JPH0968729A - All-solid-state electrochromic device - Google Patents
All-solid-state electrochromic deviceInfo
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- JPH0968729A JPH0968729A JP7224097A JP22409795A JPH0968729A JP H0968729 A JPH0968729 A JP H0968729A JP 7224097 A JP7224097 A JP 7224097A JP 22409795 A JP22409795 A JP 22409795A JP H0968729 A JPH0968729 A JP H0968729A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 スクリーン上に結像された像に対して全固体
型ECDの表示が浮き上がって見えることがなく、一体
の画像として見える全固体型ECDを提供する。
【解決手段】 基板上に、少なくともエレクトロクロミ
ック層を挟む1対の電極層で、かつ、表示部を前記エレ
クトロクロミック層、前記電極層、又はその両方をパタ
ーニングすることにより形成してなる全固体型エレクト
ロクロミック素子であって、前記素子基板の素子面を封
止する封止剤及び保護基板のうち前記封止剤が散乱不透
明な樹脂であることを特徴とする全固体型エレクトロク
ロミック素子。(57) An object of the present invention is to provide an all-solid-state ECD that can be viewed as an integral image without the display of the all-solid-state ECD appearing floating on the image formed on the screen. SOLUTION: This is an all-solid-state type formed by patterning at least a pair of electrode layers sandwiching an electrochromic layer on a substrate, and a display section by patterning the electrochromic layer, the electrode layer, or both. An all-solid-state electrochromic element, which is an electrochromic element, wherein the encapsulant for encapsulating the element surface of the element substrate and the encapsulant in the protective substrate are scattering opaque resins.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、結像光学系のスク
リーン上への表示に用いる全固体型エレクトロクロミッ
ク素子に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an all-solid-state electrochromic device used for displaying on an image-forming optical system screen.
【0002】[0002]
【従来の技術】電圧を印加すると可逆的に電解酸化また
は電解還元反応が起こり可逆的に着色する現象をエレク
トロクロミズムという。このような現象を起こすエレク
トロクロミック(以下、ECと略する場合がある)物質
を用いて、電圧操作により着消色するEC素子(以下、
ECDと略する場合がある)を作り、このECDを光量
制御素子(例えば、調光ガラスや防眩ミラーなど)ある
いは7セグメントを利用した数字表示素子に利用しよう
とする試みは、約20年以上前から行われている。2. Description of the Related Art A phenomenon in which a reversible electrolytic oxidation or electrolytic reduction reaction occurs when a voltage is applied to cause reversible coloring is called electrochromism. By using an electrochromic (hereinafter sometimes abbreviated as EC) substance that causes such a phenomenon, an EC element (hereinafter,
It has been tried for about 20 years or more to make an ECD) and use this ECD for a light quantity control element (for example, a light control glass or an antiglare mirror) or a numerical display element using 7 segments. It's been done from before.
【0003】例えば、ガラス基板上に透明電極膜(陰
極)、三酸化タングステン(WO3)薄膜、二酸化ケイ
素ような絶縁薄膜、電極膜(陽極)を順次積層してなる
ECD(特公昭52−46098参照)が全固体型EC
Dとして知られている。この全固体型ECDに電圧(着
色電圧)を印加すると、酸化タングステン(WO3)薄
膜層が青色に着色する。漏れ電流が微小な場合には電圧
の印加を止めても、この着色状態は長時間維持される
(メモリー性と呼ばれている)。その後、このECDに
逆の電圧(消色電圧)を印加するか、または一対の電極
間を短絡すると、WO3薄膜の青色が消えて無色にな
る。For example, an ECD (Japanese Patent Publication No. 52-46098) formed by sequentially laminating a transparent electrode film (cathode), a tungsten trioxide (WO 3 ) thin film, an insulating thin film such as silicon dioxide, and an electrode film (anode) on a glass substrate. (See) is an all-solid-state EC
Known as D. When a voltage (coloring voltage) is applied to this all-solid-state ECD, the tungsten oxide (WO 3 ) thin film layer is colored blue. When the leakage current is very small, this coloring state is maintained for a long time even if the application of voltage is stopped (called memory property). After that, when a reverse voltage (decoloring voltage) is applied to this ECD or the pair of electrodes is short-circuited, the blue color of the WO 3 thin film disappears and becomes colorless.
【0004】この着消色する機構は詳しくは解明されて
いないが、WO3薄膜および絶縁膜(イオン導伝層)中
に含まれる少量の水分がWO3の着消色を支配している
と理解されており、着色の反応式は、以下のように推定
されている。The mechanism of this color fading and decoloring has not been clarified in detail, but it is considered that a small amount of water contained in the WO 3 thin film and the insulating film (ion conducting layer) controls the color fading and coloring of WO 3 . It is understood and the reaction equation for coloring is estimated as:
【0005】[0005]
【数1】 [Equation 1]
【0006】従って、このタイプのECDは、(1)着
色反応の際、酸素ガス発生という好ましくない副反応に
より含有水分が消費される、(2)逆の消色反応によっ
て水が生成されないので、着色の繰り返しに大気中から
の水の補給が必要である、という特徴を有する。特に後
者(2)の特徴により、このタイプのECDには、着色
の再現性が大気中水分の影響を受けるという問題点があ
る。Therefore, in this type of ECD, (1) the water content is consumed by the undesirable side reaction of oxygen gas generation during the coloring reaction, and (2) water is not generated by the reverse bleaching reaction. The feature is that replenishment of water from the atmosphere is required for repeated coloring. In particular, due to the latter feature (2), this type of ECD has a problem that the reproducibility of coloring is affected by atmospheric moisture.
【0007】そこで、着色反応により消費される水の量
と同じ量の水が消色反応により生成され、そのため外界
から水を補給しなくても着消色を繰り返すことができ、
しかも繰り返される着色の濃度が外界の影響を受けない
全固体型ECDが提案されている(特開昭52−737
49号公報参照)。この全固体型ECDは、基本的には
透明電極膜、電解還元発色性薄膜(EC層、例えばWO
3)、電解酸化発色性薄膜(EC層、例えばCr
2O3)、及び対向電極を順次積層してなるものである。Therefore, the same amount of water as the amount of water consumed by the coloring reaction is produced by the decoloring reaction, so that the coloring and decoloring can be repeated without replenishing the water from the outside,
Moreover, an all-solid-state ECD has been proposed in which the concentration of repeated coloring is not affected by the external environment (Japanese Patent Laid-Open No. 52-737).
49). This all-solid-state ECD is basically a transparent electrode film, an electrolytic reduction coloring thin film (EC layer such as WO
3 ), electrolytic oxidation coloring thin film (EC layer, eg Cr
2 O 3 ) and a counter electrode are sequentially laminated.
【0008】前記公報の開示によれば、電圧印加による
着色後、電圧を解除した場合、着色が自然放電により次
第に消色する現象が見られるので、電圧解除後も着色が
保存される性質(これをメモリー性という)をこの全固
体型ECDを与えるためには、透明電極と対向電極との
間の任意位置に電子絶縁膜(例えば、二酸化ケイ素、フ
ッ化マグネシウム等の薄膜)設ける必要があるという。According to the disclosure of the above-mentioned publication, when the voltage is released after coloring by applying a voltage, there is a phenomenon that the coloring gradually disappears due to spontaneous discharge, so that the coloring is preserved even after the voltage is released. In order to provide this all-solid-state ECD, it is necessary to provide an electronic insulating film (for example, a thin film of silicon dioxide, magnesium fluoride, etc.) between the transparent electrode and the counter electrode. .
【0009】特公昭62−52845号公報によれば、
この絶縁膜は、電子に対して良導体ではないが、プロト
ンまたはヒドロキシイオンに対しては良導体であり、即
ちイオン導電性膜(層)と推察されている。また、前記
公報の開示によれば、絶縁膜(イオン導電層)は電解還
元発色性薄膜と電解酸化性薄膜との間に存在させること
が最も望ましいこと、並びに電解還元発色性薄膜と電解
酸化発色性薄膜とは、両者とも発色性である必要はな
く、いずれか一方が外部より変化が識別できるような着
色をすれば足りることを見い出したとされている。According to Japanese Patent Publication No. 62-52845,
This insulating film is not a good conductor for electrons but a good conductor for protons or hydroxy ions, that is, it is presumed to be an ion conductive film (layer). Further, according to the disclosure of the above publication, it is most desirable that the insulating film (ion conductive layer) be present between the electrolytic reduction coloring thin film and the electrolytic oxidation thin film, and the electrolytic reduction coloring thin film and the electrolytic oxidation coloring thin film. It is said that it has been found that it is not necessary for both of them to be colored, and it is sufficient for one of them to be colored so that the change can be discriminated from the outside.
【0010】EC層を直接または間接的に挟む一対の電
極層は、EC層の着消色を外部に見せるために少なくと
も一方は透明でなければならない。特に透過型のECD
の場合には両電極層とも透明でなければならない。透明
な電極材料としては、現在のところSnO2、In
2O3、ITO(In2O 3とSnO2の混合物)、ZnO
などが知られているが、これらの材料は比較的透明度が
低いため薄くする必要があり、この理由およびその他の
理由からECDは基板(例えばガラス板やプラスチック
板)の上に、例えば、蒸着、イオンプレーティング、ス
パッタリングなどの真空薄膜形成技術により形成される
のが普通である。A pair of electrodes that directly or indirectly sandwich the EC layer.
The polar layer is at least necessary to show the color of the EC layer to the outside.
One must also be transparent. Especially transparent ECD
In this case, both electrode layers must be transparent. Transparent
SnO is currently used as a good electrode material.2, In
2OThree, ITO (In2O ThreeAnd SnO2Mixture), ZnO
It is known that these materials have relatively high transparency.
It must be thin because it is low, and for this reason and other
For reasons ECD is a substrate (eg glass plate or plastic
Plate), for example, vapor deposition, ion plating,
Formed by vacuum thin film forming technology such as puttering
Is normal.
【0011】また、ECDは用途によって、素子を保護
するために保護基板を素子基板と対向するように配置
し、例えばエポキシ樹脂などを用いて密封封止して用い
られる。ところで、電気素子を用いる表示素子は、EC
Dや液晶を利用するものなど、種々提案されており、液
晶では既に実用化されている。ECDを用いる表示素子
は、実用化が遅れているが、表示の透過率を広い範囲に
わたって連続的に制御できるなど、液晶にはない優れた
特性を有する。ECDは、ECDを構成する各層の材料
形態によって、溶液型、ゲル型、全固体型などに大別す
ることができ、その中でも全固体型ECDは、EC層、
電解質層、電極層などの各層がすべて薄膜状に連続的に
形成されている。Depending on the application, the ECD is used by arranging a protective substrate so as to face the element substrate in order to protect the element and hermetically sealing it with, for example, an epoxy resin. By the way, a display element using an electric element is an EC
Various proposals have been made, such as those utilizing D and liquid crystal, and liquid crystal has already been put to practical use. Although the display element using the ECD has been put to practical use late, it has excellent characteristics that liquid crystal does not have, such as being able to continuously control the display transmittance over a wide range. The ECD can be roughly classified into a solution type, a gel type, an all solid type, and the like depending on the material form of each layer constituting the ECD. Among them, the all solid type ECD is an EC layer,
Each layer such as an electrolyte layer and an electrode layer is continuously formed in a thin film shape.
【0012】そのため、全固体型ECDは、液漏れなど
の心配がなく最も信頼性の高いタイプと考えられてい
る。Therefore, the all-solid-state ECD is considered to be the most reliable type without fear of liquid leakage.
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、全固体
型ECDを結像光学系用スクリーン(以下、スクリーン
と略する)の後ろに配置させて、スクリーン上への表示
素子として用いた場合、スクリーン上に結像された像に
対して全固体型ECDの表示が浮き上がって見え、違和
感を感じるという問題が生じる。However, when the all-solid-state ECD is arranged behind a screen for imaging optical system (hereinafter abbreviated as screen) and used as a display element on the screen, the There is a problem in that the display of the all-solid-state ECD appears to be raised with respect to the image formed on the display, and the user feels something strange.
【0014】そこで、本発明の目的は、スクリーン上に
結像された像に対して全固体型ECDの表示が浮き上が
って見えることがなく、一体の画像として見える全固体
型ECDを提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to provide an all-solid-state ECD in which the display of the all-solid-state ECD can be seen as an integrated image without the display of the all-solid-state ECD appearing floating with respect to the image formed on the screen. is there.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明では、第一に「基
板上に、少なくともエレクトロクロミック層を挟む1対
の電極層で、かつ、表示部を前記エレクトロクロミック
層、前記電極層、又はその両方をパターニングすること
により形成してなる全固体型エレクトロクロミック素子
であって、前記素子基板の素子面を封止する封止剤及び
保護基板のうち前記封止剤が散乱不透明な樹脂であるこ
とを特徴とする全固体型エレクトロクロミック素子(請
求項1)」を提供する。In the present invention, firstly, "a pair of electrode layers sandwiching at least an electrochromic layer on a substrate, and a display portion is the electrochromic layer, the electrode layer, or An all-solid-state electrochromic element formed by patterning both, wherein the encapsulant for encapsulating the element surface of the element substrate and the encapsulant of the protective substrate are scattering opaque resins. An all-solid-state electrochromic device (claim 1) "is provided.
【0016】また、本発明では、第二に「前記散乱不透
明な樹脂が、無機物、有機物、又はその両方を分散させ
た接着剤、又は粘着シートであることを特徴とする請求
項1記載の全固体型エレクトロクロミック素子(請求項
2)」を提供する。The second aspect of the present invention is that "the scattering opaque resin is an adhesive in which an inorganic substance, an organic substance, or both are dispersed, or an adhesive sheet. A solid-state electrochromic device (claim 2) is provided.
【0017】[0017]
【発明の実施の形態】本発明者は、鋭意研究の結果、結
像光学系の結像位置と全固体型ECDの表示位置との差
により視差が生じるために、スクリーン上に結像された
像に対して全固体型ECDの表示が浮き上がって見える
ことを見いだした。 即ち、結像光学系の結像位置(ス
クリーン位置)と全固体型ECDの表示位置を近づける
(究極的には一致させる)ことにより、両者の視差を小
さくでき、表示の浮き上がり現象が小さくできることを
見いだし、本発明をなすに至った。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As a result of earnest research, the inventor of the present invention formed an image on a screen because a parallax is generated due to a difference between the image forming position of an image forming optical system and the display position of an all-solid-state ECD. It was found that the display of the all-solid-state ECD appears to rise to the image. That is, by bringing the image forming position (screen position) of the image forming optical system and the display position of the all-solid-state ECD close to each other (ultimately making them coincide with each other), it is possible to reduce the parallax between the two and reduce the floating phenomenon of the display. They have found the present invention and made the present invention.
【0018】全固体型ECDは素子面保護のため、素子
面をガラスなどの保護基板及び封止樹脂(封止剤)によ
り封止して一体とした構造である。例えば、カメラの焦
点板(スクリーン)の表示素子として全固体型ECDを
用いた場合、図4に示す様な構成となる。即ち、このよ
うな全固体型ECDをスクリーンの後ろに配置させてス
クリーン上への表示素子として用いた場合、封止樹脂と
保護基板の厚さ分だけ、フォーカス位置に差が生じる。The all-solid-state ECD has a structure in which the element surface is sealed by a protective substrate such as glass and a sealing resin (sealing agent) to protect the element surface. For example, when an all-solid-state ECD is used as the display element of the focusing screen (screen) of the camera, the configuration is as shown in FIG. That is, when such an all-solid-state ECD is arranged behind the screen and used as a display element on the screen, a difference in focus position occurs due to the thickness of the sealing resin and the protective substrate.
【0019】また、全固体型ECDの前にスクリーンを
設けないで、保護基板にスクリーンの機能を付加させた
場合においても、封止樹脂の厚さ分だけ、フォーカス位
置に差が生じる。本発明は、封止樹脂を散乱不透明にす
ることにより、全固体型ECDにスクリーンの機能を付
加することができるので、全固体型ECDの前にスクリ
ーンを設ける必要がなくなり、結像光学系の結像位置と
全固体型ECDの表示位置との距離の差をほぼゼロにす
ることができ、フォーカス位置の差が小さい、即ち視差
が小さい全固体型ECDを提供する。Even if the screen is not provided in front of the all-solid-state type ECD and the screen function is added to the protective substrate, the focus position is different by the thickness of the sealing resin. In the present invention, the function of the screen can be added to the all-solid-state ECD by making the sealing resin scattering and opaque. Therefore, it is not necessary to provide the screen in front of the all-solid-state ECD, and the image forming optical system The all-solid-state ECD having a small difference between the focus positions and the parallax can be provided because the difference in distance between the image formation position and the display position of the all-solid-state ECD can be made substantially zero.
【0020】封止樹脂には、一般に無色透明な樹脂が選
ばれるが、場合によっては色のついた樹脂でもかまわな
い。封止樹脂には接着剤が用いられる場合があり、アク
リル系、エポキシ系、シリコン系、ポリウレタン系、ポ
リエステル系などの接着剤が利用できる。封止樹脂層を
散乱不透明化する方法としては、樹脂中に適当な微粒子
を分散させる方法や、樹脂自体の重合反応等を利用して
散乱不透明化する場合がある。A colorless and transparent resin is generally selected as the encapsulating resin, but a colored resin may be used depending on the case. An adhesive may be used as the sealing resin, and an acrylic, epoxy, silicone, polyurethane, polyester, or other adhesive may be used. As a method of making the sealing resin layer scattering and opaque, there are a method of dispersing appropriate fine particles in the resin and a method of making the resin opaque and scattering by utilizing a polymerization reaction of the resin itself.
【0021】適当な微粒子を分散させ、封止樹脂層を散
乱不透明化する方法の場合は、スクリーンを形成するた
めに、一般には白色散乱する微粒子が好ましいが、場合
により、白色散乱以外の色でもかまわない。分散させる
微粒子の種類は、一般には、無機物では、酸化ケイ素、
酸化アルミニウ、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化
タンタル、酸化タングステン、酸化マグネシウム、酸化
バナジウム、酸化モリブデンなどが挙げられる。また、
有機物では、CR39、ポリチオウレタン、ポリカーボ
ネイト、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、そ
の混合重合体、共重合体などが挙げられる。In the case of a method of dispersing appropriate fine particles to make the sealing resin layer scattering and opaque, fine particles that scatter white are generally preferable for forming a screen, but in some cases, a color other than white scattering may be used. I don't care. The types of fine particles to be dispersed are generally inorganic materials such as silicon oxide,
Examples thereof include aluminum oxide, titanium oxide, zirconium oxide, tantalum oxide, tungsten oxide, magnesium oxide, vanadium oxide, molybdenum oxide and the like. Also,
Examples of organic substances include CR39, polythiourethane, polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene, mixed polymers and copolymers thereof.
【0022】分散させる微粒子の種類は、使用する封止
樹脂により異なる。スクリーンとして用いられるために
は、封止樹脂と微粒子との屈折率の差が、0.01以
上、好ましくは0.05以上の差が必要である。また、
分散させる微粒子の粒径は1〜500μm、好ましく
は、10〜30μmである。The type of fine particles to be dispersed depends on the sealing resin used. In order to be used as a screen, the difference in refractive index between the sealing resin and the fine particles needs to be 0.01 or more, preferably 0.05 or more. Also,
The particle size of the fine particles to be dispersed is 1 to 500 μm, preferably 10 to 30 μm.
【0023】1μmより小さいと十分な散乱不透明な状
態が得られず、スクリーンとして使用することができな
い。また、500μmより大きいと像が粗くなり、高品
位な像が得られない。封止厚は、1〜100μm、好ま
しくは1〜10μmである。1μmより薄くなると封止
強度が弱くなり、100μmより厚くなると像が鮮明に
結像しなくなる。If it is smaller than 1 μm, a sufficiently scattered and opaque state cannot be obtained and it cannot be used as a screen. On the other hand, if it is larger than 500 μm, the image becomes rough and a high-quality image cannot be obtained. The sealing thickness is 1 to 100 μm, preferably 1 to 10 μm. If it is thinner than 1 μm, the sealing strength becomes weak, and if it is thicker than 100 μm, an image cannot be clearly formed.
【0024】スクリーンとして用いられるためには、封
止樹脂、封止樹脂に分散される微粒子、封止厚の組み合
わせが重要であり、光の透過率が、50〜95%、好ま
しくは70〜90%となるように分散混合比が調整され
る。散乱不透明化し過ぎると暗くなり像が見えにくくな
る。また、散乱不透明化が十分でないと像のコントラス
トが得られず、見えにくくなる。In order to be used as a screen, a combination of a sealing resin, fine particles dispersed in the sealing resin, and a sealing thickness is important, and the light transmittance is 50 to 95%, preferably 70 to 90. The dispersion mixing ratio is adjusted so as to be%. If it is made too opaque, it becomes dark and the image becomes difficult to see. Further, if the scattering and opacity are not sufficient, the contrast of the image cannot be obtained, which makes it difficult to see.
【0025】上記のように、分散させる微粒子の種類、
粒径は1種類に限らず、2種類以上の組み合わせでもか
まわない。また、微粒子の形状は球形とは限らない。本
発明における全固体型ECDの積層構造は、特に限定さ
れるものではないが、例えば、電極層/EC層/イオ
ン導伝層/電極層のような4層構造、この場合、EC層
とイオン導伝層とは、どちらを上にしても下にしてもよ
い。As described above, the kind of fine particles to be dispersed,
The particle size is not limited to one type, and a combination of two or more types may be used. Further, the shape of the fine particles is not always spherical. The laminated structure of the all-solid-state ECD in the present invention is not particularly limited, but for example, a four-layer structure such as an electrode layer / EC layer / ion conducting layer / electrode layer, in this case, an EC layer and an ion layer. The conductive layer may be either upside or downside.
【0026】更に、EC層に対して間にイオン導伝層を
挟んで(場合により酸化着色性EC層ともなる)可逆的
電解酸化層又は触媒層を配置してもよく、電極層/還
元着色型EC層/イオン導伝層/可逆的電解酸化層/電
極層のような5層構造があげられる。還元着色型EC層
には、一般に三酸化タングステン、三酸化モリブデンな
どが使用される。Further, a reversible electrolytic oxidation layer or a catalyst layer may be arranged between the EC layer and an ion conducting layer (which also serves as an oxidation coloring EC layer in some cases) between the EC layer and the electrode layer / reduction coloring. Examples include a five-layer structure such as a type EC layer / ion conduction layer / reversible electrolytic oxidation layer / electrode layer. Tungsten trioxide, molybdenum trioxide, etc. are generally used for the reduction coloring type EC layer.
【0027】イオン導伝層には、例えば、酸化ケイ素、
酸化タンタル、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニ
オブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、酸化ランタ
ン、フッ化マグネシウムなどが使用される。イオン導伝
層は、電子に対して絶縁体であるが、プロトン(H+)
およびヒドロキシイオン(OH-)に対しては良導体と
なる。EC層の着色反応にはカチオンが必要とされ、H
+やLi+をEC層その他に含有させる必要がある。The ion conducting layer includes, for example, silicon oxide,
Tantalum oxide, titanium oxide, aluminum oxide, niobium oxide, zirconium oxide, hafnium oxide, lanthanum oxide, magnesium fluoride, etc. are used. The ion conducting layer, which is an insulator for electrons, has protons (H + )
And it is a good conductor for hydroxy ion (OH − ). Cations are required for the coloring reaction of the EC layer, and H
It is necessary to add + or Li + to the EC layer or the like.
【0028】H+やLi+は、初めからイオンである必要
はなく、電圧が印加された時にH+が生じればよく、従
って、H+のかわりに水を含有させてもよい。この水
は、非常に少なくて十分であり、しばしば大気中から自
然に浸入する水分でも着消色する。可逆的電解酸化層に
は、例えば酸化ないし水酸化イリジウム、同じくニッケ
ル、同じくクロム、同じくバナジウム、同じくルテニウ
ム、同じくロジウムなどが使用される。これらの物質
は、イオン導伝層または透明電極層中に分散してもよい
し、逆にそれらを分散してもよい。H + and Li + do not have to be ions from the beginning and H + may be generated when a voltage is applied. Therefore, water may be contained instead of H + . This water is very small and sufficient, and often discolors even with water that naturally enters from the atmosphere. For the reversible electrolytic oxidation layer, for example, iridium oxide or hydroxide, nickel, chromium, vanadium, ruthenium, rhodium, etc. are used. These substances may be dispersed in the ion conducting layer or the transparent electrode layer, or vice versa.
【0029】表示部に対応したパターンは、電極層、還
元着色型EC層、可逆的電解酸化層又はこれらの内2層
以上を、リフトオフ、エッチング、印刷などでパターニ
ングを行い形成することができる。The pattern corresponding to the display portion can be formed by patterning an electrode layer, a reduction coloring type EC layer, a reversible electrolytic oxidation layer or two or more layers thereof by lift-off, etching, printing or the like.
【0030】[0030]
【実施例】以下、実施例およびその図により本発明を具
体的に説明する。本発明はこれに限定されるものではな
い。 〔実施例1〕図1は、本実施例で作成する全固体型EC
Dの垂直断面図である。The present invention will be specifically described below with reference to Examples and the drawings. The present invention is not limited to this. [Embodiment 1] FIG. 1 shows an all-solid-state EC produced in this embodiment.
It is a vertical sectional view of D.
【0031】ガラス基板1に担持された厚さ0.2μ
mの透明電極(ITO)2に、公知の湿式プロセスによ
り電極ギャップ3を形成した。 上記基板上にイオンプレーティング法(酸素ガス圧1
〜5×10-4Torr、RF出力0〜600W、蒸着速
度0.1〜2×10-4μm/秒)により、厚さ約0.1
μmのIr−Sn酸化物混合体(Ir原子混合比5〜7
0%)の表示パターン4を、リフトオフ工程で形成し
た。Thickness 0.2 μ carried on glass substrate 1
An electrode gap 3 was formed on the transparent electrode (ITO) 2 of m by a known wet process. Ion plating method (oxygen gas pressure 1
˜5 × 10 −4 Torr, RF output 0 to 600 W, vapor deposition rate 0.1 to 2 × 10 −4 μm / sec), and a thickness of about 0.1.
μm Ir—Sn oxide mixture (Ir atomic mixing ratio 5-7
0%) of the display pattern 4 was formed in the lift-off process.
【0032】上記基板に、イオンプレーティング法
(酸素ガス圧1〜6×10-4Torr、RF出力0〜6
00W、蒸着速度0.1〜4×10-4μm/秒)によ
り、厚さ約0.7μmの五酸化タンタルの透明な膜5を
形成した。次いで、真空蒸着法(酸素ガス圧1〜5×1
0-4Torr、蒸着速度0.1〜2×10-4μm/秒)
により、厚さ約0.6μmの三酸化タングステンの透明
な膜6を形成した。On the above substrate, an ion plating method (oxygen gas pressure 1 to 6 × 10 -4 Torr, RF output 0 to 6) was used.
A transparent film 5 of tantalum pentoxide having a thickness of about 0.7 μm was formed at a deposition rate of 00 W and a vapor deposition rate of 0.1 to 4 × 10 −4 μm / sec. Then, a vacuum deposition method (oxygen gas pressure 1 to 5 × 1
0 -4 Torr, deposition rate 0.1 to 2 × 10 -4 μm / sec)
As a result, a transparent film 6 of tungsten trioxide having a thickness of about 0.6 μm was formed.
【0033】更に、上記基板上に、イオンプレーティ
ング法(酸素ガス圧1〜4×10-4Torr、RF出力
0〜600W、蒸着速度1〜8×10-4μm/秒)によ
り、厚さ約0.2μmのITO透明電極7を形成した。 酸化アルミニウム(屈折率1.75、粒径20μm)
を分散(重量比10%)させたエポキシ接着剤(屈折率
1.54)8を用い、保護ガラス9を、接着厚10μm
で密封接着し全固体型ECDを作製した。Further, the thickness of the above substrate was measured by an ion plating method (oxygen gas pressure 1 to 4 × 10 −4 Torr, RF output 0 to 600 W, vapor deposition rate 1 to 8 × 10 −4 μm / sec). An ITO transparent electrode 7 having a thickness of about 0.2 μm was formed. Aluminum oxide (refractive index 1.75, particle size 20 μm)
Using an epoxy adhesive (refractive index 1.54) 8 in which is dispersed (weight ratio 10%), a protective glass 9 having an adhesive thickness of 10 μm
Then, it was sealed and adhered to prepare an all-solid-state ECD.
【0034】作製した全固体型ECDを結像光学系の結
像位置に配置し、像を写しだし、同時に全固体型ECD
による表示を行ったところ、像と全固体型ECD表示の
フォーカスの差は観察されなかった。 〔比較例1〕図2は、本比較例で作成する全固体型EC
Dの垂直断面図である。The prepared all-solid-state ECD is placed at the image-forming position of the image-forming optical system to project an image, and at the same time, the all-solid-state ECD is formed.
No difference in focus between the image and the all-solid-state ECD display was observed. [Comparative Example 1] FIG. 2 is an all-solid-state EC prepared in this Comparative Example.
It is a vertical sectional view of D.
【0035】実施例1の〜と同様に薄膜を積層し
た。次いで、エポキシ接着剤(屈折率1.54)10を
用い、カバーガラス9を接着厚10μmで密封接着し全
固体型ECDを作製した。作製した全固体型ECDをス
クリーンと組み合わせ、結像光学系の結像位置に配置
し、スクリーンに像を写しだし、同時に全固体型ECD
による表示を行ったところ、結像位置と全固体型ECD
の表示位置とのフォーカスの差が観察された。Thin films were laminated in the same manner as in Examples 1 to 3. Then, an epoxy adhesive (refractive index 1.54) 10 was used to hermetically adhere the cover glass 9 with an adhesive thickness of 10 μm to produce an all-solid-state ECD. The all-solid-state ECD produced is combined with a screen, placed at the image-forming position of the image-forming optical system, and an image is projected on the screen.
Image display position and all-solid-state ECD
The difference in focus from the display position of was observed.
【0036】〔比較例2〕図3は、本比較例で作成する
全固体型ECDの垂直断面図である。実施例1の〜
と同様に薄膜を積層した。次いで、エポキシ接着剤(屈
折率1.54)11を用い、射出成型で作製した、スク
リーン(表面凹凸の径20μm、凹凸深さ3μm)12
を接着厚10μmで密封接着し全固体型ECDを作製し
た。[Comparative Example 2] FIG. 3 is a vertical sectional view of an all-solid-state ECD prepared in this Comparative Example. Of Example 1
The thin films were laminated in the same manner as in. Next, a screen (diameter of surface irregularities: 20 μm, depth of irregularities: 3 μm) 12 produced by injection molding using an epoxy adhesive (refractive index 1.54) 11
Was sealed and adhered with an adhesive thickness of 10 μm to prepare an all-solid-state ECD.
【0037】作製したECDを結像光学系の結像位置に
配置し、像を写しだし、同時に全固体型ECDによる表
示を行ったところ、結像位置と全固体型ECDの表示位
置とのフォーカスの差が観察された。The produced ECD was placed at the image forming position of the image forming optical system, an image was projected, and at the same time, display was carried out by the all-solid-state ECD. Focusing between the image forming position and the display position of the all-solid-state ECD Difference was observed.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上の通り、本発明に従って全固体型E
CDの封止樹脂中に微粒子(散乱体)を混入し、スクリ
ーンを形成することにより、スクリーン上に映し出され
る像と、全固体型ECDの表示位置とのフォーカスの差
を生ずることなく、表示が可能であり、スクリーン上に
結像された像に対して全固体型ECDの表示が浮き上が
って見えることがなく、違和感を感じない。As described above, according to the present invention, all-solid-state E
By mixing fine particles (scatterers) in the CD sealing resin to form a screen, the image displayed on the screen and the display position of the all-solid-state ECD can be displayed without a difference in focus. It is possible, and the display of the all-solid-state ECD does not appear to be raised with respect to the image formed on the screen, and no discomfort is felt.
【0039】全固体型ECDにスクリーン機能を付加す
ることにより、表示機能とスクリーン機能を一体化する
ことができるので、部品点数を減らすことができる。Since the display function and the screen function can be integrated by adding the screen function to the all-solid-state ECD, the number of parts can be reduced.
【図1】は、実施例1に示した、全固体型ECDの垂直
断面を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing a vertical cross section of an all-solid-state ECD shown in Example 1.
【図2】は、比較例1に示した、全固体型ECDの垂直
断面を示す概念図である。FIG. 2 is a conceptual diagram showing a vertical cross section of the all-solid-state ECD shown in Comparative Example 1.
【図3】は、比較例2に示した、ECDの全固体型垂直
断面を示す概念図である。FIG. 3 is a conceptual diagram showing an all-solid-state vertical cross section of ECD shown in Comparative Example 2.
【図4】は、カメラの焦点板の表示素子として従来の全
固体型ECDを用いた場合の配置図である。FIG. 4 is a layout diagram when a conventional all-solid-state ECD is used as a display element of a focusing screen of a camera.
1・・・ガラス基板 2・・・ITO透明電極 3・・・電極ギャップ 4・・・Ir・Sn混合酸化物による表示パターン封止
樹脂 5・・・五酸化タンタル 6・・・三酸化タングステン 7・・・ITO透明電極 8・・・酸化アルミニウムを分散させたエポキシ接着剤 9・・・保護ガラス 10・・・エポキシ接着剤 11・・・射出成型によるスクリーンDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Glass substrate 2 ... ITO transparent electrode 3 ... Electrode gap 4 ... Display pattern sealing resin with Ir / Sn mixed oxide 5 ... Tantalum pentoxide 6 ... Tungsten trioxide 7・ ・ ・ ITO transparent electrode 8 ・ ・ ・ Aluminum oxide dispersed epoxy adhesive 9 ・ ・ ・ Protective glass 10 ・ ・ ・ Epoxy adhesive 11 ・ ・ ・ Screen by injection molding
Claims (2)
ク層を挟む1対の電極層で、かつ、表示部を前記エレク
トロクロミック層、前記電極層、又はその両方をパター
ニングすることにより形成してなる全固体型エレクトロ
クロミック素子であって、前記素子基板の素子面を封止
する封止剤及び保護基板のうち前記封止剤が散乱不透明
な樹脂であることを特徴とする全固体型エレクトロクロ
ミック素子。1. An all-solid-state formed by patterning at least a pair of electrode layers sandwiching an electrochromic layer on a substrate, and a display section of the electrochromic layer, the electrode layer, or both. All-solid-state electrochromic device, wherein the encapsulant for encapsulating the element surface of the element substrate and the encapsulant of the protective substrate are resins that are scattering and opaque.
物、又はその両方を分散させた接着剤、又は粘着シート
であることを特徴とする請求項1記載の全固体型エレク
トロクロミック素子。2. The all-solid-state electrochromic device according to claim 1, wherein the scattering opaque resin is an adhesive in which an inorganic substance, an organic substance, or both are dispersed, or an adhesive sheet.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7224097A JPH0968729A (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | All-solid-state electrochromic device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7224097A JPH0968729A (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | All-solid-state electrochromic device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0968729A true JPH0968729A (en) | 1997-03-11 |
Family
ID=16808503
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7224097A Pending JPH0968729A (en) | 1995-08-31 | 1995-08-31 | All-solid-state electrochromic device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0968729A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011030790A1 (en) * | 2009-09-09 | 2011-03-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | Electrochemical element and method for manufacturing same |
-
1995
- 1995-08-31 JP JP7224097A patent/JPH0968729A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2011030790A1 (en) * | 2009-09-09 | 2011-03-17 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | Electrochemical element and method for manufacturing same |
| JPWO2011030790A1 (en) * | 2009-09-09 | 2013-02-07 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | Electrochemical element and manufacturing method thereof |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20050524 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20050524 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20051122 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |