JPH0954050A - Ｘ線小角散乱装置 - Google Patents
Ｘ線小角散乱装置Info
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- JPH0954050A JPH0954050A JP22854295A JP22854295A JPH0954050A JP H0954050 A JPH0954050 A JP H0954050A JP 22854295 A JP22854295 A JP 22854295A JP 22854295 A JP22854295 A JP 22854295A JP H0954050 A JPH0954050 A JP H0954050A
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- rays
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ダイレクトビームを直接に測定でき、しかも
非常に弱い散乱Ｘ線から非常に強い散乱Ｘ線まで広い強
度範囲の散乱Ｘ線を検出することができるＸ線小角散乱
装置を提供する。 【解決手段】 入射Ｘ線Ｒの光軸を中心とする小角度領
域における散乱Ｘ線の強度の変化を測定するＸ線小角散
乱装置である。この装置は、Ｘ線Ｒの進行方向に関して
試料Ｓの後方位置に配置されていてＸ線を線状又は面状
に検知するＸ線検出器１と、試料ＳとＸ線検出器１との
間であってそのＸ線検出器１の直前位置のダイレクトビ
ームの進行路上に配置されたＸ線吸収板２ａとを有す
る。Ｘ線吸収板２ａはビームストッパと異なってダイレ
クトビーム及び高強度の散乱Ｘ線を強度を減衰させた状
態でＸ線検出器１へ導く。
非常に弱い散乱Ｘ線から非常に強い散乱Ｘ線まで広い強
度範囲の散乱Ｘ線を検出することができるＸ線小角散乱
装置を提供する。 【解決手段】 入射Ｘ線Ｒの光軸を中心とする小角度領
域における散乱Ｘ線の強度の変化を測定するＸ線小角散
乱装置である。この装置は、Ｘ線Ｒの進行方向に関して
試料Ｓの後方位置に配置されていてＸ線を線状又は面状
に検知するＸ線検出器１と、試料ＳとＸ線検出器１との
間であってそのＸ線検出器１の直前位置のダイレクトビ
ームの進行路上に配置されたＸ線吸収板２ａとを有す
る。Ｘ線吸収板２ａはビームストッパと異なってダイレ
クトビーム及び高強度の散乱Ｘ線を強度を減衰させた状
態でＸ線検出器１へ導く。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、入射Ｘ線の光軸を
中心とする小角度領域における散乱Ｘ線の強度の変化を
測定するＸ線小角散乱装置に関する。
中心とする小角度領域における散乱Ｘ線の強度の変化を
測定するＸ線小角散乱装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】物質によっては、それにＸ線を照射した
ときに入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域、例えば
０゜〜５゜程度の角度領域において散乱Ｘ線が発生する
ことがある。例えば、物質中に１０〜１０００Å程度の
微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の不均一な領
域が存在すると、入射線方向に散漫な散乱、いわゆる中
心散乱が生じる。この中心散乱は粒子の内部構造には無
関係で粒子が小さいほど広がる。この散乱は、結晶質あ
るいは非晶質に関わらず存在し、散乱角すなわち入射Ｘ
線の光軸からの角度が０゜〜５゜程度の小角度領域で観
測される。また、小角度領域には上記の中心散乱の他
に、蛋白質の結晶のように格子面間隔が非常に大きい場
合のブラッグ反射や、繊維試料で結晶質と非晶質とが周
期的に並んだ、いわゆる長周期構造の場合のＸ線回折な
どが観測される。以上のような中心散乱、ブラッグ反射
及びＸ線回折を含めて、小角度領域において観測される
Ｘ線は一般に小角散乱と呼ばれている。
ときに入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域、例えば
０゜〜５゜程度の角度領域において散乱Ｘ線が発生する
ことがある。例えば、物質中に１０〜１０００Å程度の
微細な粒子やこれに相当する大きさの密度の不均一な領
域が存在すると、入射線方向に散漫な散乱、いわゆる中
心散乱が生じる。この中心散乱は粒子の内部構造には無
関係で粒子が小さいほど広がる。この散乱は、結晶質あ
るいは非晶質に関わらず存在し、散乱角すなわち入射Ｘ
線の光軸からの角度が０゜〜５゜程度の小角度領域で観
測される。また、小角度領域には上記の中心散乱の他
に、蛋白質の結晶のように格子面間隔が非常に大きい場
合のブラッグ反射や、繊維試料で結晶質と非晶質とが周
期的に並んだ、いわゆる長周期構造の場合のＸ線回折な
どが観測される。以上のような中心散乱、ブラッグ反射
及びＸ線回折を含めて、小角度領域において観測される
Ｘ線は一般に小角散乱と呼ばれている。
【０００３】本発明のＸ線小角散乱装置は、そのような
小角散乱を測定するための装置である。このＸ線小角散
乱装置は、試料から発生する弱い散乱Ｘ線を測定するこ
とから、分解能やＳ／Ｎ比を低下させる寄生散乱をでき
るだけ除くことが必要である。ここで分解能には、散乱
Ｘ線の測定がどれほど小角まで可能かを示す小角分解能
と、隣接した回折線を分離して測定するのに必要となる
角度分解能とが考えられるが、小角散乱測定ではいずれ
の分解能も高く維持される必要がある。また、寄生散乱
というのは、Ｘ線測定系から試料を取り除いたときに観
測されるＸ線のことであり、散乱Ｘ線に曝される光学要
素からの散漫散乱や白色Ｘ線で励起される蛍光Ｘ線など
がその主な発生原因と考えられる。
小角散乱を測定するための装置である。このＸ線小角散
乱装置は、試料から発生する弱い散乱Ｘ線を測定するこ
とから、分解能やＳ／Ｎ比を低下させる寄生散乱をでき
るだけ除くことが必要である。ここで分解能には、散乱
Ｘ線の測定がどれほど小角まで可能かを示す小角分解能
と、隣接した回折線を分離して測定するのに必要となる
角度分解能とが考えられるが、小角散乱測定ではいずれ
の分解能も高く維持される必要がある。また、寄生散乱
というのは、Ｘ線測定系から試料を取り除いたときに観
測されるＸ線のことであり、散乱Ｘ線に曝される光学要
素からの散漫散乱や白色Ｘ線で励起される蛍光Ｘ線など
がその主な発生原因と考えられる。
【０００４】上記のような測定を高精度に実現するため
に、従来より、種々の形式のＸ線小角散乱装置が知られ
ている。例えば、試料を中心として旋回移動、いわゆる
２θ走査移動するＸ線カウンタによって散乱Ｘ線を検出
するカウンタ法や、Ｘ線フィルムなどを試料の後方位置
に固定配置させておいて、散乱Ｘ線をそのＸ線フィルム
上にＸ線像として表示するカメラ法などが知られてい
る。カメラ法を用いた小角散乱測定では、図９に示すよ
うに、ほぼ平行に絞られたＸ線ビームＲを試料Ｓに照射
し、そのＸ線照射に応じて試料Ｓから発生する散乱Ｘ線
によって、例えばＸ線フィルム５１を露光する。散乱Ｘ
線に対応するＸ線像Ａは、Ｘ線フィルム５１上の小角度
領域０゜〜±αの範囲内に現れ、このＸ線像Ａを観察す
ることにより、試料Ｓに関する性質が判定できる。
に、従来より、種々の形式のＸ線小角散乱装置が知られ
ている。例えば、試料を中心として旋回移動、いわゆる
２θ走査移動するＸ線カウンタによって散乱Ｘ線を検出
するカウンタ法や、Ｘ線フィルムなどを試料の後方位置
に固定配置させておいて、散乱Ｘ線をそのＸ線フィルム
上にＸ線像として表示するカメラ法などが知られてい
る。カメラ法を用いた小角散乱測定では、図９に示すよ
うに、ほぼ平行に絞られたＸ線ビームＲを試料Ｓに照射
し、そのＸ線照射に応じて試料Ｓから発生する散乱Ｘ線
によって、例えばＸ線フィルム５１を露光する。散乱Ｘ
線に対応するＸ線像Ａは、Ｘ線フィルム５１上の小角度
領域０゜〜±αの範囲内に現れ、このＸ線像Ａを観察す
ることにより、試料Ｓに関する性質が判定できる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、Ｘ線ビーム
Ｒの中心軸、すなわち光軸上であってＸ線フィルム５１
の前方位置には、Ｘ線フィルム５１にダイレクトビーム
及び強度の強いＸ線が当たってＸ線フィルム５１が損傷
することを防止するためにビームストッパ５２を設ける
のが一般的である。このビームストッパ５２は、鉛など
を含んでいて、ほとんど全てのＸ線の通過を遮断する。
しかしながら、このようにビームストッパを設けると、
Ｘ線フィルム５１のうちそのビームストッパに対応する
極小角度領域βの所でＸ線像が除去されてしまう。カメ
ラ法を用いた小角散乱測定では、ダイレクトビームの入
射位置をＸ線検出器の基準角度位置、すなわち０゜位置
に設定するのが一般的であるが、ビームストッパによっ
てそのダイレクトビームに対応するＸ線像が消去されて
しまうと、その基準角度位置が正確に決められないこと
になるので、散乱角度の位置検出精度が低下するという
問題が生じていた。
Ｒの中心軸、すなわち光軸上であってＸ線フィルム５１
の前方位置には、Ｘ線フィルム５１にダイレクトビーム
及び強度の強いＸ線が当たってＸ線フィルム５１が損傷
することを防止するためにビームストッパ５２を設ける
のが一般的である。このビームストッパ５２は、鉛など
を含んでいて、ほとんど全てのＸ線の通過を遮断する。
しかしながら、このようにビームストッパを設けると、
Ｘ線フィルム５１のうちそのビームストッパに対応する
極小角度領域βの所でＸ線像が除去されてしまう。カメ
ラ法を用いた小角散乱測定では、ダイレクトビームの入
射位置をＸ線検出器の基準角度位置、すなわち０゜位置
に設定するのが一般的であるが、ビームストッパによっ
てそのダイレクトビームに対応するＸ線像が消去されて
しまうと、その基準角度位置が正確に決められないこと
になるので、散乱角度の位置検出精度が低下するという
問題が生じていた。
【０００６】また他方、試料Ｓから発生する散乱Ｘ線に
は非常に強度の強いものから非常に強度の弱いものまで
含まれる。小角散乱の測定では、それらの強い散乱から
弱い散乱まで幅広い散乱強度をもれなく検出することが
望ましい。強度の弱い散乱線を確実に検出するために
は、測定時間を長くとってＸ線検出器に対するＸ線露出
時間を長くする必要がある。しかしながら、測定時間を
あまり長くとり過ぎると、強度の強い散乱Ｘ線の所でＸ
線検出器が過剰に露光されてしまう。ビームストッパ５
２は、そのような過剰なＸ線強度を除去することも１つ
の目的としている。しかしながら、そのような強度の強
いＸ線にも重要な散乱Ｘ線情報が含まれていることがあ
り、そのような重要な情報を除去してしまうというのは
測定の信頼性を低下させることになる。もちろん、ビー
ムストッパ５２の面積を調節して強度の強い散乱Ｘ線情
報をＸ線検出器５１まで導くこともできるが、その場合
には、その強度の強い散乱Ｘ線の強度がＸ線検出器５１
の許容強度を越えないようにするために、測定時間をあ
まり長く設定できない。すると、強度の弱い散乱Ｘ線に
よってＸ線検出器を十分に露光することができなくな
り、その部分の正確な散乱Ｘ線情報を得ることができな
くなる。つまり、ビームストッパを用いた従来のＸ線小
角散乱測定では、強度の弱い散乱Ｘ線から強度の強い散
乱Ｘ線まで広い強度範囲の散乱Ｘ線情報をまんべんなく
得ることができなかった。
は非常に強度の強いものから非常に強度の弱いものまで
含まれる。小角散乱の測定では、それらの強い散乱から
弱い散乱まで幅広い散乱強度をもれなく検出することが
望ましい。強度の弱い散乱線を確実に検出するために
は、測定時間を長くとってＸ線検出器に対するＸ線露出
時間を長くする必要がある。しかしながら、測定時間を
あまり長くとり過ぎると、強度の強い散乱Ｘ線の所でＸ
線検出器が過剰に露光されてしまう。ビームストッパ５
２は、そのような過剰なＸ線強度を除去することも１つ
の目的としている。しかしながら、そのような強度の強
いＸ線にも重要な散乱Ｘ線情報が含まれていることがあ
り、そのような重要な情報を除去してしまうというのは
測定の信頼性を低下させることになる。もちろん、ビー
ムストッパ５２の面積を調節して強度の強い散乱Ｘ線情
報をＸ線検出器５１まで導くこともできるが、その場合
には、その強度の強い散乱Ｘ線の強度がＸ線検出器５１
の許容強度を越えないようにするために、測定時間をあ
まり長く設定できない。すると、強度の弱い散乱Ｘ線に
よってＸ線検出器を十分に露光することができなくな
り、その部分の正確な散乱Ｘ線情報を得ることができな
くなる。つまり、ビームストッパを用いた従来のＸ線小
角散乱測定では、強度の弱い散乱Ｘ線から強度の強い散
乱Ｘ線まで広い強度範囲の散乱Ｘ線情報をまんべんなく
得ることができなかった。
【０００７】本発明は、上記の問題点を解消するために
なされたものであって、ダイレクトビームを直接に測定
でき、しかも非常に弱い散乱Ｘ線から非常に強い散乱Ｘ
線まで広い強度範囲の散乱Ｘ線を検出することができる
Ｘ線小角散乱装置を提供することを目的とする。
なされたものであって、ダイレクトビームを直接に測定
でき、しかも非常に弱い散乱Ｘ線から非常に強い散乱Ｘ
線まで広い強度範囲の散乱Ｘ線を検出することができる
Ｘ線小角散乱装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線小角散乱装置は、例えば図１に示
すように、Ｘ線Ｒの進行方向に関して試料Ｓの後方位置
に配置されていてＸ線を線状又は面状に検知するＸ線検
出器１と、試料ＳとＸ線検出器１との間であってそのＸ
線検出器１の直前位置のダイレクトビームの進行路上に
配置されたＸ線吸収板２ａとを有することを特徴とす
る。
め、本発明に係るＸ線小角散乱装置は、例えば図１に示
すように、Ｘ線Ｒの進行方向に関して試料Ｓの後方位置
に配置されていてＸ線を線状又は面状に検知するＸ線検
出器１と、試料ＳとＸ線検出器１との間であってそのＸ
線検出器１の直前位置のダイレクトビームの進行路上に
配置されたＸ線吸収板２ａとを有することを特徴とす
る。
【０００９】Ｘ線吸収板というのは、Ｘ線を適宜の強度
分だけ減衰して通過させることのできる材料のことであ
り、例えばアルミニウムによって形成できる。このＸ線
吸収板により、例えば、１０10ｃｐｓ程度の強度のＸ線
を１０5〜１０4ｃｐｓ程度の強度のＸ線に減衰する。こ
のＸ線減衰量は、Ｘ線吸収板の材質又はＸ線通過方向の
厚さを適宜に設定することにより自由に決められる。
分だけ減衰して通過させることのできる材料のことであ
り、例えばアルミニウムによって形成できる。このＸ線
吸収板により、例えば、１０10ｃｐｓ程度の強度のＸ線
を１０5〜１０4ｃｐｓ程度の強度のＸ線に減衰する。こ
のＸ線減衰量は、Ｘ線吸収板の材質又はＸ線通過方向の
厚さを適宜に設定することにより自由に決められる。
【００１０】また、Ｘ線吸収板をＸ線検出器の「直前位
置」に配置するというのは、Ｘ線吸収板をできる限りＸ
線検出器の近くに配置するという意味であり、具体的に
は１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下とする。最
も望ましくは、Ｘ線吸収板をＸ線検出器のＸ線検出面に
接触させる。
置」に配置するというのは、Ｘ線吸収板をできる限りＸ
線検出器の近くに配置するという意味であり、具体的に
は１００μｍ以下、好ましくは５０μｍ以下とする。最
も望ましくは、Ｘ線吸収板をＸ線検出器のＸ線検出面に
接触させる。
【００１１】Ｘ線吸収板２ａは、ダイレクトビーム及び
強度の強いＸ線を適宜に減衰させた状態でＸ線検出器１
まで導くので、Ｘ線検出器１にはダイレクトビーム及び
高強度のＸ線に相当する極小角度領域β内に関してもＸ
線像Ａ１が得られる。こうして、極小角度領域β内にダ
イレクトビームに対応するＸ線像が直接得られるので、
Ｘ線検出器上の散乱角度に関する基準角度位置、すなわ
ち０゜位置を容易かつ正確に決定できる。また、Ｘ線吸
収板２ａによって高強度のＸ線の強度を減衰させてＸ線
検出器１へ導くようにしたので、測定時間を長くとって
もＸ線検出器１が損傷しない。測定時間を長くとれると
いうことは、強度の弱い散乱Ｘ線をＸ線検出器１に十分
に露光できるということであり、この結果、弱い散乱Ｘ
線から強い散乱Ｘ線までにわたる広い強度範囲で散乱Ｘ
線を検出できる。つまり、検出できる最小値と最大値の
範囲、すなわちダイナミックレンジを広くすることがで
きる。このとき、強い散乱Ｘ線はＸ線吸収板２ａの働き
によってその強度レベルが小さくなるが、Ｘ線情報とし
ては十分に活用できる。
強度の強いＸ線を適宜に減衰させた状態でＸ線検出器１
まで導くので、Ｘ線検出器１にはダイレクトビーム及び
高強度のＸ線に相当する極小角度領域β内に関してもＸ
線像Ａ１が得られる。こうして、極小角度領域β内にダ
イレクトビームに対応するＸ線像が直接得られるので、
Ｘ線検出器上の散乱角度に関する基準角度位置、すなわ
ち０゜位置を容易かつ正確に決定できる。また、Ｘ線吸
収板２ａによって高強度のＸ線の強度を減衰させてＸ線
検出器１へ導くようにしたので、測定時間を長くとって
もＸ線検出器１が損傷しない。測定時間を長くとれると
いうことは、強度の弱い散乱Ｘ線をＸ線検出器１に十分
に露光できるということであり、この結果、弱い散乱Ｘ
線から強い散乱Ｘ線までにわたる広い強度範囲で散乱Ｘ
線を検出できる。つまり、検出できる最小値と最大値の
範囲、すなわちダイナミックレンジを広くすることがで
きる。このとき、強い散乱Ｘ線はＸ線吸収板２ａの働き
によってその強度レベルが小さくなるが、Ｘ線情報とし
ては十分に活用できる。
【００１２】なお、図１ではＸ線検出器１としてＸ線フ
ィルムや蓄積性蛍光体などといった二次元Ｘ線検出器を
想定しているので、Ｘ線進行方向の厚さが薄く図示され
ている。しかしながらこの二次元Ｘ線検出器に代えて、
ＰＳＰＣなどのような一次元Ｘ線検出器を用いる場合に
は、その厚さがさらに厚くなる。
ィルムや蓄積性蛍光体などといった二次元Ｘ線検出器を
想定しているので、Ｘ線進行方向の厚さが薄く図示され
ている。しかしながらこの二次元Ｘ線検出器に代えて、
ＰＳＰＣなどのような一次元Ｘ線検出器を用いる場合に
は、その厚さがさらに厚くなる。
【００１３】Ｘ線を線状に検知するＸ線検出器は、いわ
ゆる一次元Ｘ線検出器と呼ばれるものであり、例えばＰ
ＳＰＣ（ Position Sensitive Proportional Counter：
位置感応型Ｘ線検出器）を用いることができる。このＰ
ＳＰＣそれ自体は周知であるので詳しい説明は省略する
が、その一例を簡単に説明すれば、例えば図１０に示す
ように、内部にアノード線３１、カソード線３２及び遅
延線３３を有している。Ｘ線取込み窓３４を通してＰＳ
ＰＣ３５の内部にＸ線が入ると、カソード線３２に電荷
が誘導され、その電荷に応じた電気パルス信号が遅延線
３３の両端に現れる。そのパルス信号を測定することに
よりＸ線が検出される。また、遅延線３３の両端に現れ
るパルス信号は、長さ方向ｘの距離に比例した時間差を
有している。従って、遅延線３３の両端に生じるパルス
信号の時間差を測定することにより、長さ方向ｘにおけ
るＸ線入射位置を知ることができる。つまり、ＰＳＰＣ
３５は、アノード線３１などが張設された範囲内におい
て、長さ方向ｘすなわち散乱角度方向２θの各位置にお
いてＰＳＰＣ３５に入射した各Ｘ線の強度及び角度位置
をほぼ同時に検出する。
ゆる一次元Ｘ線検出器と呼ばれるものであり、例えばＰ
ＳＰＣ（ Position Sensitive Proportional Counter：
位置感応型Ｘ線検出器）を用いることができる。このＰ
ＳＰＣそれ自体は周知であるので詳しい説明は省略する
が、その一例を簡単に説明すれば、例えば図１０に示す
ように、内部にアノード線３１、カソード線３２及び遅
延線３３を有している。Ｘ線取込み窓３４を通してＰＳ
ＰＣ３５の内部にＸ線が入ると、カソード線３２に電荷
が誘導され、その電荷に応じた電気パルス信号が遅延線
３３の両端に現れる。そのパルス信号を測定することに
よりＸ線が検出される。また、遅延線３３の両端に現れ
るパルス信号は、長さ方向ｘの距離に比例した時間差を
有している。従って、遅延線３３の両端に生じるパルス
信号の時間差を測定することにより、長さ方向ｘにおけ
るＸ線入射位置を知ることができる。つまり、ＰＳＰＣ
３５は、アノード線３１などが張設された範囲内におい
て、長さ方向ｘすなわち散乱角度方向２θの各位置にお
いてＰＳＰＣ３５に入射した各Ｘ線の強度及び角度位置
をほぼ同時に検出する。
【００１４】Ｘ線を面状に検知するＸ線検出器は、いわ
ゆる二次元Ｘ線検出器と呼ばれるものであり、Ｘ線に感
光してその部分に潜像を形成し現像処理によってそれを
顕像とすることができるＸ線フィルムや、いわゆる蓄積
性蛍光体と呼ばれるＸ線感応体などを用いることができ
る。蓄積性蛍光体というのは、輝尽性蛍光体とも呼ばれ
るＸ線感応体のことであり、Ｘ線などをエネルギの形で
蓄積でき、さらにレーザ光などといった輝尽励起光の照
射によりそのエネルギを外部に光として放出できる性質
を有する物体である。つまり、蓄積性蛍光体にＸ線など
の放射線を照射すると、その照射された部分に対応する
蓄積性蛍光体内にエネルギが潜像として蓄積され、さら
にその蓄積性蛍光体にレーザ光などの輝尽励起光を照射
するとその潜像エネルギが光となって外部へ放出され
る。
ゆる二次元Ｘ線検出器と呼ばれるものであり、Ｘ線に感
光してその部分に潜像を形成し現像処理によってそれを
顕像とすることができるＸ線フィルムや、いわゆる蓄積
性蛍光体と呼ばれるＸ線感応体などを用いることができ
る。蓄積性蛍光体というのは、輝尽性蛍光体とも呼ばれ
るＸ線感応体のことであり、Ｘ線などをエネルギの形で
蓄積でき、さらにレーザ光などといった輝尽励起光の照
射によりそのエネルギを外部に光として放出できる性質
を有する物体である。つまり、蓄積性蛍光体にＸ線など
の放射線を照射すると、その照射された部分に対応する
蓄積性蛍光体内にエネルギが潜像として蓄積され、さら
にその蓄積性蛍光体にレーザ光などの輝尽励起光を照射
するとその潜像エネルギが光となって外部へ放出され
る。
【００１５】Ｘ線吸収板は、図１に符号２ａで示したよ
うに、一様な厚さの単板とすることもできるし、あるい
は図２に符号２ｂに示すように、面積がＸ線検出器１に
向かって段階的に大きくなるようなＸ線吸収板を用いる
こともできる。このようなＸ線吸収板を用いれば、ダイ
レクトビームに対応する極小角度領域β内のうちの中央
部分のＸ線吸収板の厚さを厚くすることによってダイレ
クトビームを確実に阻止できると共に、さらに、極小角
度領域β内のうちの広角度側γに相当するＸ線吸収板２
ｂの厚さを中心部分に比べて薄くすることにより、特に
その広角度側γ内の散乱Ｘ線情報を精度高く再現でき
る。図１に示すような単板のＸ線吸収板では、広角度側
γの部分の散乱Ｘ線情報も一様に大きく減衰されてしま
うが、図２のようにＸ線吸収板の厚さを段階的に増減さ
せれば、そのような散乱Ｘ線情報の欠落を回避できる。
うに、一様な厚さの単板とすることもできるし、あるい
は図２に符号２ｂに示すように、面積がＸ線検出器１に
向かって段階的に大きくなるようなＸ線吸収板を用いる
こともできる。このようなＸ線吸収板を用いれば、ダイ
レクトビームに対応する極小角度領域β内のうちの中央
部分のＸ線吸収板の厚さを厚くすることによってダイレ
クトビームを確実に阻止できると共に、さらに、極小角
度領域β内のうちの広角度側γに相当するＸ線吸収板２
ｂの厚さを中心部分に比べて薄くすることにより、特に
その広角度側γ内の散乱Ｘ線情報を精度高く再現でき
る。図１に示すような単板のＸ線吸収板では、広角度側
γの部分の散乱Ｘ線情報も一様に大きく減衰されてしま
うが、図２のようにＸ線吸収板の厚さを段階的に増減さ
せれば、そのような散乱Ｘ線情報の欠落を回避できる。
【００１６】本発明に従ってＸ線検出器の前方位置にＸ
線吸収板を設けると、そのＸ線吸収板にＸ線が当たると
きにそのＸ線吸収板から蛍光Ｘ線が発生することがあ
る。この蛍光Ｘ線がＸ線検出器に取り込まれると、本来
得るべき散乱Ｘ線像に対するノイズ成分となるので測定
結果のＳ／Ｎ比が悪くなって好ましくない。そこで、図
１及び図２に示すように、Ｘ線検出器１のＸ線検出面に
フィルタ３を設けることにより、Ｘ線吸収板２ａ，２ｂ
から発生する蛍光Ｘ線をＸ線検出器１に到達する前に吸
収してしまうことが望ましい。Ｘ線検出器１として、図
３に示すように、正方形状又は長方形状の二次元Ｘ線検
出器１１、例えば蓄積性蛍光体又はＸ線フィルムを用い
る場合は、その二次元Ｘ線検出器１１の全面をフィルタ
３によって覆う。このフィルタは、例えばポリエチレン
などの高分子膜や黒紙などによって形成できる。
線吸収板を設けると、そのＸ線吸収板にＸ線が当たると
きにそのＸ線吸収板から蛍光Ｘ線が発生することがあ
る。この蛍光Ｘ線がＸ線検出器に取り込まれると、本来
得るべき散乱Ｘ線像に対するノイズ成分となるので測定
結果のＳ／Ｎ比が悪くなって好ましくない。そこで、図
１及び図２に示すように、Ｘ線検出器１のＸ線検出面に
フィルタ３を設けることにより、Ｘ線吸収板２ａ，２ｂ
から発生する蛍光Ｘ線をＸ線検出器１に到達する前に吸
収してしまうことが望ましい。Ｘ線検出器１として、図
３に示すように、正方形状又は長方形状の二次元Ｘ線検
出器１１、例えば蓄積性蛍光体又はＸ線フィルムを用い
る場合は、その二次元Ｘ線検出器１１の全面をフィルタ
３によって覆う。このフィルタは、例えばポリエチレン
などの高分子膜や黒紙などによって形成できる。
【００１７】なお、入射Ｘ線をピンホールを通して断面
がほぼ円形のＸ線ビームに成形する場合は、Ｘ線吸収板
は図４に符号２ｂで示すように、円形に形成する。一
方、入射Ｘ線ビームをラインスリットを通して断面が長
方形状のＸ線ビームに成形する場合は、Ｘ線吸収板も長
方形状に形成する。
がほぼ円形のＸ線ビームに成形する場合は、Ｘ線吸収板
は図４に符号２ｂで示すように、円形に形成する。一
方、入射Ｘ線ビームをラインスリットを通して断面が長
方形状のＸ線ビームに成形する場合は、Ｘ線吸収板も長
方形状に形成する。
【００１８】
（第１の実施形態）図５は、本発明をラインスリット平
行束光学系を用いたＸ線小角散乱装置に適用した場合の
一実施形態を示している。ここに示したＸ線小角散乱装
置は、複数のラインスリットを用いて入射Ｘ線を平行ビ
ームに成形する形式のＸ線小角散乱装置である。このＸ
線小角散乱装置は、Ｘ線を発生するＸ線焦点Ｆと、スリ
ット光学系４と、測定対象である試料Ｓと、Ｘ線検出器
としての蓄積性蛍光体２１と、蓄積性蛍光体２１のＸ線
検出面を覆うフィルタ３と、そしてダイレクトビームＲ
D の進行路上に配置されたＸ線吸収板２とを有してい
る。スリット光学系４は、第１ラインスリット４ａ、第
２ラインスリット４ｂ及び第３ラインスリット４ｃとを
有している。ラインスリットというのは、幅が細くて長
さの長い長方形状のＸ線通過用開口を有するスリットの
ことである。Ｘ線吸収板２は、図１に符号２ａで示すよ
うな単板状であっても良いし、図２に符号２ｂで示すよ
うな面積が段階的に大きくなるような形状であっても良
い。
行束光学系を用いたＸ線小角散乱装置に適用した場合の
一実施形態を示している。ここに示したＸ線小角散乱装
置は、複数のラインスリットを用いて入射Ｘ線を平行ビ
ームに成形する形式のＸ線小角散乱装置である。このＸ
線小角散乱装置は、Ｘ線を発生するＸ線焦点Ｆと、スリ
ット光学系４と、測定対象である試料Ｓと、Ｘ線検出器
としての蓄積性蛍光体２１と、蓄積性蛍光体２１のＸ線
検出面を覆うフィルタ３と、そしてダイレクトビームＲ
D の進行路上に配置されたＸ線吸収板２とを有してい
る。スリット光学系４は、第１ラインスリット４ａ、第
２ラインスリット４ｂ及び第３ラインスリット４ｃとを
有している。ラインスリットというのは、幅が細くて長
さの長い長方形状のＸ線通過用開口を有するスリットの
ことである。Ｘ線吸収板２は、図１に符号２ａで示すよ
うな単板状であっても良いし、図２に符号２ｂで示すよ
うな面積が段階的に大きくなるような形状であっても良
い。
【００１９】このＸ線小角散乱装置では、Ｘ線焦点Ｆか
ら放射されるＸ線の発散を第１ラインスリット４ａ及び
第２ラインスリット４ｂによって規制してほぼ平行なＸ
線ビームを形成し、さらに第３ラインスリットによって
各ラインスリットからの散乱Ｘ線を除去している。得ら
れた平行Ｘ線ビームはダイレクトビームとなって試料Ｓ
を通過した後にＸ線吸収板２によってその一部が吸収さ
れ、吸収されない残りの部分がそのＸ線吸収板２を透過
して蓄積性蛍光体２１を露光する。また、Ｘ線の入射に
応じて試料Ｓから発生した散乱Ｘ線は蓄積性蛍光体２１
に到達してそれを露光する。散乱Ｘ線によって露光され
た蓄積性蛍光体２１には、露光された部分に潜像エネル
ギーが蓄積される。所定の測定時間が経過した後、蓄積
性蛍光体２１を所定の読み取り場所へ持ち運んでレーザ
光などの輝尽励起光を使用した周知の読み取り処理を行
うことにより、どの散乱角度位置にどの程度の強度の散
乱Ｘ線が発生したかが読み取られ、そしてその読み取り
結果に基づいて試料Ｓの性質が特定される。
ら放射されるＸ線の発散を第１ラインスリット４ａ及び
第２ラインスリット４ｂによって規制してほぼ平行なＸ
線ビームを形成し、さらに第３ラインスリットによって
各ラインスリットからの散乱Ｘ線を除去している。得ら
れた平行Ｘ線ビームはダイレクトビームとなって試料Ｓ
を通過した後にＸ線吸収板２によってその一部が吸収さ
れ、吸収されない残りの部分がそのＸ線吸収板２を透過
して蓄積性蛍光体２１を露光する。また、Ｘ線の入射に
応じて試料Ｓから発生した散乱Ｘ線は蓄積性蛍光体２１
に到達してそれを露光する。散乱Ｘ線によって露光され
た蓄積性蛍光体２１には、露光された部分に潜像エネル
ギーが蓄積される。所定の測定時間が経過した後、蓄積
性蛍光体２１を所定の読み取り場所へ持ち運んでレーザ
光などの輝尽励起光を使用した周知の読み取り処理を行
うことにより、どの散乱角度位置にどの程度の強度の散
乱Ｘ線が発生したかが読み取られ、そしてその読み取り
結果に基づいて試料Ｓの性質が特定される。
【００２０】ダイレクトビームＲD の進行路上にＸ線吸
収板２を配置したことにより、蓄積性蛍光体２１の中心
位置にダイレクトビームに対応するＸ線像を直接に形成
できること及びダイレクトビームの近傍の高強度の散乱
Ｘ線の強度を適宜に減衰させることにより測定時間を長
くしても蓄積性蛍光体２１の損傷を防止できることは、
図１及び図２に関連して既に説明した通りである。ダイ
レクトビームに対応するＸ線像を直接に形成できるとい
うことは、Ｘ線検出器２１の基準角度位置、すなわち０
゜位置を容易且つ正確に特定できるということである。
また、測定時間を長く設定できるということは、強度の
弱い散乱Ｘ線をＸ線検出器２１に十分に露光できるとい
うことであり、その結果、ダイナミックレンジの広い測
定を行うことができるということである。
収板２を配置したことにより、蓄積性蛍光体２１の中心
位置にダイレクトビームに対応するＸ線像を直接に形成
できること及びダイレクトビームの近傍の高強度の散乱
Ｘ線の強度を適宜に減衰させることにより測定時間を長
くしても蓄積性蛍光体２１の損傷を防止できることは、
図１及び図２に関連して既に説明した通りである。ダイ
レクトビームに対応するＸ線像を直接に形成できるとい
うことは、Ｘ線検出器２１の基準角度位置、すなわち０
゜位置を容易且つ正確に特定できるということである。
また、測定時間を長く設定できるということは、強度の
弱い散乱Ｘ線をＸ線検出器２１に十分に露光できるとい
うことであり、その結果、ダイナミックレンジの広い測
定を行うことができるということである。
【００２１】なお、試料Ｓと蓄積性蛍光体２１との間の
距離を長くすれば、分解能を向上させることができる。
また、試料Ｓと蓄積性蛍光体２１との間の距離を長くす
ればＸ線の空気散乱が増加してバックグラウンドが上昇
し、そのため、測定結果についてのＳ／Ｎ比が悪くなる
おそれがある。これを解消するためには、試料Ｓと蓄積
性蛍光体２１との間を真空パスで覆うことが望ましい。
距離を長くすれば、分解能を向上させることができる。
また、試料Ｓと蓄積性蛍光体２１との間の距離を長くす
ればＸ線の空気散乱が増加してバックグラウンドが上昇
し、そのため、測定結果についてのＳ／Ｎ比が悪くなる
おそれがある。これを解消するためには、試料Ｓと蓄積
性蛍光体２１との間を真空パスで覆うことが望ましい。
【００２２】（第２の実施形態）図６は、本発明をピン
ホール平行束光学系を用いたＸ線小角散乱装置に適用し
た場合の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装
置では、Ｘ線焦点Ｆから放射されるＸ線をピンホール５
ａ及び５ｂによって細く絞ってほぼ平行なＸ線ビームを
形成し、その平行Ｘ線ビームを試料Ｓに照射する。試料
Ｓの後方側（図の右側）の構成及びその構成に対応する
作用は、図５に示した実施形態と同様である。
ホール平行束光学系を用いたＸ線小角散乱装置に適用し
た場合の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装
置では、Ｘ線焦点Ｆから放射されるＸ線をピンホール５
ａ及び５ｂによって細く絞ってほぼ平行なＸ線ビームを
形成し、その平行Ｘ線ビームを試料Ｓに照射する。試料
Ｓの後方側（図の右側）の構成及びその構成に対応する
作用は、図５に示した実施形態と同様である。
【００２３】（第３の実施形態）図７は、本発明をクラ
ッキＵスリットを用いたＸ線小角散乱装置に適用した場
合の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装置で
は、Ｘ線焦点Ｆから放射されるＸ線を、ブロック状スリ
ットであるクラッキＵスリット６及びブリッジ部材７を
用いて細く絞った状態で試料Ｓに照射する。クラッキＵ
スリット６はその片側で寄生散乱を効率良く除去できる
ので、分解能を向上できる。試料Ｓの後方側（図の右
側）の構成及びその構成に対応する作用は、図５に示し
た実施形態と同様である。
ッキＵスリットを用いたＸ線小角散乱装置に適用した場
合の一実施形態を示している。このＸ線小角散乱装置で
は、Ｘ線焦点Ｆから放射されるＸ線を、ブロック状スリ
ットであるクラッキＵスリット６及びブリッジ部材７を
用いて細く絞った状態で試料Ｓに照射する。クラッキＵ
スリット６はその片側で寄生散乱を効率良く除去できる
ので、分解能を向上できる。試料Ｓの後方側（図の右
側）の構成及びその構成に対応する作用は、図５に示し
た実施形態と同様である。
【００２４】（第４の実施形態）図８は、本発明をチャ
ンネルカットモノクロメータを用いたＸ線小角散乱装置
に適用した場合の一実施例を示している。このＸ線小角
散乱装置では、Ｘ線焦点Ｆから放射されるＸ線をチャン
ネルカットモノクロメータ８によって平行度の高い単色
のＸ線ビームに成形し、その平行ビームを試料Ｓに照射
する。チャンネルカットモノクロメータ８はそれ自体周
知のモノクロメータであり、例えば、ゲルマニウムやシ
リコンなどの完全結晶を加工して溝を切ることによって
形成される。溝の両側に形成される一対のＸ線反射面に
よってＸ線を反射させることにより、精度の高い単色平
行ビームが得られる。試料Ｓの後方側（図の右側）の構
成及びその構成に対応する作用は、図５に示した実施形
態と同様である。
ンネルカットモノクロメータを用いたＸ線小角散乱装置
に適用した場合の一実施例を示している。このＸ線小角
散乱装置では、Ｘ線焦点Ｆから放射されるＸ線をチャン
ネルカットモノクロメータ８によって平行度の高い単色
のＸ線ビームに成形し、その平行ビームを試料Ｓに照射
する。チャンネルカットモノクロメータ８はそれ自体周
知のモノクロメータであり、例えば、ゲルマニウムやシ
リコンなどの完全結晶を加工して溝を切ることによって
形成される。溝の両側に形成される一対のＸ線反射面に
よってＸ線を反射させることにより、精度の高い単色平
行ビームが得られる。試料Ｓの後方側（図の右側）の構
成及びその構成に対応する作用は、図５に示した実施形
態と同様である。
【００２５】（その他の実施形態）以上、好ましい実施
例を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実施
例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載し
た技術的範囲内で種々に改変できる。例えば、図５〜図
８に示した実施形態では、Ｘ線検出器として二次元Ｘ線
検出器である蓄積性蛍光体を用いたが、これに代えて、
Ｘ線フィルムのようなその他の二次元Ｘ線検出器を用い
ることもできるし、あるいは、図１０に示すＰＳＰＣ３
５のような一次元Ｘ線検出器を用いることもできる。ま
た、図２に示すようにＸ線吸収板２ｂの面積を段階的に
変化させる場合、その段階は図示のような３段に限られ
ず、２段又はそれ以上とすることができる。
例を挙げて本発明を説明したが、本発明はそれらの実施
例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載し
た技術的範囲内で種々に改変できる。例えば、図５〜図
８に示した実施形態では、Ｘ線検出器として二次元Ｘ線
検出器である蓄積性蛍光体を用いたが、これに代えて、
Ｘ線フィルムのようなその他の二次元Ｘ線検出器を用い
ることもできるし、あるいは、図１０に示すＰＳＰＣ３
５のような一次元Ｘ線検出器を用いることもできる。ま
た、図２に示すようにＸ線吸収板２ｂの面積を段階的に
変化させる場合、その段階は図示のような３段に限られ
ず、２段又はそれ以上とすることができる。
【００２６】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、ダイレクトビーム及び高強度のＸ線がＸ線吸収板に
よってその強度を減衰された状態でＸ線検出器に受け取
られる。ダイレクトビームに対応するＸ線像が直接得ら
れるので、Ｘ線検出器上の散乱角度に関する基準角度位
置、すなわち０゜位置を容易かつ正確に決定できる。ま
た、高強度のＸ線を減衰させた状態でＸ線検出器に導く
ので、測定時間を長くとってもＸ線検出器が損傷しな
い。測定時間を長くとれるということは、強度の弱い散
乱Ｘ線をＸ線検出器に十分に露光できるということであ
り、この結果、弱い散乱Ｘ線から強い散乱Ｘ線までにわ
たる広い強度範囲で散乱Ｘ線を検出できる。つまり、検
出できる最小値と最大値の範囲、すなわちダイナミック
レンジを広くすることができる。
ば、ダイレクトビーム及び高強度のＸ線がＸ線吸収板に
よってその強度を減衰された状態でＸ線検出器に受け取
られる。ダイレクトビームに対応するＸ線像が直接得ら
れるので、Ｘ線検出器上の散乱角度に関する基準角度位
置、すなわち０゜位置を容易かつ正確に決定できる。ま
た、高強度のＸ線を減衰させた状態でＸ線検出器に導く
ので、測定時間を長くとってもＸ線検出器が損傷しな
い。測定時間を長くとれるということは、強度の弱い散
乱Ｘ線をＸ線検出器に十分に露光できるということであ
り、この結果、弱い散乱Ｘ線から強い散乱Ｘ線までにわ
たる広い強度範囲で散乱Ｘ線を検出できる。つまり、検
出できる最小値と最大値の範囲、すなわちダイナミック
レンジを広くすることができる。
【００２７】請求項２記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、Ｘ線吸収板とＸ線検出器との間の間隔を実質的に無
くすことにより、分解能をより一層向上できる。
ば、Ｘ線吸収板とＸ線検出器との間の間隔を実質的に無
くすことにより、分解能をより一層向上できる。
【００２８】請求項３記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、ダイレクトビームに対する減衰の程度を大きくし、
高強度の散乱Ｘ線についての減衰の程度をそれよりも小
さくすることにより、ダイレクトビーム及び強度の強い
Ｘ線を同じ測定時間で段階的に測定できる。これによ
り、測定時間を大幅に増やすことができ、その結果、ダ
イナミックレンジをさらに広げることができる。
ば、ダイレクトビームに対する減衰の程度を大きくし、
高強度の散乱Ｘ線についての減衰の程度をそれよりも小
さくすることにより、ダイレクトビーム及び強度の強い
Ｘ線を同じ測定時間で段階的に測定できる。これによ
り、測定時間を大幅に増やすことができ、その結果、ダ
イナミックレンジをさらに広げることができる。
【００２９】請求項４記載のＸ線小角散乱装置によれ
ば、Ｘ線吸収板から発生する蛍光Ｘ線がＸ線検出器に取
り込まれることを防止して、Ｓ／Ｎ比の高い良好な測定
結果を得ることができる。
ば、Ｘ線吸収板から発生する蛍光Ｘ線がＸ線検出器に取
り込まれることを防止して、Ｓ／Ｎ比の高い良好な測定
結果を得ることができる。
【００３０】
【図１】本発明に係るＸ線小角散乱装置の一実施形態の
要部を示す断面図である。
要部を示す断面図である。
【図２】本発明に係るＸ線小角散乱装置の他の実施形態
の要部を示す断面図である。
の要部を示す断面図である。
【図３】Ｘ線検出器の一例を示す正面図である。
【図４】Ｘ線吸収板の一例を示す図である。
【図５】本発明に係るＸ線小角散乱装置の一実施形態を
模式的に示す図である。
模式的に示す図である。
【図６】本発明に係るＸ線小角散乱装置の他の一実施形
態を模式的に示す図である。
態を模式的に示す図である。
【図７】本発明に係るＸ線小角散乱装置のさらに他の一
実施形態を模式的に示す図である。
実施形態を模式的に示す図である。
【図８】本発明に係るＸ線小角散乱装置のさらに他の一
実施形態を模式的に示す図である。
実施形態を模式的に示す図である。
【図９】従来のＸ線小角散乱装置の一例の要部を模式的
に示す図である。
に示す図である。
【図１０】Ｘ線検出器の他の一例を示す斜視図である。
１ Ｘ線検出器 ２ Ｘ線吸収板 ２ａ 単板状Ｘ線吸収板 ２ｂ 段階状Ｘ線吸収板 ３ 蛍光Ｘ線カットフィルタ ４ スリット光学系 ４ａ〜４ｃ ラインスリット ５ａ，５ｂ ピンホール ６ クラッキＵスリット ７ ブリッジ部材 ８ チャンネルカットモノクロメータ １１ 二次元Ｘ線検出器 ２１ 蓄積性蛍光体 ３５ ＰＳＰＣ（一次元Ｘ線検出器） Ｆ Ｘ線焦点 Ａ Ｘ線像 Ｓ 試料 ＲD ダイレクトビーム α 小角度領域 β 極小角度領域
Claims (5)
- 【請求項１】 入射Ｘ線の光軸を中心とする小角度領域
における散乱Ｘ線の強度の変化を測定するＸ線小角散乱
装置において、 Ｘ線の進行方向に関して試料の後方位置に配置されてい
てＸ線を線状又は面状に検知するＸ線検出器と、 試料とＸ線検出器との間であってそのＸ線検出器の直前
位置のダイレクトビームの進行路上に配置されたＸ線吸
収板とを有することを特徴とするＸ線小角散乱装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線小角散乱装置におい
て、Ｘ線吸収板はＸ線検出器に接触することを特徴とす
るＸ線小角散乱装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２記載のＸ線小角散
乱装置において、Ｘ線吸収板の面積がＸ線検出器に向か
って段階的に大きくなることを特徴とするＸ線小角散乱
装置。 - 【請求項４】 請求項１から請求項３のうちのいずれか
１つに記載のＸ線小角散乱装置において、Ｘ線吸収板か
ら発生する蛍光Ｘ線を吸収するためのフィルタをＸ線検
出器のＸ線検出面に設けたことを特徴とするＸ線小角散
乱装置。 - 【請求項５】 請求項１から請求項４のうちのいずれか
１つに記載のＸ線小角散乱装置において、Ｘ線検出器は
蓄積性蛍光体であることを特徴とするＸ線小角散乱装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22854295A JP3529065B2 (ja) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Ｘ線小角散乱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22854295A JP3529065B2 (ja) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Ｘ線小角散乱装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0954050A true JPH0954050A (ja) | 1997-02-25 |
| JP3529065B2 JP3529065B2 (ja) | 2004-05-24 |
Family
ID=16878027
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22854295A Expired - Fee Related JP3529065B2 (ja) | 1995-08-14 | 1995-08-14 | Ｘ線小角散乱装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3529065B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1114561A (ja) * | 1997-04-30 | 1999-01-22 | Rigaku Corp | Ｘ線測定装置およびその方法 |
| JP2008096401A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Toshiba Corp | 放射線検査装置 |
| JP2008542751A (ja) * | 2005-05-31 | 2008-11-27 | オスミック、インコーポレイテッド | ２次元小角ｘ線散乱カメラ |
| JP2015522809A (ja) * | 2012-06-08 | 2015-08-06 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | デュアルモード小角散乱カメラ |
| JP2017504044A (ja) * | 2014-01-28 | 2017-02-02 | ブルカー・エイエックスエス・インコーポレイテッドＢｒｕｋｅｒ ＡＸＳ， Ｉｎｃ． | Ｘ線回折ベースの結晶学解析を行う方法 |
| JP2021051087A (ja) * | 2016-01-11 | 2021-04-01 | ブルカー テクノロジーズ リミテッド | Ｘ線スキャタロメトリーのための方法および装置 |
| US10976270B2 (en) | 2018-04-23 | 2021-04-13 | Bruker Technologies Ltd. | X-ray detection optics for small-angle X-ray scatterometry |
| US11181490B2 (en) | 2018-07-05 | 2021-11-23 | Bruker Technologies Ltd. | Small-angle x-ray scatterometry |
| US11703464B2 (en) | 2018-07-28 | 2023-07-18 | Bruker Technologies Ltd. | Small-angle x-ray scatterometry |
| US11781999B2 (en) | 2021-09-05 | 2023-10-10 | Bruker Technologies Ltd. | Spot-size control in reflection-based and scatterometry-based X-ray metrology systems |
| US12249059B2 (en) | 2022-03-31 | 2025-03-11 | Bruker Technologies Ltd. | Navigation accuracy using camera coupled with detector assembly |
-
1995
- 1995-08-14 JP JP22854295A patent/JP3529065B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1114561A (ja) * | 1997-04-30 | 1999-01-22 | Rigaku Corp | Ｘ線測定装置およびその方法 |
| JP2008542751A (ja) * | 2005-05-31 | 2008-11-27 | オスミック、インコーポレイテッド | ２次元小角ｘ線散乱カメラ |
| US8094780B2 (en) | 2005-05-31 | 2012-01-10 | Rigaku Innovative Technologies, Inc. | Two dimensional small angle X-Ray scattering camera |
| JP2008096401A (ja) * | 2006-10-16 | 2008-04-24 | Toshiba Corp | 放射線検査装置 |
| JP2015522809A (ja) * | 2012-06-08 | 2015-08-06 | リガク イノベイティブ テクノロジーズ インコーポレイテッド | デュアルモード小角散乱カメラ |
| JP2017504044A (ja) * | 2014-01-28 | 2017-02-02 | ブルカー・エイエックスエス・インコーポレイテッドＢｒｕｋｅｒ ＡＸＳ， Ｉｎｃ． | Ｘ線回折ベースの結晶学解析を行う方法 |
| TWI764882B (zh) * | 2016-01-11 | 2022-05-21 | 以色列商布魯克科技有限公司 | 用於x光散射術之方法、設備、電腦軟體產品及系統 |
| US11169099B2 (en) | 2016-01-11 | 2021-11-09 | Bruker Technologies Ltd. | Method and apparatus for X-ray scatterometry |
| JP2021051087A (ja) * | 2016-01-11 | 2021-04-01 | ブルカー テクノロジーズ リミテッド | Ｘ線スキャタロメトリーのための方法および装置 |
| KR20240026162A (ko) * | 2016-01-11 | 2024-02-27 | 브루커 테크놀로지스 리미티드 | 엑스선 산란계를 위한 방법 및 장치 |
| US10976270B2 (en) | 2018-04-23 | 2021-04-13 | Bruker Technologies Ltd. | X-ray detection optics for small-angle X-ray scatterometry |
| US10976268B2 (en) | 2018-04-23 | 2021-04-13 | Bruker Technologies Ltd. | X-ray source optics for small-angle X-ray scatterometry |
| US10976269B2 (en) | 2018-04-23 | 2021-04-13 | Bruker Technologies Ltd. | Wafer alignment for small-angle x-ray scatterometry |
| US11181490B2 (en) | 2018-07-05 | 2021-11-23 | Bruker Technologies Ltd. | Small-angle x-ray scatterometry |
| US11703464B2 (en) | 2018-07-28 | 2023-07-18 | Bruker Technologies Ltd. | Small-angle x-ray scatterometry |
| US11781999B2 (en) | 2021-09-05 | 2023-10-10 | Bruker Technologies Ltd. | Spot-size control in reflection-based and scatterometry-based X-ray metrology systems |
| US12249059B2 (en) | 2022-03-31 | 2025-03-11 | Bruker Technologies Ltd. | Navigation accuracy using camera coupled with detector assembly |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3529065B2 (ja) | 2004-05-24 |
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