JPH09508739A - 指紋一致装置 - Google Patents
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- JPH09508739A JPH09508739A JP8513428A JP51342896A JPH09508739A JP H09508739 A JPH09508739 A JP H09508739A JP 8513428 A JP8513428 A JP 8513428A JP 51342896 A JP51342896 A JP 51342896A JP H09508739 A JPH09508739 A JP H09508739A
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Abstract
(57)【要約】
電子計算機を用いて未知の指紋の組の指紋のデジタル化された指紋の詳細点マップとメモリに記憶されている参照指紋の組の対応マップとを比較して未知の指紋を特定または一致させる。一致はすべての指紋を特性関連図(ARG)に変換することによって実行する。ARGはノード及び枝を含み、それらに対し特性が追加される。比較予定の各指紋ごとに距離マトリクスが発生され、その要素は星の類似点となる。最高のランクの星対が比較の木の開始点として選択され、それによって一致コアを一致星を表す要素に満たすことが試みられる。比較は各星のノード及び枝の様々な特性に基づく。星の最大一致数が各指紋の組内で一致すると、次の参照指紋が未知の指紋と比較されるが、それはすべての関連する参照指紋が比較されるまで行われる。一致コア内の要素の数は各参照指紋に対する未知のものの一致の程度を表す。
Description
【発明の詳細な説明】指紋一致装置 発明の分野
本願発明は指紋の同一性の確認あるいは他の個人的特徴の適合に関し、特に、
一組の指紋を多くの指紋を含む参照ファイルと適合させ、2または3以上の指紋
の型が同一の指または異なる指であるかを確認することに関する。従来技術
パターン一致または比較方法には、製造工程における機械部品の同一性の確認
や郵便分類の段階におけるアドレスの読取りのような多くの応用がある。上述の
応用は、機械部品の場合には異なる部品の数は限られており、それらの形状は一
般的に単純であるので、簡単な比較の利用に入る。つまり、機械印刷の置換え数
は膨大であるが同一性の確認のための26文字及び10の数字のみを持つ。
比較のより複雑な種類としては、画像が作られる条件が同一でない場合に、特
に似ているが同一ではないようなものの間での識別がある。画像が生物標本であ
る場合には画像の変わりやすさが非常に大きいときがある。画像一致の一面とし
て同定のための対象物のレチナールパターンの一致のようなものがある。他の利
用としては指紋をファイル指紋と比較することによる同一性の確認がある。
指紋は情報の内容として非常に貴重なものである。指紋には主として2つの種
類の情報が存在する。だい1には隆起線の流れ情報であり、第2には指紋の特定
の特徴または詳細点である。ここでは、用語「詳細点」とは単数及び複数の両方
を意味するものとして用いる。指紋はそれらの情報内容に基づいて個人を唯一な
ものとして特定する。情報は指紋における詳細点及びそれらの相対的形態上の関
係によって表される。指紋の詳細点の数は指ごとに異なるが、平均的には指紋ご
とに約80から150までの間にある。指紋の内容には、非情に多くの記憶され
た指紋が国中の法律執行事務所に存在する。それらの指紋には既知の個人の指紋
のファイルが含まれており、それらはインクが付いた指をカードの上で転がすこ
とによって、逮捕に関連しまたは人物証明調査または入国審査書類を得るための
人物証明等の他の理由のために作られたもので、また、それはさまざまな方法に
より犯罪現場から採取された肉眼では見えないような犯罪現場の指紋の写しも含
む。
それらの参考指紋は不完全になりやすいが、それはインク過剰のように指紋の
谷間をふさいでしまうことがある場合や、インク不足のように隆起の終端が不鮮
明になる場合であり、また、同一の指紋の像の異なる領域内にインク過剰やイン
ク不足の両方ともが生じることがある。指が望ましくない動きをしたり、指を転
がす際にその指に加える圧力が均一ではない場合には、指紋の別々の位置におい
て輪郭が不鮮明になったりにじんだりすることがある。保管されている指紋はま
た保管されている間に劣化することがあり、それは例えば古い画像の色があせた
りしみがついたりするために生じることがある。さらに、指紋を取る作業のあい
だの経験の程度に大きな差がありまた指紋を得るときの条件により、指紋の画像
の質に大きな差が生じる。同様な状況が実際の指紋の走査の際の走査装置の違い
によっても生じる。
多くの現在の装置における指紋の一致は大部分を全体的な登録点のようにコア
およびデルタを比較することに基づいており、それは上述の歪みや変化の多くの
要因により比較に誤差を生じさせることがあり、それらのほとんどは、通常、遭
遇することがあるようなさまざまな別々のインキ塗布、保管および予備処理条件
により生じる。
1991年にエルスバイヤー(Elsevier)によって発行されたヘンリー・シー・
リー(Henry C.Lee)およびアール・イー・ゲステン(Guessten)の「指紋技術の進
歩」(Advances in Fingerprint Technology)の164乃至191頁に説明されて
いるように、手による調査は参照ファイルが非常に膨大であるためもはや不可能
であるので指紋の同定の自動化の努力が長い間にわたって行われている。そのよ
うな指紋の同定の努力には2つの別々の分野が含まれる。つまり、(a)指紋走査
および詳細点同定の分野および(b)一致する指紋を特定するために別々指紋に関
する詳細点のリストの比較である。参照指紋の膨大なファイルが走査され、それ
からデジタル型の詳細点ファイルが得られるが、それらは完全な自動機械または
人間の補助を必要とする半自動機械を用いて行われる。指紋の走査および詳細点
の検出におけるすべての問題が解消されたというわけではないが一致に関する問
題はより強調されるものであると思われる。
適合または調査のサブシステムはいずれかの自動化された指紋特定装置(Autom
ated Fingerprint Identification System)(AFIS)の最も重要な構成要素を備え
る。その作動は装置全体の適合の信頼性(データベースに存在するときには正し
い一致を立証する可能性)、適合選択性(各調査の試みにおいて立証された誤り
候補の平均数)および膨大なデータベース装置においては特に十分な処理数を確
立する。指紋の唯一の特定は通常各指紋に含まれた1組の詳細点を用いて実行さ
れる。各指紋に対しそれらの詳細点は詳細点マップを形成する。
図1aは標準規格および技術国立機関(National Institute of standards and
Technology)(NIST)のデータベース4から得た紙にインクをつける手続きによっ
て現れた特定の概略化した指紋の表示を表しており、図1bは同一の概略化した
指紋であるが、潜在的な表示において不足インキおよびしみにより現されたもの
である。図1aおよび1bの表示が作られたように異なる条件の結果、図1aお
よび1bにおいて点で表された詳細点の少なくともいくつかのものは異なり、さ
らに、異なる位置に配置されている。このような相違により、適合方法は、過度
の数の誤りの決定を発生させないように、未知のまたは調査の指紋と参照指紋と
を確実に特定しなければならないときにはとくに確固たるものでなければならな
いことは明らかである。
改良された調査または適合装置が望まれており、それは高い信頼性のある適合
、低い適合選択性および多数のデータベースの内容における高い装置処理量を提
供しなければならない。発明の概要
指紋のような像は参考指紋と比較されるが、それは、第1に、参考指紋のファ
イルを発生し、その参考指紋をデジタル化して参考指紋のデジタル表示を発生さ
せ、そして、その情報をデジタルメモリ、例えば、読取り専用メモリ、磁気テー
プ等のようなものに記憶する。そのようなファイルはすでに存在し、FBIのよ
うな機関によって維持されまた更新されている。
デジタル化された参照指紋データは電子計算処理装置によって特性関連図(A
RG)の態様に変換されるが、その図は(a)ノードおよびノード特性並びに
(b)ノード間の枝および枝特性を含んでおり、それらは参照指紋の組の抽出され
たデジタル詳細点マップから導き出される。特性関連図は詳細点の位置および方
向性のような形態情報を含む様々なノードおよび枝特性を含む。1組の未特定の
指紋(その組は1つだけの指紋を含むことができる)を特定するためにはその組
の未特定の指紋は保管されている参照指紋の組と比較する必要がある。この場合
、1組の指紋に適用されている用語「未特定」はその指紋が未特定の者からのも
のであることを意味する必要はなく、それより、それらの指紋が参照指紋と一致
しなかったことを意味する。1組の未特定の指紋の比較は、まず、未特定の指紋
の組の各指紋の特性関連図を発生することにより行い、その特性関連図の各々は
(a)ノードおよびノード特性並びに(b)ノード間の枝および枝特性を含み、それら
のすべては未特定の指紋の組の抽出されたデジタル詳細点マップから導き出され
るが、それは最初に参照指紋ファイルに対し行われたものである。特性関連図の
発生は各ノードの中心に暗に星を発生させる。星は中心ノードと、その中心ノー
ドに直接に結合された枝であるその中心ノードの枝と、その枝の端部にある枝と
を含む。未特定の指紋の組の特定つまり比較における第2の段階は、電子計算処
理装置を用いて、(a)未知の指紋の組の指紋の1つのARG内の星と、(b)参照指
紋の組の1つの中の指紋の1つのARGの星との間の距離マトリクスを発生する
。その距離マトリクスは比較予定の各対に関連するマトリクス要素を含む。本願
発明の望ましい実施例においては、距離マトリクスの要素はその要素の値にした
がって各指紋対ごとに記憶されて星対適合の順序を確立する。一貫した星対の適
合コアが、比較予定の各指紋ごとに距離マトリクスおよびARGを用いて発生さ
れる。望ましい実施例においては、適合コアの発生は記憶された距離マトリクス
によって確立された順序で実行される。比較予定の各指紋対ごとに、適合コアは
、適合コアと一致する星対が追加できなくなるまで、適合コア内に含まれた星対
と一致する星を追加することによって拡大される。これは、比較予定の指紋の間
には一致がないので発生することがあるが、それは指紋対の得られるすべての星
対は一致してしまっているからであり、または、一致した星対の所定の制限数に
到達してしまっているからである。未特定の指紋を参考ファイルの各指紋と連続
的に比較する手続きは繰り返される。調査を付帯的な知識、例えば、特定の
指の確定(例えば人差し指)または手(左または右)によって簡略化することが
できるときには、調査つまり比較は参照指紋ファイルの対応指紋に限定すること
ができる。最も高い得点を持つ一致コアは、未特定指紋と参照指紋ファイルの指
紋との間の最も近い対一致を確定する。
本願発明に係る方法の別の面によると、特性関連図を発生する工程が、(a)A
RGの特定のノードを抽出デジタル詳細点マップの各詳細点に割当てる工程と、
(b)ARGの特定のノードにその対応する詳細点の位置を割当てる工程と、(c)A
RGの特定のノードにその対応する詳細点の方向に割当てる工程と、(d)特定ノ
ードの方向によって確立されたように、特定ノードと、特定ノードの周りの四分
円の各々内の最も近い他のノードとの間に枝を構成し、「最も近い」ことはノー
ド間のユークリッド距離によって決定される工程と、(e)枝に、ユークリッド距
離(i)および他のノードが存在する四分円(ii)の少なくとも特性を割当てる工程
とを含む。
本願発明のある面によると、距離マトリクスの計算を実行する工程が、詳細点
の対の間のユークリッド距離を決定する工程と、詳細点の対の間のユークリッド
距離を前記対の詳細点の間の局部的隆起幅の平均値で割って各対ごとに標準化し
た隆起幅距離を発生し、これにより、形態上の関連リストが標準化した隆起幅距
離を含む工程とを備える。
本願発明の別の面によると、詳細点の種類及び局部隆起幅のいずれか一方また
は両方が特性関連図のノードに割当てられる。特性関連図の枝は隆起数、標準化
隆起幅及び又は 「同一隆起」特性の特性に割当てられる。
本願発明によると、距離マトリクスの発生は2つの工程によって実行される。
その内の1つは、未知及び参照指紋のARG表示の星の特性の値を比較する。そ
れには、未知の指紋の星の各枝と参照指紋の星の各枝との比較を含む。枝の各対
ごとに点数を発生する。距離マトリクスの要素の発生に関する第2の工程には、
各星対語との枝対の点数の最大一致合計を計算する工程を含む。
一致コアは以下の工程によって形成される。つまり、一致コアの第1の要素を
特定する、最高の距離マトリクス要素に、関連した又は対応した星対を選択する
工程と、そのような第1の要素を一致コアに追加する工程と、距離マトリクスか
ら一致コアの第1の要素に関連する要素を削除して減少された距離マトリクスを
発生する工程と、一致コアの第1の要素内の星対の中心ノードに隣接するノード
に中心を置く星の候補対の中から候補星対を選択する工程であって、候補星対が
、(a)一致コアと一致するとともに、(b)減少距離マトリクス内の最高の距離マト
リクス要素に関連する一致コアに一致するすべての候補星対の中にあり、これに
より、一致コアに対する第2の要素を発生する工程と、第2の要素を一致コアに
別の要素として追加する工程と、減少距離マトリクスから一致コアに第2の要素
として追加された候補星対に関連する距離マトリクスの要素の内の1つを削除し
て別の減少距離マトリクスを形成する工程と、別の星対を選択する工程、追加す
る工程、及び前記減少距離マトリクスから削除する工程を、少なくとも一致コア
に一致する候補星対の残りがなくなるまで繰り返す工程とからなる。上述の通り
、一致コア内の要素の所定数は、一致コアの別の発生を呈すると判断することが
でき、それは「不変性」と呼ばれ、さらにその数より大きな追加の要素が「不変
性」と呼ばれる。
一致コア内の要素の数が特定数より小さく、一致コアと一致する星対が残って
いないときには、調査方法は「バックアップ」することができ、そして他の調査
経路を試みることができ、それは、一致コアから最も新しく追加した要素を削除
し、それにより、最後から2番目も、つまり他の要素が前記一致コアに追加され
た最後の要素となる。一致コアの要素に関連するいずれかの星の中心ノードの隣
接ノードに中心を置く星の候補対の中から候他の星の候補対を選択する。その星
の対は、(a)一致コアと一致するとともに、(b)減少距離マトリクス内の最高の距
離マトリクス要素に関連する一致コアに一致するすべての候補星対の中にある。
これにより一致コアに追加される一致コアに対する第2の候補要素を発生する。
候補星対に関連する距離マトリクスの要素の内の1つを削除してさらに別の減少
距離マトリクスを形成する。別の星対を選択する工程、追加する工程、及び減少
距離マトリクスから削除する工程を、少なくとも一致コアに一致する候補星対の
残りがなくなるまで繰り返す。図面の説明
図1aおよび1bは一本の指の簡略印刷像を表示したもので、合成詳細点に関
する型の異なるインク条件の影響を図示する。
図2は本願発明に係る指紋適合装置またはシステムの全体的な図で、画像操作
、特徴抽出、参考情報のメモリへの記憶および一般的な目的でプログラムされま
たは特定の目的の概観を図示する。
図3aは指紋の詳細点の特性関連図(ARG)であり、図3bはノード特性ベ
クトルの可能性のあるビット構造の表現であり、図3cは枝特性ベクトルのビッ
ト構造の可能性のある表現である。
図4aは比較予定の2つの指紋の特性関連図からの一対の星を図示したもので
、各星は中心ノード、その中心ノードからの枝および隣接ノードから作られてい
る。図4bは指紋の一部を図示するもので、隆起の端部および隆起の分岐点の詳
細点を示し、また、隣り合う詳細点間の隆起の数の測定も示す。
図5a、5b、5cおよび5dは、特定の詳細点を中心とする局所的座標系と
、特定の指紋の詳細点の間から1つの詳細点まで適用される座標系の定義と、時
計回りに回転した座標系を持つ図5bに似たファジー四分円定義と、反時計回り
に回転した図5bに似たファシー四分円定義とを表す。
図6aおよび6bはともに本願発明に係る特定の指紋を他のものと一致させる
方法の距離マトリクス発生部分を表す簡略化したフローチャートである。
図7は本願発明に係る2つの指紋の類似点の決定の一致コア発生部分を表す簡
略化したフローチャートである。
図8aおよび8bはともに図7の候補ノード選択の詳細点を示す簡略化したフ
ローチャートを構成する。本願発明の説明
図2では個人の指にインクをつけて転がすことによって得た指紋カード10を
光学スキャナ12によって走査して、詳細点が特定できるような十分な精密なレ
ベルで画像を表すデジタル信号を発生する。上述の通り、図示のスキャナを用い
る代わりに実際のものの走査装置を用いて板の上に置かれた指の走査から直接に
デジタル信号を発生することができる。ここで用いるように、本分が他のことを
示さない場合には用語「指紋」または「指紋像」はインクを付けて転がす指を自
動的にまたは手で走査することから、または実際の走査装置を通じて指紋を捕捉
することから得たデジタル像を意味する。デジタル信号は従来の特徴抽出装置1
4に供給され、その装置は詳細点の位置および方向性の少なくとも1つのリスト
を抽出し、また像の概略を生成することができる。詳細点の型や局部的な隆起の
幅のような他の情報を抽出できることが望ましい。スケルトン(骨組)は指紋の
型であり、そこではコントラストが強調されていて2値情報(1および0)のみ
が残っている。そのスケルトン化は光学的に、走査およびデジタル化によって実
行することができ、または、像の走査によりグレースケールを表すデジタル情報
を得ることができ、それに続いてデジタル情報は処理されてグレースケールを2
値に圧縮することができる。そのスケルトンを特徴抽出装置で用いて、以下に述
べるように、他の特性、つまり隆起数を抽出することができる。特徴抽出装置1
4は調査プリントの詳細点リストをプロセッサ16に接続する。プロセッサ16
は図3aに関連して以下に説明するようにデジタル詳細点リストの特性関連図(
ARG)への変換を実行する。概略、ARGは指紋の型の記号的な表示であり、
それはカード上の詳細点の位置、詳細点の方向およびその他の入手可能な特性の
ような関連情報を含む。像上の詳細点は、インクによる印影が作られるごとにま
たは実際のものの走査が行われるごとに像の詳細点の位置は変わることがあるが
、それは、例え同一の指であっても、カードウインドウ上の指の配置が変わるた
めであり、また、その配置が偶然にも同一であったとしても、指の転がしおよび
指の圧力の変化により他の詳細点に対するいくつかの詳細点の位置が移動するこ
とがあるからである。未知のつまり調査指紋のARGは経路18を経由してプロ
セッサ20に接続される。この状況ではプロセッサ16および20は同一の汎用
プロセッサを用いることができ、それらは所定時間のARG発生ソフトウエア部
分および他の時間の調査ソフトウエアを備え、またはそれらは各々が特定の機能
のためにプログラムされている別々のハードウエア装置を備えることができる。
メモリ22はテープ記録、光学ディスクメモリ等のような電子的メモリを用い
ることができ、それには、未特定の指紋ARGに関連して上述したように作られ
た参照指紋情報の組の特性関連図表示が既に記憶されている。メモリは様々なロ
ードされなければならないので、ラインによって図示した別のデータ経路24は
、
調査が行われる前に、メモリ22に参照指紋情報のARG表示をプロセッサ16
から読み込ませる状態を示す。読取装置、23で示すものはそれに結合された制
御信号の命令の下で参照指紋に関連する情報を読み取る。
本願発明に係る一致方法に用いる詳細点は概略2つの基本的な型、つまり、(a
)隆起の結合点(分岐点)および(b)分岐または結合しない隆起の端部(隆起端部
)であるが、それらの2種類の型には限定されない。各詳細点に関連して得なけ
ればならない詳細点情報は位置であり、それは概略X−Yデカルト座標(Cartesi
an coordinates)で与えられるが、円または他の座標および方向で得ることもで
きる。詳細点の方向は上述のリーおよびゲンステンのテキスト(LeeGuenssten te
xt)で定義されているが、概略隆起終端位置における隆起方向および分岐点脈絡
の分岐の共通部分の方向とは反対の方向となるということができる。
図2のメモリ22に参照指紋特性関連図の情報が読み込まれ、プロセッサ16
が未知の指紋のARGを発生すると、ともにプロセッサ20で入手できるように
なって調査を行えることができるようになる。特定は、特定予定の指紋を連続し
て参照指紋メモリ内の各関連する指紋と比較することによって実行される。従っ
て、一組を構成する2つの指紋が常に比較されている。つまり、未知のまたは調
査指紋の1つと参照メモリからの指紋の1つとである。概略、各指紋対の比較は
、未知の指紋のARGおよび参照指紋の1つのARGの両方に計算を行って距離
マトリクスを発生することによって開始される。図2において、距離マトリクス
の計算はプロセッサ20のモジュール26において実行される。プロセッサ20
はプログラムされた汎用コンピュータであってよく、その場合にはそれ自体が制
御信号を生成し、それはメモリ22からの読み出しのためにメモリ読取装置23
を制御し、またそれはそのなかの様々なモジュール26、28および30を制御
する。つまり、プロセッサ20が専用プロセッサの場合には、それはそれらの様
々な部分の作動の同期をとるためにタイムコントローラつまりシーケンサ39を
必要とする場合がある。距離マトリクスの計算は1つの指紋ARGの星と他の指
紋ARGの星とを比較することによって、つまり、より詳しく述べると、未知の
指紋の星と参照指紋の内の最新の1つのものの星とを比較することによって実行
される。星は以下に定義する。距離マトリクスが図2のモジュール26で
実行されると、未知の指紋および参照指紋の特性関連図の各対の星に対する要素
を持つマトリクスを得る。本願発明の望ましい実施においては、距離マトリクス
はモジュール26からブロック28に結合され、それは距離マトリクスの要素の
大きさまたは値に応じてそれらを分類することを表す。その分類はどの様な方法
でも実行することができる。プロセッサ20のブロック30はグラフ一致モジュ
ールを表しており、それは、星対ごとに一致星対の内から最も一致した組を作り
上げるために、星対の一致の可能性のあるすべての組み合わせを試みる。実質的
な一致を生成する見込みのない処理の量を減少させるために、最も似ている星対
から開始するように、処理が望ましくは分類モジュール28で実行される分類に
よって確立される順番でグラフ一致モジュール30において実行される。グラフ
一致がモジュール30で実行されると、一致の結果は値の形態で経路32を経由
して一時的記憶つまりメモリ34に伝達され、そこでは、最も大きな数の一致し
た星対を含んだ少なくともそのグラフの値が、その一致に関連する参照指紋の同
一性とともに記憶される。未知の指紋が参照指紋と比較され、その一致値が記録
されると、次の参照指紋に関連する情報がメモリ22から距離マトリクス発生装
置26に読み出され、一致手続きが再び開始される。そのシーケンスは、少なく
とも一致がいくつかのしきい値基準によって確立されたときに発見されるまで、
または関連する参照指紋の供給が終了するまで、継続される。記憶装置34に記
憶された情報は最も良い一致を表しており、つまり、1より多くの一致が記憶さ
れたときに、一致の値または比較上の質を、一致が関連する参照指紋の同一性と
ともに表す。ブロック36は記憶されたものの中から最も一致するものの選択を
表し、ブロック40は表示を表し、それには未知の指紋に最も一致した少なくと
もその参照指紋の組の同一性が表示される。
図3aは指紋の簡略化した特性関連図を示す。図3aにおいては円または楕円
はノード(結節点)を示しており、それらの各々は抽出された指紋情報の1つの
詳細点と関連する。1つのその様なノードを310で示し、また隣接するノード
を312で示す。各ノードは以下に説明するように星の中心ノードである。線つ
まり「枝」314はノード310と312との間に延在し、互いに関連付けられ
、つまり、2つのノード形態的関係を「表示」する。図3aの各ノードはそれか
ら
延びる複数の枝を持つが、単一のノードに関連する枝の最小数は1である。「星
」は選択された中心ノードと、そこで終端する枝と、それらの枝の他方の端部に
ある「隣接」ノードとからなる。つまり、ノード310が星の中心ノードとして
選択されると星全体は中心ノード310と、枝314、324、326、328
および330と、ノード312、316、318、320および322とからな
る。用語「隣接」はノード312、316、318、320および322が中心
ノード310に関連するときにそれらに割り当てられる。図3aにおいては、各
ノードは詳細点の種類の図形表現に関連する。例えば、ノード310は340で
示された図形に関連し、それは分岐点の形状であるが、ノード312は図形34
2に関連するが、それは隆起終端を表す。図形の方向は詳細点方向も示す。図3
aに図形で表現された詳細点の種類および詳細点の方向情報はノードに関連する
デジタルワードにコード化される。
図3bは図3aのノードを特定するデジタルワードのフォーマットを表す。図
3bにおいて、ワードの18ビットはノードによって表された詳細点のX、Y位
置に関連し、18ビットの次の組は詳細点の方向を表し、さらに次の8ビットは
詳細点に限定する隆起の幅を特定し(得られる場合には)、1または2以上のさ
らに別なビットは詳細点の種類を示すために割り当てられる(得られる場合には
)。実際には1ビットだけが2つの上記の特定された詳細点の種類を明確にする
ために必要とされるが、追加のビットを得てその様な詳細が得られる場合には追
加の情報に関連する情報をコード化する。
図3cは枝特性または特定ごとのビット割り当てを示す。図3cにおいて、8
ビットは枝が終端する2つのノードの各々を特定するもので合計で16ビットで
ある。4つの追加のビットはノードによって表された2つの詳細点の間の隆起数
を特定する。8つの追加ビットは「ファジー四分円割当て」のために用いられ、
4ビットは四分円内の端部ノードの第1のノードの位置を特定するもので、それ
は第2ノードの詳細点の方向に基づくものであり、また、追加の4ビットは四分
円内の端部ノードの第2のノードの位置を特定するものであり、それは第1ノー
ドの詳細点の方向に基づくものである。4ビットが四分円を特定するために必要
とする理由は特定四分円は「ファジー」だからであり、基本的四分円は特定され
るからであり、また、その基本的四分円内の位置も3つの領域にさらに分割され
て特定される。つまり、結果として、12の可能性のあるファジー四分円割当て
が存在することになる。隆起割当ては図3aのワードにおいて2ビットを必要と
する。その隆起割当ては、隣接する詳細点を表す2つの隣接ノード(同一の枝に
結合されているもの)に対し、それらが同一の隆起の上に存在するか否かまたは
異なる隆起の上に存在するか否かを確認する。同一の隆起の特性は図4bに関連
して以下に説明する。図3cはここまでで説明を完了したので、枝ベクトルビッ
トは図2のメモリ22にARGの一部として記憶されることが予定されている。
2つのさらに別の組のビットが図2の距離マトリクスモジュール26で算出さ
れるが、メモリ22に記憶する必要はない。隣接するノードによって表された2
つの詳細点の間にはユークリッド距離が存在し、それらの同一の詳細点の間には
標準化した隆起幅の距離が存在する。ユークリッド距離は図3cのワードのビッ
ト割当て内の32ビットのブロックであるが、標準化された隆起幅は32ビット
のブロックである。標準化された隆起幅の距離は隣り合うノードの2つの局部的
隆起幅の合計の半分によって分割されるユークリッド距離である。指の隆起は均
等に離れている必要はない。標準化された隆起幅の距離は、指の弾力性のために
、指自体のおよび・またはインクによる印影の異なる隆起幅を修正する。
図4aは未知の指紋の特性関連図から星410を示すとともに、最新に比較さ
れた参照指紋のARGからの他の星430を示す。星410はARG抽出装置1
6から図2の距離マトリクス計算モジュール26に最も新しく結合された未知の
指紋のARGの星の中の星であると考えることができるが、星430は比較のた
めにメモリ22から距離マトリクス計算モジュール26に最も新しく結合された
参照指紋のARGの星の中の星であると考えることができる。図4aの星410
の中心ノードは412で示されており、星430の中心ノードは432で示され
ている。比較予定の特定の組の指紋の第1の星に対しては、ノード方向はどの様
な方向でも良い、つまり360度の回転方向とすることができると推測される。
実際的な問題としては指はインクがつけられて転がされるときにはカード上を概
略同一方向を向き、潜在的な指紋でさえも望ましい方向を持つので、調査しなけ
ればならない角度的位置の範囲を限定することができる。特に、詳細点の
方向の一致を、像の60度の時計回りおよび反時計回りへの回転に相当する12
0度内に限定して十分であると思われる。一致の限定を361度に変更すると、
試験は処理から本質的に排除され、それにより、すべての可能性のある回転に対
する処理となり、その結果、一致工程における回転上の不変性を保護することが
でき、それにより、印影の相対的な回転量にもかかわらず一致を発生することが
できる。
指紋のその組の星の特定の対(1つの未知の指紋と1つの参照指紋)に対する
図2のプロセッサ26における距離マトリクスの発生の第1工程は処理を開始す
るもので、図6のフローチャートの開始ブロック610によって示されているよ
うに、未知の指紋のARGを局部メモリ(ブロック612)に読み込ませ、そし
て、参照指紋の第1のもののARGを読み取る(ブロック614)。ブロック6
14からは、図6の論理はブロック616に流れ、それは未知の指紋のARG内
のすべての星の組をSUにセットする状態を示す。図6aおよび6bの論理は結
局その指紋のSUのすべての要素に対し繰り返される。ブロック616からは論
理は決定ブロック618に流れ、それはセットSUを検査してそれが要素を含ん
でいるかまたはそれが空であるかを決定する。セットSUが空のときには、距離
マトリクス計算はその指紋に対しては終了し、論理は経路620を経由して図6
aおよび6bのフローチャートを離れ、図2の記憶モジュール28に流れる。距
離マトリクス計算が完了しなかったときには、しかし、論理はNO経路を経由し
て決定ブロック618を離れ、ブロック622に到達する。ブロック622はセ
ットSUからの星uの取り除きを示しており、それにより、それは参照指紋のす
べての星と比較することができる。ブロック624は、ブロック616が未知の
指紋の星に対し行ったとしても、他のセットSVに参照指紋のARGのすべての
星を割当てる。ブロック624からは論理は決定ブロック626に流れ、それは
セットSVを検査する。セットSVが空で、最新のuが参照指紋のすべての星と
比較されてしまうと、論理は論理経路628を経由して決定ブロック618に戻
る。SVが空でない場合には論理はNO経路を経由して決定ブロック626を離
れブロック630に流れ、それはuとの比較のためにセットSVから星vの1つ
を取り除くことを示す。図6aおよび6bのフローチャー
トの残りは星uと星vとの比較を示す。
ブロック632はuおよびvの中心ノードをucおよびvcとして特定すること
を示す。論理は連続して決定ブロック634、636および638を経由して流
れ、それらは中心ノードの3つの可能性のある特性要因(ノード記載語に追加さ
れるもの)を比較する。それらの要因の第1のものはノード方向と同様なもので
(ブロック634)、第2のものは詳細点の種類と同様なもので(ブロック63
6)、また、第3のものは像内の指紋に関連する詳細点の位置と同様なものであ
る(ブロック638)。星対の距離マトリクス要素値を評価する際における、要
因の第1のもの、つまり、ノード方向の要因の決定は、しきい値とノード方向の
間の違いの絶対値と比較することによる。それは以下の式にしたがってブロック
634で実行される。
ここで、しきい値Tθは上述の120度とすることができる。これによりye
s−noの結果を得ることができる。上述の通り、しきい値は回転の不安定性を
保持するために361度にセットすることができる。
その星対に対する距離マトリクス要素の値を評価する際に要因の第2のもの、
つまり、詳細点の種類の類似性の要因の決定は、詳細点の種類の同一性を評価す
ることである。詳細点412が種類432に等しいか?この比較は図6の決定ブ
ロック636で実行され、yes−noの結果を得ることができる。詳細点の情
報が得られない場合には、そのステップの結果は常にyesであり、それにより
論理は常に次の論理ブロックに流れる。
この星対の中心ノードに対する距離マトリクス要素値を評価する際に要因の第
3のもの、つまり、像内の指紋に関連する詳細点の位置の類似性を決定すること
は、図4aのノード412及び432の標準化された位置を評価することである
。位置の標準化を実行するために像面内の指紋の位置を記録する。特に、その記
録
は詳細点の位置が像内で発生する位置であるX及びYの最小値を確立するととも
に、評価すべき各ノードの位置からそのX及びYの最小値を引くことによって達
成することができる。これは指紋を効果的に像内の同一の位置に配置する。図4
aのノード412及び432の位置が標準化されると、ノードの標準化された位
置間の差の絶対値が図6のブロック638内のしきい値と比較される。像面に5
12のピクセルを持つ特定の実施例においてX及びYの両方の約150ピクセル
のしきい値が発見されて良好な結果を得ることができた。
TX が像の幅より大きく設定され、さらにTY が像の高さより大きく設定され
ると、変換上の不変性が保持され、ブロック638の応答が常にYESになる。
その星対の距離マトリクス要素値を評価する際の要因の最初の3つの決定は値を
その3つの決定の結果に割り当てることによって達成される。つまり、3つの条
件のいずれも一致しないときにはゼロの値がその指紋対の星対の距離マトリクス
の要素の値として割り当てられるが、すべての条件が一致するときにはどの値も
割り当てられず、値を確立するためにさらに評価が実行される。決定ブロック6
34、636及び638によって確立されたすべての条件が一致することがない
場合には論理はブロック640に達する。すべてのvが評価されてしまっていな
いときにはブロック640は決定ブロック626に戻るように導かれ、それによ
り論理が評価のために他のvを選択する。
図4aを参照すると、上述の3つの条件のすべてが一致した場合にはノード4
12及び432が中心となる星の比較が継続され、論理は決定ブロック638の
YES出力からノード602に流れ、それは図6bの論理につながる。図6bの
論理はノード412及び432を中心とする星の比較を続け、それは、
(a)枝特性ベクトル及び(b)その枝の端部にあるノードの特性ベクトルを含み、ノ
ード412から出る枝の各々のベクトルの組み合わせを、ノード432から出る
枝特性ベクトル(及び関連するノード特性ベクトル)と連続的に比較することに
よって行う。最新の中心ノード ucに結合されたすべての枝はブロック642内
で1つのセットBRUに結合される。決定ブロック644はセットBRUを評価
し、そのセットが空であるときには、ノード604の経路を経由して論理を図6
aの論理に戻す。セットBRUが空でないときには論理はNO経路を経由して決
定ブロック644を離れ、ブロック646に達する。ブロック646は1つの枝
buをさらに処理するためにセットBRUから選択することとセットBRUから
のその取り除きを示す。また、ブロック646では、中心ノード ucから選択枝
buの他方の端部にあるノードが「隣接」ノード uN として示されている。ブロ
ック648は参照指紋星のすべての枝のセットBRVへの割り当てを示す。決定
ブロック650はセットBRVを検査し、その組が空のときには論理をブロック
644に戻す。これは、セットBRV内のすべての枝がセットBRVの最新の枝
buと比較されたという事実を示す。セットBRVが空でないときには論理はN
O経路を通ってブロック650を離れブロック652に到達する。ブロック65
2はbuと比較するための参照指紋の星vの枝bvの選択とセットBRVからの
枝bvの取りのぞきを示す。ブロック652は中心ノード vcから選択枝の他方
の端部にあるノードを 「隣接」ノード vN と指定することを示す。
図6bの論理の他の部分は参照星の最新の枝と未知の星の最新の枝buとの比
較と、参照星の最新の隣接ノード vN と未知の星の最新の隣接ノード uN との比
較を示す。枝及び隣接ノードの比較は例えば図4aにおいて理解できるであろう
。そこでは、比較はまず(a)枝414及び隣接ノード416を示す結合ベクトル
と(b)枝434及び隣接ノード436を表す結合ベクトルとの間で行われる。そ
の比較は5枝特性から行うことができ、それらは(1)隆起数特性、(2)ファジー四
分円特性、(3)隆起割り当て特性、(4)ユークリッド距離特性及び(5)標準化され
た隆起幅距離特性であり、それらは図3cのワードで発見された情報の断片のす
べてである。比較は隣接ノード特性、方向及び詳細点の種類の内の2つを用い
て行うことができ、それらは図3bのワード内に見つけられるものである。それ
らの比較はより詳細に以下に説明する。
隆起数特性を理解するためには図4bがスケルトン化した指紋の印影の簡略化
した部分を図示している点に注目しなければならない。図4bにおいては複数の
隆起450、452、454は2つの詳細点456及び458を分ける。詳細点
456と458との間に延びる概念線つまりダッシュ線460はそれらの3つの
隆起を横切るのでこの場合の隆起数は3である。2つの枝bu及びbv(それぞ
れの星からのもの)の隆起数は等しいかまたは許容しきい値内になければならな
い。2つの枝bu及びbvの隆起数特性は図6bの決定ブロック654内で比較
される。
それらの2つの枝の隆起数が等しいかまたは許容基準内にあるときには図6b
の論理はそのYES出力を経てブロック654から別のブロック656に流れ、
そこではファジー四分円が評価される。ファジー四分円の評価には局部的座標系
の理解が必要である。図5a、5b、5c及び5dは局部的座標の理解を助ける
。図5aにおいては中心詳細点512が矢印514で示された詳細点方向を持つ
。矢印514は第1の四分円つまり四分円I を二分割し、他の四分円II、III 及
びIVを中心ノードの周りに反時計周りに順番に配置する。矢印514の方向は詳
細点方向としてデジタル的にコード化され、ARG内の詳細点に対応するノード
に関連する特性の1つとなる。図5bにおいて、軸線502及び504はスケル
トン化された指紋の印影の詳細点(黒点)と一致する位置で交差し、その詳細点
の方向は線502及び504によって特定された第1(I)四分円を二分割する。
図5bの座標系の0,0にある詳細点に関しては、第1、第2、第3及び第4四
分円にある最も近い詳細点(それらが存在するときには)は隣接として定義する
。必要な場合には、各四分円にある次に最も近い詳細点を隣接の定義に含めるこ
とができる。各四分円内の最も近い詳細点のみを隣接と定義するときには、特性
関連図内の星の中心として選択されたノードの4つのノードより多くのものは存
在しない。各四分円内の2つの最も近い詳細点を隣接として定義したときには各
星の中心ノードの8つのノードより多くのものは存在することができず、各四分
円内の3つの隣接詳細点に対し12が隣接ノードの最大数となる。
詳細点の方向を完全に確立できたとしても、指紋が転がると、一致した指紋の
同一の詳細点は、未知及び参照指紋における図5bの軸線502及び504のよ
うな軸線の両側に落ちる。しかし、いくぶんか誤差なしで詳細点の方向を定義す
ることは不可能であり、その上、四分円の境界の近くに落ちる詳細点は未知の及
び参照印影のいずれかの側にも任意に落ちることができる。隣接詳細点が2つの
指紋内の異なる四分円に落ちることとなるわずかな差異の存在において調査をよ
り確固たるものにするために、「ファジー」四分円手段を用いる。その「ファジ
ー」手段においては各隣接する詳細点またはノードは、特定の四分円内では「強
く」ように定義され、2つの隣り合う四分円では「弱く」と定義される。
図5cは図5bと同一の指紋の印影を持つが15度だけ時計方向に回転された
軸線502´及び504´を持つ。その結果、図5bの第1の四分円内にある詳
細点550は図5cでは第2四分円内にあるが、図5bでは第4四分園内にある
詳細点552は図5cの第1四分円内にある。他の四分円内にある他の詳細点は
同様に隣の四分円に移動することがある。図5dは図5cに似ているが、元の位
置から反時計方向に15度回転された軸線502´´及び504´´を持つ。こ
の結果当然ながらいくつかの詳細点は元占めていた四分円とは異なる四分円に移
動することになる。
ファジー四分円特性は12に値付けられており、それら値の内の4つは基本四
分円内で「強く」であり、それらの値のうちの他の8つは2つの相互に隣り合う
四分円内で「弱く」である。ファジー四分円値の評価は中心ノードの各隣接する
詳細点ごとに、それが上述の軸線の時計回り及び反時計回りのシフトにかかわら
ず四分円内に残るか否かに注目することによって達成される。つまり、それがそ
のように残るときにはその四分円に強く存在するというように言われる。満足す
るように見つけられた数字で表した値は、それぞれ、第1四分円に対しゼロ、第
2四分円に対し3及び第3及び第4四分円に対し6及び9となる。図5cに示す
ように、軸線の時計回りのシフトの間に、隣り合う詳細点が異なる四分円に落ち
るときには、元の四分円内では弱くなり、それが軸線の回転の結果として移動す
る四分円内では弱くなるように示される。特に、詳細点が四分円I から四分円II
に、IIからIIIへ、IIIからIVへ、またはIVからI へ移動すると、1、4、
7及び10の値がそれぞれ割り当てられる。同様に、軸線の反時計回りのシフト
に対しては、図5dに示すように、詳細点が四分円IIから四分円I に、IIIからI
Iに、IVからIIIに、またはI からIVに移動するときには、2、5、8及び11の
値がそれぞれ割り当てられる。その値は4ビットにコード化され、図3cに示さ
れた8ビットの「ファジー四分円」ワード部分の一部における図1のメモリ22
に記憶される情報の一部となる。最も新たに評価されたノード対に関連する等し
く重要な他の四分円が存在し、それは隣接ノードの座標系内の中心ノードのファ
ジー四分円である。つまり、それは図3cの8ビットファジー四分円ワード部分
の内の残りの4ビットに記憶されている。
参照指紋の場合にはメモリから得られる情報を用い、未特定の四問の場合には
新たに発生されたARGから得られる情報を用いることによって特定の星対に対
するファジー四分円を評価するときには、4ビットファジー四分円値の両方を用
いる。つまり、(a)中心ノード座標における隣り合うものの位置を特定するもの
及び(b)隣接座標系における中心ノードの位置を特定するものである。最新に評
価された2つの枝の間に関しては、1つの星の隣接ノードのファジー四分円は第
2星のものの1つの数値内になければならない。そのことは2つの隣接する相対
位置が2つの星内で似ていることを保証する。数の値0の「1内で」11の数の
値を作る必要性に適合するために、決定は12を法とするように行われる。同様
に、隣り合うノードに関する中心ノードのファジー四分円は12を法とするよう
に評価される。ファジー四分円の評価は図6bの論理流れの決定ブロック656
内で実行される。
枝bu及びbvの枝特性の評価における次の段階は図6bの決定ブロック65
8において実行され、そこでは隆起割り当てまたは「同一隆起」特性の比較の値
が作られる。図4bを参照すると詳細点456及び462が同一の隆起464上
にあるが詳細点456及び458は同一の隆起上にはない。
2つの枝が3つの先行する評価に従って対応するときには図6bnの論理はY
ES経路を経て決定ブロック658を離れ決定ブロック660及び662に達し
、そこでは、枝の対に関する比較予定の次の特性、つまり、ユークリッド距離特
性及び標準化された隆起幅距離特性が評価される。それらは以下のように表さ
れる。
ここで、α及びβは数字であり、それは1.2から1.3までの範囲の値に都
合よく割り当てられたものである。その数字は可能性のある換算係数変数を表す
。つまり、式は同一であるとみなされる指紋の場合においては詳細点間の距離が
2つのプリントのように30%より多くまでは変化しない。当然であるが適当な
ときには他の値も用いることができる。それはインク付着の変化およびまたは詳
細点抽出変化に基づく詳細点の位置の変化に対する許容も提供する。
図6bのブロック654乃至662における論理流れは絵だbuおよびbvの
第1の対の評価を完了するが、関連する隣接ノード uN および vN の第1の対の
評価ではない。枝自体が対応すると考えられる場合には関連するノードはブロッ
ク664、666および668においてそれらのノードの個々の方向および詳細
点の種類を比較することによって評価される。詳細点の種類の比較は最初に決定
ブロック664において行われる。データが入手できるときには詳細点の同一性
が要求される。詳細点が同一であるときには、隣接ノードに関連する詳細点の方
向が、2つの異なる方法における図6bの論理ブロック666および668によ
る比較に結合される。
中心ノードの方向の違いの比較を用いるときに関しては、隣接ノードの方向の
違いに関する回転の制限は以下の式によって定義することができる。
しきい値の値を361度に設定することは特にその基準を排除して、一致を回
転の不変量とともに発見することができるようにする。その比較は図6bのブロ
ック666内で行われる。他の方向制限は方向の違いの差の限定であり、それは
回転の不変性と矛盾しない。そのテストはブロック668で実行され、以下の式
によって定義される。
その式は中心ノードの方向に対する隣接ノードの方向の向きを特定する。
決定ブロック654−668(ここでハイフンは「乃至」を意味する)によっ
て実行されたテストのいずれもが否定の場合には、論理は論理経路672の経路
を通って決定ブロック650に戻るが、それは、bu及びbvの特性が対応しな
かったから、または uN 及び vN の特性が一致しなかったからであり、また、他
の対の枝及び隣接ノードが存在するときにはそれらを評価しなければならない。
しかし、枝/隣接が、図6bの論理流れに説明されている比較のすべての限定
に一致する場合には、それは図4aの星410の枝414及び隣接ノード416
が星430の枝434及び隣接ノード436に一致することと等価であるという
ように理解することができる。星410は未知の指紋からの星であり、星430
は参照指紋からのものであるということを思い出すべきである。論理流れは図6
bのブロック668からブロック670に進行し、それは枝対bu及びbvを星
対u及びvに対する一致枝のBで示されたセットに加える点を示す。それはその
枝/隣接ノード対に対する評価を完了し、論理は決定ブロック650に戻って評
価を継続する。この枝/隣接比較工程は最も新しく比較予定の星対の枝の各対ご
とに実行される。従って、図4aの星410における枝/隣接ノードベクトルの
各々は星430の枝.隣接ノードのすべてと比較される。星410のいずれかの
1つのまたはいくつかの枝/隣接ノードは星430のいずれか1つのま
たはいくつかの枝/隣接ノードと一致することができる。結局、すべての枝/隣
接ノードの一致が評価され、セットBRUが空となり、そして、論理はそれから
UES経路を通って決定ブロック644を離れてノード604の経路を通って図
6aのフローチャートに戻る。
図6aにおいては、論理はノード604からブロック674に流れ、それはB
、つまり、最も新しく比較予定の星対u、vのすべての枝/隣接ノード対の評価
によって導き出されたすべての枝/隣接ノードの一致の組(セット)から最高の
または最大の一致した部分集合を選択することを示す。一致するためには、単一
の枝/隣接ノードがその部分集合内の1対より多くの枝/隣接ノード内に現れる
ことがないことが必要である。この一致の必要性により参照星内の2つの(また
は3以上)枝を未知の星の1つの枝に割り当てる、またはその逆のものに関する
論理上の問題を排除することができる。その星対に対する距離マトリクスの要素
の値はブロック674において以下のように設定される。
ここで、MCSは枝/隣接ノード対のすべての一致した対の組の最高の一致部
分集合である。従って、星対の星の一方の星の3つの唯一の枝/隣接ノードがそ
の対の他方の星の3つの唯一の枝/隣接ノードに一致するときには、その星対に
対する距離マトリクス要素の値は1プラス3または4である。論理ブロック67
4から論理流れは決定ブロック626に戻る。
上述したように、未知指紋の1つの星は参照指紋の1つの星と比較された。距
離マトリクス計算は未知のARGの各星を参照星のARGの各星と比較すること
が必要である。決定ブロック618及び626によって決定されたように、比較
されていない星対が残る限り、論理はブロック630に戻って星対の評価を継続
する。上述のステップがすべての星対に対し実行され、それにより距離マトリク
スの要素に値を書き入れる。結局、評価されていない星対が使い果たされたとき
には論理はYES経路によって決定ブロック618を離れて論理経路620によ
って図2のモジュールつまりブロック28に進む。
距離マトリクス内の要素の数は指紋対内で比較された星の数に従属する。つま
り、既知の指紋における星の数がMで、参照指紋の星の数がNの場合には、距離
マトリクスはM×Nの要素を含む。星の数は抽出された指紋の詳細点の数に等し
いが、それは各星の中心ノードがARG内のノードであり、各ノードが1つの詳
細点に関連するからである。
距離マトリクスの要素の決定の間には、情報の欠如のために所定のテストを排
除するにとができ、これにより、所定の不変性を保持または比較工程を早める。
詳細点の種類、局部的隆起幅、隆起数及びまたは隆起割当て情報は必要ではなく
、また、省くことができる。
距離マトリクスの要素が指紋の1対ごとに書き込まれると、図6a及び6bの
論理によって表されているように、距離マトリクスの要素は図2のプロセッサ2
0のモジュール28に結合され、そして、論理流れが(つまりシーケンス39が
)分類プロセッサ20の作動を開始する。プロセッサ20は距離マトリクスの要
素をそれらの値に応じてその指紋対に対して分類する。どの様な標準的な分類ル
ーチンであっても満足できるであろう。分類の結果は距離リストであり、そこで
は要素寸法が表にされている。そのリストの発生は図7のフローチャート内のブ
ロック710として示されている。
図2の分類モジュール20によって発生された距離リストは図一致モジュール
30まで通過する。図一致モジュール30は分類された距離マトリクス要素リス
ト内の星対を開始点、つまり、ネットワークまたはセット(以下「部分図」と称
す)内の星に対応する「位置」として得て、一致星のネットワークまたはセット
を指紋対のすべての星を含む方向に拡張するようにする。当然ではあるが、参照
及び未知のARGが同等数の星を持たない場合には、それらのすべては完全には
また十分には一致できない。インク及び他の変化のために、2つの同一の指の印
影のARGのすべての星が一致する必要はない。その結果、プロセッサ30は図
7のフローチャートに関連して説明したように、一致星対の最大の部分図を作る
ようにする。他の制限条件点を以下に説明する。
指紋対の一致に関する部分図の発生の論理は星対(1つは未知のものからであ
り、1つは参照のものからである)を選択することによって開始し、それは以下
に説明する基準に一致し、また、図7の論理ブロック710の出力に生成された
距離マトリクスの要素の分類されたリストの中で、2以上のものが最高値を持つ
ときには、その星対は最高値を持つ。最高値の星対(U1、V1)の選択は、図
7において、最新の距離マトリクスの要素が存在するか否かを決定する決定ブロ
ック712と他のブロック714の組み合わせによって示されている。その選択
は最も一致しそうな対を、リンクされた星の部分図の構造に関する開始点として
指定し、次に良好な結果を達成しそうにない処理を除くようにする。以下に説明
するように、それらの最初の2つの星の特定u、vはブロック714において「
一致コア」と称され、また「M」として知られているセットに加えられ、対応が
決定されている指紋の対の星対からなる部分図を説明するセットにすぎない。従
って、一致コアは部分図の定義にすぎない。一致コアMは従って最初はセット{
(u1、v1)}にすぎない。星の第1の対は常に一致コアに加えられるが、後
の星対が実際に一致する対応を形成し、それが、一致コアに関する1組の制限条
件を一致させることによって確立されるときだけに、その後の星対が追加される
。第1組の星の追加はブロック714に示されている。また、ブロック714は
距離マトリクスの最新の値を距離マトリクスのスタックに「近付ける」。
上述の通り、一致コアにおける包含のための最初の星の選択は所定の基準に一
致しなければならない。その距離マトリクス値はしきい値を越えなければならな
い。本願発明の特定の実施例においては、しきい値は5である。加えて最初の星
対の数はKに限定され、それは図7のフローチャートが呼び出される回数を制限
する効果を持つ。さまざまな値が試され、4の値がその後の利用に対して選択さ
れた。
一致コアMの最新の値または一致コアSは以下のように定義される。
S=(M内の星対の数)*(M内のすべての星対のすべての距離マトリクス値か
ら得られた中央値)+(M内のいずれかの星対の中の星の中心ノード間における
未知の指紋のARG内の枝の数)+(M内のいずれかの星対の中の星の中心ノー
ド間における参照指紋のARG内の枝の数)
ここで、*は掛け算である。
一致コアM´は、遠くで接近する一致スコアの最高値を持つ1つの一致コアを
表す。最新のMの一致スコアSはM´の一致スコアS´と比較される。SがS´
より大きな場合には、M´はMと置き換えられる。この比較は図7の決定ブロッ
ク716の組み合わせによって実行され、さらにブロック718はその置き換え
を実行する。論理はその後別の決定ブロック760に達する。
特定の指紋の比較は、一致コアに結び付けられる星の数が特定数に到達したと
きには完了すると考えられるが、それは、部分図内の星の数の一致は明白に指紋
の適合対に一致するものと推測されるからである。図7の決定ブロック760は
最新の一致コアの寸法を要素の選択されたしきい値数と比較する。都合よく用い
られた数は15である。従って、15の星対が一致コアMに追加されたときには
、その一致はブロック760によって宣言される。当然ではあるが、15以外の
しきい数をその代わりに用いることができる。論理はそれからブロック720に
流れる。
第1要素が一致コアに加えられると、隣接対の候補リストが発生される。図7
のブロック720は候補リストCの発生を表す。候補リストを発生するためのブ
ロック720の機能の詳細は図8a及び8bを参照しながら以下に説明する。ブ
ロック720から論理は経路722によって決定ブロック724に流れ、それは
候補リストCがからであるかまたは依然として候補を含んでいるのか否かを決定
するためにその候補リストCを検査する。その候補リストがメンバーを含んでい
る場合には、論理はNO経路によって決定ブロック724を離れ、そしてブロッ
ク726に達する。図7のブロック726は最高の距離マトリクス値を持つCか
ら星対(u´´、v´´)を選択することと、それを候補リストCから取り除く
ことを示す。論理はその糊ブロック714に戻り、そこで丁度ブロック726に
おいて選択された要素、つまり、最高値要素(u´´、v´´)を一致コアに加
える。一致コアはここではセット{(u1、v1)(u2、v2)}である。残
された候補対が存在する限り、論理流れは、ブロック716、718、760、
720、724、726及び714を含み候補を各繰り返しご
とに一致セットに追加する経路を循環する。その一致セットは{(u1、v1)
(u2、v2)...(uN 、vN )}である。一致コアに追加するための候補
は非ゼロ距離マトリクス要素値を持ち、それらはブロック720において他の制
限条件を通過させたので、以下に説明するように、その候補星対は常に一致コア
に追加することができる。その結果、ブロック720、724、726及び71
4を含むループは候補が得られる限り動作し続けなければならない。結局、候補
の供給が尽きた時には論理はYESの経路728を通ってブロック724を離れ
、ブロック730に流れる。
図7のブロック730は一致コアMの最後に追加した要素(uN 、vN )の取
りのぞきを示す。それは「袋小路」経路が選ばれてしまったとき、つまり、所定
の構成の一致コアまたは部分図をもはや拡大できないときの「後退」または「撤
回」を意味する。一致コアの構造は、撤回をし新たな調査経路に進み、一致コア
{(u1、v1)(u2、v2)...(uN-1、vN-1)}を開始することによ
って変えられる。一致コアが空のときには、調査が新たな星対をその基本として
再度開始し、その次の星対は距離マトリクス内の第2の最高なものとして選択さ
れ、または2以上のものが同一の最高値を持つ場合には最高値の対の他のものと
して選択される。ブロック730は、スタックのトップにある距離マトリクスを
そのスタックから取り除く(動かす)ことによって最新の距離マトリクスとして
選択する点も示す。新たな距離マトリクスにおいては、星対(uN 、vN )の要
素の値がゼロにセットされる。
ブロック730から論理は決定ブロック732に流れ、そこは一致コアの内容
を評価して一致コアが空か否かを見る。その一致コアは第1の要素のみがそこに
含まれており、包含用の候補がもう発見されないときには空となることができる
。図7のブロック714−726によって実行された調査が指紋内の一位した星
対の選択された数を発見しないときには、そのコアは結局空となるが、それは、
以下に説明する制限条件を受けるような、一致コア(u1、v1)に基づいて部
分図の隣接星のすべての組み合わせを探求することを撤回したからである。一致
コアMが空の場合には、論理はYES経路によってブロック732を離れ、経路
734によってブロック712に戻るよう流れて他の星対用の論理を経由する他
の経路を開始する。決定ブロック712によって確立されたように他の一致コア
を開始することができる他の星対が存在する場合には、ブロック714は他の星
対(u1、´v1´)を新たな一致コアの最初のメンバーとして選択する。一方
、一致コアが空ではない場合には、論理は経路736によって決定ブロック73
2から戻ってブロック720に流れる。候補セットは、ブロック720内で削除
された一致コアのために構成され、また、経路722及びブロック724、73
0、732を含む論理経路を横切ることによって、一致コアを再び拡張すること
を試みる。
結局、M内の星対の数がブロック760に関連して説明した所定の最大数に近
付くかまたは一致コアの最初のメンバーとして振る舞うことができる星対が残っ
ていないかのいずれかとなる。最初の例においては、決定ブロック760が、論
理がブロック738及び614を経由して図7のフローチャートを離れるように
するが、第2の例においては、決定ブロック712が、論理が経路740及び同
一のブロック738、614を経由して離れるようにする。論理ブロック738
は一致コアM´に対する一致コアS´を再計算する。このS´の値は図2のブロ
ック34に記憶されているものである。図7のブロック614は図6a内の同一
のブロックに対応する次の参照指紋の選択を表す。
図8a及び8bはともに図7の論理ブロック720内の論理流れを表すフロー
チャートを構成する。ブロック720の論理は、想起するであろうが、一致コア
内に包含するための候補のリストC内に包含される星対を決定する目的のための
ものである。図8a及び8bにおいては、論理は図7のブロック760からブロ
ック810に到達する。ブロック810は隣接ノードに中心を置くすべての星の
セットXの選択を表しており、その隣接ノードはMによって表された最新の部分
図内の未知のプリントのARGの星の一部である。候補の星はすべて部分図のノ
ードのすでに一部であるものの隣のものでなければならず、それは例えば14星
と同じ数のものを含むことができる。ブロック810によって生成されたセット
Xはすべてその様な星を含む。論理ブロック810から論理は決定ブロック81
2に流れ、そこではX内の要素の数を検査する。Xが空の場合にはCつまり候補
の星対のセットの発生が完了し、決定ブロック812が論理をノード
701を経由して図7のブロック724に向ける。Xが空でない限り、星u´は
セットXから取り除くことができ、論理はNO経路によって決定ブロック812
を離れてブロック814に達し、そこでは、星u´がセットXから取り除かれる
。ブロック814から論理はブロック816に流れ、そこでは隣接するノードに
中心を置くすべての星のセットYの選択を表しており、その隣接ノードはMによ
って表された最新の部分図内の参照プリントのARGの星の一部である。候補の
星はすべて部分図のノードのすでに一部であるものの隣のものでなければならず
、それは例えば14星と同じ数のものを含むことができる。ブロック816によ
って生成されたセットYはすべてその様な星を含む。論理ブロック816から論
理は決定ブロック818に流れ、そこではY内の要素の数を検査する。Yが空の
場合にはCの発生は完了し、論理流れはブロック812に戻る。Yが空でない限
り、星v´はセットYから取り除くことができ、論理はNO経路によって決定ブ
ロック818を離れてブロック820に達し、そこでは、星v´がセットYから
取り除かれる。
テストが図8a及び8bのフローチャートの残りにおいて実行されて、星対(
u´、v´)を候補の星対のセットCに加えることができるか否かを決定する。
特に、決定ブロック822及び824は、それぞれ、(u´、v´)がすでに一
致コア内にあるか否か及び(u´、v´)用の距離マトリクスがゼロに等しいか
否かを決定する。それぞれの条件の双方が否の場合には、論理はノード801を
通って図8bに流れる。いずれかの条件が一致した場合には、(u´、v´)は
セットCに追加することはできず、論理はブロック818に戻って他の星対を検
査する。
図8bのノード801から論理はブロック826に流れ、そこでは、u´がu
の隣接で、v´がvの隣接となるように、一致コアM内のすべての星対(u、v
)のセットをゼロに一致させる点を示す。決定ブロック828はZを検査し、Z
が空でない場合には論理流れをブロック830に向ける。ブロック830はZか
ら1つの(u、v)を取り除くことを示す。決定ブロック832は、u´の座標
系に関するuの四分円がv´の座標に関するvの四分円の1つ(12を法とする
)内に存在するか否かを決定する。決定ブロック832は、
uに関連するu´の四分円の値がVの座標に関するv´の四分円の1つ(12を
法とする)内に存在するか否かも決定する。それらの両方の条件が満たされると
、論理流れは決定ブロック834に行く。決定ブロック834は、uからu´ま
での隆起数がvからv´までの隆起数に等しいかまたはその許容範囲内にあるこ
とを保証する。その条件が満たされると、論理は決定ブロック836に流れる。
ブロック836はu及びu´の並びにv及びv´の隆起の割当てが同一であるか
否かを決定する。その条件が一致すると、論理流れは経路838によって決定ブ
ロック828に戻る。ブロック828−836及び経路838を含むループはZ
内のすべての星対に関する可能性のある候補の星対(u´、v´)を評価する。
ブロック832、834及び836によって確立された条件のいずれ化が否であ
る場合には、星対(u´、v´)は候補セットCに入ることはできず、論理流れ
はノード803を経由して図8aのブロック818に戻る。
すべての要素Zが決定ブロック828−836によって評価されたときには、
論理はブロック828を離れて経路840を経由してブロック842に流れ、そ
こでセットMに等しいセットAを作ることを示す。これにより、一致コアM内の
各星対を可能性のある候補の星対(u´、v´)に関連して評価することができ
る。ブロック842から論理は決定ブロック844に流れ、それはAを評価する
。要素がAに残っている場合には、論理はブロック846に流れ、そこで後続の
決定ブロック内で用いるためにAから星対(u、v)を取り除くことを示す。決
定ブロック848、850及び852は可能性のある候補の星対(u´、v´)
を用いて星対(u、v)を評価する。
決定ブロック848は詳細点の方向の違いの差を評価する。その値が許容範囲
内にある場合には論理流れは決定ブロック850に進む。決定ブロック850及
び852はユークリッド距離と標準化された隆起幅の距離とを比較するが、その
際の方法は図6bのブロック660及び662に関連して説明したものと似たも
のである。いずれかの条件が否の場合には、論理流れはノード803を経由して
図8aのブロック818に戻り、星対(u´、v´)は候補セットCに追加され
ない。一方、決定ブロック848、850及び852によって確立された条件が
一致する場合には、論理流れは決定ブロック844に戻る。ブロック844−
852を含むループはセットA内のすべての星対に対する繰り返しを示す。セッ
トAが空になったときには、(u´、v´)は一致コアM内のすべての星対と都
合よく繰り返された。論理流れはその後YES経路を経て決定ブロック844に
戻り、ブロック854に達する。ブロック854は(u´、v´)を候補セット
Cに追加する。ブロック854から論理はノード803を経由して図8bのフロ
ーチャートを離れ、図8aの決定ブロック818に戻って他の可能性のある候補
星対をテストする。
要約すると、本願の装置は指紋の詳細点マップ及び相対的形態情報を特性関連
図の形状で捕捉するものである。その指紋マップの情報の内容は、110から1
30までの詳細点を含む詳細点マップに対し2、000バイトより少ないものを
用いて非常にコンパクトな形態で記憶される。調査は指紋のARG表示の部分図
の不正確な一致に基づいて実行される。その調査はARG表現の部分図を一致さ
せるために帰納的に決定された「高性能の」方法を用いるので、それは効率的で
ある。その技術は、一致した詳細点の部分集合をそれらに対応する形態上の関連
とともに特定することによって、詳細点マップ内で得られる情報を通じてじゃま
なものを取り除く。その調査の方法は回転、移行、比例及び変形不変性であり、
それにより、それは、ノイズ、変形及びしみや汚れや部分的な疑似情報のような
不確実な様々な主るのものが原因となるような品質不良の指紋に対抗することが
できる。説明した装置の特定の利点は従来の装置のような全体的な座標は必要な
く、コア及びデルタのような指紋全体の特性の検出は必要がない点にある。本願
発明に係る装置は予備的な形状で市販の在庫ハードウエア、標準的なUNIXワ
ークステーションで実行される「C」高レベルプログラム言語によって組み立て
られている。96%の一致の正確さが、NISTスペシャルデータベース4内の
すべての親指、すべての人差し指及びすべての中指の指紋に関して達成できた。
本願発明の他の実施例は当業者には明白であろう。例えば、未知の及び参照指
紋の比較を実行する電子計算装置は参照指紋が記憶されたメモリから離れた距離
にあり、データをデジタルデータ経路を介してそれらの間で送信することができ
る。参照指紋はARG形態で、または画像形態で電子メモリに記憶することがで
き、その場合には、ARG形態への変換は比較の前に参照指紋に対し実行されな
ければならない。本願発明に係るステップは他がいに十分に分離された時間で実
行することができ、データは介入時間の間にメモリに記憶される。指紋は比較で
きる個人の物理的な特性として説明したが、手のひらのプリント、足の指のプリ
ント及び赤ん坊を特定するために病院で用いられる(素足の)足のプリントのよ
うな他の特性を含む。説明した構成は単一の指紋読取装置用のものであり、多数
の参照指紋ファイルを得ることができるときには未特定の指紋の処理量を多くす
る必要があることがわかる。その場合には説明したもの及び請求の範囲に記載し
たものと似た複数のプロセッサを同時に同一の参照指紋から処理し、または異な
るが関連する参照指紋ファイルから処理することができ、その結果、1つのプロ
セッサが未知の指紋と1からN1 までの範囲のファイル番号を持つ参照指紋指紋
とを比較し、第2のプロセッサが同時に同一の未知の指紋とN2 からN3 までの
範囲のファイル番号を持つ参照指紋とを比較し、第3のプロセッサが同時に同様
に比較することができる。本願発明の原理は場面または画像ないの対象/目標の
認識及びまたは特定に用いることができることがわかる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE,
DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M
C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG
,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN,
TD,TG),AP(KE,MW,SD,SZ,UG),
AL,AM,AT,AU,BB,BG,BR,BY,C
A,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,ES,FI
,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG,KP,
KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,MD,M
G,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL,PT
,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK,TJ,
TM,TT,UA,UG,UZ,VN
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 少なくとも1つの未特定の指紋を含む1セットの未特定の指紋と、指紋ファ イルからの複数のセットの参照指紋とを一致させる方法であって、 ノード及びノード特性(a)と該ノード間の枝及び枝特性(b)とを含む特性関連図 (ARG)を、前記未特定の指紋のセットの抽出デジタル詳細点マップから発生 して前記ノードの各々に中心がある星を暗黙的に発生する工程と、 前記未知の指紋のセットの前記指紋の1つの前記ARG内の星(a)と、前記参 照指紋のセットの1つの内の指紋の1つのARGの星(b)との間の距離マトリク スであって、星の各対に関連するマトリクス要素を含む距離マトリクスを発生す る工程と、 前記距離マトリクス及び前記ARGから星対の一致するセットの一致コアを発 生する工程とを含む方法。 2 請求項1の方法において、さらに、 一致スコアを前記一致コアに割当て、前記参照ファイルからの他の指紋に対し 特性関連図の発生(a)、距離マトリクスの発生(b)、一致コアの発生(c)の工程を 繰り返す工程と、 一致の値を前記一致スコアの内の最も大きな1つに割当て、それにより、前記 参照指紋のうちの前記未知の指紋と最も一致した1つを特定する工程とを含む方 法。 3 請求項1の方法において、距離マトリクス計算を実行する前記工程が、 前記詳細点の対の間のユークリッド距離を決定する工程と、 前記詳細点の対の間のユークリッド距離を前記対の前記詳細点の間の局部的隆 起幅の平均値で割って前記各対ごとに標準化した隆起幅距離を発生し、これによ り、前記形態上の関連リストが前記標準化した隆起幅距離を含む工程とを備える 方法。 4 請求項1の方法において、さらに、前記未知の指紋のセットの前記特性関連 図を発生する工程を含む方法。 5 請求項1の方法において、前記特性関連図を発生する工程が、 前記ARGの特定のノードを前記抽出デジタル詳細点マップに割当てる工程と 、 前記ARGの特定のノードにその対応する詳細点の位置を割当てる工程と、 前記ARGの特定のノードにその対応する詳細点の方向を割当てる工程と、 前記特定のノードと、該特定ノードの周りの四分円の各々内の最も近い他のノ ードとの間に、前記特定のノードの前記方向によって確立されたように枝を構成 する工程であって、前記最も近いものは前記ノード間のユークリッド距離によっ て決定される構成工程と、 前記枝に、前記ユークリッド距離(a)および他のノードが存在する四分円(b)の 少なくとも特性を割当てる工程とを含む方法。 6 請求項5の方法において、 前記ノードに詳細点の種類の特性を割当てる工程と、 前記ノードに局部幅の特性を割当てる工程との内の少なくとも1つを含む方法 。 7 請求項5の方法において、 前記枝に隆起数の特性を割当てる工程と、 前記枝に標準化された隆起幅距離の特性を割当てる工程と、 前記枝に同一隆起の特性を割当てる工程との内の少なくとも1つを含む方法。 8 請求項1の方法において、前記距離マトリクスを発生する工程が、 前記未知のおよび参照指紋の前記ARG表現の各星の前記枝の各々の特性の値 を比較し、それにより、前記未知の指紋の星の各枝と前記参照指紋の星の各枝と の間で比較を行い、これにより、枝の各対ごとに点数を発生する工程と、 各星対ごとの枝対の点数の最大一致合計を計算することによって前記距離マト リクスの要素を発生する工程とを含む方法。 9 請求項1の方法において、さらに、 各指紋対ごとに前記距離マトリクスの前記要素を該要素の値に応じて分類して 、星対一致の順番を確立する分類された距離マトリクスを形成する工程とを含み 、 前記一致コアを発生する工程が前記分類された距離マトリクスによって確立さ れた順番で実行される方法。 10 請求項9の方法において、前記一致コアを発生する工程が、 前記記憶された距離マトリクスの内の最高の要素に関連する星対を選択して一 致コアの第1の要素を画定する工程と、 前記距離マトリクスから前記一致コアの前記第1の要素に関連する要素を削除 して減少された距離マトリクスを発生する工程と、 前記一致コアの前記第1の要素内の前記星対の中心ノードに隣接するノードに 中心を置く星の候補対の中から候補星対を選択する工程であって、前記候補星対 が、(a)前記一致コアと一致するとともに、(b)前記減少距離マトリクス内の最高 の距離マトリクス要素に関連する前記一致コアに一致するすべての前記候補星対 の中にあり、これにより、前記一致コアに対する第2の要素を発生する工程と、 前記第2の要素を前記一致コアに別の要素として追加する工程と、 前記減少距離マトリクスから前記一致コアに追加された前記候補星対に関連す る前記距離マトリクスの前記要素の内の1つを削除して別の減少距離マトリクス を形成する工程と、 前記別の星対を選択する工程、追加する工程、及び前記減少距離マトリクスか ら削除する工程を、少なくとも前記一致コアに一致する候補星対の残りがなくな るまで繰り返す工程とを含む方法。 11 請求項10の方法において、前記一致コアに一致する候補星対が残らなくな るまで繰り返す工程が、前記一致コア内の要素の特定の数が一致すると判断する 工程を含む方法。 12 請求項10の方法において、さらに、 前記一致コア内の要素の数が特定数より小さく、前記一致コアと一致する星対 が残っていないときには、前記一致コアから最も新しく追加した要素を削除し、 それにより、他の要素が前記一致コアに追加された最後の要素となる工程と、 前記一致コアの要素に関連するいずれかの星の中心ノードの隣接ノードに中心 を置く星の候補対の中から、候補星対を選択する工程であって、前記候補星対が 、(a)前記一致コアと一致するとともに、(b)前記減少距離マトリクス内の最高の 距離マトリクス要素に関連する前記一致コアに一致するすべての前記候補星対の 中にあり、これにより、前記一致コアに対する第2の要素を発生する工程と、 前記一致コアに前記次の要素を追加する工程と、 前記減少距離マトリクスから前記一致コアに前記次の要素として追加された前 記候補星対に関連する前記距離マトリクスの前記要素の内の1つを削除してさら に別の減少距離マトリクスを形成する工程と、 前記別の星対を選択する工程、追加する工程、及び前記減少距離マトリクスか ら削除する工程を、少なくとも前記一致コアに一致する候補星対の残りがなくな るまで繰り返す工程とを含む方法。 13 請求項1の方法において、一致コアを発生する工程が、さらに、 各指紋対ごとに、前記距離マトリクスの前記要素を、該要素の値に応じて分類 して星対一致の順番を確立する工程と、 前記分類された距離マトリクスによって確立された順番で、さらに、 (a)最高の距離マトリクス要素に関連する星対を選択して一致コアの第1の要 素を特定する工程と、 (b)前記距離マトリクスから前記一致コアの前記第1の要素に関連する要素を 削除して減少された距離マトリクスを発生する工程と、 (c)前記一致コアの前記第1の要素内の前記星の中心ノードの隣接ノードに中 心を置く星の候補対の中から、候補星対を選択する工程であって、前記候補星対 が、(i)前記一致コアと一致するとともに、(ii)前記減少距離マトリクス内の最 高の距離マトリクス要素に関連する前記一致コアに一致するすべての前記候補星 対の中にあり、これにより、前記一致コアに対する第2の要素を発生する工程と 、 (d)前記次の要素を前記一致コアに別の要素として追加する工程と、 (d)前記減少距離マトリクスから前記一致コアに追加された前記候補星対に関 連する前記距離マトリクスの前記要素の内の1つを削除して別の減少距離マトリ クスを形成する工程と、 (f) 前記別の星対を選択する工程、追加する工程、及び前記減少距離マトリク スから削除する工程を、少なくとも前記一致コアに一致する候補星対の残りがな くなるまで繰り返す工程とを含む方法。 14 少なくとも1つの未特定指紋を含む1セットの未特定の指紋と、データ記載 の複数のセットの参照指紋とを一致させる方法であって、 ノード及びノード特性(a)と該ノード間の枝及び枝特性(b)とを含む特性関連図 (ARG)を、前記未特定の指紋のセットの抽出デジタル詳細点マップから発 生して前記ノードの各々に中心がある星を暗黙的に発生する工程と、 デジタル的に記憶された参照指紋情報が予備プログラムされたメモリから複数 の特性関連図を読み取り、これにより、前記参照指紋のセット内で指紋の少なく とも1つの抽出ARGを入手できるようにする工程と、 プログラムされた電子計算装置を用いて、前記未知の指紋のセットの前記指紋 の1つの前記ARG内の星(a)と、前記抽出ARGの星(b)とを比較する距離マト リクスであって、星の各対に関連するマトリクス要素を含む距離マトリクスを発 生する工程と、 プログラムされた電子計算装置を用いて、前記前記マトリクス及び前記ARG から星対の一致するセットの一致コアを発生する工程と、 前記一致コアの値を用いて前記参照指紋の内の1つが前記未知の指紋に最も近 い場合にそれを選択する工程とを含む方法。 15 請求項14の方法において、さらに、 前記プログラムされた電子計算装置を用いて各指紋対ごとに前記距離マトリク スの前記要素を該要素の値に応じて分類して、星対一致の順番を確立する工程と 、 一致コアを発生する前記工程が前記分類された距離マトリクスによって確立さ れた順番で実行される方法。 16 指紋を比較する装置であって、 ノード及びノード特性(a)と該ノード間の枝及び枝特性(b)とを含む特性関連図 を、前記未特定の指紋のセットの抽出デジタル詳細点マップから発生して前記ノ ードの各々に中心がある星を暗黙的に発生するARG発生手段と、 複数の参照指紋のARGが前プログラムされたデジタルメモリと、 該メモリに接続されていて制御信号の制御下で前記メモリから前記ARGを連 続して読取る手段と、 前記ARG発生手段と前記読取り手段とに接続された距離マトリクス発生手段 であって、前記制御信号の制御下で、前記未知の指紋のセットの前記指紋の1つ の前記ARG内の星(a)と、前記参照指紋のセットの1つの内の指紋の1つのA RGの星(b)との間の距離マトリクスであって、星の各対に関連するマトリクス 要素を含む距離マトリクスを発生する距離マトリクス発生手段と、 前記分類手段に接続された一致コア発生手段であって、前記制御信号の制御下 で、前記距離マトリクス及び前記ARGから星対の一致するセットの一致コアを 発生する一致コア発生手段と、 該一致コア発生手段に接続されていて、前記制御信号の制御下で、前記一致コ アの値を記憶する記憶手段と、 該記憶手段に接続された一致コア分類手段であって、前記制御信号の制御下で 、最大値を持つ前記一致コアの内の1つを選択し、さらに、前記最大値に関連す る前記参照指紋の内の1つを特定する表示を発生する一致コア分離手段と、 前記距離マトリクス発生手段と、前記一致コア発生手段と、前記記憶手段と、 前記一致コア分類手段とに接続されたシーケンサであって、(a)前記距離マトリ クス発生手段が前記未知の指紋の前記星と前記参照指紋の各々の星との比較を連 続的に実行するようにし、(b)前記参照指紋の内の1つのARGの星のすべてが 前記距離マトリクスの要素まで減少されたときに、前記一致コア発生手段が前記 一致コアを発生するようにし、(d)前記一致コアの各々が発生するときに、前記 記憶手段が前記一致コアを記憶するようにし、(e)複数の一致コアが記憶された 後に、前記一致コア分類手段が最高値を持つ少なくとも1つの前記一致コアを選 択するようにするシーケンサとを備える装置。 17 請求項16の方法において、さらに、 前記距離マトリクス発生手段に接続された距離マトリクス分類手段であって、 前記制御信号の制御下で、各指紋対ごとに前記前記距離マトリクスの前記要素を 該要素の値に応じて分類して星対一致の順番を確立する距離マトリクス分類手段 と、 前記距離マトリクス分類手段と前記シーケンサとに接続されたシーケンサ接続 手段であって、前記参照指紋の内の1つのARGの星のすべてが前記距離マトリ クスの要素まで減少されたときに、前記距離マトリクス分類手段が前記距離マト リクスの前記要素をそれらの値に応じて分類して順番を発生するようにし、さら に、前記距離マトリクス分類手段が前記順番を確立したときに、前記一致コア発 生手段が前記順番によって決定された順序で前記一致コアを発生するシーケンサ 接続手段とを備える装置。 18 請求項16の装置において、さらに、 前記一致コア分類手段と前記シーケンサとに接続されていて、最高値を持つ前 記1つの一致コアに対応する前記参照指紋の1つの特定を表示する表示装置を備 える装置。 19 少なくとも1つの未特定の個人の身体的特徴を含む1セットの未特定の個人 の身体的特徴と、個人の身体的特徴ファイルからの複数のセットの参照個人の身 体的特徴とを一致させる方法であって、 ノード及びノード特性(a)と該ノード間の枝及び枝特性(b)とを含む特性関連図 を、前記未特定の個人の身体的特徴のセットの抽出デジタル詳細点マップから発 生して前記ノードの各々に中心がある星を暗黙的に発生する工程と、 前記未知の個人の身体的特徴のセットの前記個人の身体的特徴の1つの前記A RG内の星(a)と、前記参照個人の身体的特徴のセットの内の1つの個人の身体 的特徴の1つのARGの星(b)との間の距離マトリクスであって、星の各対に関 連するマトリクス要素を含む距離マトリクスを発生する工程と、 前記距離マトリクス及び前記ARGから星対の一致するセットの一致コアを発 生する工程とを含む方法。 20 請求項19の方法において、前記個人の身体的特徴が指紋である方法。 21 請求項19の方法において、さらに、 各個人の身体的特徴対ごとに前記距離マトリクスの前記要素を該要素の値に応 じて分類して、星対一致の順番を確立するとを含み、 前記距離マトリクス及び前記ARGから前記星対の一致セットの一致コアを発 生する工程が前記分類された距離マトリクスによって確立された順番で実行され る方法。 22 少なくとも1つの未特定の指紋を少なくとも1つの参照指紋と一致させる方 法であって、 ノード及びノード特性(a)と該ノード間の枝及び枝特性(b)とを含む特性関連図 (ARG)を、前記未特定の指紋の抽出デジタル詳細点マップから発生して前記 ノードの各々に中心がある星を暗黙的に発生する工程と、 前記未知の指紋の前記ARG内の星(a)と、前記参照指紋の前記1つの ARGの星(b)との間の距離マトリクスであって、星の各対に関連するマトリク ス要素を含む距離マトリクスを発生する工程と、 前記距離マトリクス及び前記ARGから星対の一致するセットの一致コアを発 生する工程とを含む方法。
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