JPH095113A - 耐熱性磁気スケールの製造方法 - Google Patents
耐熱性磁気スケールの製造方法Info
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- JPH095113A JPH095113A JP10518096A JP10518096A JPH095113A JP H095113 A JPH095113 A JP H095113A JP 10518096 A JP10518096 A JP 10518096A JP 10518096 A JP10518096 A JP 10518096A JP H095113 A JPH095113 A JP H095113A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気スケールを構成する基体、非磁性金属層
および磁性層等の熱膨張係数が異なるため、高温領域で
基体から上記非磁性金属層や磁性層が剥離したり、磁性
層が消磁する恐れがあった。 【解決手段】 強磁性体であり、焼き入れ硬化が可能な
合金からなる耐熱性基材１に、所定間隔に熱を加えて加
熱溶融部分２の磁気特性を変化させ、上記基材１より大
きな残留磁化を発生させるようにする。
および磁性層等の熱膨張係数が異なるため、高温領域で
基体から上記非磁性金属層や磁性層が剥離したり、磁性
層が消磁する恐れがあった。 【解決手段】 強磁性体であり、焼き入れ硬化が可能な
合金からなる耐熱性基材１に、所定間隔に熱を加えて加
熱溶融部分２の磁気特性を変化させ、上記基材１より大
きな残留磁化を発生させるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は高温領域で使用す
る耐熱性磁気スケールの製造方法に関するものである。
る耐熱性磁気スケールの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６は例えば特公昭４８−１０６５５号
公報に示された従来の磁気スケールを示す断面図であ
り、図において、６は鉄またはエリンバー（商品名）の
ごとき鉄合金よりなる断面円形の棒状の基体、７は基体
６の表面にメッキまたはクラッドで被着形成された銅ま
たはアルミニウムのごとき非磁性金属層、８は非磁性金
属層７の上に被着形成されたコバルト−ニッケルのごと
き磁性層である。
公報に示された従来の磁気スケールを示す断面図であ
り、図において、６は鉄またはエリンバー（商品名）の
ごとき鉄合金よりなる断面円形の棒状の基体、７は基体
６の表面にメッキまたはクラッドで被着形成された銅ま
たはアルミニウムのごとき非磁性金属層、８は非磁性金
属層７の上に被着形成されたコバルト−ニッケルのごと
き磁性層である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の磁気スケールは
以上のように構成されており、例えば金属データブック
（日本金属学会編、昭和４９年）の表1・2・6、および表6
・6・4に示されているように、鉄またはエリンバー（商品
名）のごとき鉄合金の熱膨張係数はそれぞれ12.1×10-6
および8.0×10-6であり、銅およびアルミニウムの熱膨
張係数はそれぞれ17.0×10-6および23.5×10-6であり、
また例えば耐熱鋼データ集（特殊鋼倶楽部編、昭和４０
年）の表６（その２）に示されているようにコバルト−
ニッケルの熱膨張係数は例えばＳ−８１６（ＡＩＳＩ N
O.671 ）では11.9×10-6（ＡＩＳＩ21〜316 ℃）であ
る。図６に示すような構成では、磁気スケールの熱膨張
係数は基体の熱膨張係数でほとんど決まるが、１００〜
３００℃の高温度領域でかかる磁気スケールを使用した
場合、基体、非磁性金属層および磁性層の熱膨張係数が
それぞれ異なるため、基体、非磁性金属層および磁性層
の膨張の量が異なり、基体から非磁性金属層や磁性層が
剥離する恐れがあった。
以上のように構成されており、例えば金属データブック
（日本金属学会編、昭和４９年）の表1・2・6、および表6
・6・4に示されているように、鉄またはエリンバー（商品
名）のごとき鉄合金の熱膨張係数はそれぞれ12.1×10-6
および8.0×10-6であり、銅およびアルミニウムの熱膨
張係数はそれぞれ17.0×10-6および23.5×10-6であり、
また例えば耐熱鋼データ集（特殊鋼倶楽部編、昭和４０
年）の表６（その２）に示されているようにコバルト−
ニッケルの熱膨張係数は例えばＳ−８１６（ＡＩＳＩ N
O.671 ）では11.9×10-6（ＡＩＳＩ21〜316 ℃）であ
る。図６に示すような構成では、磁気スケールの熱膨張
係数は基体の熱膨張係数でほとんど決まるが、１００〜
３００℃の高温度領域でかかる磁気スケールを使用した
場合、基体、非磁性金属層および磁性層の熱膨張係数が
それぞれ異なるため、基体、非磁性金属層および磁性層
の膨張の量が異なり、基体から非磁性金属層や磁性層が
剥離する恐れがあった。
【０００４】更に、剥離しない場合でも基体、非磁性金
属層および磁性層の熱膨張係数がそれぞれ異なるためか
かる磁気スケールを高温度領域で使用した場合、基体、
非磁性金属層および磁性層の膨張の量が異なるため、基
体、非磁性金属層および磁性層のそれぞれに熱膨張に伴
う応力が加わり、磁性層の磁気特性が劣化し、磁気スケ
ールの感度が低下するという問題点があった。
属層および磁性層の熱膨張係数がそれぞれ異なるためか
かる磁気スケールを高温度領域で使用した場合、基体、
非磁性金属層および磁性層の膨張の量が異なるため、基
体、非磁性金属層および磁性層のそれぞれに熱膨張に伴
う応力が加わり、磁性層の磁気特性が劣化し、磁気スケ
ールの感度が低下するという問題点があった。
【０００５】また、磁気テープ等を磁気スケールに用い
るものがあるが、この場合は熱により消磁されてしま
い、例えば５０℃ぐらいまでしか使えないという問題点
があった。
るものがあるが、この場合は熱により消磁されてしま
い、例えば５０℃ぐらいまでしか使えないという問題点
があった。
【０００６】この発明は上記のような問題点を解決する
ためになされたもので、１００℃以上でも消磁せず、温
度変化に対しても剥離が生じず、安定かつ測定精度が高
い耐熱性磁気スケールを製造する方法を提供することを
目的とする。
ためになされたもので、１００℃以上でも消磁せず、温
度変化に対しても剥離が生じず、安定かつ測定精度が高
い耐熱性磁気スケールを製造する方法を提供することを
目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る耐熱性磁
気スケールの製造方法は、強磁性体であり、焼き入れ硬
化が可能な合金からなる耐熱性基材に、所定間隔に熱を
加えて加熱溶融部分の磁気特性を変化させ、上記基材よ
り大きな残留磁化を発生させるようにしたものであり、
上記基材及び上記加熱溶融部分の少なくともいずれか一
方のキュリー点が１００℃以上のものである。
気スケールの製造方法は、強磁性体であり、焼き入れ硬
化が可能な合金からなる耐熱性基材に、所定間隔に熱を
加えて加熱溶融部分の磁気特性を変化させ、上記基材よ
り大きな残留磁化を発生させるようにしたものであり、
上記基材及び上記加熱溶融部分の少なくともいずれか一
方のキュリー点が１００℃以上のものである。
【０００８】また、上記耐熱性基材をＳ３５Ｃ、フェラ
イト系ステンレス、またはマルテサント系ステンレスの
いずれかとしたものである。
イト系ステンレス、またはマルテサント系ステンレスの
いずれかとしたものである。
【０００９】また、出力が0.1KW〜15KW、掃引速度が１
分当り0.1ｍ〜15.0ｍ、単位長当りの照射エネルギーが2
0kJ／ｍ〜300kJ／ｍ、ビームの焦点位置が基材表面から
0〜±100mm の範囲の電子ビーム又はレーザビームによ
り熱を加えたものである。
分当り0.1ｍ〜15.0ｍ、単位長当りの照射エネルギーが2
0kJ／ｍ〜300kJ／ｍ、ビームの焦点位置が基材表面から
0〜±100mm の範囲の電子ビーム又はレーザビームによ
り熱を加えたものである。
【００１０】また、基材及び加熱溶融部分の少なくとも
いずれか一方を着磁したものである。
いずれか一方を着磁したものである。
【００１１】
実施の形態１．以下、この発明の一実施の形態を図につ
いて説明する。図１はこの発明の実施の形態１による耐
熱性磁気スケールの製造方法を示す斜視図である。図に
おいて、１は板状の耐熱性基材であり、焼き入れ硬化が
可能な合金、例えば炭素鋼Ｓ３５Ｃのような強磁性体で
ある。２は電子ビーム３等により加熱された加熱部分で
あり、磁気特性が変化した部分である。図２は上記耐熱
性磁気スケールを着磁している様子を示す側面構成図で
あり、図において、４は着磁用の電磁石、１０は磁気ス
ケールである。図３は図２に示す方法によって着磁した
磁気スケールを用いて変位量を検出している様子を示す
斜視図であり、図において、５は磁気スケールに残留し
ている磁化を検出する例えばホール素子のようなセンサ
ーである。図４は図３の方法で検出された磁化量を示す
関係図であり、横軸に変位量、縦軸に磁化量をとってい
る。
いて説明する。図１はこの発明の実施の形態１による耐
熱性磁気スケールの製造方法を示す斜視図である。図に
おいて、１は板状の耐熱性基材であり、焼き入れ硬化が
可能な合金、例えば炭素鋼Ｓ３５Ｃのような強磁性体で
ある。２は電子ビーム３等により加熱された加熱部分で
あり、磁気特性が変化した部分である。図２は上記耐熱
性磁気スケールを着磁している様子を示す側面構成図で
あり、図において、４は着磁用の電磁石、１０は磁気ス
ケールである。図３は図２に示す方法によって着磁した
磁気スケールを用いて変位量を検出している様子を示す
斜視図であり、図において、５は磁気スケールに残留し
ている磁化を検出する例えばホール素子のようなセンサ
ーである。図４は図３の方法で検出された磁化量を示す
関係図であり、横軸に変位量、縦軸に磁化量をとってい
る。
【００１２】図１において、板状の炭素鋼Ｓ３５Ｃの基
材１に、出力1.1KW、掃引速度1.O m／min、焦点距離＋5
0 mmの電子ビーム３を照射すると、電子ビームを照射さ
れた部分は急激に加熱溶融される。続いて、電子ビーム
を移動すると、いままで電子ビームを照射されていた部
分は今度は急激に冷却個体化される。そのため、電子ビ
ームを掃引した部分は線状あるいは面状に急激な加熱冷
却作用を受け、極度の残留応力が発生する。Ｓ３５Ｃの
ような炭素鋼では急激な溶融固化を行うと焼き入れ効果
により硬度が非常に高くなることが知られている。従っ
て、強磁性の炭素鋼Ｓ３５Ｃの基材に電子ビームを照射
すれば基材の表面あるいは内部に線状あるいは面状の磁
気特性の変化層、即ち磁気格子が形成される。形成され
た磁気格子は、上述のように極度の応力を受けて硬度が
高くなっているため保磁力が大きく、図２に示す方法で
電磁石４を使って着磁すると、大きな残留磁化が発生す
る。従って、電子ビームを照射する間隔を任意に選び、
図３のように残留磁化量を検出する素子、例えばホール
素子５などを用いることにより、図４に示すような変位
量と残留磁化量の関係図が得られ、変位の検出が可能と
なる。また、この発明では強磁性の基材の表面あるいは
内部の一方あるいは両方に、線状あるいは面状にある間
隔でそれぞれ独立して、焼き入れ硬化により磁気特性の
変化した領域を形成したので、残留磁化が図４に示すよ
うにパルス的に検出され、従来の方法に比べ安定で、か
つ非常に検出感度が高くなる。また、加熱部分２は基材
１そのものを焼き入れ硬化させて形成されたものであ
り、１００℃以上のキュリー点を共に有するので、耐熱
性がある。
材１に、出力1.1KW、掃引速度1.O m／min、焦点距離＋5
0 mmの電子ビーム３を照射すると、電子ビームを照射さ
れた部分は急激に加熱溶融される。続いて、電子ビーム
を移動すると、いままで電子ビームを照射されていた部
分は今度は急激に冷却個体化される。そのため、電子ビ
ームを掃引した部分は線状あるいは面状に急激な加熱冷
却作用を受け、極度の残留応力が発生する。Ｓ３５Ｃの
ような炭素鋼では急激な溶融固化を行うと焼き入れ効果
により硬度が非常に高くなることが知られている。従っ
て、強磁性の炭素鋼Ｓ３５Ｃの基材に電子ビームを照射
すれば基材の表面あるいは内部に線状あるいは面状の磁
気特性の変化層、即ち磁気格子が形成される。形成され
た磁気格子は、上述のように極度の応力を受けて硬度が
高くなっているため保磁力が大きく、図２に示す方法で
電磁石４を使って着磁すると、大きな残留磁化が発生す
る。従って、電子ビームを照射する間隔を任意に選び、
図３のように残留磁化量を検出する素子、例えばホール
素子５などを用いることにより、図４に示すような変位
量と残留磁化量の関係図が得られ、変位の検出が可能と
なる。また、この発明では強磁性の基材の表面あるいは
内部の一方あるいは両方に、線状あるいは面状にある間
隔でそれぞれ独立して、焼き入れ硬化により磁気特性の
変化した領域を形成したので、残留磁化が図４に示すよ
うにパルス的に検出され、従来の方法に比べ安定で、か
つ非常に検出感度が高くなる。また、加熱部分２は基材
１そのものを焼き入れ硬化させて形成されたものであ
り、１００℃以上のキュリー点を共に有するので、耐熱
性がある。
【００１３】なお、この実施の形態では電子ビームの出
力を1.1KWとしたが、0.1〜15KWの範囲であってもよい。
なお、電子ビームの出力が0.1W未満では掃引速度を非常
に遅くしなければ基材が溶融しないので焼き入れ硬化に
よる磁気変化層が形成できず、また、15KWを越えると掃
引速度を非常に速くしなければ溶融幅が広くなり溶融体
が急冷されないので上記磁化変化層が形成できなくなる
ため実用的でない。また、電子ビームの掃引速度を1.0m
／minとしたが、0.1〜15.0m／minの範囲であってもよ
い。また、電子ビームの焦点距離を基材表面から＋50mm
としたが、0〜±100mmの範囲であってもよい。なお、電
子ビームの焦点距離が＋100mmを越える場合や−100mm
未満の場合には電子ビームの焦点が離れすぎるので基材
が溶融せず焼き入れ硬化による磁気変化層が形成されな
い。なお、単位当たりの照射エネルギーは20KJ／m〜300
KJ／mが望ましい。
力を1.1KWとしたが、0.1〜15KWの範囲であってもよい。
なお、電子ビームの出力が0.1W未満では掃引速度を非常
に遅くしなければ基材が溶融しないので焼き入れ硬化に
よる磁気変化層が形成できず、また、15KWを越えると掃
引速度を非常に速くしなければ溶融幅が広くなり溶融体
が急冷されないので上記磁化変化層が形成できなくなる
ため実用的でない。また、電子ビームの掃引速度を1.0m
／minとしたが、0.1〜15.0m／minの範囲であってもよ
い。また、電子ビームの焦点距離を基材表面から＋50mm
としたが、0〜±100mmの範囲であってもよい。なお、電
子ビームの焦点距離が＋100mmを越える場合や−100mm
未満の場合には電子ビームの焦点が離れすぎるので基材
が溶融せず焼き入れ硬化による磁気変化層が形成されな
い。なお、単位当たりの照射エネルギーは20KJ／m〜300
KJ／mが望ましい。
【００１４】また、上記実施の形態では電子ビームによ
り加熱したが、他の加熱方法、例えばレーザビーム、プ
ラズマ、抵抗加熱により加熱するようにしてもよい。な
お、例えばレーザビームの場合も、出力、掃引速度、焦
点距離等が電子ビームの場合と同様に限定される。
り加熱したが、他の加熱方法、例えばレーザビーム、プ
ラズマ、抵抗加熱により加熱するようにしてもよい。な
お、例えばレーザビームの場合も、出力、掃引速度、焦
点距離等が電子ビームの場合と同様に限定される。
【００１５】さらに、上記実施の形態では耐熱性基材１
として炭素鋼Ｓ３５Ｃを用いたが、他の耐熱性の優れ
た、焼き入れ硬化が可能な強磁性材料で、残留磁化が大
きくなるように磁気特性が変化する素材であれば、例え
ばフェライト系またはマルテンサイト系ステンレスであ
ってもよい。
として炭素鋼Ｓ３５Ｃを用いたが、他の耐熱性の優れ
た、焼き入れ硬化が可能な強磁性材料で、残留磁化が大
きくなるように磁気特性が変化する素材であれば、例え
ばフェライト系またはマルテンサイト系ステンレスであ
ってもよい。
【００１６】また、上記実施の形態では基材および加熱
溶融部分の少なくともいずれか一方を着磁して残留磁化
量を検出するようにしたが、あらかじめ着磁せずに、検
出時に、図５に示すように、励起用磁石４と磁束量を検
出する素子、例えばホール素子５などを用いて図４と同
様の変位量と検出磁束量の関係が得られ、変位の検出が
可能となる。また、このような励磁式の磁気検出器を用
いれば、３００〜４００℃の高温にさらされるような環
境下でも使用することができる。
溶融部分の少なくともいずれか一方を着磁して残留磁化
量を検出するようにしたが、あらかじめ着磁せずに、検
出時に、図５に示すように、励起用磁石４と磁束量を検
出する素子、例えばホール素子５などを用いて図４と同
様の変位量と検出磁束量の関係が得られ、変位の検出が
可能となる。また、このような励磁式の磁気検出器を用
いれば、３００〜４００℃の高温にさらされるような環
境下でも使用することができる。
【００１７】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、強磁
性体であり、焼き入れ硬化が可能な合金からなる耐熱性
基材に、所定間隔に熱を加えて加熱溶融部分の磁気特性
を変化させ、上記基材より大きな残留磁化を発生させる
ようにし、上記基材及び上記加熱溶融部分の少なくとも
いずれか一方のキュリー点が１００℃以上となるように
したので、高温でも消磁せず、耐熱性のある磁気スケー
ルが得られる。また、温度変化に対して剥離等の恐れが
なく、安定かつ測定精度の高いものが製造できる効果が
ある。
性体であり、焼き入れ硬化が可能な合金からなる耐熱性
基材に、所定間隔に熱を加えて加熱溶融部分の磁気特性
を変化させ、上記基材より大きな残留磁化を発生させる
ようにし、上記基材及び上記加熱溶融部分の少なくとも
いずれか一方のキュリー点が１００℃以上となるように
したので、高温でも消磁せず、耐熱性のある磁気スケー
ルが得られる。また、温度変化に対して剥離等の恐れが
なく、安定かつ測定精度の高いものが製造できる効果が
ある。
【００１８】また、上記耐熱性基材をＳ３５Ｃ、フェラ
イト系ステンレス、またはマルテサント系ステンレスの
いずれかで構成すると、安定、かつ精度の高い耐熱性磁
気スケールが得られる。
イト系ステンレス、またはマルテサント系ステンレスの
いずれかで構成すると、安定、かつ精度の高い耐熱性磁
気スケールが得られる。
【００１９】また、出力が0.1KW〜15KW、掃引速度が１
分当り0.1ｍ〜15.0ｍ、単位長当りの照射エネルギーが2
0kJ／ｍ〜300kJ／ｍ、ビームの焦点位置が基材表面から
0〜±100mm の範囲の電子ビーム又はレーザビームによ
り熱を加えると、磁気変化層が容易に形成できる。
分当り0.1ｍ〜15.0ｍ、単位長当りの照射エネルギーが2
0kJ／ｍ〜300kJ／ｍ、ビームの焦点位置が基材表面から
0〜±100mm の範囲の電子ビーム又はレーザビームによ
り熱を加えると、磁気変化層が容易に形成できる。
【００２０】また、基材及び加熱溶融部分の少なくとも
いずれか一方を着磁すると、励起用の磁石がなくても変
位量が検出でき、検出装置の構成が簡単になる。
いずれか一方を着磁すると、励起用の磁石がなくても変
位量が検出でき、検出装置の構成が簡単になる。
【図１】 この発明の実施の形態１による耐熱性磁気ス
ケールの製造方法を示す斜視図である。
ケールの製造方法を示す斜視図である。
【図２】 この発明の実施の形態１に係わる耐熱性磁気
スケールを着磁している様子を示す側面構成図である。
スケールを着磁している様子を示す側面構成図である。
【図３】 この発明の実施の形態１に係わる耐熱性磁気
スケールを用いて変位量を検出する様子を示す斜視図で
ある。
スケールを用いて変位量を検出する様子を示す斜視図で
ある。
【図４】 検出された磁化量と変位量との関係を示す関
係図である。
係図である。
【図５】 この発明の実施の形態１に係わる他の変位量
を検出する様子を示す斜視図である。
を検出する様子を示す斜視図である。
【図６】 従来の磁気スケールを示す断面図である。
１ 耐熱性基材、２ 加熱部分、３ 電子ビーム、４
電磁石、５ホール素子、１０ 耐熱性磁気スケール。
電磁石、５ホール素子、１０ 耐熱性磁気スケール。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池田 英男 兵庫県尼崎市塚口本町八丁目１番１号 三 菱電機株式会社材料研究所内 (72)発明者 大村 俊次 兵庫県尼崎市塚口本町八丁目１番１号 三 菱電機株式会社材料研究所内 (72)発明者 大峯 恩 兵庫県尼崎市塚口本町八丁目１番１号 三 菱電機株式会社生産技術研究所内 (72)発明者 森安 雅治 兵庫県尼崎市塚口本町八丁目１番１号 三 菱電機株式会社生産技術研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 強磁性体であり、焼き入れ硬化が可能な
合金からなる耐熱性基材に、所定間隔に熱を加えて加熱
溶融部分の磁気特性を変化させ、上記基材より大きな残
留磁化を発生させるようにした、上記基材及び上記加熱
溶融部分の少なくともいずれか一方のキュリー点が１０
０℃以上である耐熱性磁気スケールの製造方法。 - 【請求項２】 耐熱性基材はＳ３５Ｃ、フェライト系ス
テンレス、またはマルテサント系ステンレスのいずれか
である請求項１記載の耐熱性磁気スケールの製造方法。 - 【請求項３】 出力が0.1KW〜15KW、掃引速度が１分当
り0.1ｍ〜15.0ｍ、単位長当りの照射エネルギーが20kJ
／ｍ〜300kJ／ｍ、ビームの焦点位置が基材表面から0〜
±100mm の範囲の電子ビーム又はレーザビームにより熱
を加えた請求項１または２記載の耐熱性磁気スケールの
製造方法。 - 【請求項４】 基材及び加熱溶融部分の少なくともいず
れか一方を着磁した請求項１ないし３のいずれかに記載
の耐熱性磁気スケールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8105180A JP2886131B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8105180A JP2886131B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62217316A Division JP2824059B2 (ja) | 1987-08-31 | 1987-08-31 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095113A true JPH095113A (ja) | 1997-01-10 |
| JP2886131B2 JP2886131B2 (ja) | 1999-04-26 |
Family
ID=14400487
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8105180A Expired - Lifetime JP2886131B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | 耐熱性磁気スケールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2886131B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5716309A (en) * | 1980-07-04 | 1982-01-27 | Toshiba Mach Co Ltd | Displacement detector |
| JPS60250211A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-10 | Inoue Japax Res Inc | 磁気スケ−ルの製造方法 |
| JPS6283620A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 磁気目盛 |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP8105180A patent/JP2886131B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5716309A (en) * | 1980-07-04 | 1982-01-27 | Toshiba Mach Co Ltd | Displacement detector |
| JPS60250211A (ja) * | 1984-05-28 | 1985-12-10 | Inoue Japax Res Inc | 磁気スケ−ルの製造方法 |
| JPS6283620A (ja) * | 1985-10-09 | 1987-04-17 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 磁気目盛 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2886131B2 (ja) | 1999-04-26 |
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