JPH09509671A - 頭髪上への付着用リポソーム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 陽イオン性リポソームによる頭髪上への活性成分の付着方法、並びに陽イオン性リポソームおよび活性成分を含有する、ポストウォッシュコンディショナー用または頭髪処置マスク用組成物。

Description

【発明の詳細な説明】 頭髪上への付着用リポソーム 本発明の分野 本発明は、ヒトの頭髪の処置のための方法および組成物に関する。より特に本 発明は、頭髪処置用組成物からの活性成分の頭髪上への付着用の改善された系に 関する。 本発明の背景および先行技術 界面活性剤に可溶な活性成分が混入されているすすぎ除去製品で頭髪を処置す るとき、該活性成分のかなりの量がすすぎ流されよう。製品中の界面活性剤のミ セル中に活性成分が可溶化されている単純なシャンプー組成物の場合保持レベル は５％位の低いレベルであり得る、ということが研究により示されている。コン ディショニング用組成物からのこれらの活性成分の保持は、一般に、多分コンデ ィショニング基剤における活性成分の可溶化が比較的乏しい故比較的高いが、し かし改善のかなりの余地があり、何故ならそれにより活性成分の一層良好な性能 並びに製品中の高価な活性成分のレベルを低減してその結果もたらされるコスト の節約という選択肢が与えられるからである。 本発明の目的は、頭髪への活性成分の付着用の改善された系 を提供することである。 本発明の簡単な要約 本発明者は、今般、貯蔵安定でありかつ頭髪に対する親和力を有する陽イオン 性リポソーム即ち１つまたはそれ以上の脂質二重層により囲まれた水性区画が形 成され得ることを見出した。頭髪処置用組成物中に含められる場合、これらのリ ポソームは頭髪上に付着し、すすぎ中に除去されず、またそれらと組み合わせら れる活性成分の頭髪上への付着を向上し得る。 従って、第１の側面においては、本発明は、陽イオン性リポソームによる頭髪 上への活性成分の付着方法を提供する。 第２の側面においては、本発明は、頭髪に施用されたとき以前に達成され得た よりも向上された頭髪上への活性成分の付着を起こす、陽イオン性リポソームお よび活性成分からなる組成物を提供する。 本発明の詳細な記載 本発明による好ましい方法は、次の工程即ち （ａ）活性成分が混入されている陽イオン性リポソームの分散体を形成させ、 （ｂ）該分散体を加工して頭髪処置用組成物にし、そして （ｃ）頭髪を該組成物で処置する 工程からなる。 本発明者は、工程（ａ）の分散体は固体のコレステロールを活性成分と共に陽 イオン性界面活性剤の水溶液に単に添加することにより製造され得ることを見出 した。これはリポソームの形成を誘導し、そしてそのように生じせしめられた構 造は慣用の対照顕微鏡検査技法を用いて容易に視覚化され得る。 リポソーム分散体中の陽イオン性界面活性剤の濃度は適当には総重量を基準と して２重量％ないし１０重量％であり、そしてコレステロール対陽イオン性界面 活性剤の重量比は好ましくは１：１である。 上記のようにして製造されたリポソーム分散体の顕微鏡検査による調査により 、該リポソーム中の活性成分の少なくとも部分的カプセル封入が実証される。本 発明のリポソーム分散体からの最良の付着向上効率を可能にするためにかかるカ プセル封入を最適にすることが好ましいが、これが起こる正確なメカニズムは不 明である。一般に、リポソームの添加よりも後の段階において活性成分を添加す ることは好ましさが劣り、というのはこれはリポソームによる活性成分のカプセ ル封入に有害であ ると認められるからである。 しかしながら、本発明による別の方法においては、陽イオン性リポソームの分 散体は、加工段階中にリポソーム成分、典型的にはコレステロールおよび陽イオ ン性界面活性剤を含めることにより、頭髪処置用組成物中においてその場で形成 され得る。活性成分は、次いでこの段階後に該組成物中に混入され得る。 この別法において、加工中添加されるコレステロールの濃度（頭髪処置用組成 物の総重量を基準として重量により）は適当には０．０５〜３％例えば０．１〜 １％であり、そして加工中添加される陽イオン性界面活性剤の濃度は適当には頭 髪処置用組成物の総重量を基準として０．１５〜５重量％例えば０．５〜２重量 ％である。 驚くべきことに、これもまた、活性成分の効果的なリポソームによるカプセル 封入への有利な経路を提供する。かかる場合、組成物の微細構造の全体が活性成 分のカプセル封入にとって有利な環境をなすよう変えられる、と認められる。 サンスクリーン剤の形態を取り得る油のような活性成分は、普通水不溶性また は水難溶性の物質である。適当なサンスクリーン剤の中には、樟脳誘導体、ウヴ ィヌル（Ｕｖｉｎｕｌ） Ｄ５０として商業的に販売されている４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノ ンおよびエウソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ）４３６０として商業的に販売されて いる２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンのようなベンゾフェノン化合 物、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）１７８９として商業的に販売されているｔ−ブチ ル−４−メトキシジベンゾイルメタンおよびエウソレックス（Ｅｕｓｏｌｅｘ） ８０２０として商業的に販売されているイソプロピルジベンゾイルメタンのよう なジベンゾイルメタン誘導体がある。好ましいサンスクリーン剤物質は、パーソ ル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸとして商業的に販売されている２−エチルヘキシル− ｐ−メトキシシンナメート、ギヴ−タン（Ｇｉｖ−Ｔａｎ）Ｆとして商業的に販 売されている２−エトキシエチル−ｐ−メトキシシンナメートおよびネオ−ヘリ オパン（Ｎｅｏ−Ｈｅｌｉｏｐａｎ）Ｅ１０００として商業的に販売されている イソアミル−ｐ−メトキシシンナメートのようなシンナメートである。 活性成分はまた、ジンクピリチオンおよび他の１−ヒドロキシピリドン類のよ うな抗フケ剤であり得る。好ましい抗フケ剤は、化学名が１−ヒドロキシ−４− メチル−６−（２，４，４ −トリメチルペンチル）−２−ピリドンモノエタノールアミン塩でありそしてヘ キストＡＧ社により商品名オクチピロックス（ＯＣＴＩＰＩＲＯＸ）下で販売さ れているピロクトンオラミンとして知られている、１−ヒドロキシ−２−ピリド ン誘導体である。 他の適当な活性成分は、ビタミンＥおよびその誘導体、揮発性油並びに香料で ある。 活性成分は、普通、頭髪処置用組成物の総重量を基準として０．００５重量％ ないし５重量％好ましくは０．０８５重量％ないし２重量％の濃度にて存在する 。活性成分の最適な濃度は、活性成分の精確な化学的性質に依存しよう。サンス クリーン剤については、該組成物が０．００５重量％未満のサンスクリーン剤を 含む場合ほとんど有益性は得られず、そして５％より多く存在する場合追加的有 益性は得られそうにない。 適当な陽イオン性界面活性剤の例は、次のものを含む。即ち、第４級アンモニ ウム水酸化物、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、アルキル基が 約８〜２２個の炭素原子を有するアルキルトリメチルアンモニウムヒドロキシド 例えばオクチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、ドデシルトリメチ ルアンモニウムヒドロキシド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシ ド、セチルトリメチルアンモニウムヒドロキシドおよびベヘニルトリメチルアン モニウムヒドロキシド、ベンジルトリメチルアンモニウムヒドロキシド、オクチ ルジメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、デシルジメチルベンジルアンモ ニウムヒドロキシド、ステアリルジメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド、 ジドデシルジメチルアンモニウムヒドロキシド、ジオクタデシルジメチルアンモ ニウムヒドロキシド、牛脂トリメチルアンモニウムヒドロキシド、ココトリメチ ルアンモニウムヒドロキシド、並びにそれらの対応する塩例えばハロゲン化物， セチルピリジニウムヒドロキシドまたはその対応する塩例えばハロゲン化物。 好ましい陽イオン性界面活性剤は、セチルトリメチルアンモニウムクロライド およびセチルトリメチルアンモニウムブロマイドであり、しかしてそれらは以後 それぞれＣ．Ｔ．Ａ．Ｃ．およびＣ．Ｔ．Ａ．Ｂ．と称される。 本発明による組成物は、更に、頭髪処置用組成物中において普通見られる１種 またはそれ以上の随意的成分を含み得る。本発明の組成物は、好ましくはポスト ウォッシュ（洗浄後用）頭 髪コンディショニング用組成物または頭髪処置マスク（ｍａｓｑｕｅ）の形態を 取るが、しかしコンディショニングシャンプーまたはヘアスタイリング用組成物 または同様なものの形態も取り得る。 本発明の頭髪処置用組成物中に含まれ得る一つの好ましい随意的成分は、約８ 〜約２８個の炭素原子一層好ましくは約１２〜約１８個の炭素原子の鎖長を有す る脂肪アルコールまたは脂肪酸またはそれらの誘導体もしくはこれらのいずれか の混合物である。これらの物質は主として線状であり得、あるいは枝分かれして いてもよい。 かかる脂肪物質は、本発明の組成物中に約０．００１〜２０重量％一層好まし くは０．０１〜１０重量％更に一層好ましくは０．０１〜５重量％なお一層好ま しくは０．１〜１重量％の総量にて存在し得る。存在する場合、該脂肪物質の特 に好ましい量は約０．５重量％までであり、何故ならかかる量は該組成物を滑ら かなキメおよび非塊状にするのを助成するからである。 コンディショニング性を有するのみならず洗浄性も有する本発明の頭髪処置用 組成物即ちシャンプーを処方することが所望される場合は、好ましくは非イオン 性、両性およびツビッター イオン性界面活性剤から選択された、１種またはそれ以上の界面活性剤が含まれ 得る。 本発明の組成物において用いるのに適した非イオン性界面活性剤は、脂肪族（ Ｃ₈〜Ｃ₁₈）の第１級または第２級の線状または分枝鎖のアルコールもしくはフ ェノールとアルキレンオキシド通常エチレンオキシドとの、一般に６〜３０個の エチレンオキシド基を有する、縮合生成物を含む。 他の適当な非イオン性界面活性剤は、モノまたはジアルキルアルカノールアミ ドを含む。それらの例は、ココモノまたはジエタノールアミドおよびココモノイ ソプロパノールアミドを含む。 更なる適当な非イオン性界面活性剤は、アルキルポリグリコシド（ＡＰＧ）で ある。典型的にはＡＰＧは、１個またはそれ以上のグリコシル基のブロックに（ 随意に、橋状基を経て）結合されたアルキル基からなるものである。好ましいＡ ＰＧは、次の式による記載される。即ち、 ＲＯ−（Ｇ）_n ここで、Ｒは、飽和または不飽和であり得る分枝または直鎖のアルキル基であり 、そしてＧは、サッカライド基である。 Ｒは、約Ｃ₅〜約Ｃ₂₀の平均アルキル鎖長を表し得る。好ましくはＲは、約Ｃ₈ 〜約Ｃ₁₂の平均アルキル鎖長を表す。最も好ましくはＲの値は、約９．５と約１ ０．５の間にある。Ｇは、Ｃ₅またはＣ₆のモノサッカライド残基もしくはＣ₅お よびＣ₆のモノサッカライド残基の混合物から選択され得、そして好ましくはグ ルコシドである。Ｇは、グルコース、キシロース、ラクトース、フラクトース、 マンノースおよびそれらの誘導体からなる群から選択され得る。好ましくはＧは 、グルコースである。 重合度即ちｎは、約１〜約１０またはそれ以上の値を有し得る。好ましくはｎ の値は、約１．１〜約２の範囲にある。最も好ましくはｎの値は、約１．３〜約 １．５の範囲にある。 本発明において用いるための適当なアルキルポリグリコシドは、商業的に入手 できそして例えばセピック社のオラミックス（Ｏｒａｍｉｘ）ＮＳ１０並びにヘ ンケル社のＡＰＧ２２５、ＡＰＧ３００、ＡＰＧ３５０、ＡＰＧ５５０およびＡ ＰＧ６００として同定される物質を含む。 本発明の組成物において用いるのに適した両性およびツビッターイオン性界面 活性剤は、アルキルアミンオキシド、アルキ ルベタイン、アルキルアミドプロピルベタイン、アルキルスルホベタイン（スル タイン）、アルキルグリシネート、アルキルカルボキシグリシネート、アルキル アンホプロピオネート、アルキルアンホグリシネート、アルキルアミドプロピル ヒドロキシスルタイン、アシルタウレートおよびアシルグルタメートを含み得、 しかしてそれらのアルキルおよびアシル基は８〜１９個の炭素原子を有する。そ れらの例は、ラウリルアミンオキシド、ココジメチルスルホプロピルベタインお よび好ましくはラウリルベタイン、ココアミドプロピルベタインおよびナトリウ ムココアンホプロピオネートを含む。 本発明に従ってシャンプーにおいて用いるのに適当であり得る更なる界面活性 剤は、上記に挙げた界面活性剤のいずれかの代わりにまたはそれに加えて１種ま たはそれ以上の陰イオン性界面活性剤を含む。 適当な陰イオン性界面活性剤は、アルキルサルフェート、アルキルエーテルサ ルフェート、アルカリールスルホネート、アルカノイルイセチオネート、アルキ ルスクシネート、アルキルスルホスクシネート、Ｎ−アルコイルサルコシネート 、アルキルホスフェート、アルキルエーテルホスフェート、アルキルエ ーテルカルボキシレートおよびアルファ−オレフィンスルホネート、特にそれら のナトリウム、マグネシウム、アンモニウムおよびモノ、ジおよびトリエタノー ルアミン塩である。それらのアルキルおよびアシル基は、一般に８〜１８個の炭 素原子を含有し、そして不飽和であり得る。該アルキルエーテルサルフェート、 アルキルエーテルホスフェートおよびアルキルエーテルカルボキシレートは、１ 分子当たり１〜１０個のエチレンオキシドまたはプロピレンオキシドユニットを 含有し得、そして好ましくは１分子当たり２〜３個のエチレンオキシドユニット を含有する。 適当な陰イオン性界面活性剤の例は、ナトリウムオレイルスクシネート、アン モニウムラウリルスルホスクシネート、アンモニウムラウリルサルフェート、ナ トリウムドデシルベンゼンスルホネート、トリエタノールアミンドデシルベンゼ ンスルホネート、ナトリウムココイルイセチオネート、ナトリウムラウロイルイ セチオネートおよびナトリウムＮ−ラウリルサルコシネートを含む。最も好まし い陰イオン性界面活性剤は、ナトリウムラウリルサルフェート、トリエタノール アミンラウリルサルフェート、トリエタノールアミンモノラウリルホスフェート 、 ナトリウムラウリルエーテルサルフェート１ＥＯ、２ＥＯおよび３ＥＯ、アンモ ニウムラウリルサルフェート並びにアンモニウムラウリルエーテルサルフェート １ＥＯ、２ＥＯおよび３ＥＯである。 界面活性剤は、頭髪処置用組成物中に約１〜７０重量％好ましくは２〜４０重 量％一層好ましくは５〜３０重量％の総量にて存在し得る。 本発明の組成物中に含められるための更なる随意的な成分として、水に加えて 、次のものが挙げられ得る。即ち、ｐＨ調整剤、粘度調整剤、真珠光沢化剤、不 透明化剤、懸濁剤、保存剤、着色剤、染料、蛋白質、ハーブおよび植物エキス、 ポリオール並びに他の潤い付与および／またはコンディショニング剤。 次に、本発明の具体的態様が、次の例に言及することにより更に例示される。 別段記載がなければ、与えられている量はすべて重量％である。 実施例材料 コレステロールは、アルドリッチ・ケミカル・カンパニー社により供給される ような９５％純度であった。ＣＴＡＢは、フ ルカＡＧ社により供給されるような９９％純度であった。ＣＴＡＣは、５０％溶 液（アクゾー社から得られる、アークワド（Ａｒｑｕａｄ）１６−５０）として 得られた。オクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）およびパーソル（Ｐａｒｓ ｏｌ）ＭＣＸは、それぞれヘキスト社およびギヴァウダン−ロウレ社から得られ た。方法 リポソームの調製物 ＣＴＡＣを、水に室温にて添加した。固体のコレステロールを、オクチピロッ クス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）またはパーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸのいずれか と共に添加した。この混合物を、シルヴァーソン（Ｓｉｌｖｅｒｓｏｎ）ミキサ ーを用いて室温にて高剪断でもって３分間分散させた。リポソーム調製物は、常 に重量により１：１のＣＴＡＣ：コレステロールであり、かつ２％と１０％の間 のＣＴＡＣであった。例１〜３ 頭髪に対するリポソームの親和力の調査 次の成分を用いて、リポソーム溶液を上記のようにして調製した。 コレステロール０．１２５％（推定総リポソーム濃度：０．２５％） ＣＴＡＣ０．１２５％ 脱イオン水 手順 約１ｇの重量の同じ品質の入髪を選択し、そして各入髪を１５ｍｌの上記の調 製されたリポソーム溶液中に別々に浸漬した。該入髪の除去後、各溶液の濃度を 、４００ｎｍにおけるＵＶ吸光度を測定することにより調査した。その系は、０ ．２０％および０．２５％のリポソーム濃度を有する２種の溶液でもって検量さ れた。 結果は、第１表に与えられている。 結論 溶液中の成分のすべてがリポソームの形態にあると仮定すると、これらの結果 は、リポソームと髪の間の親和力の結果としてリポソームが髪上に付着されるこ とを示している。例４および５ リポソーム分散体単独からの並びにミセル状ＣＴＡＢ溶液からの、髪によるパ ーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸの取込みを調べた。手順 入髪を０．２ｇコンディショナー／ｇ髪で処理し、そして４×４ｇ入髪を用い た。入髪は、１時間の１００ｍｌのエタノールでのすすぎ後抽出された。 初期リポソーム分散体のまたはエタノール中のパーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣ Ｘの数種の希釈液（エタノール中）により作られた検量線を用いて、エタノール 溶液中のパーソル（Ｐａｒｓｏｌ）濃度を決定した。吸光度を、３０９ｎｍの波 長において測定した。 第２表は、次のものから得られた保持結果を示す。即ち、 比較例Ａ： ４％ＣＴＡＢ，０．３％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ） ＭＣＸ 例４： ４％ＣＴＡＢ，４％コレステロール，０．３％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ ）ＭＣＸ 比較例Ｂ： ２％ＣＴＡＢ，０．１５％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸ 例５： ２％ＣＴＡＢ，２％コレステロール，０．１５％パーソル（Ｐａｒｓｏ ｌ）ＭＣＸ 比較例ＡおよびＢにおいて、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸは、顕微鏡検査 により、界面活性剤のミセル中において完全に可溶化されていることが示された 。例４および５において、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸは、微細構造の調査 から、リポソーム分散体中に完全に混入されていたと判定された。 試験されたＣＴＡＢ濃度の各々について、当該系においてリポソームを誘導す るコレステロールの添加は、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸ保持の２５％の増 大を可能にする。例６〜８ 次のものの１０％加工後添加がなされた完全に処方されたコンディショナー^★ からの、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸの取込みを調べた。即ち、 比較例Ｃ： 蒸留水中の２％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸ 例６： ７．５％ＣＴＡＣ，７．５％コレステロール，２％パーソル（Ｐａｒｓ ｏｌ）ＭＣＸ 例７： １０％ＣＴＡＣ，１０％コレステロール，２％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ ）ＭＣＸ 例８： ４％ＣＴＡＣ，４％コレステロール，０．８５％パーソル（Ｐａｒｓｏ ｌ）^★ 加工後添加がなされたコンディショナー基剤は、次の成分から作られた。即ち 、 手順 入髪（１ｇ）を１ｇのコンディショナー＋加工後添加剤で３分間処理した後、 １分間のすすぎを行った。次いで、入髪を１０ｍｌのエタノールで３０秒間抽出 した。該処理された髪からのエタノール抽出物を、吸光度の測定の前にエタノー ルで×１５希釈した。 保持結果が、第３表に示されている。 これらの結果は、ＣＴＡＣ／コレステロールリポソームの分散体中にパーソル （Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸを加工することの利点を実証している。ＣＴＡＣおよび コレステロールの比較的高いレベルを選択すること（例７）は明らかに、最終濃 度が０．２％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸであるとすると、比較的高いレベ ルのパーソル（Ｐａｒｓｏｌ）が保持されることを可能にする。比較的低いレベ ルのパーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸ（０．０８５％の最終濃度を与える、０． ８５％）を４％ＣＴＡＣ，４％コレステロール中に可溶化すること（例８）によ り、０．２％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸを含有する対照コンディショナー （比較例Ｃ）において見られる保持レベ ルと同等の保持レベルが達成され得る。例９〜１０ パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸの取込みに対するリポソームの添加方法の効果 次の系（例６〜８下で記載されたように作られたコンディショナー基剤を用い て）からのパーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸの保持を調べた。即ち、 比較例Ｄ： ０．０８５％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸの後添加がなされた コンディショナー 例９： ０．８５％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸ、４％コレステロール、４ ％ＣＴＡＣの分散体の１０％後添加がなされたコンディショナー 比較例Ｅ： ４％コレステロール、４％ＣＴＡＣの１０％後添加がなされかつ０ ．０８５％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸが別個に添加されたコンディショナ ー 比較例Ｆ： １．１％ＣＴＡＣ（余分に）が加工中脂肪相において添加されかつ ０．０８５％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）および０．４％コレステロールが後加工 にて添加されたコンディショナー 例１０： １．１％ＣＴＡＣ、０．４％コレステロールが加工中脂肪相において 添加されかつ０．２％パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸが後加工にて添加された コンディショナー 比較例Ｇ： １．１％ＣＴＡＣが加工中脂肪相において添加されかつ０．２％パ ーソル（Ｐａｒｓｏｌ）が後加工にて添加されたコンディショナー（コレステロ ールなし） 後続の手順は、例６〜８について上記に記載された手順と等しかった。 結果は、第４表に詳記されている。即ち、 パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸが混入されている予備調製されたリポソーム 成分がコンディショナーの加工後添加されることが最も効率的なパーソル（Ｐａ ｒｓｏｌ）ＭＣＸの保持に通じることを、これらの結果は示唆している。しかし ながら、コンディショナー中にリポソーム成分を加工した後比較的高濃度のパー ソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸを添加すること（例１０）も、高いパーソル（Ｐａ ｒｓｏｌ）ＭＣＸの保持への効果的な経路である。この場合、加工段階において コレステロールを含めることが、コンディショナーの構造に対して顕著な効果を 有するように思える。 例１１完全に処方されたコンディショナーからのオクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏ ｘ）の取込み 次のコンディショナー処方物（コンディショナー基剤は、例６〜８下で記載さ れたように作られる。）からのオクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）の保持 を評価した。即ち、 比較例Ｈ： オクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）（０．１％）が香料相に おいて後加工にて添加されたコンディショナー 例１１： ５％ＣＴＡＣ、５％コレステロールおよび１％オクチピロックス（Ｏ ｃｔｉｐｉｒｏｘ）の１０％添加がなされたコンディショナー 比較例Ｉ： ５％ＣＴＡＣ、５％コレステロールの１０％添加がなされかつ０． １％オクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）が香料相において別個に添加され たコンディショナー手順 １ｇの入髪を、１ｇまたは０．２ｇのいずれかのコンディショナー＋添加剤で 処理（１分間の適用）した。１分間のすすぎ後各入髪を遠心管中に入れ、そして ４％ 酢酸（１２％） ２％ 硫酸鉄（ＩＩ）溶液（０．１７Ｍ，ＨＣｌで酸性化された） ９４％ メタノール からなる１０ｍｌの溶液を添加した。 入髪との接触３５分（＋／−３０）秒後、この混合物を５分間３５００ｒｐｍ にて遠心分離した。その上澄み液中のオクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ） 含有量を、前もって決定した検量線を用いて４６２ｎｍにおける吸光度測定から 決定した。 これらの結果は、第５表に示されている。即ち、 パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸの場合に見られたように、リポソーム分散体 中にオクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）を含めることは、×２の保持の向 上への経路を与える。結論 １）ＣＴＡＣまたはＣＴＡＢ溶液へのコレステロールの添加は、粗大なリポソ ームの形成を誘導する。作られた構造は、対照顕微鏡検査技法を用いて容易に視 覚化され得る。 ２）１：１のＣＴＡＣ：コレステロールのリポソームは、パ ーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸまたはオクチピロックス（Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ） のような活性成分を部分的に可溶化する能力がある。 ３）リポソーム分散体中に完全に混入された場合、髪上におけるパーソル（Ｐ ａｒｓｏｌ）ＭＣＸの保持は、ミセル状の対照物からの保持に対して約２５％増 大され得る。 ４）リポソームの予備混合物の成分としてポストウォッシュコンディショナー に添加される場合、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）ＭＣＸおよびオクチピロックス（ Ｏｃｔｉｐｉｒｏｘ）の両方共５０％までの保持向上が達成され得る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)， ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，Ｃ Ｈ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ ，ＧＥ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ， ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＮ，Ｍ Ｗ，ＭＸ，ＮＬ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＴ，ＵＡ， ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 リード，ユアン・スチユアート イギリス国、エル・62・２・エイ・アー ル、マージーサイド、ワイラル、ビビント ン、ミードウエイ・４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 頭髪上への活性成分の付着方法において、該活性成分が陽イオン性リポソ ーム中に混入されている頭髪処置用組成物を頭髪に施用することを特徴とする上 記方法。 ２． 活性成分が水不溶性である、請求の範囲第１項に記載の方法。 ３． 活性成分が、サンスクリーン剤および抗フケ剤から成る群から選択される 、請求の範囲第１項または第２項に記載の方法。 ４． 次の工程： （ａ）活性成分が混入されている陽イオン性リポソームの分散体を形成させ、 （ｂ）該分散体を加工して頭髪処置用組成物にし、そして （ｃ）頭髪を該組成物で処置する 工程からなる、請求の範囲第１〜３項のいずれかの項に記載の方法。 ５． 次の工程： （ａ）頭髪処置用組成物の加工中にリポソーム成分を含めるこ とにより頭髪処置用組成物中においてその場で陽イオン性リポソームの分散体を 形成させ、 （ｂ）その加工後該組成物中に活性成分を混入させ、そして （ｃ）この組成物で頭髪を処置する 工程からなる、請求の範囲第１項から第３項のいずれかに記載の方法。 ６． 陽イオン性リポソームおよび活性成分からなることを特徴とする頭髪処置 用組成物。 ７． ポストウォッシュコンディショナーとしてまたは頭髪処置マスクとして処 方される、請求の範囲第６項に記載の組成物。 ８． リポソームがコレステロールおよびセチルトリメチルアンモニウムクロラ イド（Ｃ．Ｔ．Ａ．Ｃ．）の混合物から形成される、請求の範囲第６項または第 ７項に記載の組成物。 ９． コレステロール対Ｃ．Ｔ．Ａ．Ｃ．の重量比が１：１である、請求の範囲 第８項に記載の組成物。 １０． 活性成分が、パーソル（Ｐａｒｓｏｌ）およびオクチピロックス（Ｏｃ ｔｉｐｉｒｏｘ）から成る群から選択される、請求の範囲第６項から第９項のい ずれかに記載の組成物。