JPH0974152A - Semiconductor device - Google Patents
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- JPH0974152A JPH0974152A JP7228867A JP22886795A JPH0974152A JP H0974152 A JPH0974152 A JP H0974152A JP 7228867 A JP7228867 A JP 7228867A JP 22886795 A JP22886795 A JP 22886795A JP H0974152 A JPH0974152 A JP H0974152A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 広帯域の半導体素子の伝送特性を劣化させな
いようにする。
【解決手段】 誘電体基板9aおよび9bの上面(対向
する面)にそれぞれ斜めカット面9a1および9b1の途中
まで伸びた信号用配線パターン10aおよび10bを設
ける。誘電体基板9aを挟むように金属ブロック13a
を配置する。誘電体基板9bを挟むように金属ブロック
13bを配置する。信号用導電性リード12の一端を半
導体素子5の信号用電極パッド11に、信号用導電性リ
ード12の他端を誘電体基板9aの配線パターン10a
と誘電体基板9bの配線パターン10bとの間に接続
し、誘電体基板9aの斜めカット面9a1上の配線パター
ン10a’および誘電体基板9bの斜めカット面9b1上
の配線パターン10b’と同軸コネクタ2の中心導体7
の先端部とを接合材19を介して接合する。
(57) Abstract: To prevent deterioration of transmission characteristics of a wide band semiconductor device. SOLUTION: Signal wiring patterns 10a and 10b are provided on the upper surfaces (opposite surfaces) of dielectric substrates 9a and 9b, respectively, extending halfway through oblique cut surfaces 9a1 and 9b1 . The metal block 13a is sandwiched so as to sandwich the dielectric substrate 9a.
Place. The metal blocks 13b are arranged so as to sandwich the dielectric substrate 9b. One end of the signal conductive lead 12 is used as the signal electrode pad 11 of the semiconductor element 5, and the other end of the signal conductive lead 12 is used as the wiring pattern 10a of the dielectric substrate 9a.
And connected between the wiring pattern 10b of the dielectric substrate 9b, the dielectric substrate 9a of the oblique cut surface 9 a1 on the wiring pattern 10a 'and the dielectric substrate 9b of the oblique cut surface 9 b1 on the wiring pattern 10b' Center conductor 7 of coaxial connector 2
And the tip end of are bonded via the bonding material 19.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、光/電気通信分
野において使用される高周波IC等を搭載した半導体装
置の高周波化実装技術に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a high frequency mounting technique for a semiconductor device mounted with a high frequency IC used in the field of optical / telecommunication.
【0002】[0002]
【従来の技術】高周波化IC等を搭載した従来の半導体
装置の構成を図7に示す。図7(a)はその一部破断平
面図、図7(b)は図7(a)におけるI−I線断面図
である。この半導体装置は、金属性外囲器3に同軸コネ
クタ2が入出力信号端子に応じた数だけ取り付けられ
(この例では2個)、金属基板4の凹部17に金錫ロー
材等の接合材18により半導体素子5が接着されてい
る。また、金属基板4の凸部面には絶縁性基板28が半
導体素子5とほぼ同様にして接合されている。2. Description of the Related Art FIG. 7 shows the configuration of a conventional semiconductor device equipped with a high frequency IC and the like. 7 (a) is a partially cutaway plan view thereof, and FIG. 7 (b) is a sectional view taken along line I-I in FIG. 7 (a). In this semiconductor device, as many coaxial connectors 2 as the number corresponding to the input / output signal terminals are attached to the metallic envelope 3 (two in this example), and a bonding material such as a gold tin brazing material is provided in the recess 17 of the metal substrate 4. The semiconductor element 5 is adhered by 18. An insulating substrate 28 is bonded to the convex surface of the metal substrate 4 in the same manner as the semiconductor element 5.
【0003】絶縁性基板28の上面には、薄膜(例え
ば、NiCr/Au、Ti/Auなど)あるいは厚膜
(W/Ni/Auなど)による信号用配線パターン29
および接地用配線パターン30a,30bが形成され、
コプレーナ線路34を構成している。半導体素子5の信
号用電極パッド11と信号用配線パターン29との間お
よび接地用電極パッド14と接地用配線パターン30
a,30bとの間はそれぞれボンディングワイヤ31
(25μmφ〜30μmφの金線など)で接続されてい
る。更に、同軸コネクタ2の中心導体7と信号用配線パ
ターン29との間は錫鉛半田や銀ペースト等の接合材3
2で電気的に接続されている。外囲器3の上面部にはキ
ャップ33が上記の接合材を用いるかあるいはシームウ
ェルド法等により接合されている。なお、図では、同軸
コネクタ2の詳細については省略している。On the upper surface of the insulating substrate 28, a signal wiring pattern 29 made of a thin film (for example, NiCr / Au, Ti / Au, etc.) or a thick film (W / Ni / Au, etc.).
And ground wiring patterns 30a and 30b are formed,
The coplanar line 34 is configured. Between the signal electrode pad 11 and the signal wiring pattern 29 of the semiconductor element 5, and between the ground electrode pad 14 and the ground wiring pattern 30.
Bonding wires 31 are provided between a and 30b, respectively.
(25 μmφ to 30 μmφ gold wire or the like). Further, a bonding material 3 such as tin-lead solder or silver paste is provided between the central conductor 7 of the coaxial connector 2 and the signal wiring pattern 29.
2 are electrically connected. The cap 33 is bonded to the upper surface of the envelope 3 by using the above-mentioned bonding material or by the seam weld method. In the figure, details of the coaxial connector 2 are omitted.
【0004】この半導体装置において、入力信号は、同
軸コネクタ2(2−1)に入り、コプレーナ線路34
(信号用配線パターン29および接地用配線パターン3
0aおよび30bから構成される伝送線路)、ボンディ
ングワイヤ31(31a)を経由して半導体素子5に伝
達される。そして、半導体素子5で増幅等の信号変換/
処理された後、ボンディングワイヤ31(31b)およ
びコプレーナ線路34を経て、同軸コネクタ2(2−
2)より出力される。In this semiconductor device, the input signal enters the coaxial connector 2 (2-1) and enters the coplanar line 34.
(Signal wiring pattern 29 and ground wiring pattern 3
It is transmitted to the semiconductor element 5 via the bonding wire 31 (31a) and the transmission line composed of 0a and 30b. Then, in the semiconductor element 5, signal conversion such as amplification /
After being processed, through the bonding wire 31 (31b) and the coplanar line 34, the coaxial connector 2 (2-
2) is output.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来の半導体装置では、ボンディングワイヤ31a
および31bのインダクタンスおよび寄生容量、コプレ
ーナ線路34と同軸コネクタ2の中心導体7の変換部で
生じる不要電磁波モード(マイクロストリップ線路で扱
うモード)によって、半導体素子5の動作周波数帯域内
にリップルや共振が発生し易かった。このため、半導体
装置としての伝送特性を著しく劣化させることになり、
特に数10GHz以上の広帯域にわたって実用に供するこ
とが困難であった。However, in such a conventional semiconductor device, the bonding wire 31a is used.
Ripple and resonance may occur in the operating frequency band of the semiconductor element 5 due to the inductance and parasitic capacitance of 31b and the unwanted electromagnetic wave mode (mode handled by the microstrip line) generated in the conversion portion of the coplanar line 34 and the center conductor 7 of the coaxial connector 2. It was easy to occur. Therefore, the transmission characteristics of the semiconductor device will be significantly deteriorated.
In particular, it was difficult to put it to practical use over a wide band of several tens GHz or more.
【0006】また、電源の供給には同軸コネクタ2に替
えてセラミックフィードスルーのリード端子やガラスで
絶縁したコバル(KOVAR)材等のリードからなるガ
ラス端子が用いられ、半導体素子5の電源供給用電極パ
ッド(図示せず)から上記端子との接続にボンディング
ワイヤ等が用いられているため、そのインダクタンスが
半導体素子5の動作を不安定にさせることが多かった。Further, instead of the coaxial connector 2, a lead terminal of a ceramic feedthrough or a glass terminal made of a glass insulated KOVAR material lead is used for power supply. Since a bonding wire or the like is used to connect the electrode pad (not shown) to the terminal, its inductance often makes the operation of the semiconductor element 5 unstable.
【0007】本発明はこのような課題を解決するために
なされたもので、その第1目的は、広帯域(数10GH
z以上)の半導体素子の伝送特性を劣化させることなく
実装することのできる半導体装置を提供することにあ
る。また、その第2目的は、広帯域(数10GHz以
上)の半導体素子の動作を安定化させることのできる半
導体装置を提供することにある。The present invention has been made to solve such a problem, and its first object is to provide a wide band (several tens of GH).
It is to provide a semiconductor device that can be mounted without deteriorating the transmission characteristics of the semiconductor element of z or more). A second object of the invention is to provide a semiconductor device capable of stabilizing the operation of a wide band (several tens GHz or more) semiconductor element.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、第1発明(請求項1に係る発明)は、同軸コ
ネクタ(2)を設けた外囲器(3)内に半導体素子
(5)を搭載した半導体装置において、斜めカット面
(9a1)を有し、その上面から斜めカット面(9a1)の
途中まで伸びた配線パターン(10a)が形成された第
1の絶縁性基板(9a)と、この第1の絶縁性基板(9
a)を挟むようにその両側方に配置され、外囲器(3)
と電気的に接続された第1の導電性ブロック(13a)
と、斜めカット面(9b1)を有し、その上面から斜めカ
ット面(9b1)の途中まで伸びた配線パターン(10
b)が形成された第2の絶縁性基板(9b)と、この第
2の絶縁性基板(9b)を挟むようにその両側方に配置
され、外囲器(3)と電気的に接続された第2の導電性
ブロック(13b)と、その一端が半導体素子(5)の
接地用電極パッド(14)に、その他端が第1の導電性
ブロック(13a)と第2の導電性ブロック(13b)
との間に接続された第1の導電性リード(15)と、そ
の一端が半導体素子(5)の信号用電極パッド(11)
に、その他端が第1の絶縁性基板(9a)の上面の配線
パターン(10a)と第2の絶縁性基板(9b)の上面
の配線パターン(10b)との間に接続された第2の導
電性リード(12)とを設け、第1の絶縁性基板(9
a)の斜めカット面(9a1)上の配線パターン(10
a’)および第2の絶縁性基板(9b)の斜めカット面
(9b1)上の配線パターン(10b’)と同軸コネクタ
(2)の中心導体(7)の先端部とを電気的に接合する
ようにしたものである。In order to achieve such an object, the first invention (the invention according to claim 1) is a semiconductor device in an envelope (3) provided with a coaxial connector (2). in the semiconductor device mounted with a (5), it has an oblique cut surface (9 a1), a first insulating its oblique cut surface from the upper surface (9 a1) elongation partway wiring pattern (10a) is formed The substrate (9a) and the first insulating substrate (9
The envelope (3) is arranged on both sides so that it sandwiches a).
A first conductive block (13a) electrically connected to
And a wiring pattern (10 b that has a diagonal cut surface (9 b1 ), and extends from the upper surface to the middle of the diagonal cut surface (9 b1 ).
b) is formed on both sides of the second insulating substrate (9b) on which the second insulating substrate (9b) is sandwiched, and is electrically connected to the envelope (3). A second conductive block (13b), one end of which is the ground electrode pad (14) of the semiconductor element (5), and the other end is the first conductive block (13a) and the second conductive block (13b). 13b)
A first conductive lead (15) connected between the first conductive lead (15) and a signal electrode pad (11) of the semiconductor element (5)
In addition, the other end is connected between the wiring pattern (10a) on the upper surface of the first insulating substrate (9a) and the wiring pattern (10b) on the upper surface of the second insulating substrate (9b). A conductive lead (12) and a first insulating substrate (9
a) The wiring pattern (10) on the diagonal cut surface (9 a1 )
a ') and a second insulating oblique cut surface of the substrate (9b) (9 b1) on the wiring pattern (10b' electrically joining the front end portion of the center conductor (7)) and the coaxial connector (2) It is something that is done.
【0009】この発明によれば、同軸コネクタ(2)の
中心導体(7)の先端部が絶縁性基板(9a,9b)の
斜めカット面(9a1,9b1)上の配線パターン(10
a’,10b’)に接続され、この配線パターン(10
a,10b)に挟まれた導電性リード(12)を経由し
て半導体素子(5)の信号用電極パッド(11)に接続
される。絶縁性基板(9a,9b)は導電体に囲まれた
構造となり、絶縁性基板(9a,9b)で挟まれた導電
性リード(12)部は擬似的な同軸構造(あるいはシー
ルドされたストリップ線路)となる。すなわち、信号
は、半導体素子(5)の電極近傍まで同軸のTEMモー
ドで伝搬する。According to the present invention, the tip end of the central conductor (7) of the coaxial connector (2) has the wiring pattern (10) on the oblique cut surface (9 a1 , 9 b1 ) of the insulating substrate (9 a, 9 b ).
a ', 10b'), the wiring pattern (10
It is connected to the signal electrode pad (11) of the semiconductor element (5) via the conductive lead (12) sandwiched between a and 10b). The insulating substrate (9a, 9b) has a structure surrounded by a conductor, and the conductive lead (12) part sandwiched by the insulating substrate (9a, 9b) has a pseudo coaxial structure (or a shielded strip line). ). That is, the signal propagates to the vicinity of the electrodes of the semiconductor element (5) in the coaxial TEM mode.
【0010】第2発明(請求項2に係る発明)は、第1
発明において、導電性リード(12,15)の一端の上
部に誘電体(21)を設けたものである。この発明によ
れば、半導体素子(5)の信号用電極パッド(11)と
導電性リード(12)との接続部近傍における特性イン
ピーダンスを、誘電体(21)の厚みにより調整でき
る。The second invention (the invention according to claim 2) is the first invention.
In the present invention, the dielectric (21) is provided on one end of the conductive lead (12, 15). According to the present invention, the characteristic impedance in the vicinity of the connection between the signal electrode pad (11) of the semiconductor element (5) and the conductive lead (12) can be adjusted by the thickness of the dielectric (21).
【0011】第3発明(請求項3に係る発明)は、外囲
器(3)内に半導体素子(5)を搭載した半導体装置に
おいて、外囲器(3)の一部に電源供給用の開口部(2
3)を設け、その上面に配線パターン(24a,24
b)が形成された第1の絶縁性基板(25a)および第
2の絶縁性基板(25b)を設け、導電性リード(2
6)の一端を半導体素子(5)の電源供給用電極パッド
(27)に接続し、導電性リード(26)の途中を第1
の絶縁性基板(25a)上の配線パターン(24a)と
第2の絶縁性基板(25b)上の配線パターン(24
b)との間に位置させ、導電性リード(26)の他端を
開口部(23)を通過して外囲器(3)の外側に延伸さ
せるようにしたものである。A third invention (the invention according to claim 3) is a semiconductor device in which a semiconductor element (5) is mounted in an envelope (3) for supplying power to a part of the envelope (3). Opening (2
3) is provided, and wiring patterns (24a, 24
b) is provided with a first insulating substrate (25a) and a second insulating substrate (25b), and conductive leads (2
One end of 6) is connected to the power supply electrode pad (27) of the semiconductor element (5), and the conductive lead (26) is connected to the first part in the middle.
Wiring pattern (24a) on the insulating substrate (25a) and wiring pattern (24 on the second insulating substrate (25b)
b), and the other end of the conductive lead (26) extends through the opening (23) to the outside of the envelope (3).
【0012】この発明によれば、半導体素子(5)の電
源供給用電極パッド(27)に接続された導電性リード
(26)が、第1の絶縁性基板(25a)と第2の絶縁
性基板(25b)との間にに挟まれて外囲器(3)外に
出る。絶縁性基板(25a,25b)に挟まれたリード
部では、外囲器(3)と絶縁性基板(25a,25b)
の配線パターン(24a,24b)との間で平行平板容
量が形成され、電源側に漏れた信号はこれによって短絡
される。According to this invention, the conductive lead (26) connected to the power supply electrode pad (27) of the semiconductor element (5) is connected to the first insulating substrate (25a) and the second insulating substrate (25a). It is sandwiched between the substrate (25b) and goes out of the envelope (3). In the lead part sandwiched between the insulating substrates (25a, 25b), the envelope (3) and the insulating substrates (25a, 25b)
A parallel plate capacitance is formed between the wiring patterns (24a, 24b) and the signal leaked to the power supply side is short-circuited by this.
【0013】第4発明(請求項4に係る発明)は、第3
発明において、第1の絶縁性基板(25a)とその上面
の配線パタン(24a)との間および第2の絶縁性基板
(25b)とその上面の配線パターン(24b)との間
に弾性体(27a,27b)を配置したものである。こ
の発明によれば、導電性リード(26)の途中が弾性体
(27a,27b)を介して、第1の絶縁性基板(25
a)と第2の絶縁性基板(25b)との間に挟まれる。The fourth invention (the invention according to claim 4) is the third invention.
In the invention, an elastic body (is provided between the first insulating substrate (25a) and the wiring pattern (24a) on the upper surface thereof and between the second insulating substrate (25b) and the wiring pattern (24b) on the upper surface thereof. 27a, 27b) are arranged. According to this invention, the first insulating substrate (25) is formed in the middle of the conductive lead (26) through the elastic body (27a, 27b).
It is sandwiched between a) and the second insulating substrate (25b).
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施形態に基づき
詳細に説明する。 〔実施形態1:第1発明〕図1はこの発明の第1実施形
態を示し、同図(a)はその一部破断平面図、同図
(b)は同図(a)におけるII−II線断面図(一部破断
側断面図)である。また、図2(a)は図1(a)にお
けるIII −III 線断面図であり、図2(b)は図1
(a)におけるIV−IV線断面図である。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail based on embodiments. [Embodiment 1: First Invention] FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention. FIG. 1 (a) is a partially cutaway plan view thereof, and FIG. 1 (b) is II-II in FIG. 1 (a). It is a line sectional view (partially fractured side sectional view). 2A is a sectional view taken along the line III-III in FIG. 1A, and FIG.
It is the IV-IV sectional view taken on the line in (a).
【0015】この半導体装置1では、図1(a)および
(b)に示されるように、同軸コネクタ2を取り付けた
外囲器3の底部に備えたコバル(KOVAR)等の金属
あるいはメタライズしたセラミックからなる金属基板4
aに接合材18を介して半導体素子5を搭載し、半導体
素子5と外囲器3の開口部6内を貫通した同軸コネクタ
2の中心導体7との間に、斜めカット面9a1および9b1
を持つセラミックやテフロン等の誘電体基板(絶縁性基
板)9aおよび9bをほゞ上下対称となるように配置し
ている。In this semiconductor device 1, as shown in FIGS. 1A and 1B, metal such as KOVAR or metallized ceramic provided on the bottom of the envelope 3 to which the coaxial connector 2 is attached. Made of metal substrate 4
The semiconductor element 5 is mounted on the a via the bonding material 18, and the oblique cut surfaces 9 a1 and 9 are formed between the semiconductor element 5 and the central conductor 7 of the coaxial connector 2 penetrating through the opening 6 of the envelope 3. b1
Dielectric substrates (insulating substrates) 9a and 9b such as ceramics and Teflon having are arranged substantially vertically symmetrically.
【0016】誘電体基板9aおよび9bの上面(対向す
る面)にはそれぞれ斜めカット面9a1および9b1の途中
まで伸びた信号用配線パターン10aおよび10bを設
けている。そして、同軸コネクタ2の中心導体7の先端
部を斜めカット面9a1,9b1の信号用配線パターン10
a’および10b’に接合材19を介して接続し、金等
からなる信号用導電性リード12の一端を半導体素子5
の信号用電極パッド11に接続し、この信号用導電性リ
ード12の他端を信号用配線パターン10aと10bと
の間に配置し接続している。Signal wiring patterns 10a and 10b are provided on the upper surfaces (opposing surfaces) of the dielectric substrates 9a and 9b so as to extend halfway along the oblique cut surfaces 9a1 and 9b1 , respectively. Then, the tip portion of the central conductor 7 of the coaxial connector 2 is connected to the signal wiring pattern 10 of the oblique cut surfaces 9 a1 and 9 b1.
a'and 10b 'are connected via a bonding material 19, and one end of the signal conductive lead 12 made of gold or the like is connected to the semiconductor element 5
Is connected to the signal electrode pad 11, and the other end of the signal conductive lead 12 is arranged and connected between the signal wiring patterns 10a and 10b.
【0017】また、図2(a)に示されるように、誘電
体基板9aおよび9bそれぞれの両側方にはコバル(K
OVAR)材に金めっきした金属ブロック13aおよび
13bが設けられ、金属ブロック13aと13bとがほ
ゞ上下対称となるように配置されている。金属ブロック
13aと13bとの間には、その一端が半導体素子5の
接地用電極パッド14に接続された接地用導電性リード
15の他端が配置されている。外囲器3の上面部には金
属基板4bが配置されている。したがって、信号用導電
性リード12を挟み込んだ誘電体基板9aおよび9bは
金属ブロック13aおよび13bと上下の金属基板4a
および4bで囲まれた構造となる。Further, as shown in FIG. 2 (a), a cobal (K) is formed on both sides of each of the dielectric substrates 9a and 9b.
Metal blocks 13a and 13b plated with gold on an (OVAR) material are provided, and the metal blocks 13a and 13b are arranged so as to be substantially vertically symmetrical. The other end of the grounding conductive lead 15 whose one end is connected to the grounding electrode pad 14 of the semiconductor element 5 is arranged between the metal blocks 13a and 13b. A metal substrate 4b is arranged on the upper surface of the envelope 3. Therefore, the dielectric substrates 9a and 9b sandwiching the signal conductive lead 12 are located between the metal blocks 13a and 13b and the upper and lower metal substrates 4a.
And a structure surrounded by 4b.
【0018】また、図2(b)に示されるように、中心
導体7および誘電体基板9aおよび9bの斜めカット面
9a1および9b1上の信号用配線パターン10a’および
10b’部においても、上記説明と同様に四方を金属ブ
ロック13a,13bおよび金属基板4a,4bで囲ま
れた疑似同軸構造となる。したがって、同軸コネクタ2
からの信号はこの疑似同軸構造の変換部を経由して半導
体素子5に伝達されることになり、半導体素子5近傍ま
で同軸コネクタ2からのTEM伝搬モードの乱れを小さ
くできるため、従来構造での不連続部分での反射等の低
減改善ができる。Further, as shown in FIG. 2 (b), also in the central conductor 7 and the dielectric substrate 9a and 9b of the diagonal cut surfaces 9 a1 and 9 b1 on the signal wiring pattern 10a 'and 10b' portion, Similar to the above description, a pseudo-coaxial structure surrounded by metal blocks 13a and 13b and metal substrates 4a and 4b on all sides is formed. Therefore, the coaxial connector 2
Is transmitted to the semiconductor element 5 via this pseudo-coaxial structure converter, and the disturbance of the TEM propagation mode from the coaxial connector 2 to the vicinity of the semiconductor element 5 can be reduced. It is possible to reduce and improve the reflection at the discontinuous portion.
【0019】この半導体装置1の組み立ては、図3
(b)に示すように、先ず斜めカット面9a1を持つ誘電
体基板9aおよび金属ブロック13a(図示省略)を金
属基板4aの凸部面の両端にロー材16(例えば、銀ロ
ーや金錫共晶合金など)を溶融させて接続し、中央凹部
17に半導体素子5を上記と同様の溶融温度かそれ以下
の溶融温度を有するロー材18(例えば、金錫共晶合金
や錫鉛系半田など)により溶融接着した後、半導体素子
5の信号用電極パッド11と信号用配線パターン10a
との間に熱圧着法や熱超音波法等により信号用導電性リ
ード12を接続する。同様に、接地用電極パッド14と
金属ブロック13aとの間を接地用導電性リード15で
接続する(図示省略)。なお、誘電体基板9a上の信号
用配線パターン10aは、蒸着やめっき法さらにはエッ
チング手法により形成したNiCr−AuやTi−Au
等の構成としている。The assembly of this semiconductor device 1 is shown in FIG.
(B), the first oblique cut surface 9 dielectric having a1 substrate 9a and the metal block 13a (not shown) low for both ends of the protrusion surface of the metal substrate 4a member 16 (e.g., silver rows or gold-tin A eutectic alloy or the like) is melted and connected, and the semiconductor element 5 is melted and connected to the central recess 17 with a brazing material 18 (for example, a gold-tin eutectic alloy or a tin-lead solder) having a melting temperature similar to or lower than the above-mentioned melting temperature. And the like), and then the signal electrode pad 11 of the semiconductor element 5 and the signal wiring pattern 10a.
The conductive leads 12 for signals are connected between and by a thermocompression bonding method, a thermosonic method, or the like. Similarly, the grounding electrode pad 14 and the metal block 13a are connected by a grounding conductive lead 15 (not shown). The signal wiring pattern 10a on the dielectric substrate 9a is formed by NiCr-Au or Ti-Au formed by vapor deposition, plating or etching.
And so on.
【0020】一方、図3(a)に示すように、斜めカッ
ト面9b1を持つ誘電体基板9bおよび金属ブロック13
b(図示省略)をロー材(例えば、銀ローや金錫共晶合
金など)16を用いて接続した金属基板4bを用意す
る。ねじ込み等の手段により取り付けた同軸コネクタ2
を有する外囲器3の上面部に金属基板4bをロー付けあ
るいはレーザ溶接により一体化する。その際、中心導体
7と誘電体基板9bの斜めカット面9b1上の信号用配線
パターン10b’との間にはAgペーストなどの接合材
19を塗布しておく。Meanwhile, as shown in FIG. 3 (a), the dielectric substrate 9b and the metal block 13 with an oblique cut surface 9 b1
A metal substrate 4b in which b (not shown) is connected using a brazing material (for example, silver brazing or gold-tin eutectic alloy) 16 is prepared. Coaxial connector 2 attached by means such as screwing
The metal substrate 4b is brazed or laser-welded to the upper surface of the envelope 3 having the above. At that time, previously coated with a bonding material 19 such as Ag paste is formed between the center conductor 7 and the dielectric oblique cut surface 9 b1 on the signal wiring pattern 10b of the substrate 9b '.
【0021】しかるのち、信号用導電性リード12と誘
電体基板9b上の信号用配線パターン10bおよび誘電
体基板9aの斜めカット面9a1上の信号用配線パターン
10a’と中心導体7に塗布された接合材19とがそれ
ぞれ接続されるように金属基板4aを外囲器3内に挿入
し、接合材19を昇温固化した後、レーザ溶接等により
一体化することにより半導体素子5を封止して、本半導
体装置1を完成させる。なお、上記説明では、金属ブロ
ック13a(13b)と金属基板4a(4b)とを分離
した構成としたが、金属ブロック13a(13b)と金
属基板4a(4b)とを一体構造としてもよく、このよ
うな構造も本発明の範疇に入ることは言うまでもない。[0021] accordingly then being applied signaling conductive leads 12 and the dielectric signal wiring on the board 9b pattern 10b and a dielectric signal wiring pattern 10a on the obliquely cut surface 9 a1 of the substrate 9a 'and the center conductor 7 The metal substrate 4a is inserted into the envelope 3 so as to be connected to the respective bonding materials 19, and the bonding material 19 is heated and solidified, and then integrated by laser welding or the like to seal the semiconductor element 5. Then, the semiconductor device 1 is completed. Although the metal block 13a (13b) and the metal substrate 4a (4b) are separated in the above description, the metal block 13a (13b) and the metal substrate 4a (4b) may be integrated. It goes without saying that such a structure also falls within the scope of the present invention.
【0022】〔実施形態2:第2発明〕図4はこの発明
の第2実施形態を示す一部破断側断面図である。この実
施形態2は、凸部20に誘電体基板21を設けた金属ブ
ロック22を半導体素子5と金属基板4bとの間に配置
し、誘電体基板21が半導体素子5に接続された信号用
導電性リード12および接地用導電性リード15(図示
省略)の上部に位置する構造とされている点が実施形態
1と異なる。[Second Embodiment: Second Invention] FIG. 4 is a partially cutaway side sectional view showing a second embodiment of the present invention. In the second embodiment, the metal block 22 in which the dielectric substrate 21 is provided on the convex portion 20 is arranged between the semiconductor element 5 and the metal substrate 4b, and the dielectric substrate 21 is connected to the semiconductor element 5 for signal conductivity. The first embodiment is different from the first embodiment in that the structure is located above the conductive lead 12 and the grounding conductive lead 15 (not shown).
【0023】この構造においては、信号用導電性リード
12上部の誘電体基板21の厚みtにより、すなわち上
部の接地部となる金属ブロック22の凸部20までの高
さtを変えることにより、信号用導電性リード12部の
特性インピーダンスを調整できる特徴を有する。なお、
金属ブロック22を金属基板4bと一体構造としても、
また誘電体基板21がない場合、すなわち比誘電率が1
の場合(空気)であっても、その効果は同様であり、本
発明の範疇にあることは言うまでもない。In this structure, the signal t is changed by the thickness t of the dielectric substrate 21 above the signal conductive lead 12, that is, the height t to the convex portion 20 of the metal block 22 serving as the upper ground portion. It has a feature that the characteristic impedance of the conductive lead portion 12 can be adjusted. In addition,
Even if the metal block 22 is integrated with the metal substrate 4b,
When the dielectric substrate 21 is not provided, that is, the relative permittivity is 1
Even in the case of (air), the effect is the same, and it goes without saying that it is within the scope of the present invention.
【0024】〔実施形態3:第3発明〕図5はこの半導
体装置の第3実施形態であり、同図(a)は平面図、同
図(b)は同図(a)におけるV−V線断面図である。
図5において、開口部23を設けた外囲器3と、半導体
素子5および配線パターン24aを有する絶縁性基板2
5aを搭載した金属基板4aと、配線パターン24bを
有する絶縁性基板25bを搭載した金属基板4bと、電
源供給用導電性リード26とから構成される。この実施
形態3では、電源供給用導電性リード26の一端を半導
体素子5の電源供給用電極パッド27に接続し、この電
源供給用導電性リード26の途中を絶縁性基板25aお
よび25bそれぞれの配線パターン24aおよび24b
間に接続し、電源供給用導電性リード26の他端を開口
部23を通過して外囲器3の外に出すように構成してい
る。[Third Embodiment: Third Invention] FIGS. 5A and 5B show a third embodiment of the semiconductor device. FIG. 5A is a plan view and FIG. 5B is a VV line in FIG. It is a line sectional view.
In FIG. 5, the envelope 3 having the opening 23, the insulating substrate 2 having the semiconductor element 5 and the wiring pattern 24a.
5a, a metal substrate 4a, an insulating substrate 25b having a wiring pattern 24b, and a power supply conductive lead 26. In the third embodiment, one end of the power supply conductive lead 26 is connected to the power supply electrode pad 27 of the semiconductor element 5, and the middle of the power supply conductive lead 26 is wired to each of the insulating substrates 25a and 25b. Patterns 24a and 24b
The other end of the conductive lead 26 for power supply is configured to pass through the opening 23 and to be output to the outside of the envelope 3.
【0025】この半導体装置においては、電源供給用導
電性リード26が絶縁性基板25aおよび25bを介し
て接地部となる金属基板4aおよび4bに並列に容量結
合されることになり、この容量によって電源供給用電極
パッド27からの信号(電源側に漏れた信号)を短絡で
きる。また、電源供給用導電性リード26を絶縁性基板
25aおよび25bで押圧固定した構造となっているた
め、電源供給用導電性リード26の他端からの半導体素
子5の電源供給用電極パッド27の接続部への応力を緩
和する上でも有効となる。In this semiconductor device, the conductive leads 26 for supplying power are capacitively coupled in parallel to the metal substrates 4a and 4b serving as grounding portions via the insulating substrates 25a and 25b, and this capacitance causes the power source to be supplied. A signal from the supply electrode pad 27 (a signal leaking to the power supply side) can be short-circuited. Further, since the conductive lead 26 for power supply is pressed and fixed by the insulating substrates 25a and 25b, the electrode pad 27 for power supply of the semiconductor element 5 from the other end of the conductive lead 26 for power supply is fixed. It is also effective in relieving the stress on the connection part.
【0026】〔実施形態4:第4発明〕図6はこの発明
の第4実施形態を示す側断面図である。この実施形態4
は、絶縁性基板25aと配線パターン24aとの間およ
び絶縁性基板25bと配線パターン24bとの間に弾性
体27aおよび27bを配置した点が実施形態3と異な
る。この構造によって、絶縁性基板25a,25bの厚
み加工精度のずれに伴う電源供給用導電性リード26へ
の応力を緩和することができる。[Fourth Embodiment: Fourth Invention] FIG. 6 is a side sectional view showing a fourth embodiment of the present invention. Embodiment 4
Differs from the third embodiment in that elastic bodies 27a and 27b are arranged between the insulating substrate 25a and the wiring pattern 24a and between the insulating substrate 25b and the wiring pattern 24b. With this structure, it is possible to relieve the stress on the conductive lead 26 for power supply due to the deviation of the thickness processing accuracy of the insulating substrates 25a and 25b.
【0027】[0027]
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように本
発明によれば、第1発明では、同軸コネクタの中心導体
の先端部が絶縁性基板の斜めカット面上の配線パターン
に接続され、この配線パターンに挟まれた導電性リード
を経由して半導体素子の信号用電極パッドに接続される
ものとなり、絶縁性基板で挟まれた導電性リード部が擬
似的な同軸構造(あるいはシールドされたストリップ線
路)となる。これにより、信号が半導体素子の電極近傍
まで同軸のTEMモードで伝搬するものとなり、擬似的
な同軸構造でのTEM伝搬モードの乱れを小さくでき、
従来構造での不連続部での反射等の低減改善ができるよ
うになり、広帯域(数10GHz以上)の半導体素子の
伝送特性を劣化させることなく実装することができるよ
うになる。第2発明では、第1発明において、半導体素
子の信号用電極パッドと導電性リードとの接続部近傍に
おける特性インピーダンスを誘電体の厚みにより調整で
き、接続部での不連続に伴う反射特性の改善を図ること
ができる。As is apparent from the above description, according to the present invention, in the first invention, the tip end portion of the center conductor of the coaxial connector is connected to the wiring pattern on the oblique cut surface of the insulating substrate. It will be connected to the signal electrode pad of the semiconductor element via the conductive lead sandwiched by the wiring pattern, and the conductive lead portion sandwiched by the insulating substrate will have a pseudo coaxial structure (or shielded strip). Track). As a result, the signal propagates to the vicinity of the electrode of the semiconductor element in the coaxial TEM mode, and the disturbance of the TEM propagation mode in the pseudo coaxial structure can be reduced,
It becomes possible to reduce the reflection and the like at the discontinuous portion in the conventional structure, and to mount the semiconductor device in a wide band (several tens GHz or more) without deteriorating the transmission characteristics. In the second invention, in the first invention, the characteristic impedance in the vicinity of the connecting portion between the signal electrode pad of the semiconductor element and the conductive lead can be adjusted by the thickness of the dielectric, and the reflection characteristic is improved due to the discontinuity at the connecting portion. Can be achieved.
【0028】第3発明では、半導体素子の電源供給用電
極パッドに接続された導電性リードが第1の絶縁性基板
と第2の絶縁性基板との間に挟まれて外囲器外に出、絶
縁性基板に挟まれたリード部では、外囲器と絶縁性基板
の配線パターンとの間で平行平板容量が形成され、電源
側に漏れた信号がこれによって短絡されるものとなり、
広帯域(数10GHz以上)の半導体素子の動作を安定
化させることが可能となる。第4発明では、第3発明に
おいて、導電性リードの途中が弾性体を介して第1の絶
縁性基板と第2の絶縁性基板との間に挟まれるものとな
り、絶縁性基板の厚み加工精度のずれに伴う電源供給用
導電性リードへの応力を緩和することができる。In the third aspect of the invention, the conductive lead connected to the power supply electrode pad of the semiconductor element is sandwiched between the first insulating substrate and the second insulating substrate and is exposed to the outside of the envelope. , In the lead part sandwiched by the insulating substrate, a parallel plate capacitance is formed between the envelope and the wiring pattern of the insulating substrate, and the signal leaked to the power supply side is short-circuited by this.
It is possible to stabilize the operation of a wide band (several tens GHz or more) semiconductor element. According to a fourth aspect of the invention, in the third aspect of the invention, the middle of the conductive lead is sandwiched between the first insulating substrate and the second insulating substrate via the elastic body, and the thickness processing accuracy of the insulating substrate is improved. It is possible to relieve the stress on the conductive leads for power supply due to the deviation of
【図1】 本発明の第1施形態を説明するための一部破
断平面図および一部破断側断面図である。FIG. 1 is a partially cutaway plan view and a partially cutaway side sectional view for explaining a first embodiment of the present invention.
【図2】 図1(a)におけるIII −III 線断面図およ
びIV−IV線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line III-III and a sectional view taken along line IV-IV in FIG.
【図3】 図1に示した半導体装置の組み立て方法を説
明するための図である。FIG. 3 is a diagram for explaining a method of assembling the semiconductor device shown in FIG.
【図4】 本発明の第2実施形態を説明するための一部
破断側断面図である。FIG. 4 is a partially cutaway side sectional view for explaining a second embodiment of the present invention.
【図5】 本発明の第3実施形態を説明するための平面
図および側断面図である。5A and 5B are a plan view and a side sectional view for explaining a third embodiment of the present invention.
【図6】 本発明の第4実施形態を説明するための側断
面図である。FIG. 6 is a side sectional view for explaining a fourth embodiment of the present invention.
【図7】 従来の半導体装置の構成を示す一部破断平面
図および側断面図である。FIG. 7 is a partially cutaway plan view and a side sectional view showing a configuration of a conventional semiconductor device.
1…半導体装置、2…同軸コネクタ、3…外囲器、4
a,4b…金属基板、5…半導体素子、7…中心導体、
9a,9b…誘電体基板、9a1,9b1…斜めカット面、
10a,10b,10a’,10b’…信号用配線パタ
ーン、11…信号用電極パッド、12…信号用導電性リ
ード、13a,13b…金属性ブロック、14…接地用
電極パッド、15…接地用導電性リード、21…誘電体
基板、22…金属ブロック、23…開口部、24a,2
4b…配線パターン、25a,25b…絶縁性基板、2
6…電源供給用導電性リード、27…電源供給用電極パ
ッド、27a,27b…弾性体。1 ... Semiconductor device, 2 ... Coaxial connector, 3 ... Envelope, 4
a, 4b ... Metal substrate, 5 ... Semiconductor element, 7 ... Central conductor,
9a, 9b ... Dielectric substrate, 9a1 , 9b1 ... Diagonal cut surface,
10a, 10b, 10a ', 10b' ... Signal wiring pattern, 11 ... Signal electrode pad, 12 ... Signal conductive lead, 13a, 13b ... Metal block, 14 ... Grounding electrode pad, 15 ... Grounding conductive Lead, 21 ... Dielectric substrate, 22 ... Metal block, 23 ... Opening, 24a, 2
4b ... Wiring pattern, 25a, 25b ... Insulating substrate, 2
6 ... Conductive leads for power supply, 27 ... Electrode pads for power supply, 27a, 27b ... Elastic body.
Claims (4)
素子を搭載した半導体装置において、 斜めカット面を有し、その上面から前記斜めカット面の
途中まで伸びた配線パターンが形成された第1の絶縁性
基板と、 この第1の絶縁性基板を挟むようにその両側方に配置さ
れ、前記外囲器と電気的に接続された第1の導電性ブロ
ックと、 斜めカット面を有し、その上面から前記斜めカット面の
途中まで伸びた配線パターンが形成された第2の絶縁性
基板と、 この第2の絶縁性基板を挟むようにその両側方に配置さ
れ、前記外囲器と電気的に接続された第2の導電性ブロ
ックと、 その一端が前記半導体素子の接地用電極パッドに、その
他端が前記第1の導電性ブロックと前記第2の導電性ブ
ロックとの間に接続された第1の導電性リードと、 その一端が前記半導体素子の信号用電極パッドに、その
他端が前記第1の絶縁性基板の上面の配線パターンと前
記第2の絶縁性基板の上面の配線パターンとの間に接続
された第2の導電性リードとを備え、 前記第1の絶縁性基板の斜めカット面上の配線パターン
および前記第2の絶縁性基板の斜めカット面上の配線パ
ターンと前記同軸コネクタの中心導体の先端部とが電気
的に接合されていることを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device in which a semiconductor element is mounted in an envelope provided with a coaxial connector, wherein a wiring pattern is formed which has an oblique cut surface and extends from the upper surface to a midpoint of the oblique cut surface. An insulating substrate, first conductive blocks arranged on both sides of the first insulating substrate so as to sandwich the first insulating substrate, and electrically connected to the envelope, and an oblique cut surface. A second insulating substrate on which a wiring pattern extending from the upper surface thereof to the middle of the diagonal cut surface is formed, and arranged on both sides of the second insulating substrate so as to sandwich the second insulating substrate, and the envelope. A second conductive block electrically connected, one end of which is connected to the ground electrode pad of the semiconductor element, and the other end of which is connected between the first conductive block and the second conductive block. A first conductive lead that has been One end of which is connected to the signal electrode pad of the semiconductor element, and the other end of which is connected between the wiring pattern on the upper surface of the first insulating substrate and the wiring pattern on the upper surface of the second insulating substrate. And a wiring pattern on the diagonal cut surface of the first insulating substrate, a wiring pattern on the diagonal cut surface of the second insulating substrate, and a tip portion of the central conductor of the coaxial connector. A semiconductor device characterized in that the are electrically connected to each other.
の上部に誘電体が設けられていることを特徴とする半導
体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a dielectric is provided above one end of the conductive lead.
装置において、 前記外囲器の一部に設けられた電源供給用の開口部と、 その上面に配線パターンが形成された第1の絶縁性基板
および第2の絶縁性基板と、 その一端が前記半導体素子の電源供給用電極パッドに接
続され、その途中が前記第1の絶縁性基板上の配線パタ
ーンと前記第2の絶縁性基板上の配線パターンとの間に
位置し、その他端が前記開口部を通過して前記外囲器の
外側に延伸された導電性リードとを備えたことを特徴と
する半導体装置。3. A semiconductor device in which a semiconductor element is mounted in an envelope, wherein a first opening is provided in a part of the envelope, and a wiring pattern is formed on an upper surface of the opening. An insulating substrate and a second insulating substrate, one end of which is connected to a power supply electrode pad of the semiconductor element, and a wiring pattern on the first insulating substrate and the second insulating substrate A semiconductor device, comprising: a conductive lead located between the upper wiring pattern and the other end, the other end passing through the opening and extending to the outside of the envelope.
その上面の配線パタンとの間および第2の絶縁性基板と
その上面の配線パターンとの間に弾性体が配置されてい
ることを特徴とする半導体装置。4. The elastic body according to claim 3, wherein an elastic body is arranged between the first insulating substrate and a wiring pattern on its upper surface and between the second insulating substrate and a wiring pattern on its upper surface. A semiconductor device characterized by:
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7228867A JPH0974152A (en) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7228867A JPH0974152A (en) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | Semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0974152A true JPH0974152A (en) | 1997-03-18 |
Family
ID=16883127
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7228867A Pending JPH0974152A (en) | 1995-09-06 | 1995-09-06 | Semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0974152A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002141594A (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-17 | Kyocera Corp | Package for storing semiconductor elements |
| JP2004214651A (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Samsung Electronics Co Ltd | Optical module |
-
1995
- 1995-09-06 JP JP7228867A patent/JPH0974152A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002141594A (en) * | 2000-10-30 | 2002-05-17 | Kyocera Corp | Package for storing semiconductor elements |
| JP2004214651A (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Samsung Electronics Co Ltd | Optical module |
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