JPH097243A - 光磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents

光磁気ディスク及びその製造方法

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JPH097243A
JPH097243A JP7154400A JP15440095A JPH097243A JP H097243 A JPH097243 A JP H097243A JP 7154400 A JP7154400 A JP 7154400A JP 15440095 A JP15440095 A JP 15440095A JP H097243 A JPH097243 A JP H097243A
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magneto
optical disk
protective film
resin
recording layer
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Mikio Yoshida
美喜男 吉田
Etsuro Ikeda
悦郎 池田
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 浮上型磁気ヘッドにより情報を記録しても、
保護膜の表面の突起部と磁気ヘッドの衝突が発生せず、
サーボエラーや磁気ヘッドの損傷が発生しないようにす
る。 【構成】 基板上に記録層及び保護膜を形成する際、保
護膜の表面の突起高さを使用する浮上型磁気ヘッドの浮
上距離よりも小さくする。なお、製造方法としては、基
板上に１層以上の機能膜を真空薄膜形成手段により形成
して記録層を形成した後、基板の記録層表面に気体を吹
き付ける、或いは上記基板上に３回以上ろ過した樹脂を
供給する、またはフィルターユニット内で高速振り切り
を行って樹脂を塗布して保護膜を形成する、さらには保
護膜形成後、保護膜の表面の突起高さを光の反射により
検査し、突起高さが所定の値以下のものを分別するとい
った手法のうちの１種を行う方法が挙げられ、これらを
全部行っても良い。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、いわゆる浮上型磁気ヘ
ッドにより情報の記録が行われる光磁気ディスク及びそ
の製造方法に関する。詳しくはその最表面となる保護膜
の表面の突起部の高さを制御することによりサーボエラ
ーや磁気ヘッドの損傷を発生し難くした光磁気ディスク
及びその製造方法に係るものである。
【０００２】
【従来の技術】光磁気記録方式は、磁性薄膜を部分的に
キュリー点または温度補償点を越えて昇温し、この部分
の保磁力を消滅させて外部から印加される記録磁界の方
向に磁化の向きを反転することを基本原理とするもの
で、光ファイルシステムやコンピュータの外部記憶装
置、あるいは音響、映像情報の記録装置等において実用
化されつつある。
【０００３】上記光磁気記録方式の記録媒体としては基
板上に１層以上の機能膜よりなる記録層の形成された光
磁気ディスクが一般的である。
【０００４】そして、上記光磁気ディスクに情報の記録
を行う場合には、磁性薄膜にレーザ光等を照射して、上
述のように上記磁性薄膜を部分的にキュリー点または温
度補償点を越えて昇温し、この部分の保磁力を消滅させ
て外部から印加される記録磁界の方向に磁化の向きを反
転して情報を記録する。
【０００５】このように磁性薄膜の磁化の向きを反転さ
せて情報を記録する方法としては、常に弱い直流外部磁
界をかけ、信号の有無に応じてレーザ光を照射するいわ
ゆる光変調方式と、常に一定の強さのレーザ光を照射
し、信号に応じて外部磁界を変調するいわゆる磁界変調
方式が挙げられる。
【０００６】例えばコンピュータの外部記憶装置に使用
されている３．５インチ或いは５．２５インチの光磁気
ディスクにおいては、情報の記録方式として光変調方式
を適用している。
【０００７】また、主に音響情報分野において使用され
ている直径６４ｍｍ程度の小型光磁気ディスクにおいて
は、情報の記録方式として磁界変調方式を適用してい
る。
【０００８】上記磁界変調方式においては、高速で磁界
方向をスイッチングする必要があり、そのために磁気ヘ
ッドを光磁気ディスクの表面に可能な限り接近させる必
要がある。そこで、例えば上記小型光磁気ディスクにお
いては磁気ヘッドを該光磁気ディスクの表面に摺動させ
るようにしている。また、磁気ヘッドを光磁気ディスク
の表面に可能な限り接近させる他の方法としては、ギャ
ップサーボを使用して磁気ヘッドと光磁気ディスクの距
離を一定に保つ方法が考えられる。
【０００９】ところで、上記のような光磁気ディスクは
前述のように基板上に１層以上の機能膜よりなる記録層
が形成されたものであり、通常、上記記録層の上に保護
膜が形成される。そして、上記保護膜は、記録層の形成
された基板上にアクリル系等の紫外線硬化型樹脂等を供
給した後、基板を回転させて高速振り切りを行って薄層
化して樹脂を塗布する、いわゆるスピンコート法により
形成される。従って、上記保護膜の表面には、高速振り
切り時の樹脂の跳ね返りや樹脂中のゲル物質やダスト、
或いは基板上のダストにより突起部が形成されてしまう
ことがある。
【００１０】このような突起部は、前述の例えばコンピ
ュータの外部記憶装置に使用されている３．５インチ或
いは５．２５インチの光磁気ディスクにおいては、光変
調方式を使用していることから磁気ヘッドが比較的離れ
た場所に配置されていること、特に５．２５インチの光
磁気ディスクにおいては２枚の光磁気ディスクを貼り合
わせて使用していることから実用上問題はない。
【００１１】また、前述の直径６４ｍｍ程度の小型光磁
気ディスクにおいては、磁気ヘッドが光磁気ディスク表
面をトレースし、光磁気ディスク表面の凹凸が磁気ヘッ
ドに衝突することとなるが、現行程度の記録密度であれ
ば保護膜の表面に突起部があっても実用上問題はない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
な光変調方式では、一旦消去磁界をかけて全ての磁性薄
膜を一定の方向に揃えておいてから再度記録する必要が
あるので、作業が煩雑である上、記録に要する時間が長
くなるという不都合が生じている。一方、磁界変調方式
においては、情報を消去しながら記録することとなるた
め、作業が簡略化され、記録に要する時間も短縮される
ものの、レーザ光を照射したままとなるため、記録ピッ
トを小さくすることが困難であり、高記録密度化が困難
であるという不都合がある。
【００１３】近年、特にコンピュータの外部記憶装置に
使用される光磁気ディスクにおいて、更なる高記録密度
化が要求されおり、これに対応するべく、磁界変調方式
に光変調方式を併用することが提案されている。すなわ
ち、情報信号に応じて磁界と光の両者を変調する方法が
提案されている。これによれば、磁界変調方式により情
報を消去しながら記録が行われることから作業が簡略化
されるとともに記録に要する時間も短縮され、光変調方
式を併用することから記録ピットを小さくすることがで
き、高記録密度化が達成される。そして、上記の方法を
用いて記録密度をさらに高めるためには光磁気ディスク
の回転数を高める必要がある。
【００１４】なお、上記のように磁界変調方式に光変調
方式を併用するには、磁界変調の点から磁気ヘッドを光
磁気ディスクに可能な限り近づける必要がある。すなわ
ち、磁界変調方式で使用されている方式で情報の記録を
行うことが好ましい。
【００１５】しかしながら、磁気ヘッドと光磁気ディス
クを摺動させる方法では、光磁気ディスクの保護膜の表
面の突起部が磁気ヘッドと衝突してしまうため、回転数
を現行以上とすることが困難であり、さらなる高記録密
度化が難しく、情報の転送速度を大きくすることも困難
である。
【００１６】一方、ギャップサーボを使用する方法にお
いては、光磁気ディスクの回転数を高めることは十分可
能であるが、この方法は機構が複雑で安価なドライブを
形成することが難しい。
【００１７】そこで、磁界変調方式に光変調方式を併用
してさらに高記録密度化するために、磁気ヘッドとして
少なくとも情報の記録時に光磁気ディスク上に所定の浮
上距離を保って浮上する磁気ヘッド、いわゆる浮上型磁
気ヘッドを使用することが提案されている。
【００１８】しかしながら、上記浮上型磁気ヘッドを使
用する場合には、前述のような光磁気ディスクの保護膜
の表面の突起部が問題になってくる。すなわち、光磁気
ディスクの表面にあまり大きな突起部があると、この突
起部が浮上している磁気ヘッドに衝突し、これによる振
動が磁気ヘッドに備えられている光ピックアップのサー
ボのずれを起こしたり、磁気ヘッド自体を損傷させたり
するためである。
【００１９】そこで本発明は、浮上型磁気ヘッドにより
情報が記録される光磁気ディスクにおいて、保護膜表面
の突起部と磁気ヘッドの衝突が発生せず、サーボエラー
や磁気ヘッドの損傷が発生し難い光磁気ディスク及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
【００２０】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに本発明は、基板上に記録層及び保護膜が形成されて
なり、少なくとも情報の記録時に光磁気ディスク上に所
定の浮上距離を保って浮上する磁気ヘッドにより情報の
記録が行われる光磁気ディスクにおいて、光磁気ディス
クの保護膜の表面の突起高さが磁気ヘッドの浮上距離よ
りも小さいことを特徴とするものである。
【００２１】なお、上記光磁気ディスクにおいては、突
起高さが１０μｍ以下であること、直径が９０ｍｍ以下
であること、回転数が２４００ｒｐｍ以上とされるこ
と、磁界変調方式により情報の記録が行われることが好
ましい。
【００２２】また、本発明の光磁気ディスクの製造方法
は、基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜形成手段によ
り形成して記録層を形成し、その上に樹脂を供給した
後、高速振り切りを行って樹脂を塗布して保護膜を形成
する光磁気ディスクの製造方法において、樹脂を供給前
に３回以上ろ過する、或いは樹脂を供給する前に基板の
記録層表面に気体を吹き付ける、または高速振り切りを
フィルターユニット内で行う、さらには保護膜形成後、
保護膜の表面の突起高さを光の反射により検査し、突起
高さが所定の値以下のものを分別することを特徴とする
ものであり、全部を行っても良い。
【００２３】なお、上記光磁気ディスクの製造方法にお
いては、樹脂のろ過を孔径１μｍのフィルターで１回行
った後、孔径０．２μｍのフィルターで１回行うものと
すること、気体が窒素であることが好ましい。
【００２４】
【作用】本発明の光磁気ディスクにおいては、保護膜の
表面の突起高さが磁気ヘッドの浮上距離よりも小さいも
のとされているため、情報の記録時に磁気ヘッドが上記
光磁気ディスク上に所定の浮上距離を保って浮上して
も、磁気ヘッドが光磁気ディスクの保護膜の表面の突起
部に衝突することはない。
【００２５】また、本発明の光磁気ディスクを製造する
際に、基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜形成手段に
より形成して記録層を形成し、基板の記録層表面に気体
を吹き付ける、或いは上記基板上に３回以上ろ過した樹
脂を供給する、またはフィルターユニット内で高速振り
切りを行って樹脂を塗布して保護膜を形成するようにす
れば、保護膜の表面に突起部が形成され難くなり、さら
には保護膜形成後、保護膜の表面の突起高さを光の反射
により検査し、突起高さが所定の値以下のものを分別す
るようにすれば突起高さが所定の値よりも大きい光磁気
ディスクが混ざることもない。
【００２６】
【実施例】先ず、本発明の効果を確認するべく、以下の
ような実験を行った。すなわち、３．５インチの光磁気
ディスク用のポリカーボネート基板の上に各種機能膜を
スパッタリング法により形成して記録層を形成し、この
上にアクリル系紫外線硬化型樹脂をスピンコーティング
法により塗布して紫外線を照射して硬化させ、膜厚１０
μｍの保護膜を形成して複数枚の光磁気ディスクを製造
した。そして、上記光磁気ディスクの保護膜の表面の突
起部の最大高さ（以下、突起高さと称する。）を測定し
た。
【００２７】次に上記複数枚の光磁気ディスクのうち、
表１に示すような突起高さを有する光磁気ディスクサン
プル１〜９を選出した。
【００２８】
【表１】
【００２９】そして、市販の３．５インチの光磁気ディ
スクのドライブに磁気ヘッドの代わりに類似形状のチッ
プを取り付け、上記チップと光磁気ディスク間の距離、
すなわち浮上距離が１０μｍとなるように組み付けて測
定器を構成し、上記測定器に各光磁気ディスクサンプル
１〜９を取り付けた場合のフォーカスサーボやトラッキ
ングサーボが外れるサーボトラブルの発生の有無を調査
した。結果を表１中に併せて示す。
【００３０】表１の結果から、光磁気ディスクの突起高
さが浮上距離よりも大である光磁気ディスクサンプル７
〜９においては、サーボエラー信号が大きくなり、フォ
ーカスサーボやトラッキングサーボが外れるサーボトラ
ブルが発生し、突起高さが浮上距離よりも小さい光磁気
ディスクサンプル１〜６においてはサーボトラブルが発
生しないことが確認された。
【００３１】すなわち、浮上型磁気ヘッドを使用して光
磁気ディスクに情報の記録を行う場合に、光磁気ディス
クの保護膜の表面の突起高さを磁気ヘッドの浮上距離よ
りも小さくすれば、磁気ヘッドが光磁気ディスクの保護
膜の表面の突起部に衝突することがなく、サーボトラブ
ルの発生が抑えられることが確認された。このことか
ら、上記のようにすれば、磁気ヘッドの損傷も生じない
ことがわかる。
【００３２】次に本発明の光磁気ディスクを製造する製
造方法について述べる。本発明の光磁気ディスクを製造
するには、先ず、基板上に１層以上の機能膜をスパッタ
リング法等の手法により成膜し、記録層を形成する。
【００３３】次に、スピンコートを行う、いわゆるスピ
ンコータのスピン部に記録層の形成された基板を載置す
る。すなわち、図１に示されるような本体１の上に回転
軸２と受け皿３よりなるスピン部４と回転軸５と紫外線
ランプ６よりなる硬化部７の配されるスピンコータのス
ピン部４の回転軸２に記録層の形成された基板を支持さ
せる。
【００３４】これと同時に保護膜を形成するアクリル系
の紫外線硬化型樹脂を予め３回以上ろ過しておく。すな
わち、図２に示すように、紫外線硬化型樹脂が充填され
ているタンク８から中途に第１のフィルター９及び第２
のフィルター１０及び第３のフィルター１１が配されて
いる配管１２を介して樹脂供給部１２ａから図中矢印Ｍ
で示すように樹脂を図示しないスピンコータのスピン部
に配される基板上に供給する樹脂供給装置の第１のフィ
ルター９を孔径１μｍのフィルターとし、第２のフィル
ター１０及び第３のフィルター１１をそれぞれ孔径０．
２μｍのフィルターとする。そして、記録層の形成され
た基板上に樹脂を供給する際に上記のような供給装置か
ら供給すれば、予め３回以上ろ過された樹脂が供給され
ることとなる。
【００３５】その後、回転軸２を回転させて基板を回転
させ、樹脂を高速振り切りして基板上に樹脂を塗布す
る。このとき、振り切られた余剰の樹脂は受け皿３によ
り回収されることとなる。
【００３６】さらに、樹脂の塗布された基板をスピンコ
ータの硬化部７に移し、回転軸５に支持させ、紫外線ラ
ンプ６により紫外線を照射して樹脂を硬化させ、保護膜
を形成して光磁気ディスクを製造する。
【００３７】本発明の光磁気ディスクを製造するには、
上記のような方法の他に、図３に示されるような上述の
スピンコータと同様の構成の本体１の上にスピン部４と
硬化部７が配されたスピンコータの例えば天井部にフィ
ルターユニット２１を支持部２２で支持してかぶせた構
成のスピンコータを使用して高速振り切りをフィルター
ユニット２１内で行うようにする方法も挙げられる。
【００３８】すなわち、記録層の形成された基板をスピ
ンコータのスピン部４に配し、この基板上に、図４に示
すような紫外線硬化型樹脂が充填されているタンク２８
から中途に第１のフィルター２９及び第２のフィルター
３０が配されている配管３２を介して樹脂供給部３２ａ
から図中矢印ｍで示すように樹脂を供給する樹脂供給装
置より紫外線硬化型樹脂を供給し、樹脂を塗布する。さ
らに、基板に塗布された樹脂を硬化させて保護膜を形成
して光磁気ディスクを製造する。
【００３９】また、本発明の光磁気ディスクを製造する
には、上記のような方法の他に、基板の記録層上に樹脂
を供給する前に基板の記録層表面に気体を吹き付けて記
録層表面のダストを除去して製造する方法も挙げられ
る。
【００４０】すなわち、図５に示すように、上述のスピ
ンコータと同様に本体３１の上にスピン部３４と硬化部
３７が並んで配され、さらにスピン部３４の隣に回転軸
３２とブローノズル３３及び排気ダクト３５よりなるブ
ロー部３６が配されるスピンコータを用いても良い。
【００４１】上記ブロー部３６においては、図６に拡大
して示されるように図中矢印Ｒ1 で示す方向に回転する
回転軸３２により基板３８も図中矢印Ｒ2 で示す方向に
回転し、吹き出し口３３ａが基板３８の表面に近接して
配されるブローノズル３３は図中矢印Ｒ3 で示すように
基板３８の径方向に移動可能となされ、吸い込み口３５
ａが基板３８の表面に近接するように排気ダクト３５が
配され、排気ダクト３５により図中矢印Ｑで示す方向に
排気されるようになされている。
【００４２】そして、上記ブロー部３６においては、基
板３８の表面が負の電荷に帯電していることから、ブロ
ーノズル３３内部でコロナ放電を起こし、正の電荷に帯
電させた窒素ガスを吹き出すようにしている。
【００４３】すなわち、光磁気ディスクを製造するに
は、先ず、記録層の形成された基板をスピンコータのブ
ロー部３６の回転軸３２に支持させ、記録層表面に正の
電荷に帯電させた窒素ガスを吹き付け、記録層表面のダ
ストを除去する。次に、上記基板をスピン部３４に移し
て樹脂を塗布し、硬化部３７に移して保護膜を形成して
光磁気ディスクを製造する。
【００４４】さらに、本発明の光磁気ディスクを製造す
るには、保護膜形成後、保護膜の表面の突起高さを光の
反射により検査し、突起高さが所定の値以下のものを分
別するようにしても良い。
【００４５】すなわち、先ず、基板上に記録層を形成し
た後、例えば図１に示すようなスピンコータを使用し、
図４に示すような樹脂供給装置を使用して基板上に保護
膜を形成する。そして、図７に示すように、図示しない
光源から図中矢印Ｌ1 で示すようにレーザ光を照射し、
中途部に配したビームスプリッタ４２により反射させて
保護膜４１の表面４１ａに照射し、図中矢印Ｌ2 で示す
ように反射した反射光をビームスプリッタ４２を透過さ
せて光位置検出素子４３により受容し、反射光の変位及
び光量を測定する。図７中に示すように保護膜４１の表
面４１ａに突起部が存在しない場合には、反射光は保護
膜４１の表面４１ａに対して垂直、言い換えれば図中上
方に戻ってくることとなる。そして、突起高さが所定の
値以下のもののみを分別して光磁気ディスクを製造すれ
ばよい。
【００４６】しかし、図８及び図９に示すように保護膜
５１，６１の表面５１ａ，６１ａに突起部５２，６２が
存在する場合には、図中矢印Ｌ1 で示す方向に照射され
たレーザ光は図中矢印Ｌ3 ，Ｌ4 で示す方向に反射され
ることとなるが、これは各図中一点鎖線で示す保護膜５
１，６１の表面５１ａ，６１ａに対して垂直な方向に対
してそれぞれ図中Ｄ1 ，Ｄ2 で示すだけずれることとな
り、光位置検出素子４３により測定される反射光の変位
及び光量も変化する。
【００４７】従って、上記反射光の変位及び光量の変化
から突起部５２，６２の突起高さが測定されることとな
り、この結果から突起高さが所定の値以下のものを分別
することも可能となる。
【００４８】これまで述べたような方法で光磁気ディス
クを製造すれば、保護膜の表面に突起部が形成され難く
なり、また検査することで突起高さが所定の値よりも大
きい光磁気ディスクが混ざることもなくなる。そして、
このような光磁気ディスクを使用すれば、浮上型磁気ヘ
ッドにより情報を記録する場合に、保護膜の表面の突起
部と磁気ヘッドの衝突が発生せず、サーボエラーや磁気
ヘッドの損傷が発生し難い。
【００４９】なお、これまで述べた製造方法を全て含む
製造方法により光磁気ディスクを製造すれば、同様の効
果が得られることは言うまでもない。
【００５０】
【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の光磁気ディスクにおいては、保護膜の表面の突起高
さが磁気ヘッドの浮上距離よりも小さいものとされてい
るため、情報の記録時に磁気ヘッドが上記光磁気ディス
ク上に所定の浮上距離を保って浮上しても、磁気ヘッド
が光磁気ディスクの保護膜の表面の突起部に衝突するこ
とはなく、サーボエラーや磁気ヘッドの損傷が発生し難
い。
【００５１】また、本発明の光磁気ディスクを製造する
際に、基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜形成手段に
より形成して記録層を形成し、基板の記録層表面に気体
を吹き付ける、或いは上記基板上に３回以上ろ過した樹
脂を供給する、またはフィルターユニット内で高速振り
切りを行って樹脂を塗布して保護膜を形成するようにす
れば、保護膜の表面に突起部が形成され難くなり、さら
には保護膜形成後、保護膜の表面の突起高さを光の反射
により検査し、突起高さが所定の値以下のものを分別す
るようにすれば突起高さが所定の値よりも大きい光磁気
ディスクが混ざることもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】スピンコータの一例を模式的に示す要部概略側
面図である。
【図２】樹脂供給装置の一例を示す模式図である。
【図３】スピンコータの他の例を模式的に示す要部概略
側面図である。
【図４】樹脂供給装置の他の例を示す模式図である。
【図５】スピンコータのさらに他の例を模式的に示す要
部概略側面図である。
【図６】スピンコータのさらに他の例のブロー部を拡大
して模式的に示す要部概略斜視図である。
【図７】保護膜に照射したレーザ光と反射光の関係の一
例を示す模式図である。
【図８】保護膜に照射したレーザ光と反射光の関係の他
の例を示す模式図である。
【図９】保護膜に照射したレーザ光と反射光の関係のさ
らに他の例を示す模式図である。
【符号の説明】
１ 本体 ４ スピン部 ７ 硬化部 ９ 第１のフィルター １０ 第２のフィルター １１ 第３のフィルター ２１ フィルターユニット ３３ ブローノズル ３５ 排気ダクト ３６ ブロー部 ４２ ビームスプリッタ ４３ 光位置検出素子

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 基板上に記録層及び保護膜が形成されて
    なり、少なくとも情報の記録時に光磁気ディスク上に所
    定の浮上距離を保って浮上する磁気ヘッドにより情報の
    記録が行われる光磁気ディスクにおいて、 光磁気ディスクの保護膜の表面の突起高さが磁気ヘッド
    の浮上距離よりも小さいことを特徴とする光磁気ディス
    ク。
  2. 【請求項２】 突起高さが１０μｍ以下であることを特
    徴とする請求項１記載の光磁気ディスク。
  3. 【請求項３】 直径が９０ｍｍ以下であることを特徴と
    する請求項１記載の光磁気ディスク。
  4. 【請求項４】 回転数が２４００ｒｐｍ以上とされるこ
    とを特徴とする請求項１記載の光磁気ディスク。
  5. 【請求項５】 磁界変調方式により情報の記録が行われ
    ることを特徴とする請求項１記載の光磁気ディスク。
  6. 【請求項６】 基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜形
    成手段により形成して記録層を形成し、その上に樹脂を
    供給した後、高速振り切りを行って樹脂を塗布して保護
    膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、 樹脂を供給前に３回以上ろ過することを特徴とする光磁
    気ディスクの製造方法。
  7. 【請求項７】 樹脂のろ過を孔径１μｍのフィルターで
    １回行った後、孔径０．２μｍのフィルターで２回行う
    ものとすることを特徴とする請求項６記載の光磁気ディ
    スクの製造方法。
  8. 【請求項８】 基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜形
    成手段により形成して記録層を形成し、その上に樹脂を
    供給した後、高速振り切りを行って樹脂を塗布して保護
    膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、 樹脂を供給する前に基板の記録層表面に気体を吹き付け
    ることを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
  9. 【請求項９】 気体が窒素であることを特徴とする請求
    項８記載の光磁気ディスクの製造方法。
  10. 【請求項１０】 基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜
    形成手段により形成して記録層を形成し、その上に樹脂
    を供給した後、高速振り切りを行って樹脂を塗布して保
    護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、 高速振り切りをフィルターユニット内で行うことを特徴
    とする光磁気ディスクの製造方法。
  11. 【請求項１１】 基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜
    形成手段により形成して記録層を形成し、その上に樹脂
    を供給した後、高速振り切りを行って樹脂を塗布して保
    護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、 保護膜形成後、保護膜の表面の突起高さを光の反射によ
    り検査し、突起高さが所定の値以下のものを分別するこ
    とを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。
  12. 【請求項１２】 基板上に１層以上の機能膜を真空薄膜
    形成手段により形成して記録層を形成し、その上に樹脂
    を供給した後、高速振り切りを行って樹脂を塗布して保
    護膜を形成する光磁気ディスクの製造方法において、 樹脂を供給前に３回以上ろ過し、樹脂を供給する前に基
    板の記録層表面に気体を吹き付け、高速振り切りをフィ
    ルターユニット内で行い、保護膜形成後、保護膜の表面
    の突起高さを光の反射により検査し、突起高さが所定の
    値以下のものを分別することを特徴とする光磁気ディス
    クの製造方法。
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