JPH09507283A - サテライト弁座を有する弁室壁 - Google Patents

サテライト弁座を有する弁室壁

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JPH09507283A
JPH09507283A JP7511959A JP51195994A JPH09507283A JP H09507283 A JPH09507283 A JP H09507283A JP 7511959 A JP7511959 A JP 7511959A JP 51195994 A JP51195994 A JP 51195994A JP H09507283 A JPH09507283 A JP H09507283A
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ウォルター エル コーノリー
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Abstract

(57)【要約】 弁組立体が、流入流路と、少なくとも1つの流出流路と、流入流路と少なくとも1つの流出流路との間に延びる流れ室とを有する。主弁体は流入流路を取り囲む弁座を有する。主弁体は流入流路と整列した開口部と、この開口部を取り囲む環状肩部とを有する。ダイヤフラムが流れ室内に配置され、肩部に密封係合し、弁座に関して開放位置と閉鎖位置との間で移動できる。ダイヤフラムを開放位置と閉鎖位置との間で移動させるための弁作動器が、主弁体に取付けられる。主弁体は側壁、及び、流れ室と連通する側壁の側壁開口部を有する。側壁は、側壁に形成され側壁開口部を取り囲む側壁弁座を有する。サテライト弁体が、主弁体に取り付けられ、側壁開口部及び主弁本体の流れ室と連通するサテライト弁体のサテライト流れ室を有する。ダイヤフラムが、サテライト弁体内に配置され、側壁弁座に関して開放位置と閉鎖位置との間で移動できる。ダイヤフラムを、サテライト流れ室内において、側壁弁座に関して開放位置と閉鎖位置との間で移動させるための弁作動手段が、サテライト弁体によって支持される。

Description

【発明の詳細な説明】 サテライト弁座を有する弁室壁 本発明は、サテライト弁座を有する弁室壁を備える主弁、及び、特に防腐処理 加工装置との使用に適合した主弁組立体に関する。 今まで、サテライト弁を取付けることができる主弁が提供されていた。しかし ながら、典型的には、これらの主弁は、主中央弁体室への連結を可能にするため に、長い連結体を利用していた。典型的には、これらの長い連結体は、流動媒体 を閉じ込める役に立たないデッドレッグ(deadleg)を形成する、5.0 8センチメートルから7.62センチメートル(2インチから3インチ)の間の 範囲の長さを有する。特にこれは、媒体が腐りかけた即ち悪臭を出す場合には望 ましくない。特にこれは、多数の加工への適用、特に薬剤加工では望ましくない 。 従って、長いデッドレッグを除去する新しい改良弁構造の要求がある。 概略的に、本発明の目的は、主弁構造、及び、サテライト弁のデッドレッグの 除去を可能にする主弁組立体を提供することにある。 本発明の他の目的は、弁室壁に弁室の中に延びる開口部が設けられ、かつ、弁 座が開口部を取り囲みかつ弁室壁の内面にきわめて接近して延びる、上述の特徴 の主弁構造を提供することにある。 本発明の他の目的は、たやすくかつ経済的に製造することができる上述の特徴 の主弁構造を提供することにある。 本発明の追加の特徴及び目的は、好ましい実施の形態を添付図面について述べ た以下の説明から明らかになるであろう。 図1は、サテライト弁座及び取付けられたサテライト弁を有する弁室壁を備え る主弁構造の部分断面等角図である。 図2は、図1の線2−2における断面図である。 図3は、弁座を示す、図1に示した弁室壁の一部の拡大断面図である。 本発明の主弁構造及び主弁組立体は、概ね、流入流路と、少なくとも1つの流 出流路と、流入流路と少なくとも1つの流出流路との間に延びる流れ室とを有す る主弁体から成る。主弁体は流入流路を取り囲む弁座を有する。主弁体は流入流 路と整列した開口部を有する。主弁体は開口部を取り囲む環状肩部を有する。ダ イヤフラムが流れ室内に配置され、肩部に密封係合し、弁座に関して開放位置と 閉鎖位置との間で移動できる。ダイヤフラムを開放位置と閉鎖位置との間で移動 させるための弁作動器が、主弁体に取付けられる。主弁体は流れ室を構成する側 壁を有し、流れ室と連通する側壁の側壁開口部を有する。側壁は、側壁に形成さ れ側壁開口部を取り囲む側壁弁座を有する。サテライト弁体が、主弁体に取り付 けられ、側壁開口部と連通するサテライト弁体のサテライト流れ室を有し、主弁 体の流れ室と連通する流路を有する。ダイヤフラムが、サテライト流れ室に取付 けられ、側壁弁座に関して開放位置と閉鎖位置との間で移動できる。ダイヤフラ ムをサテライト流れ室内において前記開放位置と閉鎖位置との間で移動させるた めの弁作動手段が、サテライト弁体によって支持される。 さらに詳しくは、図面に示すように、弁構造及び組立体11は、主弁12とサ テライト弁13とから成る。組立体11は、底壁及び側壁を有する在来の防腐処 理加工タンクに連結して利用されるようになっていて、タンクの側壁又は底壁の いずれかに取付けられるようになっている。図1では、組立体11をタンク(図 示せず)の底壁16に取付けた状態で示す。 主弁12は、ステンレス鋼のような適当な材料で形成されかつ概ね円筒形の外 形を有する主弁体即ちハウジング21を有する。主弁体は、円筒壁22と、端壁 23及び24とを備え、概ね円筒形の流れ室即ちギャラリー26を形成する。端 壁23は、上方が底タンク壁16に通じ、かつ下方が流れ室26に通じる中心に 配置された流入流路31を有する。端壁23は、底壁16の凹状面と概ね整列し 、かつ、流入流路31の端に向かって内方に向かって先細の傾斜面32が設けら れる。端壁23には、また、開口部31を取り囲む環状弁座33が設けられる。 円筒壁22には、壁22を貫通しかつ流れ室26、及び、溶接のような適当な手 段で側壁22に固定されたエルボ流出口36内に設けられた流路(図示せず)と 連通する流出流路(図示せず)が設けられる。流出エルボには、他の管又はフィ ッティング(図示せず)にクランプによって固定されるようになっているフラン ジ37が設けられる。変形例として、フランジ37を、溶接連結するための平突 合 せ溶接された端部で置き換えてもよい。 流入流路31と流出エルボ36との間の流れを中断するための弁作動手段41 が設けられ、弁作動手段41は、米国特許第5,152,500号に説明されて いるタイプのものである。この特許で開示されたように、このような弁作動手段 41は、流れ室26内に配置され、かつ、弁座33と係合し或いは係合しなくな るように移動できるダイヤフラム42を有し、タンク底壁16から流入流路33 を介して流れ室26に流入する流体の流れを中断する。ダイヤフラム42は、端 壁フランジ24と、着脱自在クランプ47によって主弁体21に取外し自在に固 定されたフランジ付スリーブ46との間にクランプ締めされた部分を有する。弁 作動器41は、また、ダイヤフラム42を弁座33に関して開放位置と閉鎖位置 との間で移動させるために、人間の手によって把持されるようになっているノブ 即ちハンドル車48を有する。 本発明によれば、他の流路即ち側壁開口部51が、主弁体21の円筒壁22に 設けられる。図1に示すように、この開口部51は、流れ室26と連通する。円 筒壁22は、円筒壁に形成され側壁開口部51を取り囲む弁座52を有する。弁 座52は、その内側端が壁22の内面にきわめて接近しているような方法で先細 である。 サテライト弁体56は、溶接のような適当な手段によって壁22に取付けられ 、側壁開口部51を介して主弁体21の流れ室26と連通する流れ室57を有す る。フィッティング61が、図示するように溶接のような適当な手段によってサ テライト弁体56に固定され、又は、サテライト弁体56と一体に形成され、例 えば、サテライト弁13を介して滅菌及び洗浄用蒸気を導くフィッティングを利 用するのが望まれる場合における蒸気管のような他の管に、クランプ62によっ て連結する。 主弁12に関して以下で説明する弁作動手段41に類似したサテライト弁作動 手段71を、サテライト弁13として利用することができる。かくして、以下の 説明の中で示すように、側壁弁座52と密封係合し、或いは密封係合しなくなる ように移動できるダイヤフラム72が設けられる。ダイヤフラムを、シリコーン ゴムのような適当な材料で形成するのがよい。ステンレス鋼のような適当な材料 で形成されたインサート73が、流れ室57の中に延び、インサート73に取付 けられたダイヤフラム72を有する。ダイヤフラム72に外方に向けて設けられ た延びたフランジ74が、サテライト弁体56の一部を形成したフランジ76上 に着座する。フランジ付スリーブ77が、ステンレス鋼のような適当な材料で形 成され、ダイヤフラム72のフランジ74の他方側の上に延びる。フランジ付ス リーブ77は、ダイヤフラムのフランジ74を堅くクランプ締めするようにクラ ンプ78によってフランジ76に固定される。軸81が、フランジ付スリーブ7 7の中に延び、ねじ連結具82のような適当な手段によってインサート73に連 結される。軸81は、テフロンのような適当な材料で形成された案内ブッシュ8 3を貫通し、内側O−リング84及び外側O−リング86の使用によってフラン ジ付スリーブと密封係合を形成する。黄銅のような適当な材料で形成されたキー スリーブ88が軸81に取付けられ、キー89によって軸81にキー締めされる 。 回転阻止ピン91が、キースリーブ88に配置された一端を有し、かつ、フラン ジ付スリーブ77の中に延びる他端を有する。 フランジ付ナット96が図示するように軸81にねじ込まれ、ウェファー軸受 97及び98をナットの両端に備え、ウェファー軸受97はキースリーブ88に 係合し、ウェファー軸受98は、図示するようにフランジ付スリーブ77内に着 座したスナップリング99によって係合される。ステンレス鋼又はプラスチック のような適当な材料で形成されたノブ101が、止めねじ102のような適当な 手段によってフランジ付ナット96に固定される。 ノブ101を時計回り状態と反時計回り状態との間で作動させるとき、ダイヤ フラム72は側壁弁座52に関して開放位置と閉鎖位置との間で移動し、側壁開 口部51から流れ室26の中への、フィッティング61と流れ室57との間の流 通を可能にする。サテライト弁作動手段71の作動は、特許第5,152,500 号に説明されている作動に非常に類似していて、従って、詳細に説明しない。特 許第5,152,500号に説明されている目的と同様な目的のための漏れ指示ベ ント106がサテライト弁体77に設けられる。 組立体11の主弁12の作動及び用途は、特許第5,152,500号に説明さ れている作動及び用途と非常に類似している。サテライト弁を、蒸気洗浄及び他 の目的に利用することができる。また、もし所望なら、弁座を主弁体壁に形成す る構造と類似した構造を利用して、追加のサテライト弁を主弁体に設けることが できるということを認識すべきである。 サテライト弁の前述の構造から、サテライト弁が閉じているとき、ダイヤフラ ムが点線111で示すようにわずかに内方に延び、かつ、主流れ室26を形成し た壁の内面と少なくとも接触するという事から、デッドスペースは少しも無いか 、或いは、ほとんど無いほどに減らされたことがわかる。弁座は、流れ室内で流 線に非常に近くなり、従って、流線と弁座位置との間にデッドレッグのスペース は無い。図示したように、サテライト弁座は、実質的に、主流れ室を形成する内 側壁の表面にある。図示した構造では、サテライト弁は主弁に接近取付けされる 。サテライト弁のダイヤフラムは、主弁体の壁の中に延び、主弁体に形成された 弁座とシールを形成し、外面は、流れ室壁の内面と接触しているか、又は、流れ 室壁の内面をわずかに越えて延びる。換言すれば、弁座が主弁体又は一部分に設 けられ、弁作動機構構造は弁座から隔てられる。 前述のことから、デッドスペース無しで、又換言すると、デッドスペースゼロ でのサテライト弁の利用を可能にする、サテライト弁座を有する弁室壁を備える 主弁構造及び主弁組立体を提供することがわかる。これは、多くの加工において 、例えば、デッドレッグ内で腐敗して悪臭を出すか、或いは品質が低下する媒体 を利用する防腐処理加工に関して特に有利である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 コーノリー ウォルター エル アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94556 モラガ ダンフィールド プレイ ス 133 (72)発明者 ヒューズ ティモシー ジー アメリカ合衆国 カリフォルニア州 94596 ウォルナット クリーク テラベ ラ ドライヴ 73

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.流入流路と、少なくとも1つの流出流路と、前記流入流路と前記少なくとも 1つの流出流路との間に延びる流れ室とを有する主弁体であって、前記主弁体は 前記流入流路を取り囲む弁座を有し、前記主弁体は前記流入流路と整列した開口 部を有し、前記主弁体は前記開口部を取り囲む環状肩部を有するところの上記主 弁体と、 前記流れ室内に配置されかつ前記肩部に密封係合しかつ前記弁座に関して開 放位置と閉鎖位置との間で移動できるダイヤフラムと、 前記ダイヤフラムを開放位置と閉鎖位置との間で移動させるための前記主弁 体に取付けられた弁作動手段であって、前記主弁体は、側壁と、前記流れ室と連 通する前記側壁の側壁開口部を有し、前記側壁は、前記側壁に形成され前記側壁 開口部を取り囲む側壁弁座を有するところの弁作動手段と、 前記主弁体に取り付けられ、かつ、前記側壁開口部及び前記主弁体の流れ室 と連通する前記サテライト弁体のサテライト流れ室を有するサテライト弁体と、 前記サテライト弁体内に配置され、かつ、前記側壁弁座に関して開放位置と 閉鎖位置との間で移動できるダイヤフラムと、 さらに、前記ダイヤフラムを、前記サテライト流れ室内において、前記側壁 弁座に関して開放位置と閉鎖位置との間で移動させるための、前記サテライト弁 体によって支持された弁作動手段と、 を備えることを特徴とする弁組立体。 2.前記側壁は前記流れ室を構成する内面を有し、前記側壁弁座は前記内側壁面 にきわめて接近している領域の中に延びる傾斜面を有し、前記サテライト流れ室 内の前記ダイヤフラムは、前記サテライト弁が閉鎖位置にあるとき、実質的に前 記主弁体の前記内面と接触している面を有し、その結果、前記サテライト弁が閉 鎖位置にあるときに前記主弁体の前記流れ室と前記サテライト弁の前記ダイヤフ ラムとの間に実質的にデッドスペースは無いことを特徴とする請求の範囲第1項 に記載の弁組立体。 3.円筒形の側壁と、流入開口部、及び、前記流入開口部と整列した反対側の開 口部を有する端壁とを備え、前記端壁は前記側壁とともに室を形成し、前記側壁 は、内面、及び、前記側壁の前記内面から外面に延びる前記側壁に形成された側 壁開口部と、前記側壁に形成されかつ前記側壁の側壁開口部を取り囲む弁座とを 備え、前記弁座は、前記側壁開口部にきわめて接近しかつ前記側壁の前記内面に きわめて接近している最内端を有するテーパ面を備えることを特徴とする主弁体 構造。 4.前記側壁弁座は、横断面が円環状であることを特徴とする請求の範囲第3項 に記載の主弁体構造。
JP7511959A 1993-10-22 1994-10-07 サテライト弁座を有する弁室壁 Pending JPH09507283A (ja)

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JP (1) JPH09507283A (ja)
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