JPH0967009A - Conveyor and multi-beam sensor - Google Patents
Conveyor and multi-beam sensorInfo
- Publication number
- JPH0967009A JPH0967009A JP24875395A JP24875395A JPH0967009A JP H0967009 A JPH0967009 A JP H0967009A JP 24875395 A JP24875395 A JP 24875395A JP 24875395 A JP24875395 A JP 24875395A JP H0967009 A JPH0967009 A JP H0967009A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- beam sensor
- work
- sensor
- light receiving
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Control Of Conveyors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 通過位置の不定なワークや、厚みの薄いワー
クを1つのセンサにより検出可能にする。
【解決手段】 ローラコンベア装置Aのワーク搬送面
(ローラ2の上面)の斜め下方にマルチビームセンサ1
1を配設する。マルチビームセンサ11からは、複数本
に分割された光ビームαがローラ2間の隙間に沿って投
射され、複数箇所の検出ポイントが設定される。各光ビ
ームαがワーク1の下面で散乱反射されると、各光ビー
ムα毎に異なる受光素子15a,15b,…で受光され
る。
(57) [Abstract] [PROBLEMS] A single sensor can detect a work having an indeterminate passage position and a work having a small thickness. SOLUTION: A multi-beam sensor 1 is obliquely below a work transfer surface (upper surface of a roller 2) of a roller conveyor device A.
1 is arranged. From the multi-beam sensor 11, the light beam α divided into a plurality of rays is projected along the gap between the rollers 2, and a plurality of detection points are set. When each light beam α is scattered and reflected on the lower surface of the work 1, the light receiving elements 15a, 15b, ...
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は搬送装置と、当該搬
送装置に使用するマルチビームセンサに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carrier device and a multi-beam sensor used for the carrier device.
【0002】[0002]
(搬送装置の全体的構成)図1に示すものは、ワーク1
どうしを衝突させたり、相互に押圧力を及ぼしたりする
ことなくワーク1間にスペースを保ちながら順次送るこ
とができるようにしたローラコンベア装置Aの概略図で
ある。このローラコンベア装置Aにあっては、ワーク1
の搬送路に沿って一定間隔毎に転動自在なローラ2が配
設されており、ローラ2の下方ではモータ3等により駆
動ベルト4が一定速度で回転している。また、ローラ2
の下方を非接触で走行している駆動ベルト4の下側には
ソレノイド(電磁アクチュエータ)5により駆動される
リフター6が所定ゾーン毎に配置されている。ローラ2
は、通常は駆動ベルト4から離間していてフリーになっ
ているが、ソレノイド5の駆動によりリフター6を上昇
させると駆動ベルト4がローラ2に押し付けられ、駆動
ベルト4によりローラ2が回転駆動される。また、リフ
ター6の近傍にはセンサSが配置されており、リフター
6の上方を通過するワーク1を検知しており、センサS
の出力信号は1段上流側のゾーンに配置されたソレノイ
ド5に送信されている。(Overall Configuration of Conveyor) What is shown in FIG.
FIG. 3 is a schematic view of a roller conveyor device A capable of sequentially feeding works 1 while maintaining a space between them without colliding with each other or exerting a pressing force on each other. In this roller conveyor device A, the work 1
Rollers 2 which can roll freely are arranged at regular intervals along the conveyance path of the above, and a drive belt 4 is rotated below the rollers 2 at a constant speed by a motor 3 or the like. Also, the roller 2
A lifter 6 driven by a solenoid (electromagnetic actuator) 5 is arranged in each predetermined zone below the drive belt 4 which travels in a contactless manner below. Laura 2
Is normally separated from the drive belt 4 and is free, but when the lifter 6 is raised by driving the solenoid 5, the drive belt 4 is pressed against the roller 2, and the roller 2 is rotationally driven by the drive belt 4. It A sensor S is arranged near the lifter 6 to detect the work 1 passing above the lifter 6, and the sensor S
Is transmitted to the solenoid 5 arranged in the zone on the upstream side of the first stage.
【0003】なお、図1では2ゾーンだけを示している
が、3以上のゾーンが形成されていてもよい(つまり、
1つの駆動ベルト4で制御される領域内に3台以上のリ
フターが設置されていてもよい)。また、ローラコンベ
ア装置Aは、図1のような構造物が連続的に設置されて
構成されている。Although only two zones are shown in FIG. 1, three or more zones may be formed (that is,
(3 or more lifters may be installed in the area controlled by one drive belt 4). Further, the roller conveyor device A is configured by continuously installing the structures as shown in FIG.
【0004】しかして、あるゾーンのセンサS(例え
ば、図1の下流側のセンサS)がワーク1を検出する
と、図1(a)に示すように、その上流側のソレノイド
5がセンサSから検知信号を受信してリフター6を下降
させ、ローラ2にブレーキ(図示せず)を掛けてワーク
1を停止させる。従って、ワーク1が検出されている位
置へ後続のワーク1が送られて衝突することがない。つ
いで、下流側のセンサSで検出されていたワーク1が当
該センサS上を通過してしまうと、図1(b)に示すよ
うに、このセンサSから上流側のソレノイド5へ非検知
信号が送られてリフター6が上昇し、ローラ2に駆動力
を与えてワーク1を下流側へ送る。このような動作をロ
ーラコンベア装置Aの各ゾーン毎で行なうことにより、
ワーク1は図2に示すように所定のスペースをあけて各
ゾーン毎に順次搬送される。When the sensor S in a certain zone (for example, the sensor S on the downstream side in FIG. 1) detects the work 1, the solenoid 5 on the upstream side from the sensor S moves from the sensor S as shown in FIG. 1 (a). Upon receiving the detection signal, the lifter 6 is lowered, and a brake (not shown) is applied to the roller 2 to stop the work 1. Therefore, the succeeding work 1 is not sent to the position where the work 1 is detected and collides with it. Then, when the work 1 detected by the sensor S on the downstream side passes over the sensor S, a non-detection signal is sent from the sensor S to the solenoid 5 on the upstream side as shown in FIG. The lifter 6 is sent up, and a driving force is applied to the roller 2 to send the work 1 to the downstream side. By performing such an operation for each zone of the roller conveyor device A,
As shown in FIG. 2, the work 1 is sequentially conveyed in each zone with a predetermined space.
【0005】(搬送装置に用いられている従来のセン
サ)従来においては、上記センサSとしては、透過型も
しくは回帰反射型の光電センサ7a、7bや拡散反射型
や距離設定型の光電センサ8が用いられている。このう
ち透過型もしくは回帰反射型の光電センサ7a、7bの
場合には、投光部と受光部もしくは投受光部と回帰反射
板など2体を設置する必要があるので、図3に示すよう
にセンサ光軸が搬送路の上面を横切るように左右の側板
9の外側に配置していた。このため光電センサ7a、7
bがローラコンベア装置A(側板9)の外に飛び出し、
出っ張りとなって作業の邪魔になっていた。また、ロー
ラ2上を搬送される板状のワーク1(例えば、ハガキ)
の場合には検出が困難であった。さらに、ワーク1が慣
性などでローラ2上を滑ってワーク1どうしが衝突し、
図4に示すようにワーク1が浮き上がってブリッジ現象
を起こすと、浮き上がっているワーク1の検出が不可能
になることがあり、その結果ワーク1がますます当該箇
所で渋滞するという問題があった。(Conventional Sensor Used in Transporting Apparatus) Conventionally, as the sensor S, a transmission type or retroreflective type photoelectric sensor 7a, 7b and a diffuse reflection type or distance setting type photoelectric sensor 8 are used. It is used. Among these, in the case of the transmissive or retroreflective photoelectric sensors 7a and 7b, it is necessary to install two parts such as a light projecting part and a light receiving part or a light projecting and receiving part and a retroreflective plate, so as shown in FIG. The sensor optical axis is arranged outside the left and right side plates 9 so as to cross the upper surface of the conveyance path. Therefore, the photoelectric sensors 7a, 7
b jumps out of the roller conveyor device A (side plate 9),
It was a ledge and was an obstacle to the work. In addition, a plate-shaped work 1 (for example, a postcard) conveyed on the roller 2
In that case, detection was difficult. Furthermore, the work 1 slides on the roller 2 due to inertia and the work 1 collides with each other,
As shown in FIG. 4, when the work 1 floats and causes a bridge phenomenon, it may be impossible to detect the lifted work 1, and as a result, the work 1 becomes more and more congested at the location. .
【0006】また、拡散反射型もしくは距離設定型の光
電センサ8の場合には、センサ光軸がローラ2間の隙間
を通過するようにして、投受光面を真上に向けて搬送路
の下方に配置されている。この光電センサ8では、図3
に示すごとくローラコンベア装置Aから突出しないよう
ローラ2下方に配置することができ、薄いワーク1の検
出やブリッジ現象を起こしているワーク1の検出も容易
である。しかしながら、このような拡散反射型もしくは
距離設定型の光電センサの場合には、搬送路の幅方向の
1箇所でしかワーク1を検出できないので、通過位置不
定のワーク1を検出する場合には、図3のように検知位
置毎に多数個設置する必要があり、コストが高くついて
いた。In the case of the photoelectric sensor 8 of the diffuse reflection type or the distance setting type, the sensor optical axis passes through the gap between the rollers 2 so that the light emitting / receiving surface faces directly above and below the conveying path. It is located in. In this photoelectric sensor 8, as shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the roller 2 can be arranged below the roller 2 so as not to project from the roller conveyor device A, and it is easy to detect a thin work 1 or a work 1 causing a bridge phenomenon. However, in the case of such a diffuse reflection type or distance setting type photoelectric sensor, since the work 1 can be detected only at one position in the width direction of the transport path, when detecting the work 1 whose passing position is indefinite, As shown in FIG. 3, it is necessary to install a large number at each detection position, resulting in high cost.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明は叙上の従来例
の欠点に鑑みてなされたものであり、その目的とすると
ころは、通過位置が不定な搬送物を1台のセンサで検出
することができる搬送装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the drawbacks of the above-mentioned conventional examples, and its object is to detect a conveyed object whose passing position is indefinite with one sensor. An object of the present invention is to provide a transport device capable of performing the above.
【0008】また、本発明の別な目的は、厚みの薄い搬
送物を1台のセンサで検出することができる搬送装置を
提供することにある。Another object of the present invention is to provide a carrier device capable of detecting a thin object to be conveyed by a single sensor.
【0009】さらに、上記搬送装置に用いられるマルチ
ビームセンサを提供することにある。Another object of the present invention is to provide a multi-beam sensor used in the above-mentioned transfer device.
【0010】[0010]
【発明の開示】請求項1に記載の搬送装置は、搬送物を
搬送するための搬送手段と、1つの筐体から複数の光ビ
ームを出射して反射光を別々の受光素子で受光すること
により搬送物を検出するマルチビームセンサと、前記セ
ンサからの出力にもとづいて前記搬送手段の送りと停止
を制御する搬送制御手段と、を備えたことを特徴として
いる。DISCLOSURE OF THE INVENTION According to a first aspect of the present invention, there is provided a transport device for transporting a transport object and a plurality of light beams emitted from one housing, and reflected light is received by different light receiving elements. Is provided with a multi-beam sensor for detecting a conveyed object, and a conveyance control means for controlling the feeding and stopping of the conveying means based on the output from the sensor.
【0011】本発明の搬送装置にあっては、搬送物を検
出するためのセンサとして、複数の光ビームを出射する
ことのできるマルチビームセンサを用いているので、各
光ビーム毎に検出位置を設定することにより、複数の検
出位置を設定することができる。従って、1台のセンサ
により通過位置が不定な搬送物を検出することができ
る。In the transport apparatus of the present invention, since a multi-beam sensor capable of emitting a plurality of light beams is used as a sensor for detecting a transported object, the detection position is determined for each light beam. By setting, a plurality of detection positions can be set. Therefore, a single sensor can detect a conveyed object whose passing position is indefinite.
【0012】請求項2に記載の実施態様は、請求項1記
載の搬送装置において、前記マルチビームセンサが、搬
送物検出面の斜め側方に設置されていることを特徴とし
ている。A second aspect of the present invention is characterized in that, in the conveying apparatus according to the first aspect, the multi-beam sensor is installed on an oblique side of a conveyed object detection surface.
【0013】この実施態様にあっては、マルチビームセ
ンサを搬送物検出面の斜め側方に設置しているので、搬
送物に対して斜めに光ビームを照射することができる。
従って、厚みの薄い搬送物も検出することができる。ま
た、搬送物がブリッジ現象を起こした場合にも搬送物を
検出可能にできる。In this embodiment, since the multi-beam sensor is installed on the diagonal side of the object detection surface, the object can be obliquely irradiated with the light beam.
Therefore, a conveyed product having a small thickness can also be detected. In addition, even when the conveyed object causes the bridge phenomenon, the conveyed object can be detected.
【0014】請求項3に記載の実施態様は、請求項1記
載の搬送装置において、前記マルチビームセンサが、発
光素子と、受光素子と、2種以上の回折格子を有し、当
該2種以上の回折格子うち一つの回折格子によって生成
される回折光スポットの間に別な回折格子によって生成
される回折光スポットが位置するようにして各回折光ス
ポットが一直線上に配列されるようにしたことを特徴と
している。According to a third aspect of the present invention, in the transport apparatus according to the first aspect, the multi-beam sensor has a light emitting element, a light receiving element, and two or more types of diffraction gratings, and the two or more types. Each of the diffracted light spots generated by another diffraction grating is positioned between the diffracted light spots generated by one of the diffraction gratings Is characterized by.
【0015】この実施態様にあっては、2種以上の回折
格子うち一つの回折格子によって生成される回折光スポ
ットの間に別な回折格子によって生成される回折光スポ
ットが位置するようにして各回折光スポットが一直線上
に配列しているので、それぞれ適当なパターンの回折格
子を選択して適当な位置に配置することにより、任意の
位置もしくは任意の間隔で回折光スポットを配列させる
ことができる。従って、搬送物の寸法や形状に応じた配
列パターンのマルチビームセンサを用いることができ
る。In this embodiment, the diffracted light spots produced by another diffraction grating are positioned between the diffracted light spots produced by one of the two or more types of diffraction gratings. Since the diffracted light spots are arranged on a straight line, the diffracted light spots can be arranged at any position or at any interval by selecting a diffraction grating having an appropriate pattern and arranging it at an appropriate position. . Therefore, it is possible to use a multi-beam sensor having an array pattern according to the size and shape of the transported object.
【0016】請求項4に記載の実施態様は、請求項1記
載の搬送装置において、前記マルチビームセンサの検出
方式が距離設定型となっていることを特徴としている。According to a fourth aspect of the present invention, in the transport apparatus according to the first aspect, the detection method of the multi-beam sensor is a distance setting type.
【0017】この実施態様にあっては、一定距離範囲内
に検出領域を設定することができるので、検出面を通過
する搬送物と検出面から離れた位置にある物体(周囲の
機械や作業員など)とを区別することができ、誤検出の
恐れを少なくすることができる。In this embodiment, since the detection area can be set within a certain distance range, the object passing through the detection surface and the object located at a position distant from the detection surface (such as surrounding machines and workers) Etc.) and the risk of false detection can be reduced.
【0018】請求項5に記載の実施態様は、請求項1記
載の搬送装置において、前記マルチビームセンサの筐体
に設けられた投受光面が水平方向ないし斜め下向きとな
っていることを特徴としている。According to a fifth aspect of the present invention, in the transport apparatus according to the first aspect, the light emitting / receiving surface provided on the housing of the multi-beam sensor is horizontal or obliquely downward. There is.
【0019】この実施態様にあっては、マルチビームセ
ンサの筐体に設けられた投受光面が水平方向ないし斜め
下向きとなっているので、投受光面に汚れや曇り、ホコ
リ等が付着しにくくなる。従って、投受光面の汚れやホ
コリ等によって光ビームが遮られ、マルチビームセンサ
の検出感度が低下するのを防止することができる。In this embodiment, since the light emitting / receiving surface provided on the housing of the multi-beam sensor is oriented horizontally or obliquely downward, dirt, cloudiness, dust, etc. are unlikely to adhere to the light emitting / receiving surface. Become. Therefore, it is possible to prevent the detection sensitivity of the multi-beam sensor from being lowered due to the light beam being blocked by dirt or dust on the light emitting / receiving surface.
【0020】請求項6に記載の実施態様は、請求項1記
載の搬送装置において、前記マルチビームセンサが、検
出面における各反射光ビームによる判別結果をオア出力
するものであることを特徴としている。According to a sixth aspect of the present invention, in the transport apparatus according to the first aspect, the multi-beam sensor outputs the discrimination result by each reflected light beam on the detection surface by OR output. .
【0021】この実施態様にあっては、マルチビームセ
ンサが判別結果をオア出力するようにしているので、搬
送物がいずれかの検出箇所を通過したら検出信号を出力
する。従って、搬送物が通過したかどうかだけを検知し
たい用途の場合には、その後の信号処理を簡単にするこ
とができる。In this embodiment, since the multi-beam sensor outputs the discrimination result by OR, the detection signal is output when the conveyed object has passed one of the detection points. Therefore, in the case of an application in which it is desired to detect whether or not the transported object has passed, the subsequent signal processing can be simplified.
【0022】請求項7に記載の実施態様は、請求項1記
載の搬送装置において、前記マルチビームセンサが、検
出面における各反射光ビームを個別に判別するものであ
ることを特徴としている。According to a seventh aspect of the present invention, in the transport apparatus according to the first aspect, the multi-beam sensor individually discriminates each reflected light beam on the detection surface.
【0023】この実施態様においては、検出面における
各光ビームを個別に判別するようにしているので、搬送
物が通過したことを検出できるだけでなく、搬送物の検
出箇所(幅方向における通過位置)を検出することもで
きる。あるいは、搬送物の大まかな幅を検出することも
できる。In this embodiment, since each light beam on the detection surface is individually discriminated, it is possible not only to detect that the conveyed object has passed, but also to detect the conveyed object (passage position in the width direction). Can also be detected. Alternatively, it is possible to detect the rough width of the conveyed product.
【0024】請求項8に記載の実施態様は、請求項7記
載の搬送装置において、搬送物通過位置の進行方向に向
かって、その上下のいずれか少なくとも一方、及び/又
は左右のいずれか少なくとも一方にマルチビームセンサ
を配置したことを特徴としている。According to an eighth aspect of the present invention, in the conveying apparatus according to the seventh aspect, at least one of the upper and lower sides and / or the at least one of the left and right sides of the conveying apparatus is directed toward the traveling direction of the conveyed object passage position. It is characterized in that a multi-beam sensor is arranged in.
【0025】マルチビームセンサを上下のいずれかに配
置することにより搬送物の幅を検知できる。また、マル
チビームセンサを左右のいずれかに配置することにより
搬送物の高さを検知できる。さらに、両方にマルチビー
ムセンサを配置することにより搬送物の幅と高さを知る
ことができる。よって、この実施例によれば、搬送物の
サイズを検知することができる。The width of the conveyed object can be detected by disposing the multi-beam sensor on either the upper side or the lower side. In addition, the height of the conveyed object can be detected by disposing the multi-beam sensor on either side. Further, by disposing the multi-beam sensors on both sides, the width and height of the conveyed object can be known. Therefore, according to this embodiment, the size of the conveyed product can be detected.
【0026】請求項9に記載のマルチビームセンサは、
発光素子と、受光素子と、2種以上の回折格子を有し、
当該2種以上の回折格子うち一つの回折格子によって生
成される回折光スポットの間に別な回折格子によって生
成される回折光スポットが位置するようにして各回折光
スポットが一直線上に配列されるようになったことを特
徴としている。A multi-beam sensor according to a ninth aspect is
A light emitting element, a light receiving element, and two or more types of diffraction gratings,
Each diffracted light spot is arranged in a straight line such that a diffracted light spot generated by another diffraction grating is located between diffracted light spots generated by one of the two or more types of diffraction gratings. It is characterized by that.
【0027】このマルチビームセンサにあっては、2種
以上の回折格子うち一つの回折格子によって生成される
回折光スポットの間に別な回折格子によって生成される
回折光スポットが位置するようにして各回折光スポット
が一直線上に配列しているので、それぞれ適当なパター
ンの回折格子を選択して適当な位置に配置することによ
り、任意の位置もしくは任意の間隔で回折光スポットを
配列させることができる。従って、回折光スポットの任
意の配列パターンを得ることができる。In this multi-beam sensor, the diffracted light spot generated by another diffraction grating is positioned between the diffracted light spots generated by one of the two or more types of diffraction gratings. Since the diffracted light spots are arranged in a straight line, it is possible to arrange the diffracted light spots at any position or at any interval by selecting a diffraction grating with an appropriate pattern and arranging it at an appropriate position. it can. Therefore, an arbitrary array pattern of diffracted light spots can be obtained.
【0028】[0028]
【発明の実施の形態】図5は本発明の一実施形態による
搬送装置、すなわちローラコンベア装置Aを示す一部破
断した斜視図である。このローラコンベア装置Aの全体
的構成は、センサ部分を除いて図1(a)(b)に示し
たものと同じであるので、再度図示することは省略す
る。FIG. 5 is a partially cutaway perspective view showing a conveying device, that is, a roller conveyor device A according to an embodiment of the present invention. The entire structure of the roller conveyor device A is the same as that shown in FIGS. 1A and 1B except for the sensor portion, and therefore the illustration thereof is omitted.
【0029】本発明のローラコンベア装置Aでは、各ゾ
ーン毎において、検出面(ローラ2の上面)の斜め下側
方に、センサSとして、1台ずつマルチビームセンサ1
1が配置されている。すなわち、図5に示すように、ロ
ーラ2の下側空間において側板9の内側近傍に、投受光
面が斜め上方を向くようにしてマルチビームセンサ11
が配置されている。マルチビームセンサ11は、投光部
(マルチビーム光源12)と受光部とを備えており、投
光部からは複数本の不連続な光ビームαが出射されてい
る。これらの光ビームαは、同一面内にあり、ローラ2
間の隙間を通過している。これらのいずれかの光ビーム
αの位置をワーク1が通過すると、光ビームαがワーク
1下面で拡散反射され、その反射光がマルチビームセン
サ11の受光部で受光され、ワーク1が検出される。In the roller conveyor device A of the present invention, the multi-beam sensor 1 is provided as a sensor S in each zone diagonally below the detection surface (the upper surface of the roller 2).
1 is arranged. That is, as shown in FIG. 5, in the lower space of the roller 2, near the inner side of the side plate 9, the multi-beam sensor 11 is arranged so that the light projecting / receiving surface faces obliquely upward.
Is arranged. The multi-beam sensor 11 includes a light projecting unit (multi-beam light source 12) and a light receiving unit, and a plurality of discontinuous light beams α are emitted from the light projecting unit. These light beams α are in the same plane and the roller 2
It passes through the gap between them. When the work 1 passes the position of any one of these light beams α, the light beam α is diffused and reflected on the lower surface of the work 1, and the reflected light is received by the light receiving portion of the multi-beam sensor 11, and the work 1 is detected. .
【0030】図6は上記マルチビームセンサ11の一例
を示す斜視図であって、筐体12内にマルチビーム光源
13、受光レンズ14及び受光素子アレイ15a,15
b,…等が納められている。投光部を構成するマルチビ
ーム光源13は、発光ダイオード(LED)や半導体レ
ーザー素子(LD)等の発光素子16と、投光レンズ1
7と、回折格子18とから構成されている。発光素子1
6から出射された発散光は投光レンズ17によってコリ
メータ光に変換された後、回折格子18を通過する。こ
こでは、図7に示すように、回折光のうち0次光と±1
次光の光ビームαが用いられる。受光部は、受光レンズ
14と受光素子アレイ15a,15b,…からなり、受
光素子アレイを構成する各受光素子15a,15b,1
5cは、ローラ2の上面を通過するワーク1で散乱反射
された0次光もしくは±1次光が受光レンズ14で集光
される位置に配置されている。従って、ワーク1が検出
面19(ローラ2の上面)における0次光もしくは±1
次光のいずれかの光スポット位置を通過すると、ワーク
1で散乱反射された光ビームαがいずれかの受光素子1
5a,15b,15cで受光され、ワーク1が検出され
る。FIG. 6 is a perspective view showing an example of the multi-beam sensor 11, in which a multi-beam light source 13, a light-receiving lens 14 and light-receiving element arrays 15a, 15 are provided in a housing 12.
b, ..., etc. are stored. The multi-beam light source 13 constituting the light projecting unit includes a light emitting element 16 such as a light emitting diode (LED) or a semiconductor laser element (LD), and the light projecting lens 1.
7 and a diffraction grating 18. Light emitting element 1
The divergent light emitted from 6 is converted into collimator light by the light projecting lens 17, and then passes through the diffraction grating 18. Here, as shown in FIG.
The light beam α of the next light is used. The light receiving section is composed of a light receiving lens 14 and light receiving element arrays 15a, 15b, ..., And each of the light receiving elements 15a, 15b, 1 which constitutes the light receiving element array.
5 c is arranged at a position where the 0th order light or the ± 1st order light scattered and reflected by the work 1 passing on the upper surface of the roller 2 is condensed by the light receiving lens 14. Therefore, the work 1 is the 0th order light or ± 1 on the detection surface 19 (the upper surface of the roller 2)
When passing through any of the light spot positions of the next light, the light beam α scattered and reflected by the work 1 is received by any of the light receiving elements 1
The light is received by 5a, 15b and 15c, and the work 1 is detected.
【0031】図8に示すものは、上記マルチビームセン
サ11の回路構成を示すブロック図である。発振回路2
1で発生した基準信号と同期してクロックパルス発生回
路22からは一定周波数のパルス信号が出力されてい
る。発光素子駆動回路23はクロックパルス発生回路2
2からパルス信号を受信すると、発光素子16を発光さ
せ、その結果発光素子16は一定周期毎にパルス発光し
ている。受光素子アレイを構成する各受光素子15a,
15b,15cは、ワーク1からの反射光ビームαを受
光すると受光信号を出力する。この受光信号は増幅器2
4によって増幅された後、コンパレータ25により所定
のスレッショルド値と比較される。増幅された受光信号
がスレッショルド値よりも大きい場合には、レジスタ2
6に判定信号が出力される。レジスタ26にはクロック
パルス発生回路22からパルス信号が入力されており、
パルス信号と同時にコンパレータ25から判定信号を受
け取った場合には、ワーク1を検出したと判断し、出力
回路27から検出信号を出力する。各受光素子15a,
15b,15cの受光信号に基づく検出信号を出力する
出力回路27はオア(OR)演算回路28に接続されて
いるので、いずれか1つの受光素子15a,15b,1
5cが受光すると、出力端子29から検出信号を出力す
る。FIG. 8 is a block diagram showing the circuit configuration of the multi-beam sensor 11. Oscillation circuit 2
The clock pulse generating circuit 22 outputs a pulse signal having a constant frequency in synchronization with the reference signal generated in 1. The light emitting element drive circuit 23 is the clock pulse generation circuit 2
When the pulse signal is received from 2, the light emitting element 16 is caused to emit light, and as a result, the light emitting element 16 emits pulse light at regular intervals. Each light receiving element 15a that constitutes the light receiving element array,
When the reflected light beam α from the work 1 is received, 15b and 15c output light reception signals. This received light signal is sent to the amplifier 2
After being amplified by 4, it is compared with a predetermined threshold value by the comparator 25. If the amplified received light signal is greater than the threshold value, register 2
The determination signal is output to 6. A pulse signal is input to the register 26 from the clock pulse generation circuit 22,
When the determination signal is received from the comparator 25 at the same time as the pulse signal, it is determined that the work 1 is detected, and the detection signal is output from the output circuit 27. Each light receiving element 15a,
Since the output circuit 27 that outputs the detection signal based on the light receiving signals of 15b and 15c is connected to the OR operation circuit 28, any one of the light receiving elements 15a, 15b and 1
When 5c receives light, it outputs a detection signal from the output terminal 29.
【0032】なお、図8の回路構成でオア演算回路28
を用いる代りに、マルチビーム光源13から出射された
すべての光ビームα(0次光及び±1次光)を1つの受
光素子で受光するようにしてもよい。The OR operation circuit 28 has the circuit configuration shown in FIG.
Instead of using, all the light beams α (0th order light and ± 1st order light) emitted from the multi-beam light source 13 may be received by one light receiving element.
【0033】上記のように、このローラコンベア装置A
にあっては、センサとしてマルチビームセンサ11を用
い、複数本の光ビームαをローラ2間の隙間に沿って出
射し、検出面19における光スポットのいずれかをワー
ク1が通過すると、これを検出するようにしているの
で、1台のセンサによって通過位置の不定なワーク1を
検出することができる。As described above, this roller conveyor device A
In this case, the multi-beam sensor 11 is used as a sensor, a plurality of light beams α are emitted along the gaps between the rollers 2, and when any one of the light spots on the detection surface 19 is passed by the work 1, this is detected. Since the detection is performed, it is possible to detect the work 1 whose passing position is indefinite by one sensor.
【0034】また、マルチビームセンサ11は検出面1
9に対して斜め側方に配置されているので、薄い板状の
ワーク1も確実に検出することができる。さらに、ブリ
ッジ現象が発生した場合にもワーク1を検出することが
できる。The multi-beam sensor 11 has a detection surface 1
Since it is arranged obliquely laterally with respect to 9, it is possible to reliably detect the thin plate-shaped work 1. Further, the work 1 can be detected even when the bridge phenomenon occurs.
【0035】また、マルチビームセンサ11は、ローラ
2の下方に配置されているので、外観上センサが目立た
ず、ワーク1の通過の邪魔になることもない。さらに、
ローラコンベア装置Aから外側へ飛び出すこともないの
で、作業の邪魔になることもない。Further, since the multi-beam sensor 11 is arranged below the roller 2, the sensor is inconspicuous in appearance and does not obstruct the passage of the work 1. further,
Since it does not jump out from the roller conveyor device A, it does not interfere with the work.
【0036】また、マルチビームセンサ11を用いる利
点としては、検出範囲を広視野化でき、かつ高S/N比
を実現できる点にある。例えば、散乱型の光源を備えた
センサを用いた場合には、図9の30のような全体に広
がった光ビーム強度曲線となるので、全体にわたって光
ビーム強度が小さくなり、特に中心から外れた位置では
光ビーム強度が検出感度以下となってしまい、検出範囲
が狭くなると共にS/N比も悪くなる。これに対し、マ
ルチビームセンサ11を用いると検出箇所は不連続とな
るが、図9の31のようなピーク状の光ビーム強度曲線
が得られ、光ビーム出射箇所における光ビーム強度を中
心から外れた箇所でも大きくできる。この結果、検出範
囲を広視野化でき、かつ高S/N比を実現することがで
きる。The advantage of using the multi-beam sensor 11 is that the detection range can be widened and a high S / N ratio can be realized. For example, when a sensor equipped with a scattering type light source is used, the light beam intensity curve spreads over the whole as shown by 30 in FIG. At the position, the light beam intensity becomes lower than the detection sensitivity, the detection range is narrowed, and the S / N ratio is deteriorated. On the other hand, when the multi-beam sensor 11 is used, the detection points are discontinuous, but a peak-shaped light beam intensity curve such as 31 in FIG. 9 is obtained, and the light beam intensity at the light beam emission point deviates from the center. You can make it bigger even in the place As a result, the detection range can be widened and a high S / N ratio can be realized.
【0037】もっとも、マルチビームセンサ11を用い
ると、検出位置(光スポット位置)が飛び飛びになるの
で、検出面19における光スポット間隔gとワーク1の
最小幅mとの関係が問題となる。すなわち、光スポット
間の非検出領域をワーク1が通過すると、ワーク検知不
能となる。これを防止するためには、検出面19におけ
る光スポット間隔g、側板9の内面と端の光スポットの
間隔のうち最大値が、ワーク1の最小幅mよりも小さく
なるように設定する必要がある。However, when the multi-beam sensor 11 is used, the detection positions (light spot positions) are scattered, so the relationship between the light spot interval g on the detection surface 19 and the minimum width m of the work 1 becomes a problem. That is, when the work 1 passes through the non-detection area between the light spots, the work cannot be detected. In order to prevent this, it is necessary to set the maximum value of the light spot distance g on the detection surface 19 and the light spot distance between the inner surface and the end of the side plate 9 to be smaller than the minimum width m of the work 1. is there.
【0038】例えば、最小幅mのワーク1として封筒や
ハガキのような定型郵便物を想定し、ワーク1の最小幅
mを90mmとする。また、マルチビームセンサ11とし
て、図7のような3本の光ビームα(0次光、±1次
光)を出射するものを用い、マルチビームセンサ11を
図10に示すように検出面19の下方H=130mm、側
板9の内面からL=30mmの位置に配置した。図10に
おいては、 a=側板9内面と−1次光の光スポットの間隔 b=−1次光の光スポットと0次光の光スポットの間隔 c=0次光の光スポットと+1次光の光スポットの間隔 d=+1次光の光スポットと側板9の内面の間隔 である。ここで、回折角θを変化させると共にa=85
mmとなるようにマルチビームセンサ11を傾けて0次光
の出射角φを調整し、d=max(a,b,c)つまりd
をa、b、cのうち最も大きな値に等しくし、コンベア
幅W=a+b+c+dとして決定した。このときのコン
ベア幅Wと各値a、b、c(ビーム間隔)の関係を示し
たものが図11である。図11から、a、b、c、dの
いずれもがワーク1の最小幅90mmよりも小さくなる
(a、b、c、d<g)コンベア幅Wは、約300mm以
下であることが分かる。従って、コンベア幅Wが約30
0mm以下であれば、図7のようなマルチビームセンサ1
1を用い、図11のコンベア幅Wから読み取った値とな
るようにa、b、cの値を読み取り、そのような値が得
られるように回折角θ及び0次光の出射角φを決定すれ
ばよい。For example, assuming that the work 1 having the minimum width m is a standard mail such as an envelope or a postcard, the work 1 has a minimum width m of 90 mm. Further, as the multi-beam sensor 11, one that emits three light beams α (0th order light, ± first order light) as shown in FIG. 7 is used, and the multibeam sensor 11 is used as a detection surface 19 as shown in FIG. H = 130 mm from the inner side of the side plate, and L = 30 mm from the inner surface of the side plate 9. In FIG. 10, a = the distance between the inner surface of the side plate 9 and the light spot of the −1st-order light b = the distance between the light spot of the −first-order light and the light spot of the 0th-order light c = the light spot of the 0th-order light and the + 1st-order light The distance between the light spot of d = + 1 order light and the inner surface of the side plate 9. Here, while changing the diffraction angle θ, a = 85
The multi-beam sensor 11 is tilted so as to be mm, and the emission angle φ of the 0th-order light is adjusted, and d = max (a, b, c), that is, d
Was made equal to the largest value among a, b, and c, and was determined as the conveyor width W = a + b + c + d. FIG. 11 shows the relationship between the conveyor width W and the respective values a, b, and c (beam intervals) at this time. From FIG. 11, it can be seen that the conveyor width W in which all of a, b, c, d are smaller than the minimum width 90 mm of the work 1 (a, b, c, d <g) is about 300 mm or less. Therefore, the conveyor width W is about 30
If it is 0 mm or less, the multi-beam sensor 1 as shown in FIG.
11, the values of a, b, and c are read so as to be the values read from the conveyor width W of FIG. 11, and the diffraction angle θ and the exit angle φ of the 0th-order light are determined so that such values are obtained. do it.
【0039】(4本ビームの場合)また、図12には、
発光素子16から出射され投光レンズ17でコリメート
光に変換された光ビームαを回折格子18に通すことに
より、±1次光と±2次光(回折効率を調整することに
より、0次光は消している)の4本の光ビームαを出射
させたマルチビームセンサ11を示している。(In case of four beams) Also, in FIG.
By passing the light beam α emitted from the light emitting element 16 and converted into the collimated light by the light projecting lens 17 through the diffraction grating 18, the ± first-order light and the ± second-order light (the zero-order light is adjusted by adjusting the diffraction efficiency). The multi-beam sensor 11 emits four light beams α.
【0040】このようなマルチビームセンサ11によ
り、同じく最小幅m=90mmのワーク1を検出する場合
を考える。マルチビームセンサ11は、図10の場合と
同じく検出面19の下方H=130mm、側板9の内面か
らL=30mmの位置に配置されている。また、図12に
おいては、 a=側板9の内面と−2次光の光スポットの間隔 b=−2次光の光スポットと−1次光の光スポットの間
隔 c=−1次光の光スポットと+1次光の光スポットの間
隔 d=+1次光の光スポットと+2次光の光スポットの間
隔 e=+2次光の光スポットと側板9の内面との間隔 である。回折角θを変化させると共にa=85mmとなる
ようにマルチビームセンサ11の角度(向き)を調整
し、またe=max(a,b,c,d)となるようにし、
コンベア幅W=a+b+c+d+eとして決定した。こ
のときのコンベア幅Wと各値a、b、c、d(ビーム間
隔)の関係を示したものが図13である。図13から、
a、b、c、d、eのいずれもがワーク1の最小幅g=
90mmよりも小さくなる(a、b、c、d、e<g)コ
ンベア幅Wは、約300〜360mmであることが分か
る。従って、コンベア幅Wが約300〜360mmであれ
ば、図12のような構成のマルチビームセンサ11を用
い、図13のコンベア幅Wから読み取った値となるよう
にa、b、c、dの値を読み取り、そのような値が得ら
れるように回折角θ及びマルチビームセンサ11の角度
を決定すればよい。Consider a case where the multi-beam sensor 11 as described above similarly detects the work 1 having the minimum width m = 90 mm. The multi-beam sensor 11 is arranged at a position H = 130 mm below the detection surface 19 and L = 30 mm from the inner surface of the side plate 9 as in the case of FIG. In FIG. 12, a = interval between the inner surface of the side plate 9 and the light spot of the −secondary light b = space between the light spot of the −secondary light and the light spot of the −first light c = light of the first light Distance between spot and light spot of + 1st order light d = Interval between light spot of + 1st order light and light spot of + 2nd order light e = + Distance between light spot of 2nd order light and inner surface of side plate 9. While changing the diffraction angle θ, the angle (direction) of the multi-beam sensor 11 is adjusted so that a = 85 mm, and also e = max (a, b, c, d),
The conveyor width was determined as W = a + b + c + d + e. FIG. 13 shows the relationship between the conveyor width W and the respective values a, b, c, d (beam intervals) at this time. From FIG.
All of a, b, c, d, and e are the minimum width g of the work 1 g =
It can be seen that the conveyor width W smaller than 90 mm (a, b, c, d, e <g) is about 300 to 360 mm. Therefore, if the conveyor width W is about 300 to 360 mm, the multi-beam sensor 11 having the configuration as shown in FIG. 12 is used, and the values of a, b, c, and d are set to the values read from the conveyor width W in FIG. It suffices to read the values and determine the diffraction angle θ and the angle of the multi-beam sensor 11 so that such values can be obtained.
【0041】(マルチビームセンサの他例)上記のよう
にマルチビームセンサ11は検出面19に対して斜めに
配置されているので、回折格子18の0次光と±1次光
を用いたマルチビームセンサ11の場合でも、検出面1
9における光ビームαの光スポット間隔gは均一にはな
らない。しかし、検出面19における光ビームαの間隔
は等間隔であることが広視野化の点からも好ましい。(Other example of multi-beam sensor) As described above, since the multi-beam sensor 11 is obliquely arranged with respect to the detection surface 19, a multi-beam sensor using the 0th order light and the ± 1st order light of the diffraction grating 18 is used. Even in the case of the beam sensor 11, the detection surface 1
The light spot spacing g of the light beam α in 9 is not uniform. However, it is preferable from the viewpoint of widening the field of view that the light beams α on the detection surface 19 are evenly spaced.
【0042】図14〜図16に示すものは、マルチビー
ムセンサ11の回折格子18として組み合せた2つの回
折格子18a,18b(複合グレーティング)を用いる
ことによって検出面19における光ビームαの光スポッ
ト間隔gを所望間隔となるように調整する(例えば、光
スポット間隔が等間隔となるようにする)方法を示して
いる。まず、図14に示すものは、発光素子16から出
射され投光レンズ17でコリメート化された光ビームα
を2つの回折格子18a,18bに透過させ、一方の回
折格子18aによって0次光と±1次光を生じさせ、他
方の回折格子18bにより0次光のみを生じさせてい
る。そして、回折格子18bによる0次光の光スポット
を、回折格子18aによる0次光の光スポットと+1次
光の光スポットの中間に配置することにより、検出面1
9における各光ビームαの光スポット間隔gをほぼ均一
にしている。FIGS. 14 to 16 show the light spot spacing of the light beam α on the detection surface 19 by using two diffraction gratings 18a and 18b (composite grating) combined as the diffraction grating 18 of the multi-beam sensor 11. A method of adjusting g so as to have a desired interval (for example, making light spot intervals equal) is shown. First, as shown in FIG. 14, the light beam α emitted from the light emitting element 16 and collimated by the light projecting lens 17 is used.
Is transmitted through two diffraction gratings 18a and 18b, one diffraction grating 18a generates 0th order light and ± 1st order light, and the other diffraction grating 18b generates only 0th order light. By arranging the 0th-order light spot of the diffraction grating 18b between the 0th-order light spot and the + 1st-order light spot of the diffraction grating 18a, the detection surface 1
The light spot intervals g of the respective light beams α in 9 are made substantially uniform.
【0043】図15に示すものは、発光素子16から出
射され投光レンズ17でコリメート化された光ビームα
を2つの回折格子18a,18bに透過させ、一方の回
折格子18aによって0次光と±1次光を生じさせ、他
方の回折格子18bにより±1次光を生じさせている。
そして、回折格子18bによる−1次光の光スポット
を、回折格子18aによる0次光と+1次光の各光スポ
ット間の中央部に配置し、回折格子18aによる+1次
光の光スポットを、回折格子18bによる−1次光と+
1次光の各光スポット間の中央部に配置することによ
り、検出面19における各光ビームαの光スポット間隔
gをほぼ均一にしている。FIG. 15 shows a light beam α emitted from the light emitting element 16 and collimated by the light projecting lens 17.
Is transmitted through two diffraction gratings 18a and 18b, one diffraction grating 18a generates 0th-order light and ± 1st-order light, and the other diffraction grating 18b generates ± 1st-order light.
Then, the −1st-order light spot of the diffraction grating 18b is arranged in the center between the 0th-order light and + 1st-order light spots of the diffraction grating 18a, and the + 1st-order light spot of the diffraction grating 18a is -1st order light and + by the diffraction grating 18b
By arranging them in the central portion between the respective light spots of the primary light, the light spot intervals g of the respective light beams α on the detection surface 19 are made substantially uniform.
【0044】図16に示すものは、発光素子16から出
射され投光レンズ17でコリメート化された光ビームα
を2つの回折格子18a,18bに透過させ、一方の回
折格子18aによって0次光と±1次光を生じさせ、他
方の回折格子18bにより±1次光を生じさせている。
そして、検出面19において回折格子18aによる0次
光と+1次光の各光スポット間の間隔を、回折格子18
bによる±1次光の光スポットによってほぼ3等分する
ことにより、検出面19における各光ビームαの光スポ
ット間隔gをほぼ均一にしている。FIG. 16 shows a light beam α emitted from the light emitting element 16 and collimated by the light projecting lens 17.
Is transmitted through two diffraction gratings 18a and 18b, one diffraction grating 18a generates 0th-order light and ± 1st-order light, and the other diffraction grating 18b generates ± 1st-order light.
Then, on the detection surface 19, the distance between the light spots of the 0th order light and the + 1st order light by the diffraction grating 18a is
The light spot intervals g of the respective light beams α on the detection surface 19 are made substantially uniform by dividing the light spots of the ± first-order lights by b into approximately three equal parts.
【0045】(5本ビームの場合)ここで図16のよう
な構成の複合グレーティングを用いたマルチビームセン
サ11とコンベア幅Wとの関係を考える。これまでと同
じく最小幅g=90mmのワーク1を検出する場合を考え
る。マルチビームセンサ11は、図17に示すように検
出面19の下方H=130mm、側板9の内面からL=3
0mmの位置に配置されているとする。図17において
は、 a=側板9の内面と回折格子18aによる−1次光の光
スポットの間隔 b=回折格子18aによる−1次光と0次光の各光スポ
ットの間隔 c=回折格子18aによる0次光と回折格子18bによ
る−1次光の各光スポットの間隔 =回折格子18bによる−1次光と+1次光の各光スポ
ットの間隔 =回折格子18bによる+1次光と回折格子18aによ
る+1次光の各光スポットの間隔 d=回折格子18aによる+1次光の光スポットと側板
9の内面の間隔 である。そして、回折格子18aの回折角θを変化させ
ると共にa=85mmとなるようにマルチビームセンサ1
1の角度を調整し、またd=max(a,b,c)となる
ようにし、コンベア幅W=a+b+3c+dとして決定
した。このときのコンベア幅Wと各値a、b、c(ビー
ム間隔)の関係を示したものが図18である。図18か
ら、a、b、c、dのいずれもがワーク1の最小幅g=
90mmよりも小さくなる(a、b、c、d<g)コンベ
ア幅Wは、約360〜500mmであることが分かる。従
って、コンベア幅Wが約360〜500mmであれば、図
16のような構成のマルチビームセンサ11を用い、図
18のコンベア幅Wから読み取った値となるようにa、
b、cの値を読み取り、そのような値が得られるように
回折角θ及びマルチビームセンサ11の角度を決定すれ
ばよい。(In the case of 5 beams) Here, the relationship between the multi-beam sensor 11 using the composite grating having the structure as shown in FIG. 16 and the conveyor width W will be considered. Consider the case where the work 1 having the minimum width g = 90 mm is detected as in the past. As shown in FIG. 17, the multi-beam sensor 11 has H = 130 mm below the detection surface 19 and L = 3 from the inner surface of the side plate 9.
It is supposed to be placed at a position of 0 mm. In FIG. 17, a = interval between light spots of −1st-order light by the inner surface of the side plate 9 and the diffraction grating 18a b = interval between light spots of −1st-order light and 0th-order light by the diffraction grating 18a c = diffraction grating 18a Between the 0th-order light and the light spots of the -1st-order light by the diffraction grating 18b = The distance between the -1st-order light and the + 1st-order light spots of the diffraction grating 18b = The + 1st-order light and the diffraction grating 18a by the diffraction grating 18b Is the distance between the respective light spots of the + 1st order light due to d = the distance between the light spot of the + 1st order light due to the diffraction grating 18a and the inner surface of the side plate 9. Then, the multi-beam sensor 1 is changed so that the diffraction angle θ of the diffraction grating 18a is changed and a = 85 mm.
The angle of 1 was adjusted and d = max (a, b, c) was set, and the conveyor width was determined as W = a + b + 3c + d. FIG. 18 shows the relationship between the conveyor width W and the values a, b, and c (beam intervals) at this time. From FIG. 18, all of a, b, c, and d are the minimum width g of the work 1 =
It can be seen that the conveyor width W smaller than 90 mm (a, b, c, d <g) is about 360 to 500 mm. Therefore, if the conveyor width W is about 360 to 500 mm, the multi-beam sensor 11 configured as shown in FIG.
The values of b and c may be read, and the diffraction angle θ and the angle of the multi-beam sensor 11 may be determined so that such values can be obtained.
【0046】なお、同様な条件下において、約500mm
以上のコンベア幅Wのローラコンベア装置Aにマルチビ
ームセンサ11を用いる場合には、左右側板9の内面近
傍に上記のようなマルチビームセンサ11をそれぞれ配
置すればよい。Under the same conditions, about 500 mm
When the multi-beam sensor 11 is used in the roller conveyor device A having the above-mentioned conveyor width W, the multi-beam sensor 11 as described above may be arranged near the inner surfaces of the left and right side plates 9.
【0047】(受光パワーとビーム投射位置との関係)
いま、図19に示すように、検出面19に投光ビームパ
ワーP0の光ビームαが入射して検出面19で散乱反射
され(32は散乱光の輝度分布を示す)、その光ビーム
αが受光素子、たとえば15bで受光されるときの受光
パワーをP1とすると、その受光効率P1/P0は、 P1/P0=(1−cos2ω)cosθ =sin2ω・cosθ と表わされる。ここで、γは検出面19上の光スポット
33と受光レンズ14の中心を結ぶ光軸が検出面19の
法線となす角、ωは検出面19上の光スポット33から
受光レンズ14を見た見込み角である。光スポット3の
受光レンズ位置からの距離Rが大きくなるほど、 γ→π/2 ω→0 となるので、受光効率P1/P0は小さくなってゆく。従
って、マルチビームセンサ11から投射される光ビーム
αの投光ビームパワーP0が光スポット位置によらず一
定であると、ワーク1で反射された光ビームαが各受光
素子15a,15b,…で受光される際の受光パワーP
1が均一にならず(図20参照)、マルチビームセンサ
11の信号処理回路が複雑となる。(Relationship between received light power and beam projection position)
Now, as shown in FIG. 19, the light beam α having the projection beam power P 0 is incident on the detection surface 19 and is scattered and reflected by the detection surface 19 (32 indicates the brightness distribution of scattered light), and the light beam α is Let P 1 be the received light power when the light is received by the light receiving element, for example 15b, the light receiving efficiency P 1 / P 0 is P 1 / P 0 = (1−cos 2 ω) cos θ = sin 2 ω · cos θ Is represented. Here, γ is the angle formed by the optical axis connecting the light spot 33 on the detection surface 19 and the center of the light receiving lens 14 with the normal line of the detection surface 19, and ω is the light spot 33 on the detection surface 19 seen from the light receiving lens 14. It is the angle of view. As the distance R of the light spot 3 from the position of the light receiving lens increases, γ → π / 2ω → 0, and thus the light receiving efficiency P 1 / P 0 decreases. Therefore, if the projection beam power P 0 of the light beam α projected from the multi-beam sensor 11 is constant regardless of the light spot position, the light beam α reflected by the work 1 is received by the light receiving elements 15a, 15b, ... Received power P when light is received at
1 is not uniform (see FIG. 20), and the signal processing circuit of the multi-beam sensor 11 becomes complicated.
【0048】(複合グレーティングを備えたマルチビー
ムセンサ)上記のような問題は、複合グレーティングを
備えたマルチビームセンサ11を用いることにより解決
することができる。図21はこのような複合グレーティ
ングを備えたマルチビームセンサ11を示す斜視図であ
って、投光部41と受光部42からなる。投光部41は
ローラ2間の隙間から検出面19の異なる位置に向かっ
て複数本(この実施形態では、4本)の光ビームαを投
射する。受光部42は、検出面19からの反射光ビーム
αを受光することにより、ワーク1の有無を判別する
(または、判別のための検出信号を出力する)。(Multi-Beam Sensor Having Composite Grating) The above-mentioned problem can be solved by using the multi-beam sensor 11 having a composite grating. FIG. 21 is a perspective view showing a multi-beam sensor 11 provided with such a composite grating, which comprises a light projecting section 41 and a light receiving section 42. The light projecting unit 41 projects a plurality of (four in this embodiment) light beams α from the gap between the rollers 2 toward different positions on the detection surface 19. The light receiving unit 42 determines the presence or absence of the work 1 (or outputs a detection signal for determination) by receiving the reflected light beam α from the detection surface 19.
【0049】投光部41は、LEDのような発光素子1
6と、発光素子16からの発散光をコリメートする投光
レンズ17と複合グレーティング素子43とから構成さ
れている。複合グレーティング素子43は、コリメート
光を回折により4つの光に分割するためのものであっ
て、図22(a)は複合グレーティング素子43の平面
図を、図22(b)は複合グレーティング素子43の側
面図を示す。複合グレーティング素子43は4つのグレ
ーティング領域43a,43b,43c,43dから構
成され、各グレーティング領域43a,43b,43
c,43dは異なる位置に回折光を投射できるよう、そ
れぞれグレーティングの方向が各位置に応じて定められ
ている。また、各グレーティング領域43a,43b,
43c,43dは、それによって形成される検出面19
上の光スポット33の位置とその反射光ビームαを受光
する対応した受光素子15a,15b,15c,15d
との距離が長いほど、また受光レンズ14の光軸に対す
る、検出面19からの反射光ビームαの入射角が大きい
ほどその面積が大きくなるように形成されている。The light projecting section 41 is a light emitting element 1 such as an LED.
6, a light projecting lens 17 for collimating the divergent light from the light emitting element 16, and a composite grating element 43. The composite grating element 43 is for dividing the collimated light into four lights by diffraction, and FIG. 22 (a) is a plan view of the composite grating element 43, and FIG. 22 (b) is the composite grating element 43. A side view is shown. The composite grating element 43 is composed of four grating regions 43a, 43b, 43c, 43d, and each grating region 43a, 43b, 43
The grating directions of c and 43d are determined according to the respective positions so that diffracted light can be projected to different positions. In addition, each grating area 43a, 43b,
43c and 43d are the detection surfaces 19 formed thereby.
Positions of the upper light spot 33 and corresponding light receiving elements 15a, 15b, 15c, 15d for receiving the reflected light beam α.
The area is increased as the distance from the light receiving lens 14 increases and the incident angle of the reflected light beam α from the detection surface 19 with respect to the optical axis of the light receiving lens 14 increases.
【0050】この実施形態においては、受光素子15a
とそれに対応する光スポット33との距離がもっとも長
く、受光素子15aに入射する反射光ビームαの軸外角
度がもっとも大きくなっているので、当該光スポット3
3に投射するためのグレーティング領域43dの面積が
もっとも大きくなっている。そして、他の光スポット3
3に対応してグレーティング領域34dに隣接するグレ
ーティング領域43c,43b,43aと順にその面積
が小さくなっている。In this embodiment, the light receiving element 15a
And the light spot 33 corresponding thereto is the longest, and the off-axis angle of the reflected light beam α incident on the light receiving element 15a is the largest.
The area of the grating region 43d for projecting onto 3 is the largest. And another light spot 3
Corresponding to 3, the area becomes smaller in the order of the grating regions 43c, 43b, 43a adjacent to the grating region 34d.
【0051】また、受光部42は、4つの受光器44
a,44b,44c,44dと集光用の受光レンズ14
とから構成されている。受光素子15a,15b,15
c,15dは、図23に示すように、各受光器44a,
44b,44c,44dの内部に納められており、受光
器44a,44b,44c,44dの上面にはそれぞれ
開口45が形成されている。これらの開口45の大きさ
は各受光素子15a,15b,15c,15dに入射す
る光量が等しくなるように、対応する光スポット33か
らの反射光量に応じて設定されている。Further, the light receiving section 42 includes four light receivers 44.
a, 44b, 44c, 44d and a light receiving lens 14 for condensing
It is composed of Light receiving elements 15a, 15b, 15
c and 15d are, as shown in FIG.
44b, 44c, and 44d are housed inside, and openings 45 are formed on the upper surfaces of the light receivers 44a, 44b, 44c, and 44d, respectively. The size of these openings 45 is set according to the amount of light reflected from the corresponding light spot 33 so that the amount of light incident on each of the light receiving elements 15a, 15b, 15c, 15d becomes equal.
【0052】上述したように、発光素子16から出射さ
れた拡散光は複合グレーティング素子43で4つの光ビ
ームαに分割され、かつコリメートされて、適当な面積
の光スポット33をもって検出面19に照射される。As described above, the diffused light emitted from the light emitting element 16 is divided into four light beams α by the composite grating element 43 and is collimated to irradiate the detection surface 19 with the light spot 33 having an appropriate area. To be done.
【0053】複合グレーティング素子43の各グレーテ
ィング領域43a,43b,43c,43dにより生じ
る光スポット33は、グレーティング領域43a,43
b,43c,43dの大きさに対応し、もっとも大きな
面積を有するグレーティング領域43dより投射される
光スポット33の大きさが最も大きくなっている。The light spot 33 generated by each of the grating regions 43a, 43b, 43c, 43d of the composite grating element 43 is the grating region 43a, 43.
The size of the light spot 33 projected from the grating region 43d having the largest area corresponding to the sizes of b, 43c, and 43d is the largest.
【0054】検出面19で拡散反射された光ビームα
は、それぞれ受光レンズ14によって結像され、受光部
42の受光素子15a,15b,15c,15dによっ
て受光される。The light beam α diffusely reflected by the detection surface 19
Are imaged by the light receiving lens 14 and are received by the light receiving elements 15a, 15b, 15c and 15d of the light receiving unit 42.
【0055】反射光ビームαの光量が一定であれば、上
述のように検出面19上の光スポット33と受光素子の
間の距離が長いほど受光素子の受光量が少なくなり、受
光レンズ14の反射光ビームαの軸外角度が大きくなる
ほど受光素子の受光量が少なくなる。これに対し、この
複合グレーティング素子43を用いたマルチビームセン
サ11では、光スポット33と受光素子の間の距離およ
び軸外角度の大きさに対応して、グレーティング領域4
3a,43b,43c,43dの大きさが定められ、こ
れによって光スポット33の大きさが定められているの
で、各受光素子15a,15b,15c,15dの受光
量(受光パワーP1)はほぼ等しくなっている(図24
参照)。If the amount of the reflected light beam α is constant, as the distance between the light spot 33 on the detection surface 19 and the light receiving element becomes longer as described above, the light receiving amount of the light receiving element decreases, and the light receiving lens 14 receives light. The larger the off-axis angle of the reflected light beam α, the smaller the amount of light received by the light receiving element. On the other hand, in the multi-beam sensor 11 using the composite grating element 43, the grating region 4 is associated with the distance between the light spot 33 and the light receiving element and the magnitude of the off-axis angle.
Since the sizes of 3a, 43b, 43c, and 43d are determined, and the size of the light spot 33 is determined by this, the light receiving amount (light receiving power P 1 ) of each of the light receiving elements 15a, 15b, 15c, and 15d is almost the same. Are equal (Fig. 24
reference).
【0056】もっとも、受光素子15a,15b,15
c,15dの受光量は、グレーティング素子43のグレ
ーティング領域43a,43b,43c,43dの大き
さによっては必ずしも十分には調整できない場合があ
る。However, the light receiving elements 15a, 15b, 15
The amount of light received by c and 15d may not always be sufficiently adjusted depending on the size of the grating regions 43a, 43b, 43c and 43d of the grating element 43.
【0057】そこで、グレーティング領域43a,43
b,43c,43dの面積による受光量の調整誤差を、
受光器44a,44b,44c,44dの開口45の大
きさを変えることにより修正している。これにより、最
終的に全ての受光素子15a,15b,15c,15d
の受光量を等しくすることが可能になる。Therefore, the grating regions 43a, 43
The adjustment error of the received light amount due to the area of b, 43c, 43d is
This is corrected by changing the size of the opening 45 of the light receivers 44a, 44b, 44c and 44d. As a result, finally all the light receiving elements 15a, 15b, 15c, 15d
It becomes possible to equalize the received light amounts of.
【0058】さらに、複合グレーティング素子43にお
いてグレーティングの高さを各グレーティング領域43
a,43b,43c,43d毎に異ならせてもよい。グ
レーティング素子43の回折効率はグレーティングの高
さに依存するので、グレーティング領域43a,43
b,43c,43d毎にグレーティングの高さを調整す
ることにより、各受光素子15a,15b,15c,1
5dへの入射光量が一定となるように各グレーティング
領域43a,43b,43c,43d毎に回折効率を調
整することができる。Further, in the composite grating element 43, the height of the grating is set to each grating region 43.
It may be different for each of a, 43b, 43c, and 43d. Since the diffraction efficiency of the grating element 43 depends on the height of the grating, the grating regions 43a, 43
By adjusting the height of the grating for each of b, 43c, and 43d, each light receiving element 15a, 15b, 15c, 1
The diffraction efficiency can be adjusted for each of the grating regions 43a, 43b, 43c, 43d so that the amount of light incident on 5d is constant.
【0059】(オフアキシス・マイクロ・フレネル・レ
ンズ・アレイを備えたマルチビームセンサ)つぎに、さ
らに別な構成のマルチビームセンサ11として、オフア
キシス・マイクロ・フレネル・レンズ・アレイ46(以
下、オフアキシス・マイクロ・フレネル・レンズをオフ
アキシスMFLと略記する)を備えたものを説明する。
このマルチビームセンサ11は、図25に示すように、
マルチビーム光源13、受光レンズ14及び受光素子ア
レイ15a,15b,…を備えている。マルチビーム光
源13は、LED等の発光素子16と、その上方に配置
され、発光素子16の出射光を4つの光ビームαに分
け、これらの光ビームαをコリメートした上で、それぞ
れ異なる位置に向けて投射するオフアキシスMFLアレ
イ46とから構成される。受光素子アレイは多くの受光
素子を備えている。この実施例では、4個の受光素子1
5a,15b,15c,15dのみが用いられる。受光
レンズ14は、検出面19からの拡散反射光(乱反射
光)を対応する受光素子15a,15b,15c,15
d上に結像させるためのものである。(Multi-Beam Sensor Having Off-Axis Micro Fresnel Lens Array) Next, as another multi-beam sensor 11 having another configuration, an off-axis micro Fresnel lens array 46 (hereinafter referred to as off-axis micro A Fresnel lens will be abbreviated as off-axis MFL).
This multi-beam sensor 11, as shown in FIG.
The multi-beam light source 13, the light receiving lens 14, and the light receiving element arrays 15a, 15b, ... Are provided. The multi-beam light source 13 is provided with a light emitting element 16 such as an LED, and the light emitting element 16 is arranged above the light emitting element 16, divides the light emitted from the light emitting element 16 into four light beams α, collimates these light beams α, and then respectively positions them at different positions. It is composed of an off-axis MFL array 46 for projecting toward. The light receiving element array includes many light receiving elements. In this embodiment, four light receiving elements 1
Only 5a, 15b, 15c and 15d are used. The light receiving lens 14 receives the diffused reflected light (diffuse reflected light) from the detection surface 19 and receives the corresponding light receiving elements 15a, 15b, 15c, 15.
This is for forming an image on d.
【0060】オフアキシスMFLアレイ46の構成例を
図26(a)に示す。このオフアキシスMFLアレイ4
6は、複数個(この実施例では4個)のオフアキシスM
FL46a,46b,…を所定位置に配列したものであ
る。オフアキシスMFL46a,46b,…は図26
(c)に示すように、そこに形成された不等間隔グレー
ティングの形状に応じて入射光ビームαを所定の方向に
偏向すると共に、拡散光をコリメートする(コリメート
光を集光することもできる)機能をもつものである。こ
のようなオフアキシスMFL46a,46b,…は、例
えば図26(b)に示すように、マイクロ・フレネル・
レンズ47の一部を切り取ったグレーティング・パター
ンをもつ。図26(a)に示すオフアキシスMFLアレ
イ46を用いて、発光素子16の出射光ビームαを4つ
に分割し、かつコリメートして、図25に示すように、
一列状に配列された光スポット33を検出面19上に作
ることができる。An example of the structure of the off-axis MFL array 46 is shown in FIG. This off-axis MFL array 4
6 is a plurality (4 in this embodiment) of off-axis M
The FLs 46a, 46b, ... Are arranged at predetermined positions. The off-axis MFLs 46a, 46b, ...
As shown in (c), the incident light beam α is deflected in a predetermined direction according to the shape of the unequal-spaced gratings formed therein, and the diffused light is collimated (the collimated light can also be condensed. ) It has a function. Such off-axis MFLs 46a, 46b, ...
It has a grating pattern obtained by cutting a part of the lens 47. The off-axis MFL array 46 shown in FIG. 26A is used to split the outgoing light beam α of the light emitting element 16 into four beams and collimate them, as shown in FIG.
The light spots 33 arranged in a line can be formed on the detection surface 19.
【0061】なお、上記複合グレーティング素子やオフ
アキシスMFLアレイは、たとえば4種のグレーティン
グやオフアキシスMFLを別個に作製したあと貼り合わ
せることにより作製することができる。また、上記回折
格子や複合グレーティング素子やオフアキシスMFLア
レイは、スタンパを用いて2P(Photo-Polymerizatio
n)法により一体成形したり、射出成形により一体成形
したりしてもよい。The composite grating element and the off-axis MFL array can be manufactured by, for example, separately manufacturing four types of gratings and off-axis MFL and then bonding them. Further, the diffraction grating, the composite grating element, and the off-axis MFL array described above use a 2P (Photo-Polymerizatio) using a stamper.
It may be integrally formed by the method n) or integrally formed by injection molding.
【0062】(マルチビームセンサのさらに別な実施形
態)マルチビームセンサ11の投光部を構成するマルチ
ビーム光源13としては、上記構造以外のものを用いて
もよい。例えば、図27に示すように、回折格子18の
パターン面を発光素子16側に向けていてもよい。ま
た、図28に示すものは発光素子16と投光レンズ17
とプリズム48(例えば、台形プリズム等の多角形状の
プリズム)とからなるマルチビーム光源13であって、
発光素子16から出射された光は投光レンズ17でコリ
メート光に変換され、プリズム48で屈折されて複数本
の光ビームαが異なる方向へ出射される。また、図29
に示すものは複数個の発光素子16(発光素子アレイ)
と投光レンズ17からなるマルチビーム光源13であっ
て、各発光素子16から出射された光ビームαが投光レ
ンズ17でコリメート光に変換され、異なる方向へ出射
される。また、図30に示すものは発光素子16とレン
ズアレイ49とからなるマルチビーム光源13であっ
て、発光素子16から出射された光は、レンズアレイ4
9の各レンズ単位でコリメート化されて異なる方向へ出
射される。これらのマルチビーム光源13を内蔵したマ
ルチビームセンサ11を用いた場合にも、本発明のロー
ラコンベア装置Aの効果を奏することはいうまでもな
い。(Another Embodiment of Multi-Beam Sensor) As the multi-beam light source 13 which constitutes the light projecting portion of the multi-beam sensor 11, one having a structure other than the above may be used. For example, as shown in FIG. 27, the pattern surface of the diffraction grating 18 may be directed toward the light emitting element 16 side. 28 shows a light emitting element 16 and a light projecting lens 17.
And a prism 48 (for example, a prism having a polygonal shape such as a trapezoidal prism),
The light emitted from the light emitting element 16 is converted into collimated light by the light projecting lens 17, refracted by the prism 48, and a plurality of light beams α are emitted in different directions. Also, FIG.
Shown in Figure is a plurality of light emitting elements 16 (light emitting element array)
In the multi-beam light source 13 including the light projecting lens 17, the light beam α emitted from each light emitting element 16 is converted into collimated light by the light projecting lens 17 and emitted in different directions. Further, FIG. 30 shows a multi-beam light source 13 including a light emitting element 16 and a lens array 49, and the light emitted from the light emitting element 16 is the lens array 4
Each lens of 9 is collimated and emitted in different directions. Needless to say, the effect of the roller conveyor device A of the present invention can be obtained even when the multi-beam sensor 11 including the multi-beam light source 13 is used.
【0063】(搬送装置の別な実施形態)図31に示す
ものは本発明の別な実施形態によるローラコンベア装置
Aを示す概略斜視図である。この実施形態にあっては、
側板9よりも外側においてワーク通過面(ローラ2の上
面)の斜め上方にマルチビームセンサ11を配置してい
る。マルチビームセンサ11は斜め下方に向いており、
複数本の光ビームαはローラ2間の隙間を通過するよう
に投光されている。(Another Embodiment of Conveying Device) FIG. 31 is a schematic perspective view showing a roller conveyor device A according to another embodiment of the present invention. In this embodiment,
A multi-beam sensor 11 is arranged on the outer side of the side plate 9 and obliquely above the work passing surface (the upper surface of the roller 2). The multi-beam sensor 11 faces diagonally downward,
The plurality of light beams α are projected so as to pass through the gap between the rollers 2.
【0064】このように斜め下方に向けてマルチビーム
センサ11をローラコンベア装置Aの斜め上方に配置す
れば、投受光面が下向きとなるので、蛍光灯などからの
ノイズを受けにくくなり、検出感度が安定する。また、
マルチビームセンサ11の投受光面が下向きとなるの
で、投受光面にごみやホコリ、汚れ、曇り等が付着しに
くくなり、ごみ等によってマルチビームセンサ11の検
出感度が低下するのを防止できる。If the multi-beam sensor 11 is arranged obliquely downward and obliquely above the roller conveyor device A, the light emitting / receiving surface faces downward, so that noise from a fluorescent lamp or the like is less likely to be received and detection sensitivity is increased. Is stable. Also,
Since the light emitting / receiving surface of the multi-beam sensor 11 faces downward, dust, dust, dirt, clouding, etc. are less likely to adhere to the light emitting / receiving surface, and the detection sensitivity of the multi-beam sensor 11 can be prevented from deteriorating due to dust or the like.
【0065】さらに、マルチビームセンサ11をローラ
コンベア装置Aの上方に配置すれば、側板9よりも外側
に配置できるので、マルチビームセンサ11から検出面
9までの距離を長くとることができ、光スポット間隔g
を比較的均一にすることができる。Furthermore, if the multi-beam sensor 11 is arranged above the roller conveyer device A, it can be arranged outside the side plate 9, so that the distance from the multi-beam sensor 11 to the detection surface 9 can be made longer and Spot spacing g
Can be made relatively uniform.
【0066】なお、検出面9の斜め下方にマルチビーム
センサ11を配置する場合においても、図32に示すよ
うに、マルチビームセンサ11の筐体を水平方向に向け
て配置し、光ビームαを斜め上方に向けて投光するよう
にすれば、筐体の投受光面にごみ等が付着しにくくな
る。また、これとは逆に、検出面の真下に真上を向けて
マルチビームセンサ11を配置しても差し支えない。ま
た、筐体の投受光面に設けられているガラス板や透明樹
脂板などに溌水処理を施してもよい。Even when the multi-beam sensor 11 is arranged obliquely below the detection surface 9, as shown in FIG. 32, the housing of the multi-beam sensor 11 is arranged horizontally and the light beam α is emitted. By projecting light obliquely upward, dust and the like are less likely to adhere to the light emitting / receiving surface of the housing. On the contrary, the multi-beam sensor 11 may be arranged so that it is directly above and directly below the detection surface. Further, the water repellent treatment may be applied to a glass plate, a transparent resin plate, or the like provided on the light emitting / receiving surface of the housing.
【0067】(搬送装置のさらに別な実施形態)図33
は本発明のさらに別な実施形態によるローラコンベア装
置Aを示す概略図である。このローラコンベア装置Aに
おいては、マルチビームセンサ11によるワーク1の検
出領域51をワーク通過面(ローラ2の上面)を含む所
定範囲(図33で斜線を施した範囲)に限定している。
このためには、マルチビームセンサ11の各受光素子と
して分割フォトダイオードや位置検出素子(PSD)を
用い、マルチビームセンサ11を距離検出型にすること
によって実現することができる。1ビーム1受光素子の
場合には、三角測距の原理により分割フォトダイオード
や位置検出素子(PSD)を用いて距離検出することは
周知の技術であり、この実施形態は当該技術をマルチビ
ームセンサに適用したものである。(Still Another Embodiment of the Conveying Device) FIG.
FIG. 6 is a schematic view showing a roller conveyor device A according to still another embodiment of the present invention. In the roller conveyor device A, the detection area 51 of the work 1 by the multi-beam sensor 11 is limited to a predetermined range (the hatched area in FIG. 33) including the work passing surface (the upper surface of the roller 2).
This can be achieved by using a split photodiode or a position detection element (PSD) as each light receiving element of the multi-beam sensor 11 and making the multi-beam sensor 11 a distance detection type. In the case of one beam / one light receiving element, it is a well-known technique to detect a distance using a divided photodiode or a position detection element (PSD) according to the principle of triangulation, and this embodiment is a multi-beam sensor. It has been applied to.
【0068】距離設定型でない拡散反射型のマルチビー
ムセンサを用いた場合には、図34に示すように、ロー
ラコンベア装置Aの上方をワーク1以外のもの(例え
ば、作業員52の手など)がよぎったり、マルチビーム
センサ11の光ビームαが作業員52の体に当って反射
された場合には、これらをワーク1と誤検知する恐れが
ある。これに対し、この実施形態によれば検出領域51
にあるワーク1下面のみを検出することができるので、
上記のような誤検知を防ぐことができ、信頼性を向上さ
せることができる。When a diffuse reflection type multi-beam sensor which is not a distance setting type is used, as shown in FIG. 34, a part other than the work 1 is placed above the roller conveyor device A (for example, the hand of the worker 52). If the light beam α of the multi-beam sensor 11 hits the body of the worker 52 and is reflected, there is a possibility that these may be erroneously detected as the work 1. On the other hand, according to this embodiment, the detection area 51
Since it is possible to detect only the lower surface of the workpiece 1 in
The erroneous detection as described above can be prevented, and the reliability can be improved.
【0069】(搬送装置のさらに別な実施形態)図35
は本発明のさらに別な実施形態におけるマルチビームセ
ンサ11の回路構成を示す図である。図8に示した回路
構成では、各受光素子の検知信号をオア演算回路28を
通して出力するようにしていたが、図35に示す回路構
成では、各受光素子15a,15b,…で個々にワーク
1を検出してワーク1の通過位置(ローラコンベア装置
Aの幅方向の位置)も検出できるようにしている。各受
光素子15a,15b,…から出力された検知信号はメ
モリ53に保存され、位置判別部54でワーク1の通過
位置を判断して出力端子55から外部へ出力する。(Still Another Embodiment of the Conveying Device) FIG.
FIG. 8 is a diagram showing a circuit configuration of a multi-beam sensor 11 according to still another embodiment of the present invention. In the circuit configuration shown in FIG. 8, the detection signal of each light receiving element is output through the OR operation circuit 28. However, in the circuit configuration shown in FIG. 35, each light receiving element 15a, 15b, ... Is detected so that the passage position of the work 1 (the position of the roller conveyor device A in the width direction) can also be detected. The detection signals output from each of the light receiving elements 15a, 15b, ... Are stored in the memory 53, and the position determining unit 54 determines the passing position of the work 1 and outputs the output terminal 55 to the outside.
【0070】このように単にワーク1の通過を検知する
だけでなく、ワーク1の通過位置も検知できるようにす
れば、例えば図36(a)(b)に示すようなワーク仕
分け機能を備えた搬送装置に利用することができる。Thus, if not only the passage of the work 1 can be detected but also the passage position of the work 1 can be detected, a work sorting function as shown in FIGS. 36 (a) and 36 (b) is provided. It can be used for a carrier device.
【0071】図36に示すローラコンベア装置Aにあっ
ては、主搬送ライン56から副搬送ライン57が分岐し
ており、主搬送ライン56における副搬送ライン57と
反対側にはソータ58が設けられている。ソータ56は
ローラ2の上面よりも上に突出するように配設された複
数のスライドシュー59とコントローラ60を備えてい
る。各スライドシュー59は、ローラ2の下面側に構成
された駆動機構(図示せず)によりローラ2間に沿って
移動できるようになっており、マルチビームセンサ11
の出力信号に応じてコントローラ60により制御され
る。なお、図36(a)(b)における33a,33
b,…は、ワーク1が通過したときに、受光素子15
a,15b,…によって反射光が検出されるようになっ
た光スポットである。In the roller conveyer apparatus A shown in FIG. 36, a sub-conveying line 57 is branched from the main conveying line 56, and a sorter 58 is provided on the side of the main conveying line 56 opposite to the sub-conveying line 57. ing. The sorter 56 includes a plurality of slide shoes 59 and a controller 60 arranged so as to project above the upper surface of the roller 2. Each slide shoe 59 can be moved between the rollers 2 by a drive mechanism (not shown) formed on the lower surface side of the rollers 2, and the multi-beam sensor 11
Is controlled by the controller 60 according to the output signal of Note that 33a, 33 in FIGS.
b, ... Are the light receiving elements 15 when the work 1 passes through.
It is a light spot whose reflected light is detected by a, 15b, ....
【0072】このローラコンベア装置Aにおいては、ワ
ーク1の通過位置に応じて以下のようにしてワーク1が
主搬送ライン56と副搬送ライン57とに仕分けされ
る。例えば、図33(a)に示すように、ワーク1が光
スポット33a及び33bで検知される位置を通過した
場合には、その通過位置がマルチビームセンサ11によ
って検知される。この通過位置情報がコントローラ60
へ送られると、コントローラ60は各スライドシュー5
9を主搬送ライン56の縁に後退させる。従って、ワー
ク1はスライドシュー59に妨げられることなくソータ
58を通過し、図36(a)に想像線で示すように主搬
送ライン56に沿って真っ直ぐに搬送される。In the roller conveyer device A, the works 1 are sorted into the main carrying line 56 and the sub carrying line 57 according to the passage position of the works 1 as follows. For example, as shown in FIG. 33A, when the work 1 has passed a position detected by the light spots 33a and 33b, the passing position is detected by the multi-beam sensor 11. This passing position information is the controller 60
Sent to the slide shoe 5
9 is retracted to the edge of the main transport line 56. Therefore, the work 1 passes through the sorter 58 without being obstructed by the slide shoe 59, and is conveyed straight along the main conveyance line 56 as shown by an imaginary line in FIG.
【0073】これに対し、図33(b)に想像線で示す
ワーク1(イ)のように、光スポット33b及び33c
で検知される位置を通過した場合には、その通過位置が
マルチビームセンサ11によって検知される。この通過
位置情報がコントローラ60へ送られると、コントロー
ラ60は適宜スライドシュー59をワーク1の側面に向
けて移動させる。このとき移動するスライドシュー59
はワーク1の側面に当接するまでは高速で移動し、ワー
ク1の側面に当接するとワーク1の側面を押しながらゆ
っくりと移動する。この結果、ワーク1は図33(b)
のワーク1(ロ)のように、後続のワーク1(ニ)が通
過する邪魔にならない領域まで強制的に移動させられ
る。ついで、スライドシュー59によって押されながら
主搬送ライン56を移動したワーク1は、図33(b)
に示すワーク1(ハ)のように、適宜スライドシュ59
によって向きを変更されながら副搬送ライン57側へ押
し出され、副搬送ライン57へ送り出される。On the other hand, as shown in the work 1 (a) shown by the imaginary line in FIG. 33 (b), the light spots 33b and 33c are formed.
When passing through the position detected by, the passing position is detected by the multi-beam sensor 11. When the passing position information is sent to the controller 60, the controller 60 appropriately moves the slide shoe 59 toward the side surface of the work 1. Slide shoe 59 that moves at this time
Moves at high speed until it comes into contact with the side surface of the work 1, and when it comes into contact with the side surface of the work 1, it moves slowly while pushing the side surface of the work 1. As a result, the work 1 is shown in FIG.
Like the work 1 (b), the subsequent work 1 (d) is forcibly moved to an area that does not interfere with the passage of the work 1 (d). Next, the work 1 moved along the main transfer line 56 while being pushed by the slide shoe 59 is shown in FIG.
Slide work 59
It is pushed out to the side of the sub-transport line 57 while being changed in direction by and is sent to the sub-transport line 57.
【0074】従って、このローラコンベア装置Aによれ
ば、ワーク1の仕分けに要する時間が短縮され、処理効
率を向上させることができる。Therefore, according to the roller conveyor device A, the time required for sorting the works 1 can be shortened and the processing efficiency can be improved.
【0075】(搬送装置のさらに別な実施形態)図37
は本発明のさらに別な実施形態による搬送装置を示す一
部破断した斜視図である。このローラコンベア装置Aに
おいては、下向きにして搬送路の上方に一方のマルチビ
ームセンサ11bを設置し、横向きにして搬送路の側方
に他方のマルチビームセンサ11aを設置している。(Still Another Embodiment of Conveying Device) FIG.
FIG. 6 is a partially cutaway perspective view showing a carrier device according to still another embodiment of the present invention. In this roller conveyer apparatus A, one multi-beam sensor 11b is installed facing downward and above the transport path, and the other multi-beam sensor 11a is installed laterally on the side of the transport path.
【0076】図38は上方のマルチビームセンサ11b
の回路構成を示す図である。このマルチビームセンサ1
1bは、図35のマルチビームセンサと同様、各受光素
子15a,15b,…により個々にワーク1を検出した
かどうかを判別しており、ワーク幅判別部61により通
過するワーク1の幅を検出し、出力端子62からワーク
1の幅情報を出力する。FIG. 38 shows the upper multi-beam sensor 11b.
FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of FIG. This multi-beam sensor 1
Similarly to the multi-beam sensor of FIG. 35, 1b determines whether or not the light receiving elements 15a, 15b, ... Detect the work 1 individually, and the work width determination unit 61 detects the width of the work 1 passing through. Then, the width information of the work 1 is output from the output terminal 62.
【0077】また、図39は側方のマルチビームセンサ
11aの回路構成を示す図である。このマルチビームセ
ンサ11aも各受光素子15a,15b,…により個々
にワーク1を検出したかどうかを判別しており、ワーク
高さ判別部63により通過するワーク1の高さを検出
し、出力端子64からワーク1の高さ情報を出力する。FIG. 39 is a diagram showing the circuit configuration of the lateral multi-beam sensor 11a. The multi-beam sensor 11a also discriminates whether or not the work 1 is individually detected by the respective light receiving elements 15a, 15b, ..., The work height discriminating unit 63 detects the height of the work 1 passing therethrough, and outputs the output terminal. The height information of the work 1 is output from 64.
【0078】また、このマルチビームセンサ11aは、
ワーク1の長さ(搬送方向の寸法)を検出するためのワ
ーク長さ判別部65を備えている。各受光素子15a,
15b,…の検知信号はカウンタ66に入力されてお
り、カウンタ66は検出信号が出力されている時間をカ
ウントすることによってワーク1の通過時間を求めてい
る。また、ワーク1の搬送速度は速度センサ67もしく
はローラ2の回転速度もしくは駆動ベルト4の走行速度
から求められている。しかして、ワーク長さ判別部65
は、カウンタ66により求められたワーク通過時間とワ
ーク搬送速度に基づき、ワーク1の長さを求め、ワーク
1の長さ情報を出力端子68から出力する。Further, the multi-beam sensor 11a is
A work length discriminating unit 65 is provided for detecting the length of the work 1 (dimension in the carrying direction). Each light receiving element 15a,
The detection signals 15b, ... Are input to the counter 66, and the counter 66 obtains the passage time of the work 1 by counting the time during which the detection signal is output. Further, the conveyance speed of the work 1 is obtained from the rotation speed of the speed sensor 67 or the roller 2 or the traveling speed of the drive belt 4. Then, the work length determination unit 65
Calculates the length of the work 1 on the basis of the work passage time and the work transfer speed obtained by the counter 66, and outputs the length information of the work 1 from the output terminal 68.
【0079】したがって、この搬送装置1によれば、ワ
ーク1の通過を検出しながら、同時にワーク1の3次元
寸法(幅、高さ、長さ)を検出することができる。Therefore, according to the carrying apparatus 1, it is possible to detect the three-dimensional dimensions (width, height, length) of the work 1 at the same time while detecting the passage of the work 1.
【0080】なお、上記各実施例においては、マルチビ
ームセンサを横置き(図5や図31のように投光部と受
光部を水平方向に配置する)とするように設計すること
もでき、縦置き(投光部と受光部を上下方向に配置す
る)とするように設計することもできる。In each of the above embodiments, the multi-beam sensor may be designed to be placed horizontally (the light projecting section and the light receiving section are arranged horizontally as shown in FIGS. 5 and 31). It can also be designed to be vertically installed (the light projecting portion and the light receiving portion are arranged in the vertical direction).
【図1】(a)(b)はローラコンベア装置の構造とワ
ークを搬送する動作を説明するための概略図である。1A and 1B are schematic views for explaining a structure of a roller conveyor device and an operation for conveying a work.
【図2】上記ローラコンベ装置により各ゾーン毎にワー
クが搬送されている状態を示す概略側面図である。FIG. 2 is a schematic side view showing a state in which a work is conveyed by each zone by the roller conveyor device.
【図3】従来のローラコンベア装置におけるセンサ部分
の構造を示す一部破断した斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view showing a structure of a sensor portion in a conventional roller conveyor device.
【図4】ワークがブリッジ現象を起こしている状態を示
す概略側面図である。FIG. 4 is a schematic side view showing a state where a work is causing a bridge phenomenon.
【図5】本発明の一実施形態によるローラコンベア装置
を示す一部省略した概略斜視図である。FIG. 5 is a schematic perspective view with a part omitted showing a roller conveyor device according to an embodiment of the present invention.
【図6】同上のマルチビームセンサを示す斜視図であ
る。FIG. 6 is a perspective view showing the above multi-beam sensor.
【図7】同上のマルチビームセンサによりワークを検出
する原理を示す説明図である。FIG. 7 is an explanatory diagram showing a principle of detecting a work by the above multi-beam sensor.
【図8】同上のマルチビームセンサの回路部分の構成を
示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a configuration of a circuit portion of the above multi-beam sensor.
【図9】マルチビームセンサによるビーム強度の分布
と、拡散光を用いたセンサによるビーム強度の分布を示
す図である。FIG. 9 is a diagram showing a beam intensity distribution by a multi-beam sensor and a beam intensity distribution by a sensor using diffused light.
【図10】マルチビームセンサの配置と検出面における
光スポット間隔の定義を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an arrangement of multi-beam sensors and a definition of a light spot interval on a detection surface.
【図11】同上の光スポット間隔(ビーム間隔)とコン
ベア幅との関係を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a relationship between a light spot interval (beam interval) and a conveyor width in the above.
【図12】別なマルチビームセンサを用いた場合におけ
る、マルチビームセンサの配置と検出面における光スポ
ット間隔の定義を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing the arrangement of multi-beam sensors and the definition of the light spot spacing on the detection surface when another multi-beam sensor is used.
【図13】同上の光スポット間隔(ビーム間隔)とコン
ベア幅との関係を示す図である。FIG. 13 is a diagram showing a relationship between a light spot interval (beam interval) and a conveyor width in the above.
【図14】2つの回折格子(複合グレーティング)を用
いた場合の光ビームと、その光スポット間隔を示す説明
図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing a light beam and a light spot interval when two diffraction gratings (composite gratings) are used.
【図15】別な2つの回折格子(複合グレーティング)
を用いた場合の光ビームと、その光スポット間隔を示す
説明図である。FIG. 15: Two different diffraction gratings (composite grating)
FIG. 6 is an explanatory diagram showing a light beam and a light spot interval when using the.
【図16】さらに別な2つの回折格子(複合グレーティ
ング)を用いた場合の光ビームと、その光スポット間隔
を示す説明図である。FIG. 16 is an explanatory diagram showing a light beam and a light spot interval when two different diffraction gratings (composite gratings) are used.
【図17】図16のマルチビームセンサを用いた場合に
おける、マルチビームセンサの配置と検出面における光
スポット間隔の定義を示す図である。17 is a diagram showing the arrangement of multi-beam sensors and the definition of the light spot spacing on the detection surface when the multi-beam sensor of FIG. 16 is used.
【図18】同上の光スポット間隔(ビーム間隔)とコン
ベア幅との関係を示す図である。FIG. 18 is a diagram showing a relationship between a light spot interval (beam interval) and a conveyor width in the above.
【図19】光スポットの位置と受光素子における受光パ
ワーとの関係を説明するための図である。FIG. 19 is a diagram for explaining the relationship between the position of a light spot and the light receiving power of a light receiving element.
【図20】図19に示す各受光素子の受光パワーを示す
図である。20 is a diagram showing the light receiving power of each light receiving element shown in FIG.
【図21】複合グレーティングを用いたマルチビームセ
ンサを示す斜視図である。FIG. 21 is a perspective view showing a multi-beam sensor using a composite grating.
【図22】(a)(b)は同上の複合グレーティングを
示す平面図及び正面図である。22 (a) and (b) are a plan view and a front view showing the above-described composite grating.
【図23】同上のマルチビームセンサに用いられている
受光器の構造を示す一部破断した斜視図である。FIG. 23 is a partially cutaway perspective view showing the structure of a light receiver used in the above multi-beam sensor.
【図24】図21のマルチビームセンサにおける各受光
素子の受光パワーを示す図である。FIG. 24 is a diagram showing the light receiving power of each light receiving element in the multi-beam sensor of FIG. 21.
【図25】オフアキシスMFLアレイを用いたマルチビ
ームセンサを示す概略図である。FIG. 25 is a schematic diagram showing a multi-beam sensor using an off-axis MFL array.
【図26】(a)は同上のオフアキシスMFLアレイを
示す平面図、(b)はオフアキシスMFLがマイクロ・
フレネル・レンズから切り出される様子を示す図、
(c)はオフアキシスMFLの作用を示す斜視図であ
る。FIG. 26A is a plan view showing an off-axis MFL array of the same, FIG.
Diagram showing how it is cut out from the Fresnel lens,
(C) is a perspective view showing the action of off-axis MFL.
【図27】さらに別な構成のマルチビームセンサを示す
概略図である。FIG. 27 is a schematic view showing a multi-beam sensor having still another configuration.
【図28】さらに別な構成のマルチビームセンサを示す
概略図である。FIG. 28 is a schematic view showing a multi-beam sensor having still another configuration.
【図29】さらに別な構成のマルチビームセンサを示す
概略図である。FIG. 29 is a schematic view showing a multi-beam sensor having still another configuration.
【図30】さらに別な構成のマルチビームセンサを示す
概略図である。FIG. 30 is a schematic view showing a multi-beam sensor having still another configuration.
【図31】本発明のさらに別な実施形態による搬送装置
を示す斜視図である。FIG. 31 is a perspective view showing a transfer device according to still another embodiment of the present invention.
【図32】マルチビームセンサのさらに別な配置形態を
示す概略図である。FIG. 32 is a schematic view showing still another arrangement mode of the multi-beam sensor.
【図33】本発明のさらに別な実施形態による搬送装置
を示す概略図である。FIG. 33 is a schematic view showing a transport device according to still another embodiment of the present invention.
【図34】同上の搬送装置の作用説明図である。FIG. 34 is a view for explaining the operation of the above-mentioned transport device.
【図35】本発明の実施形態における、マルチビームセ
ンサの回路部分の別な構成を示す図である。FIG. 35 is a diagram showing another configuration of the circuit portion of the multi-beam sensor according to the embodiment of the present invention.
【図36】(a)(b)は、同上の回路構成を利用し
た、さらに別な実施形態による搬送装置とその動作を示
す概略平面図である。36 (a) and (b) are schematic plan views showing a transporting device and its operation according to still another embodiment, which utilizes the above-described circuit configuration.
【図37】本発明のさらに別な実施形態による搬送装置
を示す概略斜視図である。FIG. 37 is a schematic perspective view showing a conveyance device according to still another embodiment of the present invention.
【図38】同上の搬送装置における、一方のマルチビー
ムセンサの回路部分の構成を示す図である。FIG. 38 is a diagram showing a configuration of a circuit portion of one multi-beam sensor in the transport apparatus of the above.
【図39】同上の搬送装置における、他方のマルチビー
ムセンサの回路部分の構成を示す図である。FIG. 39 is a diagram showing a configuration of a circuit portion of the other multi-beam sensor in the transport device of the above.
A ローラコンベア装置 1 ワーク 2 ローラ 11 マルチビームセンサ 13 マルチビーム光源 15a,15b,… 受光素子(アレイ) 16 発光素子 18,18a,18b 回折格子 19 検出面 33 光スポット 43 複合グレーティング素子 43a,43b,43c,43d グレーティング領域 46 オフアキシスMFLアレイ 51 検知領域 54 位置判別部 56 主搬送ライン 57 副搬送ライン 58 ソータ 61 ワーク幅判別部 63 ワーク高さ判別部 65 ワーク長さ判別部 67 速度センサ A roller conveyor device 1 work 2 roller 11 multi-beam sensor 13 multi-beam light source 15a, 15b, ... Light receiving element (array) 16 light emitting element 18, 18a, 18b diffraction grating 19 detection surface 33 light spot 43 composite grating element 43a, 43b, 43c, 43d Grating area 46 Off-axis MFL array 51 Detection area 54 Position determination part 56 Main transfer line 57 Sub-transfer line 58 Sorter 61 Work width determination part 63 Work height determination part 65 Work length determination part 67 Speed sensor
Claims (9)
の受光素子で受光することにより搬送物を検出するマル
チビームセンサと、 前記センサからの出力にもとづいて前記搬送手段の送り
と停止を制御する搬送制御手段と、を備えた搬送装置。1. A transport means for transporting a transported object, and a multi-beam sensor for detecting a transported object by emitting a plurality of light beams from one housing and receiving reflected light by different light receiving elements. And a conveyance control unit that controls feeding and stopping of the conveyance unit based on an output from the sensor.
面の斜め側方に設置されていることを特徴とする、請求
項1に記載の搬送装置。2. The transport device according to claim 1, wherein the multi-beam sensor is installed on an oblique side of a transport object detection surface.
と、受光素子と、2種以上の回折格子を有し、当該2種
以上の回折格子うち一つの回折格子によって生成される
回折光スポットの間に別な回折格子によって生成される
回折光スポットが位置するようにして各回折光スポット
が一直線上に配列されるようにしたことを特徴とする、
請求項1に記載の搬送装置。3. The multi-beam sensor has a light emitting element, a light receiving element, and two or more types of diffraction gratings, and between the diffracted light spots generated by one of the two or more types of diffraction gratings. Characterized in that the diffracted light spots generated by another diffraction grating are positioned so that the diffracted light spots are arranged in a straight line.
The transport device according to claim 1.
式が距離設定型となっていることを特徴とする、請求項
1に記載の搬送装置。4. The carrier device according to claim 1, wherein the multi-beam sensor has a distance setting type detection method.
設けられた投受光面が水平方向ないし斜め下向きとなっ
ていることを特徴とする、請求項1に記載の搬送装置。5. The carrier device according to claim 1, wherein the multi-beam sensor has a light emitting / receiving surface provided in a housing thereof in a horizontal direction or an oblique downward direction.
ける各反射光ビームによる判別結果をオア出力するもの
であることを特徴とする、請求項1に記載の搬送装置。6. The transport apparatus according to claim 1, wherein the multi-beam sensor outputs a discrimination result by each reflected light beam on the detection surface by OR output.
ける各反射光ビームを個別に判別するものであることを
特徴とする、請求項1に記載の搬送装置。7. The transport device according to claim 1, wherein the multi-beam sensor individually discriminates each reflected light beam on the detection surface.
その上下のいずれか少なくとも一方、及び/又は左右の
いずれか少なくとも一方にマルチビームセンサを配置し
たことを特徴とする、請求項7に記載の搬送装置。8. A traveling direction of a conveyed article passing position,
The transport device according to claim 7, wherein a multi-beam sensor is arranged on at least one of the upper and lower sides and / or at least one of the right and left sides.
折格子を有し、 当該2種以上の回折格子うち一つの回折格子によって生
成される回折光スポットの間に別な回折格子によって生
成される回折光スポットが位置するようにして各回折光
スポットが一直線上に配列されるようにしたマルチビー
ムセンサ。9. A light emitting element, a light receiving element, and two or more kinds of diffraction gratings, and another diffraction grating is provided between diffraction light spots generated by one of the two or more kinds of diffraction gratings. A multi-beam sensor in which the generated diffracted light spots are positioned so that the diffracted light spots are arranged in a straight line.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24875395A JP3350670B2 (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | Transfer device and multi-beam sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24875395A JP3350670B2 (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | Transfer device and multi-beam sensor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0967009A true JPH0967009A (en) | 1997-03-11 |
| JP3350670B2 JP3350670B2 (en) | 2002-11-25 |
Family
ID=17182869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24875395A Expired - Fee Related JP3350670B2 (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | Transfer device and multi-beam sensor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3350670B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005000057A (en) * | 2003-06-11 | 2005-01-06 | Yanmar Agricult Equip Co Ltd | Sowing equipment |
| US7034381B2 (en) | 1995-12-14 | 2006-04-25 | Semiconductor Energey Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| WO2009099780A3 (en) * | 2008-02-04 | 2009-11-05 | Honeywell International Inc. | Apparatus and method for in-belt conveyor idler condition monitoring |
| WO2024135421A1 (en) * | 2022-12-20 | 2024-06-27 | 株式会社アイエイアイ | Conveyor device |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP24875395A patent/JP3350670B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7034381B2 (en) | 1995-12-14 | 2006-04-25 | Semiconductor Energey Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device |
| JP2005000057A (en) * | 2003-06-11 | 2005-01-06 | Yanmar Agricult Equip Co Ltd | Sowing equipment |
| WO2009099780A3 (en) * | 2008-02-04 | 2009-11-05 | Honeywell International Inc. | Apparatus and method for in-belt conveyor idler condition monitoring |
| US7673739B2 (en) | 2008-02-04 | 2010-03-09 | Honeywell International Inc. | Apparatus and method for in-belt conveyor idler condition monitoring |
| WO2024135421A1 (en) * | 2022-12-20 | 2024-06-27 | 株式会社アイエイアイ | Conveyor device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3350670B2 (en) | 2002-11-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0028056B1 (en) | Apparatus and method for detection of overlapping objects | |
| US4302105A (en) | Detection apparatus for finding holes in webs | |
| EP2781931A2 (en) | Limited reflection type photoelectric sensor | |
| US6521905B1 (en) | Method and device for detecting the position of a transparent moving conveyor belt | |
| CN1577404B (en) | A banknote validator with a reflecting optical sensor | |
| US6392247B1 (en) | Sensor and detection system having wide diverging beam optics | |
| KR20030017978A (en) | Card true/false decision apparatus | |
| JP3350670B2 (en) | Transfer device and multi-beam sensor | |
| KR100353916B1 (en) | Device for detecting plate-shaped member | |
| JP3784066B2 (en) | Optical coin sensing device | |
| US6859266B2 (en) | Optical movement detecting device and transport system using the same | |
| KR101246394B1 (en) | Photo electric sensor | |
| JPS61133806A (en) | Boundary detection of articles in process of travel | |
| JP3723006B2 (en) | End face detection device | |
| JP6441141B2 (en) | Coin processing equipment | |
| US7050159B2 (en) | Coin-type determining device | |
| JP3335513B2 (en) | Deformed coin detection device | |
| JPH06222156A (en) | Object detecting device | |
| JPS60117116A (en) | light sensor | |
| JPH1149405A (en) | Reflective optical coupling device | |
| JPH1153617A (en) | Medal discrimination device and medal for the device | |
| JP2001178959A (en) | Coin provided with information, device and method for reading information of the coin and coin discrimination device and method | |
| JPH03109691A (en) | Coin discriminator | |
| JPS589083A (en) | Optical detection for object | |
| JP2001175914A (en) | Coin discriminating device |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080920 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 6 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080920 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090920 Year of fee payment: 7 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |