JPH0968804A - レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】厚さにばらつきのあるガラス基板に一定の膜厚
でレジストを塗布する。 【構成】ニップローラ支持部材８をロールバー３に対し
て接近または離間させる昇降機構１０と、これを駆動す
るためのパルスモータ１１と、レジスト塗布機構に送り
込まれるガラス基板１の厚みを測定する厚みサンサ１２
の出力信号に基づいた厚みデータを生成するガラス基板
厚み検出装置１３で生成された厚みデータに対応した制
御パルスを生成する演算処理装置１４と、演算処理装置
１４で生成した制御パルスに基づいてパルスモータ１１
に駆動パルスを出力するモータコントローラ１５とを具
備し、ガラス基板１の厚みに応じてニップローラ２とロ
ールバー３との間の間隔を変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、レジスト塗布装置にか
かり、特に液晶表示装置用のガラス基板にカラーフィル
タ等の薄層を形成するためのレジスト等の塗布に好適な
レジスト塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置を構成するガラス基板に例
えばカラーフィルタを形成する工程において、当該カラ
ーフィルタのフォトリソエッチング法等の前段階として
ガラス基板に所定のレジストを一様な厚さで塗布する必
要がある。

【０００３】従来のこの種のレジスト塗布は、溝付きゴ
ムローラによってレジスト溶液を塗布するロールコート
法、あるいはガラス基板を回転させながらレジスト溶液
を遠心力で引延して塗布するスピンコート法、その他種
々の方法があるが、前者では塗膜の平滑性に限界があ
り、また、後者ではレジスト溶液の利用率が極めて低
く、多数のガラス基板を効率よく処理することが困難で
あるという問題がある。

【０００４】これに対して、例えば特開平２−２５８０
８１号公報、特開平４−２７０３４６号公報に開示され
たようなワイヤー巻回ロッドを用いて平面搬送されるガ
ラス基板の下面からレジスト溶液を塗布する、所謂ロッ
ドコート法を用いることで、連続して搬送される多数の
ガラス基板に均一なレジストの塗膜を形成することがで
きる。

【０００５】図１３はこの種のレジスト塗布装置の構成
を説明する要部模式図であって、１はガラス基板、２は
ニップロール、３はロールバー、４はレジスト、５は受
け皿、６はロールバー支持部材、７は搬送ローラであ
る。

【０００６】同図において、レジストの塗布部はニップ
ロール２、ロールバー３、レジスト４を貯留する受け皿
５、ロールバー支持部材６とから構成され、ニップロー
ル２とロールバー３の対向間隙の塗布部に図示矢印Ａ方
向からガラス基板１が搬入され、ロールバー３で汲み上
げられたレジストが当該ガラス基板１の下面に塗布され
る。

【０００７】レジストが塗布されたガラス基板１は基板
送り出し搬送機構の搬送ローラ７によりさらに搬送さ
れ、次段の乾燥ステージに送り込まれる。

【０００８】図１４は図１３の矢印Ｂ方向から見た送り
込み搬送部の概略構成図である。なお、同図にはニップ
ローラ、基板先端センサー等は図示していない。

【０００９】同図においては、ガラス基板１は４枚の液
晶パルス用ガラス板に相当するレジスト塗布有効領域１
ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄを有する、所謂４枚取り基板であ
り、搬送ローラ７は上記レジスト塗布有効領域外の両端
で支持してＡ方向に搬送される。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】上記従来のレジスト塗
布装置においては、ニップロール２とロールバー３の間
隔を一定にして、その間にガラス基板１を通過させなが
らニップロール２で所定の押圧力を与えながらレジスト
４を塗布するものであるため、ガラス基板の厚みにばら
つきがあると塗布むらが生じるという問題があった。

【００１１】本発明の目的は、上記従来技術の問題点を
解消し、ガラス基板の厚みにばらつきがあっても一定の
膜厚でレジストを塗布できるレジスト塗布装置を提供す
ることにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、下記の手段を用いた。

【００１３】（１）レジストの塗布前にガラス基板の厚
みを測定し、その厚みの変化に応じてニップロールを上
下させてロールバーとの間の間隔を制御する。

【００１４】（２）ガラス基板を平らなステージに吸着
して水平に保持した後、ロールバーの上を水平に移動さ
せる。

【００１５】（３）ニップロールを重り、スプリング、
空気圧、油圧等でロールバーに対して一定に押し付けて
ガラス基板の厚さ、うねりに応じて間隔を制御する。

【００１６】（４）ニップロールを固定してロールバー
を空気圧、スプリング、重力等でガラス基板に押しつけ
る、以下、本発明の特徴を分かり易くするために、実施
例で使用している符号を付して説明する。

【００１７】すなわち、請求項１に記載の第１の発明
は、搬送されるガラス基板１の裏面にレジストを塗布す
るレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記ガラス
基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なくとも有
するレジスト塗布装置において、前記レジスト塗布機構
が、レジスト４を貯留する受け皿５と、前記レジストの
液面に周面の少なくとも一部を接触して回転するロール
バー３と、前記受け皿に没設して前記ロールバーの周面
を回転可能に支持するロールバー保持部材６と、前記ロ
ールバー３の上方に対向配置して前記ガラス基板１のレ
ジスト塗布有効領域を含んで前記ロールバー３との間に
ガラス基板１を通過させるごとく設置したニップローラ
２と、前記ニップローラ２を支持するニップローラ支持
部材８と、前記ニップローラ支持部材８を前記ロールバ
ー３に対して接近または離間させる昇降機構１０と前記
昇降機構１０を昇降駆動させるためのパルスモータ１１
とからなり、前記基板送り込み搬送機構によって前記レ
ジスト塗布機構に送り込まれるガラス基板１の厚みを測
定する厚みサンサ１２と、前記厚みセンサ１２の出力信
号に基づいた厚みデータを生成するガラス基板厚み検出
装置１３と、前記ガラス基板厚み検出装置１３で生成さ
れた厚みデータに対応した制御パルスを生成する演算処
理装置１４と、前記演算処理装置１４で生成した制御パ
ルスに基づいて前記パルスモータ１１に駆動パルスを出
力するモータコントローラ１５とを具備し、前記ガラス
基板１の厚みに応じて前記ニップローラ２とロールバー
３との間の間隔を変化させることにより均一なレジスト
薄膜を塗布することを特徴とする。

【００１８】また、請求項２に記載の第２の発明は、第
１の発明における前記昇降機構１０が、前記ニップロー
ラ支持部材８を前記ロールバー３に対して接近または離
間する移動を案内する昇降機構ガイド９と、前記ニップ
ローラ支持部材８に固定したボールネジ１０ａと、前記
ボールネジ１０ａと噛合するボールギア１０ｂと、前記
ボールギア１０ｂに固定した第１プーリ１０ｃと、前記
パルスモータ１１の駆動軸に固定した第２プーリ１０ｄ
と、前記第１および第２プーリに掛け渡したベルト１０
ｅとから構成したことを特徴とする。

【００１９】さらに、請求項３に記載の第３の発明は、
搬送されるガラス基板１の裏面にレジストを塗布するレ
ジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記ガラス基板
を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なくとも有する
レジスト塗布装置において、前記レジスト塗布機構が、
レジスト４を貯留する受け皿５と、前記レジストの液面
に周面の少なくとも一部を接触して回転するロールバー
３と、前記受け皿に没設して前記ロールバーの周面を回
転可能に支持するロールバー保持部材６と、前記ロール
バー３の上方に対向配置して前記ガラス基板１のレジス
ト塗布有効領域を含んで前記ロールバー３との間にガラ
ス基板１を通過させるごとく設置したニップローラ２
と、前記ニップローラ２を支持するニップローラ支持部
材８と、前記ニップローラ支持部材８を前記ロールバー
３に対して接近または離間させる昇降機構１０’とから
構成され、前記昇降機構１０’が、前記ニップローラ支
持部材８を前記ロールバー３に対して接近または離間す
る移動を案内する昇降機構ガイド９と、前記ニップロー
ラ支持部材８に固定した超低摩擦シリンダー１９と、前
記超低摩擦シリンダー１９を駆動する空気圧力比例制御
弁２１とからなり、前記超低摩擦シリンダー１９の駆動
力が略々一定となるように前記空気圧力比例制御弁２１
を制御する演算処理装置１４とを具備し、前記ガラス基
板１の厚みにかかわらずに均一なレジスト薄膜を塗布す
ることを特徴とする。

【００２０】さらに、請求項４に記載の第４の発明は、
前記第３の発明における前記昇降機構１０’が、前記ニ
ップローラ支持部材８に一端を固定して上方に伸び、プ
ーリ１６ａで折り返して下方に伸びた他端に重りを吊り
下げたワイヤー１６とからなる前記ニップローラ２の圧
力バランス制御機構を具備したことを特徴とする。

【００２１】さらに、請求項５に記載の第５の発明は、
搬送されるガラス基板１の裏面にレジストを塗布するレ
ジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記ガラス基板
を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なくとも有する
レジスト塗布装置において、前記レジスト塗布機構が、
レジスト４を貯留する受け皿５と、前記レジストの液面
に周面の少なくとも一部を接触して回転するロールバー
３と、前記受け皿に没設して前記ロールバーの周面を回
転可能に支持するロールバー保持部材６と、前記ロール
バー３の上方に対向配置して前記ガラス基板１のレジス
ト塗布有効領域を含んで前記ロールバー３との間にガラ
ス基板１を通過させるごとく設置したニップローラ２
と、前記ニップローラ２を支持するニップローラ支持部
材８と、前記レジスト塗布機構を前記ニップローラ２に
対して接近または離間させる昇降機構１０”とから構成
され、前記昇降機構１０”が、前記受け皿５を載置した
超低摩擦シリンダー１９と、前記超低摩擦シリンダー１
９を駆動する前記空気圧力比例制御弁２１とからなり、
前記超低摩擦シリンダー１９の駆動力が略々一定となる
ように前記空気圧力比例制御弁２１を制御する演算処理
装置１４とを具備し、前記ガラス基板１の厚みにかかわ
らずに均一なレジスト薄膜を塗布することを特徴とす
る。

【００２２】さらに、請求項６に記載の第６の発明は、
搬送されるガラス基板１の裏面にレジストを塗布するレ
ジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記ガラス基板
を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なくとも有する
レジスト塗布装置において、前記レジスト塗布機構が、
レジスト４を貯留する受け皿５と、前記レジストの液面
に周面の少なくとも一部を接触して回転するロールバー
３と、前記受け皿に没設して前記ロールバーの周面を回
転可能に支持するロールバー保持部材６と、前記ロール
バー３の上方に位置して前記ガラス基板１を下面に吸着
して前記ロールバー３に前記ガラス基板１の下面を前記
ロールバー３に接触させた状態で搬送する高精度スライ
ド機構２９と、前記レジスト塗布機構に搬送される前の
前記高精度スライド機構２９に吸着された前記ガラス基
板の厚みを測定する少なくとも１つの厚みセンサ１２
と、前記厚みセンサ１２の出力信号に基づいて前記ガラ
ス基板１の厚みを検出する基板厚み検出装置１３と、前
記基板厚み検出装置１３の出力データにより、前記ガラ
ス基板１と前記ロールバー３との間の間隙が一定となる
ように前記高精度スライド機構２９の吸着位置を制御し
て前記ガラス基板１の厚みにかかわらずに均一なレジス
ト薄膜を塗布することを特徴とする。

【００２３】さらに、請求項７に記載の第７の発明は、
前記第６の発明における前記高精度スライド機構２９は
移動ベース２９ａと、空気圧によって前記ガラス基板１
を吸着保持する吸着プレート３２と、前記吸着プレート
３２による前記ガラス基板１の吸着姿勢を制御する吸着
プレート駆動装置３１とを具備したことを特徴とする。

【００２４】そして、請求項８に記載の第８の発明は、
搬送されるガラス基板１の裏面にレジストを塗布するレ
ジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記ガラス基板
を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なくとも有する
レジスト塗布装置において、前記レジスト塗布機構が、
レジスト４を貯留する受け皿５と、前記レジストの液面
に周面の少なくとも一部を接触して回転するロールバー
３と、前記受け皿に没設して前記ロールバーの周面を回
転可能に支持するロールバー保持部材６と、前記ロール
バー３の上方に位置して前記ガラス基板１を下面に吸着
して前記ロールバー３に前記ガラス基板１の下面を前記
ロールバー３に接触させた状態で搬送する高精度スライ
ド機構２９と、前記受け皿５を前記ガラス基板１に対し
て接近または離間させる昇降機構１０”とから構成さ
れ、前記昇降機構１０”が、前記受け皿５を載置した超
低摩擦シリンダー１９と、前記超低摩擦シリンダー１９
を駆動する空気圧力比例制御弁２１とからなり、前記超
低摩擦シリンダー１９の駆動力が略々一定となるように
前記空気圧力比例制御弁２１を制御する演算処理装置１
４とを具備し、前記ガラス基板１の厚みにかかわらずに
均一なレジスト薄膜を塗布することを特徴とする。

【００２５】なお、本発明は上記の構成に限るものでは
なく、上記各発明の構成による効果と同様の効果を奏す
る構成を採用することができることは言うまでもない。

【００２６】

【作用】上記第１の発明の構成において、レジスト塗布
装置は、搬送されるガラス基板１の裏面にレジストを塗
布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記ガ
ラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なくと
も有し、レジスト４は受け皿５に貯留され、回転するロ
ールバー３の周面の一部は受け皿５に貯留されたレジス
トの液面に接触して回転する。

【００２７】ロールバー保持部材６は、前記受け皿５に
没設して前記ロールバー３の周面を回転可能に支持す
る。

【００２８】ニップローラ２は、前記ロールバー３の上
方に対向配置して前記ガラス基板１のレジスト塗布有効
領域を含んで前記ロールバー３との間にガラス基板１を
通過させる。ニップローラ支持部材８は、前記ニップロ
ーラ２を支持し、昇降機構１０は前記ニップローラ支持
部材８を前記ロールバー３に対して接近または離間させ
るごとくパルスモータ１１で昇降駆動される。

【００２９】厚みサンサ１２は、前記基板送り込み搬送
機構によって前記レジスト塗布機構に送り込まれるガラ
ス基板１の厚みを測定し、ガラス基板厚み検出装置１３
は厚みサンサ１２の出力信号に基づいて厚みデータを生
成する。

【００３０】演算処理装置１４は、前記ガラス基板厚み
検出装置１３で生成された厚みデータに対応した制御パ
ルスを生成し、モータコントローラ１５は生成した制御
パルスに基づいて前記パルスモータ１１に駆動パルスを
出力する。

【００３１】また、第２の発明の構成において、昇降機
構ガイド９は前記ニップローラ支持部材８を前記ロール
バー３に対して接近または離間する移動を案内し、前記
ニップローラ支持部材８に固定したボールネジ１０ａ
と、前記ボールネジ１０ａと噛合するボールギア１０ｂ
と、前記ボールギア１０ｂに固定した第１プーリ１０ｃ
と、前記パルスモータ１１の駆動軸に固定した第２プー
リ１０ｄと、前記第１および第２プーリに掛け渡したベ
ルト１０ｅとで前記ニップローラ支持部材８がロールバ
ー３に対して離間または接近する如く移動する。

【００３２】さらに、第３の発明の構成において、レジ
スト４は受け皿５に貯留され、ロールバー３の周面の一
部は上記レジスト液面に周面の少なくとも一部を接触し
て回転する。

【００３３】ロールバー保持部材６は、前記受け皿５に
没設して前記ロールバー３の周面を回転可能に支持す
る。ニップローラ２は、前記ロールバー３の上方に対向
配置して前記ガラス基板１のレジスト塗布有効領域を含
んで前記ロールバー３との間にガラス基板１を通過させ
る。

【００３４】昇降機構１０’は、前記ニップローラ２を
支持するニップローラ支持部材８を前記ロールバー３に
対して接近または離間させる。昇降機構ガイド９は前記
昇降機構１０’を前記ニップローラ支持部材８が前記ロ
ールバー３に対して接近または離間する移動を案内す
る。

【００３５】超低摩擦シリンダー１９は前記ニップロー
ラ支持部材８に固定され、空気圧力比例制御弁２１は前
記超低摩擦シリンダー１９を駆動する。演算処理装置１
４は前記超低摩擦シリンダー１９の駆動力が略々一定と
なるように前記空気圧力比例制御弁２１を制御する。

【００３６】さらに、第４の発明の構成において、前記
ニップローラ支持部材８に一端を固定して上方に伸び、
プーリ１６ａで折り返して下方に伸びた他端に重りを吊
り下げたワイヤー１６からなる機構は、前記ニップロー
ラ２の圧力バランスを制御してガラス基板１の厚みのか
かわらずに一定の押圧力を与える。

【００３７】さらに、第５の発明の構成において、レジ
スト４は受け皿５に貯留され、ロールバー３は、その周
面の少なくとも一部を前記レジストの液面に接触して回
転する。

【００３８】ロールバー保持部材６は、前記受け皿５に
没設して前記ロールバーの周面を回転可能に支持する。
ニップローラ２は前記ロールバー３の上方に対向配置し
て前記ガラス基板１のレジスト塗布有効領域を含んで前
記ロールバー３との間にガラス基板１を通過させるごと
く設置される。

【００３９】ニップローラ支持部材８は前記ニップロー
ラ２を支持し、昇降機構１０”は前記レジスト塗布機構
を前記ニップローラ２に対して接近または離間させる。

【００４０】前記昇降機構１０”を構成する超低摩擦シ
リンダー１９は前記受け皿５を載置し、空気圧力比例制
御弁２１は前記超低摩擦シリンダー１９を駆動する。

【００４１】演算処理装置１４は前記超低摩擦シリンダ
ー１９の駆動力が略々一定となるように前記空気圧力比
例制御弁２１を制御する。

【００４２】さらに、第６の発明の構成において、レジ
スト４は受け皿５に貯留され、ロールバー３の周面の少
なくとも一部を前記レジストの液面に接触して回転す
る。

【００４３】ロールバー保持部材６は前記受け皿に没設
して前記ロールバーの周面を回転可能に支持する。高精
度スライド機構２９は前記ロールバー３の上方に位置し
て前記ガラス基板１を下面に吸着して前記ロールバー３
に前記ガラス基板１の下面を前記ロールバー３に接触さ
せた状態で搬送する。

【００４４】厚みセンサ１２はレジストを塗布する前の
前記高精度スライド機構２９に吸着された前記ガラス基
板の厚みを測定し、基板厚み検出装置１３は前記厚みセ
ンサ１２の出力信号に基づいて前記ガラス基板１の厚み
を検出する。なお、この厚みセンサ１２は少なくとも一
個もしくは複数個設置され、好ましくはガラス基板１の
二次元上の複数位置での厚みを測定して、二次元の厚み
変化（うねり、傾き、等）を検出可能とする。

【００４５】前記基板厚み検出装置１３の出力データに
より前記ガラス基板１と前記ロールバー３との間の間隙
が一定となるように前記高精度スライド機構２９の吸着
位置が制御される。

【００４６】さらに、第７の発明の構成において、吸着
プレート３２は、前記高精度スライド機構２９の移動ベ
ース２９ａに取付けられて、空気圧により前記ガラス基
板１を吸着保持する。吸着プレート駆動装置３１は前記
吸着プレート３２による前記ガラス基板１の吸着姿勢を
制御する。

【００４７】そして、第８の発明の構成において、レジ
スト４は受け皿５に貯留され、ロールバー３は前記レジ
ストの液面に周面の少なくとも一部を接触して回転す
る。

【００４８】ロールバー保持部材６は前記受け皿に没設
して前記ロールバーの周面を回転可能に支持する。高精
度スライド機構２９は前記ロールバー３の上方に位置し
て前記ガラス基板１を下面に吸着し、前記ロールバー３
に前記ガラス基板１の下面を前記ロールバー３に接触さ
せた状態で搬送する。

【００４９】昇降機構１０”は、前記受け皿５を載置し
た超低摩擦シリンダー１９と、前記超低摩擦シリンダー
１９を駆動する空気圧力比例制御弁２１とからなり、演
算処理装置１４は、前記超低摩擦シリンダー１９の駆動
力が略々一定となるように前記空気圧力比例制御弁２１
を制御する。

【００５０】

【実施例】以下、本発明の実施例につき、図面を参照し
て詳細に説明する。

【００５１】図１と図２は本発明によるレジスト塗布装
置の第１実施例を説明する構成図であって、図１は正面
図、図２は図１の矢印Ａ方向からみた側面図である。

【００５２】図１および図２において、１はガラス基
板、２はニップローラ、３はロールバー、３ａはロール
バー駆動装置、４はレジスト、５は受け皿、６はロール
バー保持部材、７はローラ（基板搬送ローラ）、７ａは
機枠、７ｂは架台、８はニップローラ支持部材、８ａは
ニップローラ駆動装置、９は昇降ガイド、１０は昇降機
構、１０ａはボールネジ、１０ｂはボールギア、１０ｃ
は第１プーリ、１０ｄは第２プーリ、１０ｅはベルト、
１１はパルスモータ、１２は厚みセンサ、１３はガラス
基板厚み検出装置、１４は演算処理装置、１５はモータ
コントローラである。

【００５３】本実施例のレジスト塗布機構は、レジスト
４を貯留する受け皿５と、前記レジスト４の液面に周面
の少なくとも一部を接触して回転するロールバー３と、
前記受け皿５に没設して前記ロールバー３の周面を回転
可能に支持するロールバー保持部材６と、前記ロールバ
ー３の上方に対向配置してガラス基板１のレジスト塗布
有効領域を含んで前記ロールバー３との間に前記ガラス
基板１を通過させるごとく設置したニップローラ２と、
前記ニップローラ２を支持するニップローラ支持部材８
と、前記ニップローラ支持部材８を前記ロールバー３に
対して接近または離間させる昇降機構１０と前記昇降機
構１０を昇降駆動させるためのパルスモータ１１とから
構成される。

【００５４】この構成において、図１の左方に配置され
たローラ７を有する基板送り込み搬送機構によって前記
レジスト塗布機構に送り込まれるガラス基板１の厚みが
厚みセンサ１２で測定される。

【００５５】この厚みセンサ１２からの出力信号は基板
厚み検出装置１３に入力され、当該ガラス基板１の厚み
データが演算処理装置１４に与えられる。

【００５６】演算処理装置１４はモータコントローラ１
５に上記厚みデータに応じた駆動パルスをパルスモータ
１１に出力する。

【００５７】パルスモータ１１の回転により、前記ガラ
ス基板１の厚みに応じた前記ニップローラ２とロールバ
ー３との間の間隔が変えられ、その結果、ガラス基板１
の下面に均一なレジスト薄膜が塗布される。

【００５８】レジスト薄膜が塗布されたガラス基板１は
図１の右方に設置された基板送り出し搬送機構の搬送ロ
ーラ７によりさらに搬送され、次段の乾燥ステージに送
り込まれる。

【００５９】なお、上記昇降機構は、ニップローラ支持
部材８をロールバー３に対して接近または離間する移動
を案内する昇降機構ガイド９と、ニップローラ支持部材
８に固定したボールネジ１０ａと、ボールネジ１０ａと
噛合するボールギア１０ｂと、ボールギア１０ｂに固定
した第１プーリ１０ｃと、パルスモータ１１の駆動軸に
固定した第２プーリ１０ｄと、第１および第２プーリ１
０ｃ，１０ｄに掛け渡したベルト１０ｅとから構成され
ており、パルスモータ１１の回転が第１および第２プー
リ１０ｃ，１０ｄに掛け渡したベルト１０ｅでボールギ
ア１０ｂを回転させ、このボールギア１０ｂ回転でボー
ルネジ１０ａが昇降し、ボールネジ１０ａの下端に固定
したニップローラ支持部材８を昇降させて前記ニップロ
ーラ２とロールバー３との間の間隔が変えられる構成と
なっている。

【００６０】この昇降機構の位置決め能力は１パルスあ
たり５μｍであり、測定したガラス基板１の値によって
ニップローラ２を上下させてニップローラ２とロールバ
ー３との間の間隔が調整される。

【００６１】ガラス基板１の厚みのばらつきは、０．７
ｍｍ厚のガラス基板では±０．０３ｍｍ、１．１ｍｍ厚
のガラス基板では±０．１ｍｍであるから、上記したパ
ルスモータ１１の位置決め能力はこれらの要求精度を十
分に達成できる。

【００６２】本実施例により、ガラス基板の厚みにばら
つきがあっても一定の膜厚でレジストを塗布することが
できる。

【００６３】図３と図４は本発明によるレジスト塗布装
置の第２実施例を説明する構成図であって、図３は正面
図、図４は図３の矢印Ａ方向からみた側面図である。

【００６４】図３および図４において、１０’は昇降機
構、１６はワイヤー、１６ａはプーリ、１７は重り、１
７ａはガイド、１８はサポート、１８ａは固定板、１８
ｂはカップリング、１８ｃはガイドシャフト、１９は超
低摩擦シリンダー、２０はシリンダー、２１は空気圧力
比例制御弁、２２はレギュレータ、２３はフィルターで
ある。なお、図１、図２と同一符号は同一部分に対応す
る。

【００６５】前記レジスト塗布機構は、レジスト４を貯
留する受け皿５と、レジスト４の液面に周面の少なくと
も一部を接触して回転するロールバー３と、受け皿５に
没設してロールバー３の周面を回転可能に支持するロー
ルバー保持部材６と、ロールバー３の上方に対向配置し
てガラス基板１のレジスト塗布有効領域を含んでロール
バー３との間にガラス基板１を通過させるごとく設置し
たニップローラ２と、ニップローラ２を支持するニップ
ローラ支持部材８と、ニップローラ支持部材８をロール
バー３に対して接近または離間させる昇降機構１０’と
から構成されている。

【００６６】前記昇降機構１０’は、ニップローラ支持
部材８をロールバー３に対して接近または離間する移動
を案内する昇降機構ガイド９と、ニップローラ支持部材
８に固定した超低摩擦シリンダー１９と、超低摩擦シリ
ンダー１９を駆動する空気圧力比例制御弁２１とから構
成される。

【００６７】演算処理装置１４は超低摩擦シリンダー１
９の駆動力が略々一定となるように前記空気圧力比例制
御弁２１を制御する。

【００６８】これにより、ガラス基板１の厚みにかかわ
らずに均一なレジスト薄膜を塗布することができる。

【００６９】また、昇降機構１０’は、ニップローラ支
持部材８に一端を固定して上方に伸び、プーリ１６ａで
折り返して下方に伸びた他端に重り１７を吊り下げたワ
イヤー１６とからなるニップローラ２の圧力バランス制
御機構を備えている。

【００７０】上記の構成において、演算処理装置１４に
は空気圧力比例制御弁２１による超低摩擦シリンダー１
９の駆動力を一定とするための基準データが格納されて
おり、この基準データに基づいて超低摩擦シリンダー１
９が制御される。

【００７１】すなわち、超低摩擦シリンダー１９の駆動
軸はカップリング１８ｂを介してサポート１８の固定板
１８ａに固定されており、サポート１８の下端の固定し
たニップローラ支持部材８は上記超低摩擦シリンダー１
９で昇降させる。

【００７２】ガラス基板１がロールバー３とニップロー
ラ２の間に搬送されると、超低摩擦シリンダー１９の駆
動圧力が０であればニップローラ回りの質量が全てガラ
ス基板１への押圧力となって作用する。

【００７３】超低摩擦シリンダー１９を上下に駆動して
「ガラス基板１の押圧力＝ニップローラ回りの荷重−超
低摩擦シリンダー１９の駆動力」となるように超低摩擦
シリンダー１９をコントロールすることにより、ガラス
基板１を常に一定の圧力で押圧することができ、当該ガ
ラス基板の厚みに影響されない。

【００７４】なお、重り１７はニップローラ回りの荷重
を減らし、超低摩擦シリンダー１９の応答性を向上させ
る（空気圧力比例制御弁２１のコントロール圧力範囲を
小さくする）ために取付けてある。

【００７５】また、シリンダー２０と昇降機構ガイド９
は、ロールバー３の交換時にニップローラ２を退避位置
に上昇させるためにある。

【００７６】本実施例により、ガラス基板の厚みにばら
つきがあっても一定の膜厚でレジストを塗布することが
できる。

【００７７】図５と図６は本発明によるレジスト塗布装
置の第３実施例を説明する構成図であって、図５は正面
図、図６は図５の矢印Ａ方向からみた側面図である。

【００７８】図５と図６において、２４は昇降シャフ
ト、２５はベース、２６はブラケット、前記第２実施例
の説明図面と同一符号は同一機能部分に対応する。

【００７９】搬送されるガラス基板１の裏面にレジスト
を塗布するレジスト塗布機構は、レジスト４を貯留する
受け皿５と、レジストの液面に周面の少なくとも一部を
接触して回転するロールバー３と、受け皿５に没設して
ロールバー３の周面を回転可能に支持するロールバー保
持部材６と、ロールバー３の上方に対向配置してガラス
基板１のレジスト塗布有効領域を含んでロールバー３と
の間にガラス基板１を通過させるごとく設置したニップ
ローラ２と、ニップローラ２を支持するニップローラ支
持部材８とから構成される。

【００８０】また、上記レジスト塗布機構を前記ニップ
ローラに対して接近または離間させる昇降機構を有し、
この昇降機構は受け皿５を載置した超低摩擦シリンダー
１９と、この超低摩擦シリンダー１９を駆動する空気圧
力比例制御弁２１とから構成される。

【００８１】そして、演算処理装置１４は、超低摩擦シ
リンダー１９の駆動力が略々一定となるように空気圧力
比例制御弁２１を制御する。

【００８２】すなわち、超低摩擦シリンダー１９はベー
ス２６に固定されており、ガラス基板１がニップローラ
２とロールバー３の間に進入したとき、ロールバー３が
取付けられた受け皿５とロールバー駆動装置３ａを載置
したベース２５を超低摩擦シリンダー１９で持ち上げ、
ガラス基板１の下面に押圧する。

【００８３】ガラス基板１の下面を押圧する超低摩擦シ
リンダー１９の駆動は空気圧力比例制御弁２１により常
に一定に保持されるため、ガラス基板の厚さが変化して
もレジストの塗布厚には影響がない。

【００８４】本実施例によっても、ガラス基板１の厚み
にかかわらずに均一なレジスト薄膜を塗布することがで
きる。

【００８５】図７は本発明によるレジスト塗布装置の第
４実施例を説明する構成図であって、１２ａ，１２ｂ，
１２ｃは厚みセンサ、１３はガラス基板厚み検出装置、
２７は昇降シャフト、２８はシリンダー、２９は高精度
スライド機構、２９ａは移動ベース、３０はストッパ
ー、３１は吸着プレート駆動装置、３２は吸着プレー
ト、３３は昇降板、３３ａはピンである。なお、前記実
施例の図面と同一符号は同一機能部分に対応する。

【００８６】また、図８、図９、図１０、図１１はガラ
ス基板の下面にレジストを塗布する一連の動作を説明す
る動作図である。

【００８７】図７および図８〜図１１において、レジス
ト塗布機構は、レジスト４を貯留する受け皿５と、レジ
スト４の液面に周面の少なくとも一部を接触して回転す
るロールバー３と、受け皿に没設してロールバー３の周
面を回転可能に支持するロールバー保持部材６と、ロー
ルバー３の上方に位置してガラス基板１を下面に吸着し
てロールバー３にガラス基板１の下面を接触させた状態
で搬送する高精度スライド機構２９とから構成される。

【００８８】厚みセンサ１２ａ，１２ｂ，１２ｃはレジ
スト塗布機構に搬送される前に高精度スライド機構２９
に吸着された前記ガラス基板の厚みを測定する。この厚
みセンサの出力信号に基づいて基板厚み検出装置１３が
当該ガラス基板１の厚みを検出する。

【００８９】吸着プレート駆動装置３１は、基板厚み検
出装置１３の出力データにより、ガラス基板と前記ロー
ルバーとの間の間隙が一定となるように吸着プレート３
２の吸着位置を調整した後、高精度スライド機構２９は
ロールバー３にガラス基板１の下面を接触させた状態で
搬送する。

【００９０】すなわち、ガラス基板１は基板送り込み搬
送機構を構成するローラ７で図の左方から送り込まれ
る。送り込まれたガラス基板１はストッパー３０に突き
当たると同時にローラ７に駆動停止で昇降板３３の上方
に停止する。

【００９１】この状態で機枠に取り付けたシリンダー２
８が作動して昇降板３３を昇降シャフトにガイドさせて
上昇させ、上面に設置されたピン３３ａにガラス基板１
を載置して持ち上げてさらに吸着プレート３２まで上昇
させ、ガラス基板１が吸着プレート３２に吸着されて保
持される（図７参照）。

【００９２】吸着プレート３２は吸着プレート駆動装置
３１と移動ベース２９ａを介して高精度スライド機構２
９に取付けられている。

【００９３】次に、吸着プレート３２に吸着保持された
ガラス基板１の下面に対して厚みセンサ１２ａ，１２
ｂ，１２ｃが移動して、その厚みを想定する。この厚み
センサーはガラス基板１の平面上の３点を測定してその
測定値を基板厚み検出装置１３に与える。各センサーは
測定後に元の位置に退避する。

【００９４】なお、この厚みセンサーは３個に限るもの
ではなく、また測定個所も３か所に限らず、ガラス基板
の下面のうねり等の平面状態を測定する個所および個数
であればよく、さらに１個のセンサーを移動させて複数
個所を測定する構成としてもよい。

【００９５】この測定結果に基づき、基板厚み検出装置
１３は、当該ガラス基板１の下面が移動ベース２９ａの
移動軸と平行に、かつ移動中にガラス基板１の下面とロ
ールバー３との間の間隙が所定の値となるよう、吸着プ
レート駆動装置３１が吸着プレート３２に吸着されたガ
ラス基板１の位置を調整する。

【００９６】この調整が終了すると、移動ベース２９ａ
は矢印Ｂ方向に移動を開始し、当該ガラス基板１のレジ
スト塗布領域の先端部がロールバー３の直上に来た位置
で一旦停止する（図８参照）。なお、このとき、昇降板
３３は元の位置に下降して次のガラス基板の到来を待
つ。

【００９７】停止したガラス基板１は停止位置から矢印
Ｂ方向に下降してレジスト塗布領域の先端部がロールバ
ー３に所定の間隔で対向するごとく駆動される（図９参
照）。

【００９８】この状態から移動ベース２９ａは矢印Ｄ方
向に再び移動を開始し、当該ガラス基板１の下面にロー
ルバー３で汲み上げられたレジストが塗布される（図１
０参照）。

【００９９】レジストの塗布が完了して図の右方に移動
されたガラス基板１は基板取り出し搬送機構に設けた昇
降板３３で吸着プレート３２から受けられ、当該昇降板
３３の下降で基板取り出し搬送機構のローラ７に載置さ
れて後段の処理ステージに搬送される（図１１参照）。
本実施例によっても、同様にガラス基板の厚みにかかわ
らずに均一なレジスト薄膜を塗布することができる。

【０１００】また、高精度スライド機構２９は、移動ベ
ース２９ａと、空気圧によって前記ガラス基板を吸着保
持する吸着プレート３２と、吸着プレート３２による前
記ガラス基板１の吸着姿勢を制御する吸着プレート駆動
装置３１とで構成される。

【０１０１】図１２は本発明によるレジスト塗布装置の
第５実施例を説明する構成図であって、前記実施例の説
明図と同一符号は同一機能部分に対応する。

【０１０２】本実施例は前記第３実施例と第４実施例と
を組み合わせた構造からなり、レジスト塗布機構は、レ
ジスト４を貯留する受け皿５と、レジスト４の液面に周
面の少なくとも一部を接触して回転するロールバー３
と、受け皿５に没設してロールバー３の周面を回転可能
に支持するロールバー保持部材６と、ロールバーの上方
に位置してガラス基板１を下面に吸着してロールバー３
にガラス基板１の下面を当該ロールバー３に接触させた
状態で搬送する高精度スライド機構２９とから構成され
る。

【０１０３】受け皿５は昇降機構によりガラス基板１に
対して接近または離間され、この昇降機構は受け皿５を
載置した超低摩擦シリンダー１９と、超低摩擦シリンダ
ー１９を駆動する空気圧力比例制御弁２１とからなり、
演算処理装置１４が超低摩擦シリンダー１９の駆動力が
略々０となるように空気圧力比例制御弁２１を制御す
る。

【０１０４】すなわち、本実施例では、前記第４実施例
におけるガラス基板厚みセンサーと吸着プレート駆動装
置３１に代えて、第３実施例と同様のレジスト４の受け
皿５を昇降させる構造を採用したものである。

【０１０５】この実施例の構成では、ロールバー３のガ
ラス基板１への押圧力は超低摩擦シリンダー１９により
一定に保たれる。

【０１０６】したがって、高精度スライド機構２９はガ
ラス基板１を吸着してロールバー３上を移動させる機能
を持つのみとなる。

【０１０７】本実施例によっても、同様に、ガラス基板
の厚みにかかわらずに均一なレジスト薄膜を塗布するこ
とができる。

【０１０８】なお、本発明は上記した各実施例に構成に
限るものではなく、特許請求の範囲に開示された発明の
範囲内で種々の変更が可能であることは言うまでもな
い。

【０１０９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
（１）レジストの塗布前にガラス基板の厚みを測定し、
その厚みの変化に応じてニップロールを上下させてロー
ルバーとの間の間隔を制御する。（２）ガラス基板を平
らなステージに吸着して水平に保持した後、ロールバー
の上を水平に移動させる。（３）ニップロールを重り、
スプリング、空気圧、油圧等でロールバーに対して一定
に押し付けてガラス基板の厚さ、うねりに応じて押圧力
を制御する。（４）ニップロールを固定してロールバー
を空気圧、スプリング、重力等でガラス基板に押しつけ
る。等の構成を備えたレジスト塗布装置とすることによ
り、ガラス基板の厚みにばらつきがあっても一定の膜厚
でレジストを塗布することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明によるレジスト塗布装置の第１実施例を
説明する正面図である。

【図２】図１の矢印Ａ方向からみた側面図である。

【図３】本発明によるレジスト塗布装置の第２実施例を
説明する正面図である。

【図４】図３の矢印Ａ方向からみた側面図である。

【図５】本発明によるレジスト塗布装置の第３実施例を
説明する正面図である。

【図６】図５の矢印Ａ方向からみた側面図である。

【図７】本発明によるレジスト塗布装置の第４実施例を
説明する構成図である。

【図８】本発明の第４実施例においてガラス基板の下面
にレジストを塗布する一連の動作を説明する動作図であ
る。

【図９】本発明の第４実施例においてガラス基板の下面
にレジストを塗布する一連の動作を説明する動作図であ
る。

【図１０】本発明の第４実施例においてガラス基板の下
面にレジストを塗布する一連の動作を説明する動作図で
ある。

【図１１】本発明の第４実施例においてガラス基板の下
面にレジストを塗布する一連の動作を説明する動作図で
ある。

【図１２】本発明によるレジスト塗布装置の第５実施例
を説明する構成図である。

【図１３】従来のレジスト塗布装置の要部構成を説明す
る要部模式図である。

【図１４】図１３の矢印Ｂ方向から見た送り込み搬送部
の概略構成図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ニップローラ ３ ロールバー ３ａ ロールバー駆動装置 ４ レジスト ５ 受け皿 ６ ロールバー保持部材 ７ ローラ（基板搬送ローラ） ７ａ 機枠 ７ｂ 架台 ８ ニップローラ支持部材 ８ａ ニップローラ駆動装置 ９ 昇降ガイド １０ 昇降機構 １０ａ ボールネジ １０ｂ ボールギア １０ｃ 第１プーリ １０ｄ 第２プーリ １０ｅ ベルト １１ パルスモータ １２ 厚みセンサ １３ ガラス基板厚み検出装置 １４ 演算処理装置 １５ モータコントローラ １６ ワイヤー １６ａ プーリ １７ 重り １８ サポート １８ａ 固定板 １８ｂ カップリング １８ｃ ガイドシャフト １９ 超低摩擦シリンダー ２０ シリンダー ２１ 空気圧力比例制御弁 ２２ レギュレータ ２３ フィルター ２４ 昇降シャフト ２５ ベース ２６ ブラケット ２７ 昇降シャフト ２８ シリンダー ２９ 高精度スライド機構 ２９ａ 移動ベース ３０ ストッパー ３１ 吸着プレート駆動装置 ３２ 吸着プレート ３３ 昇降板 ３３ａ ピン。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木 晴夫 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 坪香 智昭 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 市村 幸雄 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 金坂 和美 千葉県茂原市早野3681番地 日立デバイス エンジニアリング株式会社内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】搬送されるガラス基板の裏面にレジストを
   塗布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記
   ガラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なく
   とも有するレジスト塗布装置において、 前記レジスト塗布機構が、レジストを貯留する受け皿
   と、前記レジストの液面に周面の少なくとも一部を接触
   して回転するロールバーと、前記受け皿に没設して前記
   ロールバーの周面を回転可能に支持するロールバー保持
   部材と、前記ロールバーの上方に対向配置して前記ガラ
   ス基板のレジスト塗布有効領域を含んで前記ロールバー
   との間にガラス基板を通過させるごとく設置したニップ
   ローラと、前記ニップローラを支持するニップローラ支
   持部材と、前記ニップローラ支持部材を前記ロールバー
   に対して接近または離間させる昇降機構と前記昇降機構
   を昇降駆動させるためのパルスモータとからなり、 前記基板送り込み搬送機構によって前記レジスト塗布機
   構に送り込まれるガラス基板の厚みを測定する厚みサン
   サと、前記厚みセンサの出力信号に基づいた厚みデータ
   を生成するガラス基板厚み検出装置と、前記ガラス基板
   厚み検出装置で生成された厚みデータに対応した制御パ
   ルスを生成する演算処理装置と、前記演算処理装置で生
   成した制御パルスに基づいて前記パルスモータに駆動パ
   ルスを出力するモータコントローラとを具備し、前記ガ
   ラス基板の厚みに応じて前記ニップローラとロールバー
   との間の間隔を変化させることにより均一なレジスト薄
   膜を塗布することを特徴とするレジスト塗布装置。
2. 【請求項２】請求項１において、前記昇降機構が、前記
   ニップローラ支持部材を前記ロールバーに対して接近ま
   たは離間する移動を案内する昇降機構ガイドと、前記ニ
   ップローラ支持部材に固定したボールネジと、前記ボー
   ルネジと噛合するボールギアと、前記ボールギアに固定
   した第１プーリと、前記パルスモータの駆動軸に固定し
   た第２プーリと、前記第１および第２プーリに掛け渡し
   たベルトとから構成したことを特徴とするレジスト塗布
   装置。
3. 【請求項３】搬送されるガラス基板の裏面にレジストを
   塗布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記
   ガラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なく
   とも有するレジスト塗布装置において、 前記レジスト塗布機構が、レジストを貯留する受け皿
   と、前記レジストの液面に周面の少なくとも一部を接触
   して回転するロールバーと、前記受け皿に没設して前記
   ロールバーの周面を回転可能に支持するロールバー保持
   部材と、前記ロールバーの上方に対向配置して前記ガラ
   ス基板のレジスト塗布有効領域を含んで前記ロールバー
   との間にガラス基板を通過させるごとく設置したニップ
   ローラと、前記ニップローラを支持するニップローラ支
   持部材と、前記ニップローラ支持部材を前記ロールバー
   に対して接近または離間させる昇降機構とから構成さ
   れ、 前記昇降機構が、前記ニップローラ支持部材を前記ロー
   ルバーに対して接近または離間する移動を案内する昇降
   機構ガイドと、前記ニップローラ支持部材に固定した超
   低摩擦シリンダーと、前記超低摩擦シリンダーを駆動す
   る空気圧力比例制御弁とからなり、 前記超低摩擦シリンダーの駆動力が略々一定となるよう
   に前記空気圧力比例制御弁を制御する演算処理装置とを
   具備し、前記ガラス基板の厚みにかかわらずに均一なレ
   ジスト薄膜を塗布することを特徴とするレジスト塗布装
   置。
4. 【請求項４】請求項３において、前記昇降機構が、前記
   ニップローラ支持部材に一端を固定して上方に伸び、プ
   ーリで折り返して下方に伸びた他端に重りを吊り下げた
   ワイヤーとからなる前記ニップローラの圧力バランス制
   御機構を具備したことを特徴とするレジスト塗布装置。
5. 【請求項５】搬送されるガラス基板の裏面にレジストを
   塗布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記
   ガラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なく
   とも有するレジスト塗布装置において、 前記レジスト塗布機構が、レジストを貯留する受け皿
   と、前記レジストの液面に周面の少なくとも一部を接触
   して回転するロールバーと、前記受け皿に没設して前記
   ロールバーの周面を回転可能に支持するロールバー保持
   部材と、前記ロールバーの上方に対向配置して前記ガラ
   ス基板のレジスト塗布有効領域を含んで前記ロールバー
   との間にガラス基板を通過させるごとく設置したニップ
   ローラと、前記ニップローラを支持するニップローラ支
   持部材と、前記レジスト塗布機構を前記ニップローラに
   対して接近または離間させる昇降機構とから構成され、 前記昇降機構が、前記受け皿を載置した超低摩擦シリン
   ダーと、前記超低摩擦シリンダーを駆動する空気圧力比
   例制御弁とからなり、 前記超低摩擦シリンダーの駆動力が略々一定となるよう
   に前記空気圧力比例制御弁を制御する演算処理装置とを
   具備し、前記ガラス基板の厚みにかかわらずに均一なレ
   ジスト薄膜を塗布することを特徴とするレジスト塗布装
   置。
6. 【請求項６】搬送されるガラス基板の裏面にレジストを
   塗布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記
   ガラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なく
   とも有するレジスト塗布装置において、 前記レジスト塗布機構が、レジストを貯留する受け皿
   と、前記レジストの液面に周面の少なくとも一部を接触
   して回転するロールバーと、前記受け皿に没設して前記
   ロールバーの周面を回転可能に支持するロールバー保持
   部材と、前記ロールバーの上方に位置して前記ガラス基
   板を下面に吸着して前記ロールバーに前記ガラス基板の
   下面を前記ロールバーに接触させた状態で搬送する高精
   度スライド機構と、 前記レジスト塗布機構に搬送される前の前記高精度スラ
   イド機構に吸着された前記ガラス基板の厚みを測定する
   少なくとも１つの厚みセンサと、前記厚みセンサの出力
   信号に基づいて前記ガラス基板の厚みを検出する基板厚
   み検出装置と、前記基板厚み検出装置の出力データによ
   り、前記ガラス基板と前記ロールバーとの間の間隙が一
   定となるように前記高精度スライド機構の吸着位置を制
   御して前記ガラス基板の厚みにかかわらずに均一なレジ
   スト薄膜を塗布することを特徴とするレジスト塗布装
   置。
7. 【請求項７】請求項６において、前記高精度スライド機
   構は移動ベースと、空気圧によって前記ガラス基板を吸
   着保持する吸着プレートと、前記吸着プレートによる前
   記ガラス基板の吸着姿勢を制御する吸着プレート駆動装
   置とを具備したことを特徴とするレジスト塗布装置。
8. 【請求項８】搬送されるガラス基板の裏面にレジストを
   塗布するレジスト塗布機構と、レジスト塗布機構に前記
   ガラス基板を送り込む基板送り込み搬送機構とを少なく
   とも有するレジスト塗布装置において、 前記レジスト塗布機構が、レジストを貯留する受け皿
   と、前記レジストの液面に周面の少なくとも一部を接触
   して回転するロールバーと、前記受け皿に没設して前記
   ロールバーの周面を回転可能に支持するロールバー保持
   部材と、前記ロールバーの上方に位置して前記ガラス基
   板を下面に吸着して前記ロールバーに前記ガラス基板の
   下面を前記ロールバーに接触させた状態で搬送する高精
   度スライド機構と、 前記受け皿を前記ガラス基板に対して接近または離間さ
   せる昇降機構とから構成され、 前記昇降機構が、前記受け皿を載置した超低摩擦シリン
   ダーと、前記超低摩擦シリンダーを駆動する空気圧力比
   例制御弁とからなり、 前記超低摩擦シリンダーの駆動力が略々一定となるよう
   に前記空気圧力比例制御弁を制御する演算処理装置とを
   具備し、前記ガラス基板の厚みにかかわらずに均一なレ
   ジスト薄膜を塗布することを特徴とするレジスト塗布装
   置。