 が入射角に合わせて反射し、再び格子１を通
過する。他の二つの領域Ｂ2,Ｂ3 が方向選択性となるよ
うに構成されているので、つまり＋１回折次数に偏向が
行われるので、これ等の領域に対して領域Ｂ1 も方向選
択性となる。
【００１４】目盛格子２から反射した光ビーム束ｂ1 は
走査格子１の領域Ｂ1 を二回目に通過する時、横方向に
回折しないので、この光ビーム束を得られた０回折次数
ｂ1'と疑似的に見なされる。走査格子１を二回目に通過
した時に領域Ｂ2 とＢ3 から横方向に偏向する光ビーム
束ｂ1 の光成分は、得られそれに応じて検出された０回
折次数ｂ1'に対して寄与しない。
走査格子１の領域Ｂ1 を二回目に通過する時、横方向に
回折しないので、この光ビーム束を得られた０回折次数
ｂ1'と疑似的に見なされる。走査格子１を二回目に通過
した時に領域Ｂ2 とＢ3 から横方向に偏向する光ビーム
束ｂ1 の光成分は、得られそれに応じて検出された０回
折次数ｂ1'に対して寄与しない。
【００１５】走査格子１は０次の横方向回折次数の方向
に振幅格子のように働く。０次の横方向回折次数の方向
に記録された光成分はただ領域Ｂ1 のみを通過するが、
走査格子１のパターン化された領域Ｂ2,Ｂ3 を通過しな
い。この走査パターンは、それ故、検出方向に、透明領
域Ｂ1 と不透明な領域Ｂ2,Ｂ3 を周期的に配置した振幅
目盛のように見える。
に振幅格子のように働く。０次の横方向回折次数の方向
に記録された光成分はただ領域Ｂ1 のみを通過するが、
走査格子１のパターン化された領域Ｂ2,Ｂ3 を通過しな
い。この走査パターンは、それ故、検出方向に、透明領
域Ｂ1 と不透明な領域Ｂ2,Ｂ3 を周期的に配置した振幅
目盛のように見える。
【００１６】走査格子１の領域Ｂ1 を最初に通過すると
出て行き、走査格子１を二回目に通過すると＋１回折次
数の方向に偏向する領域Ｂ2 のビーム束を考慮すると、
ｂ2'の方向に領域Ｂ2 とＢ3 からの信号成分が得られな
い。対応する検出器Ｄ1 により領域Ｂ2 からの光のみが
捕捉される。従って、この走査パターンは検出方向に不
透明領域Ｂ1,透明領域Ｂ2,不透明領域Ｂ3 を周期的に配
置した振幅目盛のように見える。
出て行き、走査格子１を二回目に通過すると＋１回折次
数の方向に偏向する領域Ｂ2 のビーム束を考慮すると、
ｂ2'の方向に領域Ｂ2 とＢ3 からの信号成分が得られな
い。対応する検出器Ｄ1 により領域Ｂ2 からの光のみが
捕捉される。従って、この走査パターンは検出方向に不
透明領域Ｂ1,透明領域Ｂ2,不透明領域Ｂ3 を周期的に配
置した振幅目盛のように見える。
【００１７】走査格子１の領域Ｂ1 を最初に通過すると
出て行き、走査格子１を二回目に通過すると＋１次の横
方向回折次数の方向に偏向する領域Ｂ3 のビーム束を考
慮すると、ｂ3'の方向に領域Ｂ1 とＢ2 から信号成分が
得られず、対応する検出器Ｄ 2 により領域Ｂ3 からの光
のみが検出される。従って、この走査パターンは検出方
向に不透明領域Ｂ1 とＢ2 および透明領域Ｂ3 を周期的
に配置した振幅目盛のように見える。
出て行き、走査格子１を二回目に通過すると＋１次の横
方向回折次数の方向に偏向する領域Ｂ3 のビーム束を考
慮すると、ｂ3'の方向に領域Ｂ1 とＢ2 から信号成分が
得られず、対応する検出器Ｄ 2 により領域Ｂ3 からの光
のみが検出される。従って、この走査パターンは検出方
向に不透明領域Ｂ1 とＢ2 および透明領域Ｂ3 を周期的
に配置した振幅目盛のように見える。
【００１８】走査格子１は目盛周期毎にそれぞれ三つの
そのような領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を有するので、この観点の
下に三つの横回折方向の各々の検出方向に振幅格子とし
て働く。目盛周期に対する透明領域の比はそれぞれｔ＝
1/3となる。図示する実施例では、各目盛周期には等し
い幅の三つの領域があるので、360°の１目盛周期をそ
れぞれ 120°の等しい成分に分割される。これは異なっ
た領域から得られる信号の間の３つの横回折方向に関し
てそれぞれ 120°の位相のずれを引き起こす。領域Ｂ1
は、この発明の図示する実施例の場合、 0°信号を供給
し、領域Ｂ2 とＢ3 は＋ 120°信号と− 120°信号をそ
れぞれ供給する。
そのような領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を有するので、この観点の
下に三つの横回折方向の各々の検出方向に振幅格子とし
て働く。目盛周期に対する透明領域の比はそれぞれｔ＝
1/3となる。図示する実施例では、各目盛周期には等し
い幅の三つの領域があるので、360°の１目盛周期をそ
れぞれ 120°の等しい成分に分割される。これは異なっ
た領域から得られる信号の間の３つの横回折方向に関し
てそれぞれ 120°の位相のずれを引き起こす。領域Ｂ1
は、この発明の図示する実施例の場合、 0°信号を供給
し、領域Ｂ2 とＢ3 は＋ 120°信号と− 120°信号をそ
れぞれ供給する。
【００１９】１目盛周期を同じ幅の４つの領域に分割
し、これ等の領域が付属する検出器の方向にそれぞれ異
なった角度の偏向を誘起するなら、４つの横偏向方向で
同じように４つの信号を検出でき、これ等の信号は互い
にそれぞれ 90 °の位相のずれを有する。つまり、同じ
幅 D/4の４つの領域を設けることができる。これ等のう
ち２つの領域は２つの領域Ｂ2 とＢ3 と同じように構成
できる。それには、前記２つの領域に対して 180°ずら
して２つの領域Ｂ2'とＢ3'を配置し、これ等の領域を−
１回折次数への偏向になるように設計する。
し、これ等の領域が付属する検出器の方向にそれぞれ異
なった角度の偏向を誘起するなら、４つの横偏向方向で
同じように４つの信号を検出でき、これ等の信号は互い
にそれぞれ 90 °の位相のずれを有する。つまり、同じ
幅 D/4の４つの領域を設けることができる。これ等のう
ち２つの領域は２つの領域Ｂ2 とＢ3 と同じように構成
できる。それには、前記２つの領域に対して 180°ずら
して２つの領域Ｂ2'とＢ3'を配置し、これ等の領域を−
１回折次数への偏向になるように設計する。
【００２０】位相格子として形成された走査格子とは異
なり、この発明による振幅走査格子では、得られた縦回
折次数が同相で重畳する。従って、一つの検出器で多数
の縦回折次数を加算するが、それでも十分高い変調度を
保証することができる。走査された目盛板の目盛周期
は、集光レンズの焦点距離が短くても比較的粗く選択で
きる。
なり、この発明による振幅走査格子では、得られた縦回
折次数が同相で重畳する。従って、一つの検出器で多数
の縦回折次数を加算するが、それでも十分高い変調度を
保証することができる。走査された目盛板の目盛周期
は、集光レンズの焦点距離が短くても比較的粗く選択で
きる。
【００２１】図５には、この発明の説明した実施例での
ビーム通路がもう一度模式化して示してある。この場
合、走査格子１や目盛格子２もただ部分的に認識でき
る。走査格子１を一回目に通過すると、ビームｂ1,ｂ2,
ｂ3 が走査格子１の対応する領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 から発生
する。測定板の目盛２で反射と回折を行った後、ビーム
ｂ2 とｂ3 は横方向にパターン化された領域Ｂ2 とＢ3
による偏向により走査格子１に空間的に互いに分離した
位置で印加する。これ等の位置は走査格子１のビームｂ
1 の第二入射点によっても空間的に分離されている。走
査格子１上でのビームｂ1,ｂ2,ｂ3 の異なった入射位置
では、それぞれ異なった３つの空間方向への偏向がもう
一度行われる。従って、ビーム成分が検出器の方向に達
し、これ等のビーム成分は一回目の通過でもともと異な
った領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を通過し、走査格子１の二回目の
通過で、異なった点でも偏向する。この場合には、３つ
の検出器の各々に所望の位相角の信号成分のみも互いに
生じることが保証されない。むしろ、検出器での位相の
分離が不可能になるように異なった位相の信号成分の非
干渉性重畳となる。
ビーム通路がもう一度模式化して示してある。この場
合、走査格子１や目盛格子２もただ部分的に認識でき
る。走査格子１を一回目に通過すると、ビームｂ1,ｂ2,
ｂ3 が走査格子１の対応する領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 から発生
する。測定板の目盛２で反射と回折を行った後、ビーム
ｂ2 とｂ3 は横方向にパターン化された領域Ｂ2 とＢ3
による偏向により走査格子１に空間的に互いに分離した
位置で印加する。これ等の位置は走査格子１のビームｂ
1 の第二入射点によっても空間的に分離されている。走
査格子１上でのビームｂ1,ｂ2,ｂ3 の異なった入射位置
では、それぞれ異なった３つの空間方向への偏向がもう
一度行われる。従って、ビーム成分が検出器の方向に達
し、これ等のビーム成分は一回目の通過でもともと異な
った領域Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 を通過し、走査格子１の二回目の
通過で、異なった点でも偏向する。この場合には、３つ
の検出器の各々に所望の位相角の信号成分のみも互いに
生じることが保証されない。むしろ、検出器での位相の
分離が不可能になるように異なった位相の信号成分の非
干渉性重畳となる。
【００２２】即ち、例えば完全な信号の消失が生じる。
しかし、評価を行うため３つの検出器がそれぞれ 120°
位相のずれた出力信号、つまり 0°信号、+120°信号、
および - 120°信号を出力するようにされている。従っ
て、このことを確実にするため、干渉信号ｂ1', ｂ2',
ｂ3'のみが走査格子１のただ一つの領域を最初に通過し
た時に生じる走査信号を得ることに寄与するように、走
査格子１にＹ方向に振幅格子Ａが重畳すると有利であ
る。図５の図面には、透明な領域Ｂ1 を最初に通過した
時に出るビームのみが検出されるように、振幅格子Ａが
選択されている。図５の下部に破線で示す部分ビームは
それにより選択された振幅格子Ａでフェードインされ
る。この場合、説明した実施例とは異なり、走査格子を
最初に通過した時に第二領域を通過して進む信号成分の
みが検出器に最終的に到達するように振幅構造の寸法を
決めることもできる。
しかし、評価を行うため３つの検出器がそれぞれ 120°
位相のずれた出力信号、つまり 0°信号、+120°信号、
および - 120°信号を出力するようにされている。従っ
て、このことを確実にするため、干渉信号ｂ1', ｂ2',
ｂ3'のみが走査格子１のただ一つの領域を最初に通過し
た時に生じる走査信号を得ることに寄与するように、走
査格子１にＹ方向に振幅格子Ａが重畳すると有利であ
る。図５の図面には、透明な領域Ｂ1 を最初に通過した
時に出るビームのみが検出されるように、振幅格子Ａが
選択されている。図５の下部に破線で示す部分ビームは
それにより選択された振幅格子Ａでフェードインされ
る。この場合、説明した実施例とは異なり、走査格子を
最初に通過した時に第二領域を通過して進む信号成分の
みが検出器に最終的に到達するように振幅構造の寸法を
決めることもできる。
【００２３】図３に図示する走査格子の実施例からも分
かるように、Ｙ方向、即ち測定方向Ｘに直交する振幅構
造も同じように周期的に形成されている。符号Ａを付け
た走査格子の領域は不透明あるいは吸収性となるように
形成され、走査越す非を最初に通過した時に方向選択性
のただ一つの領域により偏向された部分ビームのみが検
出器に到達するように互いに配置されている。
かるように、Ｙ方向、即ち測定方向Ｘに直交する振幅構
造も同じように周期的に形成されている。符号Ａを付け
た走査格子の領域は不透明あるいは吸収性となるように
形成され、走査越す非を最初に通過した時に方向選択性
のただ一つの領域により偏向された部分ビームのみが検
出器に到達するように互いに配置されている。
【００２４】図５に示す走査格子１の部分は、図３に示
す回折構造体の一つのストライプのみと隣接する絞りス
トライプＡを示す。この発明の他の構成では、領域Ｂ1
は横方向にブレーズド格子としても形成されるが、その
パラメータは領域Ｂ2 とＢ3 内にある格子のパラメータ
とはずれている。従って、方向選択できるように作用す
る領域の一つを透明に形成することは必ずしも強いられ
るものでなく、大切なことはただ異なった領域が異なっ
た方向選択性を有することである。
す回折構造体の一つのストライプのみと隣接する絞りス
トライプＡを示す。この発明の他の構成では、領域Ｂ1
は横方向にブレーズド格子としても形成されるが、その
パラメータは領域Ｂ2 とＢ3 内にある格子のパラメータ
とはずれている。従って、方向選択できるように作用す
る領域の一つを透明に形成することは必ずしも強いられ
るものでなく、大切なことはただ異なった領域が異なっ
た方向選択性を有することである。
【００２５】更に、回折次数を検出器上に結像すること
を最適にするため、横格子を備えた領域の格子定数は横
方向に位置に依存して変化する。その結果、図示する実
施例の外に、この発明を構成する一連の他の可能性があ
る。これには、例えば、この発明による位置測定装置が
透過光装置の中にも実現できることが分かる。この場
合、第一走査格子、目盛格子、および他の合体格子が設
けてある。その結果、走査格子はこの実施例でこの発明
により形成されている。つまり、先に説明した方向選択
性の横構造で形成されている。
を最適にするため、横格子を備えた領域の格子定数は横
方向に位置に依存して変化する。その結果、図示する実
施例の外に、この発明を構成する一連の他の可能性があ
る。これには、例えば、この発明による位置測定装置が
透過光装置の中にも実現できることが分かる。この場
合、第一走査格子、目盛格子、および他の合体格子が設
けてある。その結果、走査格子はこの実施例でこの発明
により形成されている。つまり、先に説明した方向選択
性の横構造で形成されている。
【００２６】
【発明の効果】以上説明したように、この発明による位
置測定装置の主要な利点は、簡単な方法で互いに位相の
ずれた走査信号を発生させ、その場合、得られた回折次
数を縦方向（つまり測定方向）に分離することはもはや
必要でない。これにより、使用する結像光学系に必要な
短い焦点距離が保証される。つまり、走査ヘッドのコン
パクトな構造が生じる。
置測定装置の主要な利点は、簡単な方法で互いに位相の
ずれた走査信号を発生させ、その場合、得られた回折次
数を縦方向（つまり測定方向）に分離することはもはや
必要でない。これにより、使用する結像光学系に必要な
短い焦点距離が保証される。つまり、走査ヘッドのコン
パクトな構造が生じる。
【００２７】更に、この発明の位置測定装置の助けによ
り（準）単一場走査で、目盛板の汚れおよび／または目
盛の不良に対して鈍感な位置に依存する走査信号を発生
させるこができる点で有利である。これにより、目盛板
の目盛に比較的大きな許容公差が許され、価格的に有利
な作製が可能になる。その外、この発明による位置測定
装置は、目盛板の目盛と走査板の目盛との間に十分な間
隔不敏感性を保証する。
り（準）単一場走査で、目盛板の汚れおよび／または目
盛の不良に対して鈍感な位置に依存する走査信号を発生
させるこができる点で有利である。これにより、目盛板
の目盛に比較的大きな許容公差が許され、価格的に有利
な作製が可能になる。その外、この発明による位置測定
装置は、目盛板の目盛と走査板の目盛との間に十分な間
隔不敏感性を保証する。
【図１】 この発明による位置測定装置の模式的な全体
図、
図、
【図２】 互いに干渉する信号を位置に依存する信号を
発生するために使用する位置測定装置の模式的なビーム
通路の図面、
発生するために使用する位置測定装置の模式的なビーム
通路の図面、
【図３】 この発明による位置測定装置の走査格子の可
能な実施例を示す平面図、
能な実施例を示す平面図、
【図４】 図３の走査格子の一部を示す平面図、
【図５】 図３と４の走査格子を使用する、この発明の
位置測定装置内部のビーム通路の模式図。
位置測定装置内部のビーム通路の模式図。
１ 走査格子 ２ 目盛板格子 Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 走査格子中のパターン化された
領域 ｄ1,ｄ2,ｄ3 格子定数 Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 検出器 ｂ1,ｂ2,ｂ3 光ビーム束 ｂ1', ｂ2', ｂ3' ０次横回折次数、干渉信号 Ｘ 測定方向 Ｙ 測定方向Ｘに垂直な方向 ｄ 走査格子の目盛周期 Ｌ 光源 Ｋ コリメータレンズ
領域 ｄ1,ｄ2,ｄ3 格子定数 Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 検出器 ｂ1,ｂ2,ｂ3 光ビーム束 ｂ1', ｂ2', ｂ3' ０次横回折次数、干渉信号 Ｘ 測定方向 Ｙ 測定方向Ｘに垂直な方向 ｄ 走査格子の目盛周期 Ｌ 光源 Ｋ コリメータレンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヴアルター・フーバー ドイツ連邦共和国、83278 トラウンシユ タイン、エッテンドルフアー・ヴエーク、 ６
Claims (12)
- 【請求項１】 一定の目盛周期を有し、測定方向（Ｘ）
に互いに相対的に移動する複数の格子（１，２）により
光源（Ｌ）の光を位置に応じて変調し、少なくとも一方
の格子で回折する光ビーム束が互いに干渉し、互いに位
相のずれた位置に依存する信号を検出する複数の光検出
器（Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 ）を設け、少なくとも一つの格子
（１）が測定方向（Ｘ）に向いた目盛周期（ｄ）の各々
の中に、測定方向（Ｘ）に順次配置され、測定方向
（Ｘ）にほぼ垂直に延びる少なくとも３つの領域（Ｂ1,
Ｂ2,Ｂ3 ）を有し、これ等の領域（Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 ）の各
々が異なった光選択特性を有し、これ等の領域（Ｂ1,Ｂ
2,Ｂ3 ）から得られた信号ビーム束の各々が付属する光
検出器（Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 ）に入射し、これ等の光検出器が
測定方向（Ｘ）に対してほぼ横方向に配置されているこ
とを特徴とする光電位置測定装置。 - 【請求項２】 少なくとも二つの領域（Ｂ2,Ｂ3 ）はブ
レーズド位相格子として形成され、測定方向に対して横
方向に向いていることを特徴とする請求項１に記載の光
電位置測定装置。 - 【請求項３】 少なくとも二つの領域（Ｂ2,Ｂ3 ）はそ
れぞれ測定方向（Ｘ）に対して横方向に向いた位相格子
を形成し、この格子のパラメータは０回折次数を抑制す
るように選択されていることを特徴とする請求項１に記
載の光電位置測定装置。 - 【請求項４】 格子（１）の１目盛周期（ｄ）内には測
定方向に同一な幅の３つの領域（Ｂ1,Ｂ2,Ｂ3 ）が配置
され、それ等の中に透明な領域（Ｂ1 ）もあり、領域
（Ｂ2 ）からの部分ビーム束を検出する第一光検出器
（Ｄ1 ）と、領域（Ｂ3 ）からの部分ビーム束を検出す
る第一光検出器（Ｄ2 ）とを設け、両方の光検出器（Ｄ
1,Ｄ2 ）の信号が 120°互いに位相がずれていて、透明
な領域（Ｂ 1 ）からの部分ビーム束が第三光検出器（Ｄ
0 ）に指向し、この検出器の出力信号が前記二つの信号
に対して同じように 120°の位相ずれを有することを特
徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光電位置
測定装置。 - 【請求項５】 格子領域の格子定数は測定方向に対して
横要綱に位置に応じて可変することを特徴とする請求項
４に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項６】 光源の光はレンズにより異なった領域を
有する走査格子にコリメートされて入射し、走査格子の
次に目盛板格子を設け、この目盛板格子を通過した部分
ビーム束が合体格子を経由して他のレンズで複数の光検
出器に集束し、その場合、走査格子が前記請求項１〜５
のいずれか１項に従い形成されていることを特徴とする
請求項１に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項７】 光源（Ｌ）の光がレンズ（Ｋ）でコリメ
ートされて領域（Ｂ 1,Ｂ2,Ｂ3 ）を有する走査格子
（１）に入射し、この走査格子（１）の次に反射性の目
盛板格子（２）を設け、反射した部分ビーム束が再び走
査格子（１）により回折し、レンズ（Ｋ）により複数の
光検出器（Ｄ0,Ｄ1,Ｄ2 ）上に集束し、その場合、走査
格子が前記請求項１〜５のいずれか１項に従い形成され
ていることを特徴とする請求項１に記載の光電位置測定
装置。 - 【請求項８】 目盛板格子（２）と走査格子（１）は測
定方向（Ｘ）に同じ目盛周期（ｃ＝ｄ）を有することを
特徴とする請求項６または７に記載の光電位置測定装
置。 - 【請求項９】 目盛板格子（２）は位相格子であること
を特徴とする請求項６または７に記載の光電位置測定装
置。 - 【請求項１０】 走査格子（１）は、望ましくない信号
成分を遮蔽するため、走査方向（Ｘ）に対して横方向に
向いた絞り状の振幅構造体（Ａ）を有することを特徴と
する請求項１に記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１１】 振幅構造体（Ａ）は、最初の通過で入
射ビーム束がただ一つの領域（Ｂ1 ）を通過する信号成
分（ｂ1 ）のみを検出器側で検出できるが、他の領域
（Ｂ2,Ｂ3 ）を通過する信号成分（ｂ2,ｂ3 ）を遮蔽す
るように構成されていることを特徴とする請求項１０に
記載の光電位置測定装置。 - 【請求項１２】 全体の領域は１目盛周期内でブレーズ
ド位相格子として形成され、測定方向に対して横方向に
向いていることを特徴とする請求項２に記載の光電位置
測定装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19521295A DE19521295C2 (de) | 1995-06-10 | 1995-06-10 | Lichtelektrische Positionsmeßeinrichtung |
| DE19521295:9 | 1995-06-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095026A true JPH095026A (ja) | 1997-01-10 |
Family
ID=7764151
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8133795A Withdrawn JPH095026A (ja) | 1995-06-10 | 1996-05-28 | 光電位置測定装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5689336A (ja) |
| EP (1) | EP0747674B1 (ja) |
| JP (1) | JPH095026A (ja) |
| DE (2) | DE19521295C2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008182249A (ja) * | 2003-10-22 | 2008-08-07 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法並びに測定装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0932819B1 (de) * | 1996-10-16 | 2002-01-30 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Optische positionsmesseinrichtung |
| DE59912617D1 (de) * | 1998-08-01 | 2006-02-16 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Rotatorische Positionsmesseinrichtung |
| EP1028309B1 (de) * | 1999-02-04 | 2003-04-16 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Optische Positionsmesseinrichtung |
| DE10043635A1 (de) | 1999-09-16 | 2001-03-22 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Vorrichtung zur Positionsbestimmung und Ermittlung von Führungsfehlern |
| DE19962278A1 (de) | 1999-12-23 | 2001-08-02 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Positionsmeßeinrichtung |
| DE10333772A1 (de) * | 2002-08-07 | 2004-02-26 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Interferenzielle Positionsmesseinrichtung |
| WO2008110239A1 (en) * | 2007-03-15 | 2008-09-18 | Carl Zeiss Smt Ag | Diffractive component, interferometer arrangement, method for qualifying a dual diffraction grating, method of manufacturing an optical element, and interferometric method |
| DE102007023300A1 (de) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Positionsmesseinrichtung und Anordnung derselben |
| DE102008007319A1 (de) * | 2008-02-02 | 2009-08-06 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Optische Positionsmesseinrichtung |
| EP2264409B1 (en) * | 2009-06-19 | 2015-10-07 | ASML Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| CN104266590B (zh) * | 2014-09-12 | 2017-06-13 | 江苏仅一包装技术有限公司 | 简易直线定位装置 |
| US9871595B2 (en) | 2016-04-27 | 2018-01-16 | Industrial Technology Research Institute | Decoding device and method for absolute positioning code |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59132311A (ja) * | 1983-01-18 | 1984-07-30 | Sony Magnescale Inc | 光学スケ−ル |
| DE3334398C1 (de) * | 1983-09-23 | 1984-11-22 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Messeinrichtung |
| DE3416864C2 (de) * | 1984-05-08 | 1986-04-10 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh, 8225 Traunreut | Photoelektrische Meßeinrichtung |
| GB8413955D0 (en) * | 1984-05-31 | 1984-07-04 | Pa Consulting Services | Displacement measuring apparatus |
| NL8502679A (nl) * | 1985-10-01 | 1987-05-04 | Philips Nv | Optisch omzetelement en verplaatsingsmeter voorzien van dit element. |
| DE3834676A1 (de) * | 1988-10-12 | 1990-04-19 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Photoelektrische positionsmesseinrichtung |
| US5260568A (en) * | 1990-07-18 | 1993-11-09 | Okuma Corporation | Absolute position detector with diffraction grating windows and spot position detection |
| EP0513427B1 (de) * | 1991-05-18 | 1994-07-06 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Interferentielle Positionsmessvorrichtung |
| DE4212281A1 (de) * | 1991-07-11 | 1993-10-14 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Interferentielle Positionsmeßvorrichtung |
| DE4431899A1 (de) * | 1994-02-23 | 1995-08-24 | Heidenhain Gmbh Dr Johannes | Meßvorrichtung |
| EP0669518B1 (de) * | 1994-02-23 | 2000-01-19 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Vorrichtung zum Erzeugen von positionsabhängigen Signalen |
-
1995
- 1995-06-10 DE DE19521295A patent/DE19521295C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-04-23 DE DE59609428T patent/DE59609428D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-04-23 EP EP96106330A patent/EP0747674B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-05-28 JP JP8133795A patent/JPH095026A/ja not_active Withdrawn
- 1996-06-06 US US08/659,336 patent/US5689336A/en not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
| JP2008182249A (ja) * | 2003-10-22 | 2008-08-07 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイスの製造方法並びに測定装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE59609428D1 (de) | 2002-08-14 |
| DE19521295A1 (de) | 1996-12-12 |
| US5689336A (en) | 1997-11-18 |
| EP0747674A3 (de) | 1998-08-26 |
| EP0747674A2 (de) | 1996-12-11 |
| DE19521295C2 (de) | 2000-07-13 |
| EP0747674B1 (de) | 2002-07-10 |
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