JPH0961647A - 光素子用有機材料 - Google Patents
光素子用有機材料Info
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- JPH0961647A JPH0961647A JP21740295A JP21740295A JPH0961647A JP H0961647 A JPH0961647 A JP H0961647A JP 21740295 A JP21740295 A JP 21740295A JP 21740295 A JP21740295 A JP 21740295A JP H0961647 A JPH0961647 A JP H0961647A
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- Japan
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- amorphous
- diarylethene
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- refractive index
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- Pending
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- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ジアリールエテン誘導体を高濃度に分散さ
せ、屈折率変化(Δn)が大きな光素子用有機材料を提
供すること。 【解決手段】 基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料とからなる有機材料でジアリールエテン誘導体とし
て単独では非晶質のものを用いて、光素子用有機材料を
構成する。このものは、高分子中に高濃度に分散し、屈
折率変化も大きい。
せ、屈折率変化(Δn)が大きな光素子用有機材料を提
供すること。 【解決手段】 基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料とからなる有機材料でジアリールエテン誘導体とし
て単独では非晶質のものを用いて、光素子用有機材料を
構成する。このものは、高分子中に高濃度に分散し、屈
折率変化も大きい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、PLC導波路に代
表される光導波路から構成される光素子に用いられる光
素子用有機材料に関し、詳しくは光で光を制御する光−
光素子に用いられる有機材料であって、大きな屈折率変
化を生じる光素子用有機材料に関するものである。
表される光導波路から構成される光素子に用いられる光
素子用有機材料に関し、詳しくは光で光を制御する光−
光素子に用いられる有機材料であって、大きな屈折率変
化を生じる光素子用有機材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光によって屈折率(n)を変化させる材
料としては、フォトリフラクティブ材料が知られている
が、光によって色を変化させる材料、フォトクロミック
(PC)材料も光によって色を変化させると同時に、屈
折率(n)を変化させることができ、フォトリフラクテ
ィブ材料の一つとして知られるようになってきた。
料としては、フォトリフラクティブ材料が知られている
が、光によって色を変化させる材料、フォトクロミック
(PC)材料も光によって色を変化させると同時に、屈
折率(n)を変化させることができ、フォトリフラクテ
ィブ材料の一つとして知られるようになってきた。
【0003】従来からあるPC材料は、最初に特定の波
長の光を照射し、色を変化させた後、異なる波長の光を
照射する(フォトンモード)か、もしくは加熱(ヒート
モード)によって光による変化を元の状態に戻すことが
できるものであるが、一般にヒートモードによる変化が
存在するため、室温程度でも数日から数カ月で状態が変
化してしまい光素子用の材料としては経時的変化のため
信頼性に欠け、実用化への大きな問題となっていた。
長の光を照射し、色を変化させた後、異なる波長の光を
照射する(フォトンモード)か、もしくは加熱(ヒート
モード)によって光による変化を元の状態に戻すことが
できるものであるが、一般にヒートモードによる変化が
存在するため、室温程度でも数日から数カ月で状態が変
化してしまい光素子用の材料としては経時的変化のため
信頼性に欠け、実用化への大きな問題となっていた。
【0004】近年、ヒートモード反応がほとんど起こら
ず、フォトンモードのみでフォトクロミック反応を起こ
すPC材料として、ジアリールエテン誘導体が開発され
た。この誘導体はヒートモード反応が起こらないため、
80℃という高温下でも数カ月以上も状態を安定に保持
することができ、光素子用の材料として必要な経時安定
性、信頼性を確保できる可能性を有している。
ず、フォトンモードのみでフォトクロミック反応を起こ
すPC材料として、ジアリールエテン誘導体が開発され
た。この誘導体はヒートモード反応が起こらないため、
80℃という高温下でも数カ月以上も状態を安定に保持
することができ、光素子用の材料として必要な経時安定
性、信頼性を確保できる可能性を有している。
【0005】このジアリールエテン誘導体の持つ特徴を
生かし、光素子用材料に応用する開発が活発になってき
た。ジアリールエテン誘導体を用いれば、状態(屈折
率)を変化させたい時にだけ光を照射すればよく、状態
(屈折率)が変化してしまった後は、その状態(屈折
率)を保持するためには何らのエネルギーを必要としな
い、いわゆるエネルギー・フリーな、自己保持型の光素
子を得ることができるからである。
生かし、光素子用材料に応用する開発が活発になってき
た。ジアリールエテン誘導体を用いれば、状態(屈折
率)を変化させたい時にだけ光を照射すればよく、状態
(屈折率)が変化してしまった後は、その状態(屈折
率)を保持するためには何らのエネルギーを必要としな
い、いわゆるエネルギー・フリーな、自己保持型の光素
子を得ることができるからである。
【0006】従来、屈折率を変化させる光素子として
は、熱によってスイッチングを行う熱効果型のTOスイ
ッチ(Thermal Optical Switc
h)が実用化に近い光素子として検討されている。TO
スイッチは屈折率の変化を熱によって行うため、状態
(屈折率)を変化させた後でも、その状態(屈折率)の
保持、すなわち温度を一定に維持するためのエネルギー
を必要とし続ける光素子である。一般に光素子は機械
的、電子的素子とは異なり、ある状態を保持するために
は、上記のTOスイッチのように、エネルギーの供給が
不可欠であるため、ジアリールエテン誘導体を用いたエ
ネルギー・フリーな光素子を実現することは産業上非常
に有益なことである。
は、熱によってスイッチングを行う熱効果型のTOスイ
ッチ(Thermal Optical Switc
h)が実用化に近い光素子として検討されている。TO
スイッチは屈折率の変化を熱によって行うため、状態
(屈折率)を変化させた後でも、その状態(屈折率)の
保持、すなわち温度を一定に維持するためのエネルギー
を必要とし続ける光素子である。一般に光素子は機械
的、電子的素子とは異なり、ある状態を保持するために
は、上記のTOスイッチのように、エネルギーの供給が
不可欠であるため、ジアリールエテン誘導体を用いたエ
ネルギー・フリーな光素子を実現することは産業上非常
に有益なことである。
【0007】しかしながら、上記のTOスイッチの屈折
率変化(Δn)が10-2から10-3であるのに対し、ジ
アリールエテン誘導体をポリメチルメタクリレート(P
MMA)やポリスチレンなどの高分子に分散させた場合
のΔnは、せいぜい10-4程度と小さいのが現状であっ
た。このΔnが小さいことがジアリールエテン誘導体を
光素子用材料に用いる上で大きな障壁となっていた。
率変化(Δn)が10-2から10-3であるのに対し、ジ
アリールエテン誘導体をポリメチルメタクリレート(P
MMA)やポリスチレンなどの高分子に分散させた場合
のΔnは、せいぜい10-4程度と小さいのが現状であっ
た。このΔnが小さいことがジアリールエテン誘導体を
光素子用材料に用いる上で大きな障壁となっていた。
【0008】上記のΔnを大きくするために、ジアリー
ルエテン誘導体の分子設計により分子固有のΔnを大き
くすることが試みられてきたが、Δnを現状より1桁以
上大きくしなければ実用には供し得ないため、未だ満足
し得る誘導体が得られていなかった。また、Δnを大き
くするために、ジアリールエテン誘導体を高分子中に高
濃度に分散させる方法もあるが、後述する比較例1に示
されるように、ある濃度以上ではジアリールエテン誘導
体が微粒子状になってしまい、実質的に均一な高濃度分
散ができないか、あるいは後述する比較例2に示される
ように、均一分散しても、ある濃度以上ではΔnが頭打
ちとなり、Δnの大きな材料を得ることができなかっ
た。
ルエテン誘導体の分子設計により分子固有のΔnを大き
くすることが試みられてきたが、Δnを現状より1桁以
上大きくしなければ実用には供し得ないため、未だ満足
し得る誘導体が得られていなかった。また、Δnを大き
くするために、ジアリールエテン誘導体を高分子中に高
濃度に分散させる方法もあるが、後述する比較例1に示
されるように、ある濃度以上ではジアリールエテン誘導
体が微粒子状になってしまい、実質的に均一な高濃度分
散ができないか、あるいは後述する比較例2に示される
ように、均一分散しても、ある濃度以上ではΔnが頭打
ちとなり、Δnの大きな材料を得ることができなかっ
た。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上述
のような従来技術の問題点に鑑み、ジアリールエテン誘
導体を高濃度に分散させ、Δnの大きな材料を提供する
ことである。
のような従来技術の問題点に鑑み、ジアリールエテン誘
導体を高濃度に分散させ、Δnの大きな材料を提供する
ことである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、上述の課題は、ジアリールエテン誘導体として非
晶質の誘導体を用いることにより解決できることを見出
し、高濃度に高分子中に分散でき、かつΔnの大きな材
料を得た。
結果、上述の課題は、ジアリールエテン誘導体として非
晶質の誘導体を用いることにより解決できることを見出
し、高濃度に高分子中に分散でき、かつΔnの大きな材
料を得た。
【0011】すなわち、第1の発明は、基板上の光導波
路に形成される、光によって屈折率が変化するジアリー
ルエテン誘導体と高分子材料からなる有機材料におい
て、ジアリールエテン誘導体が単独では非晶質であるこ
とを特徴とする光素子用有機材料である。
路に形成される、光によって屈折率が変化するジアリー
ルエテン誘導体と高分子材料からなる有機材料におい
て、ジアリールエテン誘導体が単独では非晶質であるこ
とを特徴とする光素子用有機材料である。
【0012】第2の発明は、基板上の光導波路に形成さ
れる、光によって屈折率が変化するジアリールエテン誘
導体と高分子材料からなる有機材料において、ジアリー
ルエテン誘導体が下記一般式(1)で示される構造であ
ることを特徴とする光素子用有機材料である。
れる、光によって屈折率が変化するジアリールエテン誘
導体と高分子材料からなる有機材料において、ジアリー
ルエテン誘導体が下記一般式(1)で示される構造であ
ることを特徴とする光素子用有機材料である。
【0013】
【化8】
【0014】(ただし、式中A,Bは3−ベンゾチエニ
ル誘導体、3−チエニル誘導体または3−インドリル誘
導体を表し、X,Yは置換残基を表し、X,Yで共同し
て環状構造を構成する。) 第3の発明は、基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料からなる有機材料において、ジアリールエテン誘導
体が単独では非晶質であり、誘導体分子内に炭素数6以
上のアルキル基、水素のすべてを、あるいはその一部
を、フッ素置換した炭素数3以上のフルオロアルキル基
または嵩高い置換基を有する下記一般式(2),(3)
または(4)で示される構造であることを特徴とする自
己保持型光素子用有機材料である。
ル誘導体、3−チエニル誘導体または3−インドリル誘
導体を表し、X,Yは置換残基を表し、X,Yで共同し
て環状構造を構成する。) 第3の発明は、基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料からなる有機材料において、ジアリールエテン誘導
体が単独では非晶質であり、誘導体分子内に炭素数6以
上のアルキル基、水素のすべてを、あるいはその一部
を、フッ素置換した炭素数3以上のフルオロアルキル基
または嵩高い置換基を有する下記一般式(2),(3)
または(4)で示される構造であることを特徴とする自
己保持型光素子用有機材料である。
【0015】
【化9】
【0016】
【化10】
【0017】
【化11】
【0018】(ただし、式中D,E,G,J,L,Mは
下記一般式(5)の3−ベンゾチエニル誘導体、一般式
(6)の3−チエニル誘導体または一般式(7)の3−
インドリル誘導体を表し、R1 はアルキル基またはシア
ノエチル基を表す。)
下記一般式(5)の3−ベンゾチエニル誘導体、一般式
(6)の3−チエニル誘導体または一般式(7)の3−
インドリル誘導体を表し、R1 はアルキル基またはシア
ノエチル基を表す。)
【0019】
【化12】
【0020】
【化13】
【0021】
【化14】
【0022】(ただし、R10はアルキル基、アシル基、
環状炭化水素基またはフッ素置換アルキル基を表し、R
2 〜R9 とR11〜R15は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アシル基、シアノ基、環状炭化水素基またはフ
ッ素置換アルキル基を表すが、一般式(2),(3)ま
たは(4)のそれぞれについて少なくとも1つの置換基
は炭素数6以上のアルキル基、炭素数3以上のフルオロ
アルキル基または嵩高い置換基を表す。)
環状炭化水素基またはフッ素置換アルキル基を表し、R
2 〜R9 とR11〜R15は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アシル基、シアノ基、環状炭化水素基またはフ
ッ素置換アルキル基を表すが、一般式(2),(3)ま
たは(4)のそれぞれについて少なくとも1つの置換基
は炭素数6以上のアルキル基、炭素数3以上のフルオロ
アルキル基または嵩高い置換基を表す。)
【0023】
【発明の実施の形態】本発明に用いるジアリールエテン
誘導体としては、例えば表1〜表5に示される化合物が
挙げられるが、非晶質のものであれば良く、これらに限
定されない。また、結晶性のジアリールエテン誘導体を
高分子の主鎖にペンダント状に結合させ実質的に非晶質
性を付与した高分子系のジアリールエテン誘導体も用い
ることができる。
誘導体としては、例えば表1〜表5に示される化合物が
挙げられるが、非晶質のものであれば良く、これらに限
定されない。また、結晶性のジアリールエテン誘導体を
高分子の主鎖にペンダント状に結合させ実質的に非晶質
性を付与した高分子系のジアリールエテン誘導体も用い
ることができる。
【0024】本発明に用いるジアリールエテン誘導体の
中でも、下記一般式(1)
中でも、下記一般式(1)
【0025】
【化15】
【0026】(ただし、式中A,Bは3−ベンゾチエニ
ル誘導体、3−チエニル誘導体または3−インドリル誘
導体を表し、X,Yは置換残基を表し、X,Yで共同し
て環状構造を構成する。)で示されるような化学構造の
骨格部分が環状構造を有している誘導体が光素子の信頼
性の上で好ましく、さらに誘導体分子内に炭素数6以上
のアルキル基、水素のすべてを、あるいはその一部を、
フッ素置換した炭素数3以上のフルオロアルキル基また
は嵩高い置換基を有する下記一般式(2),(3)また
は(4)で示される構造であることが非晶質性が増し、
特に好ましい。
ル誘導体、3−チエニル誘導体または3−インドリル誘
導体を表し、X,Yは置換残基を表し、X,Yで共同し
て環状構造を構成する。)で示されるような化学構造の
骨格部分が環状構造を有している誘導体が光素子の信頼
性の上で好ましく、さらに誘導体分子内に炭素数6以上
のアルキル基、水素のすべてを、あるいはその一部を、
フッ素置換した炭素数3以上のフルオロアルキル基また
は嵩高い置換基を有する下記一般式(2),(3)また
は(4)で示される構造であることが非晶質性が増し、
特に好ましい。
【0027】
【化16】
【0028】
【化17】
【0029】
【化18】
【0030】(ただし、式中D,E,G,J,L,Mは
下記一般式(5)の3−ベンゾチエニル誘導体、一般式
(6)の3−チエニル誘導体または一般式(7)の3−
インドリル誘導体を表し、R1 はアルキル基またはシア
ノエチル基を表す。)
下記一般式(5)の3−ベンゾチエニル誘導体、一般式
(6)の3−チエニル誘導体または一般式(7)の3−
インドリル誘導体を表し、R1 はアルキル基またはシア
ノエチル基を表す。)
【0031】
【化19】
【0032】
【化20】
【0033】
【化21】
【0034】(ただし、R10はアルキル基、アシル基、
環状炭化水素基またはフッ素置換アルキル基を表し、R
2 〜R9 とR11〜R15は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アシル基、シアノ基、環状炭化水素基またはフ
ッ素置換アルキル基を表すが、一般式(2),(3)ま
たは(4)のそれぞれについて少なくとも1つの置換基
は炭素数6以上のアルキル基、炭素数3以上のフルオロ
アルキル基または嵩高い置換基を表す。) 炭素数6以上のアルキル基あるいは炭素数3以上のフル
オロアルキル基としては直鎖構造でも枝分かれ構造でも
良い。嵩高い置換基としては、Tert−ブチル基、ネ
オ−ペンチル基、アダマンチル基あるいはノルボルニル
基等が好適に用いられる。これらの置換基は分子内に少
なくとも一つあれば好ましいが、二つ以上(同じ置換基
でも異なる置換基でもよい)あれば、さらに非晶質性が
増し、本発明の主旨に沿った光素子用有機材料が得られ
る。
環状炭化水素基またはフッ素置換アルキル基を表し、R
2 〜R9 とR11〜R15は水素原子、アルキル基、アルコ
キシ基、アシル基、シアノ基、環状炭化水素基またはフ
ッ素置換アルキル基を表すが、一般式(2),(3)ま
たは(4)のそれぞれについて少なくとも1つの置換基
は炭素数6以上のアルキル基、炭素数3以上のフルオロ
アルキル基または嵩高い置換基を表す。) 炭素数6以上のアルキル基あるいは炭素数3以上のフル
オロアルキル基としては直鎖構造でも枝分かれ構造でも
良い。嵩高い置換基としては、Tert−ブチル基、ネ
オ−ペンチル基、アダマンチル基あるいはノルボルニル
基等が好適に用いられる。これらの置換基は分子内に少
なくとも一つあれば好ましいが、二つ以上(同じ置換基
でも異なる置換基でもよい)あれば、さらに非晶質性が
増し、本発明の主旨に沿った光素子用有機材料が得られ
る。
【0035】次に、上記のようなジアリールエテン誘導
体を分散させる高分子は特に限定されないが、PMMA
系等の非晶質高分子が好ましい。
体を分散させる高分子は特に限定されないが、PMMA
系等の非晶質高分子が好ましい。
【0036】高分子に分散させるジアリールエテン誘導
体の比率は光素子用有機材料100部当り5〜99重量
部、すなわち5〜99wt%で通常用いられるが、ジア
リールエテン誘導体の特性を生かすためには、20〜9
9wt%が好ましく、さらに55〜99wt%が特に好
ましい。ジアリールエテン誘導体が5wt%未満ではΔ
nが小さく、光素子用材料としては十分な性能が出しが
たく、また99wt%を越えると機械的強度や安定性の
点で素子の信頼性を損なう。
体の比率は光素子用有機材料100部当り5〜99重量
部、すなわち5〜99wt%で通常用いられるが、ジア
リールエテン誘導体の特性を生かすためには、20〜9
9wt%が好ましく、さらに55〜99wt%が特に好
ましい。ジアリールエテン誘導体が5wt%未満ではΔ
nが小さく、光素子用材料としては十分な性能が出しが
たく、また99wt%を越えると機械的強度や安定性の
点で素子の信頼性を損なう。
【0037】ほとんどの高分子材料は非晶質であり、こ
の非晶質である高分子材料中に均一に分散させたい低分
子材料が同じく非晶質であれば、非晶質同士で分散する
ことが非常に容易になる。そこで、同じく非晶質となる
ジアリールエテン誘導体であれば、上述のように非晶質
同士で分散させることが非常に容易になるため、非晶質
性ジアリールエテン誘導体を高濃度に分散させることが
可能となる。
の非晶質である高分子材料中に均一に分散させたい低分
子材料が同じく非晶質であれば、非晶質同士で分散する
ことが非常に容易になる。そこで、同じく非晶質となる
ジアリールエテン誘導体であれば、上述のように非晶質
同士で分散させることが非常に容易になるため、非晶質
性ジアリールエテン誘導体を高濃度に分散させることが
可能となる。
【0038】非晶質性ジアリールエテン誘導体を得るた
めには、前記誘導体分子内に炭素鎖6以上の炭素鎖を導
入すればよい。
めには、前記誘導体分子内に炭素鎖6以上の炭素鎖を導
入すればよい。
【0039】あるいは、非晶質性ジアリールエテン誘導
体を得るために、前記誘導体分子内に嵩高い置換基を導
入してもよい。
体を得るために、前記誘導体分子内に嵩高い置換基を導
入してもよい。
【0040】非晶質性ジアリールエテン材料を高濃度に
高分子中に分散させた、Δnの高い本発明による材料を
用いることにより、エネルギー・フリーな自己保持型の
光素子を初めて得ることが可能となった。
高分子中に分散させた、Δnの高い本発明による材料を
用いることにより、エネルギー・フリーな自己保持型の
光素子を初めて得ることが可能となった。
【0041】本発明に用いる非晶質性ジアリールエテン
材料としては、下記の表1〜表5に示す化合物がよい
が、非晶質性のものであれば特にこれらに限定はされな
い。また、従来知られているジアリールエテン誘導体
に、置換基を施し、高分子の主鎖にペンダント状に結合
させた高分子系の非晶質性ジアリールエテン材料を用い
ることもできる。
材料としては、下記の表1〜表5に示す化合物がよい
が、非晶質性のものであれば特にこれらに限定はされな
い。また、従来知られているジアリールエテン誘導体
に、置換基を施し、高分子の主鎖にペンダント状に結合
させた高分子系の非晶質性ジアリールエテン材料を用い
ることもできる。
【0042】
【表1】
【0043】
【表2】
【0044】
【表3】
【0045】
【表4】
【0046】
【表5】
【0047】基本的には非晶質性ジアリールエテン材料
を得るために炭素数6以上のアルキル鎖(直鎖構造や枝
分かれ構造を含む)や、一部もしくは全部の水素をフッ
素置換した炭素数3以上のアルキル鎖(直鎖構造や枝分
かれ構造を含む)をジアリールエテン分子内に結合させ
るか、または嵩高い置換基(tert−ブチル基やアダ
マンチル基など)をジアリールエテン分子内に結合させ
て本発明に用いられる非晶質性ジアリールエテン誘導体
を得ることができる。またこれらを組み合わせた置換基
を導入した場合、すなわち炭素数6以上のアルキル鎖
(直鎖構造や枝分かれ構造を含む)、一部もしくは全部
の水素をフッ素置換した炭素数3以上のアルキル鎖(直
鎖構造や枝分かれ構造を含む)、嵩高い置換基(ter
t−ブチル基やアダマンチル基など)をそれぞれ2以上
(異なる置換基からまたは同じ置換基を)導入したジア
リールエテン誘導体では効果はさらに大きくなり非晶質
性が増し、高濃度に分散させることが可能となり本発明
の主旨に沿った光素子用有機材料が得られた。
を得るために炭素数6以上のアルキル鎖(直鎖構造や枝
分かれ構造を含む)や、一部もしくは全部の水素をフッ
素置換した炭素数3以上のアルキル鎖(直鎖構造や枝分
かれ構造を含む)をジアリールエテン分子内に結合させ
るか、または嵩高い置換基(tert−ブチル基やアダ
マンチル基など)をジアリールエテン分子内に結合させ
て本発明に用いられる非晶質性ジアリールエテン誘導体
を得ることができる。またこれらを組み合わせた置換基
を導入した場合、すなわち炭素数6以上のアルキル鎖
(直鎖構造や枝分かれ構造を含む)、一部もしくは全部
の水素をフッ素置換した炭素数3以上のアルキル鎖(直
鎖構造や枝分かれ構造を含む)、嵩高い置換基(ter
t−ブチル基やアダマンチル基など)をそれぞれ2以上
(異なる置換基からまたは同じ置換基を)導入したジア
リールエテン誘導体では効果はさらに大きくなり非晶質
性が増し、高濃度に分散させることが可能となり本発明
の主旨に沿った光素子用有機材料が得られた。
【0048】ここで、フッ素置換したアルキル鎖(直鎖
構造や枝分かれ構造を含む)を導入した場合、アルキル
鎖の末端がフッ素に置換されていると良好な非晶質性ジ
アリールエテン誘導体を得ることが出来た。さらに、フ
ッ素置換をした場合はアルキル鎖長は炭素数3以上で良
好な非晶質性ジアリールエテン誘導体となり、フッ素置
換していないアルキル鎖の場合には炭素数が6以上必要
であることと比較して興味深い。
構造や枝分かれ構造を含む)を導入した場合、アルキル
鎖の末端がフッ素に置換されていると良好な非晶質性ジ
アリールエテン誘導体を得ることが出来た。さらに、フ
ッ素置換をした場合はアルキル鎖長は炭素数3以上で良
好な非晶質性ジアリールエテン誘導体となり、フッ素置
換していないアルキル鎖の場合には炭素数が6以上必要
であることと比較して興味深い。
【0049】次に、上記のようにして得られた非晶質性
ジアリールエテン材料を分散させる高分子としては、ど
のような高分子でも適用可能であるが、上述したよう
に、非晶質高分子の方が非晶質性ジアリールエテン誘導
体を分散させるには適しているため、結晶性の高分子よ
りは非晶質高分子の方が好ましい。
ジアリールエテン材料を分散させる高分子としては、ど
のような高分子でも適用可能であるが、上述したよう
に、非晶質高分子の方が非晶質性ジアリールエテン誘導
体を分散させるには適しているため、結晶性の高分子よ
りは非晶質高分子の方が好ましい。
【0050】非晶質性ジアリールエテン材料を高分子に
分散させる本発明において、非晶質性ジアリールエテン
材料の比率は光素子用有機材料100重量部当り5〜9
9重量部(以下wt%と略す)の範囲で適用可能である
が、非晶質性ジアリールエテン材料の特性を生かすため
には20〜99wt%が好ましく、より好ましくは55
〜99wt%が適当である。非晶質性ジアリールエテン
材料が5wt%未満では屈折率変化(Δn)が小さすぎ
て光素子用材料とはならず、99wt%より多い場合に
は剛性や耐候性の点で安定に存在することが出来ないた
め、上記の比率が適当である。また、20wt%以上で
あれば高分子との相容性がよくなり、55wt%以上で
は高分子との相容性がさらによくなるとともに、Δnも
従来の材料に比べて1桁あげることができ、光素子用材
料として最適である。
分散させる本発明において、非晶質性ジアリールエテン
材料の比率は光素子用有機材料100重量部当り5〜9
9重量部(以下wt%と略す)の範囲で適用可能である
が、非晶質性ジアリールエテン材料の特性を生かすため
には20〜99wt%が好ましく、より好ましくは55
〜99wt%が適当である。非晶質性ジアリールエテン
材料が5wt%未満では屈折率変化(Δn)が小さすぎ
て光素子用材料とはならず、99wt%より多い場合に
は剛性や耐候性の点で安定に存在することが出来ないた
め、上記の比率が適当である。また、20wt%以上で
あれば高分子との相容性がよくなり、55wt%以上で
は高分子との相容性がさらによくなるとともに、Δnも
従来の材料に比べて1桁あげることができ、光素子用材
料として最適である。
【0051】
【実施例】以下、比較例と実施例とをあげて本発明をさ
らに詳細に説明する。
らに詳細に説明する。
【0052】[比較例1]比較例としてジアリールエテ
ン誘導体ではあるが結晶性の高い化合物(下記の表6の
No.3−1)とPMMA(Mw=100,000)と
を混合比率で約5,7.5,10,12.5,15wt
%分散させた組成物溶液を下記のように調製した。
ン誘導体ではあるが結晶性の高い化合物(下記の表6の
No.3−1)とPMMA(Mw=100,000)と
を混合比率で約5,7.5,10,12.5,15wt
%分散させた組成物溶液を下記のように調製した。
【0053】
【表6】
【0054】所定の比率となるように、ジアリールエテ
ン誘導体(表3のNo.3−1)とPMMAとを秤取
り、メチル・イソブチル・ケトン(MIBKと略す)と
モノクロルベンゼンの1:1混合溶媒を加え、固体部
(ジアリールエテン誘導体とPMMAの合計量)と混合
溶媒との比率が、固体部:混合溶媒=20:80wt%
となるように調整し、室温で一昼夜300rpmで撹拌
した。しかしながら、均一溶液とはならずジアリールエ
テン誘導体の不溶部(沈殿)が存在した。
ン誘導体(表3のNo.3−1)とPMMAとを秤取
り、メチル・イソブチル・ケトン(MIBKと略す)と
モノクロルベンゼンの1:1混合溶媒を加え、固体部
(ジアリールエテン誘導体とPMMAの合計量)と混合
溶媒との比率が、固体部:混合溶媒=20:80wt%
となるように調整し、室温で一昼夜300rpmで撹拌
した。しかしながら、均一溶液とはならずジアリールエ
テン誘導体の不溶部(沈殿)が存在した。
【0055】この沈澱を含む溶液を90℃に加熱したと
ころ均一溶液が得られたので、シリコン基板上に200
0rpm・20秒間の条件でスピンコートし薄膜を得
た。
ころ均一溶液が得られたので、シリコン基板上に200
0rpm・20秒間の条件でスピンコートし薄膜を得
た。
【0056】この薄膜を顕微鏡で観察したところ、表7
のように、10wt%までは薄膜内に微結晶が存在しな
かったが、12.5wt%以上では微結晶の析出が観察
できた。この薄膜の屈折率変化(Δn)をセキテクノト
ロン社METRICONモデル2010のプリズムカプ
ラを用いて、プリズム・カプラ法により測定した。測定
は、フォトクロミズムを誘起する光を照射し、光照射す
る前後の屈折率の値からΔnを求めた。Δnの値を同じ
く下記の表7に示し、図1に図示する。ここで、フォト
クロミズムを誘起する光照射の条件は以下の通りであ
る。
のように、10wt%までは薄膜内に微結晶が存在しな
かったが、12.5wt%以上では微結晶の析出が観察
できた。この薄膜の屈折率変化(Δn)をセキテクノト
ロン社METRICONモデル2010のプリズムカプ
ラを用いて、プリズム・カプラ法により測定した。測定
は、フォトクロミズムを誘起する光を照射し、光照射す
る前後の屈折率の値からΔnを求めた。Δnの値を同じ
く下記の表7に示し、図1に図示する。ここで、フォト
クロミズムを誘起する光照射の条件は以下の通りであ
る。
【0057】500WのHg−Xe可視光源(ケンコー
社・SUPER BRIGHT 500,モデルXEF
−501S)、もしくは350WのHg紫外光源(ケン
コー社・SUPERCURE−352S)からの光をモ
ノクロメータ(島津社・SPG−100ST.制御部:
AT−100PC)に通し、単色光として上記で得た薄
膜に照射した。照射光の波長は430nm(4.98m
W/cm2 )と560nm(2.28mW/cm2 )
で、それぞれ1分間,5分間照射した。
社・SUPER BRIGHT 500,モデルXEF
−501S)、もしくは350WのHg紫外光源(ケン
コー社・SUPERCURE−352S)からの光をモ
ノクロメータ(島津社・SPG−100ST.制御部:
AT−100PC)に通し、単色光として上記で得た薄
膜に照射した。照射光の波長は430nm(4.98m
W/cm2 )と560nm(2.28mW/cm2 )
で、それぞれ1分間,5分間照射した。
【0058】表7,図1から明らかなように、結晶性の
ジアリールエテン誘導体を用いた場合、ポリマ中に高濃
度に分散することができず、ジアリールエテン誘導体が
10wt%以上では微結晶が析出してしまい、屈折率変
化は大幅に減少した。
ジアリールエテン誘導体を用いた場合、ポリマ中に高濃
度に分散することができず、ジアリールエテン誘導体が
10wt%以上では微結晶が析出してしまい、屈折率変
化は大幅に減少した。
【0059】
【表7】
【0060】[比較例2]もう1つの比較例としてジア
リールエテン誘導体で結晶性ではあるが結晶性がそれほ
ど高くない化合物(表6のNo.3・2)とPPMA
(Mw=100,0000)とを混合比率で約5,7.
5,10,12.5,15,30,50wt%分散させ
た組成物溶液を比較例1と同様な手法で調製した。
リールエテン誘導体で結晶性ではあるが結晶性がそれほ
ど高くない化合物(表6のNo.3・2)とPPMA
(Mw=100,0000)とを混合比率で約5,7.
5,10,12.5,15,30,50wt%分散させ
た組成物溶液を比較例1と同様な手法で調製した。
【0061】比較例1と同様に、MIBK:モノクロル
ベンゼン=1:1の混合溶媒を加え、固体部:混合溶媒
=20:80wt%となるように調整し、室温で一昼夜
300rpmで撹拌した。その結果、比較例1とは異な
り、不溶部(沈殿)の存在しない均一な溶液を室温下で
得ることができた。
ベンゼン=1:1の混合溶媒を加え、固体部:混合溶媒
=20:80wt%となるように調整し、室温で一昼夜
300rpmで撹拌した。その結果、比較例1とは異な
り、不溶部(沈殿)の存在しない均一な溶液を室温下で
得ることができた。
【0062】この均一溶液を比較例1と同様、シリコン
基板上に2000rpm・20秒間の条件でスピンコー
トし薄膜を得た。
基板上に2000rpm・20秒間の条件でスピンコー
トし薄膜を得た。
【0063】顕微鏡でこの薄膜を観察したところ、表8
のように、50wt%という高濃度に分散させた場合で
も微結晶の存在は確認できなった。
のように、50wt%という高濃度に分散させた場合で
も微結晶の存在は確認できなった。
【0064】420nm(3.15mW/cm2 )と5
60nm(2.28mW/cm2 )の光をそれぞれ5分
間,50分間照射し、屈折率変化(Δn)を同様な方法
で測定した。その結果を下記の表8と図2に示す。
60nm(2.28mW/cm2 )の光をそれぞれ5分
間,50分間照射し、屈折率変化(Δn)を同様な方法
で測定した。その結果を下記の表8と図2に示す。
【0065】表8と図2から明らかなように、結晶性の
比較的低いジアリールエテン誘導体を用いた場合でも、
本発明による工夫を加えないと、ポリマ中に高濃度に分
散することは可能であるが、そのΔnは10wt%以上
で頭打ちとなってしまい、濃度とΔnが1:1に対応し
なくなった。
比較的低いジアリールエテン誘導体を用いた場合でも、
本発明による工夫を加えないと、ポリマ中に高濃度に分
散することは可能であるが、そのΔnは10wt%以上
で頭打ちとなってしまい、濃度とΔnが1:1に対応し
なくなった。
【0066】濃度と絶対屈折率の関係を図4に示す。絶
対屈折率は濃度と1:1に対応しており、見かけ上はポ
リマ中に均一に分散できているが、Δnの検討(図2)
から、フォトクロミック(PC)反応を起こす場合には
結晶性が低いとはいえ、ジアリールエテン誘導体間で何
らかの相互作用が働いていることが示唆される。この相
互作用によりフォトクロミック(PC)反応が阻害され
ていると思われる。
対屈折率は濃度と1:1に対応しており、見かけ上はポ
リマ中に均一に分散できているが、Δnの検討(図2)
から、フォトクロミック(PC)反応を起こす場合には
結晶性が低いとはいえ、ジアリールエテン誘導体間で何
らかの相互作用が働いていることが示唆される。この相
互作用によりフォトクロミック(PC)反応が阻害され
ていると思われる。
【0067】
【表8】
【0068】[実施例1]炭素数6個が直鎖状に結合し
たフッ素系のジアリールエテン誘導体(表1のNo.1
−1)は非晶質性の化合物である。この非晶質性のジア
リールエテン誘導体を用い、比較例1,2と同様にPM
MA(Mw=100,000)中に、混合比率で約約
5,7.5,10,12.5,15,30,50wt%
分散させた組成物溶液を調整した。
たフッ素系のジアリールエテン誘導体(表1のNo.1
−1)は非晶質性の化合物である。この非晶質性のジア
リールエテン誘導体を用い、比較例1,2と同様にPM
MA(Mw=100,000)中に、混合比率で約約
5,7.5,10,12.5,15,30,50wt%
分散させた組成物溶液を調整した。
【0069】比較例1,2と同様に、MIBK:モノク
ロルベンゼン=1:1の混合溶媒を加え、固体部:混合
溶媒=20:80wt%となるように調整し、室温で一
昼夜300rpmで撹拌した。その結果、不溶部(沈
殿)の存在しない均一な溶液を室温下で得ることが出来
た。
ロルベンゼン=1:1の混合溶媒を加え、固体部:混合
溶媒=20:80wt%となるように調整し、室温で一
昼夜300rpmで撹拌した。その結果、不溶部(沈
殿)の存在しない均一な溶液を室温下で得ることが出来
た。
【0070】この均一溶液をシリコン基板上に2000
rpm・20秒間の条件でスピンコートし、不溶部のな
い均一な薄膜を得た。
rpm・20秒間の条件でスピンコートし、不溶部のな
い均一な薄膜を得た。
【0071】顕微鏡でこの薄膜を観察したところ、表9
のように、50wt%という高濃度に分散させた場合で
も微結晶の存在は確認できなった。
のように、50wt%という高濃度に分散させた場合で
も微結晶の存在は確認できなった。
【0072】365nm(10.9mW/cm2 )と5
80nm(2.37mW/cm2 )の光をそれぞれ20
0秒間,10分間照射し、屈折率変化(Δn)を同様な
方法で測定した。測定した結果を下記の表9と図3に示
す。
80nm(2.37mW/cm2 )の光をそれぞれ20
0秒間,10分間照射し、屈折率変化(Δn)を同様な
方法で測定した。測定した結果を下記の表9と図3に示
す。
【0073】表9と図3から明らかなように、非晶質性
ジアリールエテン誘導体を用いた場合でも、容易にポリ
マ中に高濃度に分散することができ、そのΔnは非晶質
性ジアリールエテン誘導体の濃度と1:1に対応した。
ジアリールエテン誘導体を用いた場合でも、容易にポリ
マ中に高濃度に分散することができ、そのΔnは非晶質
性ジアリールエテン誘導体の濃度と1:1に対応した。
【0074】濃度と絶対屈折率の関係をみると(図
5)、絶対屈折率は濃度と1:1に対応しており、ポリ
マ中に均一に分散できており、しかも図3の検討から、
比較例2のような分子間の相互作用もなく、フォトクロ
ミック(PC)反応が阻害されない材料が得られたこと
が分かった。
5)、絶対屈折率は濃度と1:1に対応しており、ポリ
マ中に均一に分散できており、しかも図3の検討から、
比較例2のような分子間の相互作用もなく、フォトクロ
ミック(PC)反応が阻害されない材料が得られたこと
が分かった。
【0075】
【表9】
【0076】[実施例2]実施例1で得られた、非晶質
性ジアリールエテン誘導体を50wt%含有した光素子
用有機材料を用い、自己保持型の光スイッチを作製し
た。
性ジアリールエテン誘導体を50wt%含有した光素子
用有機材料を用い、自己保持型の光スイッチを作製し
た。
【0077】作製方法について説明する。図6は、マッ
ハツェンダー型(MZ型)光スイッチを作製するための
説明図である。シリコン基板1上にSiO2 を基本材料
とした下部クラッド層2を通常の火炎堆積法により作製
し、SiO2 にドーパントを含有させたコア層4を堆積
してMZ型となるようにエッチングし、MZ型の途中の
導波路コア部5,6が露出するよう、上部クラッド層3
を形成したものである。
ハツェンダー型(MZ型)光スイッチを作製するための
説明図である。シリコン基板1上にSiO2 を基本材料
とした下部クラッド層2を通常の火炎堆積法により作製
し、SiO2 にドーパントを含有させたコア層4を堆積
してMZ型となるようにエッチングし、MZ型の途中の
導波路コア部5,6が露出するよう、上部クラッド層3
を形成したものである。
【0078】図7は本発明の光素子用有機材料を用いた
光素子の斜視図であり、図8は図7のA−A′断面図で
ある。この光素子は、図6の露出した導波路コア部5,
6に本発明の光素子用有機材料7を塗布し乾燥後、さら
にオーバー上部クラッド層として、透明フッ素樹脂層8
(旭硝子社・サイトップ)を塗布・乾燥して作製した。
光素子の斜視図であり、図8は図7のA−A′断面図で
ある。この光素子は、図6の露出した導波路コア部5,
6に本発明の光素子用有機材料7を塗布し乾燥後、さら
にオーバー上部クラッド層として、透明フッ素樹脂層8
(旭硝子社・サイトップ)を塗布・乾燥して作製した。
【0079】用いた光素子用有機材料は、表1のNo.
1−1のフッ素系ジアリールエテン誘導体と、フッ素置
換されたモノマーから重合したフッ素化PMMA(Mw
=50,000)を重量比で1:1に秤取り、MIBK
とクロルベンゼンの混合溶媒(混合比=1:1)に溶解
して塗布した。乾燥後、透明フッ素樹脂を専用のフッ素
系溶剤に溶解したものを塗布し乾燥してMZ型2×2ス
イッチを作製した。
1−1のフッ素系ジアリールエテン誘導体と、フッ素置
換されたモノマーから重合したフッ素化PMMA(Mw
=50,000)を重量比で1:1に秤取り、MIBK
とクロルベンゼンの混合溶媒(混合比=1:1)に溶解
して塗布した。乾燥後、透明フッ素樹脂を専用のフッ素
系溶剤に溶解したものを塗布し乾燥してMZ型2×2ス
イッチを作製した。
【0080】本実施例では、二つの露出したコア部5,
6の双方に本発明の光素子用有機材料を塗布したが、片
方の露出したコア部6だけに本発明の光素子用有機材料
7を塗布し、もう片方の露出したコア部5には屈折率を
本発明の光素子用有機材料7にあわせたフッ素化PMM
A(一部フッ素化されたモノマーと通常のMMAモノマ
ーの共重合体;屈折率=1.442(1.5μm)を塗
布して作製してもよい。
6の双方に本発明の光素子用有機材料を塗布したが、片
方の露出したコア部6だけに本発明の光素子用有機材料
7を塗布し、もう片方の露出したコア部5には屈折率を
本発明の光素子用有機材料7にあわせたフッ素化PMM
A(一部フッ素化されたモノマーと通常のMMAモノマ
ーの共重合体;屈折率=1.442(1.5μm)を塗
布して作製してもよい。
【0081】作製したMZ型2×2スイッチ(図7,図
8)のポート1から入射光を入れ、ポート3,ポート4
から出てくる出射光をモニタし、スイッチング特性を検
討した。スイッチさせる制御光としては365nmの紫
外光と580nmの可視光を用い、露出したコア部6の
部分に塗布した本発明の光素子用有機材料にだけ上記の
二つの制御光が照射されるようにした。その結果を図9
に示す。図9から明らかなように、制御光を照射する前
はポート1から入射した光はポート3へ出力していた
が、制御光である紫外光(365nm)を照射した場
合、ポート1から入射した光はポート4へと出力しスイ
ッチングできた。さらに、もう一つの制御光である可視
光(580nm)を照射すると、元の状態へ戻りスイッ
チング動作を確認することができた。
8)のポート1から入射光を入れ、ポート3,ポート4
から出てくる出射光をモニタし、スイッチング特性を検
討した。スイッチさせる制御光としては365nmの紫
外光と580nmの可視光を用い、露出したコア部6の
部分に塗布した本発明の光素子用有機材料にだけ上記の
二つの制御光が照射されるようにした。その結果を図9
に示す。図9から明らかなように、制御光を照射する前
はポート1から入射した光はポート3へ出力していた
が、制御光である紫外光(365nm)を照射した場
合、ポート1から入射した光はポート4へと出力しスイ
ッチングできた。さらに、もう一つの制御光である可視
光(580nm)を照射すると、元の状態へ戻りスイッ
チング動作を確認することができた。
【0082】[実施例3]光LAN用T型コネクタを作
製した。図10,図11に本発明の光LAN用T型コネ
クタを示す。
製した。図10,図11に本発明の光LAN用T型コネ
クタを示す。
【0083】T字型の導波路9を通常の方法を用いて作
製した後、ダイシング・ソウ(ディスコ社製)により、
幅3μmのスリットを入れた。そのスリットの端の方か
ら表1のNo.1−7の化合物と全フッ素化PPMAの
混合物を流し入れ、乾燥して、屈折ミラー10を形成し
た。この屈折ミラー10の屈折率はT字型導波路9と一
致するようにあらかじめ調整されたものである。
製した後、ダイシング・ソウ(ディスコ社製)により、
幅3μmのスリットを入れた。そのスリットの端の方か
ら表1のNo.1−7の化合物と全フッ素化PPMAの
混合物を流し入れ、乾燥して、屈折ミラー10を形成し
た。この屈折ミラー10の屈折率はT字型導波路9と一
致するようにあらかじめ調整されたものである。
【0084】ポート1から入射光を入れると屈折ミラー
10は屈折率がT字型導波路9と同じであり、厚さが3
μmと薄いため、入射光はそのまま導波していき、ポー
ト3から出射する。ここへ、制御光(470nm)を照
射すると、屈折ミラー10の屈折率が大幅に上昇し、入
射した光は斜め方向へと反射され、ポート4へ出射する
ことができた。この屈折率ミラー10に580nmの制
御光を照射すると、屈折率が元へ戻り、入射光はポート
3へと導かれ、T字型の光コネクターとなることが確認
できた。
10は屈折率がT字型導波路9と同じであり、厚さが3
μmと薄いため、入射光はそのまま導波していき、ポー
ト3から出射する。ここへ、制御光(470nm)を照
射すると、屈折ミラー10の屈折率が大幅に上昇し、入
射した光は斜め方向へと反射され、ポート4へ出射する
ことができた。この屈折率ミラー10に580nmの制
御光を照射すると、屈折率が元へ戻り、入射光はポート
3へと導かれ、T字型の光コネクターとなることが確認
できた。
【0085】
【発明の効果】以上、説明したように、本発明では結晶
性のジアリールエテン誘導体ではなく非晶質のジアリー
ルエテン誘導体を用いたため、本発明による光素子用有
機材料を、高濃度に分散できるようになり、Δnが非常
に大きく、光で光を制御することのできる光素子用機能
性材料として大きな効果を発揮することができた。
性のジアリールエテン誘導体ではなく非晶質のジアリー
ルエテン誘導体を用いたため、本発明による光素子用有
機材料を、高濃度に分散できるようになり、Δnが非常
に大きく、光で光を制御することのできる光素子用機能
性材料として大きな効果を発揮することができた。
【0086】また、炭素数6以上のアルキル鎖をジアリ
ールエテン誘導体分子内に導入したため非晶質性が向上
し、アルキル鎖の一部または全部をフッ素置換した場合
には、アルキル鎖の炭素数は3以上で非晶質性となり特
にアルキル鎖の末端をフッ素置換した場合には高分子内
に非常に高濃度に均一分散することが可能となり、Δn
が非常に大きく、光で光を制御することのできる光素子
用機能性材料として大きな効果を発揮することができ
た。
ールエテン誘導体分子内に導入したため非晶質性が向上
し、アルキル鎖の一部または全部をフッ素置換した場合
には、アルキル鎖の炭素数は3以上で非晶質性となり特
にアルキル鎖の末端をフッ素置換した場合には高分子内
に非常に高濃度に均一分散することが可能となり、Δn
が非常に大きく、光で光を制御することのできる光素子
用機能性材料として大きな効果を発揮することができ
た。
【0087】さらにまた、嵩高い置換基をジアリールエ
テン誘導体分子内に導入した場合にも非晶質性が向上
し、高分子内に非常に高濃度に均一分散することが可能
となり、Δnが非常に大きく、光で光を制御することの
出来る光素子用機能性材料として大きな効果を発揮する
ことができた。
テン誘導体分子内に導入した場合にも非晶質性が向上
し、高分子内に非常に高濃度に均一分散することが可能
となり、Δnが非常に大きく、光で光を制御することの
出来る光素子用機能性材料として大きな効果を発揮する
ことができた。
【図1】高結晶性ジアリールエテン誘導体の屈折率変化
(Δn)(PMMA中)を示す特性図である。
(Δn)(PMMA中)を示す特性図である。
【図2】低結晶性ジアリールエテン誘導体の屈折率変化
(Δn)(PMMA中)を示す特性図である。
(Δn)(PMMA中)を示す特性図である。
【図3】本発明の光素子用有機材料の屈折率変化(Δ
n)(PMMA中)を示す特性図である。
n)(PMMA中)を示す特性図である。
【図4】低結晶性ジアリールエテン誘導体を含有させた
ときの絶対屈折率(PMMA中)を示す特性図である。
ときの絶対屈折率(PMMA中)を示す特性図である。
【図5】本発明の光素子用有機材料の絶対屈折率(PM
MA中)を示す特性図である。
MA中)を示す特性図である。
【図6】本発明を用いた光素子作製を説明する斜視図で
ある。
ある。
【図7】本発明を用いた光素子の斜視図である。
【図8】図7の光素子のA−A′断面図である。
【図9】本発明を用いた光素子の特性を示す特性図であ
る。
る。
【図10】本発明を用いた光素子の上面図である。
【図11】図10の光素子の斜視図である。
1 シリコン基板 2 下部クラッド層 3 上部クラッド層 4 導波路コア部(コア層) 5 露出したコア部 6 露出したコア部 7 本発明の光素子用有機材料 8 透明フッ素樹脂層 9 T字型導波路 10 屈折ミラー
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08K 5/45 KBW C08K 5/45 KBW C08L 101/00 C08L 101/00 G02B 1/04 G02B 1/04 G02F 1/313 G02F 1/313 (72)発明者 海老沢 文博 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 助川 健 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 石川 篤 大阪府大阪市都島区友渕町1丁目5番90号 鐘紡株式会社開発研究所内 (72)発明者 小林 立也 大阪府大阪市都島区友渕町1丁目5番90号 鐘紡株式会社開発研究所内 (72)発明者 堀川 幸雄 大阪府大阪市都島区友渕町1丁目5番90号 鐘紡株式会社開発研究所内
Claims (3)
- 【請求項1】 基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料とからなる有機材料において、ジアリールエテン誘
導体が単独では非晶質であることを特徴とする光素子用
有機材料。 - 【請求項2】 基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料とからなる有機材料において、ジアリールエテン誘
導体が下記一般式(1)で示される構造であることを特
徴とする光素子用有機材料。 【化1】 (ただし、式中A,Bは3−ベンゾチエニル誘導体、3
−チエニル誘導体または3−インドリル誘導体を表し、
X,Yは置換残基を表し、X,Yで共同して環状構造を
構成する。) - 【請求項3】 基板上の光導波路に形成される、光によ
って屈折率が変化するジアリールエテン誘導体と高分子
材料からなる有機材料において、ジアリールエテン誘導
体が単独では非晶質であり、誘導体分子内に炭素数6以
上のアルキル基、水素のすべてをあるいはその一部をフ
ッ素置換した炭素数3以上のフルオロアルキル基または
嵩高い置換基を有する下記一般式(2),(3)または
(4)で示される構造であることを特徴とする光素子用
有機材料。 【化2】 【化3】 【化4】 (ただし、式中D,E,G,J,L,Mは下記一般式
(5)の3−ベンゾチエニル誘導体、一般式(6)の3
−チエニル誘導体または一般式(7)の3−インドリル
誘導体を表し、R1 はアルキル基またはシアノエチル基
を表す。) 【化5】 【化6】 【化7】 (ただし、R10はアルキル基、アシル基、環状炭化水素
基またはフッ素置換アルキル基を表し、R2 〜R9 とR
11〜R15は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アシ
ル基、シアノ基、環状炭化水素基またはフッ素置換アル
キル基を表すが、一般式(2),(3)または(4)の
それぞれについて少なくとも1つの置換基は炭素数6以
上のアルキル基、炭素数3以上のフルオロアルキル基ま
たは嵩高い置換基を表す。)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21740295A JPH0961647A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 光素子用有機材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21740295A JPH0961647A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 光素子用有機材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0961647A true JPH0961647A (ja) | 1997-03-07 |
Family
ID=16703639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21740295A Pending JPH0961647A (ja) | 1995-08-25 | 1995-08-25 | 光素子用有機材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0961647A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002069439A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-08 | Kyocera Corp | フォトクロミック薄膜およびその製造方法、並びにそれを用いた光機能素子 |
| US6479604B1 (en) | 1998-08-17 | 2002-11-12 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Diarylethene compound, photochromic diarylethene type copolymer and method for the production of the same |
| EP1340793A1 (en) * | 2002-02-28 | 2003-09-03 | PIRELLI S.p.A. | Optical waveguides based on NLO polymers |
| US6846934B2 (en) | 2001-03-06 | 2005-01-25 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Photochromic diarylethene substituted with isoxazole group |
| JP2007031649A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Japan Atomic Energy Agency | 量子ビーム照射と光照射又は加熱により可逆的に着色/脱色する有機分子を含んだ樹脂組成物とナノパターン形成方法 |
| US7820672B2 (en) | 2003-02-13 | 2010-10-26 | Novartis Ag | Indolylmaleimide derivatives |
-
1995
- 1995-08-25 JP JP21740295A patent/JPH0961647A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6479604B1 (en) | 1998-08-17 | 2002-11-12 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Diarylethene compound, photochromic diarylethene type copolymer and method for the production of the same |
| JP2002069439A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-08 | Kyocera Corp | フォトクロミック薄膜およびその製造方法、並びにそれを用いた光機能素子 |
| US6846934B2 (en) | 2001-03-06 | 2005-01-25 | Korea Research Institute Of Chemical Technology | Photochromic diarylethene substituted with isoxazole group |
| EP1340793A1 (en) * | 2002-02-28 | 2003-09-03 | PIRELLI S.p.A. | Optical waveguides based on NLO polymers |
| US7820672B2 (en) | 2003-02-13 | 2010-10-26 | Novartis Ag | Indolylmaleimide derivatives |
| JP2007031649A (ja) * | 2005-07-29 | 2007-02-08 | Japan Atomic Energy Agency | 量子ビーム照射と光照射又は加熱により可逆的に着色/脱色する有機分子を含んだ樹脂組成物とナノパターン形成方法 |
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