JPH0970683A - レーザ溶接装置 - Google Patents
レーザ溶接装置Info
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- JPH0970683A JPH0970683A JP7257066A JP25706695A JPH0970683A JP H0970683 A JPH0970683 A JP H0970683A JP 7257066 A JP7257066 A JP 7257066A JP 25706695 A JP25706695 A JP 25706695A JP H0970683 A JPH0970683 A JP H0970683A
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- lens
- transmission
- shield gas
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 熱レンズ効果を抑制することが可能な透過平
レンズを備えたレーザ溶接装置を提供する。 【解決手段】 レーザ発振器と、前記レーザ発振器で発
生したレーザビームを伝送し清浄空気が充満されたビー
ム伝送路と、前記ビーム伝送路により伝送されたレーザ
ビームを反射して被溶接材の溶接点に集光される集光部
と、前記集光部に充満されるシールドガスを前記溶接点
に吹きつけるためのシールドガスと、前記ビーム伝送路
に設けられ、前記清浄空気と前記シールドガスとを遮断
する透過平レンズと、備えたレーザ溶接装置において、
前記透過平レンズの表面に、前記シールドガスの流れを
形成するための第1ノズル、前記透過平レンズの表面
に、前記清浄空気の流れを形成するための第2ノズルの
うち片方、又は両方のノズルを前記ビーム伝送路に設け
る。すると、熱レンズ効果を抑制できるためレーザビー
ムのパワー密度の変化を防止し、安定した溶接が得られ
る。
レンズを備えたレーザ溶接装置を提供する。 【解決手段】 レーザ発振器と、前記レーザ発振器で発
生したレーザビームを伝送し清浄空気が充満されたビー
ム伝送路と、前記ビーム伝送路により伝送されたレーザ
ビームを反射して被溶接材の溶接点に集光される集光部
と、前記集光部に充満されるシールドガスを前記溶接点
に吹きつけるためのシールドガスと、前記ビーム伝送路
に設けられ、前記清浄空気と前記シールドガスとを遮断
する透過平レンズと、備えたレーザ溶接装置において、
前記透過平レンズの表面に、前記シールドガスの流れを
形成するための第1ノズル、前記透過平レンズの表面
に、前記清浄空気の流れを形成するための第2ノズルの
うち片方、又は両方のノズルを前記ビーム伝送路に設け
る。すると、熱レンズ効果を抑制できるためレーザビー
ムのパワー密度の変化を防止し、安定した溶接が得られ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、レーザ溶接装
置、特に透過平レンズの熱レンズ効果に起因する溶接位
置のレーザビームのパワー密度の変化を防止するのに適
したレーザ溶接装置に関するものである。
置、特に透過平レンズの熱レンズ効果に起因する溶接位
置のレーザビームのパワー密度の変化を防止するのに適
したレーザ溶接装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この従来のレーザ溶接装置を図4を用い
て説明する。従来のレーザ溶接装置はレーザ発振器11
と、前記レーザ発振器11で発生したレーザビーム10
を伝送するビーム伝送路12と、前記ビーム伝送路12
により伝送されたレーザビーム10を下向きに反射して
被溶接材20の溶接点14に集光させるようビーム伝送
路12の端に内設された放物面鏡のような集光部13
と、伝送路12内に清浄空気19を供給する空気供給口
18と、レーザビーム10の集光部分を覆いシールドガ
ス17を溶接点14に吹きつけるためのシールドノズル
15と、シールドガス17を供給するシールドガス供給
口16と、ビーム伝送路12に設けられシールドガス1
5と清浄空気19とを遮断する透過平レンズ1を備えた
構成となっている。
て説明する。従来のレーザ溶接装置はレーザ発振器11
と、前記レーザ発振器11で発生したレーザビーム10
を伝送するビーム伝送路12と、前記ビーム伝送路12
により伝送されたレーザビーム10を下向きに反射して
被溶接材20の溶接点14に集光させるようビーム伝送
路12の端に内設された放物面鏡のような集光部13
と、伝送路12内に清浄空気19を供給する空気供給口
18と、レーザビーム10の集光部分を覆いシールドガ
ス17を溶接点14に吹きつけるためのシールドノズル
15と、シールドガス17を供給するシールドガス供給
口16と、ビーム伝送路12に設けられシールドガス1
5と清浄空気19とを遮断する透過平レンズ1を備えた
構成となっている。
【0003】この従来のレーザ溶接装置の作動時には、
レーザ発振器11で発生した平行なレーザビーム10
が、透過平レンズ1を素通りして集光部13に至る。ビ
ーム伝送路12の端に内設された集光部13の反射鏡に
よって平行なレーザビーム10は下向きに方向転換する
と共に溶接点14が焦点となるように、レーザビーム1
0が集められる。このようにして、レーザ溶接は、レー
ザビーム10を被溶接材20の溶接点14に集光させた
レーザビーム10の熱エネルギにより行うものである。
レーザ発振器11で発生した平行なレーザビーム10
が、透過平レンズ1を素通りして集光部13に至る。ビ
ーム伝送路12の端に内設された集光部13の反射鏡に
よって平行なレーザビーム10は下向きに方向転換する
と共に溶接点14が焦点となるように、レーザビーム1
0が集められる。このようにして、レーザ溶接は、レー
ザビーム10を被溶接材20の溶接点14に集光させた
レーザビーム10の熱エネルギにより行うものである。
【0004】なお、ビーム伝送路12は、短いもので数
10cm、長いものでは10mを越える長さのものまで
あり、外部の粉塵等がビーム伝送路12内に侵入しレー
ザビーム10の反射率が低下しないように、空気供給口
18から清浄空気19を供給し、ビーム伝送路12内の
内圧を高く保持している。
10cm、長いものでは10mを越える長さのものまで
あり、外部の粉塵等がビーム伝送路12内に侵入しレー
ザビーム10の反射率が低下しないように、空気供給口
18から清浄空気19を供給し、ビーム伝送路12内の
内圧を高く保持している。
【0005】また、透過平レンズ1を設置するのは、シ
ールドガス17に清浄空気19が混入するとブローホー
ル等の溶接欠陥が発生するためであり、集光部13の汚
染もシールドガス17で防止できるよう、集光部13に
至るまでのビーム伝送路12内の途中に設けられる。通
常この透過平レンズ1は、ZnSe製でレーザビーム1
0の光路に影響を与えない、即ち集光性の無い状態のも
のが用いられている。
ールドガス17に清浄空気19が混入するとブローホー
ル等の溶接欠陥が発生するためであり、集光部13の汚
染もシールドガス17で防止できるよう、集光部13に
至るまでのビーム伝送路12内の途中に設けられる。通
常この透過平レンズ1は、ZnSe製でレーザビーム1
0の光路に影響を与えない、即ち集光性の無い状態のも
のが用いられている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のレ
ーザ溶接装置は、前記透過平レンズ1をレーザビーム1
0が透過する際に、エネルギの一部が透過平レンズ1に
吸収されるために透過平レンズ1は熱変形する、いわゆ
る熱レンズ効果が生じる。この熱レンズ効果によって、
レーザビーム10を被溶接材20の溶接点14に集光さ
せる集光部13の下向き側の焦点距離が短くなる現象が
発生し、溶接点14におけるレーザビーム10のパワー
密度が減少する。このような熱レンズ効果が溶接時に発
生すると、溶接中に溶込み深さや溶込み形状が変化し、
安定した溶接点14が得られなくなるという問題が生じ
ていた。
ーザ溶接装置は、前記透過平レンズ1をレーザビーム1
0が透過する際に、エネルギの一部が透過平レンズ1に
吸収されるために透過平レンズ1は熱変形する、いわゆ
る熱レンズ効果が生じる。この熱レンズ効果によって、
レーザビーム10を被溶接材20の溶接点14に集光さ
せる集光部13の下向き側の焦点距離が短くなる現象が
発生し、溶接点14におけるレーザビーム10のパワー
密度が減少する。このような熱レンズ効果が溶接時に発
生すると、溶接中に溶込み深さや溶込み形状が変化し、
安定した溶接点14が得られなくなるという問題が生じ
ていた。
【0007】通常レーザビーム10を、被溶接材20の
溶接点14に集光させる集光部13は、銅やアルミ等の
熱伝導率の良い材料で製作されており、且つ背面側から
直に水冷されているため、熱変形はほとんど発生しな
い。しかしながら、透過平レンズ1の場合は、水冷する
ことは不可能であり、透過平レンズ1の外周面から鉄鋼
材料等で製作されている透過平レンズの固定部2aへ熱
伝導により放熱するのみである。このため透過平レンズ
1におけるある程度の熱レンズ効果はやもうえないもの
となっていた。
溶接点14に集光させる集光部13は、銅やアルミ等の
熱伝導率の良い材料で製作されており、且つ背面側から
直に水冷されているため、熱変形はほとんど発生しな
い。しかしながら、透過平レンズ1の場合は、水冷する
ことは不可能であり、透過平レンズ1の外周面から鉄鋼
材料等で製作されている透過平レンズの固定部2aへ熱
伝導により放熱するのみである。このため透過平レンズ
1におけるある程度の熱レンズ効果はやもうえないもの
となっていた。
【0008】そこで、本発明のうち請求項1記載の発明
は、熱レンズ効果を抑制することが可能な透過平レンズ
を備えたレーザ溶接装置を提供することを目的としたも
のであります。請求項2記載の発明は、請求項1に記載
の発明の目的に加えてより効果的に透過平レンズを冷却
することが可能なレーザ溶接装置を提供することを目的
としたものであります。
は、熱レンズ効果を抑制することが可能な透過平レンズ
を備えたレーザ溶接装置を提供することを目的としたも
のであります。請求項2記載の発明は、請求項1に記載
の発明の目的に加えてより効果的に透過平レンズを冷却
することが可能なレーザ溶接装置を提供することを目的
としたものであります。
【0009】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、本発明のうち請求項1記載発明は、前記透過平
レンズの表面に前記シールドガスの流れを形成するため
の第1ノズル、前記透過平レンズの表面に前記清浄空気
の流れを形成するための第2ノズルのうちの片方、又は
両方にノズルをビーム伝送路に設けたことを特徴とした
ものであります。シールドガスや清浄空気を流用し、透
過平レンズの表面に流れを形成すると、透過平レンズは
冷却され熱変形は小さくなる、即ち熱レンズ効果を抑制
する。また請求項2記載の発明は、請求項1記載の構成
のうち、第1ノズルを用いてシールドガスの流れを透過
平レンズの表面に形成する場合、第1ノズルからの吹き
つけ速度を15m/s以上にし、シールドガスにヘリウ
ムガスを用いることを加えたことを特徴としたものであ
ります。吹きつけ速度を15m/s以上で、且つヘリウ
ムガスを用いることを加えたことによって、効率良く透
過平レンズを冷却することができるようになる。
ために、本発明のうち請求項1記載発明は、前記透過平
レンズの表面に前記シールドガスの流れを形成するため
の第1ノズル、前記透過平レンズの表面に前記清浄空気
の流れを形成するための第2ノズルのうちの片方、又は
両方にノズルをビーム伝送路に設けたことを特徴とした
ものであります。シールドガスや清浄空気を流用し、透
過平レンズの表面に流れを形成すると、透過平レンズは
冷却され熱変形は小さくなる、即ち熱レンズ効果を抑制
する。また請求項2記載の発明は、請求項1記載の構成
のうち、第1ノズルを用いてシールドガスの流れを透過
平レンズの表面に形成する場合、第1ノズルからの吹き
つけ速度を15m/s以上にし、シールドガスにヘリウ
ムガスを用いることを加えたことを特徴としたものであ
ります。吹きつけ速度を15m/s以上で、且つヘリウ
ムガスを用いることを加えたことによって、効率良く透
過平レンズを冷却することができるようになる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
示例と共に説明する。図1、図2はビーム伝送路におい
て透過平レンズ1の冷却に係わる部分を取り出した図で
ある。なお、この部分以外のレーザ溶接装置の構成と作
動は図4と同様であるためその部分の説明は省略する。
示例と共に説明する。図1、図2はビーム伝送路におい
て透過平レンズ1の冷却に係わる部分を取り出した図で
ある。なお、この部分以外のレーザ溶接装置の構成と作
動は図4と同様であるためその部分の説明は省略する。
【0011】図1はシールドガス6を遮断し、且つレー
ザビーム10を素通りさせる透過平レンズ1が取付けら
れたビーム伝送路12の一部がフランジ接合で分離可能
な部分となっている。この部分2には透過平レンズ1の
周辺が当たるレンズの固定部2aが設けられ、透過平レ
ンズ1がこのレンズの固定部2aに当たるまで嵌め込ま
れる。この嵌め込み後にレンズ押さえ3が圧入されて、
透過平レンズ1が固定される。
ザビーム10を素通りさせる透過平レンズ1が取付けら
れたビーム伝送路12の一部がフランジ接合で分離可能
な部分となっている。この部分2には透過平レンズ1の
周辺が当たるレンズの固定部2aが設けられ、透過平レ
ンズ1がこのレンズの固定部2aに当たるまで嵌め込ま
れる。この嵌め込み後にレンズ押さえ3が圧入されて、
透過平レンズ1が固定される。
【0012】この部分2の外周でレンズの固定部2aの
近くに斜めの孔2bが加工され、この孔の部分に第1ノ
ズル4が挿入し固定される。第1ノズル4の斜め程度と
その固定位置は、噴出口4aからのシールドガス6が透
過平レンズ1の表面の略全体にシールドガス6の流れが
形成されるように設定されている。
近くに斜めの孔2bが加工され、この孔の部分に第1ノ
ズル4が挿入し固定される。第1ノズル4の斜め程度と
その固定位置は、噴出口4aからのシールドガス6が透
過平レンズ1の表面の略全体にシールドガス6の流れが
形成されるように設定されている。
【0013】この第1ノズル4に対するシールドガス6
は、ガスボンベ21からシールドガス供給口16に至る
配管5から分岐する配管5aを経て供給される。第1ノ
ズル4に供給されるシールドガス6の量を適切に調節す
るために、配管5と配管5aの各々にバルブ24が設け
られている。
は、ガスボンベ21からシールドガス供給口16に至る
配管5から分岐する配管5aを経て供給される。第1ノ
ズル4に供給されるシールドガス6の量を適切に調節す
るために、配管5と配管5aの各々にバルブ24が設け
られている。
【0014】第1ノズル4は透過平レンズ1の近傍であ
って斜めに設置され、透過平レンズ1の上側表面にシー
ルドガス6を吹きつける。すると、上側表面から下側表
面へのシールドガス6の流れが生じ、透過平レンズ1の
表面の略全体が冷却される。透過平レンズ1に吹き付け
るシールドガス6の流量が多いほど、冷却効率が上が
る。そのため、シールドガス6の流量をバルブ24の開
度で調整する。仮に、配管5のバルブ24を閉じ、配管
5aのバルブ24を全開にし、シールドガス6の全量を
透過平レンズ1に向けて流すことも出来る。この場合、
シールドガス6は矢印aのように、最終的にシールドガ
ス15に至るので、シールドノズル15からのシールド
ガス6の吹き出しは普通に行われる。
って斜めに設置され、透過平レンズ1の上側表面にシー
ルドガス6を吹きつける。すると、上側表面から下側表
面へのシールドガス6の流れが生じ、透過平レンズ1の
表面の略全体が冷却される。透過平レンズ1に吹き付け
るシールドガス6の流量が多いほど、冷却効率が上が
る。そのため、シールドガス6の流量をバルブ24の開
度で調整する。仮に、配管5のバルブ24を閉じ、配管
5aのバルブ24を全開にし、シールドガス6の全量を
透過平レンズ1に向けて流すことも出来る。この場合、
シールドガス6は矢印aのように、最終的にシールドガ
ス15に至るので、シールドノズル15からのシールド
ガス6の吹き出しは普通に行われる。
【0015】しかし、透過平レンズ1の冷却に必要な分
量だけを第1ノズル4に供給し、残りのシールドガス6
をシールドガス供給口16からシールドノズル15に供
給し、第1ノズル4とシールドノズル15の両方に最適
な流速で噴出させることもできる。
量だけを第1ノズル4に供給し、残りのシールドガス6
をシールドガス供給口16からシールドノズル15に供
給し、第1ノズル4とシールドノズル15の両方に最適
な流速で噴出させることもできる。
【0016】図1における本発明のレーザ溶接装置では
透過平レンズ1を直接に冷却し、熱レンズ効果を抑制す
るものとして、シールドガス6を透過平レンズ1に直接
吹きつける第1ノズル4が用いられる。第1ノズルは透
過平レンズ1の近傍に設置するのだが、斜めに設置する
ことで、透過平レンズ1の上側表面にシールドガス6を
吹きつけて下側表面へと流すことで、透過平レンズ1を
冷却させようとするのである。また、シールドガス供給
口16の供給口を閉じ、シールドガスノズル15を密封
することで第1ノズル4から噴出されるシールドガス6
のみで、透過平レンズ1を冷却しその勢いで、下方向に
流し溶接用のシールドガス5として用いることも可能で
ある。しかし本発明では溶接するためのシールドノズル
15と透過平レンズ1を冷却するための第1ノズル4と
二つに分離して、両方で噴出させるのはガスボンベ21
に接続されたバルブ24で、どちらにもシールドガス5
の最適な流速で噴出させることができるのでこのほうが
効率的である。
透過平レンズ1を直接に冷却し、熱レンズ効果を抑制す
るものとして、シールドガス6を透過平レンズ1に直接
吹きつける第1ノズル4が用いられる。第1ノズルは透
過平レンズ1の近傍に設置するのだが、斜めに設置する
ことで、透過平レンズ1の上側表面にシールドガス6を
吹きつけて下側表面へと流すことで、透過平レンズ1を
冷却させようとするのである。また、シールドガス供給
口16の供給口を閉じ、シールドガスノズル15を密封
することで第1ノズル4から噴出されるシールドガス6
のみで、透過平レンズ1を冷却しその勢いで、下方向に
流し溶接用のシールドガス5として用いることも可能で
ある。しかし本発明では溶接するためのシールドノズル
15と透過平レンズ1を冷却するための第1ノズル4と
二つに分離して、両方で噴出させるのはガスボンベ21
に接続されたバルブ24で、どちらにもシールドガス5
の最適な流速で噴出させることができるのでこのほうが
効率的である。
【0017】図2では、図1の構成に空気の圧力を高め
るためのコンプレッサ23と、空気を清浄にするフィル
タ22と、清浄空気9を吹きつける第2ノズル7と、第
2ノズル7に接続する配管8と、清浄空気9の流速を調
節するバルブ25が付け加わった構成となっている。図
2における本発明のレーザ溶接装置は、図1の方法より
さらに熱レンズ効果を抑制するものとして、透過平レン
ズ1の両側から冷却するために第1ノズル4と第2ノズ
ル7が用いられている。第2ノズル7の設置位置は、透
過平レンズ1を基準に第1ノズル4と対称となる位置に
孔2cを加工し噴出口7aを透過平レンズ1に向け設置
する。
るためのコンプレッサ23と、空気を清浄にするフィル
タ22と、清浄空気9を吹きつける第2ノズル7と、第
2ノズル7に接続する配管8と、清浄空気9の流速を調
節するバルブ25が付け加わった構成となっている。図
2における本発明のレーザ溶接装置は、図1の方法より
さらに熱レンズ効果を抑制するものとして、透過平レン
ズ1の両側から冷却するために第1ノズル4と第2ノズ
ル7が用いられている。第2ノズル7の設置位置は、透
過平レンズ1を基準に第1ノズル4と対称となる位置に
孔2cを加工し噴出口7aを透過平レンズ1に向け設置
する。
【0018】そうすることで、吹きつけ時には、両表面
同時に上側から下側にシールドガス6そして清浄空気9
を無駄なく流し冷却できる。シールドガス6での冷却は
図1の時と同様でありそれに加えて、清浄空気9をも吹
きつけて透過平レンズ1の両表面の略全体を冷却する。
ビーム伝送路内の内圧を高めるのみに清浄空気9を用い
るだけでなく、透過平レンズ1に吹きつけ、且つ内圧を
高めるため、バルブ25で最適な流速を調節すればより
一層効率的である。
同時に上側から下側にシールドガス6そして清浄空気9
を無駄なく流し冷却できる。シールドガス6での冷却は
図1の時と同様でありそれに加えて、清浄空気9をも吹
きつけて透過平レンズ1の両表面の略全体を冷却する。
ビーム伝送路内の内圧を高めるのみに清浄空気9を用い
るだけでなく、透過平レンズ1に吹きつけ、且つ内圧を
高めるため、バルブ25で最適な流速を調節すればより
一層効率的である。
【0019】
【実施例1】図1の本発明のレーザ溶接装置について以
下のような条件で実験を行ったので結果を説明する。本
実施例では、透過平レンズ1の左側(シールドガス側)
近傍に設置した第1ノズル4の吹き出し口の径を1.5
mmとし、アルゴンガスを30l/分供給し、ノズルか
らアルゴンガスを噴出して、透過平レンズ表面のガス流
速85m/sで冷却を行った。
下のような条件で実験を行ったので結果を説明する。本
実施例では、透過平レンズ1の左側(シールドガス側)
近傍に設置した第1ノズル4の吹き出し口の径を1.5
mmとし、アルゴンガスを30l/分供給し、ノズルか
らアルゴンガスを噴出して、透過平レンズ表面のガス流
速85m/sで冷却を行った。
【0020】レーザ出力を3kW、ビーム照射時間60
秒、ガス温度は室温として焦点位置のパワー密度を測定
した。その結果、従来のレーザ溶接装置ではビーム照射
開始時2.8×106 W/cm2 であったのが、照射1
分後に1.8×106 W/cm2 となり、1.0×10
6 W/cm2 のパワー密度の低下が生じていた。しかし
本実施例ではパワー密度の低下を0.4×106 W/c
m2 にまで低減することが出来た(図3参照)。また、
焦点距離の変化量は従来のレーザ溶接装置では2mm程
度であったものが、本実施例では半分以下の0.8mm
程度にまで低下した。
秒、ガス温度は室温として焦点位置のパワー密度を測定
した。その結果、従来のレーザ溶接装置ではビーム照射
開始時2.8×106 W/cm2 であったのが、照射1
分後に1.8×106 W/cm2 となり、1.0×10
6 W/cm2 のパワー密度の低下が生じていた。しかし
本実施例ではパワー密度の低下を0.4×106 W/c
m2 にまで低減することが出来た(図3参照)。また、
焦点距離の変化量は従来のレーザ溶接装置では2mm程
度であったものが、本実施例では半分以下の0.8mm
程度にまで低下した。
【0021】さらに、板厚3mm、溶接部長さ500m
mのアルミ合金A5052材について、レーザ出力3k
W、溶接速度1.5m/分で溶接を行ったところ、従来
法では溶接開始時は貫通溶接であったものが、溶接の後
半になると部分溶込み溶接に変化していたが、本実施例
では溶接部全長にわたって貫通溶接を行うことができ
た。
mのアルミ合金A5052材について、レーザ出力3k
W、溶接速度1.5m/分で溶接を行ったところ、従来
法では溶接開始時は貫通溶接であったものが、溶接の後
半になると部分溶込み溶接に変化していたが、本実施例
では溶接部全長にわたって貫通溶接を行うことができ
た。
【0022】
【実施例2】図2についても、図1同様以下のような条
件で実験を行ったので結果を説明する。本実施例では透
過平レンズの左側(シールドガス側)近傍と右側(清浄
空気側)近傍に設置した第1ノズルと第2ノズルの吹き
出し口の径を、それぞれ1.5mm、第1ノズルからヘ
リウムガスを60l/分供給し、透過平レンズ表面のガ
ス流速170m/s、第2ノズルから清浄空気を30l
/分供給して、それぞれのノズルから噴出して透過平レ
ンズの冷却を行った。
件で実験を行ったので結果を説明する。本実施例では透
過平レンズの左側(シールドガス側)近傍と右側(清浄
空気側)近傍に設置した第1ノズルと第2ノズルの吹き
出し口の径を、それぞれ1.5mm、第1ノズルからヘ
リウムガスを60l/分供給し、透過平レンズ表面のガ
ス流速170m/s、第2ノズルから清浄空気を30l
/分供給して、それぞれのノズルから噴出して透過平レ
ンズの冷却を行った。
【0023】レーザ出力を3kW、ビーム照射時間60
秒、ガス温度は室温として焦点位置のパワー密度を測定
したところ、従来のレーザ溶接装置では、ビーム照射開
始時2.8×106 W/cm2 であったのが、照射1分
後に1.8×106 W/cm2 となり、1.0×106
W/cm2 のパワー密度の低下が生じていた。しかし本
実施例ではわずか0.2×106 W/cm2 のパワー密
度の低下にとどまり、通常のパワー密度の低下より大幅
に低減することが出来た(図3参照)。また、焦点距離
の変化量は従来装置で2mm程度であったものが、本実
施例では0.2mm以下と極端に減少できた。
秒、ガス温度は室温として焦点位置のパワー密度を測定
したところ、従来のレーザ溶接装置では、ビーム照射開
始時2.8×106 W/cm2 であったのが、照射1分
後に1.8×106 W/cm2 となり、1.0×106
W/cm2 のパワー密度の低下が生じていた。しかし本
実施例ではわずか0.2×106 W/cm2 のパワー密
度の低下にとどまり、通常のパワー密度の低下より大幅
に低減することが出来た(図3参照)。また、焦点距離
の変化量は従来装置で2mm程度であったものが、本実
施例では0.2mm以下と極端に減少できた。
【0024】さらに、前項の実施例と同様に、板厚3m
m、溶接部長さ500mmのアルミ合金A5052材に
ついて、レーザ出力3kW、溶接速度1.5m/分で溶
接を行ったところ、従来法では溶接開始時は貫通溶接で
あったものが、溶接の後半になると部分溶込み溶接に変
化していたが、本実施例では溶接部全長にわたって貫通
溶接を行うことができた。
m、溶接部長さ500mmのアルミ合金A5052材に
ついて、レーザ出力3kW、溶接速度1.5m/分で溶
接を行ったところ、従来法では溶接開始時は貫通溶接で
あったものが、溶接の後半になると部分溶込み溶接に変
化していたが、本実施例では溶接部全長にわたって貫通
溶接を行うことができた。
【0025】シールドガスを流用して透過平レンズを冷
却する場合、流用するシールドガスの種類、流速が冷却
にどの程度影響しているのかを、図3を用いて以下に説
明する。諸条件は、レーザ出力を3kW、ビーム照射時
間60秒、ガス温度は室温である。全般にわたってヘリ
ウムガスのほうがアルゴンガスよりパワー密度低下量が
低く抑えられるためヘリウムガスを使用するほうが望ま
しい。また、パワー密度低下量が大きいほどよいが、熱
レンズ効果を抑制する一応の基準を20%以上とすると
ヘリウムガスを使用する場合、流速は15m/s以上で
始めて効果が得られる。
却する場合、流用するシールドガスの種類、流速が冷却
にどの程度影響しているのかを、図3を用いて以下に説
明する。諸条件は、レーザ出力を3kW、ビーム照射時
間60秒、ガス温度は室温である。全般にわたってヘリ
ウムガスのほうがアルゴンガスよりパワー密度低下量が
低く抑えられるためヘリウムガスを使用するほうが望ま
しい。また、パワー密度低下量が大きいほどよいが、熱
レンズ効果を抑制する一応の基準を20%以上とすると
ヘリウムガスを使用する場合、流速は15m/s以上で
始めて効果が得られる。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のうち請求
項1記載の発明は、第1ノズルから吹き出すシールドガ
ス、第2ノズルから吹き出す清浄空気なりの一方、又は
両方によって、透過平レンズを冷却し熱変形を少なくな
り、溶接部の焦点位置のパワー密度の低下を減少させる
とともに、焦点距離変化量も少なくでき、溶接部全長に
わたる安定した溶接を得ることができる。また、シール
ドガスや清浄空気は元々使用されるものであるため、冷
却装置用に別の流体を使用する場合に比較して冷却装置
が簡単になる。請求項2記載の発明は、ノズルからの吹
き出し速度を15m/sとすることで、パワー密度の低
下や焦点距離変化量は大幅に減少させることができるた
め溶接部全長で安定して溶接することができるという請
求項1の効果を確実なものにすることができる。
項1記載の発明は、第1ノズルから吹き出すシールドガ
ス、第2ノズルから吹き出す清浄空気なりの一方、又は
両方によって、透過平レンズを冷却し熱変形を少なくな
り、溶接部の焦点位置のパワー密度の低下を減少させる
とともに、焦点距離変化量も少なくでき、溶接部全長に
わたる安定した溶接を得ることができる。また、シール
ドガスや清浄空気は元々使用されるものであるため、冷
却装置用に別の流体を使用する場合に比較して冷却装置
が簡単になる。請求項2記載の発明は、ノズルからの吹
き出し速度を15m/sとすることで、パワー密度の低
下や焦点距離変化量は大幅に減少させることができるた
め溶接部全長で安定して溶接することができるという請
求項1の効果を確実なものにすることができる。
【図1】本発明の一実施例の透過平レンズの近傍を示す
断面模式図である。
断面模式図である。
【図2】本発明の一実施例の透過平レンズの近傍を示す
断面模式図である。
断面模式図である。
【図3】透過平レンズ表面のガス流速とパワー密度低下
量の関係
量の関係
【図4】従来技術のレーザ溶接装置の断面模式図であ
る。
る。
1 透過平レンズ 4 第1ノズル 6 シールドガスの流れを示す線 7 第2ノズル 9 清浄空気の流れを示す線 10 レーザビーム 11 レーザ発振器 12 レーザビーム伝送路 13 集光部 14 溶接点 15 シールドノズル 20 被溶接材
Claims (2)
- 【請求項1】 レーザ発振器と、前記レーザ発振器で発
生したレーザビームを伝送し清浄空気が充満されたビー
ム伝送路と、前記ビーム伝送路により伝送されたレーザ
ビームを反射して被溶接材の溶接点に集光させる集光部
と、前記集光部に充満されるシールドガスを前記溶接点
に吹きつけるためのシールドノズルと、前記ビーム伝送
路に設けられ、前記清浄空気と前記シールドガスとを遮
断する透過平レンズと、備えたレーザ溶接装置におい
て、 前記透過平レンズの表面に、前記シールドガスの流れを
形成するための第1ノズル、前記透過平レンズの表面
に、前記清浄空気の流れを形成するための第2ノズルの
うち片方、又は両方のノズルを前記ビーム伝送路に設け
たことを特徴とするレーザ溶接装置。 - 【請求項2】 前記シールドガスがヘリウムガスであ
り、前記第1ノズルからの吹き出し速度が15m/s以
上であることを特徴とする請求項1記載のレーザ溶接装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7257066A JPH0970683A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | レーザ溶接装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7257066A JPH0970683A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | レーザ溶接装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0970683A true JPH0970683A (ja) | 1997-03-18 |
Family
ID=17301275
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7257066A Pending JPH0970683A (ja) | 1995-09-07 | 1995-09-07 | レーザ溶接装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0970683A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010167451A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Omc Co Ltd | レーザー出射ユニット |
-
1995
- 1995-09-07 JP JP7257066A patent/JPH0970683A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010167451A (ja) * | 2009-01-22 | 2010-08-05 | Omc Co Ltd | レーザー出射ユニット |
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