JPH0968507A - Ｘ線回折装置 - Google Patents
Ｘ線回折装置Info
- Publication number
- JPH0968507A JPH0968507A JP22384495A JP22384495A JPH0968507A JP H0968507 A JPH0968507 A JP H0968507A JP 22384495 A JP22384495 A JP 22384495A JP 22384495 A JP22384495 A JP 22384495A JP H0968507 A JPH0968507 A JP H0968507A
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- JP
- Japan
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- sample
- ray
- axis
- diffracted
- displacement meter
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】どのような形状の試料でも分析すべき試料表面
が所定位置に位置するようにする。 【解決手段】Ｘ線管１からの一次Ｘ線３がθ軸上の試料
４に当てられ、試料４からの回折Ｘ線５が２θ軸上の検
出器７によって走査・検出される。試料４の分析される
面の位置はレーザー変位計８によって測定され、制御器
１０にあらかじめ記憶されている基準値と一致するよう
に試料移動機構９によって前後に調整される。その結
果、どんな形状の試料でも試料面は常にゴニオメータの
回転中心と一致するので精度のよい分析を行うことがで
きる。
が所定位置に位置するようにする。 【解決手段】Ｘ線管１からの一次Ｘ線３がθ軸上の試料
４に当てられ、試料４からの回折Ｘ線５が２θ軸上の検
出器７によって走査・検出される。試料４の分析される
面の位置はレーザー変位計８によって測定され、制御器
１０にあらかじめ記憶されている基準値と一致するよう
に試料移動機構９によって前後に調整される。その結
果、どんな形状の試料でも試料面は常にゴニオメータの
回転中心と一致するので精度のよい分析を行うことがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は試料の結晶構造など
を調べるＸ線回折装置に関する。
を調べるＸ線回折装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】Ｘ線回折装置では、Ｘ線源から発生して
試料に当てられる一次Ｘ線の光軸と試料から発生して検
出器に至る回折Ｘ線の光軸の交点に分析するべき試料表
面が常に位置するように配置する必要がある。例えば試
料を載置して走査するθ軸と検出器を走査する２θ軸を
もつゴニオメータを備えたＸ線回折装置において、従来
はゴニオメータの中心軸に分析するべき試料表面が一致
するようにするために、試料ホルダーやθ軸に固定され
た試料ホルダー載置台の機械的加工精度に依存して、は
め合いなどの方法により試料表面が目的の位置すなわち
ゴニオメータの中心軸の位置に来るようにしていた。
試料に当てられる一次Ｘ線の光軸と試料から発生して検
出器に至る回折Ｘ線の光軸の交点に分析するべき試料表
面が常に位置するように配置する必要がある。例えば試
料を載置して走査するθ軸と検出器を走査する２θ軸を
もつゴニオメータを備えたＸ線回折装置において、従来
はゴニオメータの中心軸に分析するべき試料表面が一致
するようにするために、試料ホルダーやθ軸に固定され
た試料ホルダー載置台の機械的加工精度に依存して、は
め合いなどの方法により試料表面が目的の位置すなわち
ゴニオメータの中心軸の位置に来るようにしていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来技術では異なった
形状や厚さの試料に対しても、試料表面が所定位置に来
るようにするために、それぞれの試料に応じた形状の試
料ホルダーを用意する必要があった。また試料ホルダー
やその他の機械加工精度によっては試料表面が目的とす
る位置に一致しない場合があった。
形状や厚さの試料に対しても、試料表面が所定位置に来
るようにするために、それぞれの試料に応じた形状の試
料ホルダーを用意する必要があった。また試料ホルダー
やその他の機械加工精度によっては試料表面が目的とす
る位置に一致しない場合があった。
【０００４】本発明の目的は、いろいろな形状の試料に
対応し、常に試料表面を所定の位置に位置決めできるＸ
線回折装置を提供することである。
対応し、常に試料表面を所定の位置に位置決めできるＸ
線回折装置を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、試料にＸ線を照射するＸ線源と試料から
放射される回折Ｘ線を検出する検出器を有するＸ線回折
装置において、前記Ｘ線源と試料と検出器を含む平面内
で試料表面の位置を検出する位置検出手段と、前記平面
内で試料表面の位置を前後させる試料移動手段とを備
え、前記位置検出手段の出力によって前記試料移動手段
を制御することにより試料表面が所定位置になるように
制御するようにした。
決するために、試料にＸ線を照射するＸ線源と試料から
放射される回折Ｘ線を検出する検出器を有するＸ線回折
装置において、前記Ｘ線源と試料と検出器を含む平面内
で試料表面の位置を検出する位置検出手段と、前記平面
内で試料表面の位置を前後させる試料移動手段とを備
え、前記位置検出手段の出力によって前記試料移動手段
を制御することにより試料表面が所定位置になるように
制御するようにした。
【０００６】位置検出手段によって試料表面の位置を検
出し、その試料表面が所定位置に来るように試料移動手
段によって試料を移動するので、どのような試料形状や
厚さであってもその分析すべき表面が所定位置に来るよ
うにすることができる。
出し、その試料表面が所定位置に来るように試料移動手
段によって試料を移動するので、どのような試料形状や
厚さであってもその分析すべき表面が所定位置に来るよ
うにすることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】図１に本発明の一つの実施の形態
を示す。これはθ−２θ連動型のゴニオメータを有する
Ｘ線回折装置を上から見た図（平面図）である。Ｘ線管
１から放射され発散スリット２によって広がりを制限さ
れた一次Ｘ線３（特性Ｘ線）はゴニオメータの回転中心
に置かれた粉末試料４に当てられ、この試料によって回
折された回折Ｘ線５は検出スリット６の位置に収束し、
その背後に配置されたシンチレーション検出器７によっ
て検出される。Ｘ線管１および発散スリット２は決めら
れた位置に固定されており、試料移動機構９およびその
試料取付面に取り付けられた試料はゴニオメータのθ軸
に固定され、検出スリット６とシンチレーション検出器
７は２θ軸に取り付けられている。また試料４の表面の
位置を測定するレーザー変位計８もθ軸に固定されてい
る。このレーザー変位計はレーザー光を試料４に向けて
発射し、その試料表面から反射してくる光を三角測量の
原理で計測することによってレーザー変位計と光の反射
面（今の場合は試料表面）までの距離を測定するもので
ある。ゴニオメータのθ軸はθ軸モータ１１によって駆
動され、２θ軸はθ軸と回転中心を同じくするものであ
って、２θ軸モータ１２によって駆動されるように構成
されている。回折角θ（または検出器の角度位置として
の２θ）の関数として回折Ｘ線強度の測定を行う場合に
は、回折Ｘ線５と試料４の表面とのなす角が一次Ｘ線３
と試料４の表面とのなす角に等しくなるように、ゴニオ
メータのθ軸と２θ軸は連動して駆動される（いわゆる
θ−２θ連動によるゴニオメータの走査）。
を示す。これはθ−２θ連動型のゴニオメータを有する
Ｘ線回折装置を上から見た図（平面図）である。Ｘ線管
１から放射され発散スリット２によって広がりを制限さ
れた一次Ｘ線３（特性Ｘ線）はゴニオメータの回転中心
に置かれた粉末試料４に当てられ、この試料によって回
折された回折Ｘ線５は検出スリット６の位置に収束し、
その背後に配置されたシンチレーション検出器７によっ
て検出される。Ｘ線管１および発散スリット２は決めら
れた位置に固定されており、試料移動機構９およびその
試料取付面に取り付けられた試料はゴニオメータのθ軸
に固定され、検出スリット６とシンチレーション検出器
７は２θ軸に取り付けられている。また試料４の表面の
位置を測定するレーザー変位計８もθ軸に固定されてい
る。このレーザー変位計はレーザー光を試料４に向けて
発射し、その試料表面から反射してくる光を三角測量の
原理で計測することによってレーザー変位計と光の反射
面（今の場合は試料表面）までの距離を測定するもので
ある。ゴニオメータのθ軸はθ軸モータ１１によって駆
動され、２θ軸はθ軸と回転中心を同じくするものであ
って、２θ軸モータ１２によって駆動されるように構成
されている。回折角θ（または検出器の角度位置として
の２θ）の関数として回折Ｘ線強度の測定を行う場合に
は、回折Ｘ線５と試料４の表面とのなす角が一次Ｘ線３
と試料４の表面とのなす角に等しくなるように、ゴニオ
メータのθ軸と２θ軸は連動して駆動される（いわゆる
θ−２θ連動によるゴニオメータの走査）。
【０００８】試料から放射される回折Ｘ線をゴニオメー
タのθ軸および２θ軸を連動走査して測定する場合に、
一次Ｘ線３の当たる試料面がちょうどゴニオメータの回
転中心の上にあることが重要である。もし試料面が回転
中心から前後方向にずれていると回折Ｘ線の出現位置が
正しい位置からずれ、また、広がりを持って試料に当て
られたＸ線が再び検出スリットの位置で収束するという
収束条件を満たさなくなるので、検出される回折Ｘ線の
強度が下がったり回折ピークの幅が広がったりするとい
う不具合が生じる。図１の実施例では、θ軸に固定され
たレーザー変位計８によって試料表面の位置を測定し、
試料表面の位置がゴニオメータの回転中心とちょうど一
致するように、同じくθ軸に固定された試料移動機構９
によって試料を移動するようにしている。
タのθ軸および２θ軸を連動走査して測定する場合に、
一次Ｘ線３の当たる試料面がちょうどゴニオメータの回
転中心の上にあることが重要である。もし試料面が回転
中心から前後方向にずれていると回折Ｘ線の出現位置が
正しい位置からずれ、また、広がりを持って試料に当て
られたＸ線が再び検出スリットの位置で収束するという
収束条件を満たさなくなるので、検出される回折Ｘ線の
強度が下がったり回折ピークの幅が広がったりするとい
う不具合が生じる。図１の実施例では、θ軸に固定され
たレーザー変位計８によって試料表面の位置を測定し、
試料表面の位置がゴニオメータの回転中心とちょうど一
致するように、同じくθ軸に固定された試料移動機構９
によって試料を移動するようにしている。
【０００９】試料面の位置合わせは具体的には次のよう
にして行う。まず初めにジグなどを使って調整用試料の
表面がちょうどゴニオメータ中心に来るようにセットす
る。そのときのレーザー変位計から試料表面までの距離
すなわちレーザー変位計の出力を制御器１０に記憶し基
準値とする。実際のＸ線回折測定を行う場合には、試料
移動機構９の試料取付面に取り付けられた試料表面の位
置をレーザー変位計８で測定し、それを先に記憶してい
た基準値と比較し、両者が一致するように制御器１０は
試料移動機構９によって図の矢印で示した方向に試料を
動かす。レーザー変位計８の出力が基準値と一致すれば
試料表面はゴニオメータの回転中心の上にちょうど位置
することになる。
にして行う。まず初めにジグなどを使って調整用試料の
表面がちょうどゴニオメータ中心に来るようにセットす
る。そのときのレーザー変位計から試料表面までの距離
すなわちレーザー変位計の出力を制御器１０に記憶し基
準値とする。実際のＸ線回折測定を行う場合には、試料
移動機構９の試料取付面に取り付けられた試料表面の位
置をレーザー変位計８で測定し、それを先に記憶してい
た基準値と比較し、両者が一致するように制御器１０は
試料移動機構９によって図の矢印で示した方向に試料を
動かす。レーザー変位計８の出力が基準値と一致すれば
試料表面はゴニオメータの回転中心の上にちょうど位置
することになる。
【００１０】図２に本発明の他の実施の形態を示す。こ
れは回折角θを固定しておき、エネルギー分解能の高い
半導体検出器を用いて、連続Ｘ線による回折Ｘ線強度を
波長の関数として測定するエネルギー分散法の回折装置
を正面から見た図（正面図）である。Ｘ線管２１から放
射されソーラースリット２２によって平行ビームにされ
た一次Ｘ線（連続Ｘ線）は試料２３に当てられ、この試
料によって回折された回折Ｘ線はソーラースリット２４
を介して半導体検出器２５で検出される。Ｘ線管２１お
よびソーラースリット２２、さらに、ソーラースリット
２４と半導体検出器２５は決められた位置に固定されて
おり、これは回折角θが所定の値で一定とされていると
いうことことである。試料２３はテーブル上下機構２７
の試料テーブル２８の上に載置されており、上下動可能
となっている。この試料の上方にはレーザー変位計２６
が設置されており、試料表面の上下位置が測定されるよ
うになっている。
れは回折角θを固定しておき、エネルギー分解能の高い
半導体検出器を用いて、連続Ｘ線による回折Ｘ線強度を
波長の関数として測定するエネルギー分散法の回折装置
を正面から見た図（正面図）である。Ｘ線管２１から放
射されソーラースリット２２によって平行ビームにされ
た一次Ｘ線（連続Ｘ線）は試料２３に当てられ、この試
料によって回折された回折Ｘ線はソーラースリット２４
を介して半導体検出器２５で検出される。Ｘ線管２１お
よびソーラースリット２２、さらに、ソーラースリット
２４と半導体検出器２５は決められた位置に固定されて
おり、これは回折角θが所定の値で一定とされていると
いうことことである。試料２３はテーブル上下機構２７
の試料テーブル２８の上に載置されており、上下動可能
となっている。この試料の上方にはレーザー変位計２６
が設置されており、試料表面の上下位置が測定されるよ
うになっている。
【００１１】Ｘ線管２１からは波長が連続している連続
Ｘ線が放射され、試料２３に当てられている。試料２３
からは各波長に応じて回折Ｘ線が放射され、半導体検出
器２５はその回折Ｘ線を波長（エネルギー）ごとに分解
して同時に検出する。すなわちこの構成のＸ線回折装置
では検出器や試料を走査することなく、回折Ｘ線をＸ線
波長（Ｘ線エネルギー）の関数として同時に測定でき
る。
Ｘ線が放射され、試料２３に当てられている。試料２３
からは各波長に応じて回折Ｘ線が放射され、半導体検出
器２５はその回折Ｘ線を波長（エネルギー）ごとに分解
して同時に検出する。すなわちこの構成のＸ線回折装置
では検出器や試料を走査することなく、回折Ｘ線をＸ線
波長（Ｘ線エネルギー）の関数として同時に測定でき
る。
【００１２】この構成のＸ線回折装置では、ソーラース
リット２２によって決まる一次Ｘ線（Ｘ線管）の光軸
と、ソーラースリット２４によって決まる回折Ｘ線（検
出器）の光軸の交点に試料表面が位置する必要がある。
そのために図２の実施例では、試料の上方に設置された
レーザー変位計２６で試料表面の位置を測定し、試料表
面の位置が一次Ｘ線の光軸と回折Ｘ線の光軸との交点と
ちょうど一致するようにテーブル上下機構２７によって
試料２３を移動する。
リット２２によって決まる一次Ｘ線（Ｘ線管）の光軸
と、ソーラースリット２４によって決まる回折Ｘ線（検
出器）の光軸の交点に試料表面が位置する必要がある。
そのために図２の実施例では、試料の上方に設置された
レーザー変位計２６で試料表面の位置を測定し、試料表
面の位置が一次Ｘ線の光軸と回折Ｘ線の光軸との交点と
ちょうど一致するようにテーブル上下機構２７によって
試料２３を移動する。
【００１３】試料面の位置合わせは具体的には次のよう
にして行う。まず初めにジグなどを使って調整用試料の
表面が一次Ｘ線の光軸と回折Ｘ線の光軸との交点にちょ
うど位置するようにセットする。そのときのレーザー変
位計から試料表面までの距離すなわちレーザー変位計２
６の出力を制御器２９に記憶し基準値とする。実際のＸ
線回折測定を行う場合には、レーザー変位計２６でテー
ブル上下機構２７の試料テーブル２８の上に載せられた
試料表面の位置を測定し、それを先に記憶していた基準
値と比較し、両者が一致するように制御器２９はテーブ
ル上下機構２７によって図の矢印で示した方向に試料を
動かす。レーザー変位計２６の出力が基準値と一致すれ
ば試料表面は一次Ｘ線の光軸と回折Ｘ線の光軸との交点
の上にちょうど位置することになる。
にして行う。まず初めにジグなどを使って調整用試料の
表面が一次Ｘ線の光軸と回折Ｘ線の光軸との交点にちょ
うど位置するようにセットする。そのときのレーザー変
位計から試料表面までの距離すなわちレーザー変位計２
６の出力を制御器２９に記憶し基準値とする。実際のＸ
線回折測定を行う場合には、レーザー変位計２６でテー
ブル上下機構２７の試料テーブル２８の上に載せられた
試料表面の位置を測定し、それを先に記憶していた基準
値と比較し、両者が一致するように制御器２９はテーブ
ル上下機構２７によって図の矢印で示した方向に試料を
動かす。レーザー変位計２６の出力が基準値と一致すれ
ば試料表面は一次Ｘ線の光軸と回折Ｘ線の光軸との交点
の上にちょうど位置することになる。
【００１４】図２に示した実施例では、Ｘ線管１や半導
体検出器２５は走査をする必要がないので機械的に所定
の位置に固定して設置され、図に示したとおり試料２３
およびこれを載置するための試料テーブル２８を水平に
なるように配置することができる。このようなレイアウ
トでは試料２３は試料テーブル２８の上に単に乗せるだ
けでもよく、試料の形状や厚さ、さらには試料の固定の
方法について大幅に自由度が増して分析がやりやすくな
る。また、レーザー変位計２６による測定位置は試料の
分析される領域の中心と一致させているので、レーザー
光の照射スポットを観察すれば正確に分析領域を確認す
ることができる。
体検出器２５は走査をする必要がないので機械的に所定
の位置に固定して設置され、図に示したとおり試料２３
およびこれを載置するための試料テーブル２８を水平に
なるように配置することができる。このようなレイアウ
トでは試料２３は試料テーブル２８の上に単に乗せるだ
けでもよく、試料の形状や厚さ、さらには試料の固定の
方法について大幅に自由度が増して分析がやりやすくな
る。また、レーザー変位計２６による測定位置は試料の
分析される領域の中心と一致させているので、レーザー
光の照射スポットを観察すれば正確に分析領域を確認す
ることができる。
【００１５】上述した実施例の説明で位置検出手段とし
てはレーザー変位計を例としてあげたが、非接触式でＸ
線の通路を妨げないものであれば超音波式やレーザー以
外の光学式センサなどの他の位置検出手段を用いること
もできる。また、試料移動手段としては試料位置を位置
検出手段と対向する方向に移動させる一軸の移動機構に
限らず、その移動方向とは直角の平面内で移動軸を持つ
３軸の移動機構を用いてもよい。そのようにすれば試料
の厚みを選ばず測定できるばかりでなく、試料を固定す
るテーブル上の固定位置もあまり厳密に考える必要がな
く、ややラフに試料を置いたとしても試料移動手段によ
って試料の分析するべき中心と一次Ｘ線の中心を一致さ
せることができる。
てはレーザー変位計を例としてあげたが、非接触式でＸ
線の通路を妨げないものであれば超音波式やレーザー以
外の光学式センサなどの他の位置検出手段を用いること
もできる。また、試料移動手段としては試料位置を位置
検出手段と対向する方向に移動させる一軸の移動機構に
限らず、その移動方向とは直角の平面内で移動軸を持つ
３軸の移動機構を用いてもよい。そのようにすれば試料
の厚みを選ばず測定できるばかりでなく、試料を固定す
るテーブル上の固定位置もあまり厳密に考える必要がな
く、ややラフに試料を置いたとしても試料移動手段によ
って試料の分析するべき中心と一次Ｘ線の中心を一致さ
せることができる。
【００１６】
【発明の効果】本発明では、Ｘ線回折装置において、試
料表面の位置を位置検出手段によって検出し試料移動手
段によって分析する試料表面が所定の位置に位置するよ
うにしたので、どんな形状あるいは厚さの試料であって
も試料を試料台に取り付けあるいは乗せるだけで常に試
料表面を所定の位置に位置決めでき、誤差のないＸ線回
折測定ができるようになる。また試料台への試料の取り
付け方にもそれほど多大な注意を払う必要がなく、操作
者の負担が軽くなる。
料表面の位置を位置検出手段によって検出し試料移動手
段によって分析する試料表面が所定の位置に位置するよ
うにしたので、どんな形状あるいは厚さの試料であって
も試料を試料台に取り付けあるいは乗せるだけで常に試
料表面を所定の位置に位置決めでき、誤差のないＸ線回
折測定ができるようになる。また試料台への試料の取り
付け方にもそれほど多大な注意を払う必要がなく、操作
者の負担が軽くなる。
【図１】本発明の一つの実施の形態を示す平面図であ
る。
る。
【図２】本発明の他の実施の形態を示す正面図である。
１…Ｘ線管 ２…発散スリット ３…一次Ｘ線 ４…試料 ５…回折Ｘ線 ６…検出スリット ７…シンチレーション検出器 ８…レーザー変位計 ９…試料移動機構 １０…制御器 １１…θ軸モータ １２…２θ軸モータ ２１…Ｘ線管 ２２…ソーラースリット ２３…試料 ２４…ソーラースリット ２５…半導体検出器 ２６…レーザー変位計 ２７…テーブル上下機構 ２８…試料テーブル ２９…制御器
Claims (1)
- 【請求項１】 試料にＸ線を照射するＸ線源と試料から
放射される回折Ｘ線を検出する検出器を有するＸ線回折
装置において、前記Ｘ線源と試料と検出器を含む平面内
で試料表面の位置を検出する位置検出手段と、前記平面
内で試料表面の位置を前後させる試料移動手段とを備
え、前記位置検出手段の出力によって前記試料移動手段
を制御することにより試料表面が所定位置になるように
制御することを特徴とするＸ線回折装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22384495A JPH0968507A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | Ｘ線回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22384495A JPH0968507A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | Ｘ線回折装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0968507A true JPH0968507A (ja) | 1997-03-11 |
Family
ID=16804614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22384495A Pending JPH0968507A (ja) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | Ｘ線回折装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0968507A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7535992B2 (en) | 2005-06-30 | 2009-05-19 | Rigaku Corporation | X-ray diffraction apparatus |
| CN103434036A (zh) * | 2013-08-12 | 2013-12-11 | 元鸿（山东）光电材料有限公司 | 晶捧定向装置 |
| CN104181181A (zh) * | 2013-05-24 | 2014-12-03 | 株式会社岛津制作所 | X射线分析装置 |
| WO2015119056A1 (ja) * | 2014-02-05 | 2015-08-13 | Ｊｆｅスチール株式会社 | Ｘ線回折装置およびｘ線回折測定方法 |
| JP2020063912A (ja) * | 2018-10-15 | 2020-04-23 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線回折装置及びそれに用いられる試料配置システム |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP22384495A patent/JPH0968507A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7535992B2 (en) | 2005-06-30 | 2009-05-19 | Rigaku Corporation | X-ray diffraction apparatus |
| CN104181181A (zh) * | 2013-05-24 | 2014-12-03 | 株式会社岛津制作所 | X射线分析装置 |
| CN104181181B (zh) * | 2013-05-24 | 2017-07-14 | 株式会社岛津制作所 | X射线分析装置 |
| CN103434036A (zh) * | 2013-08-12 | 2013-12-11 | 元鸿（山东）光电材料有限公司 | 晶捧定向装置 |
| WO2015119056A1 (ja) * | 2014-02-05 | 2015-08-13 | Ｊｆｅスチール株式会社 | Ｘ線回折装置およびｘ線回折測定方法 |
| JP5850211B1 (ja) * | 2014-02-05 | 2016-02-03 | Ｊｆｅスチール株式会社 | Ｘ線回折装置およびｘ線回折測定方法 |
| CN105960590A (zh) * | 2014-02-05 | 2016-09-21 | 杰富意钢铁株式会社 | X射线衍射装置以及x射线衍射测量方法 |
| JP2020063912A (ja) * | 2018-10-15 | 2020-04-23 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線回折装置及びそれに用いられる試料配置システム |
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